JPH11218921A - ポジ型感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - Google Patents

ポジ型感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

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JPH11218921A
JPH11218921A JP10148892A JP14889298A JPH11218921A JP H11218921 A JPH11218921 A JP H11218921A JP 10148892 A JP10148892 A JP 10148892A JP 14889298 A JP14889298 A JP 14889298A JP H11218921 A JPH11218921 A JP H11218921A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】安全作業性、作業効率、製品の品質安定性に優
れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】最大波長が５００〜６２０ｎｍの範囲内に
ある安全光の照射環境下で使用する液状もしくは固体状
のポジ型感光性樹脂組成物であり、その組成物から形成
される未感光被膜の吸光度が上記安全光の最大波長の範
囲から選ばれた最大波長の−３０ｎｍ〜＋３０ｎｍの範
囲において０．５以下であることを特徴とするポジ型感
光性樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なポジ型感光性
樹脂組成物及びレジストパターン形成方法に係わる。
【０００２】
【従来の技術】従来、ポジ型感光性樹脂組成物は無公
害、省資源、省エネルギー、高生産効率等の面で優れた
特色を持つことから、塗料、インキ、接着剤として多方
面に使用されている。該感光性樹脂組成物は、例えば回
路板、プラスチック、木材、金属、紙、ガラス、繊維等
を素材とする用途に適用されている。
【０００３】しかしながら、このようなポジ型感光性樹
脂組成物を工業的に生産して実用ラインに適用した際に
次の様な問題点があった。
【０００４】ポジ型感光性樹脂組成物は、露光部と未露
光部に生じる溶解度の違いを利用したものである。
【０００５】従来、露光に使用される可視光線の発光ス
ペクトルの波長は、例えば、４８８ｎｍ、５３２ｎｍ等
の活性光線が一般的に使用されている。このような感光
性樹脂組成物を取り扱う場合には、暗赤色の着色剤を外
管にコーテングもしくは暗赤色のフィルムを外管に巻き
付けることにより着色した蛍光灯等の電灯を安全光（作
業灯）として使用している。しかしながら、このような
暗赤色の安全光の環境下では、塗布後の塗膜状態の検査
が容易ではないこと、塗装装置、照射装置、輸送装置等
の検査が容易でないことなどから安全作業性、作業効
率、製品品質安定性等が劣るといった問題点があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は明るい安全光
の条件下で取り扱うことができる新規なポジ型感光性樹
脂組成物及びそれを使用したレジストパターン形成方法
を開発することを目的として成されたものである。
【０００７】
【課題を解決しようとする手段】本発明者らは、上記し
た問題点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定
のポジ型感光性樹脂組成物と特定の安全光を組み合わせ
ることにより従来からの問題点を解決することを見出
し、本発明を完成するに至った。
【０００８】即ち、本発明は、 １、最大波長が５００〜６２０ｎｍの範囲内にある安全
光の照射環境下で使用する液状もしくは固体状のポジ型
感光性樹脂組成物であり、その組成物から形成される未
感光被膜の吸光度が上記安全光の最大波長の範囲から選
ばれた最大波長の−３０ｎｍ〜＋３０ｎｍの範囲におい
て０．５以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂
組成物、 ２、ポジ型感光性樹脂組成物が、樹脂及び活性エネルギ
ー線により酸基を発生する光酸発生剤を必須成分として
含有し、そして樹脂と光酸発生剤とが化学的に結合した
ものもしくは樹脂と光酸発生剤との混合物であることを
特徴とする上記のポジ型感光性樹脂組成物、 ３、安全光がナトリウムを主成分とする放電ランプ（光
波長が５８９ｎｍのＤ線を主体とするもの）によるもの
であることを特徴とする上記のポジ型感光性樹脂組成
物、 ４、下記 （１）基材上にポジ型感光性樹脂組成物を塗布して感光
性被膜を形成する工程、（２）基材上に形成された感光
性被膜に所望のレジスト被膜（画像）が得られるように
レーザー光で直接もしくはマスクフィルムを通して露光
させる工程、（３）レジスト被膜を現像処理して基板上
にレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパ
ターン形成方法において、ポジ型感光性樹脂組成物から
形成される未感光被膜の吸光度が上記安全光の最大波長
の範囲から選ばれた最大波長の−３０ｎｍ〜＋３０ｎｍ
の範囲において０．５以下のものであり、且つ前記した
工程（１）〜（３）の少なくとも１つは光源の発光スペ
クトルの最大波長が５００〜６２０ｎｍの範囲にある比
視感度の大きい安全光の照射環境下で行うことを特徴と
するレジストパターン形成方法、５、安全光がナトリウ
ムを主成分とする放電ランプ（光波長が５８９ｎｍのＤ
線を主体とするもの）によるものであることを特徴とす
る上記のレジストパターン形成方法、に係わる。
【０００９】本発明は最大波長が５００〜６２０ｎｍの
範囲にある光が特定のポジ型感光性樹脂組成物に対して
ラジカル重合反応を起こさない安全光であるとともに、
この安全光が人の視感度の高い領域であることから従来
のものと比較して同一照明光強度において非常に明るく
感じる性質を利用したものであり、それにより安全作業
性、作業効率、製品品質等が優れるものである。また、
従来の安全光は蛍光灯を赤色に着色したものが使用され
ているが、蛍光灯の発光スペクトルは紫外光〜可視光の
広い範囲に及ぶ波長領域（図５）を持つため、必要とし
ない感光性樹脂被膜部までも露光させ、現像処理により
鮮明なレジストパターンが形成できなくなる、このため
に照明光の強度を小さくして対応しているので更に作業
環境が暗くなるといった問題点がある。これに対して、
本願で使用する安全光は、例えばナトリウムランプのよ
うにシャープな波長を有することから上の様な問題は解
消される。
【００１０】本発明で使用する安全光は、最大波長が５
００〜６２０ｎｍ、好ましくは５１０〜６００ｎｍの範
囲のものである。この安全光は、例えば、ナトリウム等
のガス中で放電させることにより上記した範囲の最大波
長を有する光線を発する放電ランプを使用して得ること
ができる。これらの中でもナトリウムランプはランプか
