JPH11219656A - カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法およびその製造装置 - Google Patents
カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法およびその製造装置Info
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- JPH11219656A JPH11219656A JP2205798A JP2205798A JPH11219656A JP H11219656 A JPH11219656 A JP H11219656A JP 2205798 A JP2205798 A JP 2205798A JP 2205798 A JP2205798 A JP 2205798A JP H11219656 A JPH11219656 A JP H11219656A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱かぶりをなくして品位良好な高精細シャド
ウマスクを容易に製造できるようにすることを得ること
を目的とする。 【解決手段】 金属薄板10の両面に形成されたフォトレ
ジストにシャドウマスクの開孔に対応するパターンが形
成された一対の光学マスク12a を密着して露光し、その
フォトレジストに光学マスクのパターンを焼付けたのち
現像して、金属薄板の両面にシャドウマスクの開孔に対
応するパターンからなるレジストを形成するカラーブラ
ウン管用シャドウマスクの製造方法において、露光後、
直ちにパターンの焼付けられた両面のフォトレジストに
冷却ローラー19を密着して冷却するようにした。
ウマスクを容易に製造できるようにすることを得ること
を目的とする。 【解決手段】 金属薄板10の両面に形成されたフォトレ
ジストにシャドウマスクの開孔に対応するパターンが形
成された一対の光学マスク12a を密着して露光し、その
フォトレジストに光学マスクのパターンを焼付けたのち
現像して、金属薄板の両面にシャドウマスクの開孔に対
応するパターンからなるレジストを形成するカラーブラ
ウン管用シャドウマスクの製造方法において、露光後、
直ちにパターンの焼付けられた両面のフォトレジストに
冷却ローラー19を密着して冷却するようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、カラーブラウン
管用シャドウマスクの製造方法およびその製造装置に係
り、特に露光後のフォトレジストの熱かぶりを抑制した
カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法およびそ
の製造装置に関する。
管用シャドウマスクの製造方法およびその製造装置に係
り、特に露光後のフォトレジストの熱かぶりを抑制した
カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法およびそ
の製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にカラーブラウン管は、図３に示す
ように、外囲器を構成するパネル１の内面に形成された
３色蛍光体層からなる蛍光体スクリーン２に対向して、
その内側に、多数の開孔が所定の配列で形成されたシャ
ドウマスク３が配置され、その開孔により電子銃４から
放出された３電子ビーム５B ，５G ，５R を選別して、
３色蛍光体層に正しく入射させる構造に形成されてい
る。
ように、外囲器を構成するパネル１の内面に形成された
３色蛍光体層からなる蛍光体スクリーン２に対向して、
その内側に、多数の開孔が所定の配列で形成されたシャ
ドウマスク３が配置され、その開孔により電子銃４から
放出された３電子ビーム５B ，５G ，５R を選別して、
３色蛍光体層に正しく入射させる構造に形成されてい
る。
【０００３】従来より、上記シャドウマスク３は、フォ
トエッチング法により製造されている。すなわち、低炭
素鋼板などからなる金属薄板の両面に感光剤を塗布して
フォトレジストを形成したのち、その両面のフォトレジ
ストにシャドウマスクの開孔に対応するパターンが形成
されたガラス乾板からなる一対の光学マスクを密着し、
この光学マスクを介して両面のフォトレジストを同時に
露光して、両面のフォトレジストに光学マスクのパター
ンを焼付ける。つぎに上記パターンの焼付けられたフォ
トレジストを現像して未感光部を除去し、金属薄板の両
面に上記シャドウマスクの開孔に対応するパターンから
