JPH05290724A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
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- JPH05290724A JPH05290724A JP8916692A JP8916692A JPH05290724A JP H05290724 A JPH05290724 A JP H05290724A JP 8916692 A JP8916692 A JP 8916692A JP 8916692 A JP8916692 A JP 8916692A JP H05290724 A JPH05290724 A JP H05290724A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 シャドウマスク素材10の両主面に感光膜11を
形成し、この感光膜にシャドウマスクの多数の電子ビー
ム通過孔に対応するパターンを焼付け現像してレジスト
膜13a,13b を形成したのち、エッチングして、電子ビー
ム通過孔の形成された平板状のフラットマスク15を製作
するシャドウマスクの製造方法において、シャドウマス
ク素材を高粗度材とし、この高粗度材を用いてフラット
マスクを製作する工程中に回転ローラにより高粗度材の
もつ内部応力を低減して、この内部応力が原因で生ずる
フラットマスクの反りを小さくするようにした。 【効果】 高粗度材のもつ内部応力が原因で生ずるフラ
ットマスクの反りを小さくすることができる。
形成し、この感光膜にシャドウマスクの多数の電子ビー
ム通過孔に対応するパターンを焼付け現像してレジスト
膜13a,13b を形成したのち、エッチングして、電子ビー
ム通過孔の形成された平板状のフラットマスク15を製作
するシャドウマスクの製造方法において、シャドウマス
ク素材を高粗度材とし、この高粗度材を用いてフラット
マスクを製作する工程中に回転ローラにより高粗度材の
もつ内部応力を低減して、この内部応力が原因で生ずる
フラットマスクの反りを小さくするようにした。 【効果】 高粗度材のもつ内部応力が原因で生ずるフラ
ットマスクの反りを小さくすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、シャドウマスクの製
造方法に係り、特に高粗度材を用いてシャドウマスクを
製造する場合に生ずるフラットマスクの反りを小さくす
るシャドウマスクの製造方法に関する。
造方法に係り、特に高粗度材を用いてシャドウマスクを
製造する場合に生ずるフラットマスクの反りを小さくす
るシャドウマスクの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にシャドウマスク形カラー受像管
は、３色蛍光体層からなる蛍光体スクリーンに対向し
て、電子銃から放出される３電子ビームを選別して上記
３色蛍光体層に入射させるシャドウマスクを有する。こ
のシャドウマスクは、所定配列の多数の電子ビーム通過
孔を有し、各電子ビーム通過孔がそれぞれ一組の３色蛍
光体層に対応するものとなっている。
は、３色蛍光体層からなる蛍光体スクリーンに対向し
て、電子銃から放出される３電子ビームを選別して上記
３色蛍光体層に入射させるシャドウマスクを有する。こ
のシャドウマスクは、所定配列の多数の電子ビーム通過
孔を有し、各電子ビーム通過孔がそれぞれ一組の３色蛍
光体層に対応するものとなっている。
【０００３】従来よりこのシャドウマスクは、フォトエ
ッチング法により多数の電子ビーム通過孔の形成された
平板状のフラットマスクを製作し、このフラットマスク
を所定の形状にプレス成形することにより製造されてい
る。このフラットマスクの製作は、帯板状のシャドウマ
スク素材の両主面に感光膜を形成し、この両主面の感光
膜にシャドウマスクの多数の電子ビーム通過孔に対応す
るドットパターンの形成された一対のネガ原版を真空密
着して、ネガ原版のパターンを焼付け、現像したのち、
エッチングすることにより製作されている。
ッチング法により多数の電子ビーム通過孔の形成された
平板状のフラットマスクを製作し、このフラットマスク
を所定の形状にプレス成形することにより製造されてい
る。このフラットマスクの製作は、帯板状のシャドウマ
