JPH11220227A - ハイブリッドモジュール及びその製造方法並びにその実装方法 - Google Patents

ハイブリッドモジュール及びその製造方法並びにその実装方法

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JPH11220227A
JPH11220227A JP1934998A JP1934998A JPH11220227A JP H11220227 A JPH11220227 A JP H11220227A JP 1934998 A JP1934998 A JP 1934998A JP 1934998 A JP1934998 A JP 1934998A JP H11220227 A JPH11220227 A JP H11220227A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 放熱性に優れるとともに小型化に適したハイ
ブリッドモジュール及びその製造方法並びにその実装方
法を提供する。 【解決手段】 発熱性の回路部品13を備えるハイブリ
ッドモジュール10において、回路基板11の親回路基
板と対向する主面11bに2段構造を有する凹部15を
設け、第2の凹部15bに回路部品13を実装し、第1
の凹部15aに回路部品13との間に放熱樹脂18が介
在するように放熱板14を設置した。これにより、回路
部品13からの発熱が親回路基板Sに効率的に熱伝導さ
れる。また、凹部15は回路部品13等を基準に規定し
てるので回路基板11の体積を有効に活用できる。さら
に、凹部15は2段構造となっているので、放熱樹脂1
8の厚さが安定化し、これにより熱抵抗も安定化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、回路パターンが形
成された回路基板に、積層コンデンサや積層インダクタ
等のチップ部品や、半導体部品等の回路部品を実装して
電子回路を形成するハイブリッドモジュールに関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のハイブリッドモジュール
としては、図5に示すようなものが知られている。図5
は、従来のハイブリッドモジュールを示す側面断面図で
ある。このハイブリッドモジュール100は、回路基板
101上にチップ状電子部品102及び発熱性を有する
半導体素子等の回路部品103を実装したものである。
この回路基板101は、熱伝導性がよい窒化アルミニウ
ム系のセラミックからなる。チップ状電子部品102は
回路基板101上に形成された回路パターン106に半
田付けされている。また、回路部品103は、半田バン
プ103aを介して回路パターン106上に接合されて
いる。チップ状電子部品102は、例えば積層コンデン
サであり、回路部品103は、例えばFETである。回
路基板101の側面には、親回路基板Sと接続するため
の複数の端子電極101aが形成されている。この端子
電極101aは、親回路基板Sに形成された回路パター
ンSpに半田付けされている。また、回路基板101の
親回路基板Sと対向する主面101bは、親回路基板S
に形成された導体膜Sfを介して接合されている。この
導体膜Sfは、ハイブリッドモジュール100の熱を親
回路基板Sに効率的に伝導するためのものであり、熱伝
導性の良好な部材からなる。このハイブリッドモジュー
ル100では、回路基板101に実装された回路部品1
03から発生する熱が、回路基板101及び導体膜Sf
を介して親回路基板S或いはグランドなどの広いエリア
を有する導体膜へと伝導され、放熱される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このハ
イブリッドモジュール100は、回路部品103に発生
する熱は回路部品103の半田バンプ103aを介して
回路基板101に伝導され、さらに、この熱が回路基板
101及び導体膜Sfを介して親回路基板に伝導される
ため、熱伝導が効率的でないという難点があった。一
方、窒化アルミニウム系セラミックは、一般的なアルミ
ナ系の基板材料に比べて高価であり、経済性に欠けると
いう難点があった。
【0004】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、放熱性に優れるとと
もに小型化に適したハイブリッドモジュール及びその製
造方法並びにその実装方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、回路基板と、回路基板上に実装
