JPH11219788A - EL device - Google Patents

EL device

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JPH11219788A
JPH11219788A JP10033553A JP3355398A JPH11219788A JP H11219788 A JPH11219788 A JP H11219788A JP 10033553 A JP10033553 A JP 10033553A JP 3355398 A JP3355398 A JP 3355398A JP H11219788 A JPH11219788 A JP H11219788A
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JP
Japan
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layer
hole injection
transport layer
electroluminescent device
injection layer
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Application number
JP10033553A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomoya Yazawa
智哉 矢澤
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Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electroluminescence element with excellent luminescent characteristics and durability. SOLUTION: A hole injection layer 14 of 4,4',4''-tris[N-phenyl-N-(1-naphthyl) amino] triphenylamine is formed on an anode electrode 13, and a hole transporting layer 15 of α-NPD is laminated on the hole injection layer 14. This element 11 is structured by laminating an electron transporting layer 16 and a cathode electrode 17 on its top. Since the hole injection layer 14 has high hole injection efficiency and thermal stability, this element 11 with excellent luminescent characteristics and high durability can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は電界発光素子に関
し、さらに詳しくは、エレクトロルミネッセンス(以
下、ELという)を起こす有機材料を用いた電界発光素
子に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an electroluminescent device, and more particularly, to an electroluminescent device using an organic material which causes electroluminescence (hereinafter, referred to as EL).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電界発光素子としては、図7に示
すような構造のものが知られている。同図に示すよう
に、この電界発光素子1は、ガラス基板2の上に、透明
なITO(indium tin oxide)でなるアノード電極3、
正孔輸送層4、電子輸送層5、MgInでなるカソード
電極6が積層されて構成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, an electroluminescent device having a structure as shown in FIG. 7 has been known. As shown in FIG. 1, the electroluminescent device 1 has an anode electrode 3 made of transparent ITO (indium tin oxide) on a glass substrate 2,
A hole transport layer 4, an electron transport layer 5, and a cathode electrode 6 made of MgIn are laminated.

【0003】ここで、正孔輸送層4は、N,N'-ジフェニ
ル-N,N'-(3-メチルフェニル)-1,1'ビフェニル-4,4'-
ジアミン(以下、TPDという)を、熱的に安定に改善
したN,N'-ジ(1-ナフチル)-N,N'-ジフェニル-1,1'-ビ
フェニル-4,4'-ジアミン(以下、α−NPDという)で
形成されている。
Here, the hole transport layer 4 is made of N, N'-diphenyl-N, N '-(3-methylphenyl) -1,1'biphenyl-4,4'-
Diamine (hereinafter referred to as TPD) is thermally stabilized N, N'-di (1-naphthyl) -N, N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (hereinafter referred to as TPD) , Α-NPD).

【0004】TPDは、下記の構造式[0004] TPD has the following structural formula:

【化2】 で表される。Embedded image It is represented by

【0005】また、α−NPDは、下記の構造式[0005] α-NPD has the following structural formula:

【化3】 で表される。Embedded image It is represented by

【0006】このような電界発光素子1において、図8
に示すようにアノード電極3と正孔輸送層4との間に、
正孔輸送能力を持つ別の層(以下、正孔注入層という)
7を介在させることにより、素子の性能を向上させるこ
とが知られている。この正孔注入層7を形成する物質と
しては、4,4',4"-トリス[N-(3-メチルフェニル)-N-フ
ェニルアミノ]トリフェニルアミン(以下、MTDAT
Aという)が知られている。
In such an electroluminescent device 1, FIG.
Between the anode electrode 3 and the hole transport layer 4 as shown in FIG.
Another layer capable of transporting holes (hereinafter referred to as hole injection layer)
It is known that the performance of the element can be improved by interposing 7. As a material for forming the hole injection layer 7, 4,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine (hereinafter, MTDAT)
A) is known.

