JPH11228149A - Manufacture of glass substrate - Google Patents

Manufacture of glass substrate

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JPH11228149A
JPH11228149A JP2539998A JP2539998A JPH11228149A JP H11228149 A JPH11228149 A JP H11228149A JP 2539998 A JP2539998 A JP 2539998A JP 2539998 A JP2539998 A JP 2539998A JP H11228149 A JPH11228149 A JP H11228149A
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JP
Japan
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glass substrate
press
glass
gob
shape
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2539998A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Ota
隆 太田
Akio Enomoto
明夫 榎本
Hideto Sandaiji
秀人 三大寺
Toshiki Goto
利樹 後藤
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NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11228149A publication Critical patent/JPH11228149A/en
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/02Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
    • C03B33/04Cutting or splitting in curves, especially for making spectacle lenses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B7/00Distributors for the molten glass; Means for taking-off charges of molten glass; Producing the gob, e.g. controlling the gob shape, weight or delivery tact
    • C03B7/10Cutting-off or severing the glass flow with the aid of knives or scissors or non-contacting cutting means, e.g. a gas jet; Construction of the blades used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/40Product characteristics
    • C03B2215/45Ring or doughnut disc products or their preforms

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide glass substrates having good quality and to shorten the manufacturing process for the glass substrates by annihilating shear marks generated in a gob formed by cutting molten glass subjected to dropping, etc., by a universal and simple method. SOLUTION: This method for manufacturing the glass substrates including a stage of press forming the molten glass 2 to a prescribed shape consists in press forming the gob 5 which is the molten glass 2 dropped or extruded to a press lower mold 1A by the press upper and lower molds 1A, 1B during or after heating. The press upper and lower molds preferably have contact parts which are directly mated without being interposed with the molten glass.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】 本発明は、主にコンピュー
タの情報記録媒体として使用されるハードディスク用の
基板として用いられるガラス基板の作製方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate used as a substrate for a hard disk used mainly as an information recording medium of a computer.

【0002】[0002]

【従来の技術】 近年、コンピュータの普及が急激に進
み、コンピュータの操作性を左右するオペレーションシ
ステム等のOSソフトや、OS上で作動する種々のプロ
グラムソフト等のソフトウェアが高容量化するに伴っ
て、これらのプログラム上で作成されるデータも、高容
量化する傾向にある。
2. Description of the Related Art In recent years, with the rapid spread of computers, the capacity of OS software such as an operation system that affects the operability of the computer and various kinds of program software operating on the OS have been increased. The data created on these programs also tends to have a high capacity.

【0003】 これに伴い、このような大量の情報を高
速に記録/読出することのできる情報記録媒体としての
ハードディスクの開発においては、従来のアルミニウム
金属を用いた基板に変えて、硬度や平滑性に優れるガラ
ス基板、特に結晶化ガラスを用いたガラス基板を用いる
動きが活発になってきている。
Accordingly, in the development of a hard disk as an information recording medium capable of recording / reading such a large amount of information at a high speed, hardness and smoothness have been changed in place of a conventional substrate using aluminum metal. In recent years, there has been an active movement to use a glass substrate having excellent characteristics, in particular, a glass substrate using crystallized glass.

【0004】 一般的に、このようなガラス基板の作製
方法は、図9のフローチャートに示されるように、ブラ
ンク工程とサブストレート工程とに分けられる。ここ
で、ブランク工程においては、まず、特定の組成に調合
されたガラス材料を溶融したものをプレス型に流し込ん
でプレス成形が行われる。
Generally, such a method of manufacturing a glass substrate is divided into a blanking process and a substrate process, as shown in a flowchart of FIG. Here, in the blanking step, first, a molten glass material prepared to have a specific composition is poured into a press mold to perform press molding.

【0005】 このプレス成形においては、従来から、
図10に示すように、ノズル51から押し出された溶融
ガラス52を一定量ほどシャー53で切断して、周囲を
胴型54の円筒壁で囲まれた下型55上へ落とし、上型
56で胴型54の上面を蓋した後に下型55を押し上げ
ることで、上型56と下型55および胴型54によって
囲まれた空間に溶融ガラス52を密に充填し、ディスク
状のガラス基板57を作製する方法が採られている。
In this press molding, conventionally,
As shown in FIG. 10, the molten glass 52 extruded from the nozzle 51 is cut by a certain amount by a shear 53, and the molten glass 52 is dropped onto a lower die 55 surrounded by a cylindrical wall of a trunk die 54, and By pushing up the lower die 55 after covering the upper surface of the trunk die 54, the space surrounded by the upper die 56, the lower die 55 and the die 54 is densely filled with the molten glass 52, and the disk-shaped glass substrate 57 is removed. The method of manufacturing is adopted.

【0006】 こうして、得られたガラス基板を結晶化
処理し、その後にガラス基板の中心部を切断して内孔を
開け、欠けや割れ等の表面欠陥の有無を検査する。こう
して作製されたガラス基板はブランクと呼ばれる。
The glass substrate thus obtained is subjected to a crystallization treatment, and thereafter, the central portion of the glass substrate is cut to form an inner hole, and the presence or absence of a surface defect such as a chip or a crack is inspected. The glass substrate thus manufactured is called a blank.

【0007】 次に、サブストレート工程においては、
ブランクの表面をSiC微粉等の研磨剤によりラッピン
グ(1次ラッピング)した後、内外径を所定寸法および
所定形状に加工するチャンファリングを行い、さらに、
表面をラッピング(2次ラッピング)して洗浄する。こ
うして得られたブランクを、酸化セリウム微粉を用いて
研磨し、所定の平滑度に仕上げた後、超音波洗浄、IP
A洗浄を施し、最後に表面欠陥等の有無を検査する。以
上の工程を経たブランクをサブストレートという。こう
して得られたサブストレートには最終的に磁気記録膜が
施膜される。
Next, in the substrate process,
After lapping (primary lapping) the surface of the blank with an abrasive such as SiC fine powder, chamfering for processing the inner and outer diameters into predetermined dimensions and shapes is performed.
The surface is wrapped (secondary wrapping) and washed. The blank thus obtained is polished with cerium oxide fine powder to finish it to a predetermined smoothness, and then subjected to ultrasonic cleaning, IP
A cleaning is performed, and finally, the presence or absence of a surface defect or the like is inspected. The blank that has gone through the above steps is called a substrate. The substrate thus obtained is finally coated with a magnetic recording film.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】 上述したように、従
来の製品たるガラス基板、すなわち、サブストレートの
作製方法は、多くの工程から成り立ち、しかも、ラッピ
ングや研磨といった長い加工時間を要し、しかも加工設
備費および加工消耗材料費の高くつく工程を多く含むた
めに、加工コストが高くつく問題があった。また、成形
されたガラス基板においては、ラッピング等により除去
される無駄な部分が多いために、ガラス基板の成形に必
要とする原材料費が嵩むという問題もあった。加えて、
ガラス基板の欠けを防止し、機械的な強度を保つ意味で
も重要なチャンファー加工にも長い加工時間を要し、か
つ、専用の加工機械を必要とする問題もある。
As described above, the conventional method of manufacturing a glass substrate as a product, that is, a substrate, includes many steps, and requires a long processing time such as lapping and polishing. There is a problem that the processing cost is high because it includes many steps in which the processing equipment cost and the processing consumable material cost are expensive. Further, in the formed glass substrate, there is also a problem that a raw material cost required for forming the glass substrate increases because there are many useless portions removed by lapping or the like. in addition,
In order to prevent chipping of the glass substrate and maintain mechanical strength, there is also a problem that a long processing time is required for chamfer processing which is important, and a special processing machine is required.

【0009】 さらに、溶融ガラスが常に一定量ほどプ
レス型に供給されるように、作業環境、すなわち、溶融
ガラスの滴下量もしくは押し出し量や、滴下等される溶
融ガラスの切断のタイミング、あるいは溶融ガラスの粘
度調節(温度管理)といった条件を一定としなれば、都
度、異なる厚さのガラス基板が成形されるといった問題
も生ずる。
Further, the working environment, that is, the amount of molten glass dripped or extruded, the timing of cutting molten glass to be dropped, or the like, so that molten glass is always supplied to the press die by a certain amount. If the conditions such as viscosity control (temperature control) are not constant, there arises a problem that a glass substrate having a different thickness is formed each time.

【0010】 ここで、シャーにより切断され、プレス
下型上に滴下等された溶融ガラスは一般的に「ゴブ」と
呼ばれ、プレス下型に滴下等するまでの間、およびプレ
ス下型に滴下されてから実際にプレス成形されるまでの
間の温度低下によって粘度が上昇し、プレス成形時に必
要とされる十分な流動性を得ることができなくなる場合
がある。この場合、たとえゴブの体積が所定量とされて
いても、所定の厚みまでプレスすることができなくなり
所定の外径を得ることが困難となる問題が生ずる。
Here, the molten glass cut by the shear and dropped on the lower press die is generally called “gob”, and is dropped onto the lower press die and on the lower press die. In some cases, the viscosity increases due to a decrease in the temperature from the time when the molding is performed to the time when the molding is actually performed, and the sufficient fluidity required at the time of the press molding cannot be obtained. In this case, even if the volume of the gob is a predetermined amount, there is a problem that it is not possible to press to a predetermined thickness and it is difficult to obtain a predetermined outer diameter.

【0011】 これらガラス基板を所定形状に成形する
上での問題に対し、図10に示したように、溶融ガラス
52をシャー53で切断するガラス基板の作製方法にあ
っては、シャー53が接する溶融ガラス52表面あるい
は内部に、急冷による収縮跡、傷、泡等のいわゆるシャ
ーマークと呼ばれる欠陥を生ずるといった品質的な問題
がある。
In order to solve the problem of forming these glass substrates into a predetermined shape, as shown in FIG. 10, in a method of manufacturing a glass substrate in which a molten glass 52 is cut by a shear 53, the shear 53 comes into contact with the glass substrate. There is a quality problem in that defects called so-called "shear marks" such as shrinkage marks, scratches, and bubbles due to rapid cooling occur on the surface or inside of the molten glass 52.

【0012】 このような問題点に対し、シャーマーク
の発生を抑制した、特にレンズを主としたガラス素子の
作製方法が、特開昭61−146721号公報や特開平
2−34525号公報および特開平6−48746号公
報等に開示されている。
In order to solve such a problem, a method of manufacturing a glass element which suppresses the generation of shear marks, particularly, mainly a lens, is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 61-146721 and 2-34525. It is disclosed in, for example, JP-A-6-48746.