ら放射される光が波長５８９ｎｍの黄色のＤ線が主体で
あり、単色光であるため色収差が少なく物体をシャープ
に見せることができるので安全性、作業環境性等に優れ
る。図１に低圧ナトリウムランプの分光分布の波長を示
す。
【００１１】該ナトリウムランプの分光分布図におい
て、該分光分布に示すようにナトリウムランプの最大波
長を持つＤ線以外に感光性樹脂組成物に悪影響を及ぼさ
ない程度で高エネルギー光線（低波長領域）を有してい
ても構わない。また、ナトリウムランプにフィルターを
施すことによりＤ線以外の高エネルギー線をカットした
ものも使用することができる。このように高エネルギー
線をカットしたナトリウムランプの分光分布を図２に示
す。
【００１２】また、本発明で使用する安全光にはフィル
ターを使用することができる。該フィルターとしては、
例えば、ファンタックＦＤ−１０８１ スカーレット、
ファンタックＦＣ−１４３１ サンフラワー イエロー
（以上、関西ペイント（株）社製、商標名）、リンテッ
ク ルミクールフィルムＮＯ．１９０５（リンテック
（株）社製、商標名）等が挙げられる。
【００１３】また、本発明で使用する安全光は、ナトリ
ウムランプのように光線が５８９ｎｍのシャープな単光
色を使用することが好ましいが、最大波長が上記した範
囲内にある以外に紫外光、可視光、赤外光の波長範囲に
分布した波長を持つ安全光を使用しても構わない。但
し、この様な分布を持つ安全光を使用する場合には分布
した光線領域がポジ型感光性樹脂組成物に対して悪影響
（感光）を及ぼさない安全な光の領域であることが必要
である。
【００１４】このような安全な高エネルギー光線領域
は、分布した光線のエネルギー強度とその領域における
ポジ型感光性樹脂組成物の吸光度に関係し、光線のエネ
ルギー強度が大きい場合はその組成物の吸光度の小さい
もの、光線のエネルギー強度が小さい場合はその組成物
の吸光度が前者のものよりも比較的大きなものまで使用
することができる。しかしながら、安全光として最大波
長を５００〜６２０ｎｍの範囲に持つ通常の蛍光灯を使
用したとしても、このものは５００ｎｍ未満、特に４０
０〜４９９ｎｍに大きな光エネルギー強度を持つため特
に４８８ｎｍ又は５３２ｎｍ等に発振線を有する可視光
レーザーで感光させるポジ型感光性樹脂組成物の安全光
として使用することができない。
【００１５】本発明に記載の吸光度は、−ｌｏｇ（Ｉ／
Ｉ０ ）の式で表される。但しＩは透明基材の表面にポ
ジ型感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥（溶剤を除去）を
行った被膜の透過光の強度、Ｉ０ はブランク[試料（ポ
ジ型感光性樹脂組成物）を塗布するための透明基材（例
えば、ポリエチレンテレフタレートシート）]の透過光
の強度を表す。
【００１６】人間の目に光が入ることにより生じる明る
さは、比視感度で表すことができる。比視感度は、ＪＩ
Ｓ Ｚ８１１３の２００５に定義されているように、特
定の観測条件において、ある波長λの単色放射が比較の
基準とする放射と等しい明るさであると判断された時
の、波長λの単色放射の放射輝度の相対値の逆数、通
常、λを変化させた時の最大値が１になるように基準化
したものと定義される。図３に可視光の波長領域である
３８０〜７８０ｎｍの比視感度曲線を示す。図３におい
て縦軸は比視感度の最大値を１００としてその比率を示
した。この曲線から従来の赤の波長６４０〜７８０ｎｍ
では比視感度が低く人間の目に感じる明るさが低く、例
えば、波長５８９ｎｍと同じ明るさを感じさせるために
は更に放射強度を強くしなければならないことが分か
る。また、視感度の最大値は約５５５ｎｍ（ＪＩＳーＺ
８１１３ ２００８）である。
【００１７】本発明で使用するポジ型感光性樹脂組成物
は、活性エネルギー線が照射された露光部分のみが現像
液により溶解除去されるように設計された組成物であ
り、この組成物から形成される未露光被膜の吸光度が上
記安全光の最大波長の範囲から選ばれた最大波長の中心
波長から−３０ｎｍ〜＋３０ｎｍまでの範囲、好ましく
は−２０ｎｍ〜＋２０ｎｍまでの範囲、更には−１０ｎ
ｍ〜＋１０ｎｍまでの範囲において０．５以下、好まし
くは０．２以下、更には０．１以下のものであれば、従
来から公知のものを使用することができる。該組成物と
しては、例えば塗料、インキ、接着剤、刷板材、プリン
ト配線板用レジスト材で使用されているものが使用でき
る。
【００１８】上記した従来から公知のポジ型可視光感光
性樹脂組成物について、代表的なものについて以下に述
べる。
【００１９】該組成物としては、例えば、光酸発生剤を
含む樹脂、光酸発生剤成分以外の成分（例えば、光塩基
発生剤等）を含む樹脂、それ自体が光により分解する樹
脂等が挙げられる。これらの樹脂は光により樹脂が分解
することにより極性、分子量等の性質が変化し、これに
より現像液（水性、有機溶剤等）等の物質に対して溶解
性を示すようになるものである。該樹脂は光酸発生剤等
の成分が組み込まれたものであっても光酸発生剤等の成
分と酸等により分解する基を有する樹脂との混合物であ
っても構わない。また、これらのものには更に現像液の
溶解性を調製するその他の樹脂等を必要に応じて配合す
ることができる。
【００２０】上記した光酸発生剤成分を含む樹脂につい
て述べる。該樹脂は、光酸発生剤が樹脂骨格に組み込ま
れた樹脂（例えば、露光により樹脂が酸基を発生し、こ
れによりアルカリ現像が可能となるもの）や光酸発生剤
と樹脂との混合物[光酸発生剤により発生した酸によ
り、樹脂が切断されて低分子量となったり、樹脂に酸基
が付与されたり、溶解性物質（例えば、（ポリ）Ｐ−ヒ
ドロキシスチレン）に変化し、これにより有機溶剤や水
性現像液に分散性もしくは溶解性を示すものとなったり
するもの]等が挙げられる。
【００２１】これらのものとしては、例えば、イオン
形成基を有するアクリル樹脂等の基体樹脂にキノンジア
ジドスルホン酸類をスルホン酸エステル結合を介して結
合させた樹脂を主成分とする組成物（特開昭61-206293
号公報、特開平7-133449号公報等参照）、即ち照射光に
よりキノンジアジド基が光分解してケテンを経由してイ
ンデンカルボン酸を形成する反応を利用したナフトキノ
ンジアジド感光系組成物；照射光によって酸基を発生
する光酸発生剤を触媒として基体樹脂（ポリマー）に脱
離反応を連鎖的に生じさせて照射部と未照射部との溶解
性の変化を利用した化学増幅系感光材料（特開平4-2264
61号公報、米国特許第4,491,628号、特開昭59-45439
号、特開昭63-250642号公報、Polymers in Electronic
s”DavidsonT.編集.ACS Symposium Series 242,America
n Chemical Society,Washington D.C,,1984の11頁”、
N.Hayashi,T.Ueno,M.Toriumi,etc,ACS Polym.materials
Sci.Eng.,61,417(1989)、H.Ito,C.G.Wilson,ACS Symp.