【0007】MTDATAは、下記の構造式[0007] MTDATA has the following structural formula:

【化4】 で表される。Embedded image It is represented by

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】このような有機材料を
用いた電界発光素子においては、有機材料が熱的な安定
性を有することが重要である。正孔輸送層4を形成する
α−NPDのガラス転移温度(Tg)は100℃付近で
あり、TPDのガラス転移温度(Tg)が62℃である
のに比べて、上記したように熱的に安定なものとなって
いる。しかしながら、正孔注入層7を形成するMTDA
TAのガラス転移温度(Tg)は75℃付近であり、正
孔輸送層4に比較して熱的な安定性が低くなっている。
このような事情から電界発光素子1の駆動時における特
性の安定性を維持するためには、さらに熱的に安定な正
孔注入物質で正孔注入層7を形成することが望まれてい
る。また、正孔注入層7を熱的に安定なものにすること
により、電界発光素子1の製造工程における品質の安定
性を向上することが望まれている。
In an electroluminescent device using such an organic material, it is important that the organic material has thermal stability. The glass transition temperature (Tg) of α-NPD forming the hole transport layer 4 is around 100 ° C., and the glass transition temperature (Tg) of TPD is 62 ° C. It is stable. However, the MTDA forming the hole injection layer 7
The glass transition temperature (Tg) of TA is around 75 ° C., and the thermal stability is lower than that of the hole transport layer 4.
Under such circumstances, in order to maintain the stability of the characteristics when the electroluminescent device 1 is driven, it is desired to form the hole injection layer 7 with a thermally stable hole injection material. Further, it is desired to improve the stability of quality in the manufacturing process of the electroluminescent device 1 by making the hole injection layer 7 thermally stable.

【0009】この発明が解決しようとする課題は、正孔
注入効率が良好で、且つ耐久性を有する電界発光素子を
得るにはどのような手段を講じればよいかという点にあ
る。
The problem to be solved by the present invention lies in what means should be taken to obtain a durable electroluminescent device having good hole injection efficiency.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
アノード電極とカソード電極との間に有機材料層が介在
される、該有機材料層が前記アノード電極に接合する正
孔注入層と、該正孔注入層に接合する正孔輸送層と、を
含む電界発光素子であって、前記有機材料層正孔注入層
が、構造式
According to the first aspect of the present invention,
An organic material layer is interposed between the anode electrode and the cathode electrode, the organic material layer including a hole injection layer bonded to the anode electrode, and a hole transport layer bonded to the hole injection layer. An electroluminescent device, wherein the organic material layer and the hole injection layer have a structural formula

【化5】 で表される4,4',4"-トリス[N-フェニル-N-(1-ナフチ
ル)アミノ]トリフェニルアミンでなることを特徴とし
ている。
Embedded image And 4,4 ', 4 "-tris [N-phenyl-N- (1-naphthyl) amino] triphenylamine.

【0011】請求項1記載の発明で正孔注入層を形成す
る、4,4',4"-トリス[N-フェニル-N-(1-ナフチル)ア
ミノ]トリフェニルアミンは、ガラス転移温度(Tg)
=117℃、融点(Tm)=248℃であり、熱的に安
定性を有するため、耐久性に優れている。また、正孔注
入性がMTDATAと同等であるため、正孔注入効率が
良好であり、発光特性の良好な電界発光素子を構成する
ことが可能となる。
The 4,4 ', 4 "-tris [N-phenyl-N- (1-naphthyl) amino] triphenylamine which forms the hole injection layer according to the first aspect of the present invention has a glass transition temperature ( Tg)
= 117 ° C. and melting point (Tm) = 248 ° C. Since it is thermally stable, it has excellent durability. In addition, since the hole injecting property is equivalent to that of MTDATA, the hole injecting efficiency is good, and an electroluminescent element having good emission characteristics can be formed.

【0012】請求項2記載の発明は、請求項1記載の電
界発光素子であって、前記有機材料層は、前記正孔輸送
層及びに接合する電子輸送層を含むことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the electroluminescent device according to the first aspect, the organic material layer includes the hole transport layer and an electron transport layer bonded to the hole transport layer.

