JPH11228374A - 光遮蔽組成物 - Google Patents
光遮蔽組成物Info
- Publication number
- JPH11228374A JPH11228374A JP10338823A JP33882398A JPH11228374A JP H11228374 A JPH11228374 A JP H11228374A JP 10338823 A JP10338823 A JP 10338823A JP 33882398 A JP33882398 A JP 33882398A JP H11228374 A JPH11228374 A JP H11228374A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- derivative
- parsol
- light
- weight
- derivatives
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
- A61K8/35—Ketones, e.g. benzophenone
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
- A61K8/36—Carboxylic acids; Salts or anhydrides thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
- A61K8/37—Esters of carboxylic acids
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P17/00—Drugs for dermatological disorders
- A61P17/16—Emollients or protectives, e.g. against radiation
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q1/00—Make-up preparations; Body powders; Preparations for removing make-up
- A61Q1/02—Preparations containing skin colorants, e.g. pigments
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q5/00—Preparations for care of the hair
- A61Q5/02—Preparations for cleaning the hair
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Birds (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 広いＵＶ線吸収帯域を有し、光安定な光遮蔽
組成物を提供する。 【解決手段】 少なくとも１つの脂肪相、ならびにａ）
ジベンゾイルメタン誘導体約０．５〜５重量％；ｂ）
３，３−ジフェニルアクリレート誘導体またはベンジリ
デンカンファー誘導体約０．５〜１２重量％；および
ｃ）水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導体約１〜１５
重量％を含む光に安定な化粧品用の光遮蔽組成物であ
る。
組成物を提供する。 【解決手段】 少なくとも１つの脂肪相、ならびにａ）
ジベンゾイルメタン誘導体約０．５〜５重量％；ｂ）
３，３−ジフェニルアクリレート誘導体またはベンジリ
デンカンファー誘導体約０．５〜１２重量％；および
ｃ）水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導体約１〜１５
重量％を含む光に安定な化粧品用の光遮蔽組成物であ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、波長２８０〜３２
０nm（ＵＶ−Ｂ）および３２０〜４００nm（ＵＶ−Ａ）
の紫外線からヒトの表皮および毛髪を保護するための、
光に安定な化粧品用の光遮蔽組成物に関する。特に、本
発明は、ＵＶ−Ａ遮蔽剤としてジベンゾイルメタン誘導
体、安定化剤として３，３−ジフェニルアクリレート誘
導体またはベンジリデンカンファー誘導体、およびＵＶ
−Ｂ遮蔽剤として水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導
体を含有する化粧品用の光遮蔽組成物に関する。
０nm（ＵＶ−Ｂ）および３２０〜４００nm（ＵＶ−Ａ）
の紫外線からヒトの表皮および毛髪を保護するための、
光に安定な化粧品用の光遮蔽組成物に関する。特に、本
発明は、ＵＶ−Ａ遮蔽剤としてジベンゾイルメタン誘導
体、安定化剤として３，３−ジフェニルアクリレート誘
導体またはベンジリデンカンファー誘導体、およびＵＶ
−Ｂ遮蔽剤として水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導
体を含有する化粧品用の光遮蔽組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジベンゾイルメタン誘導体、例えば４−
tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン（PA
RSOL 1789）は、ＵＶ−Ａ線を極めて有意にかつ有効に
３８０nmまで吸収する。しかしながら、ＵＶ線の広い帯
域での吸収が要求された場合、ＵＶ−Ａをブロックする
日焼け止め剤にそれ単味で使用できるものはない。つま
り、ＵＶ−Ａフィルターは、通常、ＵＶ−Ｂ吸収剤と組
合せなければならない。最も一般に普及しているのは、
４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン
と２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート（PA
RSOL MCX）との組合せである。そのような組合せは、米
国特許第４，３８７，０８９号明細書に記載されてい
る。多くの通例の調製品が、PARSOL 1789とPARSOL MCX
との組合せを含む。
tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン（PA
RSOL 1789）は、ＵＶ−Ａ線を極めて有意にかつ有効に
３８０nmまで吸収する。しかしながら、ＵＶ線の広い帯
域での吸収が要求された場合、ＵＶ−Ａをブロックする
日焼け止め剤にそれ単味で使用できるものはない。つま
り、ＵＶ−Ａフィルターは、通常、ＵＶ−Ｂ吸収剤と組
合せなければならない。最も一般に普及しているのは、
４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン
と２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート（PA
RSOL MCX）との組合せである。そのような組合せは、米
国特許第４，３８７，０８９号明細書に記載されてい
る。多くの通例の調製品が、PARSOL 1789とPARSOL MCX
との組合せを含む。
【０００３】ジベンゾイルメタン誘導体は光に不安定で
あるので、これらのＵＶ−Ａフィルターを光に安定化さ
せることが必要である。
あるので、これらのＵＶ−Ａフィルターを光に安定化さ
せることが必要である。
【０００４】ＵＶ−Ａフィルターとしてジベンゾイルメ
タン誘導体に基づき、そして３，３−ジフェニルアクリ
レート誘導体で光安定化された化粧品用の光遮蔽組成物
は、欧州特許第０，５１４，４９１号明細書に記載され
ている。該公知組成物は、少なくとも１つの脂肪相、ジ
ベンゾイルメタン誘導体を１〜５重量％および３，３−
ジフェニルアクリレート誘導体を少なくとも１重量％を
含む。ジベンゾイルメタン誘導体対３，３−ジフェニル
アクリレート誘導体のモル比は、０．８以上８以下であ
る。該光遮蔽組成物は、さらに水溶性ＵＶ−Ｂ遮蔽剤、
例えば２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン
酸（PARSOL HS）、テレフタリデン−３−３′−ジカン
ファー−１０−１０′−ジスルホン酸（MEXORYL SX）お
よび水溶性ＵＶ−Ａ遮蔽剤、例えば２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸（UNIVUL M
S-40）を含有してもよい。しかし、ケイ皮酸誘導体は記
述されていない。
タン誘導体に基づき、そして３，３−ジフェニルアクリ
レート誘導体で光安定化された化粧品用の光遮蔽組成物
は、欧州特許第０，５１４，４９１号明細書に記載され
ている。該公知組成物は、少なくとも１つの脂肪相、ジ
ベンゾイルメタン誘導体を１〜５重量％および３，３−
