JPH11224629A - 拡散補給型電子源、その製造方法および電子線装置 - Google Patents

拡散補給型電子源、その製造方法および電子線装置

Info

Publication number
JPH11224629A
JPH11224629A JP2680498A JP2680498A JPH11224629A JP H11224629 A JPH11224629 A JP H11224629A JP 2680498 A JP2680498 A JP 2680498A JP 2680498 A JP2680498 A JP 2680498A JP H11224629 A JPH11224629 A JP H11224629A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diffusion
electron source
source
needle
supplying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2680498A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidetoshi Nishiyama
英利 西山
Taku Oshima
卓 大嶋
Mari Nozoe
真理 野副
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2680498A priority Critical patent/JPH11224629A/ja
Publication of JPH11224629A publication Critical patent/JPH11224629A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Solid Thermionic Cathode (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】高電流密度及びエネルギー幅の狭い電子放出の
可能な拡散補給型電子源を提供し,電子線描画装置の描
画速度,透過型電子顕微鏡,走査型電子顕微鏡の観察速
度,及び分解能を向上させる。 【解決手段】先端を針状にした金属からなる針状電極2
と,これを加熱する発熱体1と,それら又は近傍に付着
させた拡散源3により構成し,拡散源として,酸素を含
むアルカリ金属の化合物とその還元剤,酸素を含むアル
カリ土類金属の化合物とその還元剤,又はこれらの混合
物を用い,又は酸素を含むアルカリ土類金属の化合物,
アルカリ土類金属の酸化物,又はこれらの混合物を用
い,拡散源を加熱することによりアルカリ金属,アルカ
リ土類金属のうちの元素を熱分解,又は還元することに
より生成し,針状電極先端まで拡散させ,その元素を含
む吸着層を形成させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電子線を利用した計
測装置,特に高電流密度,およびエネルギー幅の狭い放
出電子を必要とする電子線描画装置,走査型電子顕微
鏡,および透過型電子顕微鏡等の電子線応用装置に使用
する電子源,その製造方法、およびその電子源を用いた
電子線装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子源から高電流密度の電子ビームを得
ることは,電子線描画装置の描画速度向上,および走査
型電子顕微鏡,透過型電子顕微鏡等の観察速度向上のた
めに重要である。高電流密度の電子放出のためには,電
子放出面の仕事関数を減少させることが必要である。こ
のため最近では,拡散補給型と呼ばれる電子源が使用さ
れてきている。これは,図1のようにV字型に成形され
たWフィラメント1に,先端が<100>方位であるW
<100>単結晶の針状電極2を点溶接し,先端を尖鋭
化し,針状電極2の根元に拡散源3として酸化ジルコニ
ウムZrO2を付着させたものである(特開昭59−4
9065号公報)。以下,Zr/O/Wと略記する。
【0003】動作時に,拡散源3のZrおよびOを熱拡
散(加熱温度約1800K)により針状電極2の先端の
(100)表面まで拡散,吸着させる。すると,仕事関
数の小さい吸着層(仕事関数は約2.8eV)が形成さ
れ,電場を印加することによって針状電極先端から電子
が放出される。この電子源は,電子線描画装置,走査型
電子顕微鏡,透過型電子顕微鏡等において用いられてい
る。
【0004】電子源からエネルギー幅の狭い放出電子を
得ることが,電子線応用装置の分解能向上のために必要
である。前述のZr/O/Wの場合,エネルギー幅の狭
いショットキー放出領域でのエネルギー幅は約0.4e
Vである。ショットキー放出電子は熱励起されたもので
あるから,エネルギー幅を狭めるには動作温度の低下が
必要となる。しかし,動作温度の低下は放出電流を減少
させるので,それを補うために仕事関数の減少が必要と
なる。
【0005】ZrおよびOよりも仕事関数を減少させる
吸着物質としては,アルカリ金属,およびアルカリ土類
金属が知られている(ザ・ジャーナル・オブ・ケミカル
・フィジックス,ボリューム48,p2421,196
8年)。例えば,アルカリ土類金属としてBaをW表面
に蒸着させると仕事関数は約2eVになる。しかし,所
望の電子線を取り出すために、上記仕事関数を減少させ
る吸着物質の針状電極先端表面へ吸着手段の、より容易
化が求めれていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術によるア
ルカリ金属,およびアルカリ土類金属をW表面に吸着さ
せる方法では蒸着することが必要であり,工程が複雑で
ある。本発明はこの問題を解決し,Zr/O/Wよりも
電子放出面の仕事関数を減少させ,高電流密度,および
狭いエネルギー幅の放出電子をもたらし、かつ容易に製
作出来る電子源を提供する。
【0007】一方,従来型電子源Zr/O/Wは,電子
線応用装置,例えば可変成形ビーム方式の電子線描画装
置において用いられているが,放出電流が少なく描画速
度が遅いという欠点があった。そのため,例えば,25
6メガバイト(Mbyte)のDRAM(Dynami
c Random Access Memory)の配
線パターンを描画すると数時間かかってしまう。しか
し,このDRAMを生産ラインに組み込むためには描画
速度を数分にすることが望まれている。さらに,半導体
基板外観検査用走査型顕微鏡においても,検査時間の短
縮のために放出電流の増加が必要である。この装置は,
回路パターン基板の上を収束された電子線で走査して,
発生する二次電子を検出することによって画像を形成す
る。この際,従来のZr/O/Wを用いていたのでは放
出電流が少ないため発生する二次電子が少なく,検査時
間が長いという問題点があった。その他,走査型電子顕
微鏡,透過型電子顕微鏡においても,放出電流の増加に
よる観察速度の向上が課題となっている。また,Zr/
O/Wを搭載した電子線応用装置では,放出電子のエネ
ルギー幅が狭くても約0.4eVであり,分解能の向上
が限界に来ている。本発明は,これら描画速度や観察速
度,および分解能に関する課題を解決する。
【0008】
【課題を解決するための手段】針状電極と発熱体により
構成された電子源の、針状電極,発熱体,もしくはそれ
らの近傍に,酸素を含むアルカリ金属の化合物とその還
元剤,酸素を含むアルカリ土類金属の化合物とその還元
剤,もしくはこれらの混合物を拡散源として付着させ
る。還元剤は,原子番号3〜6,11〜16,19〜3
4,37〜53,55〜84,88〜94の元素,もし
くはこれら元素を含む化合物のうちの,一種類,もしく
は二種類以上の混合物であり,この還元剤の拡散源に占
める割合は0.001〜99mol%の範囲とする。拡
散源としてアルカリ土類金属の酸化物を用いる場合は,
アルカリ土類金属の過酸化物,水酸化物,炭酸塩,もし
くはこれらの混合物を還元剤と一緒に上記針状電極,上
記発熱体,もしくはそれら近傍に付着させた後,加熱す
ることにより酸化物を生成しても良い。他にも,拡散源
として酸素を含むアルカリ土類金属の化合物,アルカリ
土類金属の酸化物,もしくはこれらの混合物を用いても
良い。拡散源としてアルカリ土類金属の酸化物を用いる
場合は,アルカリ土類金属の過酸化物,水酸化物,炭酸
塩,もしくはこれらの混合物を、上記針状電極,上記発
熱体,もしくはそれらの近傍に付着させた後,加熱する
ことにより酸化物を生成しても良い。付着させる手段
は,拡散源材料を純水もしくはニトロセルロースを含む
有機物によりペースト状にしたものを用いる。針状電極
としては,その先端の結晶表面が(100),(11
0),(211),(111)面となるようなW,M
o,Ni,Ta,Pt,Ir単結晶,もしくは(000
1),(10−11),(11−20),(10−1
0),(11−22)面となるようなRe,Os単結晶
を用いても良い。ただし,ここで用いた結晶面は表1の
表記に従う。
【0009】
【表1】
【0010】電子源動作時にあたっては,まずその発熱