【0013】請求項3記載の発明は、請求項1又は請求
項2に記載の電界発光素子であって、前記正孔輸送層
は、N,N'-ジ(1-ナフチル)-N,N'-ジフェニル-1,1'-ビ
フェニル-4,4'-ジアミン(α−NPD)でなることを特
徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the electroluminescent device according to the first or second aspect, the hole transport layer is formed of N, N'-di (1-naphthyl) -N, N It is characterized by comprising '-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (α-NPD).

【0014】請求項3記載の発明では、正孔注入層と同
様に、正孔輸送層(α−NPD)が熱的に安定性を有す
るため、高電圧、高電流を印加した場合に高温となるア
ノード電極付近の耐久性を向上することができる。よっ
て、電界発光素子の耐久性も向上することができる。
According to the third aspect of the present invention, since the hole transport layer (α-NPD) has thermal stability similarly to the hole injection layer, when a high voltage and a high current are applied, a high temperature is applied. The durability near the anode electrode can be improved. Therefore, the durability of the electroluminescent device can be improved.

【0015】請求項4記載の発明は、請求項2又は請求
項3に記載の電界発光素子であって、前記正孔輸送層と
前記電子輸送層との間に発光層が介在されていることを
特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the electroluminescent device according to the second or third aspect, a light emitting layer is interposed between the hole transport layer and the electron transport layer. It is characterized by.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る電界発光素子
の詳細を、図面に示す実施形態に基づいて説明する。 (実施形態1)図1は本発明に係る電界発光素子の実施
形態1を示す断面説明図である。同図に示すように、本
実施形態の電界発光素子11は、ガラス基板12の上
に、透明なITOでなるアノード電極13が形成されて
いる。アノード電極13の上には、4,4',4"-トリス[N-
フェニル-N-(1-ナフチル)アミノ]トリフェニルアミ
ン(以下、α−TPNATAという)でなる正孔注入層
14が膜厚30nmになるように真空蒸着法により形成
されている。なお、このα−TPNATAは、トリフェ
ニルアミンから合成したトリス(4-ヨードフェニル)ア
ミンと、N-フェニル-1-ナフチルアミンからウルマン反
応により合成し、カラムクロマトグラフィー法で精製す
ることにより、最終的に収率10%で回収することがで
きるという知見が得られた。因に、α−TPNATA
は、熱分析の結果ガラス転移点Tg=117℃、融点
(Tm)=248℃が観測された。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the electroluminescent device according to the present invention will be described below based on embodiments shown in the drawings. (Embodiment 1) FIG. 1 is an explanatory sectional view showing Embodiment 1 of an electroluminescent device according to the present invention. As shown in the figure, in an electroluminescent element 11 of the present embodiment, an anode electrode 13 made of transparent ITO is formed on a glass substrate 12. On the anode electrode 13, 4,4 ', 4 "-tris [N-
The hole injection layer 14 made of phenyl-N- (1-naphthyl) amino] triphenylamine (hereinafter referred to as α-TPNATA) is formed by a vacuum evaporation method so as to have a thickness of 30 nm. The α-TPNATA was synthesized from tris (4-iodophenyl) amine synthesized from triphenylamine and N-phenyl-1-naphthylamine by an Ullmann reaction, and purified by column chromatography to obtain the final product. Was found to be able to be recovered at a yield of 10%. By the way, α-TPNATA
As a result of thermal analysis, a glass transition point Tg of 117 ° C. and a melting point (Tm) of 248 ° C. were observed.

【0017】α−TPNATAは、構造式Α-TPNATA has the structural formula

【化6】 で表される。Embedded image It is represented by

【0018】正孔注入層14の上には、α−NPDでな
る正孔輸送層15を30nmの膜厚になるように真空蒸
着法により形成する。そして、正孔輸送層15の上に
は、ベリリウム(ビス(10-ヒドロキシベンゾ[h]キノリ
ネーナト))(以下、Bebq2という)でなる電子輸
送層16を膜厚が50nmになるように真空蒸着法によ
り形成されている。
On the hole injection layer 14, a hole transport layer 15 made of α-NPD is formed by a vacuum evaporation method so as to have a thickness of 30 nm. Then, an electron transport layer 16 made of beryllium (bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinenanate)) (hereinafter referred to as Bebq2) is formed on the hole transport layer 15 by a vacuum evaporation method so as to have a thickness of 50 nm. Is formed.