スク素材の両主面に感光膜を形成し、この両主面の感光
膜にシャドウマスクの多数の電子ビーム通過孔に対応す
るドットパターンの形成された一対のネガ原版を真空密
着して、ネガ原版のパターンを焼付け、現像したのち、
エッチングすることにより製作されている。
【０００４】現在このフラットマスクの製作に使用され
るシャドウマスク素材としては、アルミキルド鋼などの
低炭素鋼板やＦe ，Ｎi 合金からなるアンバー材が用い
られており、表面粗さの点からは、平均粗度Ｒa が約
０．１５〜０．４５μm 、最大粗度Ｒmax が４．５μm
以下のいわゆる低粗度材と、平均粗度Ｒa が約０．５０
〜０．８０μm 、最大粗度Ｒmax が６．０μm 以下のい
わゆる高粗度材とがある。図３（ａ）に示した線1aは、
平均粗度Ｒa が０．３５μm 、最大粗度Ｒmax が２．５
μm の低粗度材の表面粗さの一例であり、同（ｂ）の線
1bは、平均粗度Ｒa が約０．６０μm 、最大粗度Ｒmax
が３．８μm の高粗度材の表面粗さの一例である。
るシャドウマスク素材としては、アルミキルド鋼などの
低炭素鋼板やＦe ，Ｎi 合金からなるアンバー材が用い
られており、表面粗さの点からは、平均粗度Ｒa が約
０．１５〜０．４５μm 、最大粗度Ｒmax が４．５μm
以下のいわゆる低粗度材と、平均粗度Ｒa が約０．５０
〜０．８０μm 、最大粗度Ｒmax が６．０μm 以下のい
わゆる高粗度材とがある。図３（ａ）に示した線1aは、
平均粗度Ｒa が０．３５μm 、最大粗度Ｒmax が２．５
μm の低粗度材の表面粗さの一例であり、同（ｂ）の線
1bは、平均粗度Ｒa が約０．６０μm 、最大粗度Ｒmax
が３．８μm の高粗度材の表面粗さの一例である。
【０００５】ところで、上記フラットマスクの製作にお
いて、その生産性を向上する上に重要なことは、シャド
ウマスク素材に対する一対のネガ原版の真空密着時間の
短縮である。この点高粗度材は、その両主面に形成され
た感光膜に対してネガ原版を全面にわたり十分に密着で
き、かつその真空密着に要する時間を短くすることがで
きるという利点があるが、反面、低粗度材にくらべて素
材の製造過程で生ずる大きな内部応力が残存し、これが
フラットマスクにしたとき、許容しがたい反りを与える
という問題がある。
いて、その生産性を向上する上に重要なことは、シャド
ウマスク素材に対する一対のネガ原版の真空密着時間の
短縮である。この点高粗度材は、その両主面に形成され
た感光膜に対してネガ原版を全面にわたり十分に密着で
き、かつその真空密着に要する時間を短くすることがで
きるという利点があるが、反面、低粗度材にくらべて素
材の製造過程で生ずる大きな内部応力が残存し、これが
フラットマスクにしたとき、許容しがたい反りを与える
という問題がある。
【０００６】すなわち、高粗度材については、図４に縦
軸を残留応力、上部横軸を一方の主面（表面）側からの
板厚方向深さ、下部横軸を他方の主面（裏面）側からの
板厚方向深さとして線2a，2bで示したように、線3a，3b
で示す低粗度材の内部応力にくらべて大きな内部応力が
残存する。そのため、図５に示すように、エッチング終
了後のシャドウマスク素材5 からフラットマスク6 を剥
ぎとる（ピックオフ）と、そのフラットマスク6 に高さ
ｈの反りが生ずる。このフラットマスク6 の反りの高さ
ｈは、たとえば矩形状フラットマスクの長辺間距離が２
１インチの場合、約３０〜７０mmに達し、シャドウマス
ク素材からのフラットマスクの剥ぎとりが円滑にできな
くなる。また剥ぎとられたフラットマスク4 の積重ねや
梱包がやりにくいなどの問題を生ずる。
軸を残留応力、上部横軸を一方の主面（表面）側からの
板厚方向深さ、下部横軸を他方の主面（裏面）側からの
板厚方向深さとして線2a，2bで示したように、線3a，3b
で示す低粗度材の内部応力にくらべて大きな内部応力が
残存する。そのため、図５に示すように、エッチング終
了後のシャドウマスク素材5 からフラットマスク6 を剥
ぎとる（ピックオフ）と、そのフラットマスク6 に高さ
ｈの反りが生ずる。このフラットマスク6 の反りの高さ
ｈは、たとえば矩形状フラットマスクの長辺間距離が２
１インチの場合、約３０〜７０mmに達し、シャドウマス
ク素材からのフラットマスクの剥ぎとりが円滑にできな