Ser.,242,11(1984)等参照）；加熱により溶剤やアル
カリ水溶液に対して不溶性の架橋被膜を形成し、更に光
線照射により酸基を発生する光酸発生剤により架橋構造
が切断されて照射部が溶剤やアルカリ水溶液に対して可
溶性となるメカニズムを利用したポジ型感光性組成物
（特開平6-295064号公報、特開平6-308733号公報、特開
平6-313134号公報、特開平6-313135号公報、特開平6-31
3136号公報、特開平7-146552号公報等参照）等が代表的
なものとして挙げられる。
【００２２】上記のものは、樹脂中で現像液に対する
溶解性を支配している官能基（水酸基、カルボキシル基
等）をブロック（酸不安定基）して不溶性とし、光酸発
生剤によりブロックを解離し、ポリマーの溶解性を復元
するものである。該水酸基（−ＯＨ基）をブロックした
酸不安定基（−ＯＲのＲ基）としては、例えば、ｔ−ブ
トキシカルボニル基（ｔ−ＢＯＣ基）、ｔ−ブトキシ
基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基、テトラヒドロピ
ラニル基、トリメチルシリル基、ｉｓｏ−プロポキシカ
ルボニル基等が包含される。水酸基を有する樹脂として
は、上記した効果を発揮するものであれば特に制限され
ないが、通常、フェノール性水酸基である。該酸不安定
基としては、特に、ｔ−ＢＯＣ基、ｔ−ブトキシ基が好
ましくこのものとしては、例えば、ポリ（ｔ−ブトキシ
カルボニルオキシスチレン）、ポリ（ｔ−ブトキシカル
ボニルオキシ−α−スチレン）、ポリ（ｔ−ブトキシス
チレン）及びこれらのモノマーとその他の重合性モノマ
ー（例えば、メチル（メタ）アクリル酸のＣ１〜２４個
のアルキル又はシクロアルキルエステル類、マレイミ
ド、スルフォン等）との共重合体等が挙げられる。該ｔ
−ＢＯＣ基を含有するポリ（ｔ−ブトキシカルボニルオ
キシスチレン）の組成物について説明すると、例えば、
光酸発生剤によって発生した酸によりｔ−ＢＯＣ基が分
解してイソブテンと炭酸ガスが蒸発してポリスチレンと
なり、ｔ−ＢＯＣ基が水酸基に変化することにより樹脂
の極性が変化（高くなる）することにより現像液（アル
カリ水溶液）に対する溶解性が向上する性質を利用した
ものである。また、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ基）を
ブロックした酸不安定基（−ＣＯＯＲ′のＲ′基）とし
ては、ｔ−ブチル基を有するカルボン酸エステル誘導体
等が挙げられる。
【００２３】また、このものの成分としては酸不安定基
を持つ樹脂及び光酸発生剤の２成分系として、また、酸
不安定基を持つ樹脂、光酸発生剤、その他の樹脂の３成
分系として使用することができる。該その他の樹脂は、
このものを使用することにより、例えば、組成物の塗装
作業性を向上させたり現像液に対する溶解性を変化させ
たりすることができる。
【００２４】上記のものは、カルボキシル基及び／又
はヒドロキシフェニル基を含有する樹脂（ａ）、エーテ
ル結合含有オレフィン性不飽和化合物（ｂ）、光線照射
により酸基を発生する光酸発生剤を含有してなる液状も
しくは固体状樹脂組成物である。
【００２５】樹脂（ａ）において、カルボキシル基及び
ヒドロキシフェニル基の両方の基を有する場合は、これ
らの基が同一分子中に有する樹脂であっても、これらの
基が異なって含有する樹脂の混合樹脂であってもどちら
でも構わない。
【００２６】カルボキシル基含有樹脂（ａー１）として
は、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等が
挙げられる。
【００２７】上記した樹脂（ａー１）は一般に約５００
〜約１０００００、特に約１５００〜３００００の数平
均分子量を有していることが好ましく、また、カルボキ
シル基は樹脂１Ｋｇ当たり約０．５〜１０モル、特に約
０．７〜５モルのものが好ましい。
【００２８】ヒドロキシフェニル基含有樹脂（ａ−２）
としては、例えば、１官能又は多官能フェノール化合
物、アルキルフェノール化合物、又はそれらの混合物と
ホルムアルデヒド、アセトン等のカルボニル化合物との
縮合物；Ｐ−ヒドロキシスチレン等のヒドロキシフェニ
ル基含有不飽和単量体と必要に応じて上記したその他の
重合性不飽和単量体との共重合体等が挙げられる。
【００２９】上記した樹脂（ａー２）は一般に約５００
〜約１０００００、特に約１５００〜３００００の数平
均分子量を有していることが好ましく、また、ヒドロキ
シフェニル基は樹脂１Ｋｇ当たり約１．０モル以上、特
に約２〜８モルが好ましい。
【００３０】また、樹脂（ａー１）と樹脂（ａ−２）と
を混合して使用する場合には、その混合割合は９０／１
０〜１０／９０重量比で配合することが好ましい。
【００３１】カルボキシル基及びヒドロキシフェニル基
を有する樹脂（ａー３）としては、例えばカルボキシル
基含有重合性不飽和単量体（（メタ）アクリル酸等）と
ヒドロキシフェニル基含有重合性不飽和単量体（ヒドロ
キシスチレン等）及び必要に応じてその他の重合性不飽
和単量体（メチル（メタ）アクリレート、エチル（メ
タ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブ
チル（メタ）アクリレート、２ーエチルヘキシル（メ
タ）アクリレート等のアクリル酸の炭素数１〜１２のア
ルキルエステル、スチレン等の芳香族化合物、（メタ）
アクリロニトリル等の含窒素不飽和単量体等）との共重
合体；ヒドロキシ安息香酸類、没食子酸、レゾルシン酸
等と、又はそれらとフェノール、ナフトール類、レゾル
シン、カテコール等との混合物をホルムアルデヒドと反
応して得られるフェノール樹脂等が挙げられる。
【００３２】上記した樹脂（ａー３）は一般に約５００
〜約１０００００、特に約１５００〜３００００の数平
均分子量を有していることが好ましく、また、カルボキ
シル基は樹脂１Ｋｇ当たり約０．５〜１０モル、特に約
０．７〜５モルのものが好ましい。ヒドロキシフェニル
基は樹脂１Ｋｇ当たり約１．０モル以上、特に約２〜８
モルが好ましい。
【００３３】エーテル結合含有オレフィン性不飽和化合
物（ｂ）としては、例えば、分子末端にビニルエーテル
基、１ープロペニルエーテル基、１ーブテニルエーテル
基等の不飽和エーテル基を約１〜４個含有するものが挙
げられる。該化合物（ｂ）は、１分子中に、式 −Ｒ″
−Ｏ−Ａ［ここで、Ａはビニル基、１ープロペニル基又
は１ーブテニルのオレフィン性不飽和基を示し、Ｒ″は
エチレン、プロピレン、ブチレンなどの炭素数１〜６の
直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を表わす］で示
される不飽和エーテル基を少なくとも１個、好ましくは
２〜４個含有する低分子量又は高分子量の化合物であ
り、例えば、ビスフエノールＡ、ビスフエノールＦ、ビ
スフエノールＳ、フエノール樹脂などのポリフエノール