【0019】Bebq2は、構造式Bebq2 has the structural formula

【化7】 で表される。Embedded image It is represented by

【0020】電子輸送層16の上には、例えばMgIn
でなるカソード電極17が形成されて、本実施形態の電
界発光素子11が構成されている。
On the electron transport layer 16, for example, MgIn
Are formed to constitute the electroluminescent device 11 of the present embodiment.

【0021】ここで、正孔注入層14にα−TPNAT
Aを用いた本実施形態の電界発光素子11と、正孔注入
層に本実施形態のα−TPNATAの替わりにMTDA
TAを用いた電界発光素子(比較例1)とを、それぞれ
2×2[mm2]の面積で作成し、室温、大気中で発
光を行わせた測定結果に基づいて発光特性を評価する。
それぞれの電界発光素子のアノード電極とカソード電極
とに直流電源を接続し、約1秒、0.1Vずつ変化させ
て電圧を印加し、各電圧ごとの電流値を測定するととも
に、輝度計で発光の強度を測定した。測定した電圧V
[V]、電流密度J[A/m2]、輝度L[cd/mm2]の
値を用い、完全拡散面を仮定して発光効率η[lm/W]
を下記の式(1)により算出する。 η=π・L/(V・J)……(1) この値を対数グラフにプロットし、以下300[cd/
m2]時の値を読み取った。
Here, α-TPNAT is added to the hole injection layer 14.
A of the present embodiment using A and MTDA instead of α-TPNATA of the present embodiment for the hole injection layer in the hole injection layer.
An electroluminescent device using TA (Comparative Example 1) was prepared with an area of 2 × 2 [mm 2], and the luminescence characteristics were evaluated based on the measurement results of luminescence in room temperature and air.
A DC power supply is connected to the anode and cathode electrodes of each electroluminescent element, and a voltage is applied for about 1 second while changing the voltage by 0.1 V, the current value of each voltage is measured, and light is emitted by a luminance meter. Was measured for strength. Measured voltage V
[V], current density J [A / m2], luminance L [cd / mm2], and luminous efficiency η [lm / W] assuming a perfect diffusion surface
Is calculated by the following equation (1). η = π · L / (V · J) (1) This value is plotted on a logarithmic graph, and is then 300 [cd /
m2].

【0022】この本実施形態の電界発光素子と比較例1
の300[cd/m2]時の特性は、下表1に示すように
ほぼ同等であった。なお、表1中の括弧内は、測定8箇
所の標準偏差×3の割合を示している。
The electroluminescent device of this embodiment and Comparative Example 1
At 300 [cd / m2] were almost the same as shown in Table 1 below. Note that the values in parentheses in Table 1 indicate the ratio of standard deviation × 3 at eight measurement points.

【表1】 [Table 1]

【0023】ところで、高電圧、高電流によって、電界
発光素子が破壊される電力の限界を見ると、図3に示す
ように比較例1では、 9.946[V]×1080.75[mA/cm2]=1
0.7491[W/cm2] であったの対し、図2に示すように本実施形態の電界発
光素子では、 10.432[V]×1251[mA/cm2]=13.0
50[W/cm2] まで耐久性を有することが判った。高電圧、高電流で
は、アノード電極の発熱によって、その直上にある正孔
注入層が溶け、素子は破壊される。MTDATAの融点
は203℃であるのに比べて、本実施形態で用いたα−
TPNATAの融点は248℃と高いため、電界発光素
子の耐久性を向上させていることが判る。このように、
α−TPNATAを正孔注入層14に使用することによ
り、より高電圧、高電流に耐えられる素子を実現するこ
とが可能になる。
By the way, looking at the limit of the power at which the electroluminescent element is destroyed by the high voltage and the high current, as shown in FIG. 3, in Comparative Example 1, 9.946 [V] × 108.75 [mA / cm2] = 1
In contrast to 0.7491 [W / cm2], as shown in FIG. 2, in the electroluminescent device of the present embodiment, 10.432 [V] × 1251 [mA / cm2] = 13.0.
It was found to have durability up to 50 [W / cm2]. At a high voltage and a high current, the heat generated by the anode electrode melts the hole injection layer immediately above the anode electrode and destroys the element. The melting point of MTDATA is 203 ° C., compared to α- used in the present embodiment.
Since the melting point of TPNATA is as high as 248 ° C., it can be seen that the durability of the electroluminescent element is improved. in this way,
By using α-TPNATA for the hole injection layer 14, it becomes possible to realize an element that can withstand higher voltage and higher current.