くなる。また剥ぎとられたフラットマスク4 の積重ねや
梱包がやりにくいなどの問題を生ずる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、現在シ
ャドウマスクの製造に使用されているシャドウマスク素
材としては、高粗度材と低粗度材とがある。このうち、
高粗度材は、低粗度材にくらべて、シャドウマスク素材
の両主面に形成された感光膜に対するネガ原版の真空密
着時間が短く、シャドウマスクの生産性を向上させると
いう利点があるが、反面、素材の製造過程で生ずる大き
な内部応力が残存し、これがフラットマスクに反りを与
え、フラットマスクの製作工程でのシャドウマスク素材
からのフラットマスクの剥ぎとりが円滑にできなくな
り、また剥ぎとられたフラットマスクの積重ねや梱包が
やりにくくなるなどの問題を生ずる。
ャドウマスクの製造に使用されているシャドウマスク素
材としては、高粗度材と低粗度材とがある。このうち、
高粗度材は、低粗度材にくらべて、シャドウマスク素材
の両主面に形成された感光膜に対するネガ原版の真空密
着時間が短く、シャドウマスクの生産性を向上させると
いう利点があるが、反面、素材の製造過程で生ずる大き
な内部応力が残存し、これがフラットマスクに反りを与
え、フラットマスクの製作工程でのシャドウマスク素材
からのフラットマスクの剥ぎとりが円滑にできなくな
り、また剥ぎとられたフラットマスクの積重ねや梱包が
やりにくくなるなどの問題を生ずる。
【０００８】この発明は、上記問題点を解決するために
なされたものであり、フラットマスクの製造工程におい
て、高粗度材から製造されるフラットマスクの反りを小
さくして、シャドウマスクの生産性を向上させることを
目的とする。
なされたものであり、フラットマスクの製造工程におい
て、高粗度材から製造されるフラットマスクの反りを小
さくして、シャドウマスクの生産性を向上させることを
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】シャドウマスク素材の両
主面に感光膜を形成し、この感光膜にシャドウマスクの
多数の電子ビーム通過孔に対応するパターンを焼付け現
像して電子ビーム通過孔に対応するパターンからなるレ
ジスト膜を形成したのち、エッチングして、電子ビーム
通過孔の形成された平板状のフラットマスクを製作する
シャドウマスクの製造方法において、シャドウマスク素
材を高粗度材とし、この高粗度材を用いてフラットマス
クを製作する工程中に回転ローラにより高粗度材のもつ
内部応力を低減して、この内部応力が原因で生ずるフラ
ットマスクの反りを小さくするようにした。
主面に感光膜を形成し、この感光膜にシャドウマスクの
多数の電子ビーム通過孔に対応するパターンを焼付け現
像して電子ビーム通過孔に対応するパターンからなるレ
ジスト膜を形成したのち、エッチングして、電子ビーム
通過孔の形成された平板状のフラットマスクを製作する
シャドウマスクの製造方法において、シャドウマスク素
材を高粗度材とし、この高粗度材を用いてフラットマス
クを製作する工程中に回転ローラにより高粗度材のもつ
内部応力を低減して、この内部応力が原因で生ずるフラ
ットマスクの反りを小さくするようにした。
【００１０】
【作用】上記のように、高粗度材を用いてフラットマス
クを製作する工程中に回転ローラにより内部応力を低減
する工程を設けると、高粗度材のもつ内部応力が原因で
生ずるフラットマスクの反りを小さくすることができ
る。
クを製作する工程中に回転ローラにより内部応力を低減
する工程を設けると、高粗度材のもつ内部応力が原因で
生ずるフラットマスクの反りを小さくすることができ
る。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００１２】図１（ａ）に示すように、板厚が０．２２
０mm、幅が４６０mmであり、平均粗度Ｒa が０．６０μ
m 、最大粗度Ｒmax が３．８μm の表面粗さの帯板状の
高粗度材をシャドウマスク素材10とし、このシャドウマ
スク素材10の両主面に、カゼイン、重クロム酸アンモニ
ウムを主成分とする感光剤を塗布し乾燥して、厚さ約７
μm の感光膜11を形成する。
０mm、幅が４６０mmであり、平均粗度Ｒa が０．６０μ
m 、最大粗度Ｒmax が３．８μm の表面粗さの帯板状の