体の加熱により拡散源の付着に用いた純水もしくは有機
溶剤を蒸発させる。その後,熱分解,もしくは還元作用
により,アルカリ金属,アルカリ土類金属のうち少なく
とも一種類の元素を生成させ,針状電極先端まで拡散さ
せる。
【0011】本発明は、以下の構成により上記課題を解
決する。
【0012】すなわち、本発明の請求項1に記載の第1
の発明は、先端を針状にした金属から成る針状電極と,
該針状電極を加熱する発熱体からなる電子源において、
該電子源は該発熱体により加熱可能な拡散源を有し,該
拡散源は、酸素を含むアルカリ金属の化合物とその還元
剤,酸素を含むアルカリ土類金属の化合物とその還元
剤,もしくはこれらの混合物を備え、かつ該拡散源は、
加熱されることにより、前記アルカリ金属,前記アルカ
リ土類金属のうち少なくとも一種類の元素を還元し,該
還元した元素を該針状電極先端まで拡散させて、該針状
電極先端に、該還元された元素が存在する吸着層を形成
するよう配設されていることを特徴とする拡散補給型電
子源である。
【0013】また、本発明の請求項2に記載の第2の発
明は、先端を針状にした金属から成る針状電極と,該針
状電極を加熱する発熱体からなる電子源において,該電
子源は該発熱体により加熱可能な拡散源を有し,該拡散
源は、酸素を含むアルカリ土類金属の化合物とその還元
剤,もしくはこれらの混合物を備え、かつ該拡散源は、
加熱されることにより、前記アルカリ土類金属のうち少
なくとも一種類の元素を還元し,該還元した元素を該針
状電極先端まで拡散させて、該針状電極先端に、該還元
された元素が存在する吸着層を形成するよう配設されて
いることを特徴とする拡散補給型電子源である。
【0014】また、本発明の請求項3に記載の第3の発
明は、前記酸素を含むアルカリ土類金属の化合物の少な
くとも一つが、アルカリ土類金属の酸化物であることを
特徴とする請求項2記載の拡散補給型電子源である。
【0015】また、本発明の請求項4に記載の第4の発
明は、先端を針状にした金属から成る針状電極と,該針
状電極を加熱する発熱体とを備え、アルカリ土類金属の
過酸化物,水酸化物もしくは炭酸塩、またはこれらの混
合物を、該アルカリ土類金属の還元剤と一緒に、上記針
状電極,上記発熱体もしくはそれらの近傍に付着させた
ことを特徴とする拡散補給型電子源中間体である。
【0016】また、本発明の請求項5に記載の第5の発
明は、前記炭酸塩が、BaCO3,CaCO3もしくはS
rCO3、またはこれらの混合物であることを特徴とす
る請求項4記載の拡散補給型電子源中間体である。
【0017】また、本発明の請求項6に記載の第6の発
明は、前記炭酸塩に占めるBaCO3,CaCO3,Sr
CO3の割合は,それぞれ10〜100mol%,0〜
45mol%,0〜45mol%であることを特徴とす
る請求項5に記載の拡散補給型電子源中間体である。
【0018】また、本発明の請求項7に記載の第7の発
明は、請求項4に記載の拡散補給型電子源中間体におけ
る前記アルカリ土類金属の過酸化物,水酸化物,炭酸塩
もしくはこれらの混合物を加熱することにより前記アル
カリ土類金属の酸化物を生成させることを特徴とする拡
散補給型電子源の製造方法である。
【0019】また、本発明の請求項8に記載の第8の発
明は、請求項5または6に記載の拡散補給型電子源中間
体における前記アルカリ土類金属の炭酸塩もしくはこれ
らの混合物を加熱することにより前記アルカリ土類金属
の酸化物を生成させることを特徴とする拡散補給型電子
源の製造方法である。
【0020】また、本発明の請求項9に記載の第9の発
明は、先端を針状にした金属から成る針状電極と,該針
状電極を加熱する発熱体からなる電子源において、該電
子源は該発熱体により加熱可能な拡散源を有し,該拡散
源は、酸素を含むアルカリ土類金属Be,Ca,Sr,Baもし
くはRaの化合物,またはこれら化合物の混合物を備
え、かつ該拡散源は、加熱されることにより前記アルカ
リ土類金属のうち少なくとも一種類の元素を熱分解によ
り生成し,該生成した元素を該針状電極先端まで拡散さ
せて、該針状電極先端に、該生成した元素が存在する吸
着層を形成するよう配設されていることを特徴とする拡
散補給型電子源である。
【0021】また、本発明の請求項10に記載の第10
の発明は、先端を針状にした金属から成る針状電極と,
該針状電極を加熱する発熱体からなる電子源において、
該電子源は該発熱体により加熱可能な拡散源を有し,該
拡散源は、酸素を含むアルカリ土類金属BeもしくはMgの
化合物と,酸素を含むアルカリ土類金属Ba, Sr,Caもし
くはRaの化合物との混合物を備え、かつ該拡散源は、加
熱されることにより、前記アルカリ土類金属Be及びMgの
中の少なくとも一つの元素と前記アルカリ土類金属Ba,
Sr,Ca 及びRaの中の少なくとも一つの元素とを熱分解
により生成し,該生成した元素を該針状電極先端まで拡
散させて、該針状電極先端に、該生成した元素が存在す
る吸着層を形成するよう配設されていることを特徴とす
る拡散補給型電子源である。
【0022】また、本発明の請求項11に記載の第11
の発明は、前記酸素を含むアルカリ土類金属の化合物の
少なくとも一つがアルカリ土類金属の酸化物であること
を特徴とする請求項9あるいは10記載の拡散補給型電
子源である。
【0023】また、本発明の請求項12に記載の第12
の発明は、先端を針状にした金属から成る針状電極と,
該針状電極を加熱する発熱体とを備え、アルカリ土類金
属の過酸化物,水酸化物,炭酸塩もしくはこれらの混合
物を、上記針状電極,上記発熱体もしくはそれらの近傍
に付着させたことを特徴とする拡散補給型電子源中間体
である。
【0024】また、本発明の請求項13に記載の第13
の発明は、前記炭酸塩が、BaCO3,CaCO3もしく
はSrCO3、またはこれらの混合物であることを特徴
とする請求項12記載の拡散補給型電子源中間体であ
る。
【0025】また、本発明の請求項14に記載の第14
の発明は、上記炭酸塩に占めるBaCO3,CaCO3
SrCO3の割合は、それぞれ10〜99mol%,
0.5〜45mol%,0.5〜45mol%であるこ
とを特徴とする請求項13記載の拡散補給型電子源中間
体である。
【0026】また、本発明の請求項15に記載の第15
の発明は、請求項12に記載の拡散補給型電子源中間体
における前記アルカリ土類金属の過酸化物,水酸化物,
炭酸塩もしくはこれらの混合物を加熱することにより前
記アルカリ土類金属の酸化物を生成させることを特徴と
する拡散補給型電子源の製造方法である。
【0027】また、本発明の請求項16に記載の第16
の発明は、請求項13または14に記載の拡散補給型電
子源中間体における前記炭酸塩の混合物を加熱すること
により前記アルカリ土類金属の酸化物を生成させること
を特徴とする拡散補給型電子源の製造方法である。
【0028】また、本発明の請求項17に記載の第17
の発明は、請求項1から3および9から11のうちのい
ずれかに記載の拡散補給型電子源において、上記針状電
極としてW,Mo,Ni,Ta,Pt,Ir,Re,も
しくはOsを用いることを特徴とする拡散補給型電子源
である。
【0029】また、本発明の請求項18に記載の第18
の発明は、請求項4から6および12から14のうちの
いずれかに記載の拡散補給型電子源中間体において、上
記針状電極としてW,Mo,Ni,Ta,Pt,Ir,
Re,もしくはOsを用いることを特徴とする拡散補給
型電子源中間体である。
【0030】また、本発明の請求項19に記載の第19
の発明は、請求項17に記載の拡散補給型電子源におい
て、上記針状電極として,その先端の結晶表面が(10
0),(110),(211),(111)面となるよ
うなW,Mo,Ni,Ta,Pt,Ir単結晶,もしく
は(0001),(10−11),(11−20),
(10−10),(11−22)面となるようなRe,
Os単結晶を用いることを特徴とする拡散補給型電子源
である。
【0031】また、本発明の請求項20に記載の第20
の発明は、請求項18に記載の拡散補給型電子源中間体
において、上記針状電極として,その先端の結晶表面が
(100),(110),(211),(111)面と
なるようなW,Mo,Ni,Ta,Pt,Ir単結晶,
もしくは(0001),(10−11),(11−2
0),(10−10),(11−22)面となるような
Re,Os単結晶を用いることを特徴とする拡散補給型
電子源中間体である。
【0032】また、本発明の請求項21に記載の第21
の発明は、請求項1から3のうちのいずれかに記載の拡
散補給型電子源において、上記還元剤は,原子番号3〜
6,11〜16,19〜34,37〜53,55〜8
4,88〜94の元素もしくはこれら元素を含む化合物
のうちの、一種類,もしくは二種類以上の混合物であ
り、かつ該還元剤の上記拡散源に占める割合は0.00
1〜99mol%の範囲内であることを特徴とする拡散
補給型電子源である。
【0033】また、本発明の請求項22に記載の第22
の発明は、上記還元剤の上記拡散源に占める割合が0.