なるレジストを形成する。その後、このレジストの形成
された上記金属薄板の両面にエッチング液をスプレーし
て、エッチングにより開孔を形成することにより製造さ
れている。
トエッチング法により製造されている。すなわち、低炭
素鋼板などからなる金属薄板の両面に感光剤を塗布して
フォトレジストを形成したのち、その両面のフォトレジ
ストにシャドウマスクの開孔に対応するパターンが形成
されたガラス乾板からなる一対の光学マスクを密着し、
この光学マスクを介して両面のフォトレジストを同時に
露光して、両面のフォトレジストに光学マスクのパター
ンを焼付ける。つぎに上記パターンの焼付けられたフォ
トレジストを現像して未感光部を除去し、金属薄板の両
面に上記シャドウマスクの開孔に対応するパターンから
なるレジストを形成する。その後、このレジストの形成
された上記金属薄板の両面にエッチング液をスプレーし
て、エッチングにより開孔を形成することにより製造さ
れている。
【０００４】ところで、上記シャドウマスク３の製造に
は、通常、牛乳カゼイン酸アルカリと重クロム酸アンモ
ニウム（ＡＤＣ）を主成分とする感光剤が用いられ、一
方、光学マスクのパターンの焼付ける露光光源として
は、紫外線を発生する水銀ランプが広く用いられてい
る。
は、通常、牛乳カゼイン酸アルカリと重クロム酸アンモ
ニウム（ＡＤＣ）を主成分とする感光剤が用いられ、一
方、光学マスクのパターンの焼付ける露光光源として
は、紫外線を発生する水銀ランプが広く用いられてい
る。
【０００５】しかし上記感光剤や露光光源を使用する
と、牛乳カゼイン酸アルカリとＡＤＣを主成分とする感
光剤は、熱により感光が進行し、熱かぶりが生ずるとい
う問題がある。一方、水銀ランプは、紫外域の光ばかり
でなく赤外域の光も多量に発するため、その赤外線の照
射によりフォトレジストが加熱され、熱かぶりをおこす
という問題がある。
と、牛乳カゼイン酸アルカリとＡＤＣを主成分とする感
光剤は、熱により感光が進行し、熱かぶりが生ずるとい
う問題がある。一方、水銀ランプは、紫外域の光ばかり
でなく赤外域の光も多量に発するため、その赤外線の照
射によりフォトレジストが加熱され、熱かぶりをおこす
という問題がある。
【０００６】この熱かぶりを防止する方法として、赤外
線をカットするフィルターを配置する方法が考えられる
が、この方法は、赤外線ばかりでなく、パターンの焼付
けに有効な紫外線が減少し、所定の露光量を得る上に時
間がかかり、生産性が低下する。そのため、通常は、シ
ャドウマスクの開孔に対応するパターンからなるレジス
トの形成に必要な露光量から熱かぶりに相当する分だけ
露光量を減らして露光するか、あるいは牛乳カゼイン酸
アルカリに対するＡＤＣの添加量を少なくしてフォトレ
ジストの感度を下げるなどの方法により、シャドウマス
クを製造している。
線をカットするフィルターを配置する方法が考えられる
が、この方法は、赤外線ばかりでなく、パターンの焼付
けに有効な紫外線が減少し、所定の露光量を得る上に時
間がかかり、生産性が低下する。そのため、通常は、シ
ャドウマスクの開孔に対応するパターンからなるレジス
トの形成に必要な露光量から熱かぶりに相当する分だけ
露光量を減らして露光するか、あるいは牛乳カゼイン酸
アルカリに対するＡＤＣの添加量を少なくしてフォトレ
ジストの感度を下げるなどの方法により、シャドウマス
クを製造している。
【０００７】しかしこのような方法でシャドウマスクを
製造すると、昨今のコンピュータなどの表示装置に組込
まれる高精細カラーブラウン管のファインピッチのシャ
ドウマスクは、益々開孔寸法が小さくなる傾向にあるた
め、開孔寸法に及ぼす熱かぶりの影響が大きく、開孔寸
法のばらつきが大きくなる。そのため、所要のシャドウ
マスクの製造が困難になるばかりでなく、カラーブラウ
ン管のホワイトユニフォーミティの劣化をまねく。
製造すると、昨今のコンピュータなどの表示装置に組込
まれる高精細カラーブラウン管のファインピッチのシャ
ドウマスクは、益々開孔寸法が小さくなる傾向にあるた
め、開孔寸法に及ぼす熱かぶりの影響が大きく、開孔寸
法のばらつきが大きくなる。そのため、所要のシャドウ
マスクの製造が困難になるばかりでなく、カラーブラウ
ン管のホワイトユニフォーミティの劣化をまねく。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、カラー
ブラウン管のシャドウマスクは、金属薄板の両面に牛乳
カゼイン酸アルカリとＡＤＣを主成分とする感光剤を塗
布してフォトレジストを形成し、その両面のフォトレジ
ストにシャドウマスクの開孔に対応するパターンが形成