された発熱性を有する回路部品とを備え、この回路基板
の主面を親回路基板に対向させて搭載するハイブリッド
モジュールにおいて、前記回路基板は親回路基板と対向
する主面に設けられた第1の凹部と該第1の凹部底面に
設けられた第2の凹部とを有し、前記回路部品は該第2
の凹部に実装され、第1の凹部に付設され前記回路部品
の発熱を親回路基板に伝導する熱伝導部材を備えたこと
を主たる特徴とする。
【0006】本発明によれば、発熱性を有する回路部品
に発生する熱は、該回路部品と親回路基板との間に介在
する熱伝導部材を介して伝導されるので、効率的に熱伝
導させることができる。また、熱伝導部材及び回路部品
が回路基板の主面に設けられた第1の凹部及び第2の凹
部に収容されるので、ハイブリッドモジュールの小型化
を図ることができる。
【0007】本発明の好適な態様として、請求項2で
は、前記熱伝導部材は熱伝導性を有する放熱板を備えた
ものを挙げる。また、請求項3では、前記熱伝導部材
は、熱伝導性を有する放熱板と、該放熱板を前記回路部
品に接着する放熱樹脂とを備えたものを挙げる。
【0008】このようなハイブリッドモジュールでは、
回路基板の主面に放熱板が露出するので、この放熱板を
介して回路部品に発生する熱を親回路基板に伝導させる
ことができる。特に、この放熱板を放熱樹脂によって回
路部品に接着すれば放熱板と回路部品との間の熱伝導性
が優れたものとなる。さらに、回路基板の主面には2段
構造の凹部となる第1の凹部及び第2の凹部が形成され
ているので、放熱板を接着する際に該放熱板が第1の凹
部底面に規制され、放熱樹脂の厚みが安定化する。これ
により熱抵抗が安定する。
【0009】また、本発明の他の好適な態様として、請
求項4では、前記第1の凹部は、該第1の凹部側壁と第
2の凹部の縁とが所定距離を有する大きさであるものを
挙げる。さらに具体的な態様として、請求項5では、前
記第1の凹部側壁と第2の凹部の縁との前記所定距離は
0.1mm以上0.5mm以下であるものを挙げる。
【0010】このようなハイブリッドモジュールでは、
回路基板に設けられた第1の凹部が必要以上に大きく形
成されていないので、回路基板を有効に活用することが
できる。従って、ハイブリッドモジュールの小型化を図
ることができる。
【0011】さらに、本発明の他の好適な態様として、
請求項6では、請求項2又は3記載のハイブリッドモジ
ュールにおいて、前記第1の凹部は、前記放熱板の厚さ
に対して所定範囲の深さを有するものを挙げる。さらに
具体的な態様として、請求項7では、前記所定範囲は、
−0.1mm以上+0.1mm以下であるものを挙げ
る。
【0012】このようなハイブリッドモジュールでは、
回路基板の主面と放熱板が略面一となるため、即ち、ハ
イブリッドモジュールの親回路基板と対向する面が平滑
となるため、親回路基板への実装性に優れたものとな
る。特に、この放熱板を親回路基板に形成された熱伝導
膜に接合した際に、その接合性が向上したものとなる。
また、放熱板がハイブリッドモジュールに埋め込まれて
いるので、放熱板と回路部品との固着強度が向上したも
のとなる。
【0013】さらに、本発明の他の好適な態様として、
請求項8では、前記第2の凹部は、該第2の凹部側壁と
回路部品とが所定間隔を有する大きさであるものを挙げ
る。さらに具体的な態様として、請求項9では、前記第
2の凹部側壁と回路部品との前記所定間隔は0.1mm
以上1.0mm以下であるものを挙げる。
【0014】このようなハイブリッドモジュールでは、
回路基板に設けられた第2の凹部が必要以上に大きく形
成されていないので、回路基板を有効に活用することが
できる。従って、ハイブリッドモジュールの小型化を図
ることができる。また、該第2の凹部の大きさが回路部
品を基準に規定されているので、このハイブリッドモジ
ュールの製造過程において回路部品を第2の凹部に実装
する際に、該回路部品の実装性に優れたものとなる。
【0015】さらに、本発明の他の好適な態様として、
請求項10では、前記第2の凹部は、第2の凹部底面か
らの回路部品の高さより所定値だけ小さい或いは等しい
深さを有するものを挙げる。さらに具体的な態様とし
て、請求項11では、前記所定値は0mmより大きく
0.2mm以下であるものを挙げる。
【0016】このようなハイブリッドモジュールでは、
放熱板を接着する際に放熱板と回路部品との間に介在す
る放熱樹脂の厚みが安定化するので、熱抵抗が安定す
る。
【0017】さらに、本発明の他の好適な態様として、
