JPH11221209A - 投光器 - Google Patents
投光器Info
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- JPH11221209A JPH11221209A JP10024822A JP2482298A JPH11221209A JP H11221209 A JPH11221209 A JP H11221209A JP 10024822 A JP10024822 A JP 10024822A JP 2482298 A JP2482298 A JP 2482298A JP H11221209 A JPH11221209 A JP H11221209A
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- JP
- Japan
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- light
- plate
- projector
- hologram
- lens
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 投光器の小型軽量化及びローコスト化と共
に、調整の容易化を図る。 【解決手段】 位置決めパターンが記録されたホログラ
ム板4と、このホログラム板4に光を照射するレーザ発
生部2及びレンズ3をユニット1に収納して製作する。
レーザ発生部2、レンズ3及びホログラム板4で製作す
ることができるため、小型軽量化及びローコストを図る
ことができる。また、光軸等の調整は、レーザ発生部
2、レンズ3及びホログラム板4の直線的な位置調整で
済むため、該調整を容易化することができる。さらに、
ユニット化しているため、故障等の場合に、ユニット1
全体を交換するかたちで修理等を行うことができ、メン
テナンスを容易化することができる。
に、調整の容易化を図る。 【解決手段】 位置決めパターンが記録されたホログラ
ム板4と、このホログラム板4に光を照射するレーザ発
生部2及びレンズ3をユニット1に収納して製作する。
レーザ発生部2、レンズ3及びホログラム板4で製作す
ることができるため、小型軽量化及びローコストを図る
ことができる。また、光軸等の調整は、レーザ発生部
2、レンズ3及びホログラム板4の直線的な位置調整で
済むため、該調整を容易化することができる。さらに、
ユニット化しているため、故障等の場合に、ユニット1
全体を交換するかたちで修理等を行うことができ、メン
テナンスを容易化することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば医用画像装
置や、X線CT装置、X線診断装置等の放射線治療装置
の撮影位置の位置決め用として設けて好適な投光器に関
し、特に位置決めパターンを記録したホログラムを用い
ることで、小型軽量化及び低価格化等を図った投光器に
関する。
置や、X線CT装置、X線診断装置等の放射線治療装置
の撮影位置の位置決め用として設けて好適な投光器に関
し、特に位置決めパターンを記録したホログラムを用い
ることで、小型軽量化及び低価格化等を図った投光器に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、X線CT装置、X線診断装置等の
放射線治療装置に撮影位置の位置決め用として設けられ
ている投光器として、図3(a)又は同図(b)に示す
ようなものが知られている。
放射線治療装置に撮影位置の位置決め用として設けられ
ている投光器として、図3(a)又は同図(b)に示す
ようなものが知られている。
【0003】図3(a)に示す投光器は、スリット状の
位置決めパターン(例えば、十字状の位置決めパター
ン)が形成された投光板50と、この投光板50の裏面
側から光を照射するハロゲンランプ等のランプ51と、
投光板50の表面側(対象物53側)に設けられた対物
レンズ等のレンズ52とで主に構成されている。
位置決めパターン(例えば、十字状の位置決めパター
ン)が形成された投光板50と、この投光板50の裏面
側から光を照射するハロゲンランプ等のランプ51と、
投光板50の表面側(対象物53側)に設けられた対物
レンズ等のレンズ52とで主に構成されている。
【0004】このような投光器において、ランプ51か
らの光を投光板50に照射すると、この照射された光