化合物や、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、
ペンタエリスリトールなどのポリオール類とクロロエチ
ルビニルエーテルなどのハロゲン化アルキル不飽和エー
テルとの縮合物；トリレンジイソシアネート、キシリレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネートなどのポリイソシアネ
ート化合物とヒドロキシエチルビニルエーテルのような
ヒドロキシアルキル不飽和エーテルとの反応物等が挙げ
られる。特に、上記ポリフエノール化合物とハロゲン化
アルキル不飽和エーテルとの縮合物及び芳香環をもつポ
リイソシアネート化合物とヒドロキシアルキル不飽和エ
ーテルとの反応物が、エツチング耐性、形成されるパタ
ーンの精度等の観点から好適である。該化合物（ｂ）
は、樹脂（ａ）１００重量部に対して、通常約５〜１５
０重量部、好ましくは約１０〜１００重量部の範囲であ
る。
【００３４】（ａ）及び（ｂ）成分を含有する組成物
は、それから形成された被膜は加熱により、カルボキシ
ル基及び／又はヒドロキシフェニル基と不飽和エーテル
基との付加反応により架橋して、溶剤やアルカリ水溶液
に対して不溶性となり、次いで活性エネルギー線照射
し、更に照射後加熱すると、発生した酸の触媒作用で架
橋構造が切断されて照射部が溶剤やアルカリ水溶液に対
して再び可溶性となるポジ型可視光感光性樹脂組成物で
ある。
【００３５】該組成物においては、形成される膜を露光
する際に発生する酸によって酸加水分解反応が露光部分
で生じるが、この酸加水分解反応をスムーズに進行させ
るには水分が存在することが望ましい。このため本発明
の組成物中に、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、メチルセルロース、エチルセルロース等
の親水性樹脂を含有させておくことによって、形成され
る塗膜中に上記反応に必要な水分を容易に取り込ませる
ようにすることができる。かかる親水性樹脂の添加量
は、通常、樹脂成分１００重量部に対して一般に２０重
量部以下、好ましくは０.１〜１０重量部の範囲内とす
ることができる。
【００３６】また、上記、に記載の光酸発生剤は、
露光により酸を発生する化合物であり、この発生した酸
を触媒として、樹脂を分解させるものであり、従来から
公知のものを使用することができる。このものとして
は、例えば、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ホスホ
ニウム塩、ヨードニウム塩、セレニウム塩等のオニウム
塩類、鉄−アレン錯体類、シラノ−ル−金属キレート錯
体類、トリアジン化合物類、ジアジドナフトキノン化合
物類、スルホン酸エステル類、スルホン酸イミドエステ
ル類、ハロゲン系化合物類等を使用することができる。
また、上記した以外に特開平7-146552号公報、特願平9-
289218号に記載の光酸発生剤も使用することができる。
この光酸発生剤成分は、上記した樹脂との混合物であっ
ても樹脂に結合したものであっても構わない。光酸発生
剤の配合割合は、樹脂１００重量部に対して約０．１〜
４０重量部、特に約０．２〜２０重量部の範囲で含有す
ることが好ましい。
【００３７】また、安全光で影響しない範囲で必要に応
じて光増感色素を配合してもよく、例えば、フェノチア
ジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラ
セン系、ペリレン系、メロシアニン系、ケトクマリン
系、フマリン系、ボレート系等の色素が挙げられる。ボ
レート系光増感色素としては、例えば特開平5-241338号
公報、特開平7-5685号公報及び特開平7-225474号公報等
に挙げられたものを使用することができる。
【００３８】光増感色素の配合割合は、樹脂（Ａ）１０
０重量部に対して約０．１〜１０重量部、特に約０．３
〜５重量部の範囲で含有することが好ましい。
【００３９】本発明の組成物においては、有機溶剤や水
性現像液での溶解性を良くしたり、また、逆に悪くした
りすることができる、水もしくは有機溶剤に不溶性もし
くは溶解（又は分散）を示す上記したその他の樹脂を必
要に応じて配合することができる。具体的には、例え
ば、フェノール系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル
系樹脂、ビニル系樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ系樹
脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂及びこれらの２種以
上の混合物もしくは変性物等が挙げられる。
【００４０】また、本発明の組成物を用いて形成される
膜に適当な可撓性、非粘着性等を付与するために、本発
明の組成物には、フタル酸エステル等の可塑剤、ポリエ
ステル樹脂、アクリル樹脂等を添加することができる。
【００４１】さらに、本発明の組成物には、必要に応じ
て、流動性調節剤、可塑剤、染料、顔料等の着色剤等を
添加してもよい。
【００４２】本発明のポジ型可視光感光性樹脂組成物
は、一般に用いられている公知の感光性材料、例えば、
塗料、インキ、接着剤、レジスト材、刷版材（平板や凸
版用製版材、オフセット印刷用ＰＳ板等）、情報記録材
料、レリーフ像作製材料等幅広い用途への使用が可能で
ある。
【００４３】本発明のポジ型可視光感光性樹脂組成物か
ら形成される乾燥膜厚（溶剤を含まない）は、その組成
物から形成される未感光被膜の吸光度が上記安全光の最
大波長の範囲から選ばれた最大波長の−３０ｎｍ〜＋３
０ｎｍの範囲において０．５以下になるように設定すれ
ばよいが、実用性の面から、通常、０．５〜５０μｍ、
好ましくは１〜３０μｍの範囲である。また、該吸光度
は該組成物に含まれる光酸発生剤、光増感剤等の種類や
配合量によって異なるが、同一組成であっても膜厚の厚
みによって異なる。即ち、同一組成物において、膜厚が
厚くなると被膜中に含まれる光酸発生剤、光増感剤等の
濃度が高くなるために吸光度が大きくなり、一方、膜厚
が薄くなると被膜中に含まれる上記成分の濃度が低くな
るために吸光度が小さくなる。これらのことから、形成
される膜厚を調製することにより、吸光度を上記した範
囲に入るように調製することができる。
【００４４】本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、有機
溶剤型感光性樹脂組成物、水性感光性樹脂組成物として
使用することができる。
【００４５】上記した有機溶剤型感光性樹脂組成物は、
ポジ型感光性樹脂組成物を有機溶剤（ケトン類、エステ
ル類、エーテル類、セロソルブ類、芳香族炭化水素類、
アルコール類、ハロゲン化炭化水素類など）に溶解もし
くは分散して得られる有機溶剤型感光性樹脂組成物であ
る。該組成物は支持体（例えば、アルミニウム、マグネ
シウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、鉄などの金属ま
たはそれらを成分とした合金のシート又はこれらの金属
で表面処理したプリント基板、プラスチック、ガラス又
はシリコーンウエハー、カーボンなど）にローラー、ロ
ールコーター、スピンコーター、カーテンロールコータ
ー、スプレー、静電塗装、浸漬塗装、シルク印刷等の手
段により塗布し、必要に応じてセッテングした後、乾燥
することにより感光材料（被膜）を得ることができる。
【００４６】上記した水性感光性樹脂組成物は、ポジ型
感光性樹脂組成物を水に溶解もしくは分散することによ
って得られる。このものは通常の電着塗装用感光性材料
と同様に取り扱うことができ、電着塗装用の塗料として
用いることができる。水性感光性樹脂組成物の水溶化又
は水分散化は、ポジ型感光性樹脂組成物中にカルボキシ
ル基等のアニオン性基が導入されている場合にはアルカ
リ（中和剤）で中和するか、又はアミノ基等のカチオン
性基が導入されている場合には酸（中和剤）で中和する
ことによって行われる。
【００４７】上記したアルカリ中和剤としては、例え
ば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルアミノエタノ
ール、シクロヘキシルアミン、アンモニアなどが使用で
きる。また、酸中和剤としては、例えば酢酸、プロピオ
ン酸、乳酸、塩酸、硫酸、りん酸、ギ酸、クロトン酸な
どが使用できる。中和剤の使用量は感光性樹脂組成物に
含まれるイオン性基１当量当たり、一般に、０．２〜
１．０当量、特に０．３〜０．８当量が好ましい。
【００４８】上記したイオン性基含有樹脂として、カル
ボキシル基は樹脂の酸価で約３０〜７００ｍｇＫＯＨ／
ｇ、特に約４０〜６００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲のものが
好ましい。 酸価が約３０を下回ると現像液の処理によ
る未硬化被膜の脱膜性が劣るため次のエッチング行程で
銅が充分に除去できないといった欠点があり、一方酸価
が約７００を上回るとレジスト被膜部（硬化被膜部）が
脱膜し易くなるために満足できる銅回路が形成されない
といった欠点があるので好ましくない。また、アミノ基
はアミン価で約２０〜６５０、特に約３０〜６００の範
囲のものが好ましい。アミン価が約２０を下回ると上記
と同様にエッチング行程で銅が充分に除去できないとい
った欠点があり、一方、アミン価が約６５０を上回ると
レジスト被膜が脱膜し易くなるといった欠点があるので
好ましくない。
【００４９】電着塗料は、例えば浴濃度（固形分濃度）
３〜２５重量％、特に５〜１５重量％の範囲に調整し
た、ＰＨ４〜７の範囲のカチオン電着塗料、ＰＨ７〜９
の範囲のアニオン電着塗料を使用することができる。
【００５０】電着塗料は、例えば、次のようにして被塗
物である導体表面に塗装することができる。即ち、ま
ず、浴のＰＨと浴濃度を上記の範囲に調整し、浴温度を
１５℃〜４０℃、好ましくは１５℃〜３０℃に管理す
る。次いで、このように管理された電着塗装浴に、塗装
される導体を電着塗料がアニオン型の場合には陽極と
し、また、カチオン型の場合には陰極として、浸漬、５
〜２００Ｖの直流電流を通電する。通電時間は１０秒〜
５分が適当である。得られる膜厚は乾燥膜厚で、一般に
０．５〜５０μｍ、特に１〜１５μｍの範囲が好まし
い。
【００５１】電着塗装後、電着浴から被塗物を引き上
げ、水洗した後、電着塗膜中に含まれる水分等を熱風等
で乾燥、除去する。導体としては、金属、カーボン、酸
化錫等の導電性材料またはこれらを積層、メッキ等によ
りプラスチック、ガラス表面に固着させたものが使用で
きる。
【００５２】本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、上記
した以外に、例えば、ベースフィルム層となるポリエチ
レンテレフタレート等のポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル樹脂等の透明樹脂フ
ィルム上に、本発明の組成物をロールコ−タ、ブレ−ド
コ−タ、カーテンフロ−コータ等を使用して塗布し、乾
燥してレジスト被膜（乾燥膜厚約０．５〜５μｍ）を形
成した後、該被膜表面に保護フィルムを貼り付けたドラ
イフィルムレジストとして使用することができる。
【００５３】このようなドライフィルムレジストは、保
護フィルムを剥離した後、レジスト被膜が面接するよう
に上記と同様の支持体に熱圧着させる等の方法で接着し
てレジスト被膜を形成することができる。得られたレジ
スト被膜は、ベースフィルム層を剥離するかもしくは剥
離を行わないで、次いで上記した電着塗膜と同様の方法
で、画像に応じて、可視光で露光し、感光させ、ベース
フィルム層がある場合にはこのものを剥離し、ない場合
にはこの上から現像処理することにより画像を形成する
ことができる。
【００５４】本発明のポジ型感光性樹脂組成物を感光さ
せるための活性エネルギー線の光源は、使用する安全光
では感光せずに感光に必要な活性エネルギー線で感光す
るものであれば特に制限なしに従来から公知のものを使
用することができる。該光を発光する光源としては、例
えば、超高圧、高圧、中圧、低圧の水銀灯、ケミカルラ
ンプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド
灯、タングステン灯等が挙げられる。また、これらの光
源のうち紫外線を紫外カットフィルターでカットした可
視領域に発振線を持つ各種レーザーを使用することがで
きる。なかでも、アルゴンレーザー（４８８ｎｍ）又は
ＹＡＧーＳＨＧレーザー（５３２ｎｍ）に発振線を持つ
レーザーが好ましい。
【００５５】本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、例え
ば、プラスチックシート、金属、ガラス、紙、木材等の
基材にこの安全光の照射環境条件下で組成物が分解する
ことなしに明るい環境条件下で塗装、印刷を行うことが
できる。また、該組成物をレジストパターン被膜形成用
のポジ型感光性樹脂組成物として使用することが好まし
い。
【００５６】次に、このポジ型感光性樹脂組成物を使用
し、基板上にレジストパターンを形成する方法について
以下に述べる。
【００５７】ポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗装
（１）して感光性被膜を形成し、塗装された感光性被膜
表面に所望のレジスト被膜（画像）が得られるようにレ
ーザー光で直接もしくは光線をマスクフィルムを通して
露光（２）し、次いで、アルカリもしくは酸の水溶液で
感光性被膜の露光部分を現像処理（３）して基板上にレ
ジスト被膜を形成させ、レジスト被膜で保護されていな
い部分の銅層を除去し、更にレジスト被膜を除去するこ
とにより得られる。
【００５８】上記した基板としては、電気絶縁性のガラ