【0013】 しかしながら、これらに開示されたガラ
ス素子の製造方法は、シャーを用いずに溶融ガラスの滴
下条件や滴下方法を検討してなされたものであるため、
溶融ガラスの粘度調節や滴下条件をガラスの材質ごとに
適宜好適な値に設定しなければならない点で汎用性に欠
け、また、ゴブの表面張力を一定とする温度条件に設定
しなければ所定形状のガラス素子が得られ難い点で、製
造条件の厳密な管理が要求される方法と考えることがで
きる。
However, the methods for manufacturing glass elements disclosed in these publications have been made by examining the conditions and method of dripping molten glass without using a shear.
It lacks versatility in that the viscosity adjustment and dripping conditions of the molten glass must be set to appropriate values as appropriate for each glass material, and a predetermined shape unless the temperature conditions are set to keep the gob surface tension constant. It can be considered that this method requires strict control of the manufacturing conditions in that it is difficult to obtain the glass element.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】 本発明は上述した従来
技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的と
するところは、汎用性があり、しかも簡便な方法によっ
てシャーマークを消失させた品質的に良好なガラス基板
を提供し、かつガラス基板の作製工程を短縮することに
ある。
Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a versatile and simple method for eliminating a shear mark. Another object of the present invention is to provide a high quality glass substrate and shorten the manufacturing process of the glass substrate.

【0015】 すなわち、本発明によれば、溶融ガラス
を所定形状にプレス成形する工程を含むガラス基板の作
製方法であって、プレス下型に滴下され、もしくは押し
出された溶融ガラスを加熱し、その後にプレス上下型に
よりプレス成形を行うことを特徴とするガラス基板の作
製方法、が提供される。
That is, according to the present invention, there is provided a method for producing a glass substrate including a step of press-molding molten glass into a predetermined shape, wherein the molten glass dropped or extruded onto a lower press die is heated, and And a method of manufacturing a glass substrate, wherein press molding is performed by a press upper and lower mold.

【0016】 本発明のガラス基板の作製方法において
は、プレス上下型として、溶融ガラスを介せず、直接に
合わせられる接触部を有するものが好適に用いられ、さ
らに、溶融ガラスの余剰体積部を、溶融ガラスの外周部
に押し出すための空間部が形成されているものが好適に
用いられる。そして、このようなプレス上下型を用いて
成形されるガラス基板には、ガラス基板における内孔部
および/または外周部と本体部との境界部に、チャンフ
ァーを形成することが好ましい。
In the method for producing a glass substrate of the present invention, a press upper and lower mold having a contact portion that can be directly fitted without using a molten glass is preferably used. It is preferable to use one in which a space for extruding the molten glass is formed in the outer peripheral portion. And it is preferable to form a chamfer in the glass substrate formed using such a press upper and lower mold at a boundary portion between the inner hole portion and / or the outer peripheral portion and the main body portion in the glass substrate.

【0017】 また、ガラス基板における内孔部および
/または外周部の厚さを本体部よりも薄くした台形形状
とすることも好ましく、内孔部および/または外周部と
本体部との境界にノッチを入れた楔形状とすることもま
た好ましい。ここで、ノッチの形状としては、V字型が
好適に採用され、このノッチに熱衝撃を加えることによ
り、ノッチにおいて内孔部および/または外周部を、本
体部から離隔する手段が好適に採られる。なお、ガラス
基板としては、SiO2−Al23−Li2O系の結晶化
ガラスを用が好適に用いられる。
It is also preferable that the glass substrate has a trapezoidal shape in which the thickness of the inner hole portion and / or the outer peripheral portion is smaller than that of the main body portion, and a notch is formed at the boundary between the inner hole portion and / or the outer peripheral portion and the main body portion. It is also preferable to use a wedge shape in which is inserted. Here, as the shape of the notch, a V-shape is preferably adopted, and means for separating the inner hole and / or the outer peripheral portion from the main body at the notch by applying a thermal shock to the notch is preferably adopted. Can be In addition, as the glass substrate, a SiO 2 —Al 2 O 3 —Li 2 O-based crystallized glass is preferably used.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】 上述の通り、本発明のガラス基
板の作製方法によれば、簡便な方法により、ゴブにおけ
るシャーマークを消失させて均質化を図るとともに、ゴ
ブがプレス時に適度な流動性を有するようになるため、
確実に所定の厚みに、ゴブをプレス成形することが可能
となる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION As described above, according to the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, the shearing mark on the gob is eliminated by a simple method to achieve homogenization, and the gob has a suitable fluidity at the time of pressing. To have
It is possible to reliably press-mold the gob to a predetermined thickness.

【0019】 以下、本発明の実施の形態について、ハ
ードディスク用等のガラス基板として用いられる平板リ
ング状の形状を有するガラス基板の作製方法を主な例と
して説明するが、本発明のガラス基板の作製方法は、上
述して例示したハードディスク用ガラス基板の作製に限
定して用いられるものではなく、その他種々のガラス基
板の作製に用いることができる。したがって、本発明が
以下の実施の形態に限定されるものでないことは言うま
でもない。
Hereinafter, a method for manufacturing a glass substrate having a flat ring shape used as a glass substrate for a hard disk or the like will be described with reference to an embodiment of the present invention. The method is not limited to the production of the glass substrate for a hard disk exemplified above, but can be used for the production of various other glass substrates. Therefore, it goes without saying that the present invention is not limited to the following embodiments.

【0020】 図1は、本発明のガラス基板の作製方法
におけるガラス基板の成形方法を示す説明図である。ま
ず最初に、溶融ガラス2をノズル4からプレス下型1A
へ向かって押し出しまたは滴下し、一定量が供給される
ようにシャー3により溶融ガラス2を切断して、ゴブ5
を形成する。このとき、ゴブ5にはシャーマーク6と呼
ばれるシャー3による切断跡が形成される。
FIG. 1 is an explanatory view showing a method for forming a glass substrate in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention. First, a molten glass 2 is pressed from a nozzle 4 into a press lower mold 1A.
And the molten glass 2 is cut by the shear 3 so that a given amount is supplied.
To form At this time, a cut mark by the shear 3 called a shear mark 6 is formed on the gob 5.

【0021】 次いで、ゴブ5をシャーマーク6が消失
し、かつ、ゴブ5全体が略平坦な形状となる程度にまで
加熱し、適切な粘度と流動性を有する状態とした後に、
プレス上型1Bをプレス下型1Aに押し当ててプレス
し、所定形状のガラス基板11を作製する。こうしてプ
レス成形されたガラス基板11については、次工程にお
いて、内外径加工を行うことが好ましいが、内外径加工
を行わずに、リヒートプレス工程もしくは徐冷工程等の
後工程へ送られる場合もある。
Next, the gob 5 is heated to such a degree that the shear mark 6 disappears and the entire gob 5 has a substantially flat shape, so that the gob 5 has a proper viscosity and fluidity.
The upper press die 1B is pressed against the lower press die 1A and pressed to produce a glass substrate 11 having a predetermined shape. In the next step, it is preferable to perform the inner and outer diameter processing on the glass substrate 11 thus press-formed. However, the glass substrate 11 may be sent to a subsequent step such as a reheat press step or a slow cooling step without performing the inner and outer diameter processing. .

【0022】 このように、本発明のガラス基板の作製
方法は、溶融ガラスを所定形状にプレス成形する工程を
含むガラス基板の作製方法であって、プレス下型に滴下
され、もしくは押し出された溶融ガラスを加熱しなが
ら、もしくは加熱後にプレス上下型によりプレス成形を
行うものである。以下、これらの各工程について詳述す
る。
As described above, the method for producing a glass substrate of the present invention is a method for producing a glass substrate including the step of press-molding molten glass into a predetermined shape. Press molding is performed with a press upper and lower mold while heating or after heating the glass. Hereinafter, each of these steps will be described in detail.

【0023】 まず、溶融ガラス2の作製にあっては、
所定の原料粉末を所定組成に調合・混合したもの、ある
いは予め合成されたガラスの粉末やペレット等が、溶融
原料として好適に用いられる。さらに、後加工工程にお
いて一旦成形されたガラス基板から離隔された内孔部や
外周部といった不要部の回収が容易であることから、こ
れらを再利用することも可能である。なお、使用される
ガラスの種類や組成に特に限定はないが、たとえば、ハ
ードディスク用ガラス基板としては、SiO2−Al2
3−Li2O系の結晶化ガラスが好適に用いられる。
First, in producing the molten glass 2,
A mixture of predetermined raw material powders having a predetermined composition, or a pre-synthesized glass powder or pellets is suitably used as a molten raw material. Further, since unnecessary portions such as an inner hole portion and an outer peripheral portion which are separated from the glass substrate once formed in the post-processing step can be easily collected, these can be reused. The type and composition of the glass used are not particularly limited. For example, as a glass substrate for a hard disk, SiO 2 —Al 2 O
A 3- Li 2 O-based crystallized glass is preferably used.

【0024】 溶融ガラス2は、ノズル4から押し出さ
れるかもしくは滴下されるようにしてプレス用下型1A
へと供給される。ここで、プレス下型1Aは、溶融ガラ
ス2の急速な冷却・固化、およびこれに伴う大きな熱応
力の発生を防止するために、溶融ガラス2のガラス転移
点等を考慮して、適度な温度に予熱・保持されているこ
とが好ましい。
The molten glass 2 is extruded or dropped from the nozzle 4 so that the lower die 1A for pressing is pressed.
Supplied to. Here, in order to prevent the rapid cooling and solidification of the molten glass 2 and the occurrence of a large thermal stress due to the rapid cooling and solidification of the molten glass 2, the pressing lower mold 1A takes an appropriate temperature in consideration of the glass transition point of the molten glass 2 and the like. Is preferably preheated and held.

【0025】 一定量の溶融ガラス2がプレス下型1A
に供給されるようにシャー3で溶融ガラス2を切断し、
ゴブ5を形成する。このときのゴブ5は、シャー3との
温度差によって切断された部分が冷却され、また、ゴブ
5は大気に触れるために、その表面温度が内部温度より
も低くなって粘度が上昇する。そして、粘度の高くなっ
た外表面部が粘度の低い内部に落ち込もうとするときに
気泡を巻き込む場合があり、これにより、ゴブ5には、
シャーマーク6と呼ばれる収縮跡や泡、傷といた欠陥が
生ずる。
A certain amount of molten glass 2 is pressed into a lower mold 1A.
The molten glass 2 is cut by the shear 3 so as to be supplied to
A gob 5 is formed. At this time, the cut portion of the gob 5 is cooled by the temperature difference from the shear 3, and the gob 5 comes into contact with the atmosphere, so that the surface temperature becomes lower than the internal temperature and the viscosity increases. Then, when the outer surface portion having a higher viscosity tries to fall into the interior having a lower viscosity, bubbles may be trapped therein.
Defects such as shrink marks, bubbles and scratches, which are referred to as shear marks 6, occur.