請求項12では、請求項2又は3記載のハイブリッドモ
ジュールにおいて、前記放熱板は前記親回路基板と対向
する回路部品の主面と略面一であるものを挙げる。
【0018】このようなハイブリッドモジュールでは、
回路基板の主面と放熱板が略面一となるため、即ち、ハ
イブリッドモジュールの親回路基板と対向する主面が平
滑となるため、親回路基板への実装性に優れたものとな
る。特に、この放熱板を親回路基板に形成された熱伝導
膜に接合した際に、その接合性が向上したものとなる。
また、放熱板がハイブリッドモジュールに埋め込まれて
いるので、放熱板と回路部品との固着強度が向上したも
のとなる。
【0019】さらに、本発明の他の好適な態様として、
請求項13では、請求項2又は3記載のハイブリッドモ
ジュールにおいて、前記放熱板は前記第1の凹部側壁と
該放熱板縁部とが所定間隔を有する大きさであるものを
挙げる。さらに具体的な態様として、請求項14では、
前記所定間隔は0.01mm以上0.3mm以下である
ものを挙げる。
【0020】このようなハイブリッドモジュールでは、
親回路基板に実装する際に、熱膨張により親回路基板に
かかる応力を、放熱板側方と第1の凹部側壁との間に逃
がすことができる。これにより、回路部品にかかる応力
が軽減されるので、信頼性を向上させることができる。
【0021】さらに、本発明の他の好適な態様として、
請求項15では、請求項3記載のハイブリッドモジュー
ルにおいて、前記放熱樹脂が前記第2の凹部側壁と回路
部品との隙間を充填しているものを挙げる。
【0022】このハイブリッドモジュールでは、回路部
品と第2の凹部側壁との隙間に放熱樹脂が充填されてい
るので、回路部品への水分の浸入を防止することができ
る。即ち、耐湿性が向上したものとなる。また、この放
熱樹脂により放熱板の固着強度が向上したものとなる。
【0023】さらに、本発明の他の好適な態様として、
請求項16では、請求項3記載のハイブリッドモジュー
ルにおいて、前記放熱板の前記放熱樹脂と接する表面は
所定の表面粗さを備えているものを挙げる。
【0024】このハイブリッドモジュールでは、放熱板
と放熱樹脂との接触面積が増大するため回路部品から放
熱板への熱伝導率が向上する。また、放熱板表面が粗れ
ているのでアンカー効果により放熱板の固着強度が向上
したものとなる。
【0025】さらに、本発明の他の好適な態様として、
請求項17では、請求項2又は3記載のハイブリッドモ
ジュールにおいて、前記放熱板表面はめっき処理が施さ
れているものを挙げる。
【0026】このハイブリッドモジュールでは、放熱板
を親回路基板に形成された熱伝導膜に接合させる際に、
接合性に優れたものとなる。例えば、放熱板と前記熱伝
導膜とを半田付けする際に、該半田付け性が良好なもの
なる。これにより、回路部品に発生した熱が親回路基板
に効率的に熱伝導される。
【0027】また、請求項18では、回路基板と、回路
基板上に実装された発熱性を有する回路部品とを備え、
この回路基板の主面を親回路基板に対向させて搭載する
ハイブリッドモジュールの製造方法において、第1の凹
部と該第1の凹部底面に形成された第2の凹部とを有す
る回路基板を製造する工程と、この回路基板の前記第2
の凹部に回路部品を実装する工程と、前記第1の凹部に
放熱樹脂を注入する工程と、放熱樹脂が注入された前記
第1の凹部に調整孔を有する放熱板を嵌入する工程とを
備えたことを特徴とする。
【0028】本発明によれば、放熱板を第1の凹部に嵌
入する際に、余分な放熱樹脂が放熱板の調整孔から排出
される。これにより、常に放熱樹脂量を一定にすること
ができる。即ち、特性のバラツキが少ないハイブリッド
モジュールを製造することができる。
【0029】また、請求項19では、請求項2又は3記
載のハイブリッドモジュールを回路パターンが形成され
た親回路基板に実装するハイブリッドモジュールの実装
方法において、前記放熱板と親回路基板に形成された熱
伝導膜とを接合させることを特徴とする。
【0030】本発明によれば、放熱板と親回路基板に形
成された熱伝導膜とが接合されるので、放熱板を介して
回路部品の熱が親回路基板へ効率よく伝導されるととも
に、ハイブリッドモジュールと親回路基板との接合強度
が向上する。
【0031】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態にかかるハイ
ブリッドモジュール及びその製造方法並びにその実装方
法について図1〜図3を参照して説明する。本実施の形
態では、高周波電力増幅用のハイブリッドモジュールに