001〜10mol%の範囲内であることを特徴とする
請求項21記載の拡散補給型電子源である。
【0034】また、本発明の請求項23に記載の第23
の発明は、請求項1から3のうちのいずれかに記載の拡
散補給型電子源において、上記還元剤は,Li,Na,
K,Rb,Cs,Ba,Ca,Sr,Mg,Zr,A
l,Si,Th,Be,Hf,Sc,Y,Sm,Nd,
Pr,La,U,Ce,Ti,C,Ta,Mn,B,N
b,W,Cr,Mo,Ga,Zn,V,Fe,Sn,N
i,Co,Cu,Ag,Pt,Cd,Sb,Pb,B
i,Ir,Tl,Pd,Ru,Rh,Os,Reの元素
もしくはこれら元素を含む化合物のうちの、一種類,も
しくは二種類以上の混合物であり、かつ該還元剤の上記
拡散源に占める割合は0.001〜99mol%の範囲
内であることを特徴とする拡散補給型電子源である。
【0035】また、本発明の請求項24に記載の第24
の発明は、上記還元剤の上記拡散源に占める割合が0.
001〜10mol%の範囲内であることを特徴とする
請求項23記載の拡散補給型電子源である。
【0036】また、本発明の請求項25に記載の第25
の発明は、請求項1から3,9から11,17,19お
よび21から23のうちのいずれかに記載の拡散補給型
電子源における上記拡散源に用いる材料を、純水と混合
して上記針状電極,上記発熱体もしくはそれらの近傍に
塗布することを特徴とする拡散補給型電子源の製造法で
ある。
【0037】また、本発明の請求項26に記載の第26
の発明は、請求項4から6,12から14,18および
20のうちのいずれかに記載の拡散補給型電子源中間体
の製造法における上記拡散源に用いる材料を純水と混合
して、上記針状電極,上記発熱体もしくはそれらの近傍
に塗布することを特徴とする拡散補給型電子源中間体の
製造法である。
【0038】また、本発明の請求項27に記載の第27
の発明は、請求項1から3,9から11,17,19お
よび21から23のうちのいずれかに記載の拡散補給型
電子源の製造法において、上記拡散源に用いる材料を有
機物と混合して、上記針状電極,上記発熱体もしくはそ
れらの近傍に塗布することを特徴とする拡散補給型電子
源の製造法である。
【0039】また、本発明の請求項28に記載の第28
の発明は、請求項4から6,12から14,18および
20のうちのいずれかに記載の拡散補給型電子源中間体
の製造法において、上記拡散源に用いる材料を上記針状
電極,上記発熱体,もしくはそれらの近傍に、該材料を
有機物と混合して塗布することを特徴とする拡散補給型
電子源中間体の製造法である。
【0040】また、本発明の請求項29に記載の第29
の発明は、請求項27に記載の拡散補給型電子源の製造
法において、上記有機物には,ニトロセルロースを含む
ことを特徴とする拡散補給型電子源の製造法である。
【0041】また、本発明の請求項30に記載の第30
の発明は、請求項28に記載の拡散補給型電子源中間体
の製造法において、上記有機物には,ニトロセルロース
を含むことを特徴とする拡散補給型電子源中間体の製造
法である。
【0042】また、本発明の請求項31に記載の第31
の発明は、請求項1から3,9から11,17,19お
よび21から24のうちのいずれかに記載の拡散補給型
電子源を動作させる際、上記拡散源の中の上記酸素を含
む化合物,酸化物もしくはこれらの混合物を熱分解もし
くは還元させるために,動作温度よりも一時的に高温に
することを特徴とする拡散補給型電子源の動作方法であ
る。
【0043】また、本発明の請求項32に記載の第32
の発明は、請求項31に記載の拡散補給型電子源を動作
させる際、上記一時的に高温にする温度は1200K以
上であることを特徴とする拡散補給型電子源の動作方法
である。
【0044】また、本発明の請求項33に記載の第33
の発明は、請求項1から3,9から11,17,19お
よび21から24のうちのいずれかに記載の拡散補給型
電子源を動作させる際、上記拡散源の中の上記酸素を含
む化合物,酸化物,もしくはこれらの混合物を熱分解,
もしくは還元させ,かつ生成した金属を上記針状電極先
端まで拡散させて吸着させることの可能な温度範囲で動
作させることを特徴とする拡散補給型電子源の動作方法
である。
【0045】また、本発明の請求項34に記載の第34
の発明は、請求項1から3,9から11,17,19お
よび21から24のうちのいずれかに記載の拡散補給型
電子源を動作させる際、一時的には高温にすることがあ
っても定常的には,1500K以下の温度で動作させる
ことを特徴とする拡散補給型電子源の動作方法である。
また、本発明の請求項35に記載の第35の発明は、
請求項1から3,9から11,17,19および21か
ら24のうちのいずれかに記載の拡散補給型電子源を動
作させる際、一時的には高温にする事があっても定常的
には,500K以上,1200K以下の温度で動作させ
ることを特徴とする拡散補給型電子源の動作方法であ
る。
【0046】また、本発明の請求項36に記載の第36
の発明は、請求項1から3,9から11,17,19お
よび21から24のうちのいずれかに記載の拡散補給型
電子源を動作させる際、一時的には高温にする事があっ
ても定常的には,250K以上,350K以下の温度で
動作させることを特徴とする拡散補給型電子源の動作方
法である。
【0047】また、本発明の請求項37に記載の第37
の発明は、請求項1から3,9から11,17,19お
よび21から24のうちのいずれかに記載の拡散補給型
電子源を搭載し,該拡散補給型電子源から電子を引き出
すためのアノードと,該拡散補給型電子源からの放出電
子を収束させるためのレンズと,収束させた該放出電子
を試料の所定位置に照射させるための偏向器およびステ
ージで構成されていることを特徴とする電子線装置であ
る。
【0048】また、本発明の請求項38に記載の第38
の発明は、請求項37に記載の電子線装置において、上
記拡散補給型電子源の近傍に,該拡散補給型電子源の先
端以外からの熱電子放出を抑制するためのサプレッサ電
極を備えることを特徴とする電子線装置である。
【0049】また、本発明の請求項39に記載の第39
の発明は、請求項37または38に記載の電子線装置の
使用方法において、上記試料にレジスト付きウエハを用
い,上記収束させた放出電子を該試料上に照射させ,露
光することを特徴とする電子線装置の使用方法である。
【0050】また、本発明の請求項40に記載の第40
の発明は、請求項37たは38に記載の電子線装置にお