【0026】 このシャーマーク6を残したまま、プレ
ス成形を行うと、成形されたガラス基板にシャーマーク
6の跡が残り、また、部分的な厚み斑を生ずる場合があ
る。したがって、このような種々の欠陥を製品たるサブ
ストレートに残さないためには、十分な厚み研磨(ラッ
ピング)を行わなければならず、従来のガラス基板の作
製方法と同様に、加工工程に大きな労力を払わねばなら
なくなる。
If press molding is performed with the shear mark 6 left, traces of the shear mark 6 may remain on the formed glass substrate, and partial thickness unevenness may occur. Therefore, in order to prevent such various defects from remaining on the substrate, which is a product, sufficient polishing (lapping) must be performed. As in the conventional method for manufacturing a glass substrate, a large amount of labor is required for the processing step. Must be paid.

【0027】 また、ゴブ5の粘度が上昇した状態でプ
レス成形を行うと、十分な流動性が確保されずに、所定
厚みまでプレス成形することができなくなる。この場合
にも、上述したシャーマーク6の跡の除去同様に、十分
な厚み研磨を行わなければならない問題がある。したが
って、プレス成形前に、シャーマーク6を消失させ、か
つ、ゴブ5の流動性を適切な値にまで低下させる必要が
ある。
Further, if press molding is performed in a state where the viscosity of the gob 5 is increased, sufficient fluidity is not ensured and press molding to a predetermined thickness cannot be performed. In this case as well, there is a problem that sufficient thickness polishing must be performed as in the case of removing the trace of the shear mark 6 described above. Therefore, it is necessary to remove the shear mark 6 and reduce the fluidity of the gob 5 to an appropriate value before press molding.

【0028】 そこで、本発明においては、ゴブ5をプ
レス成形する前に、プレス下型1A上において、ゴブ5
を加熱し、ゴブ5全体が表面張力によって略平坦な形状
となる程度にまで加熱し、適切な粘度と流動性を有する
状態とする。ここで、ゴブ5の加熱方法としては、アセ
チレンバーナー等の火炎による加熱、高周波誘導加熱、
近赤外線加熱、電気ヒーターによる加熱等の種々の方法
を代表的なものとして挙げることができる。
Therefore, in the present invention, before the gob 5 is press-formed, the gob 5 is placed on the press lower mold 1A.
Is heated to such an extent that the entire gob 5 has a substantially flat shape due to the surface tension, so that the gob 5 has a proper viscosity and fluidity. Here, the method of heating the gob 5 includes heating with a flame such as an acetylene burner, high-frequency induction heating,
Various methods such as near-infrared heating and heating with an electric heater can be mentioned as typical examples.

【0029】 加熱されるゴブ5の粘度は、105ポイ
ズ程度以下とすることが好ましいが、プレス上型1Bを
プレス下型1Aに押し当てたときに、プレス上型1Bの
プレス面がゴブ5に接触しないような低粘度の状態にま
で加熱、溶融することは避けなければならない。
The viscosity of the heated gob 5 is preferably about 10 5 poise or less, but when the upper press mold 1B is pressed against the lower press mold 1A, the press surface of the upper press mold 1B is Heating and melting to a low viscosity state that does not contact with water must be avoided.

【0030】 こうして、加熱によりシャーマーク6が
消失し、適切な粘度に維持されたゴブ5は、プレス用下
型1Aと同等の温度に予熱されたプレス用上型1Bとプ
レス用下型1Aによりプレス成形され、ガラス基板11
となる。
In this way, the shear mark 6 disappears by heating, and the gob 5 maintained at an appropriate viscosity is formed by the press upper die 1B and the press lower die 1A preheated to the same temperature as the press lower die 1A. Press molded glass substrate 11
Becomes

【0031】 なお、このような一連の工程を行う方法
としては、溶融ガラス2をシャー3により切断してゴブ
5を形成した位置において、ゴブ5を加熱し、所定の粘
度および形状とした後に、プレス下型1Aをプレス上型
1Bが設置された位置まで移動させ、ゴブ5が所定の粘
度および形状に維持された状態で、プレス上下型1A・
1Bにより所定形状にプレス成形する方法がある。ま
た、ゴブ5を形成した後に、ゴブ5の加熱を行う所定位
置にまでプレス下型1Aとともにゴブ5を移動させて加
熱し、所定の粘度および形状とした後に、プレス下型1
Aをプレス上型1Bが設置された位置まで移動させ、プ
レス上下型1A・1Bにより所定形状にプレス成形する
方法も好適に採用される。
As a method of performing such a series of steps, at a position where the molten glass 2 is cut by the shear 3 to form the gob 5, the gob 5 is heated to have a predetermined viscosity and shape. The lower press die 1A is moved to a position where the upper press die 1B is set, and the press upper die 1A.
There is a method of press molding into a predetermined shape according to 1B. After the gob 5 is formed, the gob 5 is moved together with the press lower die 1A to a predetermined position where the gob 5 is heated and heated to have a predetermined viscosity and shape.
A method in which A is moved to a position where the upper press die 1B is installed, and press-formed into a predetermined shape by the press upper and lower dies 1A and 1B is also suitably adopted.

【0032】 さらに、ゴブ5を形成した位置において
ゴブ5を加熱し、所定の粘度および形状とした後に、プ
レス下型1Aをプレス上型1Bが設置された位置まで移
動させ、この位置においてもゴブ5を加熱して、プレス
上下型1A・1Bによりプレス成形する、といった2ヶ
所で加熱を行う方法もある。
Further, after the gob 5 is heated at a position where the gob 5 is formed to have a predetermined viscosity and shape, the lower press die 1A is moved to a position where the upper press die 1B is installed. There is also a method of heating at two places, for example, heating 5 and press-molding with press upper and lower dies 1A and 1B.

【0033】 このように、ゴブ5の加熱は、ゴブ5が
形成された後プレス成形前のどの段階で行ってもよい
が、プレス成形は、ゴブ5の加熱が終了した時点から長
い時間をかけることなく、ゴブ5全体の粘度が一定の状
態に維持されている状態で行われることが好ましい。し
たがって、ゴブ5が形成された後、プレス上型をプレス
下型に押し当てるまで、ゴブ5を加熱し続けてもよい。
As described above, the heating of the gob 5 may be performed at any stage after the formation of the gob 5 and before the press molding, but the pressing takes a long time from the time when the heating of the gob 5 is completed. It is preferable that the process be performed in a state where the viscosity of the entire gob 5 is maintained at a constant level. Therefore, after the gob 5 is formed, the gob 5 may be continuously heated until the upper press die is pressed against the lower press die.

【0034】 なお、ガラス基板11の形状は、後工程
である内外径加工の方法等を考慮して決定されるが、特
に好適な形状として、図2のガラス基板11の径方向の
断面図に示すような、台形形状および楔形状が挙げられ
る。これらいずれの形状のガラス基板11も、最終的な
ガラス基板となるべき本体部11Aと、供給された溶融
ガラス2のうち、余剰に供給されたガラスが外周に押し
出されて形成された外周部11Cとからなり、平板リン
グ状等の内孔を有する形状のガラス基板を作製する場合
には、内孔部11Bをガラス基板11に設けることが好
ましい。
The shape of the glass substrate 11 is determined in consideration of a method of processing the inner and outer diameters in a later step, and the like. As a particularly preferable shape, the shape of the glass substrate 11 shown in FIG. Trapezoidal shapes and wedge shapes as shown. The glass substrate 11 having any of these shapes has a main body 11A to be a final glass substrate and an outer peripheral portion 11C formed by extruding surplus glass out of the supplied molten glass 2 to the outer periphery. When a glass substrate having an inner hole such as a flat ring shape is manufactured, it is preferable to provide the inner hole portion 11 </ b> B in the glass substrate 11.

【0035】 図2(a)の台形形状は、内孔を形成す
る平板リング状のガラス基板の作製に好適な形状の一実
施形態であり、内孔部11Bおよび外周部11Cは、後
工程における本体部11Aからの離隔を容易ならしめる
ために、本体部11Aよりも薄くなるように設定され、
本体部11Aの内孔部11Bおよび外周部11C側の部
分に、斜面状の勾配部14が形成されている。また、図
2(b)の楔形状においては、内孔部11Bおよび/ま
たは外周部11Cと本体部11Aとの境界部にノッチ1
3が形成されており、後述するように、このノッチ13
に熱衝撃を加えることによって、容易にノッチ13の部
分において、内孔部11Bと外周部11Cを本体部11
Aから離隔することができる。
The trapezoidal shape shown in FIG. 2A is an embodiment suitable for manufacturing a flat ring-shaped glass substrate having an inner hole. The inner hole portion 11B and the outer peripheral portion 11C are formed in a later step. In order to facilitate separation from the main body 11A, it is set to be thinner than the main body 11A,
A slope 14 is formed in a portion of the main body 11A on the side of the inner hole 11B and the outer periphery 11C. In the wedge shape of FIG. 2B, a notch 1 is formed at a boundary between the inner hole 11B and / or the outer peripheral portion 11C and the main body 11A.
3 are formed, and the notch 13 is formed as described later.
By applying a thermal shock to the main body 11, the inner hole 11 </ b> B and the outer
A.

【0036】 なお、図2(a)に例示した台形形状の
ガラス基板11においては、勾配部14が後述するチャ
ンファー16、すなわち、面取り部となるように設計さ
れていることが好ましい。また、図2(b)の楔形状の
ガラス基板11にあっては、ノッチ13がチャンファー
16を兼ねていることが好ましい。このようなチャンフ
ァー16は、製品たるサブストレートの欠けを防止し、
機械的な強度を保つ意味で重要であるが、本発明におい
ては、従来技術によるガラス基板の作製方法において必
要不可欠とされるチャンファー加工工程を省略して加工
工程を短縮する意味での重要度が非常に高い。
In the trapezoidal glass substrate 11 illustrated in FIG. 2A, it is preferable that the inclined portion 14 is designed to be a chamfer 16, which will be described later, that is, a chamfered portion. In the wedge-shaped glass substrate 11 shown in FIG. 2B, it is preferable that the notch 13 also serves as the chamfer 16. Such a chamfer 16 prevents chipping of a product substrate,
Although important in maintaining the mechanical strength, in the present invention, the importance in terms of shortening the processing step by omitting the chamfer processing step which is indispensable in the method of manufacturing a glass substrate according to the prior art is omitted. Is very high.