は、投光板50に形成されたスリット状の位置決めパタ
ーンを透過して光の位置決めパターンが形成される。こ
の光の位置決めパターンは、レンズ52を介して人体等
の対象物53に照射される。これにより、対象物53上
に前記十字状の位置決めパターンを表示することができ
る。
らの光を投光板50に照射すると、この照射された光
は、投光板50に形成されたスリット状の位置決めパタ
ーンを透過して光の位置決めパターンが形成される。こ
の光の位置決めパターンは、レンズ52を介して人体等
の対象物53に照射される。これにより、対象物53上
に前記十字状の位置決めパターンを表示することができ
る。
【0005】一方、図3(b)示す投光器は、略直線光
であるレーザビームを出射するレーザ発生部と55と、
このレーザ発生部55からのレーザビームを所定の割合
で分光するビームスプリッタ56と、ビームスプリッタ
56により分光された他方のレーザビームを全反射する
反射ミラー57と、ビームスプリッタ56により分光さ
れた一方のレーザビームを一方向に広げる第1のシリン
ドリカルレンズ58(かまぼこレンズ)と、反射ミラー
57により反射されたレーザビームを、前記第1のシリ
ンドリカルレンズ58がレーザビームを広げる方向と直
交する方向に広げる第2のシリンドリカルレンズ59と
で主に構成されている。
であるレーザビームを出射するレーザ発生部と55と、
このレーザ発生部55からのレーザビームを所定の割合
で分光するビームスプリッタ56と、ビームスプリッタ
56により分光された他方のレーザビームを全反射する
反射ミラー57と、ビームスプリッタ56により分光さ
れた一方のレーザビームを一方向に広げる第1のシリン
ドリカルレンズ58(かまぼこレンズ)と、反射ミラー
57により反射されたレーザビームを、前記第1のシリ
ンドリカルレンズ58がレーザビームを広げる方向と直
交する方向に広げる第2のシリンドリカルレンズ59と
で主に構成されている。
【0006】このような投光器において、レーザ発生部
55から出射されたレーザビームは、ビームスプリッタ
56により所定の割合で分光される。このビームスプリ
ッタ56により分光された各レーザビームのうち、一方
のレーザビームは、第1のシリンドリカルレンズ58に
より例えば縦方向に広げられ対象物に照射される。これ
に対して、ビームスプリッタ56により分光された他方
のレーザビームは、反射ミラー57により全反射され、
第2のシリンドリカルレンズ59により前記縦方向と直
交する方向である横方向に広げられ対象物に照射され
る。これにより、図3(b)に示すように対象物上に、
略十字状の位置決めパターンを表示することができる。
55から出射されたレーザビームは、ビームスプリッタ
56により所定の割合で分光される。このビームスプリ
ッタ56により分光された各レーザビームのうち、一方
のレーザビームは、第1のシリンドリカルレンズ58に
より例えば縦方向に広げられ対象物に照射される。これ
に対して、ビームスプリッタ56により分光された他方
のレーザビームは、反射ミラー57により全反射され、
第2のシリンドリカルレンズ59により前記縦方向と直
交する方向である横方向に広げられ対象物に照射され
る。これにより、図3(b)に示すように対象物上に、
略十字状の位置決めパターンを表示することができる。
【0007】オペレータは、この位置決めパターンが表
示された部位を基準としてX線の曝射等を行い所望の位
置の断層像の撮影等を行う。
示された部位を基準としてX線の曝射等を行い所望の位
置の断層像の撮影等を行う。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図3(a)に
示す従来の投光器は、例えばハロゲンランプ等のランプ
51を用いているため、このランプ51の寿命が短く、
また、製作コストがかかるうえ、対象物53に明確に位
置決めパターンを表示するには、投光板50に形成され
たスリット状の位置決めパターンを透過する光の光量を
多くする必要があることから、投光板50に大きなスリ
ットを設ける必要があり、これにより、対象物53に表
示する位置決めパターンの線幅が太くなる問題があっ
た。
示す従来の投光器は、例えばハロゲンランプ等のランプ
51を用いているため、このランプ51の寿命が短く、
また、製作コストがかかるうえ、対象物53に明確に位
置決めパターンを表示するには、投光板50に形成され