ジフェニルアクリレート誘導体を少なくとも１重量％を
含む。ジベンゾイルメタン誘導体対３，３−ジフェニル
アクリレート誘導体のモル比は、０．８以上８以下であ
る。該光遮蔽組成物は、さらに水溶性ＵＶ−Ｂ遮蔽剤、
例えば２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン
酸（PARSOL HS）、テレフタリデン−３−３′−ジカン
ファー−１０−１０′−ジスルホン酸（MEXORYL SX）お
よび水溶性ＵＶ−Ａ遮蔽剤、例えば２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸（UNIVUL M
S-40）を含有してもよい。しかし、ケイ皮酸誘導体は記
述されていない。
【０００５】欧州特許出願公開第０，７８０，１１９号
明細書は、少なくとも１つの脂肪相、ジベンゾイルメタ
ン誘導体０．１〜５重量％および、安定剤として３，３
−ジフェニルアクリレート誘導体を含む０．５〜４．５
重量％光安定性化粧品用光遮蔽組成物を記載する。ジベ
ンゾイルメタン誘導体対３，３−ジフェニルアクリレー
ト誘導体のモル比は、０．８未満である。該光遮蔽組成
物は、さらにポリシロキサン誘導体、ポリアクリレート
誘導体または微細金属酸化物をＵＶ−Ｂフィルターとし
て含有してもよい。しかし、ケイ皮酸誘導体は記述され
ていない。
明細書は、少なくとも１つの脂肪相、ジベンゾイルメタ
ン誘導体０．１〜５重量％および、安定剤として３，３
−ジフェニルアクリレート誘導体を含む０．５〜４．５
重量％光安定性化粧品用光遮蔽組成物を記載する。ジベ
ンゾイルメタン誘導体対３，３−ジフェニルアクリレー
ト誘導体のモル比は、０．８未満である。該光遮蔽組成
物は、さらにポリシロキサン誘導体、ポリアクリレート
誘導体または微細金属酸化物をＵＶ−Ｂフィルターとし
て含有してもよい。しかし、ケイ皮酸誘導体は記述され
ていない。
【０００６】ＵＶ−Ａフィルターとしてジベンゾイルメ
タン誘導体に基づき、かつベンジリデンカンファー誘導
体で光安定化された化粧品用の光遮蔽組成物は、米国特
許第５，６０５，６８０号明細書に記載されている。該
公知組成物は、少なくとも１つの脂肪相、４−tert−ブ
チル−４′−メトキシジベンゾイルメタン１〜３重量％
およびｐ−メチルベンジリデンカンファーを少なくとも
４．５重量％を含んでいる。４−tert−ブチル−４′−
メトキシジベンゾイルメタン対ｐ−メチルベンジリデン
カンファーの重量比は、３以上である。さらなるＵＶ−
ＡまたはＵＶ−Ｂフィルターは、この特許公報には記述
されていない。
タン誘導体に基づき、かつベンジリデンカンファー誘導
体で光安定化された化粧品用の光遮蔽組成物は、米国特
許第５，６０５，６８０号明細書に記載されている。該
公知組成物は、少なくとも１つの脂肪相、４−tert−ブ
チル−４′−メトキシジベンゾイルメタン１〜３重量％
およびｐ−メチルベンジリデンカンファーを少なくとも
４．５重量％を含んでいる。４−tert−ブチル−４′−
メトキシジベンゾイルメタン対ｐ−メチルベンジリデン
カンファーの重量比は、３以上である。さらなるＵＶ−
ＡまたはＵＶ−Ｂフィルターは、この特許公報には記述
されていない。
【０００７】一般的な幅広い帯域の光遮蔽組成物の非常
に多くは、必須のＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ａフィルターと
して、順にPARSOL MCX およびPARSOL 1789に基づいてい
る。追加分のＵＶフィルターは任意である。そのような
場合に多くは、上記した欧州特許第０，５１４，４９１
号明細書および欧州特許出願公開第０，７８０，１１９
号明細書に示唆されているように、オクトクリレンによ
るPARSOL 1789の安定化が充分ではない。上記の米国特
許第５，６０５，６８０号明細書に示唆されているよう
に、ｐ−メチルベンジリデンカンファーによるPARSOL 1
789の安定化も、また充分ではない。
に多くは、必須のＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ａフィルターと
して、順にPARSOL MCX およびPARSOL 1789に基づいてい
る。追加分のＵＶフィルターは任意である。そのような
場合に多くは、上記した欧州特許第０，５１４，４９１
号明細書および欧州特許出願公開第０，７８０，１１９
号明細書に示唆されているように、オクトクリレンによ
るPARSOL 1789の安定化が充分ではない。上記の米国特
許第５，６０５，６８０号明細書に示唆されているよう
に、ｐ−メチルベンジリデンカンファーによるPARSOL 1
789の安定化も、また充分ではない。
【０００８】
【発明の説明】ＵＶ−Ａフィルターとしてジベンゾイル
メタン誘導体、ＵＶ−Ｂフィルターとして水溶性ｐ−メ
トキシシンナメート誘導体、および安定剤として３，３
−ジフェニルアクリレート誘導体またはベンジリデンカ
ンファー誘導体を含む光遮蔽組成物は、慣用のPARSOL M
CXをＵＶ−Ｂフィルターとして含有する対応する光遮蔽
組成物に比べて、驚くほど高い光安定性を示すことが見
出された。
メタン誘導体、ＵＶ−Ｂフィルターとして水溶性ｐ−メ
トキシシンナメート誘導体、および安定剤として３，３
−ジフェニルアクリレート誘導体またはベンジリデンカ
ンファー誘導体を含む光遮蔽組成物は、慣用のPARSOL M
CXをＵＶ−Ｂフィルターとして含有する対応する光遮蔽
組成物に比べて、驚くほど高い光安定性を示すことが見
出された。
【０００９】したがって、本発明は、少なくとも１つの
脂肪相、ならびに ａ）ジベンゾイルメタン誘導体約０．５〜５重量％； ｂ）３，３−ジフェニルアクリレート誘導体またはベン
ジリデンカンファー誘導体約０．５〜１２重量％；およ
び ｃ）水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導体約１〜１５
重量％を含む化粧品用の光遮蔽組成物に関する。
脂肪相、ならびに ａ）ジベンゾイルメタン誘導体約０．５〜５重量％； ｂ）３，３−ジフェニルアクリレート誘導体またはベン
ジリデンカンファー誘導体約０．５〜１２重量％；およ
び ｃ）水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導体約１〜１５
重量％を含む化粧品用の光遮蔽組成物に関する。
【００１０】「ジベンゾイルメタン誘導体」という語
は、本明細書では、例えば４−tert−ブチル−４′−メ
トキシジベンゾイルメタン、２−メチルジベンゾイルメ
タン、４−メチル−ジベンゾイルエタン、４−イソプロ
ピルジベンゾイルメタン、４−tert−ブチルジベンゾイ
ルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，
５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４′−ジイソプ
ロピルジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロ
ピル−４′−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル
−５−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタ
ン、２，４−ジメチル−４′−メトキシジベンゾイルメ
タンおよび２，６−ジメチル−４−tert−ブチル−４′
−メトキシジベンゾイルメタンのような化合物を意味す
る。
は、本明細書では、例えば４−tert−ブチル−４′−メ
トキシジベンゾイルメタン、２−メチルジベンゾイルメ
タン、４−メチル−ジベンゾイルエタン、４−イソプロ
ピルジベンゾイルメタン、４−tert−ブチルジベンゾイ
ルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，
５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４′−ジイソプ
ロピルジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロ
ピル−４′−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル
−５−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタ
ン、２，４−ジメチル−４′−メトキシジベンゾイルメ
タンおよび２，６−ジメチル−４−tert−ブチル−４′
−メトキシジベンゾイルメタンのような化合物を意味す
る。
【００１１】ジベンゾイルメタン誘導体が、４−tert−
ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン（PARSOL 1
789）であることが好ましい。
ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタン（PARSOL 1
789）であることが好ましい。
【００１２】「３，３−ジフェニルアクリレート誘導
体」という語は、本明細書では、例えば２−エチルヘキ
シル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート
（オクトクリレン）および２−エチル−２−シアノ−
３，３−ジフェニルアクリレート（エトクリレン）のよ
うな化合物を意味する。オクトクリレンが、好ましい。
体」という語は、本明細書では、例えば２−エチルヘキ
シル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート
（オクトクリレン）および２−エチル−２−シアノ−
３，３−ジフェニルアクリレート（エトクリレン）のよ
うな化合物を意味する。オクトクリレンが、好ましい。
【００１３】「ベンジリデンカンファー誘導体」という
語は、本明細書では、好ましくはｐ−メチルベンジリデ
ンカンファー（PARSOL 5000）を意味する。
語は、本明細書では、好ましくはｐ−メチルベンジリデ
ンカンファー（PARSOL 5000）を意味する。
【００１４】ベンジリデンカンファー誘導体が、ｐ−メ
チルベンジリデンカンファーであり、３，３−ジフェニ
ルアクリレート誘導体が、２−エチルヘキシル−２−シ
アノ−３，３−ジフェニルアクリレートであることが好
ましい。
チルベンジリデンカンファーであり、３，３−ジフェニ
ルアクリレート誘導体が、２−エチルヘキシル−２−シ
アノ−３，３−ジフェニルアクリレートであることが好
ましい。
【００１５】「水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導
体」という語は、本明細書では、例えばアンモニウム−
ｐ−メトキシシンナメート、ナトリウム−ｐ−メトキシ
シンナメート、カリウム−ｐ−メトキシシンナメート、
ｐ−メトキシケイ皮酸の１級、２級または３級アミンの
塩、例えばモノ、ジまたはトリエタノールアミン塩、ア
ミノメチルプロパノール塩、モルフォリン塩などのよう
な化合物を意味する。モノ、ジおよびトリエタノールア
ミン塩が、好ましい。
体」という語は、本明細書では、例えばアンモニウム−
ｐ−メトキシシンナメート、ナトリウム−ｐ−メトキシ
シンナメート、カリウム−ｐ−メトキシシンナメート、
ｐ−メトキシケイ皮酸の１級、２級または３級アミンの
塩、例えばモノ、ジまたはトリエタノールアミン塩、ア
ミノメチルプロパノール塩、モルフォリン塩などのよう
な化合物を意味する。モノ、ジおよびトリエタノールア
ミン塩が、好ましい。
【００１６】水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導体
が、ｐ−メトキシケイ皮酸のモノエタノールアミン塩、
ジエタノールアミン塩またはトリエタノールアミン塩で
あることが好ましい。
が、ｐ−メトキシケイ皮酸のモノエタノールアミン塩、
ジエタノールアミン塩またはトリエタノールアミン塩で
あることが好ましい。
【００１７】水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導体対
ジベンゾイルメタン誘導体のモル比または重量比、およ
び３，３−ジフェニルアクリレート誘導体対ジベンゾイ
ルメタン誘導体、もしくはベンジリデンカンファー誘導
体対ジベンゾイルメタン誘導体のモル比もしくは重量比
は不可欠ではない。以下の濃度が好ましい。 ａ）ジベンゾイルメタン誘導体約０．５〜３重量％； ｂ）３，３−ジフェニルアクリレート誘導体またはベン
ジリデンカンファー誘導体約０．５〜１０重量％；およ
び ｃ）水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導体約１〜１０
重量％
ジベンゾイルメタン誘導体のモル比または重量比、およ
び３，３−ジフェニルアクリレート誘導体対ジベンゾイ
ルメタン誘導体、もしくはベンジリデンカンファー誘導
体対ジベンゾイルメタン誘導体のモル比もしくは重量比
は不可欠ではない。以下の濃度が好ましい。 ａ）ジベンゾイルメタン誘導体約０．５〜３重量％； ｂ）３，３−ジフェニルアクリレート誘導体またはベン
ジリデンカンファー誘導体約０．５〜１０重量％；およ
び ｃ）水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導体約１〜１０
重量％
【００１８】本発明によれば、 ａ）４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメ
タン約０．５〜５重量％； ｂ）２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェ
ニルアクリレート約０．５〜１２重量％；および ｃ）ｐ−メトキシケイ皮酸のモノエタノールアミン塩、
ジエタノールアミン塩またはトリエタノールアミン塩約
１〜１５重量％を含むことが好ましい。
タン約０．５〜５重量％； ｂ）２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェ
ニルアクリレート約０．５〜１２重量％；および ｃ）ｐ−メトキシケイ皮酸のモノエタノールアミン塩、
ジエタノールアミン塩またはトリエタノールアミン塩約
１〜１５重量％を含むことが好ましい。
【００１９】本発明によれば、 ａ）４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメ
タン約０．５〜５重量％； ｂ）ｐ−メチルベンジリデンカンファー約０．５〜１２
重量％；および ｃ）ｐ−メトキシケイ皮酸のモノエタノールアミン塩、
ジエタノールアミン塩またはトリエタノールアミン塩約
１〜１５重量％を含むことが好ましい。
タン約０．５〜５重量％； ｂ）ｐ−メチルベンジリデンカンファー約０．５〜１２
重量％；および ｃ）ｐ−メトキシケイ皮酸のモノエタノールアミン塩、
ジエタノールアミン塩またはトリエタノールアミン塩約
１〜１５重量％を含むことが好ましい。
【００２０】ＵＶ−Ａフィルターとして使用されるジベ
ンゾイルメタン誘導体および安定剤として使用される
３，３−ジフェニルアクリレート誘導体は、どちらも親
油性である。つまり、この化粧品用の光遮蔽組成物は少
なくとも１つの脂肪相を含有し、従ってそれら自身を、
エマルジョン、ローションまたはゲルの形態で与えるこ
とができる。
ンゾイルメタン誘導体および安定剤として使用される
３，３−ジフェニルアクリレート誘導体は、どちらも親
油性である。つまり、この化粧品用の光遮蔽組成物は少
なくとも１つの脂肪相を含有し、従ってそれら自身を、
エマルジョン、ローションまたはゲルの形態で与えるこ
とができる。
【００２１】本発明の範囲内における光遮蔽組成物につ
いて慣用である化粧品基剤は、例えばオイル、ローショ
ン、クリーム、乳剤、ゲル、固形スティック、エアロゾ
ル、スプレー、泡状物、粉末、シャンプー、ヘアコンデ
ィショナー、ラッカーまたはメークアップ用品などの形
態で、化粧品の需要に応じる、いかなる慣用の調製品で
あってもよい。
いて慣用である化粧品基剤は、例えばオイル、ローショ
ン、クリーム、乳剤、ゲル、固形スティック、エアロゾ
ル、スプレー、泡状物、粉末、シャンプー、ヘアコンデ
ィショナー、ラッカーまたはメークアップ用品などの形
態で、化粧品の需要に応じる、いかなる慣用の調製品で
あってもよい。
【００２２】当業者に公知の通常の基本的な化合物を、
これらの形態の調製のために用いてもよく、例えば油
類、ワックス類、アルコール類、ポリオール類などであ
る。好ましい化合物は、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪
族アルコール、またエタノール、イソプロパノール、プ
ロピレングリコール、グリセリンなどである。
これらの形態の調製のために用いてもよく、例えば油
類、ワックス類、アルコール類、ポリオール類などであ
る。好ましい化合物は、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪
族アルコール、またエタノール、イソプロパノール、プ
ロピレングリコール、グリセリンなどである。
【００２３】化粧品処方は、さらなる助剤、例えばさら
なる溶媒、増粘剤、皮膚軟化剤、乳化剤、湿潤剤、界面
活性剤（tenside）、防腐剤、防発泡剤、芳香剤、オイ
ル、ワックス、低級のポリオール及び低級の１価アルコ
ール、プロペラント、シリコーン類、色素ならびに顔料
などを含有していてもよい。
なる溶媒、増粘剤、皮膚軟化剤、乳化剤、湿潤剤、界面
活性剤（tenside）、防腐剤、防発泡剤、芳香剤、オイ
ル、ワックス、低級のポリオール及び低級の１価アルコ
ール、プロペラント、シリコーン類、色素ならびに顔料
などを含有していてもよい。
【００２４】毛髪の保護の場合、適切な製剤は、シャン
