JPH11228237A - 焼成用セッター - Google Patents
焼成用セッターInfo
- Publication number
- JPH11228237A JPH11228237A JP10032827A JP3282798A JPH11228237A JP H11228237 A JPH11228237 A JP H11228237A JP 10032827 A JP10032827 A JP 10032827A JP 3282798 A JP3282798 A JP 3282798A JP H11228237 A JPH11228237 A JP H11228237A
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- JP
- Japan
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- fired
- setter
- firing
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Abstract
(57)【要約】
【課題】スペーサが不要で、変形しない焼成用セッター
を提供する。 【解決手段】セラミックス製の上面および下面が平行な
板状であり、該上面および該下面の少なくとも一方はセ
ラミックス粉末成型体（被焼成体）５が収納されて焼成
される凹部３をもち、複数個積層されて前記凹部３が蓋
をされて閉じた空間４となることを特徴とする焼成用セ
ッター１。セッター１を直接積層でき、スペーサを必要
としない。被焼成体５が閉じた空間４に収納でき、被焼
成体の成分の蒸散を抑制できる。
を提供する。 【解決手段】セラミックス製の上面および下面が平行な
板状であり、該上面および該下面の少なくとも一方はセ
ラミックス粉末成型体（被焼成体）５が収納されて焼成
される凹部３をもち、複数個積層されて前記凹部３が蓋
をされて閉じた空間４となることを特徴とする焼成用セ
ッター１。セッター１を直接積層でき、スペーサを必要
としない。被焼成体５が閉じた空間４に収納でき、被焼
成体の成分の蒸散を抑制できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は未焼成のセラミックス成
形体を焼成する際に用いられるセッターに関する。
形体を焼成する際に用いられるセッターに関する。
【０００２】
【従来の技術】ＰＺＴ（PbZrTiO3）を原料とする圧電セ
ラミックスなどは、所定のセラミックス原料粉末を成形
し、それを焼成用セッターにセットして８００〜１４０
０℃の焼成炉に入れて焼成することによって作られてい
る。しかし、通常の平板状セッターで低融点、低沸点の
元素、たとえばPbを含む前記ＰＺＴ圧電セラミックスを
焼成すると、焼成中にPbの一部が周囲に蒸散し、焼成後
の組成が変化するという問題があった。
ラミックスなどは、所定のセラミックス原料粉末を成形
し、それを焼成用セッターにセットして８００〜１４０
０℃の焼成炉に入れて焼成することによって作られてい
る。しかし、通常の平板状セッターで低融点、低沸点の
元素、たとえばPbを含む前記ＰＺＴ圧電セラミックスを
焼成すると、焼成中にPbの一部が周囲に蒸散し、焼成後
の組成が変化するという問題があった。
【０００３】また、一度に多数の被焼成体を焼成する場
合、セッターを積層して行うが、積層するためにはスペ
ーサが必要で、その着脱に時間がかかるという問題もあ
った。さらに、焼成炉に多数のセッターを積層して収納
するためにはセッターの厚さを薄くする必要があるが、
セッターを薄くすると、焼成時の熱でセッターが湾曲し
て変形するという問題があった。
合、セッターを積層して行うが、積層するためにはスペ
ーサが必要で、その着脱に時間がかかるという問題もあ
った。さらに、焼成炉に多数のセッターを積層して収納
するためにはセッターの厚さを薄くする必要があるが、
セッターを薄くすると、焼成時の熱でセッターが湾曲し
て変形するという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来の問題を