いて、上記試料に回路パターンが形成された基板を用
い,該基板表面の第一の領域を一次電子線で走査する工
程と、該一次電子線により該第一の領域から二次的に発
生する信号を検出する工程と、この検出された信号を記
憶する工程と、該基板の第二の領域を一次電子線で走査
する工程と、該一次電子線により該第二の領域から二次
的に発生する信号を検出する工程と、この検出された信
号を記憶する工程と、該第一の領域の記憶された信号と
該第二の領域の記憶された信号を比較する工程と、比較
結果から基板上回路パターンの欠陥を判定する工程とを
含む検査を行うことを特徴とする電子線装置の使用方法
である。
【0051】また、本発明の請求項41に記載の第41
の発明は、請求項37または38に記載の電子線装置の
使用方法において、上記試料に回路パターンが形成され
た基板を用い,該基板表面の第一の領域を一次電子線で
走査する工程と、該一次電子線により該第一の領域から
二次的に発生する信号を検出する工程と、検出された信
号から該第一の領域の電子線画像を形成する工程と、該
第一の領域の電子線画像を記憶する工程と、該基板の第
二の領域を一次電子線で走査する工程と、該一次電子線
により該第二の領域から二次的に発生する信号を検出す
る工程と、検出された信号から該第二の領域の電子線画
像を形成する工程と、該第二の領域の電子線画像を記憶
する工程と、該第一の領域の記憶された画像と該第二の
領域の記憶された画像を比較する工程と、比較結果から
基板上回路パターンの欠陥を判定する工程を含む検査を
行うことを特徴とする電子線装置の使用方法である。
【0052】また、本発明の請求項42に記載の第42
の発明は、請求項37または38に記載の電子線装置に
おいて、参照回路パタ−ンに対応する信号を記憶する工
程と、上記試料に回路パターンが形成された基板を用
い,該基板表面の特定の領域を一次電子線で走査する工
程と、該一次電子線により該特定の領域から二次的に発
生する信号を検出する工程と、この検出された信号を記
憶する工程と、上記特定の領域に対応して検出,記憶さ
れた上記信号と上記記憶された参照回路パタ−ン信号を
比較する工程と、比較結果から上記基板上回路パターン
の欠陥を判定する工程とを含む検査を行うことを特徴と
する電子線装置の使用方法である。
【0053】また、本発明の請求項43に記載の第43
の発明は、請求項37または38に記載の電子線装置の
使用方法において、参照回路パタ−ンに対応する信号を
記憶する工程と、上記試料に回路パターンが形成された
基板を用い,該基板表面の特定の領域を一次電子線で走
査する工程と、該一次電子線により上記特定の領域から
二次的に発生する信号を検出する工程と、この検出され
た信号から上記特定の領域の電子線画像を形成する工程
と、上記特定の領域の電子線画像を記憶する工程と、上
記特定の領域の記憶された電子線画像と上記記憶された
参照回路パタ−ンを比較する工程と、比較結果から上記
基板上回路パターンの欠陥を判定する工程を含む検査を
行うことを特徴とする電子線装置の使用方法である。
【0054】
【発明の実施の形態】(実施例1)図1(a),(b)
により,本発明の第一の実施例を説明する。まず,V字
型に成形された直径0.127mmのタングステン
(W)製発熱体1の先端に、直径0.127mmで長さ
方向の結晶方位が<100>であるW<100>単結晶
を点熔接し,その先端を濃度5%の水酸化ナトリウム水
溶液中に浸し電解研磨により曲率半径200nm程度に
鋭く尖らせて針状電極2(長さ約1mm)を作成した
(図1(a))。次に,拡散源3として炭酸塩BaCO
3,CaCO3,SrCO3,および還元剤Alの粉末
を,それぞれ,60mol%,20mol%,15mo
l%,5mol%で混合し,純水,もしくはニトロセル
ロースを含む有機物によりペースト状にし,発熱体1と
針状電極2の接合部近傍に付着させた(図1(b))。
【0055】その後,真空度10の−10乗Torr以
上の真空中で発熱体1を通電加熱して,針状電極2の温
度を1500K程度にし,水分,もしくは有機物を蒸発
させ,拡散源をWに焼結させる。このとき炭酸塩(B
a,Ca,Sr)CO3は酸化物(Ba,Ca,Sr)
Oとなる。
【0056】その後,1000Kで,酸化物はAlによ
り還元され,上記アルカリ土類金属の中の少なくとも一
つを針状電極2の先端部へ拡散,吸着させた。このよう
にして針状電極2先端の(100)表面の仕事関数を減
少させた。
【0057】この状態の針状電極先端に対向してアノー
ドを配置し,アノードを接地したまま電子源に負の引出
電圧を加えることにより,針状電極先端から電子を放出
させた。
【0058】その結果,図2(a)に示した(Ba,C
a,Sr)/O/Wのようになった。参考のために拡散
材料として酸化ジルコニウムを使用した結果(図中Zr
/O/W,動作温度1800K)も示した。ここで,横
軸は引出電圧の絶対値,縦軸は放射角電流密度である。
例えば,1kVの電圧をかけると,本電子源(Ba,C
a,Sr)/O/Wは,Zr/O/Wよりも100倍程
度大きな放射角電流密度が得られた。
【0059】次に,放射角電流密度とエネルギー幅の関
係を図2(b)に示す。横軸が放射角電流密度,縦軸が
エネルギー幅である。(Ba,Ca,Sr)/O/W
は,Zr/O/Wよりも狭いエネルギー幅が得られた。
【0060】この方法によると、前記文献における如き
真空容器内での蒸着の手間を必要とせず,取り扱いが容
易になった。
【0061】拡散源としては、一般に、酸素を含むアル
カリ金属の化合物とその還元剤,酸素を含むアルカリ土
類金属の化合物とその還元剤,もしくはこれらの混合物
を用いて同様の効果が得られた。
【0062】還元剤は,原子番号3〜6,11〜16,
19〜34,37〜53,55〜84,88〜94の元
素,もしくはこれら元素を含む化合物のうち,一種類,
もしくは二種類以上の混合物であり,さらに、特に,L
i,Na,K,Rb,Cs,Ba,Ca,Sr,Mg,
Zr,Al,Si,Th,Be,Hf,Sc,Y,S
m,Nd,Pr,La,U,Ce,Ti,C,Ta,M
n,B,Nb,W,Cr,Mo,Ga,Zn,V,F
e,Sn,Ni,Co,Cu,Ag,Pt,Cd,S
b,Pb,Bi,Ir,Tl,Pd,Ru,Rh,O
s,Reの元素もしくはこれら元素を含む化合物のうち
の、一種類,もしくは二種類以上の混合物が好適であ
る。
【0063】これら還元剤の拡散源に占める割合は0.