プー、コンディショナー、ローション、ゲル、エマルジ
ョン、分散物、ラッカーなどである。
プー、コンディショナー、ローション、ゲル、エマルジ
ョン、分散物、ラッカーなどである。
【００２５】さらに、モノマーもしくはポリマーのＵＶ
フィルターを添加してもよい。
フィルターを添加してもよい。
【００２６】適切なＵＶ−Ｂフィルター、すなわち約２
９０〜３２０nmに吸収極大を有する物質は、例えば以下
の有機化合物であり、これらは最も広範な部類の物質に
属する。 − ｐ−アミノ安息香酸誘導体類、例えばエチル ｐ−
アミノベンゾエート、プロピル ｐ−アミノベンゾエー
ト、ブチル ｐ−アミノベンゾエート、およびイソブチ
ル ｐ−アミノベンゾエートなど； − アクリレート類、例えば２−エチルヘキシル−２−
シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート（オクトクリ
レン）、エチル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアク
リレートなど； − アニリン誘導体類、例えばメチルアニリニウム メ
トサルフェートなど； − アントラニル酸誘導体類、例えばメンチルアントラ
ニレートなど； − ベンゾフェノン誘導体類、例えばベンゾフェノン−
３、ベンゾフェノン−４など； − カンファー誘導体類、例えばメチルベンジリデンカ
ンファーなど； − シンナメート誘導体類、例えばオクチルメトキシシ
ンナメートまたはエトキシエチルメトキシシンナメート
など、ならびにシロキサンに結合したケイ皮酸誘導体； − 没食子酸誘導体類、例えばジギャロイルトリオレー
トなど； − イミダゾール誘導体類、例えばフェニルベンズイミ
ダゾールスルホン酸など； − サリチレート誘導体類、例えばオクチルサリチレー
ト、ホモメンチルサリチレートなど； − トリアゾール誘導体類、例えばヒドロキシフェニル
ベンズトリアゾールなど； − トリアゾン誘導体類、例えばオクチルトリアゾンな
ど；および − 顔料、例えば微粒子化したＴｉＯ2、ＺｎＯなど
９０〜３２０nmに吸収極大を有する物質は、例えば以下
の有機化合物であり、これらは最も広範な部類の物質に
属する。 − ｐ−アミノ安息香酸誘導体類、例えばエチル ｐ−
アミノベンゾエート、プロピル ｐ−アミノベンゾエー
ト、ブチル ｐ−アミノベンゾエート、およびイソブチ
ル ｐ−アミノベンゾエートなど； − アクリレート類、例えば２−エチルヘキシル−２−
シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート（オクトクリ
レン）、エチル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアク
リレートなど； − アニリン誘導体類、例えばメチルアニリニウム メ
トサルフェートなど； − アントラニル酸誘導体類、例えばメンチルアントラ
ニレートなど； − ベンゾフェノン誘導体類、例えばベンゾフェノン−
３、ベンゾフェノン−４など； − カンファー誘導体類、例えばメチルベンジリデンカ
ンファーなど； − シンナメート誘導体類、例えばオクチルメトキシシ
ンナメートまたはエトキシエチルメトキシシンナメート
など、ならびにシロキサンに結合したケイ皮酸誘導体； − 没食子酸誘導体類、例えばジギャロイルトリオレー
トなど； − イミダゾール誘導体類、例えばフェニルベンズイミ
ダゾールスルホン酸など； − サリチレート誘導体類、例えばオクチルサリチレー
ト、ホモメンチルサリチレートなど； − トリアゾール誘導体類、例えばヒドロキシフェニル
ベンズトリアゾールなど； − トリアゾン誘導体類、例えばオクチルトリアゾンな
ど；および − 顔料、例えば微粒子化したＴｉＯ2、ＺｎＯなど
【００２７】適切なポリマー性フィルターは、欧州特許
第５３８，４３１号に記載されているようなポリシロキ
サン類である。
第５３８，４３１号に記載されているようなポリシロキ
サン類である。
【００２８】本発明の組成物はさらに、ＵＶ-Ａフィル
ター、例えば欧州特許出願公開第０，６９３，４８３
号、同０，７０４，４３７号、同０，７０４，４４４
号、同０，７８０，３８２号に記載されているようなト
リアジン化合物を含有してもよい。
ター、例えば欧州特許出願公開第０，６９３，４８３
号、同０，７０４，４３７号、同０，７０４，４４４
号、同０，７８０，３８２号に記載されているようなト
リアジン化合物を含有してもよい。
【００２９】これらの調合の調製法は、すべて当業者に
よく知られている。
よく知られている。
【００３０】欧州特許出願公開第０，７８０，１１９号
に記載されているように、ＵＶ−Ａフィルターを用いる
量より少ない量で安定剤を用いることが要求される場合
がある。かくして、ジベンゾイルメタン誘導体対３，３
−ジフェニルアクリレート誘導体の好ましいモル比は
０．８未満であり、ジベンゾイルメタン誘導体対ｐ−メ
チルベンジリデンカンファーの好ましい重量比は３未満
である。
に記載されているように、ＵＶ−Ａフィルターを用いる
量より少ない量で安定剤を用いることが要求される場合
がある。かくして、ジベンゾイルメタン誘導体対３，３
−ジフェニルアクリレート誘導体の好ましいモル比は
０．８未満であり、ジベンゾイルメタン誘導体対ｐ−メ
チルベンジリデンカンファーの好ましい重量比は３未満
である。
【００３１】さらに、公知のＵＶ−Ａおよび／またはＵ
Ｖ−Ｂ遮蔽剤を含むことが好ましい。
Ｖ−Ｂ遮蔽剤を含むことが好ましい。
【００３２】以下の実施例は、本発明が提供する光遮蔽
剤を詳細に説明するが、いかなる意味においても本発明
を限定するものではない。
剤を詳細に説明するが、いかなる意味においても本発明
を限定するものではない。
【００３３】これらの実施例において、選ばれた略語お
よび商品名は、以下の意味を有する： PARSOL 1789 ロシュ社により、PARSOL 1789の商品名
で販売されている、４−tert−ブチル−４′−メトキシ
ジベンゾイルメタン。 PARSOL MCX ロシュ社により、PARSOL MCXの商品名で
販売されている、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシ
ンナメート。 PARSOL Hydro ロシュ社により、PARSOL Hydroの商品
名で販売されている、ｐ−メトキシケイ皮酸のジエタノ
ールアミン塩。 PARSOL 5000 ロシュ社により、PARSOL 5000の商品名
で販売されている、ｐ−メチルベンジリデンカンファ
ー。 UNIVUL N-539 ＢＡＳＦ社によりUNIVUL N-539の商品
名で販売されている、２−エチルヘキシル−２−シアノ
−３，３−ジフェニルアクリレート（オクトクリレ
ン）。
よび商品名は、以下の意味を有する： PARSOL 1789 ロシュ社により、PARSOL 1789の商品名
で販売されている、４−tert−ブチル−４′−メトキシ
ジベンゾイルメタン。 PARSOL MCX ロシュ社により、PARSOL MCXの商品名で
販売されている、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシ
ンナメート。 PARSOL Hydro ロシュ社により、PARSOL Hydroの商品
名で販売されている、ｐ−メトキシケイ皮酸のジエタノ
ールアミン塩。 PARSOL 5000 ロシュ社により、PARSOL 5000の商品名
で販売されている、ｐ−メチルベンジリデンカンファ
ー。 UNIVUL N-539 ＢＡＳＦ社によりUNIVUL N-539の商品
名で販売されている、２−エチルヘキシル−２−シアノ
−３，３−ジフェニルアクリレート（オクトクリレ
ン）。
【００３４】CETIOL LC ヘンケル（Henkel）社によ
りCETIOL LCの商品名で販売されている、ココ−カプリ
レート−カプレート。 GANEX V 220 ＩＳＰ社によりGANEX V 220の商品名で
販売されている、ポリビニルピロリドン／エイコセンコ
ポリマー。 MIGLYOL 812 N ヒュルス（Huels）社によりMIGLYOL
812 Nの商品名で販売されている、カプリル酸カプリン
酸トリグリセリド。 ＢＨＴ ブチルヒドロキシトルオール（２，６−ジ−
tert−ブチル−４‐メチルフェノール）。 ＥＤＴＡ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩。
りCETIOL LCの商品名で販売されている、ココ−カプリ
レート−カプレート。 GANEX V 220 ＩＳＰ社によりGANEX V 220の商品名で
販売されている、ポリビニルピロリドン／エイコセンコ
ポリマー。 MIGLYOL 812 N ヒュルス（Huels）社によりMIGLYOL
812 Nの商品名で販売されている、カプリル酸カプリン
酸トリグリセリド。 ＢＨＴ ブチルヒドロキシトルオール（２，６−ジ−