高粗度材をシャドウマスク素材10とし、このシャドウマ
スク素材10の両主面に、カゼイン、重クロム酸アンモニ
ウムを主成分とする感光剤を塗布し乾燥して、厚さ約７
μm の感光膜11を形成する。
【００１３】つぎに同（ｂ）に示すように、上記両主面
の感光膜11に、形成しようとするシャドウマスクの電子
ビーム通過孔に対応する大小大きさの異なるドットパタ
ーンの形成された一対のネガ原版12a ，12b を密着して
露光し、両主面の感光膜11に一対のネガ原版12a ，12b
のパターンを焼付ける。この焼付けは、図示しない真空
密着焼枠を使用して、両主面の感光膜11に一対のネガ原
版12a ，12b に真空密着させ、約１m の距離に設置した
５kWの水銀ランプから約３０秒間紫外光を照射すること
によりおこなわれる。
の感光膜11に、形成しようとするシャドウマスクの電子
ビーム通過孔に対応する大小大きさの異なるドットパタ
ーンの形成された一対のネガ原版12a ，12b を密着して
露光し、両主面の感光膜11に一対のネガ原版12a ，12b
のパターンを焼付ける。この焼付けは、図示しない真空
密着焼枠を使用して、両主面の感光膜11に一対のネガ原
版12a ，12b に真空密着させ、約１m の距離に設置した
５kWの水銀ランプから約３０秒間紫外光を照射すること
によりおこなわれる。
【００１４】この場合、低粗度のシャドウマスク素材で
は、その両主面に形成された感光膜に一対のネガ原版12
a ，12b を十分に真空密着させるのに約５０秒かかる
が、上記高粗度のシャドウマスク素材10では、約３０秒
で十分に真空密着させることができ、露光に要する時間
を大幅に短縮することができる。
は、その両主面に形成された感光膜に一対のネガ原版12
a ，12b を十分に真空密着させるのに約５０秒かかる
が、上記高粗度のシャドウマスク素材10では、約３０秒
で十分に真空密着させることができ、露光に要する時間
を大幅に短縮することができる。
【００１５】つぎに、上記一対のネガ原版12a ，12b の
パターンの焼付けられた両主面の感光膜11を約４０℃の
温水で約１分現像して未感光部分を除去し、さらに界面
活性剤を用いて水切りしたのち乾燥し、同（ｃ）に示す
ように、電子ビーム通過孔形成部分のシャドウマスク素
材10の露出部としたレジスト膜13a ，13b を形成する。
その後、要すればベーキングを施してレジスト膜13a ，
13b の耐エッチング性を高める。
パターンの焼付けられた両主面の感光膜11を約４０℃の
温水で約１分現像して未感光部分を除去し、さらに界面
活性剤を用いて水切りしたのち乾燥し、同（ｃ）に示す
ように、電子ビーム通過孔形成部分のシャドウマスク素
材10の露出部としたレジスト膜13a ，13b を形成する。
その後、要すればベーキングを施してレジスト膜13a ，
13b の耐エッチング性を高める。
【００１６】つぎに、同（ｄ）に示すように、上記レジ
スト膜13a ，13b の形成されたシャドウマスク素材10を
両面からエッチングして、両面間を貫通する電子ビーム
通過孔14を形成する。このエッチングは、帯板状のシャ
ドウマスク素材10の両主面を水平にして走行させ、その
両主面に約７０℃、比重１．４８０の塩化第２鉄溶液を
約９分間スプレイすることによりおこなわれる。その後
水洗し、ついでアルカリ溶液により両主面のレジスト膜
13a ，13b を剥離し、さらに水洗し乾燥して、同（ｅ）
に示すフラットマスク15を得る。
スト膜13a ，13b の形成されたシャドウマスク素材10を
両面からエッチングして、両面間を貫通する電子ビーム
通過孔14を形成する。このエッチングは、帯板状のシャ
ドウマスク素材10の両主面を水平にして走行させ、その
両主面に約７０℃、比重１．４８０の塩化第２鉄溶液を
約９分間スプレイすることによりおこなわれる。その後
水洗し、ついでアルカリ溶液により両主面のレジスト膜
13a ，13b を剥離し、さらに水洗し乾燥して、同（ｅ）
に示すフラットマスク15を得る。
【００１７】さらに、このシャドウマスクの製造方法に
おいては、上記レジスト膜13a ，13b の剥離されたシャ
ドウマスク素材10を、図２に示すように、直径約２００
mmの硬質ゴムローラからなる複数本の回転ローラ17を交