解決するもので、被焼成体の組成変化が少なく、多数の
被焼成体を焼成する際スペーサが不要で、変形しないセ
ッターを提供することを目的とする。
解決するもので、被焼成体の組成変化が少なく、多数の
被焼成体を焼成する際スペーサが不要で、変形しないセ
ッターを提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決すための手段】本発明の焼成用セッター
は、セラミックス製でその上面および下面が平行な板状
であり、前記上面および前記下面の少なくとも一方はセ
ラミックス粉末成型体（被焼成体）が収納されて焼成さ
れる凹部をもち、複数個積層されて前記凹部が蓋をされ
て閉じた空間となることを特徴とする。
は、セラミックス製でその上面および下面が平行な板状
であり、前記上面および前記下面の少なくとも一方はセ
ラミックス粉末成型体（被焼成体）が収納されて焼成さ
れる凹部をもち、複数個積層されて前記凹部が蓋をされ
て閉じた空間となることを特徴とする。
【０００６】本発明のセッターの凹部にセットされた被
焼成体は閉じた空間で焼成される。このためPbのような
蒸散しやすい元素を含む被焼成体でも、焼成初期には蒸
散しやすい元素が蒸散するが、時間と共に閉じた空間内
のその元素の蒸気圧が高くなり、蒸散しにくくなる。そ
して、閉じた空間内が飽和蒸気圧に達すると、蒸散が停
止するので、焼成後の組成変化が少ない。
焼成体は閉じた空間で焼成される。このためPbのような
蒸散しやすい元素を含む被焼成体でも、焼成初期には蒸
散しやすい元素が蒸散するが、時間と共に閉じた空間内
のその元素の蒸気圧が高くなり、蒸散しにくくなる。そ
して、閉じた空間内が飽和蒸気圧に達すると、蒸散が停
止するので、焼成後の組成変化が少ない。
【０００７】また、本発明のセッターは凹部を有し、被
焼成体は凹部内に収納されて焼成される。このため、セ
ッター同士を直接、スペーサを介さずに積層することが
でき、スペーサを介在させるために要する空間および作
業時間が不要となる。さらに、前記凹部を同一面上に複
数形成した焼成用セッターとしてもよい。これにより、
多数の被焼成体を焼成するときでも積層するセッターの
数を増やす必要がなく、したがってセッターの厚さを薄
くしなくて済み、焼成時の熱で変形することもない。
焼成体は凹部内に収納されて焼成される。このため、セ
ッター同士を直接、スペーサを介さずに積層することが
でき、スペーサを介在させるために要する空間および作
業時間が不要となる。さらに、前記凹部を同一面上に複
数形成した焼成用セッターとしてもよい。これにより、
多数の被焼成体を焼成するときでも積層するセッターの
数を増やす必要がなく、したがってセッターの厚さを薄
くしなくて済み、焼成時の熱で変形することもない。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の焼成用セッターは、セラ
ミックス製でその上面および下面が平行な板状であり、
前記上面および前記下面の少なくとも一方はセラミック
ス粉末成型体（被焼成体）が収納されて焼成される凹部
をもち、複数個積層されて前記凹部が蓋をされて閉じた
空間を形成する。
ミックス製でその上面および下面が平行な板状であり、
前記上面および前記下面の少なくとも一方はセラミック
ス粉末成型体（被焼成体）が収納されて焼成される凹部
をもち、複数個積層されて前記凹部が蓋をされて閉じた
空間を形成する。
【０００９】凹部の底面は曲面でも平面でもよい。被焼
成体が薄い板状である場合、セッター凹部の底面がセッ
ターの上面と下面に平行な平面とするのが好ましい。な
お、被成形体が載置される載置面は凹部の底面でも、凹
部の形成されていないセッターの上面あるいは下面でも
よい。セッターの上面あるいは下面が載置面となる場
合、上に積層されるセッターの凹部で被焼成体は覆われ
て閉じた空間に収納されることになる。被焼成体が載置
される載置面の表面粗さをＲｍａｘ６．３μｍ以下とす
るのが好ましい。なお、被焼成体がセッターに焼き付く
場合には載置面を微細凹凸のある面とすることができ
る。載置面を微細凹凸面とすることにより被焼成体と載
置面との真の接触面積を少なくすることができ焼き付き