tert−ブチル−４‐メチルフェノール）。 ＥＤＴＡ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩。
【００３５】PHENONIP ＮＩＰＡ Ｌｔｄ．社により
PHENONIPの商品名で販売されている、４−ヒドロキシ安
息香酸エステル類の混合物。 LANETTE O ヘンケル社によりLANETTE Oの商品名で販
売されている、セテアリルアルコール（cetearyl alcoh
ol）。 CUTINA E 24 ヘンケル社によりCUTINA E 24の商品名
で販売されている、グリセリルステアレート。 CARBOPOL 981 ビーエフグッドリッチ（B. F. Goodri
ch）社によりCARBOPOL 981の商品名で販売されている、
Carbomer 981（蔗糖のアリルエーテルで架橋した１０．
０％アクリル酸のホモポリマーの、水中１％分散物）。 ARLAMOL E ＩＣＩ社により販売されているＰＯＰ−
（１５）−ステアリルアルコール。
PHENONIPの商品名で販売されている、４−ヒドロキシ安
息香酸エステル類の混合物。 LANETTE O ヘンケル社によりLANETTE Oの商品名で販
売されている、セテアリルアルコール（cetearyl alcoh
ol）。 CUTINA E 24 ヘンケル社によりCUTINA E 24の商品名
で販売されている、グリセリルステアレート。 CARBOPOL 981 ビーエフグッドリッチ（B. F. Goodri
ch）社によりCARBOPOL 981の商品名で販売されている、
Carbomer 981（蔗糖のアリルエーテルで架橋した１０．
０％アクリル酸のホモポリマーの、水中１％分散物）。 ARLAMOL E ＩＣＩ社により販売されているＰＯＰ−
（１５）−ステアリルアルコール。
【００３６】ARLAMOL HD ＩＣＩ社により販売されて
いるヘプタメチルノナン。 BRIJ 72 ＩＣＩ社により販売されているＰＯＥ−
（２）−ステアリルアルコール。 BRIJ 721 ＩＣＩ社により販売されているＰＯＥ−
（２１）−ステアリルアルコール。 ARLACEL P135 ＩＣＩ社により販売されているＰＥＧ
−３０ ジポリヒドロキシステアレート。 ステアリン酸 ウニケマ（Unichema）社により販売さ
れているステアリン酸。 Silbione oil 70047 V20 ローヌ プーラン（Rhone
Poulenc）社により販売されているシクロメチコン。
いるヘプタメチルノナン。 BRIJ 72 ＩＣＩ社により販売されているＰＯＥ−
（２）−ステアリルアルコール。 BRIJ 721 ＩＣＩ社により販売されているＰＯＥ−
（２１）−ステアリルアルコール。 ARLACEL P135 ＩＣＩ社により販売されているＰＥＧ
−３０ ジポリヒドロキシステアレート。 ステアリン酸 ウニケマ（Unichema）社により販売さ
れているステアリン酸。 Silbione oil 70047 V20 ローヌ プーラン（Rhone
Poulenc）社により販売されているシクロメチコン。
【００３７】Keltrol ケルコ（Kelco）社により販売
されているキサンタンガム。 プロピレングリコール ＢＡＳＦ社により販売されて
いる１，２−プロパンジオール。 Umordant P コスメトケム（Cosmetochem）社により
販売されている、水、乳酸ナトリウム、ナトリウムＰＣ
Ａ、尿素、加水分解した野菜タンパク質およびアスパラ
ガス抽出物およびリン酸ナトリウム。
されているキサンタンガム。 プロピレングリコール ＢＡＳＦ社により販売されて
いる１，２−プロパンジオール。 Umordant P コスメトケム（Cosmetochem）社により
販売されている、水、乳酸ナトリウム、ナトリウムＰＣ
Ａ、尿素、加水分解した野菜タンパク質およびアスパラ
ガス抽出物およびリン酸ナトリウム。
【００３８】実施例３Ａ、３Ｂ、４、５、６、７、８
Ａ、８Ｂ、１０Ａ−Ｃ、１１、１２、１３Ｂ、１３Ｃに
記載されているｐ−メトキシケイ皮酸の塩は、ｐ−メト
キシケイ皮酸を、適切な溶媒中で適切な塩基と混合する
ことによって調製し、結晶化によって精製した。
Ａ、８Ｂ、１０Ａ−Ｃ、１１、１２、１３Ｂ、１３Ｃに
記載されているｐ−メトキシケイ皮酸の塩は、ｐ−メト
キシケイ皮酸を、適切な溶媒中で適切な塩基と混合する
ことによって調製し、結晶化によって精製した。
【００３９】実施例１Ａおよび１Ｂは、安定剤としてオ
クトクリレン、およびＵＶ−Ｂフィルターとして、水溶
性ｐ−メトキシシンナメートの代わりにPARSOL MCXを含
有する比較例である。
クトクリレン、およびＵＶ−Ｂフィルターとして、水溶
性ｐ−メトキシシンナメートの代わりにPARSOL MCXを含
有する比較例である。
【００４０】実施例１Ｃは、安定剤としてPARSOL 500
0、およびＵＶ−Ｂフィルターとして、水溶性ｐ−メト
キシシンナメートの代わりにPARSOL MCXを含有する比較
例である。
0、およびＵＶ−Ｂフィルターとして、水溶性ｐ−メト
キシシンナメートの代わりにPARSOL MCXを含有する比較
例である。
【００４１】実施例２〜８は、安定剤としてオクトクリ
レンを含有する本発明の化合物に言及する。
レンを含有する本発明の化合物に言及する。
【００４２】実施例９〜１３は、安定剤としてPARSOL 5
000を含有する本発明の化合物に言及する。
000を含有する本発明の化合物に言及する。
【００４３】実施例１４は、光安定性データを示す。
【００４４】実施例１Ａおよび１Ｂ（比較例） 下記の表に、異なる量のPARSOL MCXおよびUNIVUL N-539
を含有する日焼け止めローションを示す：
を含有する日焼け止めローションを示す：
【００４５】
【表１】
【００４６】手順：成分１〜１２を、撹拌しながら８５
℃まで加熱した。均一になった時、７５℃まで予備加熱
した成分１３〜１６を、混合しながら加えた。混合物を
４０℃まで冷却した。pH値をＫＯＨで７に調整した。水
分損失を補い、混合物を撹拌しながら室温まで冷却し
た。
℃まで加熱した。均一になった時、７５℃まで予備加熱
した成分１３〜１６を、混合しながら加えた。混合物を
４０℃まで冷却した。pH値をＫＯＨで７に調整した。水
分損失を補い、混合物を撹拌しながら室温まで冷却し
た。
【００４７】実施例１Ｂ（比較例）
【００４８】
【表２】
【００４９】手順：成分１〜１３を、撹拌しながら８５
℃まで加熱した。均一になった時に、成分１４〜１７を
７５℃まで予備加熱し、混合物に撹拌しながら加えた。
水分損失を補い、混合物を撹拌しながら室温まで冷却し
た。
℃まで加熱した。均一になった時に、成分１４〜１７を
７５℃まで予備加熱し、混合物に撹拌しながら加えた。
水分損失を補い、混合物を撹拌しながら室温まで冷却し
た。
【００５０】実施例１Ｃ（比較例） 下記の表に、異なる量のPARSOL MCXおよびPARSOL 5000
を含有する、日焼け止め乳液を示す：
を含有する、日焼け止め乳液を示す：
【００５１】
【表３】
【００５２】実施例１Ｂに従って調製した。
【００５３】実施例２Ａおよび２Ｂ 下記の表に、異なる量のPARSOL HydroおよびUNIVUL N-5
39（オクトクリレン）を含有する本発明の日焼け止めロ
ーションを示す：
39（オクトクリレン）を含有する本発明の日焼け止めロ
ーションを示す：
【００５４】実施例２Ａ
【００５５】
【表４】
【００５６】手順：成分１〜１１を、撹拌しながら８５
℃まで加熱した。均一になった時に、７５℃まで予備加
熱した成分１２〜１６を、混合しながら加えた。混合物
を４０℃まで冷却した。pH値をジエタノールアミンで７
に調整した。水分損失を補い、混合物を撹拌しながら室
温まで冷却した。
℃まで加熱した。均一になった時に、７５℃まで予備加
熱した成分１２〜１６を、混合しながら加えた。混合物
を４０℃まで冷却した。pH値をジエタノールアミンで７
に調整した。水分損失を補い、混合物を撹拌しながら室
温まで冷却した。
【００５７】実施例２Ｂ
【００５８】
【表５】
【００５９】手順：成分１〜１２を、撹拌しながら８５
℃まで加熱した。均一になった時に、成分１３〜１７を
７５℃まで予備加熱し、有機相に加えた。次に、エマル
ジョンを４０℃まで冷却した。水分損失を補い、混合物
を撹拌しながら室温まで冷却した。
℃まで加熱した。均一になった時に、成分１３〜１７を
７５℃まで予備加熱し、有機相に加えた。次に、エマル
ジョンを４０℃まで冷却した。水分損失を補い、混合物
を撹拌しながら室温まで冷却した。
【００６０】実施例３Ａおよび３Ｂ 下記の表に、異なる量のｐ−メトキシケイ皮酸のカリウ
ム塩およびUNIVUL N-539（オクトクリレン）を含有する
本発明の日焼け止めローションを示す：
ム塩およびUNIVUL N-539（オクトクリレン）を含有する
本発明の日焼け止めローションを示す：
【００６１】実施例３Ａ
【００６２】
【表６】
【００６３】手順：実施例２Ａに従った。
【００６４】実施例３Ｂ