001〜99mol%の範囲が有効であり、とくに、
0.001〜10mol%の範囲内が好適である。
【0064】(実施例2)本実施例は、実施例1におけ
る拡散源の還元剤を省いたものに相当し、拡散源には,
酸素を含むアルカリ土類金属Be,Ca,Sr,Baもしくは
Raの化合物,またはこれら化合物の混合物を備える。
この拡散源を加熱することにより上記アルカリ土類金属
のうちの少なくとも一種類の元素を熱分解により生成
し,生成した元素を針状電極先端まで拡散させて、針状
電極先端に、生成した元素が存在する吸着層を形成する
ことにより針状電極先端表面の仕事関数を減少させる。
【0065】(実施例3)本実施例は、実施例1におけ
る拡散源の還元剤を省いたものに相当し、拡散源には、
酸素を含むアルカリ土類金属BeもしくはMgの化合物と,
酸素を含むアルカリ土類金属Ba, Sr,CaもしくはRaの化
合物との混合物を備える。この拡散源を加熱することに
より、上記アルカリ土類金属Be及びMgの中の少なくとも
一つの元素とアルカリ土類金属Ba, Sr,Ca 及びRaの中
の少なくとも一つの元素とを熱分解により生成し,生成
した元素を針状電極先端まで拡散させて、針状電極先端
に、生成した元素が存在する吸着層を形成することによ
り針状電極先端表面の仕事関数を減少させる。
【0066】本実施例は、MgおよびBeのみでは仕事関数
の減少量が少ないので、アルカリ土類金属Ba, Sr,Ca
及びRaの中の少なくとも一つの元素と併用するものであ
る。
【0067】W表面(仕事関数4.5eV)に、元素Ba,
Sr, Ca, Mg, Beを吸着させた場合の仕事関数は、Baのと
き2.1eV, Srのとき2.3eV, Caのとき2.7eV, Mgのとき3.6
eV,Beのとき4.7eVとなる(Journal of Chemical Physic
s, vol. 48 p. 2421, 1968)。 さらに、実施例1〜3
について補足すると: (1)酸素を含むアルカリ土類金属の化合物の例として
は、アルカリ土類金属の酸化物が好適である。
【0068】(2)上記実施例1では、炭酸塩を用いた
が、その他に、アルカリ土類金属の過酸化物,水酸化物
などが好適である。
【0069】(3)上記実施例1の如く、炭酸塩BaC
3,CaCO3,SrCO3を用いる場合、それらの割
合が,それぞれ10〜100mol%,0〜45mol
%,0〜45mol%のとき、特に良好な結果が得られ
た。
【0070】(4) 針状電極2としてその先端の結晶
表面が(100),(110),(211),(11
1)面となるようなW,Mo,Ni,Ta,Pt,Ir
単結晶,もしくは(0001),(10−11),(1
1−20),(10−10),(11−22)面となる
ようなRe,Os単結晶を用いても同様の効果が得られ
た。
【0071】(5)上記実施例1では、拡散源3を発熱
体1と針状電極2の接合部付近に付着させたが、本発明
は、これに限定されるものではなく、針状電極2,発熱
体1,もしくはそれらの近傍であっても良い。
【0072】(6)拡散源の中の酸素を含む化合物,酸
化物もしくはこれらの混合物を熱分解もしくは還元させ
るためには、拡散補給型電子源の定常動作温度よりも一
時的に高温にすることが好ましい。その一時的な高温
は、1200K以上が好適である。
【0073】(7)拡散補給型電子源の動作温度は、拡
散源の中の酸素を含む化合物,酸化物,もしくはこれら
の混合物を熱分解,もしくは還元させ,かつ生成した金
属を針状電極先端まで拡散させて吸着させることの可能
な温度範囲で動作させることを好ましい。その際、一時
的には高温にすることがあっても定常的には,1500
K以下の温度で動作させることが好ましい。さらに、そ
の際、500K以上、1200K以下の範囲で動作させる
ことがより好ましい。
【0074】(8)拡散補給型電子源の動作温度を、2
50K以上、350K以下の範囲に設定することにより、
放出電子エネルギー幅を十分に狭めることが出来た。
【0075】(実施例4)実施例1〜3に記載の拡散補
給型電子源を搭載した電子線描画装置の例を図3に示
す。拡散補給型電子源301には電子源先端以外からの
熱電子放出を抑制するためのサプレッサ電極318があ
る。拡散補給型電子源301の直下にはアノード302
があり,拡散補給型電子源301とアノード302の間
には高圧の引出電圧が与えられている。
【0076】拡散補給型電子源301より引き出された
電子316は、アノード302の中心に開けられた穴を
通過し,第1転写マスク303および第2転写マスク3
08を用いたビーム成形が施された後,対物レンズ31
2によりターゲット313(ホトレジスト付きウエハな
ど)上に投射され,露光を行う。
【0077】なお,拡散補給型電子源301の加熱温
度,サプッレサ電極318,アノード302の引出電
圧,各投射レンズ305,307,対物レンズ312,
ブランカー304,転写偏向器306,偏向器311お
よび反射電子検出器315は、制御計算機317により
制御されている。さらに、図中、309はブランキング
アパーチャー,310は鏡筒,314はステージであ
る。
【0078】この電子線装置を用いて,256メガバイ
ト(Mbyte)のDRAMの配線パターン描画を試み
た。その結果,拡散補給型電子源として従来のZr/O
/Wを用いた場合と本装置を比較すると,3時間かかっ
ていたものが5分に短縮できた。
【0079】なお,電子線描画装置以外にも半導体ディ
バイス評価検査用の走査型電子顕微鏡,もしくは透過型
電子顕微鏡等に本拡散補給型電子源を利用することによ
り検査スループット(観察速度)向上が実現できた。さ
らに,エネルギー幅もZr/O/Wと比較して狭いの
で,分解能の向上も実現できた。
【0080】(実施例5)実施例1による拡散補給型電
子源を搭載した半導体基板外観検査用走査型電子顕微鏡
の例を図4に示す。この装置は、室内が真空排気される
検査室403と、検査室403内に被検査基板409を
搬送するための予備室(本実施例では図示せず)を備え
ており、この予備室は検査室403とは独立して真空排
気できるように構成されている。また、この装置は上記
検査室403と予備室の他に制御部406、画像処理部
405から構成されている。
【0081】検査室403内は大別して、電子光学系4
04、二次電子検出部407、試料室408から構成さ
れている。電子光学系404は、拡散補給型電子源40
1,サプッレサ電極402、アノード411、コンデン
サレンズ412、ブランキング用偏向器413、走査偏
向器415、絞り414、対物レンズ416、反射板4
17、E×B偏向器418から構成されている。
【0082】二次電子検出部407のうち、二次電子検
出器420が検査室403内の対物レンズ416の上方
に配置されている。二次電子検出器420の出力信号
は、検査室403の外に設置された二次電子検出部40
7により増幅され、AD変換機によりデジタルデータと
なり画像処理部405に送られる。
【0083】試料室408は、試料台430、XYステ
ージ431、ステージ制御部433、被検査基板高さ測
定器434から構成されている。
【0084】装置各部の動作命令および動作条件は、制
御部406から入出力される。制御部406には、あら
かじめ電子線発生時の加速電圧、電子線偏向幅、偏向速
度、二次電子検出装置の信号取り込みタイミング、試料
台移動速度等々の条件が、目的に応じて任意にあるいは
選択して設定できるよう入力されている。制御部406
は、補正制御回路432を用いて、ステージ制御部43
3、被検査基板高さ測定器434の信号から位置や高さ
のずれをモニタし、その結果より補正信号を生成し、電
子線が常に正しい位置に照射されるよう対物レンズ電源
442や走査回路441に補正信号を送る。
【0085】被検査基板409の画像を取得するために
は、細く絞った電子線419を該被検査基板409に照
射し、二次電子451を発生させ、これらを電子線41
9の走査およびステージ431の移動と同期して検出す
ることで該被検査基板409表面の画像を得る。なお、
図中、435はリターデイング電源である。
【0086】この電子線装置を用いて,半導体回路の基
板の画像の取得を試みた。その結果,本装置では従来の
Zr/O/Wを用いた場合と比較して,約100倍の高
速化が可能となった。なお,この装置以外にも走査型電
子顕微鏡,もしくは透過型電子顕微鏡等に本拡散補給型
電子源を利用することにより検査スループット(観察速
度)向上が実現できた。さらに,エネルギー幅もZr/
O/Wと比較して狭いので,分解能の向上も実現でき
た。
【0087】(実施例6)本実施例は、実施例5による
走査型電子顕微鏡を用い、被検査基板409として、繰
り返される回路パターンが形成された基板を用い,その
欠陥を検出するものである。
【0088】該基板表面の第一の領域を一次電子線41
9で走査し、この第一の領域から二次的に発生する信号
451を検出することにより第一の領域の電子線画像を
形成、これを記憶しておき、つぎに、同様に同じ被検査
基板409の第二の領域を一次電子線419で走査し、
この第二の領域から二次的に発生する信号419を検出
することにより第二の領域の電子線画像を形成、これを
記憶し、前記第一の領域からの記憶された画像と該第二
の領域からの記憶された画像を比較することにより、基
板上の繰り返し回路パターンの一部に発生した欠陥を検
出する。
【0089】(実施例7)本実施例は、実施例5による
走査型電子顕微鏡を用い、被検査基板409として、回
路パターンが形成された基板を用い,その欠陥を検出す
るものである。
【0090】先ず、検査する回路パタ−ンに対応する参
照回路パタ−ン、例えば、パタ−ン原図を予め記憶して
置く。次いで、基板表面の特定の領域を一次電子線41
9で走査し、この領域から二次的に発生する信号451
を検出することにより、その領域の電子線画像を形成、