を抑制するのに働く。
成体が薄い板状である場合、セッター凹部の底面がセッ
ターの上面と下面に平行な平面とするのが好ましい。な
お、被成形体が載置される載置面は凹部の底面でも、凹
部の形成されていないセッターの上面あるいは下面でも
よい。セッターの上面あるいは下面が載置面となる場
合、上に積層されるセッターの凹部で被焼成体は覆われ
て閉じた空間に収納されることになる。被焼成体が載置
される載置面の表面粗さをＲｍａｘ６．３μｍ以下とす
るのが好ましい。なお、被焼成体がセッターに焼き付く
場合には載置面を微細凹凸のある面とすることができ
る。載置面を微細凹凸面とすることにより被焼成体と載
置面との真の接触面積を少なくすることができ焼き付き
を抑制するのに働く。
【００１０】凹部はセッターの上面と下面の両方の面に
形成したセッターとしたり、凹部を同一面上に複数形成
することができる。凹部の深さは被焼成体の厚さより大
であればよいが、できるだけ被焼成体の厚さに近い方が
よい。これにより、セッターを積層することによって形
成される閉じた空間の容積が少なくなりその容積の大部
分が被焼成体で占められることになる。このため、被焼
成体からの蒸散しやすい元素の僅かの蒸散で、閉じた空
間内が飽和蒸気圧に達し、焼成後の組成変化を少なくす
ることができる。
形成したセッターとしたり、凹部を同一面上に複数形成
することができる。凹部の深さは被焼成体の厚さより大
であればよいが、できるだけ被焼成体の厚さに近い方が
よい。これにより、セッターを積層することによって形
成される閉じた空間の容積が少なくなりその容積の大部
分が被焼成体で占められることになる。このため、被焼
成体からの蒸散しやすい元素の僅かの蒸散で、閉じた空
間内が飽和蒸気圧に達し、焼成後の組成変化を少なくす
ることができる。
【００１１】凹部の深さを被焼成体の厚さに近づけるだ
けでなく形状も被焼成体より僅かに大きい形状あるいは
相似形にした方がよい。これにより、閉じた空間内の被
焼成体で占められる割合がさらに増え、被焼成体からの
より僅かの元素の蒸散で閉じた空間内が飽和蒸気圧に達
し、焼成後の組成変化を少なくすることができる。セッ
ターの全体形状は正方形、長方形等の方形の板状、ある
いは楕円、真円状の円盤状とすることができる。寸法と
しては通常縦、横１００〜１５０ｍｍ、厚さ１．０〜
５．０ｍｍ程度である。凹部の深さはセッターの厚さの
５〜２０％程度が好ましい。
けでなく形状も被焼成体より僅かに大きい形状あるいは
相似形にした方がよい。これにより、閉じた空間内の被
焼成体で占められる割合がさらに増え、被焼成体からの
より僅かの元素の蒸散で閉じた空間内が飽和蒸気圧に達
し、焼成後の組成変化を少なくすることができる。セッ
ターの全体形状は正方形、長方形等の方形の板状、ある
いは楕円、真円状の円盤状とすることができる。寸法と
しては通常縦、横１００〜１５０ｍｍ、厚さ１．０〜
５．０ｍｍ程度である。凹部の深さはセッターの厚さの
５〜２０％程度が好ましい。
【００１２】セッターを形成するセラミックスはアルミ
ナ、シリカ、ムライト、マグネシア、コージェライト、
窒化珪素、炭化珪素、ジルコニアなどで、被焼成体の焼
成温度に耐久できる材質であればよく、特に限定されな
い。しかし、ジルコニア製にした方が耐熱温度が高く、
化学的にも安定で、被焼成体との反応の問題がない。一
方、ジルコニアは密度が高く熱伝導率が低いため、セッ
ター上で温度差が生じやすく、焼成体に焼けむらが発生
する恐れがある。
ナ、シリカ、ムライト、マグネシア、コージェライト、
窒化珪素、炭化珪素、ジルコニアなどで、被焼成体の焼
成温度に耐久できる材質であればよく、特に限定されな
い。しかし、ジルコニア製にした方が耐熱温度が高く、
化学的にも安定で、被焼成体との反応の問題がない。一
方、ジルコニアは密度が高く熱伝導率が低いため、セッ
ター上で温度差が生じやすく、焼成体に焼けむらが発生
する恐れがある。
【００１３】
【作用・効果】本発明のセッターは、その上面および下
面が平行な板状であり、上面および下面の少なくとも一
方には凹部をもち、複数個積層されて凹部が蓋をされて
閉じた空間となる。この閉じた空間を形成する凹部に被