【0024】以上、実施形態1について説明したが、正
孔注入層としてα−TPNATAを使用できる電界発光
素子は、少なくとも正孔輸送層15と電子輸送層16か
らなる有機多層構造を持っている素子であればよいた
め、正孔輸送層15は本実施形態のα−NPD以外の正
孔輸送物質、例えばTPDでも上記した効果を奏するこ
とができる。また、電子輸送層16に用いたBebq2
は、他の電子輸送物質、例えばアルミニウムトリ(8-キ
ノリレート)(以下、Alq3という)でもよい。Al
q3は、構造式
Although the first embodiment has been described above, the electroluminescent device in which α-TPNATA can be used as the hole injection layer is a device having an organic multilayer structure including at least the hole transport layer 15 and the electron transport layer 16. Therefore, the hole transporting layer 15 can also exert the above-described effects with a hole transporting substance other than α-NPD of the present embodiment, for example, TPD. The Bebq2 used for the electron transport layer 16
May be another electron transporting material, for example, aluminum tri (8-quinolate) (hereinafter, referred to as Alq3). Al
q3 is a structural formula

【化8】 で表される。さらに、正孔輸送層15と電子輸送層16
との間に発光層を介在させた構成としても勿論よい。ま
たさらに、耐熱性を有する電界発光素子を作成するとい
う目的であれば、正孔輸送層としてα−TPNATAを
用いてもよい。
Embedded image It is represented by Further, the hole transport layer 15 and the electron transport layer 16
Of course, a configuration in which a light emitting layer is interposed between the light emitting element and the light emitting element may be used. Further, for the purpose of producing an electroluminescent element having heat resistance, α-TPNATA may be used as the hole transport layer.

【0025】(実施形態2)図4は、本発明に係る電界
発光素子の実施形態2を示す断面説明図である。同図に
示すように、本実施形態の電界発光素子11は、ガラス
基板12の上に、透明なITOでなるアノード電極13
が形成されている。アノード電極13の上には、α−T
PNATAでなる正孔注入層14が膜厚30nmになる
ように真空蒸着法により形成されている。正孔注入層1
4の上には、α−NPDでなる正孔輸送層15を30n
mの膜厚になるように真空蒸着法により形成する。そし
て、正孔輸送層15の上には、Bebq2とキナクリド
ン(以下、Qdという)を共蒸着してなる発光層18が
22nmの膜厚になるように形成されている。
(Embodiment 2) FIG. 4 is an explanatory sectional view showing an embodiment 2 of an electroluminescent device according to the present invention. As shown in the figure, an electroluminescent element 11 of the present embodiment has an anode electrode 13 made of transparent ITO on a glass substrate 12.
Are formed. On the anode electrode 13, α-T
The hole injection layer 14 made of PNATA is formed by a vacuum evaporation method so as to have a thickness of 30 nm. Hole injection layer 1
4 is provided with a hole transport layer 15 of α-NPD for 30 n.
It is formed by a vacuum evaporation method so as to have a film thickness of m. On the hole transport layer 15, a light emitting layer 18 formed by co-evaporation of Bebq2 and quinacridone (hereinafter, referred to as Qd) is formed to have a thickness of 22 nm.

【0026】Qdは、構造式Qd is a structural formula

【化9】 で表される。Embedded image It is represented by

【0027】この発光層18の上には、Bebq2でな
る電子輸送層16を膜厚が50nmになるように真空蒸
着法により形成されている。そして、電子輸送層16の
上には、例えばMgInでなるカソード電極17が形成
されて、本実施形態の電界発光素子11が構成されてい
る。
An electron transport layer 16 of Bebq2 is formed on the light emitting layer 18 by a vacuum evaporation method so as to have a thickness of 50 nm. Then, a cathode electrode 17 made of, for example, MgIn is formed on the electron transport layer 16 to constitute the electroluminescent device 11 of the present embodiment.