これを記憶する。次いで、この基板から検出され,記憶
された画像と上記記憶された参照回路パタ−ン画像を比
較することにより、基板上の回路パターンに発生した欠
陥を検出する。
【0091】
【発明の効果】本発明によれば,容易に電子放出面の仕
事関数を減少させ,高電流密度およびエネルギー幅の狭
い電子放出の可能な電子源を製作することができる。ま
た,高電流密度およびエネルギー幅が狭い電子放出が必
要な電子線応用装置の性能向上,例えば電子線描画装置
の描画速度向上,透過型電子顕微鏡,走査型電子顕微鏡
の観察速度向上,および分解能向上を可能にする。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の拡散補給型電子源実施例1の製作工程
図である。
【図2】本発明に係わる拡散補給型電子源の引出電圧と
放射角電流密度,および放射角電流密度とエネルギー幅
の実験結果である。
【図3】本発明の拡散補給型電子源を搭載した電子線描
画装置の構成図である。
【図4】本発明の拡散補給型電子源を搭載した半導体基
板外観検査用走査型顕微鏡の構成図である。
【符号の説明】
1:発熱体、2:針状電極、3:拡散源、301:拡散
補給型電子源、302:アノード、303:第一転写マ
スク、304:ブランカー、305:投射レンズ、30
6:転写偏向器、307:投射レンズ、308:第二転
写マスク、309:ブランキングアパーチャー、31
0:鏡筒、311:偏向器、312:対物レンズ、31
3:ターゲット、314:ステージ、315:反射電子
検出器、316:電子、317:制御計算機、318:
サプッレサ電極、401:拡散補給型電子源、402:
サプッレサ電極、403:検査室、404:電子光学
系、405:画像処理部、406:制御部、407:二
次電子検出部、408:試料室、409:被検査基板、
411:アノード、412:コンデンサレンズ、41
3:ブランキング偏向器、414:絞り、415:走査
偏向器、416:対物レンズ、417:反射板、41
8:E×B偏向器、419:電子線、420:二次電子
検出器、430:試料台、431:XYステージ、43
2:補正制御回路、433:ステージ制御部、434:
被検査基板高さ測定器、435:リターディング電源、
441:走査偏向器、442:対物レンズ電源、45
1:二次電子

Claims (43)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】先端を針状にした金属から成る針状電極
    と,該針状電極を加熱する発熱体からなる電子源におい
    て、該電子源は該発熱体により加熱可能な拡散源を有
    し,該拡散源は、酸素を含むアルカリ金属の化合物とそ
    の還元剤,酸素を含むアルカリ土類金属の化合物とその
    還元剤,もしくはこれらの混合物を備え、かつ該拡散源
    は、加熱されることにより、前記アルカリ金属,前記ア
    ルカリ土類金属のうち少なくとも一種類の元素を還元
    し,該還元した元素を該針状電極先端まで拡散させて、
    該針状電極先端に、該還元された元素が存在する吸着層
    を形成するよう配設されていることを特徴とする拡散補
    給型電子源。
  2. 【請求項2】先端を針状にした金属から成る針状電極
    と,該針状電極を加熱する発熱体からなる電子源におい
    て,該電子源は該発熱体により加熱可能な拡散源を有
    し,該拡散源は、酸素を含むアルカリ土類金属の化合物
    とその還元剤,もしくはこれらの混合物を備え、かつ該
    拡散源は、加熱されることにより、前記アルカリ土類金
    属のうち少なくとも一種類の元素を還元し,該還元した
    元素を該針状電極先端まで拡散させて、該針状電極先端
    に、該還元された元素が存在する吸着層を形成するよう
    配設されていることを特徴とする拡散補給型電子源。
  3. 【請求項3】前記酸素を含むアルカリ土類金属の化合物
    の少なくとも一つが、アルカリ土類金属の酸化物である
    ことを特徴とする請求項2記載の拡散補給型電子源。
  4. 【請求項4】先端を針状にした金属から成る針状電極
    と,該針状電極を加熱する発熱体とを備え、 アルカリ土類金属の過酸化物,水酸化物もしくは炭酸
    塩、またはこれらの混合物を、該アルカリ土類金属の還
    元剤と一緒に、上記針状電極,上記発熱体もしくはそれ
    らの近傍に付着させたことを特徴とする拡散補給型電子
    源中間体。
  5. 【請求項5】前記炭酸塩が、BaCO3,CaCO3もし
    くはSrCO3、またはこれらの混合物であることを特
    徴とする請求項4記載の拡散補給型電子源中間体。
  6. 【請求項6】前記炭酸塩に占めるBaCO3,CaC
    3,SrCO3の割合は,それぞれ10〜100mol
    %,0〜45mol%,0〜45mol%であることを
    特徴とする請求項5に記載の拡散補給型電子源中間体。
  7. 【請求項7】請求項4に記載の拡散補給型電子源中間体
    における前記アルカリ土類金属の過酸化物,水酸化物,
    炭酸塩もしくはこれらの混合物を加熱することにより前
    記アルカリ土類金属の酸化物を生成させることを特徴と
    する拡散補給型電子源の製造方法。
  8. 【請求項8】請求項5または6に記載の拡散補給型電子
    源中間体における前記アルカリ土類金属の炭酸塩もしく
    はこれらの混合物を加熱することにより前記アルカリ土
    類金属の酸化物を生成させることを特徴とする拡散補給
    型電子源の製造方法。
  9. 【請求項9】先端を針状にした金属から成る針状電極
    と,該針状電極を加熱する発熱体からなる電子源におい
    て、該電子源は該発熱体により加熱可能な拡散源を有
    し,該拡散源は、酸素を含むアルカリ土類金属Be,Ca,
    Sr,BaもしくはRaの化合物,またはこれら化合物の混
    合物を備え、かつ該拡散源は、加熱されることにより前
    記アルカリ土類金属のうち少なくとも一種類の元素を熱
    分解により生成し,該生成した元素を該針状電極先端ま
    で拡散させて、該針状電極先端に、該生成した元素が存
    在する吸着層を形成するよう配設されていることを特徴
    とする拡散補給型電子源。
  10. 【請求項10】先端を針状にした金属から成る針状電極
    と,該針状電極を加熱する発熱体からなる電子源におい
    て、該電子源は該発熱体により加熱可能な拡散源を有
    し,該拡散源は、酸素を含むアルカリ土類金属Beもしく
    はMgの化合物と,酸素を含むアルカリ土類金属Ba, Sr,
    CaもしくはRaの化合物との混合物を備え、かつ該拡散源
    は、加熱されることにより、前記アルカリ土類金属Be及
    びMgの中の少なくとも一つの元素と前記アルカリ土類金
    属Ba, Sr,Ca 及びRaの中の少なくとも一つの元素とを
    熱分解により生成し,該生成した元素を該針状電極先端
    まで拡散させて、該針状電極先端に、該生成した元素が
    存在する吸着層を形成するよう配設されていることを特
    徴とする拡散補給型電子源。
  11. 【請求項11】前記酸素を含むアルカリ土類金属の化合
    物の少なくとも一つがアルカリ土類金属の酸化物である
    ことを特徴とする請求項9あるいは10記載の拡散補給
    型電子源。
  12. 【請求項12】先端を針状にした金属から成る針状電極
    と,該針状電極を加熱する発熱体とを備え、 アルカリ土類金属の過酸化物,水酸化物,炭酸塩もしく
    はこれらの混合物を、上記針状電極,上記発熱体もしく
    はそれらの近傍に付着させたことを特徴とする拡散補給
    型電子源中間体。
  13. 【請求項13】前記炭酸塩が、BaCO3,CaCO3
    しくはSrCO3、またはこれらの混合物であることを
    特徴とする請求項12記載の拡散補給型電子源中間体。
  14. 【請求項14】上記炭酸塩に占めるBaCO3,CaC
    3,SrCO3の割合は、それぞれ10〜99mol
    %,0.5〜45mol%,0.5〜45mol%であ
    ることを特徴とする請求項13記載の拡散補給型電子源
    中間体。
  15. 【請求項15】請求項12に記載の拡散補給型電子源中
    間体における前記アルカリ土類金属の過酸化物,水酸化
    物,炭酸塩もしくはこれらの混合物を加熱することによ
    り前記アルカリ土類金属の酸化物を生成させることを特
    徴とする拡散補給型電子源の製造方法。
  16. 【請求項16】請求項13または14に記載の拡散補給
    型電子源中間体における前記炭酸塩の混合物を加熱する
    ことにより前記アルカリ土類金属の酸化物を生成させる
    ことを特徴とする拡散補給型電子源の製造方法。
  17. 【請求項17】請求項1から3および9から11のうち
    のいずれかに記載の拡散補給型電子源において、上記針
    状電極としてW,Mo,Ni,Ta,Pt,Ir,R
    e,もしくはOsを用いることを特徴とする拡散補給型
    電子源。
  18. 【請求項18】請求項4から6および12から14のう
    ちのいずれかに記載の拡散補給型電子源中間体におい
    て、上記針状電極としてW,Mo,Ni,Ta,Pt,
    Ir,Re,もしくはOsを用いることを特徴とする拡
    散補給型電子源中間体。
  19. 【請求項19】請求項17に記載の拡散補給型電子源に
    おいて、上記針状電極として,その先端の結晶表面が
    (100),(110),(211),(111)面と
    なるようなW,Mo,Ni,Ta,Pt,Ir単結晶,
    もしくは(0001),(10−11),(11−2
    0),(10−10),(11−22)面となるような