ついて説明する。図1は、高周波電力増幅用のハイブリ
ッドモジュールを示す外観斜視図、図2はハイブリッド
モジュールの側面断面図、図3は図2の一部を拡大した
ハイブリッドモジュールの側面断面図である。
【0032】このハイブリッドモジュール10は、図1
及び図2に示すように、回路基板11と、回路基板11
に実装された複数のチップ状電子部品12と、発熱性を
有する半導体素子等の回路部品13と、回路部品13に
発生する熱を親回路基板Sに伝導させる放熱板14を主
たる構成要素とする。このハイブリッドモジュール10
の外観寸法としては、例えば、約7x7x2mm3であ
る。
【0033】回路基板11は、図2に示すように、直方
体形状のアルミナを主体としたセラミック製の多層基板
からなる。この回路基板11は、例えば4層構造となっ
ており、表面及び内層には回路パターン16及びビアホ
ールが形成されている。また、回路基板11の側面には
前記回路パターン16と接続し、親回路基板Sに接続す
るための端子電極11aが付設されている。さらに、回
路基板11の底面、即ち、親回路基板Sに実装する際に
親回路基板Sと対向する主面11bには、回路部品13
及び放熱板14を収容するための凹部15が形成されて
いる。この凹部15は、2段階構造を有しており、主面
11bに形成された第1の凹部15aと、第1の凹部1
5aの底面にこれよりもやや小さく形成された第2の凹
部15bとからなる。第2の凹部15bの底面には、回
路部品13を実装するための回路パターン16が形成さ
れている。
【0034】チップ状電子部品12は、ハイブリッドモ
ジュール10を構成する電子部品であり、例えば、積層
コンデンサや、積層インダクタ等である。このチップ状
電子部品12は、前記主面11bとは反対側の面に形成
された回路パターン16に実装されている。
【0035】回路部品13は、発熱性を有する半導体素
子等からなり、例えばGaAsMES型FET等であ
る。この回路部品13は複数の端子電極を備えており、
各端子電極は第2の凹部15bに形成された回路パター
ン16に接続されている。回路部品13と第2の凹部1
5bの底面との間であって、回路部品13の端子電極が
形成されていない部位には、封止樹脂17が充填されて
いる。
【0036】ここで、回路部品13の端子電極と回路パ
ターン16との接続としては、例えば、以下のようなも
のが挙げられる。例えば、半田付けによる接続や、導電
性樹脂を用いた接続や、異方導電性樹脂(ACF)を用
いた接続や、回路パターン16上に金(Au)を用いた
ボールバンプを形成し超音波併用熱圧着して行う接続等
である。
【0037】上記導電性樹脂を用いた接続は、安価であ
り、導電性樹脂によって応力を吸収できるため高信頼性
が得られるという効果がある。また、異方導電性樹脂を
用いた接続では、封止樹脂17が不要となり、コストの
低減を図ることができる。
【0038】また、上記回路パターン16上にボールバ
ンプを形成し超音波併用熱圧着する接続では、ドライプ
ロセスであることから、メッキ液による回路部品13へ
のダメージが少ない。また、設備コストを低減できるこ
とができるとともに、回路基板11への実装作業時間が
短縮できる。即ち、実装コストを低減できる。さらに、
Au−Au接合なので接触抵抗が少なく高信頼性を得ら
れる。
【0039】また、上記半田付けによる接続では、セル
フアラインメントにより位置補正されるため、実装精度
を必要としない。また、実装時に低荷重で実装できるた
め回路部品13へのダメージが少ない。さらに、半田バ
ンプにより応力吸収できるため高信頼性を得られる。
【0040】封止樹脂17は、回路部品13に水分を浸
入するのを防ぐとともに、回路部品13を回路基板11
に固着することを主たる目的とするものである。この封
止樹脂17としては、例えばエポキシ系のものが用いら
れる。
【0041】放熱板14は、前記第2の凹部15bの開
口部を覆い被せることが可能で、かつ、第1の凹部15
aに収まる幅及び長さを備えた板状部材である。即ち、
凹部15内の段差に嵌合する大きさである。この放熱板
14は熱伝導性の高い材料から形成されており、例えば
42アロイ(ニッケル:鉄=42:58の合金)から形
成されている。放熱板14の表面は、研磨により所定の
表面粗さを備えている。例えば、平均算術粗さが1.0
μmである。さらに、この放熱板14の表面は、半田濡
れ性を向上させるためにメッキ処理が施されている。こ
のメッキ処理としては、例えばAuメッキである。この
放熱板14は、放熱樹脂18を接着剤として回路部品1
3の表面に接着されている。