たスリット状の位置決めパターンを透過する光の光量を
多くする必要があることから、投光板50に大きなスリ
ットを設ける必要があり、これにより、対象物53に表
示する位置決めパターンの線幅が太くなる問題があっ
た。
【0009】また、図3(b)に示す従来の投光器は、
一つのレーザ発生部55から出射されたレーザビームを
ビームスプリッタ56により2分光して用いているた
め、ビームスプリッタ56、反射ミラー57、第1、第
2のシリンドリカルレンズ58、59の位置調整(光軸
調整等)が困難なうえ、各レーザビームの光路が必要と
なることから機器が大型化する問題があった。なお、前
記各部56〜59の位置調整は、2つの独立したレーザ
発生部を用いることにより幾分容易化するが、この場
合、2つのレーザ発生部を用いることで製作コストが高
くなる新たな問題を生じ好ましいことではない。
一つのレーザ発生部55から出射されたレーザビームを
ビームスプリッタ56により2分光して用いているた
め、ビームスプリッタ56、反射ミラー57、第1、第
2のシリンドリカルレンズ58、59の位置調整(光軸
調整等)が困難なうえ、各レーザビームの光路が必要と
なることから機器が大型化する問題があった。なお、前
記各部56〜59の位置調整は、2つの独立したレーザ
発生部を用いることにより幾分容易化するが、この場
合、2つのレーザ発生部を用いることで製作コストが高
くなる新たな問題を生じ好ましいことではない。
【0010】そして、図3(a)、(b)に示す各投光
器は、投光板50に形成されたスリット、或いは各シリ
ンドリカルレンズ58、59の光学特性を利用して位置
決めパターンを表示するものであるため、表示可能な位
置決めパターンは一つのパターンに限定される問題があ
った。
器は、投光板50に形成されたスリット、或いは各シリ
ンドリカルレンズ58、59の光学特性を利用して位置
決めパターンを表示するものであるため、表示可能な位
置決めパターンは一つのパターンに限定される問題があ
った。
【0011】ここで、従来、所望の方向にミラーを振動
可能とした振動ミラーと呼ばれるものが知られている。
この振動ミラーを用いれば、図4に示すようにレーザ発
生部60からの光を、所望の方向にレーザビームを反射
するように振動駆動された振動ミラー61に照射し、こ
の反射光により例えば十字状の位置決めパターンを描く
(表示する)投光器を容易に製作することができる。こ
の投光器は、振動ミラー61の振動駆動の仕方を変える
ことで、表示する位置決めパターンの形態を幾分変える
ことができる。
可能とした振動ミラーと呼ばれるものが知られている。
この振動ミラーを用いれば、図4に示すようにレーザ発
生部60からの光を、所望の方向にレーザビームを反射
するように振動駆動された振動ミラー61に照射し、こ
の反射光により例えば十字状の位置決めパターンを描く
(表示する)投光器を容易に製作することができる。こ
の投光器は、振動ミラー61の振動駆動の仕方を変える
ことで、表示する位置決めパターンの形態を幾分変える
ことができる。
【0012】しかし、振動ミラーはコストが高いうえ、
その調整が難しく、さらに正確な振動制御が困難なこと
から、表示する位置決めパターンに歪みを生ずる問題を
生ずることが予測できる。
その調整が難しく、さらに正確な振動制御が困難なこと
から、表示する位置決めパターンに歪みを生ずる問題を
生ずることが予測できる。
【0013】今日においては、3次元イメージング、マ
ルチモダリティ、手術ナビゲーション、放射線治療計画
等の精密かつ精度が要求される技術が用いられるように
なっており、これに対応して位置精度に関する要求も高
まっている。投光器は、光学系であるためその調整が難
しく製造コストも高くなる。また、重量も重いため、そ
の取り付けも強固に行う必要があるのに対して、メンテ
ナンスは容易に行えるようにする必要がある。
ルチモダリティ、手術ナビゲーション、放射線治療計画
等の精密かつ精度が要求される技術が用いられるように
なっており、これに対応して位置精度に関する要求も高
まっている。投光器は、光学系であるためその調整が難
しく製造コストも高くなる。また、重量も重いため、そ
の取り付けも強固に行う必要があるのに対して、メンテ
ナンスは容易に行えるようにする必要がある。
【0014】本発明は、上述の課題に鑑みてなされたも
のであり、軽量小型かつ安価で寿命が長く、調整及びメ