【００６５】
【表７】
【００６６】手順：実施例２Ｂに従った。
【００６７】実施例４ 下記の表に、異なる量のｐ−メトキシケイ皮酸のナトリ
ウム塩およびUNIVUL N-539（オクトクリレン）を含有す
る本発明の日焼け止めローションを示す：
ウム塩およびUNIVUL N-539（オクトクリレン）を含有す
る本発明の日焼け止めローションを示す：
【００６８】
【表８】
【００６９】手順：実施例２Ａに従った。
【００７０】実施例５ 下記の表に、異なる量のｐ−メトキシケイ皮酸のモノエ
タノールアミン塩およびオクトクリレン（UNIVUL N-53
9）を含有する本発明の日焼け止め乳液を示す：
タノールアミン塩およびオクトクリレン（UNIVUL N-53
9）を含有する本発明の日焼け止め乳液を示す：
【００７１】
【表９】
【００７２】手順：実施例２Ｂに従った。
【００７３】実施例６ 下記の表に、異なる量のｐ−メトキシケイ皮酸のアンモ
ニウム塩およびUNIVULN-539（オクトクリレン）を含有
する本発明の日焼け止めローションを示す：
ニウム塩およびUNIVULN-539（オクトクリレン）を含有
する本発明の日焼け止めローションを示す：
【００７４】
【表１０】
【００７５】手順：実施例２Ａに従った。
【００７６】実施例７ 下記の表に、異なる量のｐ−メトキシケイ皮酸のトリエ
タノールアミン塩およびオクトクリレン（UNIVUL N-53
9）を含有する本発明に従う日焼け止め乳液を示す：
タノールアミン塩およびオクトクリレン（UNIVUL N-53
9）を含有する本発明に従う日焼け止め乳液を示す：
【００７７】
【表１１】
【００７８】手順：実施例２Ｂに従った。
【００７９】実施例８Ａおよび８Ｂ 下記の表に、異なる量のPARSOL Hydroまたはｐ−メトキ
シケイ皮酸の塩およびUNIVUL N-539を含有し、ここでPA
RSOL 1789対UNIVUL N-539のモル比が０．８未満であ
る、日焼け止めローションを示す：
シケイ皮酸の塩およびUNIVUL N-539を含有し、ここでPA
RSOL 1789対UNIVUL N-539のモル比が０．８未満であ
る、日焼け止めローションを示す：
【００８０】実施例８Ａ
【００８１】
【表１２】 手順：実施例２Ａに従った。
【００８２】実施例８Ｂ
【００８３】
【表１３】
【００８４】手順：実施例２Ｂに従った。
【００８５】実施例９Ａおよび９Ｂ 下記の表に、異なる量のPARSOL HydroおよびPARSOL 500
0を含有する本発明の日焼け止めローションを示す：
0を含有する本発明の日焼け止めローションを示す：
【００８６】実施例９Ａ
【００８７】
【表１４】
【００８８】手順：実施例２Ａに従った。
【００８９】実施例９Ｂ
【００９０】
【表１５】
【００９１】手順：実施例２Ｂに従った。
【００９２】実施例１０Ａ、１０Ｂおよび１０Ｃ 下記の表に、異なる量のｐ−メトキシケイ皮酸のカリウ
ム塩およびPARSOL 5000を含有する本発明の日焼け止め
ローションを示す：
ム塩およびPARSOL 5000を含有する本発明の日焼け止め
ローションを示す：
【００９３】実施例１０Ａ
【００９４】
【表１６】
【００９５】手順：実施例２Ａに従った。
【００９６】実施例１０Ｂ
【００９７】
【表１７】
【００９８】手順：実施例２Ｂに従った。
【００９９】実施例１０Ｃ
【０１００】
【表１８】
【０１０１】手順：実施例２Ａに従った。
【０１０２】実施例１１ 下記の表に、異なる量のｐ−メトキシケイ皮酸のモノエ
タノールアミン塩およびPARSOL 5000を含有する、本発
明に従う日焼け止め乳液を示す：
タノールアミン塩およびPARSOL 5000を含有する、本発
明に従う日焼け止め乳液を示す：
【０１０３】
【表１９】
【０１０４】手順：実施例２Ｂに従った。
【０１０５】実施例１２ 下記の表に、異なる量のｐ−メトキシケイ皮酸のトリエ
タノールアミン塩およびPARSOL 5000を含有する本発明
の日焼け止め乳液を示す：
タノールアミン塩およびPARSOL 5000を含有する本発明
の日焼け止め乳液を示す：
【０１０６】
【表２０】
【０１０７】手順：実施例２Ｂに従った。
【０１０８】実施例１３Ａ、１３Ｂおよび１３Ｃ 下記の表に、異なる量のPARSOL Hydroまたはｐ−メトキ
シケイ皮酸の塩およびPARSOL 5000を含有し、ここでPAR
SOL 1789対PARSOL 5000の重量比が３未満である、本発
明の日焼け止めローションを示す：
シケイ皮酸の塩およびPARSOL 5000を含有し、ここでPAR
SOL 1789対PARSOL 5000の重量比が３未満である、本発
明の日焼け止めローションを示す：
【０１０９】実施例１３Ａ
【０１１０】
【表２１】
【０１１１】手順：実施例２Ａに従った。
【０１１２】実施例１３Ｂ
【０１１３】
【表２２】
【０１１４】手順：実施例２Ｂに従った。
【０１１５】実施例１３Ｃ
【０１１６】
【表２３】
【０１１７】手順：実施例２Ｂに従った。
【０１１８】実施例１４ ＵＶ−Ａフィルターの物質の所望の安定化は、ソーラー
シミュレーターとして適切に装備されたキセノンランプ
を用いて、それぞれＵＶ−Ａフィルター、ＵＶ−Ｂフィ
ルターおよび安定化剤と厳密に平行した実験によって、
容易に確立された。照射されたのは、調査した製品の標
準的な調製品であり、得られた日焼け止め剤をガラス板
上に広げた。照射後、その板を適切な溶媒（例えば、エ
タノール）に浸し、ＨＰＬＣにより分析した。安定化効
果を、照射前と照射後の面積の差で直接相関した。下記
の表Ｉ〜IIIは、λmaxでの非露出試料＝１００％に対す
る、１０ ＭＥＤ単位後の吸光度の百分率で表した安定
化効果を示す。割合：残存するPARSOL 1789の割合
シミュレーターとして適切に装備されたキセノンランプ
を用いて、それぞれＵＶ−Ａフィルター、ＵＶ−Ｂフィ
ルターおよび安定化剤と厳密に平行した実験によって、
容易に確立された。照射されたのは、調査した製品の標
準的な調製品であり、得られた日焼け止め剤をガラス板
上に広げた。照射後、その板を適切な溶媒（例えば、エ
タノール）に浸し、ＨＰＬＣにより分析した。安定化効
果を、照射前と照射後の面積の差で直接相関した。下記
の表Ｉ〜IIIは、λmaxでの非露出試料＝１００％に対す
る、１０ ＭＥＤ単位後の吸光度の百分率で表した安定
化効果を示す。割合：残存するPARSOL 1789の割合
【０１１９】
【表２４】
【０１２０】
【表２５】
【０１２１】
【表２６】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アラン・ブリンゲン スイス国、ツェーハー−1257 クロワ−ド ゥ−ルゾン、ルート・ド・アネシー 221 (72)発明者 ドミニク・サイドラック フランス国、エフ−74160 サン−ジュリ アン（アン・ジェネヴワ）、アブニュ・ル ウィ・アルマンド、５ コンタミネ・エト ワル
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも１つの脂肪相、ならびに ａ）ジベンゾイルメタン誘導体約０．５〜５重量％； ｂ）３，３−ジフェニルアクリレート誘導体またはベン
ジリデンカンファー誘導体約０．５〜１２重量％；およ
び ｃ）水溶性ｐ−メトキシシンナメート誘導体約１〜１５
重量％を含む光に安定な化粧品用の光遮蔽組成物。 - 【請求項２】 ＵＶ−Ａ遮蔽剤としてジベンゾイルメタ
ン誘導体および安定剤として３，３−ジフェニルアクリ
レート誘導体またはベンジリデンカンファー誘導体を含
む化粧品用の光遮蔽組成物のための、ＵＶ−Ｂフィルタ
ーとしてｐ−メトキシケイ皮酸の水溶性塩を使用する方
法。 - 【請求項３】 波長２９０〜４００nmの紫外線の損傷作
用からヒトの表皮または毛髪を保護する方法において、
請求項１記載の化粧品用の光遮蔽組成物の有効量を皮膚
または毛髪に適用することを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP97121090.1 | 1997-12-01 | ||
| EP97121090 | 1997-12-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11228374A true JPH11228374A (ja) | 1999-08-24 |
Family
ID=8227722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10338823A Pending JPH11228374A (ja) | 1997-12-01 | 1998-11-30 | 光遮蔽組成物 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5985251A (ja) |
| JP (1) | JPH11228374A (ja) |
| KR (1) | KR19990062649A (ja) |