【0042】放熱樹脂18は、放熱板14を回路部品1
3に固着させるとともに、回路部品13に発生する熱を
放熱板14に効率的に伝導させるためのものである。こ
の放熱樹脂18としては、熱伝導率の良好なものから形
成されており、例えばセラミックのフィラーが入ったシ
リコン系のものが用いられる。この放熱樹脂18は、前
述したように回路部品13と放熱板とを接着するととも
に、放熱板14側方と第1の凹部15a側壁との間及び
回路部品13側方と第2の凹部15bとの間をも充填し
ている。
【0043】ハイブリッドモジュール10には、上面を
覆うように箱状のケースCが付設されている。このケー
スCは金属ケースであり種々のノイズの侵入及び放射を
防止する。
【0044】このハイブリッドモジュール10では、回
路基板10に形成された第1の凹部15a等の大きさ
は、以下のように規定されている。
【0045】まず、第2の凹部15bについて説明す
る。図3に示すように、第1の凹部15aの底面に開口
する第2の凹部15bは、第2の凹部15bの側壁と回
路部品13とが所定間隔D1を有するような幅及び長さ
に規定される。ここで所定間隔D1は、第2の凹部15
bに回路部品13を搭載する際に、該凹部15bへの収
容が容易で、かつ、搭載位置決めが容易となるように設
定される。より具体的には、前記所定間隔D1が0.1
mm以上1.0mm以下となることが望ましい。また、
第2の凹部15bは、回路部品13を該凹部15b底面
に実装した際に、該凹部15b底面から回路部品13の
裏面までの高さよりも、所定距離D2だけ小さく規定さ
れる。ここで所定距離D2は、放熱板14と回路部品1
3とを接着する放熱樹脂18の厚さが、一定の厚みとな
るように設定される。より具体的には、前記所定距離D
2が0mm以上0.2mm以下となることが望ましい。
尚、第2の凹部15bに回路部品13が複数実装されて
いる場合にも同様である。また、図2及び図3において
はD2=0であるため図示は省略した。
【0046】次に、第1の凹部について説明する。回路
基板11の主面11bに形成された第1の凹部15a
は、その側壁と第2の凹部15bの縁とが所定距離D3
を有するような幅及び長さに規定される。即ち、第2の
凹部15bよりも開口部の幅及び長さが所定距離D3だ
け大きく規定される。より具体的には、前記所定距離D
3が0.1mm以上0.5mm以下となることが望まし
い。また、第1の凹部15aは、放熱板14の厚さに対
して所定範囲となるような深さに規定される。この所定
範囲は、放熱板14の表面が回路基板11の主面11b
と略面一となるように規定されている。より具体的に
は、前記所定範囲が−0.1mm以上+0.1mm以下
であることが望ましい。
【0047】次に、このハイブリッドモジュール10の
製造方法について説明する。まず、以下のようにして回
路基板11を製造する。即ち、アルミナ系のセラミック
材料が分散するスラリーを作成する。次に、このスラリ
ーからドクターブレード法等を用いて複数のセラミック
グリーンシートを作成する。次に、各セラミックグリー
ンシートの所定部位に必要に応じてビアホールを形成し
た後にスクリーン印刷法等により回路パターンを形成す
る。さらに、このセラミックグリーンシートを積層した
ときに、この積層体に凹部が形成されるように、対応す
るセラミックグリーンシートに孔を形成する。この孔の
形成方法としては、例えばパンチによる打ち抜き等であ
る。また、ここでは、セラミックグリーンシート1枚の
厚みを前記第1の凹部15a及び第2の凹部15bの深
さに対応させるために、第1の凹部15aの幅及び長さ
の孔を打ち抜いたセラミックグリーンシートと、第2の
凹部15bの幅及び長さの孔を打ち抜いたセラミックグ
リーンシートをそれぞれ1枚ずつ用意する。次に、この
孔を有するセラミックグリーンシートと有しないものと
を、所定の順序で積層してシート積層物を作成する。こ
の後に、このシート積層物を所定温度で焼成し、さら
に、これを所定寸法に裁断して回路基板11を得る。
【0048】次に、回路基板11の第2の凹部15b底
面に形成された回路パターン16上にボールバンプを形
成する。次に、このボールバンプと接続するように、回
路部品13を超音波併用熱圧着等により接続する。次
に、第2の凹部15bに、回路部品13の脇から封止樹
脂17を注入することにより、回路部品13と第2の凹
部15b底面の間に封止樹脂を充填する。
【0049】次に、回路部品13の表面に放熱樹脂18
を注入する。この後に、第1の凹部15aに放熱板14