された一対の光学マスクを密着し、水銀ランプを露光光
源として露光し、両面のフォトレジストに光学マスクの
パターンを焼付けることにより製造されている。
ブラウン管のシャドウマスクは、金属薄板の両面に牛乳
カゼイン酸アルカリとＡＤＣを主成分とする感光剤を塗
布してフォトレジストを形成し、その両面のフォトレジ
ストにシャドウマスクの開孔に対応するパターンが形成
された一対の光学マスクを密着し、水銀ランプを露光光
源として露光し、両面のフォトレジストに光学マスクの
パターンを焼付けることにより製造されている。
【０００９】しかし上記感光剤や露光光源を使用する
と、牛乳カゼイン酸アルカリとＡＤＣを主成分とする感
光剤は、熱により感光が進行し、熱かぶりが生ずるとい
う問題がある。一方、水銀ランプは、紫外域の光ばかり
でなく赤外域の光も多量に発するため、その赤外線の照
射によりフォトレジストが加熱され、熱かぶりをおこす
という問題がある。
と、牛乳カゼイン酸アルカリとＡＤＣを主成分とする感
光剤は、熱により感光が進行し、熱かぶりが生ずるとい
う問題がある。一方、水銀ランプは、紫外域の光ばかり
でなく赤外域の光も多量に発するため、その赤外線の照
射によりフォトレジストが加熱され、熱かぶりをおこす
という問題がある。
【００１０】そのため、従来は、シャドウマスクの開孔
に対応するパターンからなるレジストの形成に必要な露
光量から熱かぶりに相当する分だけ露光量を減らして露
光するか、あるいは牛乳カゼイン酸アルカリに対するＡ
ＤＣの添加量を少なくしてフォトレジストの感度を下げ
るなどの方法により、シャドウマスクを製造している。
に対応するパターンからなるレジストの形成に必要な露
光量から熱かぶりに相当する分だけ露光量を減らして露
光するか、あるいは牛乳カゼイン酸アルカリに対するＡ
ＤＣの添加量を少なくしてフォトレジストの感度を下げ
るなどの方法により、シャドウマスクを製造している。
【００１１】しかしこのような方法は、コンピュータな
どの表示装置に組込まれるカラーブラウン管の高精細シ
ャドウマスクに対しては、開孔寸法に及ぼす熱かぶりの
影響が大きく、開孔寸法のばらつきが大きくなる。その
ため、所要のシャドウマスクを製造することが困難にな
るばかりでなく、カラーブラウン管のホワイトユニフォ
ーミティの劣化をまねくという問題がある。
どの表示装置に組込まれるカラーブラウン管の高精細シ
ャドウマスクに対しては、開孔寸法に及ぼす熱かぶりの
影響が大きく、開孔寸法のばらつきが大きくなる。その
ため、所要のシャドウマスクを製造することが困難にな
るばかりでなく、カラーブラウン管のホワイトユニフォ
ーミティの劣化をまねくという問題がある。
【００１２】この発明は、上記問題点を解決するために
なされたものであり、熱かぶりをなくして品位良好な高
精細シャドウマスクを容易に製造できるようにすること
を目的とする。
なされたものであり、熱かぶりをなくして品位良好な高
精細シャドウマスクを容易に製造できるようにすること
を目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】金属薄板の両面に形成さ
れたフォトレジストにシャドウマスクの開孔に対応する
パターンが形成された一対の光学マスクを密着して露光
し、そのフォトレジストに光学マスクのパターンを焼付
けたのち現像して、金属薄板の両面にシャドウマスクの
開孔に対応するパターンからなるレジストを形成するカ
ラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法において、
露光後、直ちにパターンの焼付けられた両面のフォトレ
ジストに冷却ローラーを密着して冷却するようにした。
れたフォトレジストにシャドウマスクの開孔に対応する
パターンが形成された一対の光学マスクを密着して露光
し、そのフォトレジストに光学マスクのパターンを焼付
けたのち現像して、金属薄板の両面にシャドウマスクの
開孔に対応するパターンからなるレジストを形成するカ
ラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法において、
露光後、直ちにパターンの焼付けられた両面のフォトレ
ジストに冷却ローラーを密着して冷却するようにした。
【００１４】また、シャドウマスクの開孔に対応するパ
ターンが形成された一対の光学マスクを支持し、この一
対の光学マスクを帯状金属薄板の両面に形成されたフォ
トレジストに密着させる焼枠と、そのフォトレジストに
光学マスクのパターンを焼付ける露光光源と、そのフォ
トレジストに光学マスクのパターンが焼付けられた帯状