スーエポキシ板、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリイミドフィルム等のプラスチックフィルムやプ
ラスチック板；これらのプラスチック板やプラスチック
フィルムの表面に銅、アルミニウム等の金属箔を接着す
ることによって、もしくは銅、ニッケル、銀等の金属又
は酸化インジウムー錫（ＩＴＯ）に代表される導電性酸
化物等の化合物を真空蒸着、化学蒸着、メッキ等の方法
で導電性被膜を形成したもの：スルーホール部を設けた
プラスチック板やプラスチックフィルムの表面及びスル
ーホール部に導電性被膜を形成したもの：銅板等の金属
板等が挙げられる。
【００５９】上記塗装（１）工程においてポジ型感光性
樹脂組成物が、有機溶剤系の場合は、基板の表面にスプ
レー塗装、静電塗装、スピン塗装、浸漬塗装、ローラー
塗装、カーテンフロー塗装、シルク印刷等の手段により
塗装し、必要に応じてセッテング等を行って、約５０〜
１３０℃の範囲の温度で乾燥を行うことにより感光性樹
脂被膜を形成することができる。このようにして形成さ
れた被膜は次いで工程（２）で露光される。 また、ポ
ジ型感光性樹脂組成物が、電着塗料の場合は、電着塗装
した後、水切り、エアーブロー等を行って、必要に応じ
て約５０から１３０℃の範囲の温度で乾燥を行うことに
よりポジ型感光性樹脂被膜を形成することができる。
【００６０】上記したポジ型感光性樹脂被膜の膜厚は約
０．５〜５０μｍ、特に約１〜３０μｍの範囲が好まし
い。
【００６１】露光工程（２）で使用する光線としては、
特に光源の発光スペクトルの波長が４８８ｎｍ（アルゴ
ンレーザー）又は５３２ｎｍ（ＹＡＧーＳＨＧレーザ
ー）である可視光線が実用化されておりこのものを使用
することが好ましいが、このものに限定されるものでは
ない。
【００６２】現像処理（３）は、ポジ型感光性樹脂組成
物としてアニオン性基含有樹脂を使用した場合には、露
光被膜の洗い出しは、通常カセイソーダー、炭酸ソーダ
ー、カセイカリ、アンモニア、アミン等を水に希釈した
弱アルカリ水溶液が使用される。また、ポジ型感光性樹
脂組成物としてカチオン性基含有樹脂を使用した場合に
は、露光被膜の洗い出しは、通常塩酸、硫酸、燐酸、酢
酸、珪酸、ギ酸、乳酸等を水に希釈した弱酸性水溶液が
使用される。
【００６３】以上の工程（１）〜（３）の少なくとも１
つの工程は最大波長が５５０〜６２０ｎｍの範囲にある
安全光（好ましくはナトリウムランプ）の照射環境条件
下で行われる。
【００６４】また、エッチングレジスト基板として使用
する場合には、次いで露出した銅層（非回路部分）を塩
化第２鉄や塩化第２銅の水溶液でエッチングすることに
より除去される。また、レジスト被膜の除去はカセイソ
ーダ等の強アルカリや塩化メチレン等の溶剤により除去
される。
【００６５】このようにして得られるレジストパターン
が形成された基板は、装飾用、ソルダーレジスト基板、
エッチングレジスト基板として使用することができる。
【００６６】
【実施例】本発明について実施例を掲げて詳細に説明す
る。尚、実施例及び比較例の「部」は「重量部」を示
す。
【００６７】実施例１ テトラヒドロフラン２００部、Ｐーヒドロキシスチレン
６５部、ｎ−ブチルアクリレート２８部、アクリル酸１
１部及びアゾビスイソブチロニトリル３部の混合物を１
００℃で２時間反応させて得られた反応物を１５００ｃ
ｃのトルエン溶剤中に注ぎ込み、反応物を沈殿、分離し
た後、沈殿物を６０℃で乾燥して分子量約５２００、ヒ
ドロキシフェニル基含有量４．６モル／Ｋｇの感光性樹
脂を得た。次いでこのもの１００部にジビニルエーテル
化合物（ビスフェノール化合物１モルと２ークロロエチ
ルビニルエーテル２モルとの縮合物）６０部、ＮＡＩー
１０５（光酸発生剤、みどり化学株式会社製、商品名）
１０部及び光増感色素としてＮＫＸー１５９５（光増感
色素、日本感光色素社製、クマリン系色素、商品名）
１．５部の配合物をジエチレングリコールジメチルエー
テルに溶解して固形分２０％に調整して感光液を得た。
【００６８】この感光液を暗室内で銅メッキしたガラス
繊維強化エポキシ基板にバーコーターで乾燥膜厚が５μ
ｍとなるように塗装し、１２０℃で８分間乾燥させてレ
ジスト被膜を有する基板を作成した。
【００６９】次いで、上記で得られたレジスト被膜を有
する基板の表面を図１のナトリウムランプで照度強度が
４０ルックスになるように２４時間照射した。次いで、
暗室内でこのものを８０℃で１０分間加熱した後、１％
炭酸ナトリウム水溶液を現像液として３０℃で１分間浸
漬した結果、レジスト被膜は炭酸ナトリウム水溶液に完
全に溶解せずナトリウムランプの照射による悪影響はな
く良好であった。
【００７０】また、上記のレジスト被膜を有する基板に
２ｍＪ／ｍ2 強度のアルゴンレーザーを照射したとこ
ろ、速やかに露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液に溶解
することが確認された。キセノンランプ及びＹＡＧレー
ザーの第二高調波（５３２ｎｍ）の照射によっても同等
の結果を得た。
【００７１】上記感光液を透明なポリエチレンテレフタ
レートシートに膜厚が５μｍになるようにバーコーター
で塗装し、６０℃で１０分間乾燥させた被膜の吸光度を
測定した。その結果を図４に示す。縦軸は吸光度を横軸
は波長ｎｍを示す。図４において横軸の６００ｎｍ以上
の波長において被膜の吸光度は０．００であった。
【００７２】図４の吸光度曲線において、図１の最大波
長５８９ｎｍの−３０ｎｍ〜＋３０ｎｍの範囲である５
５９ｎｍ〜６１９ｎｍの範囲において被膜の吸光度は
０．０以下であり、安全光は感光液に対して悪影響を及
ぼさないことが分かる。
【００７３】実施例２ アクリル酸２２部、スチレン５０部、ｎ−ブチルメタア
クリレート２８部、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩ
ＢＮ）５部よりなる混合物を、８０℃に加熱し撹拌され
ているメチルイソブチルケトン６０部中に２時間を要し
て滴下した後、その温度に更に２時間保つて、固形分約
６２.５％、カルボキシル基３モル／ｋｇの重合体を得
た。
【００７４】上記で得られたカルボキシル基含有重合体
（固形分６２.５％）８０部、Ｐ−ヒドロキシスチレン
重合体（分子量１０００）２０部、ジビニルエーテル化
合物（ビスフェノール化合物１モルと２ークロロエチル
ビニルエーテル２モルとの縮合物）６０部、ポリエチレ
ングリコール（平均分子量４００）２部、ＮＡＩー１０
５（光酸発生剤、みどり化学株式会社製、商品名）１０
部、実施例１で使用した光増感剤１．５部の配合物をジ
エチレングリコールジメチルエーテルに溶解して２０重
量％の感光液を得た。
【００７５】この感光液を暗室内で銅メッキしたガラス
繊維強化エポキシ基板にバーコーターで乾燥膜厚が５μ
ｍとなるように塗装し、１２０℃で８分間乾燥させてレ