ンテナンスが容易であり、複数の位置決めパターンを明
確に表示可能な投光器の提供を目的とする。
のであり、軽量小型かつ安価で寿命が長く、調整及びメ
ンテナンスが容易であり、複数の位置決めパターンを明
確に表示可能な投光器の提供を目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明に係る投光器は、
上述の課題を解決するために所望のパターンが記録され
たホログラム板と、前記ホログラム板に光を照射するこ
とで、ホログラム板に記録されたパターンを投光させる
光照射手段とを有する。
上述の課題を解決するために所望のパターンが記録され
たホログラム板と、前記ホログラム板に光を照射するこ
とで、ホログラム板に記録されたパターンを投光させる
光照射手段とを有する。
【0016】このような投光器は、所望のパターンが記
録されたホログラム板を用いているため、当該投光器の
小型軽量化及びローコスト化を図ることができる。ま
た、所望のパターンが記録されたホログラム板をそれぞ
れ用意することで、複数の位置決めパターンを表示可能
とすることができる。また、ホログラム板を介して投光
しているため、記録されたパターンを明確に表示するこ
とができる。
録されたホログラム板を用いているため、当該投光器の
小型軽量化及びローコスト化を図ることができる。ま
た、所望のパターンが記録されたホログラム板をそれぞ
れ用意することで、複数の位置決めパターンを表示可能
とすることができる。また、ホログラム板を介して投光
しているため、記録されたパターンを明確に表示するこ
とができる。
【0017】また、本発明に係る投光器は、上述の課題
を解決するために前記光照射手段を、レーザビームを出
射するレーザ発生手段と、前記レーザ発生手段からのレ
ーザビームを散光して前記ホログラム板に照射するレン
ズとで構成する。
を解決するために前記光照射手段を、レーザビームを出
射するレーザ発生手段と、前記レーザ発生手段からのレ
ーザビームを散光して前記ホログラム板に照射するレン
ズとで構成する。
【0018】このような投光器は、レーザ発生手段を用
いているため、当該投光器の長寿命化を図ることができ
る。また、レンズは、微小であり収差のある安価なもの
で十分であり、ホログラム板も簡単に製作することがで
きるため、当該投光器を小型軽量化することができ、製
作コストも安価とすることができる。また、パターンの
表示具合(照射具合)等は、レーザ発生部、レンズ及び
ホログラム板の3つの位置関係を調整すればよいため、
該位置調整を容易化することができる。
いているため、当該投光器の長寿命化を図ることができ
る。また、レンズは、微小であり収差のある安価なもの
で十分であり、ホログラム板も簡単に製作することがで
きるため、当該投光器を小型軽量化することができ、製
作コストも安価とすることができる。また、パターンの
表示具合(照射具合)等は、レーザ発生部、レンズ及び
ホログラム板の3つの位置関係を調整すればよいため、
該位置調整を容易化することができる。
【0019】また、本発明に係る投光器は、上述の課題
を解決するために前記ホログラム板及び光照射手段をユ
ニット化して設ける。これにより、故障の際の修理は、
ユニット全体を交換するかたちで行うことができ、メン
テナンスを容易化することができる。
を解決するために前記ホログラム板及び光照射手段をユ
ニット化して設ける。これにより、故障の際の修理は、
ユニット全体を交換するかたちで行うことができ、メン
テナンスを容易化することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る投光器の好ま
しい実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明
する。
しい実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明
する。
【0021】本発明の実施の形態の投光器は、図1に示
すように当該投光器全体を形成するユニット1と、この
ユニット1に収納されたレーザ発生部2、レンズ3、及
びホログラム板4とで構成されている。レーザ発生部2
〜ホログラム板4は、レーザ発生部2からのレーザビー
ムがレンズ3を介してホログラム板4に照射されるよう
に、直線的に位置調整(光軸調整)されている。
すように当該投光器全体を形成するユニット1と、この