【0028】本実施形態の電界発光素子と上記した比較
例1とを用いて、上記した実施形態1と同様の測定を行
った結果、発光特性及び耐熱性において実施形態1と同
様の評価を得ることができた。なお、図5は、本実施形
態の電界発光素子11の発光特性を測定した結果を示す
グラフである。
Using the electroluminescent device of the present embodiment and Comparative Example 1 described above, the same measurement as in the above-described Embodiment 1 was performed. As a result, the same evaluation as that of the Embodiment 1 was obtained in the light emission characteristics and heat resistance. I was able to. FIG. 5 is a graph showing the results of measuring the light emission characteristics of the electroluminescent device 11 of the present embodiment.

【0029】次に、図6に示す比較例2の電界発光素子
1との輝度を比較する。この電界発光素子1は、ガラス
基板2の上に、ITOでなるアノード電極3、MTDA
TAでなる正孔注入層7、α−NPDでなる正孔輸送層
4、TPDとルブレンを共蒸着してなる発光層8、Be
bq2でなる電子輸送層5、Mg−Inからなるカソー
ド電極6を順次積層して構成されている。このような比
較例2と本実施形態の電界発光素子11とを、同じ電流
密度での輝度を測定したところ、下表2に示すように、
ほぼ同等の値を示した。
Next, the luminance of the electroluminescent device 1 of Comparative Example 2 shown in FIG. 6 will be compared. This electroluminescent element 1 is composed of an anode electrode 3 made of ITO, a MTDA
A hole injection layer 7 of TA, a hole transport layer 4 of α-NPD, a light emitting layer 8 of co-evaporated TPD and rubrene, Be
An electron transport layer 5 made of bq2 and a cathode electrode 6 made of Mg-In are sequentially laminated. When luminance of the comparative example 2 and the electroluminescent element 11 of this embodiment were measured at the same current density, as shown in Table 2 below,
It showed almost the same value.

【表2】 [Table 2]

【0030】しかし、同表に示すように、最高輝度で
は、本実施形態の電界発光素子11のほうが比較例2よ
り1割以上高い値が得られた。これは、発光界面での効
率が同程度の素子であれば、破壊の限界で有機層の最下
層の耐熱性の差がそのまま最高輝度になって現れた結果
となると解される。即ち、MTDATAを正孔注入層7
に用いた比較例2の電界発光素子1と、α−TPNAT
Aを正孔注入層14用いた本実施形態の電界発光素子1
1の差である。発光効率が同程度の素子の場合には、M
TDATAに代えて、α−TPNATAを用いれば、よ
り耐久性のよい電界発光素子となる。
However, as shown in the same table, at the highest luminance, the value of the electroluminescent element 11 of the present embodiment was higher than that of the comparative example 2 by 10% or more. It can be understood that this is a result in which the difference in heat resistance of the lowermost layer of the organic layer appears as it is at the highest luminance at the limit of destruction if the devices have the same efficiency at the light emitting interface. That is, MTDATA is transferred to the hole injection layer 7.
Electroluminescent element 1 of Comparative Example 2 used for α-TPNAT
Electroluminescent device 1 of this embodiment using A as hole injection layer 14
1 difference. In the case of devices having the same luminous efficiency, M
If α-TPNATA is used instead of TDATA, a more durable electroluminescent element can be obtained.