ジスト被膜を有する基板を作成した。
【００７６】次いで、上記で得られたレジスト被膜（乾
燥膜厚５μｍ）を有する基板の表面を図１のナトリウム
ランプで照度強度が４０ルックスになるように２４時間
照射した。次いで、暗室内でこのものを８０℃で１０分
間加熱した後、１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とし
て３０℃で１分間浸漬した結果、レジスト被膜は炭酸ナ
トリウム水溶液に溶解せずナトリウムランプの照射によ
る悪影響はなく良好であった。
【００７７】また、上記のレジスト被膜を有する基板に
２ｍＪ／ｍ2 強度のアルゴンレーザーを照射したとこ
ろ、速やかに露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液に溶解
することが確認された。キセノンランプ及びＹＡＧレー
ザーの第二高調波（５３２ｎｍ）の照射によっても同等
の結果を得た。
【００７８】実施例３ Ｐ−ヒドロキシスチレン重合体（分子量１０００）１０
０部、ジビニルエーテル化合物（ビスフェノール化合物
１モルと２ークロロエチルビニルエーテル２モルとの縮
合物）６０部、ポリエチレングリコール（平均分子量４
００）２部、ＮＡＩー１０５（光酸発生剤、みどり化学
株式会社製、商品名）１０部、実施例１で使用した光増
感剤１．５部の配合物をジエチレングリコールジメチル
エーテルに溶解して２０重量％の感光液を得た。
【００７９】この感光液を暗室内で銅メッキしたガラス
繊維強化エポキシ基板にバーコーターで乾燥膜厚が５μ
ｍとなるように塗装し１２０℃で８分間乾燥させてレジ
スト被膜を有する基板を作成した。
【００８０】次いで、上記で得られたレジスト被膜（乾
燥膜厚５μｍ）を有する基板の表面を図１のナトリウム
ランプで照度強度が４０ルックスになるように２４時間
照射した。次いで、暗室内でこのものを８０℃で１０分
間加熱した後、１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とし
て３０℃で１分間浸漬した結果、レジスト被膜は炭酸ナ
トリウム水溶液に溶解せずナトリウムランプの照射によ
る悪影響はなく良好であった。
【００８１】また、上記のレジスト被膜を有する基板に
２ｍＪ／ｍ2 強度のアルゴンレーザーを照射したとこ
ろ、速やかに露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液に溶解
することが確認された。キセノンランプ及びＹＡＧレー
ザーの第二高調波（５３２ｎｍ）の照射によっても同等
の結果を得た。
【００８２】実施例４ 実施例１で得られた感光液１００部（固形分）にカルボ
キシル基に対してトリエチルアミン０．８当量を混合攪
拌した後、脱イオン水中に分散して水分散樹脂溶液（固
形分１５％）を得た。
【００８３】得られた水分散樹脂溶液を電着塗装浴とし
て、積層銅板を陽極とし、乾燥膜厚が５μｍとなるよう
にアニオン電着塗装を行った後、水洗し、１２０℃で８
分間加熱してレジスト被膜を有する基板を作成した。
【００８４】次いで、上記で得られたレジスト被膜（乾
燥膜厚５μｍ）を有する基板の表面を図１のナトリウム
ランプで照度強度が４０ルックスになるように２４時間
照射した。次いで、暗室内でこのものを８０℃で１０分
間加熱した後、１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とし
て３０℃で１分間浸漬した結果、レジスト被膜は炭酸ナ
トリウム水溶液に溶解せずナトリウムランプの照射によ
る悪影響はなく良好であった。
【００８５】また、上記のレジスト被膜を有する基板に
２ｍＪ／ｍ2 強度のアルゴンレーザーを照射したとこ
ろ、速やかに露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液に溶解
することが確認された。キセノンランプ及びＹＡＧレー
ザーの第二高調波（５３２ｎｍ）の照射によっても同等
の結果を得た。
【００８６】実施例５ テトラヒドロフラン２００部、Ｐ−ヒドロキシスチレン
６５部、ジメチルアミノエチルメタクリレート１８部、
ｎ−ブチルアクリレート１７部及びアゾビスイソブチロ
ニトリル３部の混合物を１００℃で２時間反応させて得
られた反応物を１５００ｃｃのトルエン溶剤中に注ぎ込
み、反応物を沈殿、分離した後、沈殿物を６０℃で乾燥
して分子量約５０００、ヒドロキシフェニル基含有量
４．６モル／Ｋｇの感光性樹脂を得た。次いでこのもの
１００部にジビニルエーテル化合物（ビスフェノール化
合物１モルと２ークロロエチルビニルエーテル２モルと
の縮合物）６０部、ＮＡＩー１０５（光酸発生剤、みど
り化学株式会社製、商品名）１０部及び実施例１で使用
した光増感剤１．５部の配合物をジエチレングリコール
ジメチルエーテルに溶解して固形分６０％に調整して感
光液を得た。
【００８７】上記で得られた感光液１００部（固形分）
にアミノ基に対して酢酸０．８当量を混合攪拌した後、
脱イオン水中に分散して水分散樹脂溶液（固形分１５
％）を得た。
【００８８】得られた水分散樹脂溶液を電着塗装浴とし
て、積層銅板を陰極とし、乾燥膜厚が５μｍとなるよう
にカチオン電着塗装を行った後、水洗し、１２０℃で８
分間加熱してレジスト被膜を有する基板を作成した。
【００８９】次いで、上記で得られたレジスト被膜（乾
燥膜厚５μｍ）を有する基板の表面を図１のナトリウム
ランプで照度強度が４０ルックスになるように２４時間
照射した。次いで、暗室内でこのものを８０℃で１０分
間加熱した後、１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とし
て３０℃で１分間浸漬した結果、レジスト被膜は炭酸ナ
トリウム水溶液に溶解せずナトリウムランプの照射によ
る悪影響はなく良好であった。
【００９０】また、上記のレジスト被膜を有する基板に
２ｍＪ／ｍ2 強度のアルゴンレーザーを照射したとこ
ろ、速やかに露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液に溶解
することが確認された。キセノンランプ及びＹＡＧレー
ザーの第二高調波（５３２ｎｍ）の照射によっても同等
の結果を得た。
【００９１】実施例６ テトラヒドロフラン１０００部にポリ（ｔ−ブトキシカ
ルボニルオキシスチレン）（分子量１０００）５０部、
下記ノボラックフェノール樹脂５０部、ＮＡＩー１０５
（光酸発生剤、みどり化学株式会社製、商品名）１０部
及び実施例１で使用した光増感色素１．５部を配合して
固形分９％の感光液を得た。
【００９２】ノボラックフェノール樹脂の製造 ｏ−クレゾール１４９０部、３０％フォルマリン１１４
５部、脱イオン水１３０部及び蓚酸６.５部をフラスコ
に入れ６０分加熱還流させた。次いで１５％塩酸を１
３.５部を加え４０分加熱還流させた後、４００部の約
１５℃の脱イオン水を加え内容物を約７５℃に保ち樹脂
を沈殿させた。ついで３５％水酸化ナトリウム溶液を加