| CN (1) | CN1154472C (ja) |
| AU (1) | AU745721B2 (ja) |
| BR (1) | BR9805050A (ja) |
| CA (1) | CA2254585A1 (ja) |
| ID (1) | ID21391A (ja) |
| MX (1) | MX211093B (ja) |
| NO (1) | NO312396B1 (ja) |
| TW (1) | TW503111B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007523212A (ja) * | 2004-02-24 | 2007-08-16 | シーピーエイチ・イノベーションズ・コーポレイション | α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート化合物とジアルキル・ナフタネートを組み合わせた日焼け止め組成物の光安定化 |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5968485A (en) * | 1998-10-16 | 1999-10-19 | The Procter & Gamble Company | UV protection compositions |
| US6440402B1 (en) | 2001-12-14 | 2002-08-27 | Avon Products, Inc. | Photostable sunscreen compositions and methods of stabilizing |
| JP4020680B2 (ja) * | 2002-04-12 | 2007-12-12 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路 |
| US7108860B2 (en) * | 2002-06-06 | 2006-09-19 | Playtex Products, Inc. | Sunscreen compositions |
| US7244416B2 (en) * | 2002-08-22 | 2007-07-17 | Schering-Plough Healthcare Products, Inc. | Stabilized photoprotective composition |
| WO2004105704A2 (en) * | 2003-05-29 | 2004-12-09 | Sun Pharmaceuticals Corporation | Emulsion base for skin care compositions |
| KR20070120972A (ko) * | 2005-03-31 | 2007-12-26 | 유니레버 엔.브이. | 피부 유익제의 증진된 전달 |
| BRPI0612513A2 (pt) | 2005-06-20 | 2010-11-30 | Playtex Products Inc | composições não irritantes |
| BRPI0714634B8 (pt) * | 2006-08-24 | 2016-03-29 | Unilever Nv | composição cosmética fotoestável. |
| JP5311607B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2013-10-09 | 株式会社 資生堂 | 皮膚用または毛髪用組成物 |
| IL206909A0 (en) | 2008-01-11 | 2010-12-30 | Antaria Ltd | Mesoporous zinc oxide powder and method for production thereof |
| WO2010020668A1 (en) * | 2008-08-22 | 2010-02-25 | Unilever Nv | A cosmetic composition |
| US8372820B2 (en) * | 2009-04-15 | 2013-02-12 | Conopco, Inc. | Composition comprising silicone oil or oils structured with compolymers carrying greater than 70% long chain alkyl group |
| WO2011070075A2 (en) * | 2009-12-09 | 2011-06-16 | Dsm Ip Assets B.V. | Novel compounds |
| CN102781403B (zh) * | 2010-02-03 | 2016-11-23 | 荷兰联合利华有限公司 | 耐光遮光组合物 |
| RU2438647C1 (ru) * | 2010-04-30 | 2012-01-10 | Елена Юрьевна Кутузова | Косметическое средство для формирования художественного образа (варианты) |
| CN102946848A (zh) * | 2010-06-17 | 2013-02-27 | 银河界面活性剂股份有限公司 | 含有肉桂酰氨基烷基胺的2-羟基磺基甜菜碱的广谱防晒组合物 |
| EP3122321B1 (en) | 2014-03-27 | 2020-10-14 | Kancor Ingredients Ltd | Photostable sunscreen composition for topical application |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL190101C (nl) * | 1978-11-13 | 1993-11-01 | Givaudan & Cie Sa | Dibenzoylmethaanverbinding en tegen licht beschermend preparaat. |
| FR2540380B1 (fr) * | 1983-02-03 | 1986-02-07 | Oreal | Composition cosmetique pour la protection contre le rayonnement ultraviolet et son utilisation a cet effet |
| LU85746A1 (fr) * | 1985-01-28 | 1986-08-04 | Oreal | Composition cosmetique filtrante contenant un filtre uv associe a un polymere obtenu par polymerisation sequentielle en emulsion et son utilisation pour la protection de l'epiderme humain contre les radiations ultraviolettes |
| LU86703A1 (fr) * | 1986-12-08 | 1988-07-14 | Oreal | Composition cosmetique photostable contenant un filtre uv-a et un filtre uv-b,son utilisation pour la protection de la peau contre les rayons uv et procede de stabilisation du filtre uv-a par le filtre uv-b |
| FR2658075B1 (fr) * | 1990-02-14 | 1992-05-07 | Oreal | Composition cosmetique filtrante photostable contenant un filtre uv-a et un beta,beta-diphenylacrylate ou alpha-cyano-beta,beta-diphenylacrylate d'alkyle. |
| US5207998A (en) * | 1991-05-07 | 1993-05-04 | Richardson-Vicks Inc. | Suncare compositions |
| PH31287A (en) * | 1991-05-07 | 1998-07-06 | Rihardson Vicks Inc | Photoprotection compositions. |
| GB9110123D0 (en) * | 1991-05-10 | 1991-07-03 | Dow Corning | Organosilicon compounds their preparation and use |