【0037】 ゴブ5を、これら種々の形状に成形する
ために用いられるプレス上下型1A・1Bの具体例とし
ては、図3(a)、(b)に示されるような、それぞれ
図2(a)、(b)に示した各形状と相補する形状をプ
レス面に有する台形型19A・19Bおよび楔型20A
・20Bを挙げることができる。
As specific examples of the press upper and lower dies 1A and 1B used to form the gob 5 into these various shapes, as shown in FIGS. 3A and 3B, respectively. ), Trapezoidal dies 19A and 19B and a wedge 20A having shapes complementary to the shapes shown in FIG.
20B.

【0038】 したがって、台形型19A・19Bのプ
レス面は、図3(a)に示されるように、ガラス基板1
1の本体部11Aを形成するための深い溝部21と、内
孔部11Bおよび外周部11Cを形成するための浅い溝
部22、および内孔部11Bおよび外周部11Cと本体
部11Aとの間に形成されるチャンファー16を形成す
るための斜面部23を有する。また、楔型20A・20
Bのプレス面は、図3(b)に示すように、楔形状のガ
ラス基板11における本体部11Aと内孔部11Bおよ
び外周部11Cを形成するための深い溝部24と、ノッ
チ13を形成するためのV字凸部25を有する。
Therefore, as shown in FIG. 3A, the pressing surfaces of the trapezoid dies 19A and 19B are
1, a deep groove 21 for forming the main body 11A, a shallow groove 22 for forming the inner hole 11B and the outer periphery 11C, and a space between the inner hole 11B and the outer periphery 11C and the main body 11A. A chamfer 16 to be formed. In addition, wedge type 20A
As shown in FIG. 3B, the pressed surface of B forms a deep groove 24 for forming the main body 11A, the inner hole 11B and the outer periphery 11C, and the notch 13 in the wedge-shaped glass substrate 11. V-shaped convex portion 25 for use.

【0039】 上記台形型19A・19Bおよび楔型2
0A・20Bといったプレス上下型にあっては、図3
(a)、(b)に示されるように、上下の各型が互いに
直接に接する接触部26を有することで、常に一定厚み
のガラス基板11を作製することができるようになって
いる。また、ゴブ5の余剰体積部、すなわち、本体部1
1Aの形成に不要な余剰なガラスは、空間部27に押し
出されて外周部11Cとなるが、このとき、接触部26
にまでゴブ5の余剰体積部が浸入しないように、空間部
27は完全に充填されずに、ある程度の空間が残る大き
さに設定されていることが好ましい。
The trapezoid molds 19A and 19B and the wedge mold 2
For the upper and lower press dies such as 0A and 20B, FIG.
As shown in (a) and (b), since the upper and lower molds have the contact portions 26 that are in direct contact with each other, the glass substrate 11 having a constant thickness can always be manufactured. The surplus volume of the gob 5, that is, the main body 1
Excess glass unnecessary for forming 1A is extruded into the space portion 27 to become the outer peripheral portion 11C.
In order to prevent the surplus volume of the gob 5 from entering the space, it is preferable that the space 27 is not completely filled and is set to have a size in which a certain amount of space remains.

【0040】 なお、楔型20A・20Bを用いた場合
には、ガラス基板11の両面に形成される対向するノッ
チ13の底部間の間隔が一定となるように加工精度が保
たれることから、後述するチルカットによる内外径加工
を行った場合にも、加工形状をほぼ一定に制御すること
が可能となる。
In the case where the wedge shapes 20A and 20B are used, the processing accuracy is maintained so that the interval between the bottoms of the opposing notches 13 formed on both surfaces of the glass substrate 11 is constant. Even when the inner and outer diameters are processed by chill cutting, which will be described later, the processed shape can be controlled to be substantially constant.

【0041】 これら各種のプレス上下型に設けられた
接触部26および空間部27は、後述するガラス基板1
1を再加熱しながらプレス成形して形状の修正を行うリ
ヒートプレス用の上下型にも好適に形成される。また、
プレス上下型には、熱伝導性が良好な炭化タングステン
や金属炭化物もしくは金属窒化物等のセラミック製のも
のが好適に用いられ、このような材料はまた、リヒート
プレス上下型についても同様に用いられる。
The contact portions 26 and the space portions 27 provided on these various press upper and lower dies are used for the glass substrate 1 described later.
The upper and lower dies for reheat press, in which the shape is corrected by press-forming while reheating 1, are also suitably formed. Also,
For the press upper and lower molds, those made of ceramics such as tungsten carbide or metal carbide or metal nitride having good thermal conductivity are preferably used, and such materials are also used for the reheat press upper and lower molds similarly. .

【0042】 上述した条件を満たす工程を経て得られ
たガラス基板11は、シャーマーク6が消失して品質が
均質化されているのみならず、厚みが一定で、しかも、
厚み研磨深さの浅いという特徴を有する。
The glass substrate 11 obtained through the process that satisfies the above-described conditions has not only a uniform quality due to the disappearance of the shear mark 6, but also a uniform thickness,
The feature is that the polishing depth is shallow.

【0043】 なお、ガラス基板11の形状は、上述し
た台形形状および楔形状に限定されるものではなく、一
方の面を台形形状とし、他方の面を楔形状に成形しても
構わない。この場合に、上型と下型とでいずれの形状の
型を用いるかについての制限はない。また、ガラス基板
を、台形形状のガラス基板11の内周部11Bおよび外
周部11Cの本体部11A側の境界部に、ノッチ13を
形成するような台形楔形状としてもよい。このような台
形楔形状のガラス基板を成形するに用いられるプレス上
下型のプレス面の形状が、ガラス基板の表面形状に相補
するものであることは言うまでもない。
The shape of the glass substrate 11 is not limited to the trapezoidal shape and the wedge shape described above, and one surface may be formed into a trapezoidal shape and the other surface may be formed into a wedge shape. In this case, there is no restriction as to which shape of the upper die and the lower die to use. Further, the glass substrate may have a trapezoidal wedge shape such that a notch 13 is formed at the boundary between the inner peripheral portion 11B and the outer peripheral portion 11C of the glass substrate 11 on the main body 11A side. It goes without saying that the shape of the press surface of the press upper and lower dies used for molding such a trapezoidal wedge-shaped glass substrate is complementary to the surface shape of the glass substrate.

【0044】 次に、こうして作製されたガラス基板1
1の後加工工程について説明する。図4に示すように、
後加工の順序は、ガラス基板11の内外径加工を施した
後に、リヒートプレスと呼ばれる形状の修正を行うプレ
ス加工を行い、次いで徐冷し、さらに結晶化処理を行う
方法と、ガラス基板11をリヒートプレスして形状の修
正を行った後に徐冷し、内外径加工を施して結晶化させ
る方法、とに大別される。さらに、ガラス基板11をリ
ヒートプレスにより形状修正を行い、その後に結晶化処
理を行い、次いで、内外径加工を施す方法もあるが、一
旦、結晶化させてしまうとガラス基板の強度が大きくな
るので、研削による内外径加工を行う場合には、研削砥
石への負荷が大きくなる点で不利となる。
Next, the glass substrate 1 thus manufactured
1 post-processing step will be described. As shown in FIG.
The order of the post-processing is such that after the inner and outer diameters of the glass substrate 11 are processed, a press process called a reheat press for correcting the shape is performed, and then the glass substrate 11 is cooled slowly, and further subjected to a crystallization process. The method is roughly divided into a method of performing reheat pressing, correcting the shape, then gradually cooling, processing the inner and outer diameters, and crystallizing. Further, there is a method of correcting the shape of the glass substrate 11 by reheat pressing, performing a crystallization treatment, and then performing inner and outer diameter processing. However, once the crystallization is performed, the strength of the glass substrate becomes large. However, when the inner and outer diameters are processed by grinding, it is disadvantageous in that the load on the grinding wheel is increased.

【0045】 これらのうち、いずれの後工程を採用し
た場合であっても、その順序が異なるのみで、各加工工
程における加工方法は同等である。そこで、まず、内外
径加工の方法について説明する。図2(a)に示した台
形形状のガラス基板11の内外径加工は、図5に示すよ
うに、内外径同芯カップ砥石41(以下、単に「カップ
砥石41」という。)を用いて加工することが好まし
い。カップ砥石41は、内径砥石41Aと外径砥石41
Bとが、同芯円状に配置されて形成され、カップ砥石4
1を回転させながらガラス基板11に押し当てること
で、ガラス基板11における内孔部11Bおよび外周部
11Cが、本体部11Aから切断される。
Regardless of which post-process is adopted, only the order is different, and the working method in each working process is the same. Therefore, first, a method of processing the inner and outer diameters will be described. The inner and outer diameters of the trapezoidal glass substrate 11 shown in FIG. 2A are processed using inner and outer diameter concentric cup grindstones 41 (hereinafter simply referred to as “cup grindstones 41”) as shown in FIG. Is preferred. The cup grindstone 41 includes an inner grindstone 41A and an outer grindstone 41.
B are formed so as to be concentrically arranged, and the cup grindstone 4
By pressing 1 against the glass substrate 11 while rotating, the inner hole portion 11B and the outer peripheral portion 11C of the glass substrate 11 are cut from the main body portion 11A.

【0046】 ここで、内孔部11Bおよび外周部11
Cは、本体部11Aよりも薄く成形されているので、平
坦な一枚板状のガラス基板を切断するよりも、切断代が
少ない分だけ加工時間が短縮され、また、カップ砥石4
1の摩耗も少なくなるので、全体として加工コストを抑
えることが可能となる。さらに、本体部11Aから離隔
された内孔部11Bと外周部11Cは、ガラスの塊の状
態で得られることから、これらを分離・洗浄することは
容易であり、したがって、ガラス基板を作製する際の溶
融原料として再利用することが可能である。
Here, the inner hole portion 11 B and the outer peripheral portion 11
Since C is formed thinner than the main body 11A, the processing time is shortened by a smaller cutting margin than when a single flat glass substrate is cut.
Since the wear of No. 1 is reduced, the processing cost can be reduced as a whole. Further, since the inner hole 11B and the outer periphery 11C separated from the main body 11A are obtained in a state of a lump of glass, it is easy to separate and wash them, and therefore, when manufacturing a glass substrate, It can be reused as a molten raw material.