ユニット1に収納されたレーザ発生部2、レンズ3、及
びホログラム板4とで構成されている。レーザ発生部2
〜ホログラム板4は、レーザ発生部2からのレーザビー
ムがレンズ3を介してホログラム板4に照射されるよう
に、直線的に位置調整(光軸調整)されている。
【0022】レーザ発生部2は、例えばInGaAlP
等の半導体レーザで形成されており、レンズ3は例えば
対物レンズで形成されている。また、ホログラム板4
は、例えば「フレネルホログラム」で形成されており、
被検体上に表示(照射)する位置決めパターンが記録さ
れている。
等の半導体レーザで形成されており、レンズ3は例えば
対物レンズで形成されている。また、ホログラム板4
は、例えば「フレネルホログラム」で形成されており、
被検体上に表示(照射)する位置決めパターンが記録さ
れている。
【0023】図2は、このホログラム板4の形成の仕方
の一例を示している。この図2は、レーザ発生部11か
らのレーザビームを参照光としてホログラムとなる写真
乾板15の裏面側から照射すると共に、位置決めパター
ンが記録された原稿板18の散乱光(物体光)を写真乾
板15の表面側から照射し、この参照光と物体光を干渉
させて写真乾板15に干渉パターンである位置決めパタ
ーンを記録する様子を示している。
の一例を示している。この図2は、レーザ発生部11か
らのレーザビームを参照光としてホログラムとなる写真
乾板15の裏面側から照射すると共に、位置決めパター
ンが記録された原稿板18の散乱光(物体光)を写真乾
板15の表面側から照射し、この参照光と物体光を干渉
させて写真乾板15に干渉パターンである位置決めパタ
ーンを記録する様子を示している。
【0024】具体的には、レーザ発生部11からのレー
ザビームは、ビームスプリッタ12により所定の割合で
分光される。このビームスプリッタ12で分光されたレ
ーザビームのうち、一方のレーザビームは、レンズ13
を介して前記参照光として写真乾板15の裏面に照射さ
れる。また、ビームスプリッタ12で分光されたレーザ
ビームのうち他方のレーザビームは、反射ミラー14、
16で反射され、レンズ17を介して、写真乾板15に
記録しようとしている位置決めパターンが記録された原
稿板18に照射される。これにより、原稿板18に記録
されている位置決めパターンに対応する物体光が発生す
る。この物体光は、写真乾板15の表面側に照射され
る。
ザビームは、ビームスプリッタ12により所定の割合で
分光される。このビームスプリッタ12で分光されたレ
ーザビームのうち、一方のレーザビームは、レンズ13
を介して前記参照光として写真乾板15の裏面に照射さ
れる。また、ビームスプリッタ12で分光されたレーザ
ビームのうち他方のレーザビームは、反射ミラー14、
16で反射され、レンズ17を介して、写真乾板15に
記録しようとしている位置決めパターンが記録された原
稿板18に照射される。これにより、原稿板18に記録
されている位置決めパターンに対応する物体光が発生す
る。この物体光は、写真乾板15の表面側に照射され
る。
【0025】これにより、写真乾板15の裏面側から照
射された参照光と、写真乾板15の表面側から照射され
た物体光が干渉し、写真乾板15上に干渉パターンであ
る位置決めパターンを記録することができる。前記ユニ
ット1には、このようにして位置決めパターンが記録さ
れた写真乾板15から形成された写真複製が、前記ホロ
グラム板4として収納されている。この例の場合、写真
乾板15から複製されたホログラム板4は、透明部分と
不透明部分からなり、例えば細線による十字状のパター
ンが位置決めパターンとして記録されたものとなる。
射された参照光と、写真乾板15の表面側から照射され
た物体光が干渉し、写真乾板15上に干渉パターンであ
る位置決めパターンを記録することができる。前記ユニ
ット1には、このようにして位置決めパターンが記録さ
れた写真乾板15から形成された写真複製が、前記ホロ
グラム板4として収納されている。この例の場合、写真
乾板15から複製されたホログラム板4は、透明部分と
不透明部分からなり、例えば細線による十字状のパター
ンが位置決めパターンとして記録されたものとなる。
【0026】なお、このような位置決めパターンの記録
の仕方(ホログラムの作り方)は一例であり、例えば、
写真乾板15から形成された写真複製を脱色処理するこ
とで、より透明度の高いホログラムを形成することがで