金属薄板を巻取る巻取装置とを備えるカラーブラウン管
用シャドウマスクの製造装置において、焼枠に接近して
巻取装置側にパターンの焼付けられたフォトレジストに
密着して冷却する冷却ローラーを設けた。
ターンが形成された一対の光学マスクを支持し、この一
対の光学マスクを帯状金属薄板の両面に形成されたフォ
トレジストに密着させる焼枠と、そのフォトレジストに
光学マスクのパターンを焼付ける露光光源と、そのフォ
トレジストに光学マスクのパターンが焼付けられた帯状
金属薄板を巻取る巻取装置とを備えるカラーブラウン管
用シャドウマスクの製造装置において、焼枠に接近して
巻取装置側にパターンの焼付けられたフォトレジストに
密着して冷却する冷却ローラーを設けた。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態について説明する。
実施の形態について説明する。
【００１６】図１にその一形態であるカラーブラウン管
用シャドウマスクの製造方法の主要工程を示す。
用シャドウマスクの製造方法の主要工程を示す。
【００１７】シャドウマスクの製造は、図１（ａ）に示
すように、板厚０．１〜０．３mm程度の低炭素鋼板など
からなる帯状金属薄板１０を脱脂洗浄したのち、その両
面に牛乳カゼイン酸アルカリと重クロム酸アンモニウム
（ＡＤＣ）を主成分とする感光剤を塗布し乾燥して、フ
ォトレジスト１１を形成する。
すように、板厚０．１〜０．３mm程度の低炭素鋼板など
からなる帯状金属薄板１０を脱脂洗浄したのち、その両
面に牛乳カゼイン酸アルカリと重クロム酸アンモニウム
（ＡＤＣ）を主成分とする感光剤を塗布し乾燥して、フ
ォトレジスト１１を形成する。
【００１８】つぎに、同（ｂ）に示すように、上記両面
のフォトレジスト１１に、形成しようとするシャドウマ
スクの開孔に対応する大きさの異なるパターンが形成さ
れたガラス乾板からなる一対の光学マスク１２a ，１２
b を密着し、これら光学マスク１２a ，１２b の前方に
設置された水銀ランプからなる露光光源１３の発する光
により光学マスク１２a ，１２b を介して両面のフォト
レジスト１１を同時に露光し、その両面のフォトレジス
ト１１に上記光学マスク１２a ，１２b のパターンを焼
付ける。
のフォトレジスト１１に、形成しようとするシャドウマ
スクの開孔に対応する大きさの異なるパターンが形成さ
れたガラス乾板からなる一対の光学マスク１２a ，１２
b を密着し、これら光学マスク１２a ，１２b の前方に
設置された水銀ランプからなる露光光源１３の発する光
により光学マスク１２a ，１２b を介して両面のフォト
レジスト１１を同時に露光し、その両面のフォトレジス
ト１１に上記光学マスク１２a ，１２b のパターンを焼
付ける。
【００１９】つぎに、上記パターンの焼付けられたフォ
トレジスト１１を温水で現像して未感光部除去し、同
（ｃ）に示すように、帯状金属薄板１０の両面に、上記
光学マスクのパターンに対応したパターンからなるレジ
スト１４a ，１４b を形成する。
トレジスト１１を温水で現像して未感光部除去し、同
（ｃ）に示すように、帯状金属薄板１０の両面に、上記
光学マスクのパターンに対応したパターンからなるレジ
スト１４a ，１４b を形成する。
【００２０】つぎに、上記レジスト１４a ，１４b を２
００℃程度の温度でバーニングして耐エッチング性を高
めたのち、帯状金属薄板１０の両面に塩化第２鉄を主成
分とするエッチング液をスプレーして、レジスト１４a
，１４b により覆われていない露出面をエッチングし
て、同（ｄ）に示すように、開孔１５を形成する。
００℃程度の温度でバーニングして耐エッチング性を高
めたのち、帯状金属薄板１０の両面に塩化第２鉄を主成
分とするエッチング液をスプレーして、レジスト１４a
，１４b により覆われていない露出面をエッチングし
て、同（ｄ）に示すように、開孔１５を形成する。
【００２１】つぎに、上記開孔１５の形成された帯状金
属薄板１０の両面に加熱アルカリ溶液をスプレーして、
同（ｅ）に示すように、帯状金属薄板の両面に残存する
レジストを剥離除去する。
属薄板１０の両面に加熱アルカリ溶液をスプレーして、
同（ｅ）に示すように、帯状金属薄板の両面に残存する
レジストを剥離除去する。
【００２２】上記シャドウマスクの製造方法において、
帯状金属薄板１０の両面に形成されたフォトレジスト１
１へのパターン焼付けは、図２に示す装置によりおこな
われる。
帯状金属薄板１０の両面に形成されたフォトレジスト１
１へのパターン焼付けは、図２に示す装置によりおこな
われる。
【００２３】この装置は、光学マスク１２a ，１２b