え中和後水層を除去し、４００部の脱イオン水を加え７
５℃で樹脂を洗浄した後水層を除去し、更に同様な洗浄
操作を２度繰り返した後、減圧下に約１２０℃で乾燥し
て分子量６００のノボラックフェノール樹脂を得た。
【００９３】上記で得られた感光液を使用して乾燥膜厚
が５μｍとなるように塗装を行った後、１２０℃で８分
間加熱してレジスト被膜を有する基板を作成した。
【００９４】次いで、上記で得られたレジスト被膜（乾
燥膜厚５μｍ）を有する基板の表面を図１のナトリウム
ランプで照度強度が４０ルックスになるように２４時間
照射した。次いで、暗室内でこのものを８０℃で１０分
間加熱した後、１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とし
て３０℃で１分間浸漬した結果、レジスト被膜は炭酸ナ
トリウム水溶液に溶解せずナトリウムランプの照射によ
る悪影響はなく良好であった。
【００９５】また、上記のレジスト被膜を有する基板に
２ｍＪ／ｍ2 強度のアルゴンレーザーを照射したとこ
ろ、速やかに樹脂が露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液
に溶解することが確認された。キセノンランプ及びＹＡ
Ｇレーザーの第二高調波（５３２ｎｍ）の照射によって
も同等の結果を得た。
【００９６】実施例７ テトラヒドロフラン１０００部にポリ（テトラヒドロピ
ラニルエーテルスチレン）（分子量１０００）５０部、
実施例６のノボラックフェノール樹脂５０部、ＮＡＩー
１０５（光酸発生剤、みどり化学株式会社製、商品名）
１０部及び実施例１で使用した光増感色素１．５部を配
合して固形分９％の感光液を得た。
【００９７】この感光液を使用して、実施例１と同様に
感光層を形成し、溶剤を蒸発させた後、乾燥膜厚が５μ
ｍとなるように塗装を行った後、水洗し、１２０℃で８
分間加熱してレジスト被膜を有する基板を作成した。
【００９８】次いで、上記で得られたレジスト被膜（乾
燥膜厚５μｍ）を有する基板の表面を図１のナトリウム
ランプで照度強度が４０ルックスになるように２４時間
照射した。次いで、暗室内でこのものを８０℃で１０分
間加熱した後、１％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とし
て３０℃で１分間浸漬した結果、レジスト被膜は炭酸ナ
トリウム水溶液に溶解せずナトリウムランプの照射によ
る悪影響はなく良好であった。
【００９９】また、上記のレジスト被膜を有する基板に
２ｍＪ／ｍ2 強度のアルゴンレーザーを照射したとこ
ろ、速やかに樹脂が露光し、１％炭酸ナトリウム水溶液
に溶解することが確認された。キセノンランプ及びＹＡ
Ｇレーザーの第二高調波（５３２ｎｍ）の照射によって
も同等の結果を得た。
【０１００】実施例８ 実施例１において図１の、ナトリウムランプに変えて図
２のナトリウムランプを使用した以外は実施例１と同様
の方法でレジスト被膜を有する基板を作成した。更に得
られた基板を実施例１と同様にして１％炭酸ナトリウム
水溶液に浸漬した結果、レジスト被膜は炭酸ナトリウム
水溶液に溶解せずナトリウムランプの照射による悪影響
はなく良好であった。
【０１０１】比較例１〜７ 実施例１〜７において、安全光としてナトリウムランプ
に変えて蛍光灯を使用した以外はそれぞれ実施例１〜７
と同様の方法でレジスト被膜（ＹＡＧ等で露光しない被
膜）を有する基板を作成（比較例１〜７は順次実施例１
〜７に相当する）した。得られた基板を実施例１〜７と
同様にして１％の炭酸ナトリウム水溶液（比較例１〜
４、６、７）又は２．３８％テトラメチルアンモニウム
ヒドロオキサイド水溶液（比較例５）の現像液に浸漬し
た結果、レジスト被膜は全て現像液に溶解せずに悪かっ
た。
【０１０２】比較例１〜７で使用した蛍光灯の分光分布
を図５に示す。
【０１０３】
【発明の効果】本発明は、上記した構成を有することか
ら安全作業性、作業効率、製品の品質安定性等に優れた
顕著な効果を発揮するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明で使用する安全光のナトリウムランプを
主成分とする放電ランプの分光分布
【図２】ナトリウム放電ランプにフィルターを施した分
光分布
【図３】比視感度曲線
【図４】実施例１で使用した未感光被膜の吸光度曲線
【図５】蛍光灯の分光分布

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 最大波長が５００〜６２０ｎｍの範囲内
    にある安全光の照射環境下で使用する液状もしくは固体
    状のポジ型感光性樹脂組成物であり、その組成物から形
    成される未感光被膜の吸光度が上記安全光の最大波長の
    範囲から選ばれた最大波長の−３０ｎｍ〜＋３０ｎｍの
    範囲において０．５以下であることを特徴とするポジ型
    感光性樹脂組成物。
  2. 【請求項２】 ポジ型感光性樹脂組成物が、樹脂及び活
    性エネルギー線により酸基を発生する光酸発生剤を必須
    成分として含有し、そして樹脂と光酸発生剤とが化学的
    に結合したものもしくは樹脂と光酸発生剤との混合物で
    あることを特徴とする請求項１に記載のポジ型感光性樹
    脂組成物。
  3. 【請求項３】安全光がナトリウムを主成分とする放電ラ
    ンプ（光波長が５８９ｎｍのＤ線を主体とするもの）に
    よるものであることを特徴とする請求項１に記載のポジ
    型感光性樹脂組成物。
  4. 【請求項４】下記 （１）基材上にポジ型感光性樹脂組成物を塗布して感光
    性被膜を形成する工程、（２）基材上に形成された感光
    性被膜に所望のレジスト被膜（画像）が得られるように
    レーザー光で直接もしくはマスクフィルムを通して露光
    させる工程、（３）レジスト被膜を現像処理して基板上
    にレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパ
    ターン形成方法において、ポジ型感光性樹脂組成物から
    形成される未感光被膜の吸光度が上記安全光の最大波長
    の範囲から選ばれた最大波長の−３０ｎｍ〜＋３０ｎｍ
    の範囲において０．５以下のものであり、且つ前記した
    工程（１）〜（３）の少なくとも１つは光源の発光スペ
    クトルの最大波長が５００〜６２０ｎｍの範囲にある比
    視感度の大きい安全光の照射環境下で行うことを特徴と
    するレジストパターン形成方法。
  5. 【請求項５】安全光がナトリウムを主成分とする放電ラ
    ンプ（光波長が５８９ｎｍのＤ線を主体とするもの）に
    よるものであることを特徴とする請求項４に記載のレジ
    ストパターン形成方法。
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