を載置するとともに回路部品13方向に押圧し、接着す
る。これにより、放熱板14側方や、回路部品13の側
方にも放熱樹脂18が充填される。また、接着時に、放
熱板14の端部が第1の凹部15aの底面端部、即ち凹
部15の段差部分により規制されるので、放熱板14と
回路部品18の間の放熱樹脂18は、安定した厚さに形
成することができる。
【0050】次に、回路基板11の上面に、チップ状電
子部品12を半田付けする。最後に、ケースCを回路基
板11を覆うように付設することにより、ハイブリッド
モジュール10が得られる。
【0051】次に、このハイブリッドモジュール10を
親回路基板Sに実装する方法について説明する。図1に
示すように、親回路基板Sの所定箇所には、回路基板1
1に付設された端子電極11aと接続するための回路パ
ターンSpが形成されている。また、ハイブリッドモジ
ュール10を搭載した際に親回路基板Sの放熱板14と
対向する所定箇所には、熱伝導膜Sfが形成されてい
る。ここで、熱伝導膜Sfは親回路基板S上に回路パタ
ーンSpと同様に形成された導体膜であり、例えば銅を
主成分とするものである。ハイブリッドモジュール10
を親回路基板10に実装するには、回路基板11の端子
電極11aと親回路基板Sの回路パターンSp、放熱板
14と前記熱伝導膜Sfとを半田付けして親回路基板S
に実装する。
【0052】このように、親回路基板Sに、ハイブリッ
ドモジュール10の端子電極11aのみを半田付けする
のでなく、放熱板14も半田付けすることにより、回路
部品13に発生した熱が効率的に親回路基板Sに伝導さ
れる。また、放熱板14が熱伝導膜Sfに半田付けされ
ているので、ハイブリッドモジュール10の親回路基板
Sへの固着強度が向上する。尚、熱伝導膜Sfは、親回
路基板Sにおいてグランドに接続すると、特に高周波領
域において電気特性が安定し、放熱性も向上したものと
なる。
【0053】以上詳述したように、このハイブリッドモ
ジュール10によれば、回路部品13で発生した熱は、
その表面から放熱樹脂18、放熱板14及び親回路基板
Sの熱伝導膜Sfを介して親回路基板Sに放熱される。
ここで放熱板14は放熱樹脂18を介して回路部品13
の表面に接続しているので、回路部品13で発生した熱
が効率的に親回路基板Sに伝導される。特に、放熱板1
4の表面が所定の表面粗さを備えているので、その熱伝
導は効率的である。また、放熱板14にはメッキ処理が
施されているので親回路基板Sの熱伝導膜Sfとの接合
性に優れているので、さらに熱伝導は効率的であるとと
もに、端子電極11aのみによる接続と比較して接合強
度に優れたものとなる。また、放熱樹脂18は、第2の
凹部15bにおける回路部品13との隙間にも充填して
いるので、さらに放熱性に優れたものとなる。
【0054】一方、第1の凹部15a及び第2の凹部1
5bは、それぞれ前述したような大きさに規定されてい
る。即ち、第2の凹部15bの大きさが、回路部品13
を基準に規定されているので、該凹部15bを必要以上
に大きくすることなく回路基板11の有効活用が可能で
ある。従って、部品の小型化が可能となる。さらに、回
路部品13を第2の凹部15bに搭載する際に位置決め
等が容易となるので実装性に優れたものとなる。また、
第2の凹部15bの深さも、回路部品13を基準に規定
されているので、回路部品13と放熱樹脂18との間に
介在する放熱樹脂18の厚みを安定化することができ
る。これにより、熱抵抗を安定化することができる。さ
らに、第1の凹部15aの大きさは、第2の凹部15b
を基準に規定されているので、該凹部15aを必要以上
に大きくすることなく回路基板11の有効活用が可能で
ある。従って、部品の小型化が可能となる。また、第1
の凹部15aの深さは、放熱板14の厚みを基準として
規定されているので、回路基板11の主面11bと放熱
板14が略面一となる。即ち、ハイブリッドモジュール
10の底面が平滑となる。これにより、親回路基板Sへ
の実装性に優れたものとなる。特に、放熱板14と親回
路基板Sの熱伝導膜Sfとの接合性に優れたものとな
る。また、放熱板14が回路基板11に埋め込まれてい
るので、放熱板14と回路基板11との固着強度が向上
したものとなる。
【0055】尚、本実施の形態では、高周波電力増幅用
の回路部品13として、GaAsMES型FETを用い
た。このFETを用いた場合には、素子内部での電子の
移動が速いため素子からの発熱が少ない。また、GaA
sの線膨張係数が6ppm/℃とシリコン(Si)より
も大きく、回路基板11、放熱板14、及び放熱樹脂1