【0047】 このようなカップ砥石41を用いる内外
径加工に対して、図2(b)に示した楔形状のガラス基
板11のようにノッチ13を形成したガラス基板11の
内外径加工を行う場合には、チルカットと呼ばれる、高
温に熱せられたガラス基板11のノッチ13の、特に、
ガラス基板11の厚みが最も薄くなっている底の部分に
冷却した金属等からなる治具を接触させ、そこに生じる
熱歪みを利用して、ノッチ13の形成位置において、ガ
ラス基板11を切断する方法が好適に用いられ、簡便
に、しかも短時間に加工を行うことができる。
When the inner and outer diameters of the glass substrate 11 on which the notch 13 is formed are performed as in the wedge-shaped glass substrate 11 shown in FIG. In the notch 13 of the glass substrate 11 heated to a high temperature called chill cut,
A jig made of a cooled metal or the like is brought into contact with the bottom portion where the thickness of the glass substrate 11 is the thinnest, and the glass substrate 11 is cut at the position where the notch 13 is formed by utilizing the thermal strain generated there. The method is suitably used, and processing can be performed simply and in a short time.

【0048】 また、チルカットは、ガラス基板11が
所定温度以上に加熱されている状態で行う必要がある
が、ゴブ5をプレス成形した直後のガラス基板11は、
低くとも、プレス上下型1A・1Bの予熱温度以上の高
温に保持されているため、あらためてガラス基板11を
加熱する必要はない。
The chill cut needs to be performed in a state where the glass substrate 11 is heated to a predetermined temperature or higher.
At least, the glass substrate 11 does not need to be heated again because it is maintained at a high temperature equal to or higher than the preheating temperature of the press upper and lower dies 1A and 1B.

【0049】 図6にチルカットの説明図を示す。ここ
で、ガラス基板11としては、台形楔形状のものを記し
ており、ガラス基板11に設けられたノッチ13に、冷
却された同心円の内径加工刃15Aと外径加工刃15B
を有する金属治具15を接触させて熱衝撃を加え、ノッ
チ13においてクラックを発生せしめて、内孔部11B
および外周部11Cを本体部11Aから切り離す。な
お、チルカットを良好に行うためのノッチ13の形状と
しては、図2(b)や図6に示したようなV字型が好適
に採用される。なお、図2(b)に示した楔形状のガラ
ス基板11における内外径加工にあっても、チルカット
が好適に用いられる。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the chill cut. Here, as the glass substrate 11, a trapezoidal wedge-shaped one is described, and a notch 13 provided on the glass substrate 11 is provided with a cooled concentric inner diameter processing blade 15A and an outer diameter processing blade 15B.
A metal jig 15 having a hole is brought into contact with the metal jig 15 to apply a thermal shock, thereby generating a crack in the notch 13, and
Then, the outer peripheral portion 11C is separated from the main body 11A. In addition, as a shape of the notch 13 for satisfactorily performing the chill cut, a V-shape as shown in FIG. 2B or FIG. 6 is suitably adopted. It should be noted that the chill cut is preferably used even when processing the inner and outer diameters of the wedge-shaped glass substrate 11 shown in FIG.

【0050】 上述した内外径加工を経て得られたガラ
ス基板11の本体部11Aは、図7(a)に示すよう
に、その内外周に勾配部14を残したガラス基板12と
なる。このような勾配部14は、最終的な製品であるサ
ブストレートの内外周に形成されるべきチャンファー1
6そのものとなるか、あるいは、次工程にリヒートプレ
スを行う場合には、チャンファー16の形成が容易なら
しめられる。
As shown in FIG. 7A, the main body 11 A of the glass substrate 11 obtained through the above-described inner / outer diameter processing becomes a glass substrate 12 having a gradient portion 14 on the inner and outer circumferences. Such a slope portion 14 is a chamfer 1 to be formed on the inner and outer peripheries of a substrate as a final product.
6 or when the reheat press is performed in the next step, the formation of the chamfer 16 is facilitated.

【0051】 続いて、リヒートプレスについて説明す
る。リヒートプレスは、ガラス基板11・12の厚みや
平面度、平行度といった寸法精度を高めるとともに、内
外径加工を行った後では、図7(a)に示したガラス基
板12における勾配部14を、図7(b)に示したチャ
ンファー16の形状に調整するようにガラス基板12を
変形させる工程である。一方、内外径加工を行わずに、
リヒートプレスを行う場合には、図2(a)のガラス基
板11における勾配部14や、図2(b)のガラス基板
11におけるノッチ13の勾配部14を、例えば、図7
(c)に示したチャンファー16の形状に調整するよう
に、ガラス基板11を変形させて、ガラス基板18を得
る工程である。
Next, the reheat press will be described. The reheat press improves the dimensional accuracy such as the thickness, flatness, and parallelism of the glass substrates 11 and 12, and after the inner and outer diameter processing is performed, the gradient portion 14 in the glass substrate 12 shown in FIG. This is a step of deforming the glass substrate 12 so as to adjust to the shape of the chamfer 16 shown in FIG. On the other hand, without performing inner and outer diameter machining,
When the reheat press is performed, the inclined portion 14 of the glass substrate 11 in FIG. 2A and the inclined portion 14 of the notch 13 in the glass substrate 11 of FIG.
This is a step of obtaining the glass substrate 18 by deforming the glass substrate 11 so as to adjust the shape of the chamfer 16 shown in FIG.

【0052】 したがって、リヒートプレスにおいて処
理されるべきガラス基板11・12は、リヒートプレス
時の圧力下で変形するように軟化する程度の高い温度に
加熱、維持される必要がある。このため、リヒートプレ
スは、所定温度に予熱されたリヒートプレス下型上に処
理すべきガラス基板11・12を載置し、その上から、
下型と同様に予熱されたリヒートプレス上型を押し当て
て行われる。
Therefore, the glass substrates 11 and 12 to be processed in the reheat press need to be heated and maintained at a temperature high enough to soften so as to be deformed under the pressure during the reheat press. For this reason, the reheat press puts the glass substrates 11 and 12 to be processed on the reheat press lower mold preheated to a predetermined temperature, and from there,
This is performed by pressing a preheated reheat press upper die similarly to the lower die.

【0053】 リヒートプレス上下型の具体例として
は、図8(a)〜(c)に示されるような台形型29A
・29Bや平板型30A・30Bあるいは楔形31A・
31B等を挙げることができる。ここで、図2(a)、
(b)に示されたガラス基板11に対しては、内外径加
工を施しているといないとにかかわらず、たとえば、勾
配部14やノッチ13が予めチャンファー16として形
成され、リヒートプレスによってこれらの形状が大きく
変化しない場合には、平板型30A・30Bが最も好適
に用いられる。すなわち、平板型30A・30Bは形状
の微調整を主目的として使用される。なお、この場合に
楔型31A・31Bあるいは台形型29A・29Bを用
いることもできる。
As a specific example of the reheat press upper and lower mold, a trapezoid mold 29A as shown in FIGS.
・ 29B, flat plate type 30A ・ 30B or wedge type 31A ・
31B and the like. Here, FIG.
Regarding the glass substrate 11 shown in (b), regardless of whether or not the inner and outer diameter processing is performed, for example, a slope portion 14 and a notch 13 are formed as a chamfer 16 in advance, and these are formed by a reheat press. When the shape does not change significantly, the flat plate types 30A and 30B are most preferably used. That is, the flat molds 30A and 30B are used mainly for fine adjustment of the shape. In this case, wedge shapes 31A and 31B or trapezoid shapes 29A and 29B can be used.

【0054】 これに対し、ガラス基板11をプレス成
形する際に、勾配部14やノッチ13をおおよその寸法
のチャンファーとして形成しておき、後にリヒートプレ
スによる形状修正を行って正確な寸法のチャンファー1
6を形成する場合や、リヒートプレスにより勾配部14
やノッチ13の形状が大きく変化する場合には、台形型
29A・29Bが最も好適に用いられ、また、楔型31
A・31Bを用いることもできる。
On the other hand, when press-molding the glass substrate 11, the slope portion 14 and the notch 13 are formed as a chamfer having an approximate size, and the shape of the chamfer having an accurate size is corrected by a reheat press later. Fur 1
6 or a reheat press to form the slope 14
When the shape of the notch 13 changes greatly, the trapezoidal dies 29A and 29B are most preferably used.
A.31B can also be used.

【0055】 さらに、ガラス基板11に内外径加工を
施した後に、リヒートプレスを行う場合であって、内外
径加工時に、加工跡にチッピングといった小さな欠け等
の欠陥が生じた場合には、台形型29A・29Bあるい
は楔型31A・31Bを用いることで、内外径加工跡の
欠陥を修復して、チャンファー16を再形成することが
できる。
Further, in a case where reheat pressing is performed after the inner and outer diameter processing is performed on the glass substrate 11 and a defect such as a small chipping such as chipping occurs in the processing trace during the inner and outer diameter processing, a trapezoidal shape is used. By using the 29A / 29B or the wedge-shaped 31A / 31B, the defect of the inner / outer diameter processing trace can be repaired, and the chamfer 16 can be formed again.

【0056】 このようなガラス基板11・12の変形
を行うため、台形型29A・29Bのプレス面は、ガラ
ス基板11・12の厚みや平面度を調整するための深い
溝部32と、勾配部14やノッチ13をチャンファー1
6に再成形するための斜面部33を有する。同様に、楔
形31A・31Bは、ガラス基板11・12の厚みや平
面度を調整するための深い溝部36と、勾配部14をチ
ャンファー16に再成形するための斜面部35を有す
る。
In order to perform such deformation of the glass substrates 11 and 12, the pressing surfaces of the trapezoid molds 29 A and 29 B are provided with a deep groove 32 for adjusting the thickness and flatness of the glass substrates 11 and 12, and a slope 14. And notch 13 for chamfer 1
6 has a slope portion 33 for reshaping. Similarly, the wedge shapes 31A and 31B have a deep groove portion 36 for adjusting the thickness and flatness of the glass substrates 11 and 12, and a slope portion 35 for reshaping the slope portion 14 into the chamfer 16.