    Re,Os単結晶を用いることを特徴とする拡散補給型
    電子源。
  20. 【請求項20】請求項18に記載の拡散補給型電子源中
    間体において、上記針状電極として,その先端の結晶表
    面が(100),(110),(211),(111)
    面となるようなW,Mo,Ni,Ta,Pt,Ir単結
    晶,もしくは(0001),(10−11),(11−
    20),(10−10),(11−22)面となるよう
    なRe,Os単結晶を用いることを特徴とする拡散補給
    型電子源中間体。
  21. 【請求項21】請求項1から3のうちのいずれかに記載
    の拡散補給型電子源において、 上記還元剤は,原子番号3〜6,11〜16,19〜3
    4,37〜53,55〜84,88〜94の元素もしく
    はこれら元素を含む化合物のうちの、一種類,もしくは
    二種類以上の混合物であり、かつ該還元剤の上記拡散源
    に占める割合は0.001〜99mol%の範囲内であ
    ることを特徴とする拡散補給型電子源。
  22. 【請求項22】上記還元剤の上記拡散源に占める割合が
    0.001〜10mol%の範囲内であることを特徴と
    する請求項21記載の拡散補給型電子源。
  23. 【請求項23】請求項1から3のうちのいずれかに記載
    の拡散補給型電子源において、 上記還元剤は,Li,Na,K,Rb,Cs,Ba,C
    a,Sr,Mg,Zr,Al,Si,Th,Be,H
    f,Sc,Y,Sm,Nd,Pr,La,U,Ce,T
    i,C,Ta,Mn,B,Nb,W,Cr,Mo,G
    a,Zn,V,Fe,Sn,Ni,Co,Cu,Ag,
    Pt,Cd,Sb,Pb,Bi,Ir,Tl,Pd,R
    u,Rh,Os,Reの元素もしくはこれら元素を含む
    化合物のうちの、一種類,もしくは二種類以上の混合物
    であり、かつ該還元剤の上記拡散源に占める割合は0.
    001〜99mol%の範囲内であることを特徴とする
    拡散補給型電子源。
  24. 【請求項24】上記還元剤の上記拡散源に占める割合が
    0.001〜10mol%の範囲内であることを特徴と
    する請求項23記載の拡散補給型電子源。
  25. 【請求項25】請求項1から3,9から11,17,1
    9および21から23のうちのいずれかに記載の拡散補
    給型電子源における上記拡散源に用いる材料を、純水と
    混合して上記針状電極,上記発熱体もしくはそれらの近
    傍に塗布することを特徴とする拡散補給型電子源の製造
    法。
  26. 【請求項26】請求項4から6,12から14,18お
    よび20のうちのいずれかに記載の拡散補給型電子源中
    間体の製造法における上記拡散源に用いる材料を純水と
    混合して、上記針状電極,上記発熱体もしくはそれらの
    近傍に塗布することを特徴とする拡散補給型電子源中間
    体の製造法。
  27. 【請求項27】請求項1から3,9から11,17,1
    9および21から23のうちのいずれかに記載の拡散補
    給型電子源の製造法において、上記拡散源に用いる材料
    を有機物と混合して、上記針状電極,上記発熱体もしく
    はそれらの近傍に塗布することを特徴とする拡散補給型
    電子源の製造法。
  28. 【請求項28】請求項4から6,12から14,18お
    よび20のうちのいずれかに記載の拡散補給型電子源中
    間体の製造法において、上記拡散源に用いる材料を上記
    針状電極,上記発熱体,もしくはそれらの近傍に、該材
    料を有機物と混合して塗布することを特徴とする拡散補
    給型電子源中間体の製造法。。
  29. 【請求項29】請求項27に記載の拡散補給型電子源の
    製造法において、上記有機物には,ニトロセルロースを
    含むことを特徴とする拡散補給型電子源の製造法。
  30. 【請求項30】請求項28に記載の拡散補給型電子源中
    間体の製造法において、上記有機物には,ニトロセルロ
    ースを含むことを特徴とする拡散補給型電子源中間体の
    製造法。
  31. 【請求項31】請求項1から3,9から11,17,1
    9および21から24のうちのいずれかに記載の拡散補
    給型電子源を動作させる際、上記拡散源の中の上記酸素
    を含む化合物,酸化物もしくはこれらの混合物を熱分解
    もしくは還元させるために,動作温度よりも一時的に高
    温にすることを特徴とする拡散補給型電子源の動作方
    法。
  32. 【請求項32】請求項31に記載の拡散補給型電子源を
    動作させる際、上記一時的に高温にする温度は1200
    K以上であることを特徴とする拡散補給型電子源の動作
    方法。
  33. 【請求項33】請求項1から3,9から11,17,1
    9および21から24のうちのいずれかに記載の拡散補
    給型電子源を動作させる際、上記拡散源の中の上記酸素
    を含む化合物,酸化物,もしくはこれらの混合物を熱分
    解,もしくは還元させ,かつ生成した金属を上記針状電
    極先端まで拡散させて吸着させることの可能な温度範囲
    で動作させることを特徴とする拡散補給型電子源の動作
    方法。
  34. 【請求項34】請求項1から3,9から11,17,1
    9および21から24のうちのいずれかに記載の拡散補
    給型電子源を動作させる際、一時的には高温にする事が
    あっても定常的には,1500K以下の温度で動作させ
    ることを特徴とする拡散補給型電子源の動作方法。
  35. 【請求項35】請求項1から3,9から11,17,1
    9および21から24のうちのいずれかに記載の拡散補
    給型電子源を動作させる際、一時的には高温にする事が
    あっても定常的には,500K以上,1200K以下の
    温度で動作させることを特徴とする拡散補給型電子源の
    動作方法。
  36. 【請求項36】請求項1から3,9から11,17,1
    9および21から24のうちのいずれかに記載の拡散補
    給型電子源を動作させる際、一時的には高温にする事が
    あっても定常的には,250K以上,350K以下の温
    度で動作させることを特徴とする拡散補給型電子源の動
    作方法。
  37. 【請求項37】請求項1から3,9から11,17,1
    9および21から24のうちのいずれかに記載の拡散補
    給型電子源を搭載し,該拡散補給型電子源から電子を引
    き出すためのアノードと,該拡散補給型電子源からの放
    出電子を収束させるためのレンズと,収束させた該放出
    電子を試料の所定位置に照射させるための偏向器および
    ステージで構成されていることを特徴とする電子線装
    置。
  38. 【請求項38】請求項37に記載の電子線装置におい
    て、上記拡散補給型電子源の近傍に,該拡散補給型電子
    源の先端以外からの熱電子放出を抑制するためのサプレ
    ッサ電極を備えることを特徴とする電子線装置。
  39. 【請求項39】請求項37または38に記載の電子線装
    置の使用方法において、上記試料にレジスト付きウエハ
    を用い,上記収束させた放出電子を該試料上に照射さ
    せ,露光することを特徴とする電子線装置の使用方法。
  40. 【請求項40】請求項37または38に記載の電子線装
    置において、 上記試料に回路パターンが形成された基板を用い,該基
    板表面の第一の領域を一次電子線で走査する工程と、 該一次電子線により該第一の領域から二次的に発生する
    信号を検出する工程と、 この検出された信号を記憶す
    る工程と、 該基板の第二の領域を一次電子線で走査する工程と、 該一次電子線により該第二の領域から二次的に発生する
    信号を検出する工程と、 この検出された信号を記憶す
    る工程と、 該第一の領域の記憶された信号と該第二の領域の記憶さ
    れた信号を比較する工程と、 比較結果から基板上回路パターンの欠陥を判定する工程
    とを含む検査を行うことを特徴とする電子線装置の使用
    方法。
  41. 【請求項41】請求項37または38に記載の電子線装
    置の使用方法において、 上記試料に回路パターンが形成された基板を用い,該基
    板表面の第一の領域を一次電子線で走査する工程と、 該一次電子線により該第一の領域から二次的に発生する
    信号を検出する工程と、 検出された信号から該第一の
    領域の電子線画像を形成する工程と、 該第一の領域の電子線画像を記憶する工程と、 該基板の第二の領域を一次電子線で走査する工程と、 該一次電子線により該第二の領域から二次的に発生する
    信号を検出する工程と、 検出された信号から該第二の
    領域の電子線画像を形成する工程と、 該第二の領域の電子線画像を記憶する工程と、 該第一の領域の記憶された画像と該第二の領域の記憶さ
    れた画像を比較する工程と、 比較結果から基板上回路パターンの欠陥を判定する工程
    を含む検査を行うことを特徴とする電子線装置の使用方
    法。
  42. 【請求項42】請求項37または38に記載の電子線装
    置において、 参照回路パタ−ンに対応する信号を記憶する工程と、 上記試料に回路パターンが形成された基板を用い,該基
    板表面の特定の領域を一次電子線で走査する工程と、 該一次電子線により該特定の領域から二次的に発生する
    信号を検出する工程と、 この検出された信号を記憶す
    る工程と、 上記特定の領域に対応して検出,記憶された上記信号と
    上記記憶された参照回路パタ−ン信号を比較する工程