8等の線膨張係数と近くなるため、温度変化によって発
生する応力が小さい。従って、ハイブリッドモジュール
の回路部品13を構成する素子として適したものであ
る。
【0056】一方、このGaAsMES型FETに替え
て、他の素子を用いてもよい。例えば、GaAsPHE
MT型FETやInP系FET等である。GaAsPH
EMT型FETを用いた場合には、素子内部での電子の
移動速度がMES型FETよりも速いため、素子からの
発熱をさらに小さくできる。また、IuP系FETを用
いた場合には、素子内部での電子の移動速度がGaAs
よりも速いため、素子からの発熱をさらに小さくでき
る。さらに、線膨張係数が5ppm/℃とシリコン(S
i)よりも大きいため、温度変化によって発生する応力
が小さくなる。従って、ハイブリッドモジュールの回路
部品13を構成する素子として適したものとなる。
【0057】また、本実施の形態で用いた放熱板14に
替えて、図4に示すように、放熱板14’を用いてもよ
い。ここで、図4は、ハイブリッドモジュールの他の例
を示す外観斜視図である。この放熱板14’は、中央部
に調整孔14aを有するものである。この調整孔14a
は、放熱板14’と回路部品13との間に介在する放熱
樹脂18の厚みを調整するためのものである。この調整
孔14aには、放熱樹脂18が充填されている。このハ
イブリッドモジュール10’の製造の際には、放熱樹脂
18の注入工程において、その注入量をやや多めに設定
する。これにより、放熱板14’を第1の凹部15aに
嵌入し、回路部品13方向に押圧すると、余分な放熱樹
脂14’が該調整孔14aに充填される。特に、放熱樹
脂18の量が多い場合には、該調整孔14aから余分な
放熱樹脂18が排出される。即ち、放熱板14’と回路
部品13の間に介在する放熱樹脂18の厚みを安定化す
ることができる。尚、排出された放熱樹脂18は適当な
方法で除去すればよい。
【0058】また、本実施の形態では回路部品13を一
つ用いてハイブリッドモジュール10を構成したが、複
数の回路部品13を第2の凹部15bに実装してもよ
い。
【0059】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1にかかる
ハイブリッドモジュールによれば、発熱性を有する回路
部品に発生する熱は、該回路部品と親回路基板との間に
介在する熱伝導部材を介して伝導されるので、効率的に
熱伝導させることができる。即ち、効率的に放熱するこ
とができる。また、熱伝導部材及び回路部品が回路基板
の主面に設けられた第1の凹部及び第2の凹部に収容さ
れるので、ハイブリッドモジュールの小型化を図ること
ができる。
【0060】また、請求項18にかかるハイブリッドモ
ジュールの製造方法によれば、放熱板を第1の凹部に嵌
入する際に、余分な放熱樹脂が放熱板の調整孔から排出
される。これにより、常に放熱樹脂量を一定にすること
ができる。即ち、特性のバラツキが少ないハイブリッド
モジュールを製造することができる。
【0061】さらに、請求項19にかかるハイブリッド
モジュールの実装方法によれば、放熱板と親回路基板に
形成された熱伝導膜とが接合されるので、放熱板を介し
て回路部品の熱が親回路基板へ効率よく伝導されるとと
もに、ハイブリッドモジュールと親回路基板との接合強
度が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】ハイブリッドモジュールを示す外観斜視図
【図2】ハイブリッドモジュールの側面断面図
【図3】図2の一部を拡大したハイブリッドモジュール
の側面断面図
【図4】ハイブリッドモジュールの他の例を示す外観斜
視図
【図5】従来のハイブリッドモジュールを示す側面断面
【符号の説明】
10…ハイブリッドモジュール、11…回路基板、12
…チップ状電子部品、13…回路部品、14…放熱板、
15a…第1の凹部、15b…第2の凹部、16…回路
パターン、17…封止樹脂、18…放熱樹脂
フロントページの続き (72)発明者 八木 一樹 東京都台東区上野6丁目16番20号 太陽誘 電株式会社内

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路基板と、回路基板上に実装された発
    熱性を有する回路部品とを備え、この回路基板の主面を
    親回路基板に対向させて搭載するハイブリッドモジュー
    ルにおいて、 前記回路基板は親回路基板と対向する主面に設けられた
    第1の凹部と該第1の凹部底面に設けられた第2の凹部