【0057】 なお、内外径加工を行った後のガラス基
板12に対し、これら台形型29A・29Bあるいは楔
形31A・31Bを用いてリヒートプレスを行った場合
には、リヒートプレス後のガラス基板18には、図7
(b)に示すような膨らみ17が形成され、内外径が変
化する場合がある。しかし、その変化は、通常、大きな
ものではないために、後述する同芯度加工時に所定形状
へと容易に加工することができる。
When the glass substrate 12 after the inner and outer diameter processing is reheat-pressed using these trapezoidal dies 29A / 29B or wedge-shaped 31A / 31B, the glass substrate 18 after the reheat press is re-pressed. Figure 7
A bulge 17 as shown in FIG. 2B is formed, and the inner and outer diameters may change. However, since the change is usually not large, it can be easily processed into a predetermined shape at the time of concentricity processing described later.

【0058】 また、このような膨らみ17の発生がガ
ラス基板18の体積等から予測できるような場合には、
前加工工程であるゴブ5のプレス成形においては、この
膨らみ17を考慮した位置にノッチ13もしくは勾配部
14を形成しておくことが好ましく、また、内外径加工
においては、この膨らみ17を考慮して内外径加工位置
を決定することが好ましい。
When the occurrence of the bulge 17 can be predicted from the volume of the glass substrate 18 or the like,
In the press forming of the gob 5 which is the pre-processing step, it is preferable to form the notch 13 or the slope portion 14 at a position in which the bulge 17 is taken into consideration. It is preferable to determine the inner and outer diameter machining positions.

【0059】 一方、平板型30A・30Bのプレス面
は、深い溝部34を有するのみであるが、特に、図7
(a)に示した内外径加工が施されたガラス基板12を
リヒートプレスに用いると、ガラス基板12において、
内径加工跡の近傍は中心部へ向かって膨らみ、外径加工
跡の近傍は外周部へ膨らむように変形が容易に起こるた
め、平面度と平行度の寸法精度を他の形状の型よりも高
めることができる特徴を有する。なお、上述した通り、
平板型30A・30Bは、形状の微調整に用いられるこ
とから、加工された内外径の形状が大きく変形すること
はなく、後述する同芯度加工において、容易に、所定形
状に加工される。
On the other hand, the press surfaces of the flat plate dies 30 A and 30 B have only the deep groove portions 34, but in particular, FIG.
When the glass substrate 12 subjected to the inner and outer diameter processing shown in FIG.
Deformation easily occurs so that the area near the inner diameter processing mark swells toward the center and the area near the outer diameter processing mark swells toward the outer circumference, so that the dimensional accuracy of flatness and parallelism is improved compared to other shapes. Features that can be. As mentioned above,
Since the flat molds 30A and 30B are used for fine adjustment of the shape, the processed inner and outer diameter shapes are not greatly deformed, and are easily formed into a predetermined shape in concentricity processing described later.

【0060】 上述の通り、内外径加工を施したガラス
基板12の内外径が、リヒートプレスにより変化して
も、その変化に伴う形状の補正処理を行うことは、リヒ
ートプレスを行わずにガラス基板12の厚みや平面度の
補正をラッピング等の研磨により行う処理工程に比し
て、後工程と同時に行うことができる点、および加工が
容易でしかも短時間に行うことができる点において有利
である。
As described above, even if the inner and outer diameters of the glass substrate 12 subjected to the inner and outer diameter processing are changed by the reheat press, the shape correction processing accompanying the change is performed by the glass substrate without performing the reheat press. Compared to a processing step in which the thickness and flatness of 12 are corrected by polishing such as lapping, they are advantageous in that they can be performed simultaneously with the subsequent steps, and that they can be processed easily and in a short time. .

【0061】 さらに、本発明のガラス基板の作製方法
にあっては、従来のガラス基板の作製方法に別途、必要
不可欠であったチャンファー加工工程が、内外径加工と
リヒートプレスの順序にかかわらず、ゴブ5のプレス成
形時および内外径加工時に同時に行われるため、別途、
チャンファー加工工程を行う必要がない点で、加工設備
や加工時間といった加工工程上、有利である。
Further, in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, the chamfering step, which is indispensable separately from the conventional method for manufacturing a glass substrate, is performed irrespective of the order of inner and outer diameter processing and reheat pressing. Since it is performed simultaneously during press forming and inner and outer diameter processing of the gob 5,
This is advantageous in terms of processing steps such as processing equipment and processing time in that there is no need to perform a chamfering step.

【0062】 こうして、内外径加工とリヒートプレス
の両加工を終了したガラス基板は、徐冷工程へと送られ
るが、ガラス基板が結晶化ガラスである場合には、徐冷
工程を経ることなく、引き続いて結晶化処理を行うこと
ができる。なお、この結晶化処理は、リヒートプレス後
に徐冷処理されたものを再加熱して行ってもよい。
In this way, the glass substrate that has been subjected to both the inner and outer diameter processing and the reheat press processing is sent to the slow cooling step. However, when the glass substrate is crystallized glass, the glass substrate does not pass through the slow cooling step. Subsequently, a crystallization treatment can be performed. This crystallization treatment may be performed by reheating the material that has been gradually cooled after the reheat press.

【0063】 この結晶化処理によって、ガラス基板に
は若干の体積変化が生ずることから、この体積変化によ
って次工程である最終的なガラス基板の内外径の同芯度
加工(以下、「同芯度加工」という。)における加工代
が多くならないように、内外径加工位置を、リヒートプ
レスにおけるガラス基板11・12の変形をも考慮して
設定しておくことが好ましい。一方、ガラス基板の材料
が結晶化処理を必要としないものの場合には、リヒート
プレス後の徐冷工程を経た後に、同芯度加工が行われ
る。
The crystallization treatment causes a slight volume change in the glass substrate, and the volume change causes the concentricity processing of the inner and outer diameters of the final glass substrate (hereinafter referred to as “concentricity”) in the next step. It is preferable that the inner and outer diameter processing positions are set in consideration of the deformation of the glass substrates 11 and 12 in the reheat press so that the processing allowance in “processing” is not increased. On the other hand, when the material of the glass substrate does not require crystallization treatment, concentricity processing is performed after a slow cooling step after reheat pressing.

【0064】 この同芯度加工は、ガラス基板の加工端
面のエッジが立たないように、細かい砥石で研削しなが
ら、同芯度をより高精度に仕上げる工程であり、必要に
応じて酸化セリウムを研磨材といてナイロンブラシによ
り端面研磨工程が付加される。そして最後に、サブスト
レートに要求されるガラス基板特性を満足するように、
ガラス基板の両表面に微浅な精研磨が施され、製品たる
サブストレートが作製される。なお、精研磨の方法とし
ては、#600のレジン砥石を用い、1000rpmか
ら5000rpmの回転数で行う方法が好ましい。
The concentricity processing is a step of finishing the concentricity with higher precision while grinding with a fine grindstone so that the edge of the processing end face of the glass substrate does not stand. If necessary, cerium oxide is removed. As an abrasive, an end surface polishing step is added by a nylon brush. And finally, to satisfy the glass substrate characteristics required for the substrate,
Both surfaces of the glass substrate are finely polished to produce a product substrate. As a method of fine polishing, a method of using a # 600 resin grindstone at a rotation speed of 1000 rpm to 5000 rpm is preferable.

【0065】 上述した本発明によるガラス基板の作製
方法によれば、図4のフローチャートに示されるよう
に、サブストレートたるサブストレートの完成までの工
程が、図9に示した従来の作製方法と比較して極端に短
縮される。しかも、ガラス基板の作製工程中、厚み方向
の研磨およびラッピングといった最も加工時間が長くか
かり、設備コストの嵩む加工工程が省略される。
According to the above-described method for manufacturing a glass substrate according to the present invention, as shown in the flowchart of FIG. 4, the steps up to the completion of the substrate, which is a substrate, are different from those of the conventional manufacturing method shown in FIG. To be extremely shortened. In addition, during the manufacturing process of the glass substrate, the processing time such as polishing and lapping in the thickness direction takes the longest, and the processing process that increases the equipment cost is omitted.

【0066】 このように、本発明のガラス基板の作製
方法にあっては、シャーマーク等の欠陥のないゴブをプ
レス成形することから、従来のシャーマーク等の欠陥を
除去を見込んだ余分な厚みを有するガラス基板をプレス
成形する必要がなく、また、ゴブのプレス成形時から、
サブストレートに厚みに近い一定厚みの平行度等が良好
なガラス基板が得られる利点がある。したがって、従来
のガラス基板の作製方法に必要不可欠であり、しかもサ
ブストレートのコスト高の大きな原因となっていたガラ
ス基板面のラッピング工程を省くことが可能となり、ま
た、最終研磨工程における研磨代を従来より浅くするこ
とができる。したがって、このラッピング工程を省くこ
とで、ラッピングによってガラス基板に偏摩耗が生ずる
こともない。こうして、加工時間の短縮と設備コストの
低減が図られる。
As described above, according to the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, gob having no defect such as a shear mark is press-molded, so that an extra thickness in consideration of removal of a defect such as the conventional shear mark is used. It is not necessary to press-mold a glass substrate having
There is an advantage that a glass substrate having a good parallelism and the like having a constant thickness close to the thickness of the substrate can be obtained. Therefore, it is possible to omit the lapping step of the glass substrate surface, which is indispensable for the conventional method of manufacturing a glass substrate, and has been a major cause of the high cost of the substrate. It can be shallower than before. Therefore, when the lapping step is omitted, the lapping does not cause uneven wear on the glass substrate. Thus, the processing time and the equipment cost can be reduced.

【0067】 なお、ハードディスク用ガラス基板に
は、現状、サブストレートとして厚みの平均値が0.6
45mm、平行度が6μm以下、平坦度が5μm以下お
よび面粗度がRaで0.1μm以下の形状が要求されて
いるが、上述したゴブのプレス成形と内外径加工および
リヒートプレスの組合せにより、プレス工程後に、厚み
の平均値が1.0mm以下、平行度が0.2mm以下の
形状を有するガラス基板が得られ、さらに、リヒートプ
レス後においては、厚みの平均値が0.7mm、平行度
が10μm以下、平坦度が10μm以下および面粗度が
Raで0.2μm以下のガラス基板を得ることが可能と
なる。
The hard disk glass substrate currently has an average thickness of 0.6 as a substrate.
The shape of 45 mm, parallelism of 6 μm or less, flatness of 5 μm or less and surface roughness of 0.1 μm or less in Ra is required, but by the combination of the above gob press forming, inner and outer diameter processing, and reheat press, After the pressing step, a glass substrate having a shape having an average thickness of 1.0 mm or less and a parallelism of 0.2 mm or less is obtained. Further, after the reheat pressing, the glass has an average thickness of 0.7 mm and a parallelism of 0.7 mm. Is 10 μm or less, the flatness is 10 μm or less, and the surface roughness Ra is 0.2 μm or less.