焼成体を収容し、その上に同じセッターを積層し、焼成
炉に入れて加熱する。被焼成体が加熱による温度上昇で
蒸散しやすい元素を含んでいても、被焼成体が閉じた空
間内にあるため、蒸散しにくく、被成形体の組成変化が
少ない。
面が平行な板状であり、上面および下面の少なくとも一
方には凹部をもち、複数個積層されて凹部が蓋をされて
閉じた空間となる。この閉じた空間を形成する凹部に被
焼成体を収容し、その上に同じセッターを積層し、焼成
炉に入れて加熱する。被焼成体が加熱による温度上昇で
蒸散しやすい元素を含んでいても、被焼成体が閉じた空
間内にあるため、蒸散しにくく、被成形体の組成変化が
少ない。
【００１４】また、本発明のセッターは凹部を有し、被
焼成体は凹部内に収納されて焼成される。このため、セ
ッター同士を直接、スペーサを介さずに積層することが
でき、スペーサを介在させるために要する空間および作
業時間が不要となる。さらに、前記凹部を同一面上に複
数形成した焼成用セッターとすることにより、多数の被
焼成体を焼成するときでも積層するセッターの数を増や
す必要がない。
焼成体は凹部内に収納されて焼成される。このため、セ
ッター同士を直接、スペーサを介さずに積層することが
でき、スペーサを介在させるために要する空間および作
業時間が不要となる。さらに、前記凹部を同一面上に複
数形成した焼成用セッターとすることにより、多数の被
焼成体を焼成するときでも積層するセッターの数を増や
す必要がない。
【００１５】本発明のセッターは、凹部の周囲を区画す
る壁部がスペーサの機能を果たしている。そしてこの壁
部は凹部の周囲を取り囲み、凹部の底の部分を支えてい
る。このためセッターの底の部分の厚さを薄くでき、底
の部分を薄くしても焼成時の熱で変形することがない。
る壁部がスペーサの機能を果たしている。そしてこの壁
部は凹部の周囲を取り囲み、凹部の底の部分を支えてい
る。このためセッターの底の部分の厚さを薄くでき、底
の部分を薄くしても焼成時の熱で変形することがない。
【００１６】
【実施例】本発明の実施例を示し、本発明をさらに具体
的に説明する。 （実施例１）本実施例の焼成用セッター２個を積層した
断面を図１に示す。この焼成用セッター１は上面および
下面が平行な板状体２の上面に凹部３を有し、積層する
ことによって閉じた空間４が形成される。凹部３の底面
は平板２の上面と下面の両面に平行で、開口部の形状は
矩形である。５は被焼成体で直径２５ｍｍ、厚さ０．７
５ｍｍのＰＺＴ成型体である。
的に説明する。 （実施例１）本実施例の焼成用セッター２個を積層した
断面を図１に示す。この焼成用セッター１は上面および
下面が平行な板状体２の上面に凹部３を有し、積層する
ことによって閉じた空間４が形成される。凹部３の底面
は平板２の上面と下面の両面に平行で、開口部の形状は
矩形である。５は被焼成体で直径２５ｍｍ、厚さ０．７
５ｍｍのＰＺＴ成型体である。
【００１７】この焼成用セッター１はジルコニア製で、
ジルコニア粉末を金型に入れ１ｔｏｎ／ｃｍ2の圧力で
プレス成型した後、焼成炉で１４５０℃、保持２時間の
条件で焼成したものである。このセッターの寸法は縦横
それぞれ１２０ｍｍ、厚さ５ｍｍである。凹部３の寸法
は縦横それぞれ１０５ｍｍ，深さ１ｍｍである。前記寸
法の被焼成体５を前記寸法の凹部３に幅方向に４列、奥
行き方向に４行の計１６個セットして、その上に側面が
一致するように、つまり、凹部３が閉じた空間４になる
ように次々に被成形体５を載置したセッター１を積層し
た。なお、最も上側のセッターには空とし、被成形体を
載置せず、蓋として使用した。
ジルコニア粉末を金型に入れ１ｔｏｎ／ｃｍ2の圧力で
プレス成型した後、焼成炉で１４５０℃、保持２時間の
条件で焼成したものである。このセッターの寸法は縦横
それぞれ１２０ｍｍ、厚さ５ｍｍである。凹部３の寸法
は縦横それぞれ１０５ｍｍ，深さ１ｍｍである。前記寸
法の被焼成体５を前記寸法の凹部３に幅方向に４列、奥
行き方向に４行の計１６個セットして、その上に側面が
一致するように、つまり、凹部３が閉じた空間４になる
ように次々に被成形体５を載置したセッター１を積層し
た。なお、最も上側のセッターには空とし、被成形体を