互に配置された矯正装置の回転ローラ17間を通過させ
て、高粗度のシャドウマスク素材10のもつ内部応力を低
減する。その後、このシャドウマスク素材10からフラッ
トマスク15を剥ぎとる。なお、シャドウマスクは、その
後、このフラットマスク15を所定の形状にプレス成形す
ることにより製造される。
おいては、上記レジスト膜13a ，13b の剥離されたシャ
ドウマスク素材10を、図２に示すように、直径約２００
mmの硬質ゴムローラからなる複数本の回転ローラ17を交
互に配置された矯正装置の回転ローラ17間を通過させ
て、高粗度のシャドウマスク素材10のもつ内部応力を低
減する。その後、このシャドウマスク素材10からフラッ
トマスク15を剥ぎとる。なお、シャドウマスクは、その
後、このフラットマスク15を所定の形状にプレス成形す
ることにより製造される。
【００１８】ところで、上記のようにシャドウマスク素
材10からフラットマスク15を剥ぎとる前に矯正装置の複
数本の回転ローラ17間を通過させると、その回転ローラ
17の本数や、回転ローラ17間を通過するとき、シャドウ
マスク素材10に加わる張力を適宜調整することにより、
高粗度シャドウマスク素材10のもつ内部応力を低減する
ことができる。したがってその後、シャドウマスク素材
10から剥ぎとられるフラットマスク15の内部応力が原因
で生ずる反りを小さくすることができ、従来問題となっ
たシャドウマスク素材10からのフラットマスク15の剥ぎ
とりを円滑にすることができ、また剥ぎとられたフラッ
トマスク15の積重ねや梱包を容易にすることができる。
材10からフラットマスク15を剥ぎとる前に矯正装置の複
数本の回転ローラ17間を通過させると、その回転ローラ
17の本数や、回転ローラ17間を通過するとき、シャドウ
マスク素材10に加わる張力を適宜調整することにより、
高粗度シャドウマスク素材10のもつ内部応力を低減する
ことができる。したがってその後、シャドウマスク素材
10から剥ぎとられるフラットマスク15の内部応力が原因
で生ずる反りを小さくすることができ、従来問題となっ
たシャドウマスク素材10からのフラットマスク15の剥ぎ
とりを円滑にすることができ、また剥ぎとられたフラッ
トマスク15の積重ねや梱包を容易にすることができる。
【００１９】
【発明の効果】高粗度のシャドウマスク素材を用いてフ
ラットマスクを製造する工程中に、回転ローラにより高
粗度材のもつ内部応力を低減する内部応力除去工程を設
けると、その内部応力が原因で生ずるフラットマスクの
反りを小さくすることができ、シャドウマスク素材から
フラットマスクの剥ぎとりを円滑にすることができ、ま
た剥ぎとられたフラットマスクの積重ねや梱包を容易に
することができ、シャドウマスクの生産性を向上させる
ことができる。
ラットマスクを製造する工程中に、回転ローラにより高
粗度材のもつ内部応力を低減する内部応力除去工程を設
けると、その内部応力が原因で生ずるフラットマスクの
反りを小さくすることができ、シャドウマスク素材から
フラットマスクの剥ぎとりを円滑にすることができ、ま
た剥ぎとられたフラットマスクの積重ねや梱包を容易に
することができ、シャドウマスクの生産性を向上させる
ことができる。
【図１】図１（ａ）乃至（ｅ）はそれぞれこの発明の一
実施例であるシャドウマスクの製造方法を説明するため
の図である。
実施例であるシャドウマスクの製造方法を説明するため
の図である。
【図２】高粗度材のもつ内部応力を低減する方法を説明
するための図である。
するための図である。
【図３】図３（ａ）は低粗度材の表面の粗さを示す図、
図３（ｂ）は高粗度材の表面の粗さを示す図である。
図３（ｂ）は高粗度材の表面の粗さを示す図である。
【図４】高粗度材の内部応力を低粗度材の内部応力と比
較して示す図である。
較して示す図である。
【図５】図５（ａ）および（ｂ）はそれぞれ高粗度材か
らフラットマスクを剥ぎとるときに生ずる反りを説明す
るための図である。
らフラットマスクを剥ぎとるときに生ずる反りを説明す
るための図である。
【符号の説明】 10…シャドウマスク素材 11…感光膜 12a ，12b …ネガ原版 13a ，13b …レジスト膜 14…電子ビーム通過孔 15…フラットマスク 17…回転ローラ
Claims (1)
- 【請求項１】 シャドウマスク素材の両主面に感光膜を