（１２a のみ図示）を支持して、帯状金属薄板１０の両
面のフォトレジストに上記光学マスク１２a ，１２b を
密着させる真空焼枠１６を備える。この真空焼枠１６に
支持された光学マスク１２a ，１２b の前方には、水銀
ランプからなる露光光源（図示せず）が設置されてい
る。さらに、上記真空焼枠１６の一側方には、両面にフ
ォトレジストが形成された帯状金属薄板１０のロール１
７を支持する巻戻装置（アンワインダー部）が、また他
側方には、上記真空焼枠１６により両面のフォトレジス
トにパターンの焼付けられた帯状金属薄板１０のロール
１８を支持する巻取装置（ワインダー部）が設けられて
いる。
（１２a のみ図示）を支持して、帯状金属薄板１０の両
面のフォトレジストに上記光学マスク１２a ，１２b を
密着させる真空焼枠１６を備える。この真空焼枠１６に
支持された光学マスク１２a ，１２b の前方には、水銀
ランプからなる露光光源（図示せず）が設置されてい
る。さらに、上記真空焼枠１６の一側方には、両面にフ
ォトレジストが形成された帯状金属薄板１０のロール１
７を支持する巻戻装置（アンワインダー部）が、また他
側方には、上記真空焼枠１６により両面のフォトレジス
トにパターンの焼付けられた帯状金属薄板１０のロール
１８を支持する巻取装置（ワインダー部）が設けられて
いる。
【００２４】この装置でのパターンの焼付けは、巻取装
置を間欠的に駆動して、巻取装置に支持されたロール１
８を回転させ、巻戻装置に支持されたロール１７から真
空焼枠１６を介して巻取装置に導かれる帯状金属薄板１
０を一定長さ巻取る。その巻取り停止期間に，巻戻装置
に支持されたロール１７から真空焼枠１６に導かれた帯
状金属薄板１０の両面のフォトレジストに光学マスク１
２a ，１２b を真空密着させて、これら光学マスク１２
a ，１２b のパターンを焼付けることによりおこなわ
れ、巻取装置の間欠的な駆動により、逐次、帯状金属薄
板１０の両面のフォトレジストに光学マスク１２a ，１
２b のパターンが焼付けられるものとなっている。
置を間欠的に駆動して、巻取装置に支持されたロール１
８を回転させ、巻戻装置に支持されたロール１７から真
空焼枠１６を介して巻取装置に導かれる帯状金属薄板１
０を一定長さ巻取る。その巻取り停止期間に，巻戻装置
に支持されたロール１７から真空焼枠１６に導かれた帯
状金属薄板１０の両面のフォトレジストに光学マスク１
２a ，１２b を真空密着させて、これら光学マスク１２
a ，１２b のパターンを焼付けることによりおこなわ
れ、巻取装置の間欠的な駆動により、逐次、帯状金属薄
板１０の両面のフォトレジストに光学マスク１２a ，１
２b のパターンが焼付けられるものとなっている。
【００２５】このような装置において、特にこの実施の
形態では、真空焼枠１６に接近して巻取装置側に、上記
真空焼枠１６でパターンの焼付けられた両面のフォトレ
ジストに密着する一対を１組とする冷却ローラー１９が
設けられている。この冷却ローラー１９は、約１４℃の
冷却エアにより冷却され、ロール１８の間欠的な回転巻
取りによる帯状金属薄板１０の走行にともなって回転
し、上記パターンの焼付けられた両面のフォトレジスト
に密着して、パターン焼付時、露光光源から放射される
赤外線の照射により加熱されたフォトレジストを冷却す
るようになっている。
形態では、真空焼枠１６に接近して巻取装置側に、上記
真空焼枠１６でパターンの焼付けられた両面のフォトレ
ジストに密着する一対を１組とする冷却ローラー１９が
設けられている。この冷却ローラー１９は、約１４℃の
冷却エアにより冷却され、ロール１８の間欠的な回転巻
取りによる帯状金属薄板１０の走行にともなって回転
し、上記パターンの焼付けられた両面のフォトレジスト
に密着して、パターン焼付時、露光光源から放射される
赤外線の照射により加熱されたフォトレジストを冷却す
るようになっている。
【００２６】通常、巻戻装置に支持される帯状金属薄板
１０のロール１７の温度は、２３〜２６℃であり、真空
焼枠１６では、露光光源から放射される赤外線の照射に
より、３５℃以上に温度上昇するが、上記のように真空
焼枠１６に接近して巻戻装置側に冷却ローラー１９を設
けて、両面のフォトレジストに密着させると、上記真空
焼枠１６で加熱されたフォトレジストの温度を下げ、巻
取装置に巻取られる帯状金属薄板１０の温度を熱かぶり
に対して安全な３０〜３５℃にすることができる。
１０のロール１７の温度は、２３〜２６℃であり、真空
焼枠１６では、露光光源から放射される赤外線の照射に
より、３５℃以上に温度上昇するが、上記のように真空