載置せず、蓋として使用した。
【００１８】この多数積層されたセッターを大気雰囲気
下で焼成炉により１３３０℃、保持２時間の条件で焼成
した。本実施例の場合、閉じた空間４の容積は１１０２
５ｍｍ3であり、閉じた空間４内の被焼成体５の１６個
合計体積は約１４７２ｍｍ3であるので、閉じた空間４
内の被焼成体５で占有されない空間は９５５３ｍｍ
3（９．５５３ｃｍ3）である。このように閉じた空間４
内の空いている空間が狭いので、被焼成体５からの僅か
の蒸散で閉じた空間４内は飽和蒸気圧に達し、それ以上
蒸散できないので、焼成後のＰＺＴは組成変化が少な
く、良好な圧電特性を示した。 （実施例２）本実施例の焼成用セッター２個を積層した
平面図を図２に、図２のＡ−Ａ線断面を図３に示す。こ
の焼成用セッター１はジルコニア製で、実施例１と同じ
プロセスで作られた。このセッターは板状体２の上面に
凹部３を３行×４列の計１２個有し、積層することによ
って閉じた空間４が１２個形成される。５は被焼成体で
直径２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍのＰＺＴ成型体であ
る。凹部３は被焼成体５がぎりぎり１個セットできる大
きさと形状に設計されており、直径２６ｍｍ、深さ１ｍ
ｍである。前記寸法の被焼成体５を前記寸法の凹部３に
一個づつ計１２個セットし、その上に側面が一致するよ
うに、つまり、凹部３が閉じた空間４になるように空の
セッター１を積層した。
下で焼成炉により１３３０℃、保持２時間の条件で焼成
した。本実施例の場合、閉じた空間４の容積は１１０２
５ｍｍ3であり、閉じた空間４内の被焼成体５の１６個
合計体積は約１４７２ｍｍ3であるので、閉じた空間４
内の被焼成体５で占有されない空間は９５５３ｍｍ
3（９．５５３ｃｍ3）である。このように閉じた空間４
内の空いている空間が狭いので、被焼成体５からの僅か
の蒸散で閉じた空間４内は飽和蒸気圧に達し、それ以上
蒸散できないので、焼成後のＰＺＴは組成変化が少な
く、良好な圧電特性を示した。 （実施例２）本実施例の焼成用セッター２個を積層した
平面図を図２に、図２のＡ−Ａ線断面を図３に示す。こ
の焼成用セッター１はジルコニア製で、実施例１と同じ
プロセスで作られた。このセッターは板状体２の上面に
凹部３を３行×４列の計１２個有し、積層することによ
って閉じた空間４が１２個形成される。５は被焼成体で
直径２５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍのＰＺＴ成型体であ
る。凹部３は被焼成体５がぎりぎり１個セットできる大
きさと形状に設計されており、直径２６ｍｍ、深さ１ｍ
ｍである。前記寸法の被焼成体５を前記寸法の凹部３に
一個づつ計１２個セットし、その上に側面が一致するよ
うに、つまり、凹部３が閉じた空間４になるように空の
セッター１を積層した。
【００１９】これを大気雰囲気下で焼成炉により１３３
０℃、保持２時間の条件で焼成した。本実施例の場合、
閉じた空間４の容積は５３０ｍｍ3であり、閉じた空間
４内の被焼成体５の体積は３６８ｍｍ3である。従っ
て、閉じた空間４内の被焼成体５で占有されない空間は
１６２ｍｍ3（０．１６２ｃｍ3）である。このように閉
じた空間４内の被焼成体５で占有されない空間が狭いの
で、被焼成体５からの僅かの蒸散で閉じた空間４内は飽
和蒸気圧に達し、それ以上蒸散できないので、焼成後の
ＰＺＴは組成変化が少なく、良好な圧電特性を示した。
０℃、保持２時間の条件で焼成した。本実施例の場合、
閉じた空間４の容積は５３０ｍｍ3であり、閉じた空間
４内の被焼成体５の体積は３６８ｍｍ3である。従っ
て、閉じた空間４内の被焼成体５で占有されない空間は
１６２ｍｍ3（０．１６２ｃｍ3）である。このように閉
じた空間４内の被焼成体５で占有されない空間が狭いの
で、被焼成体５からの僅かの蒸散で閉じた空間４内は飽
和蒸気圧に達し、それ以上蒸散できないので、焼成後の
ＰＺＴは組成変化が少なく、良好な圧電特性を示した。
【００２０】また、本実施例の焼成用セッターでは１個
の閉じた空間に１個の被焼成体がほとんど隙間なく入っ
ているので、四方八方からの熱の供給を受け、焼きむら