形成し、この感光膜にシャドウマスクの多数の電子ビー
ム通過孔に対応するパターンを焼付け現像して上記電子
ビーム通過孔に対応するパターンからなるレジスト膜を
形成したのち、エッチングして、上記電子ビーム通過孔
の形成された平板状のフラットマスクを製作するシャド
ウマスクの製造方法において、 上記シャドウマスク素材を高粗度材とし、この高粗度材
を用いて上記フラットマスクを製作する工程中に回転ロ
ーラにより上記高粗度材のもつ内部応力を低減して、こ
の内部応力が原因で生ずる上記フラットマスクの反りを
小さくしたことを特徴とするシャドウマスクの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8916692A JPH05290724A (ja) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8916692A JPH05290724A (ja) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05290724A true JPH05290724A (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=13963230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8916692A Pending JPH05290724A (ja) | 1992-04-10 | 1992-04-10 | シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05290724A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001064785A (ja) * | 1999-08-25 | 2001-03-13 | The Inctec Inc | 水切り剤 |
| US10876215B2 (en) | 2015-07-17 | 2020-12-29 | Toppan Printing Co., Ltd. | Metal mask substrate for vapor deposition, metal mask for vapor deposition, production method for metal mask substrate for vapor deposition, and production method for metal mask for vapor deposition |
| US10903426B2 (en) | 2015-07-17 | 2021-01-26 | Toppan Printing Co., Ltd. | Metal mask base, metal mask and method for producing metal mask |
| US11111585B2 (en) | 2015-07-17 | 2021-09-07 | Toppan Printing Co., Ltd. | Method for producing base for metal masks, method for producing metal mask for vapor deposition, base for metal masks, and metal mask for vapor deposition |
| US11390953B2 (en) | 2016-04-14 | 2022-07-19 | Toppan Printing Co., Ltd. | Vapor deposition mask base material, vapor deposition mask base material manufacturing method, and vapor deposition mask manufacturing method |
-
1992
- 1992-04-10 JP JP8916692A patent/JPH05290724A/ja active Pending
Cited By (9)
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