【0031】本実施形態においても、α−NPD以外に
例えばTPDを用いても同様の効果を得ることができ
る。また、電子輸送層16にBebq2以外の電子輸送
性物質、例えばAlq3などを用いてもよい。さらに、
発光層18に電子輸送性物質とともに共蒸着する物質と
しては、Qd以外に例えばクマリンなどを用いることも
可能である。またさらに、共蒸着は、電子輸送性物質と
ともに行うのではなく、正孔輸送性物質とともに行う構
成の電界発光素子においても同様の効果を奏することが
できる。
Also in this embodiment, the same effect can be obtained by using, for example, TPD in addition to α-NPD. Further, an electron transporting substance other than Bebq2, for example, Alq3 may be used for the electron transporting layer 16. further,
As a substance to be co-evaporated together with the electron transporting substance on the light emitting layer 18, for example, coumarin or the like can be used other than Qd. Furthermore, the same effect can be obtained in an electroluminescent element in which co-evaporation is performed not with an electron transporting substance but with a hole transporting substance.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この発
明によれば、正孔注入効率が高く、発光特性が良好で、
且つ耐久性を有する電界発光素子を実現することができ
る。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the hole injection efficiency is high, the emission characteristics are good,
In addition, an electroluminescent element having durability can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る電界発光素子の実施形態1を示す
断面説明図。
FIG. 1 is a cross-sectional explanatory view showing Embodiment 1 of an electroluminescent element according to the present invention.

【図2】実施形態1の電界発光素子の発光特性を示すグ
ラフ。
FIG. 2 is a graph showing light emission characteristics of the electroluminescent device of Embodiment 1.

【図3】比較例1の発光特性を示すグラフ。FIG. 3 is a graph showing light emission characteristics of Comparative Example 1.

【図4】本発明に係る電界発光素子の実施形態2を示す
断面説明図。
FIG. 4 is an explanatory sectional view showing Embodiment 2 of the electroluminescent device according to the present invention.

【図5】実施形態2の電界発光素子の発光特性を示すグ
ラフ。
FIG. 5 is a graph showing light emission characteristics of the electroluminescent device of Embodiment 2.

【図6】比較例2を示す断面説明図。FIG. 6 is an explanatory sectional view showing Comparative Example 2.

【図7】従来例を示す断面説明図。FIG. 7 is an explanatory sectional view showing a conventional example.

【図8】他の従来例を示す断面説明図。FIG. 8 is an explanatory sectional view showing another conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 電界発光素子 13 アノード電極 14 正孔注入層(α−TPNATA) 15 正孔輸送層 16 電子輸送層 17 カソード電極 18 発光層 Reference Signs List 11 electroluminescent element 13 anode electrode 14 hole injection layer (α-TPNATA) 15 hole transport layer 16 electron transport layer 17 cathode electrode 18 light emitting layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アノード電極とカソード電極との間に有
機材料層が介在される、該有機材料層が前記アノード電
極に接合する正孔注入層と、該正孔注入層に接合する正
孔輸送層と、を含む電界発光素子であって、 前記有機材料層正孔注入層は、構造式 【化1】 で表される4,4',4"-トリス[N-フェニル-N-(1-ナフチ
ル)アミノ]トリフェニルアミンを含むでなることを特
徴とする電界発光素子。
An organic material layer is interposed between an anode electrode and a cathode electrode, wherein the organic material layer is connected to the anode electrode, and a hole injection layer is connected to the hole injection layer. And wherein the organic material layer and the hole injection layer have a structural formula: An electroluminescent device comprising: 4,4 ', 4 "-tris [N-phenyl-N- (1-naphthyl) amino] triphenylamine represented by the formula:
【請求項2】 前記有機材料層は、前記正孔輸送層及び
に接合する電子輸送層を含むことを特徴とする請求項1
記載の電界発光素子。
2. The method according to claim 1, wherein the organic material layer includes an electron transport layer bonded to the hole transport layer.
An electroluminescent device according to claim 1.
【請求項3】 前記正孔輸送層は、N,N'-ジ(1-ナフチ
ル)-N,N'-ジフェニル-1,1'-ビフェニル-4,4'-ジアミン
でなることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の
電界発光素子。
3. The method according to claim 1, wherein the hole transport layer is made of N, N′-di (1-naphthyl) -N, N′-diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine. The electroluminescent device according to claim 1 or 2, wherein
【請求項4】 前記正孔輸送層と前記電子輸送層との間
に発光層が介在されていることを特徴とする請求項2又
は請求項3に記載の電界発光素子。
4. The electroluminescent device according to claim 2, wherein a light emitting layer is interposed between the hole transport layer and the electron transport layer.
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