のないＰＺＴを焼成することができた。
の閉じた空間に１個の被焼成体がほとんど隙間なく入っ
ているので、四方八方からの熱の供給を受け、焼きむら
のないＰＺＴを焼成することができた。
【図１】実施例１の焼成用セッター２個を積層した断面
図。
図。
【図２】実施例２の焼成用セッターを２個積層した平面
図。
図。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図。
【符号の説明】 １・・焼成用セッター ２・・板状体 ３・・凹
部 ４・・閉じた空間 ５・・被焼成体
部 ４・・閉じた空間 ５・・被焼成体
Claims (5)
- 【請求項１】セラミックス製の上面および下面が平行な
板状であり、該上面および該下面の少なくとも一方はセ
ラミックス粉末成型体（被焼成体）が収納されて焼成さ
れる凹部をもち、複数個積層されて前記凹部が蓋をされ
て閉じた空間となることを特徴とする焼成用セッター。 - 【請求項２】前記凹部は前記上面および下面と平行な底
面をもつ請求項１記載の焼成用セッター。 - 【請求項３】前記凹部は前記上面および前記下面に形成
されている請求項１記載の焼成用セッター。 - 【請求項４】前記凹部は同一面上に複数形成されている
請求項１記載の焼成用セッター。 - 【請求項５】前記セラミックスはジルコニアである請求
項１記載の焼成用セッター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10032827A JPH11228237A (ja) | 1998-02-16 | 1998-02-16 | 焼成用セッター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10032827A JPH11228237A (ja) | 1998-02-16 | 1998-02-16 | 焼成用セッター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11228237A true JPH11228237A (ja) | 1999-08-24 |
Family
ID=12369671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10032827A Pending JPH11228237A (ja) | 1998-02-16 | 1998-02-16 | 焼成用セッター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11228237A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016124771A (ja) * | 2015-01-07 | 2016-07-11 | 東京窯業株式会社 | 電子部品焼成用焼成治具 |
| JP2018169110A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 日本碍子株式会社 | 焼成用セッター |
| CN114791225A (zh) * | 2021-01-25 | 2022-07-26 | 南京以太通信技术有限公司 | 隔离垫片和坯块组件 |
-
1998
- 1998-02-16 JP JP10032827A patent/JPH11228237A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016124771A (ja) * | 2015-01-07 | 2016-07-11 | 東京窯業株式会社 | 電子部品焼成用焼成治具 |
| JP2018169110A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 日本碍子株式会社 | 焼成用セッター |
| CN114791225A (zh) * | 2021-01-25 | 2022-07-26 | 南京以太通信技术有限公司 | 隔离垫片和坯块组件 |
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