【0068】 さらに、ガラス基板の結晶化処理を70
0℃〜800℃程度の範囲で、約3時間から12時間の
範囲で行うことにより、厚みの平均値が0.69mm、
平行度が10μm以下、平坦度が5μm以下および面粗
度がRaで0.2μm以下の形状を有するガラス基板が
得られる。最後に、サブストレートとして要求される厚
みの平均値が0.645mm、平行度が6μm以下、平
坦度が5μm以下および面粗度がRaで0.1以下の仕
様が満たされない場合は、#600のレジン砥石で精研
磨することにより、前記のサブストレートに対する要求
形状を満足するガラス基板を得ることが可能となる。以
下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
の実施例に限定されるものではない。
Further, the crystallization treatment of the glass substrate
By performing in the range of about 0 ° C. to 800 ° C. for about 3 hours to 12 hours, the average thickness is 0.69 mm,
A glass substrate having a shape with a parallelism of 10 μm or less, a flatness of 5 μm or less, and a surface roughness of 0.2 μm or less in Ra is obtained. Lastly, if the average required thickness of the substrate is 0.645 mm, the parallelism is 6 μm or less, the flatness is 5 μm or less, and the surface roughness is Ra and the specification of 0.1 or less is not satisfied, # 600 By precision polishing with the above resin grindstone, it becomes possible to obtain a glass substrate which satisfies the required shape for the substrate. Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0069】[0069]

【実施例】 溶融ガラスとして、SiO2が77wt
%、Al23が5wt%、Li2Oが5wt%で、残部
が微量成分からなるSiO2−Al23−Li2O系ガラ
スを用いた。このガラスをガラス溶融炉にて1400℃
にて溶融し、1300℃に保持されたノズルより、60
0℃に予熱された楔形状のガラス基板を与えるプレス下
型に押し出した。このとき、下型に供給される溶融ガラ
スの重量が約15gとなるように、ノズル端部近くに配
設されたシャーにより押し出された溶融ガラスを切断
し、ゴブとした。
[Example] As molten glass, 77 wt% of SiO 2 was used.
%, Al 2 O 3 was 5 wt%, Li 2 O was 5 wt%, and the balance was a SiO 2 —Al 2 O 3 —Li 2 O-based glass composed of trace components. This glass is heated at 1400 ° C in a glass melting furnace.
From the nozzle maintained at 1300 ° C.
It was extruded into a press lower mold that gave a wedge-shaped glass substrate preheated to 0 ° C. At this time, the molten glass extruded by the shear provided near the nozzle end was cut into a gob so that the weight of the molten glass supplied to the lower mold became about 15 g.

【0070】 続いて、ゴブをアセチレンバーナーを用
いて加熱しつつ、600℃に予熱されたプレス上型によ
り、ゴブを120kg/cm2で1秒間ほど加圧し、プ
レス成形を行った。ここで、プレス成形後のガラス基板
は、通常、冷却することなく次工程へと送られるが、別
試験により、この段階で、成形されたガラス基板は、厚
みの平均値が0.9mm以下となり、平行度が0.1m
m以下に仕上がっていることを確認した。この測定結果
を図11に示す。なお、このようなガラス基板の厚みの
測定は、図13に示すように、ガラス基板11上の任意
のX−Y直交座標上に一定間隔にて設定した複数の測定
点37において行った。
Subsequently, while the gob was heated using an acetylene burner, the gob was pressed at 120 kg / cm 2 for about 1 second by a press upper die preheated to 600 ° C. to perform press molding. Here, the glass substrate after press molding is usually sent to the next step without cooling, but according to another test, the average value of the thickness of the molded glass substrate at this stage is 0.9 mm or less. , Parallelism is 0.1m
m or less. FIG. 11 shows the measurement results. In addition, such a measurement of the thickness of the glass substrate was performed at a plurality of measurement points 37 set at regular intervals on arbitrary XY orthogonal coordinates on the glass substrate 11, as shown in FIG.

【0071】 次に、プレス成形後、上型を成形された
ガラス基板から外し、ガラス基板を600℃に予熱され
た下型に載置したままの状態で、冷却した金属治具をガ
ラス基板に形成されたノッチに当てて、内孔部と外周部
を本体部から切り離すチルカットによる内外径加工を行
った。こうして、内外径加工後のチルカット後のガラス
基板を徐冷し、内径が23.8mm±0.15mm、外
径が85.2mm±0.15mmのガラス基板を得た。
Next, after press molding, the upper mold is removed from the molded glass substrate, and the cooled metal jig is placed on the glass substrate while the glass substrate is placed on the lower mold preheated to 600 ° C. The inner and outer diameters were processed by chill cutting to separate the inner hole portion and the outer peripheral portion from the main body portion by applying to the formed notch. Thus, the glass substrate after the chill cutting after the inner and outer diameter processing was gradually cooled to obtain a glass substrate having an inner diameter of 23.8 mm ± 0.15 mm and an outer diameter of 85.2 mm ± 0.15 mm.

【0072】 次いで、内外径加工後のガラス基板を、
搬送アームによりリヒートプレス下型へと移した。ここ
で、リヒートプレス上下型として、平板型を用いた。下
型の温度を650℃に予熱し、同様に650℃に予熱さ
れた上型を、押し当てて、30kg/cm2の圧力で3
0秒間ほどプレス処理した。上型を外した後、こうして
得られたリヒートプレス後のガラス基板を搬送アームに
より、下型から450℃に設定された徐冷炉に移した。
徐冷が終了したガラス基板は、この段階で厚みの平均値
が0.7mm、平行度が10μm以下に仕上がった。
Next, the glass substrate after the inner and outer diameter processing is
It was transferred to the reheat press lower mold by the transfer arm. Here, a flat plate type was used as the reheat press upper and lower die. The temperature of the lower mold is preheated to 650 ° C., and the upper mold similarly preheated to 650 ° C. is pressed against the lower mold at a pressure of 30 kg / cm 2.
Press processing was performed for about 0 seconds. After removing the upper mold, the reheat-pressed glass substrate thus obtained was transferred from the lower mold to an annealing furnace set at 450 ° C. by the transfer arm.
At this stage, the glass substrate after the slow cooling had an average thickness of 0.7 mm and a parallelism of 10 μm or less.

【0073】 さらに、ガラス基板の結晶化処理を、窒
素雰囲気下、770℃で4時間行い、厚みの平均値が
0.68mm、平行度が7μm、平坦度が5μm、面粗
度がRaで0.02μm以下のガラス基板を得、次いで
同芯度加工を行い同芯度を7μm以下とし、最後に、#
600のレジン砥石で精研磨することにより、厚みの平
均値が0.645mm、平行度が5μm、平坦度が4μ
m、面粗度がRaで0.08μmという、製品としての
要求規格を満足するガラス基板(サブストレート)が得
られた。
Further, crystallization treatment of the glass substrate was performed at 770 ° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere, and the average value of the thickness was 0.68 mm, the parallelism was 7 μm, the flatness was 5 μm, and the surface roughness was Ra at 0. A glass substrate having a concentricity of 7 μm or less was obtained by performing concentricity processing.
By fine polishing with a 600 resin grindstone, the average value of the thickness is 0.645 mm, the parallelism is 5 μm, and the flatness is 4 μm.
As a result, a glass substrate (substrate) satisfying the required standard as a product having a surface roughness Ra of 0.08 μm was obtained.

【0074】 上述した実施例に対し、比較例として、
ゴブの加熱を行わずに、また、他の条件を同じくしてプ
レス成形したガラス基板を作製した。この比較例のガラ
ス基板は、図12に示すように、最初のプレス成形後の
厚みが、1.3mm以上、平行度が100μm以上とな
り、十分に薄い厚みに成形することができなかった。な
お、この場合の厚み測定は、前述した実施例の場合と同
様にして行った。
In comparison with the above-described embodiment, as a comparative example,
A press-molded glass substrate was produced without heating the gob and under the same conditions. As shown in FIG. 12, the glass substrate of this comparative example had a thickness after the first press molding of 1.3 mm or more and a parallelism of 100 μm or more, and could not be molded to a sufficiently thin thickness. The thickness measurement in this case was performed in the same manner as in the above-described embodiment.

【0075】 また、ガラス基板表面には、気泡が連な
ったシャーマークが観察された。これは、ゴブの加熱を
行わなかったことにより、シャーマークが残留し、ま
た、ゴブの粘度が自然冷却により上昇して十分なプレス
処理が行えなかったことによるものと考えられる。
Further, on the surface of the glass substrate, a shear mark in which bubbles were connected was observed. This is presumably because the gob was not heated, the shear mark remained, and the viscosity of the gob increased due to natural cooling, and a sufficient press treatment could not be performed.

【0076】[0076]

【発明の効果】 上述の通り、本発明のガラス基板の作
製方法においては、シャーマーク等の欠陥のないゴブを
プレス成形することから、従来のシャーマーク等の欠陥
を除去を見込んだ余分な厚みを有するガラス基板をプレ
ス成形する必要がなく、また、ゴブのプレス成形時か
ら、サブストレートに厚みに近い一定厚みの平行度等が
良好なガラス基板が得られる利点がある。したがって、
従来のガラス基板の作製方法に必要不可欠であり、しか
もサブストレートのコスト高の大きな原因となっていた
ガラス基板面のラッピング工程を省くことが可能とな
り、これにより、ガラス基板にラッピングに起因する偏
摩耗が生ずることがない。また、最終研磨工程における
研磨代を従来より浅くすることができるという利点があ
る。さらに、チャンファーの形成が、ゴブのプレス成形
時および内外径加工時に同時に行われるため、別途、チ
ャンファー加工工程を行う必要がない。こうして、本発
明のガラス基板の作製方法によれば、大幅な加工時間の
短縮と設備コストの低減が図られ、品質が一定して優れ
たガラス基板を安価に提供することができるという優れ
た効果を奏する。
As described above, in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, gob having no defects such as shear marks is press-molded, so that extra thickness in consideration of removing defects such as conventional shear marks is used. There is an advantage that it is not necessary to press-mold a glass substrate having the above, and a glass substrate having a good parallelism and the like having a constant thickness close to the thickness of the substrate can be obtained from the time of gob press-forming. Therefore,
The lapping process of the glass substrate surface, which is indispensable for the conventional method of manufacturing a glass substrate and has been a major cause of the high cost of the substrate, can be omitted. No wear occurs. In addition, there is an advantage that the polishing allowance in the final polishing step can be made shallower than before. Further, since the formation of the chamfer is performed simultaneously with the press forming of the gob and the inner and outer diameter working, it is not necessary to separately perform a chamfering process. Thus, according to the method for manufacturing a glass substrate of the present invention, a great reduction in processing time and a reduction in equipment cost can be achieved, and an excellent effect of providing a glass substrate of excellent quality with a constant quality can be provided at low cost. To play.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のガラス基板の作製方法におけるガラ
ス基板の成形方法の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a method for forming a glass substrate in a method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図2】 本発明のガラス基板の作製方法におけるプレ
スにより成形されるガラス基板の形状の一実施形態を示
す断面図であり、(a)は台形形状を示し、(b)は楔
形状を示す。
FIGS. 2A and 2B are cross-sectional views showing an embodiment of a shape of a glass substrate formed by pressing in a method for manufacturing a glass substrate of the present invention, wherein FIG. 2A shows a trapezoidal shape, and FIG. .