きる。この場合、ホログラムは、いわば一種のフレネル
レンズのように作用するようになる。また、コンピュー
タを用いて理想的なホログラムパターンを作図し、これ
を縮小して写真乾板に焼き付け、写真複製を作成するよ
うにしてもよい。そして、前記ホログラム板4を作成す
るには、この他の様々なホログラフィー技術を用いるこ
とができ、これらのいずれの技術を用いるようにしても
よい。
の仕方(ホログラムの作り方)は一例であり、例えば、
写真乾板15から形成された写真複製を脱色処理するこ
とで、より透明度の高いホログラムを形成することがで
きる。この場合、ホログラムは、いわば一種のフレネル
レンズのように作用するようになる。また、コンピュー
タを用いて理想的なホログラムパターンを作図し、これ
を縮小して写真乾板に焼き付け、写真複製を作成するよ
うにしてもよい。そして、前記ホログラム板4を作成す
るには、この他の様々なホログラフィー技術を用いるこ
とができ、これらのいずれの技術を用いるようにしても
よい。
【0027】このような構成を有する当該実施の形態の
投光器は、図1に示すようにレーザ発生部2からのレー
ザビームをレンズ3を介して散光してホログラム板4に
照射すると、ホログラム板4に位置決めパターンを記録
した際に、その位置決めパターンの原図が記録されてい
た原稿板18(図2)が置かれていた位置に対応する位
置に、ホログラム板4に記録された位置決めパターンが
再生される。すなわち、図2に示した写真乾板15から
原稿板18までの距離を「L」とすると、図1に示すホ
ログラム板4から距離「L」の位置に位置決めパターン
が再生される。従って、このホログラム板4から距離
「L」の位置に被検体を載置すれば、被検体上に位置決
めパターンを表示することができる。
投光器は、図1に示すようにレーザ発生部2からのレー
ザビームをレンズ3を介して散光してホログラム板4に
照射すると、ホログラム板4に位置決めパターンを記録
した際に、その位置決めパターンの原図が記録されてい
た原稿板18(図2)が置かれていた位置に対応する位
置に、ホログラム板4に記録された位置決めパターンが
再生される。すなわち、図2に示した写真乾板15から
原稿板18までの距離を「L」とすると、図1に示すホ
ログラム板4から距離「L」の位置に位置決めパターン
が再生される。従って、このホログラム板4から距離
「L」の位置に被検体を載置すれば、被検体上に位置決
めパターンを表示することができる。
【0028】なお、ホログラムの大きさが、前記距離
「L」よりも十分小さければ、この距離「L」の位置以
外の位置でも前記位置決めパターンを表示することがで
きる。この場合、表示する位置決めパターンに多少のぼ
けを生ずるが、大まかな位置さえ分かればよい場合等は
何ら問題とはならない。また、表示位置を、前記距離
「L」の位置の前後にずらすことで、位置決めパターン
を拡大或いは縮小して表示することが可能となる。
「L」よりも十分小さければ、この距離「L」の位置以
外の位置でも前記位置決めパターンを表示することがで
きる。この場合、表示する位置決めパターンに多少のぼ
けを生ずるが、大まかな位置さえ分かればよい場合等は
何ら問題とはならない。また、表示位置を、前記距離
「L」の位置の前後にずらすことで、位置決めパターン
を拡大或いは縮小して表示することが可能となる。
【0029】このような実施の形態の投光器は、ホログ
ラム板4に光を照射する手段として寿命の長いレーザ発
生部2を用いているため当該投光器を長寿命化すること
ができる。また、レンズ3は、微小であり収差のある安
価なもので十分であり、ホログラム板4も簡単に製作す
ることができるため、当該投光器の製作コストを安価と
することができる。また、位置決めパターンの表示具合
(照射具合)等は、レーザ発生部2、レンズ3及びホロ
グラム板4の3つの位置関係を調整すればよいため、該
位置調整を容易化することができる。
ラム板4に光を照射する手段として寿命の長いレーザ発
生部2を用いているため当該投光器を長寿命化すること
ができる。また、レンズ3は、微小であり収差のある安
価なもので十分であり、ホログラム板4も簡単に製作す
ることができるため、当該投光器の製作コストを安価と
することができる。また、位置決めパターンの表示具合
(照射具合)等は、レーザ発生部2、レンズ3及びホロ
グラム板4の3つの位置関係を調整すればよいため、該