    とを有し、 前記回路部品は該第2の凹部に実装され、 第1の凹部に付設され前記回路部品の発熱を親回路基板
    に伝導する熱伝導部材を備えたことを特徴とするハイブ
    リッドモジュール。
  2. 【請求項2】 前記熱伝導部材は熱伝導性を有する放熱
    板を備えたことを特徴とする請求項1記載のハイブリッ
    ドモジュール。
  3. 【請求項3】 前記熱伝導部材は、熱伝導性を有する放
    熱板と、該放熱板を前記回路部品に接着する放熱樹脂と
    を備えたことを特徴とする請求項1記載のハイブリッド
    モジュール。
  4. 【請求項4】 前記第1の凹部は、該第1の凹部側壁と
    第2の凹部の縁とが所定距離を有する大きさであること
    を特徴とする請求項1〜3何れか記載のハイブリッドモ
    ジュール。
  5. 【請求項5】 前記第1の凹部側壁と第2の凹部の縁と
    の前記所定距離は0.1mm以上0.5mm以下である
    ことを特徴とする請求項4記載のハイブリッドモジュー
    ル。
  6. 【請求項6】 前記第1の凹部は、前記放熱板の厚さに
    対して所定範囲の深さを有することを特徴とする請求項
    1〜3何れか記載のハイブリッドモジュール。
  7. 【請求項7】 前記所定範囲は、−0.1mm以上+
    0.1mm以下であることを特徴とする請求項6記載の
    ハイブリッドモジュール。
  8. 【請求項8】 前記第2の凹部は、該第2の凹部側壁と
    回路部品とが所定間隔を有する大きさであることを特徴
    とする請求項1〜3何れか記載のハイブリッドモジュー
    ル。
  9. 【請求項9】 前記第2の凹部側壁と回路部品との前記
    所定間隔は0.1mm以上1.0mm以下であることを
    特徴とする請求項8記載のハイブリッドモジュール。
  10. 【請求項10】 前記第2の凹部は、第2の凹部底面か
    らの回路部品の高さより所定値だけ小さい或いは等しい
    深さを有することを特徴とする請求項1〜3何れか記載
    のハイブリッドモジュール。
  11. 【請求項11】 前記所定値は0mmより大きく0.2
    mm以下であることを特徴とする請求項10記載のハイ
    ブリッドモジュール。
  12. 【請求項12】 前記放熱板は前記親回路基板と対向す
    る回路部品の主面と略面一であることを特徴とする請求
    項2又は3何れか記載のハイブリッドモジュール。
  13. 【請求項13】 前記放熱板は前記第1の凹部側壁と該
    放熱板縁部とが所定間隔を有する大きさであることを特
    徴とする請求項2又は3何れか記載のハイブリッドモジ
    ュール。
  14. 【請求項14】 前記所定間隔は0.01mm以上0.
    3mm以下であることを特徴とする請求項13記載のハ
    イブリッドモジュール。
  15. 【請求項15】 前記放熱樹脂が前記第2の凹部側壁と
    回路部品との隙間を充填していることを特徴とする請求
    項3記載のハイブリッドモジュール。
  16. 【請求項16】 前記放熱板の前記放熱樹脂と接する表
    面は所定の表面粗さを備えていることを特徴とする請求
    項3記載のハイブリッドモジュール。
  17. 【請求項17】 前記放熱板表面はめっき処理が施され
    ていることを特徴とする請求項2又は3記載のハイブリ
    ッドモジュール。
  18. 【請求項18】 回路基板と、回路基板上に実装された
    発熱性を有する回路部品とを備え、この回路基板の主面
    を親回路基板に対向させて搭載するハイブリッドモジュ
    ールの製造方法において、 第1の凹部と該第1の凹部底面に形成された第2の凹部
    とを有する回路基板を製造する工程と、 この回路基板の前記第2の凹部に回路部品を実装する工
    程と、 前記第1の凹部に放熱樹脂を注入する工程と、 放熱樹脂が注入された前記第1の凹部に調整孔を有する
    放熱板を嵌入する工程とを備えたことを特徴とするハイ
    ブリッドモジュールの製造方法。
  19. 【請求項19】 請求項2又は3記載のハイブリッドモ
    ジュールを回路パターンが形成された親回路基板に実装
    するハイブリッドモジュールの実装方法において、 前記放熱板と親回路基板に形成された熱伝導膜とを接合
    させることを特徴とするハイブリッドモジュールの実装
    方法。
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