【図3】 本発明のガラス基板の作製方法に使用される
プレス上下型の形状に関する説明図であり、(a)は台
形型を示し、(b)は楔型を示す。
3A and 3B are explanatory diagrams relating to the shape of a press upper and lower die used in the method of manufacturing a glass substrate of the present invention, wherein FIG. 3A shows a trapezoidal shape, and FIG. 3B shows a wedge shape.

【図4】 本発明のガラス基板の作製方法を示すフロー
チャートである。
FIG. 4 is a flowchart showing a method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図5】 本発明のガラス基板の作製方法におけるカッ
プ砥石を用いた内外径加工の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of inner and outer diameter processing using a cup grindstone in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図6】 本発明のガラス基板の作製方法におけるチル
カットによる内外径加工の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of inner and outer diameter processing by chill cut in the method for manufacturing a glass substrate of the present invention.

【図7】 本発明のガラス基板の作製方法における、
(a)は内外径加工後に得られるガラス基板の形状を示
す断面図であり、(b)は内外径加工後さらにリヒート
プレスを行って得られるガラス基板の形状の一例を示す
断面図であり、(c)は内外径加工を行わずにリヒート
プレスを行って得られるガラス基板の形状の一例を示す
断面図である。
FIG. 7 illustrates a method for manufacturing a glass substrate of the present invention.
(A) is a cross-sectional view showing the shape of the glass substrate obtained after inner and outer diameter processing, (b) is a cross-sectional view showing an example of the shape of the glass substrate obtained by performing reheat pressing after inner and outer diameter processing, (C) is sectional drawing which shows an example of the shape of the glass substrate obtained by performing reheat press, without performing inner / outer diameter processing.

【図8】 本発明のガラス基板の作製方法に使用される
リヒートプレス上下型の形状に関する説明図であり、
(a)は台形型を示し、(b)は平板型を示し、(c)
は楔型を示す。
FIG. 8 is an explanatory diagram relating to the shape of a reheat press upper and lower die used in the method for producing a glass substrate of the present invention;
(A) shows a trapezoid type, (b) shows a flat type, (c)
Indicates a wedge shape.

【図9】 従来のガラス基板の作製方法を示すフローチ
ャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing a conventional method for manufacturing a glass substrate.

【図10】 従来のガラス基板の成形方法を示す説明図
である。
FIG. 10 is an explanatory view showing a conventional method for forming a glass substrate.

【図11】 実施例におけるガラス基板の厚み分布の測
定結果である。
FIG. 11 is a measurement result of a thickness distribution of a glass substrate in an example.

【図12】 比較例におけるガラス基板の厚み分布の測
定結果である。
FIG. 12 is a measurement result of a thickness distribution of a glass substrate in a comparative example.

【図13】 ガラス基板の厚み測定点を示す平面図であ
る。
FIG. 13 is a plan view showing thickness measurement points of a glass substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1A…プレス下型、1B…プレス上型、2…溶融ガラ
ス、3…シャー、4…ノズル、5…ゴブ、6…シャーマ
ーク、11…ガラス基板、11A…本体部、11B…内
孔部、11C…外周部、12…ガラス基板、13…ノッ
チ、14…勾配部、15…金属治具、15A…内径加工
刃、15B…外径加工刃、16…チャンファー、17…
膨らみ、18…ガラス基板、19A・19B…台形型、
20A・20B…楔型、21…溝部、22…溝部、23
…斜面部、24…溝部、25…V字凸部、26…接触
部、27…空間部、29A・29B…台形型、30A・
30B…平板型、31A・31B…楔型、32…溝部、
33…斜面部、34…溝部、35…斜面部、36…溝
部、37…測定点、41…内外径同芯カップ砥石、41
A…内径砥石、41B…外径砥石、51…ノズル、52
…溶融ガラス、53…シャー、54…胴型、55…下
型、56…上型、57…ガラス基板。
1A: Press lower mold, 1B: Press upper mold, 2: Molten glass, 3: Shear, 4: Nozzle, 5: Gob, 6: Sher mark, 11: Glass substrate, 11A: Main body, 11B: Inner hole, 11C: outer peripheral portion, 12: glass substrate, 13: notch, 14: gradient portion, 15: metal jig, 15A: inner diameter processing blade, 15B: outer diameter processing blade, 16: chamfer, 17 ...
Bulge, 18: glass substrate, 19A / 19B: trapezoidal type,
20A / 20B: wedge-shaped, 21: groove, 22: groove, 23
... Slope, 24 ... Groove, 25 ... V-shaped convex, 26 ... Contact, 27 ... Space, 29A / 29B ... Trapezoid, 30A
30B: flat plate type, 31A / 31B: wedge type, 32: groove portion,
33 ... slope part, 34 ... groove part, 35 ... slope part, 36 ... groove part, 37 ... measurement point, 41 ... inner and outer diameter concentric cup grindstone, 41
A: inner diameter whetstone, 41B: outer diameter whetstone, 51: nozzle, 52
... molten glass, 53 ... shear, 54 ... trunk type, 55 ... lower die, 56 ... upper die, 57 ... glass substrate.

フロントページの続き (72)発明者 後藤 利樹 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内Continuation of front page (72) Inventor Toshiki Goto 2-56 Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi Japan Insulator Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 溶融ガラスを所定形状にプレス成形する
工程を含むガラス基板の作製方法であって、 プレス下型に滴下され、もしくは押し出された溶融ガラ
スを加熱しながら、もしくは加熱後に、プレス上下型に
よりプレス成形を行うことを特徴とするガラス基板の作
製方法。
1. A method for producing a glass substrate, comprising a step of press-molding molten glass into a predetermined shape, wherein the molten glass dropped or extruded on a lower press die is heated while heating, or after heating, is pressed up and down. A method for producing a glass substrate, wherein press molding is performed using a mold.
【請求項2】 当該プレス上下型が、当該溶融ガラスを
介せず、直接に合わせられる接触部を有することを特徴
とする請求項1記載のガラス基板の作製方法。
2. The method for producing a glass substrate according to claim 1, wherein the press upper and lower molds have a contact portion that can be directly fitted without passing through the molten glass.
【請求項3】 当該プレス上下型が、当該溶融ガラスの
余剰体積部を、当該溶融ガラスの外周部に押し出すため
の空間部を有することを特徴とする請求項1または2記
載のガラス基板の作製方法。
3. The glass substrate according to claim 1, wherein the press upper and lower molds have a space for extruding an excess volume of the molten glass to an outer peripheral portion of the molten glass. Method.
【請求項4】 当該プレス上下型を用いて成形されるガ
ラス基板において、 当該ガラス基板における内孔部および/または外周部と
本体部との境界部に、チャンファーを形成することを特
徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のガラス基
板の作製方法。
4. A glass substrate formed by using the press upper and lower molds, wherein a chamfer is formed at a boundary portion between an inner hole portion and / or an outer peripheral portion and a main body portion of the glass substrate. A method for producing the glass substrate according to claim 1.
【請求項5】 当該プレス上下型を用いて成形されるガ
ラス基板において、 当該ガラス基板における内孔部および/または外周部の
厚さを本体部よりも薄くした台形形状とすることを特徴
とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のガラス基板
の作製方法。
5. A glass substrate formed by using the press upper and lower molds, wherein the glass substrate has a trapezoidal shape in which the thickness of an inner hole portion and / or an outer peripheral portion is smaller than that of a main body portion. A method for producing the glass substrate according to claim 1.
【請求項6】 当該プレス上下型を用いて成形されるガ
ラス基板において、 当該ガラス基板における内孔部および/または外周部と
本体部との境界にノッチを入れた楔形状とすることを特
徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のガラス基
板の作製方法。
6. A glass substrate formed by using the press upper and lower molds, wherein the glass substrate has a wedge shape with a notch at a boundary between an inner hole and / or an outer peripheral portion and a main body. The method for producing a glass substrate according to any one of claims 1 to 5.
【請求項7】 当該ノッチの形状が、V字型であること
を特徴とする請求項6記載のガラス基板の作製方法。
7. The method for manufacturing a glass substrate according to claim 6, wherein the shape of the notch is V-shaped.
【請求項8】 当該ノッチに熱衝撃を加えることによ
り、当該ノッチにおいて当該内孔部および/または当該
外周部を、当該本体部から離隔することを特徴とする請
求項6または7記載のガラス基板の作製方法。
8. The glass substrate according to claim 6, wherein a thermal shock is applied to the notch to separate the inner hole portion and / or the outer peripheral portion from the main body portion at the notch. Method of manufacturing.
【請求項9】 当該ガラス基板として、SiO2−Al2
3−Li2O系の結晶化ガラスを用いることを特徴とす
る請求項1〜8のいずれか一項に記載のガラス基板の作
製方法。
9. The method according to claim 1, wherein the glass substrate is SiO 2 —Al 2
O 3 -Li 2 O system a method for manufacturing a glass substrate according to any one of claims 1-8, characterized by using a crystallized glass.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013133249A (en) * 2011-12-26 2013-07-08 Konica Minolta Advanced Layers Inc Method for producing glass substrate for hdd, and glass blank for hdd and glass substrate for hdd obtained by the production method
JPWO2013168625A1 (en) * 2012-05-09 2016-01-07 コニカミノルタ株式会社 Glass plate manufacturing method and manufacturing apparatus
WO2019189594A1 (en) * 2018-03-30 2019-10-03 Hoya株式会社 Intermediate glass plate manufacturing method, glass plate manufacturing method, and intermediate glass plate

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