位置調整を容易化することができる。
【0030】また、前記ホログラム板4として、それぞ
れ異なる位置決めパターンを記録した複数のホログラム
板4を設け、場合に応じて各ホログラム板4を差し替え
て用いることで、複数の位置決めパターンを表示可能と
することができる。なお、この場合、前記複数のホログ
ラム板4を例えば回転板に配置し、この回転板をモータ
等で回転駆動してレーザビームの照射位置に位置するホ
ログラム板4を選択するようにしてもよい。これによ
り、複数のホログラム板4を差し替えることなく、所望
の位置決めパターンを選択可能とすることができる。
れ異なる位置決めパターンを記録した複数のホログラム
板4を設け、場合に応じて各ホログラム板4を差し替え
て用いることで、複数の位置決めパターンを表示可能と
することができる。なお、この場合、前記複数のホログ
ラム板4を例えば回転板に配置し、この回転板をモータ
等で回転駆動してレーザビームの照射位置に位置するホ
ログラム板4を選択するようにしてもよい。これによ
り、複数のホログラム板4を差し替えることなく、所望
の位置決めパターンを選択可能とすることができる。
【0031】また、位置決めパターンの記録媒体として
ホログラム板4を用いているため、精細なパターンでも
明確に表示可能とすることができる。また、当該投光器
は、レーザ発生部2、レンズ3及びホログラム板4で製
作することができるため、従来の投光器と比較して大幅
な小型軽量化を図ることができる。また、このレーザ発
生部2、レンズ3及びホログラム板4をユニット1に収
納することで、故障の際の修理は、ユニット1全体を交
換するかたちで行うことができ、メンテナンスを容易化
することができる。また、このユニット1は、可動部分
及び調整部分がなく小型軽量であるため、当該投光器を
支持し駆動するのに必要な機構の強度剛性が小さくてす
み、放射線治療計画用のX線CT装置等における可動型
投光器として用いることを可能とすることができる。
ホログラム板4を用いているため、精細なパターンでも
明確に表示可能とすることができる。また、当該投光器
は、レーザ発生部2、レンズ3及びホログラム板4で製
作することができるため、従来の投光器と比較して大幅
な小型軽量化を図ることができる。また、このレーザ発
生部2、レンズ3及びホログラム板4をユニット1に収
納することで、故障の際の修理は、ユニット1全体を交
換するかたちで行うことができ、メンテナンスを容易化
することができる。また、このユニット1は、可動部分
及び調整部分がなく小型軽量であるため、当該投光器を
支持し駆動するのに必要な機構の強度剛性が小さくてす
み、放射線治療計画用のX線CT装置等における可動型
投光器として用いることを可能とすることができる。
【0032】最後に、上述の実施の形態は本発明のほん
の一例である。このため、本発明は、上述の各実施の形
態に限定されることはなく、本発明に係る技術的思想を
逸脱しない範囲であれば、設計等に応じて種々の変更が
可能であることは勿論である。
の一例である。このため、本発明は、上述の各実施の形
態に限定されることはなく、本発明に係る技術的思想を
逸脱しない範囲であれば、設計等に応じて種々の変更が
可能であることは勿論である。
【0033】
【発明の効果】本発明に係る投光器は、軽量小型かつ安
価に製作することができ、また、長寿命化を実現するこ
とができる。また、調整及びメンテナンスの容易化を図
ることができるうえ、複数のパターンを明確に表示する
ことができる。
価に製作することができ、また、長寿命化を実現するこ
とができる。また、調整及びメンテナンスの容易化を図
ることができるうえ、複数のパターンを明確に表示する
ことができる。
【図1】本発明の実施の形態の投光器の構成を示す図で
ある。
ある。
【図2】前記実施の形態の投光器に設けられるホログラ
ムに記録する位置決めパターンの記録の仕方を説明する
ための図である。
ムに記録する位置決めパターンの記録の仕方を説明する
ための図である。
【図3】従来の投光器を示す図である。
【図4】従来知られている振動ミラーから容易に製作可
能な投光器を示す図である。
能な投光器を示す図である。
1…ユニット、2、11…レーザ発生部、3、13、1
7…レンズ 4、15…ホログラム板、12…ビームスプリッタ、1
4、16…反射ミラー18…原稿板
7…レンズ 4、15…ホログラム板、12…ビームスプリッタ、1