    と、 比較結果から上記基板上回路パターンの欠陥を判定する
    工程とを含む検査を行うことを特徴とする電子線装置の
    使用方法。
  43. 【請求項43】請求項37または38に記載の電子線装
    置の使用方法において、 参照回路パタ−ンに対応する信号を記憶する工程と、 上記試料に回路パターンが形成された基板を用い,該基
    板表面の特定の領域を一次電子線で走査する工程と、 該一次電子線により上記特定の領域から二次的に発生す
    る信号を検出する工程と、 この検出された信号から上記特定の領域の電子線画像を
    形成する工程と、 上記特定の領域の電子線画像を記憶する工程と、 上記特定の領域の記憶された電子線画像と上記記憶され
    た参照回路パタ−ンを比較する工程と、 比較結果から上記基板上回路パターンの欠陥を判定する
    工程を含む検査を行うことを特徴とする電子線装置の使
    用方法。
JP2680498A 1998-02-09 1998-02-09 拡散補給型電子源、その製造方法および電子線装置 Pending JPH11224629A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2680498A JPH11224629A (ja) 1998-02-09 1998-02-09 拡散補給型電子源、その製造方法および電子線装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2680498A JPH11224629A (ja) 1998-02-09 1998-02-09 拡散補給型電子源、その製造方法および電子線装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11224629A true JPH11224629A (ja) 1999-08-17

Family

ID=12203497

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2680498A Pending JPH11224629A (ja) 1998-02-09 1998-02-09 拡散補給型電子源、その製造方法および電子線装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11224629A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002334663A (ja) * 2001-03-09 2002-11-22 Vacuum Products Kk 荷電粒子発生装置及びその発生方法
WO2008140080A1 (ja) * 2007-05-16 2008-11-20 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha 電子源
EP1592040A4 (en) * 2003-02-03 2010-06-02 Denki Kagaku Kogyo Kk ELECTRON SOURCE
JP2011159602A (ja) * 2010-02-04 2011-08-18 Hitachi High-Technologies Corp 電子源,電子銃、それを用いた電子顕微鏡装置及び電子線描画装置
JP4856073B2 (ja) * 2004-05-17 2012-01-18 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. 荷電粒子ビーム露光システム
US8450699B2 (en) 2008-12-16 2013-05-28 Hitachi High-Technologies Corporation Electron beam device and electron beam application device using the same

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002334663A (ja) * 2001-03-09 2002-11-22 Vacuum Products Kk 荷電粒子発生装置及びその発生方法
EP1592040A4 (en) * 2003-02-03 2010-06-02 Denki Kagaku Kogyo Kk ELECTRON SOURCE
JP4856073B2 (ja) * 2004-05-17 2012-01-18 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. 荷電粒子ビーム露光システム
WO2008140080A1 (ja) * 2007-05-16 2008-11-20 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha 電子源
JPWO2008140080A1 (ja) * 2007-05-16 2010-08-05 電気化学工業株式会社 電子源
EP2148354A4 (en) * 2007-05-16 2011-09-07 Denki Kagaku Kogyo Kk Electron source
JP5011383B2 (ja) * 2007-05-16 2012-08-29 電気化学工業株式会社 電子源
US8436524B2 (en) 2007-05-16 2013-05-07 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Electron source
US8450699B2 (en) 2008-12-16 2013-05-28 Hitachi High-Technologies Corporation Electron beam device and electron beam application device using the same
DE112009003724B4 (de) 2008-12-16 2017-07-13 Hitachi High-Technologies Corporation Verwendung eines Elektronenstrahlgeräts
JP2011159602A (ja) * 2010-02-04 2011-08-18 Hitachi High-Technologies Corp 電子源,電子銃、それを用いた電子顕微鏡装置及び電子線描画装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5063715B2 (ja) 電子源,電子銃、それを用いた電子顕微鏡装置及び電子線描画装置
US7446474B2 (en) Hetero-junction electron emitter with Group III nitride and activated alkali halide
EP2787522B1 (en) Electrode material with low work function and high chemical stability
US9984846B2 (en) High brightness boron-containing electron beam emitters for use in a vacuum environment
EP0732720B1 (en) Cathode, electron beam emission apparatus using the same, and method of manufacturing the cathode
JP4210131B2 (ja) 電子源及び電子源の使用方法
JPH11224629A (ja) 拡散補給型電子源、その製造方法および電子線装置
JP4792404B2 (ja) 電子源の製造方法
JPH11354007A (ja) 電子源およびそれを用いた電子線装置
EP1596418B1 (en) Electron gun
Tuck Surface studies of thermionic emitters by methods unique to them
JP2001236914A (ja) 荷電粒子ビーム装置における汚染除去方法及び荷電粒子ビーム装置
JPH1031955A (ja) 熱拡散補給型電子源の製造方法およびその電子源を用いた電子線応用装置
JP4032057B2 (ja) 電子源の製造方法
Bhorade et al. Evaluating LaB6 (310) nanotip as an ultrafast electron emitter
Crewe High intensity electron sources and scanning electron microscopy
Shimizu et al. Oxygen‐enhanced thermionic emission pattern of hemispherical single‐crystal LaB6
JPH0782803B2 (ja) 熱電界放射陰極とその応用装置
JP2005332677A (ja) 電子源の製造方法と使用方法
JP2000327483A (ja) 成膜装置
JPH10154477A (ja) 拡散補給型電子源およびそれを用いた電子線応用装置
KR100442300B1 (ko) 음극선관용 음극
Harriott Ion Beam Techniques and Applications
Kristiansen 6 Scanning electron microscope with energy-and wavelength-dispersive spectrometry
Baum Negative electron affinity photocathodes as high-performance electron sources for electron beam lithography and microscopy