焼枠１６に接近して巻戻装置側に冷却ローラー１９を設
けて、両面のフォトレジストに密着させると、上記真空
焼枠１６で加熱されたフォトレジストの温度を下げ、巻
取装置に巻取られる帯状金属薄板１０の温度を熱かぶり
に対して安全な３０〜３５℃にすることができる。
【００２７】したがって上記のようにすることにより、
露光時に加熱されても、その直後の冷却により熱かぶり
をおこしにくい温度にすることができる。その結果、従
来のように熱かぶりに相当する分だけ露光量を減らして
露光したり、あるいはフォトレジストの感度を下げるこ
となくシャドウマスクを製造でき、通常のシャドウマス
クは勿論、高精細シャドウマスクの適用して、開孔寸法
のばらつきを小さくでき、カラーブラウン管のホワイト
ユニフォーミティの劣化を防止できる。
露光時に加熱されても、その直後の冷却により熱かぶり
をおこしにくい温度にすることができる。その結果、従
来のように熱かぶりに相当する分だけ露光量を減らして
露光したり、あるいはフォトレジストの感度を下げるこ
となくシャドウマスクを製造でき、通常のシャドウマス
クは勿論、高精細シャドウマスクの適用して、開孔寸法
のばらつきを小さくでき、カラーブラウン管のホワイト
ユニフォーミティの劣化を防止できる。
【００２８】なお、上記実施の形態では、真空焼枠の巻
取装置側に１組の冷却ローラーを設けたが、この冷却ロ
ーラーは、複数組設けてもよい。
取装置側に１組の冷却ローラーを設けたが、この冷却ロ
ーラーは、複数組設けてもよい。
【００２９】また、真空焼枠の巻取装置側ばかりでな
く、真空焼枠に接近して巻戻装置部側にも設けてよい。
このようにすることにより、パターン焼付け中における
フォトレジストの温度を下げることができる。
く、真空焼枠に接近して巻戻装置部側にも設けてよい。
このようにすることにより、パターン焼付け中における
フォトレジストの温度を下げることができる。
【００３０】さらに冷却ローラーのほかに、パターンの
焼付けられたフォトレジストに直接冷却エアを吹付ける
などの他の冷却手段を併用してもよい。
焼付けられたフォトレジストに直接冷却エアを吹付ける
などの他の冷却手段を併用してもよい。
【００３１】また、上記実施の形態では、レジストの形
成された帯状金属薄板の両面を同時にエッチングして開
孔を形成するシャドウマスクの製造方法について説明し
たが、この発明は、２段エッチング法により片面づつエ
ッチングして開孔を形成する場合にも適用できる。
成された帯状金属薄板の両面を同時にエッチングして開
孔を形成するシャドウマスクの製造方法について説明し
たが、この発明は、２段エッチング法により片面づつエ
ッチングして開孔を形成する場合にも適用できる。
【００３２】
【発明の効果】上述のように、帯状金属薄板の両面に形
成されたフォトレジストにパターンを焼付ける焼枠に接
近して冷却ローラーを設け、光学マスクのパターンの焼
付けられたフォトレジストに密着して直ちに冷却する
と、従来のように熱かぶりに相当する分だけ露光量を減
らして露光したり、あるいはフォトレジストの感度を下
げることなくシャドウマスクを製造でき、通常のシャド
ウマスクは勿論、高精細カラーブラウン管のファインピ
ッチのシャドウマスクの適用して、開孔寸法のばらつき
を小さくでき、カラーブラウン管のホワイトユニフォー
ミティの劣化を防止できる。
成されたフォトレジストにパターンを焼付ける焼枠に接
近して冷却ローラーを設け、光学マスクのパターンの焼
付けられたフォトレジストに密着して直ちに冷却する
と、従来のように熱かぶりに相当する分だけ露光量を減
らして露光したり、あるいはフォトレジストの感度を下
げることなくシャドウマスクを製造でき、通常のシャド
ウマスクは勿論、高精細カラーブラウン管のファインピ
ッチのシャドウマスクの適用して、開孔寸法のばらつき
を小さくでき、カラーブラウン管のホワイトユニフォー
ミティの劣化を防止できる。
【図１】図１（ａ）乃至（ｅ）はそれぞれ発明の実施の
一形態であるカラーブラウン管用シャドウマスクの製造
方法の主要工程を示す。
一形態であるカラーブラウン管用シャドウマスクの製造
方法の主要工程を示す。
【図２】帯状金属薄板の両面に形成されたフォトレジス
トに光学マスクのパターンを焼付ける装置の構成を示す
図である。
トに光学マスクのパターンを焼付ける装置の構成を示す
図である。
【図３】カラーブラウン管の構成を示す図である。
１０…帯状金属薄板 １１…フォトレジスト １２a ，１２b …光学マスク １３…露光光源 １４a ，１４b …レジスト １５…開孔 １６…焼枠 １９…冷却ローラー
Claims (2)