4、16…反射ミラー18…原稿板
Claims (3)
- 【請求項1】 所望のパターンが記録されたホログラム
板と、 前記ホログラム板に光を照射することで、ホログラム板
に記録されたパターンを投光させる光照射手段とを有す
ることを特徴とする投光器。 - 【請求項2】 前記光照射手段は、レーザビームを出射
するレーザ発生手段と、前記レーザ発生手段からのレー
ザビームを散光して前記ホログラム板に照射するレンズ
とを有することを特徴とする請求項1記載の投光器。 - 【請求項3】 前記ホログラム板及び光照射手段は、ユ
ニット化されていることを特徴とする請求項1又は請求
項2記載の投光器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10024822A JPH11221209A (ja) | 1998-02-05 | 1998-02-05 | 投光器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10024822A JPH11221209A (ja) | 1998-02-05 | 1998-02-05 | 投光器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11221209A true JPH11221209A (ja) | 1999-08-17 |
Family
ID=12148884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10024822A Pending JPH11221209A (ja) | 1998-02-05 | 1998-02-05 | 投光器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11221209A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001083030A1 (en) * | 2000-04-27 | 2001-11-08 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser treatment apparatus |
| JP2010094282A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Canon Inc | X線撮影装置 |
| JP2011078578A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Shimadzu Corp | X線撮像装置 |
| CN103126703A (zh) * | 2011-11-30 | 2013-06-05 | Ge医疗系统环球技术有限公司 | 用于ct系统的体激光定位系统和方法 |
-
1998
- 1998-02-05 JP JP10024822A patent/JPH11221209A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001083030A1 (en) * | 2000-04-27 | 2001-11-08 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser treatment apparatus |
| US6808523B2 (en) | 2000-04-27 | 2004-10-26 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser therapeutic apparatus |
| JP2010094282A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Canon Inc | X線撮影装置 |
| JP2011078578A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Shimadzu Corp | X線撮像装置 |
| CN103126703A (zh) * | 2011-11-30 | 2013-06-05 | Ge医疗系统环球技术有限公司 | 用于ct系统的体激光定位系统和方法 |
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