- 【請求項１】 金属薄板の両面に形成されたフォトレジ
ストにシャドウマスクの開孔に対応するパターンが形成
された一対の光学マスクを密着して露光し、上記フォト
レジストに上記光学マスクのパターンを焼付けたのち現
像して、上記金属薄板の両面に上記シャドウマスクの開
孔に対応するパターンからなるレジストを形成するカラ
ーブラウン管用シャドウマスクの製造方法において、 上記露光後、直ちに上記パターンの焼付けられた両面の
フォトレジストに冷却ローラーを密着して冷却すること
を特徴とするカラーブラウン管用シャドウマスクの製造
方法。 - 【請求項２】 シャドウマスクの開孔に対応するパター
ンが形成された一対の光学マスクを支持し、この一対の
光学マスクを帯状金属薄板の両面に形成されたフォトレ
ジストに密着させる焼枠と、上記フォトレジストに上記
光学マスクのパターンを焼付ける露光光源と、上記フォ
トレジストに光学マスクのパターンが焼付けられた帯状
金属薄板を巻取る巻取装置とを備えるカラーブラウン管
用シャドウマスクの製造装置において、 上記焼枠に接近して上記巻取装置側に上記パターンの焼
付けられたフォトレジストに密着して冷却する冷却ロー
ラーが設けられていることを特徴とするカラーブラウン
管用シャドウマスクの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2205798A JPH11219656A (ja) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法およびその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2205798A JPH11219656A (ja) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法およびその製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11219656A true JPH11219656A (ja) | 1999-08-10 |
Family
ID=12072295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2205798A Pending JPH11219656A (ja) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法およびその製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11219656A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102242859B1 (ko) * | 2020-07-22 | 2021-04-21 | 풍원정밀(주) | 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법 |
| KR102242860B1 (ko) * | 2020-07-22 | 2021-04-21 | 풍원정밀(주) | 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법 |
| KR102284404B1 (ko) * | 2020-07-22 | 2021-08-02 | 풍원정밀(주) | 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법 |
-
1998
- 1998-02-03 JP JP2205798A patent/JPH11219656A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102242859B1 (ko) * | 2020-07-22 | 2021-04-21 | 풍원정밀(주) | 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법 |
| KR102242860B1 (ko) * | 2020-07-22 | 2021-04-21 | 풍원정밀(주) | 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법 |
| KR102284404B1 (ko) * | 2020-07-22 | 2021-08-02 | 풍원정밀(주) | 미세 금속 마스크 제조 시스템 및 방법 |
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