| ES2109508T3 (es) * | 1992-08-13 | 1998-01-16 | Procter & Gamble | Composiciones de filtro solar fotoestables. |
| FR2720636B1 (fr) * | 1994-06-03 | 1996-07-26 | Oreal | Compositions cosmétiques photoprotectrices contenant des huiles spécifiques et utilisations. |
| US5741905A (en) * | 1994-07-23 | 1998-04-21 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Triazine ultraviolet absorbers useful for improving the sun protection factor of textiles |
| US5556973A (en) * | 1994-07-27 | 1996-09-17 | Ciba-Geigy Corporation | Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith |
| ES2152374T3 (es) * | 1994-09-14 | 2001-02-01 | Ciba Sc Holding Ag | Absorbentes uv, obtencion y utilizacion. |
| US5840282A (en) * | 1995-06-21 | 1998-11-24 | Givaudan-Roure (International) Sa | Light screening compositions |
| US6033649A (en) * | 1995-12-18 | 2000-03-07 | Roche Vitamins Inc. | Light screening agents |
| US5874576A (en) * | 1995-12-19 | 1999-02-23 | Givaudan-Roure (International) Sa | Light screening agents |
-
1998
- 1998-11-18 US US09/195,110 patent/US5985251A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-11-27 NO NO19985564A patent/NO312396B1/no unknown
- 1998-11-27 CA CA002254585A patent/CA2254585A1/en not_active Abandoned
- 1998-11-30 JP JP10338823A patent/JPH11228374A/ja active Pending
- 1998-11-30 TW TW087119778A patent/TW503111B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-11-30 BR BR9805050A patent/BR9805050A/pt not_active IP Right Cessation
- 1998-11-30 MX MX9810042A patent/MX211093B/es not_active IP Right Cessation
- 1998-11-30 KR KR1019980051903A patent/KR19990062649A/ko not_active Ceased
- 1998-12-01 CN CNB981261655A patent/CN1154472C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-01 ID IDP981567A patent/ID21391A/id unknown
- 1998-12-01 AU AU95167/98A patent/AU745721B2/en not_active Ceased
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007523212A (ja) * | 2004-02-24 | 2007-08-16 | シーピーエイチ・イノベーションズ・コーポレイション | α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート化合物とジアルキル・ナフタネートを組み合わせた日焼け止め組成物の光安定化 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO985564D0 (no) | 1998-11-27 |
| TW503111B (en) | 2002-09-21 |
| US5985251A (en) | 1999-11-16 |
| ID21391A (id) | 1999-06-03 |
| MX211093B (es) | 2002-10-29 |
| AU745721B2 (en) | 2002-03-28 |
| NO312396B1 (no) | 2002-05-06 |
| KR19990062649A (ko) | 1999-07-26 |
| NO985564L (no) | 1999-06-02 |
| CN1154472C (zh) | 2004-06-23 |
| BR9805050A (pt) | 2000-03-21 |
| AU9516798A (en) | 1999-06-17 |
| CN1225814A (zh) | 1999-08-18 |
| MX9810042A (es) | 1999-10-31 |
| CA2254585A1 (en) | 1999-06-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU719298B2 (en) | Light screening compositions | |
| US6607713B1 (en) | Method for improving UV radiation stability of photosensitive sunscreen filters | |
| US5605679A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising at least one solid organic sunscreen compound and diphenylacrylate solvent therefor | |
| US5667765A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising at least one solid organic sunscreen compound and salicylate solvents therefor | |
| EP1635777B1 (en) | Photostable organic sunscreen composition | |
| US5672337A (en) | Amido photostabilization of dibenzoylmethane sunscreens | |
| US5985251A (en) | Light screening compositions | |
| JP5796931B2 (ja) | 光安定性化粧用組成物 | |
| US6096294A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising 2,4,6-tris[p-((2'-ethylhexyl)oxycarbonyl)anilino]-1,3,5-triazine and salicylate solvents therefor | |
| RU2144350C1 (ru) | Композиция для защиты кожи и/или волос от ультрафиолетового излучения и агент для увеличения фактора защиты от солнечных лучей | |
| JPH10175837A (ja) | ジベンゾイルメタン誘導体、１，３，５−トリアジン誘導体及びアミド化合物を含む組成物及びその使用 | |
| JP2005060395A (ja) | ガラス製ミクロスフェアを含有する化粧品特性及びｓｐｆが改善されたｕｖサンスクリーン剤 | |
| US5968481A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising synergistic admixture of sunscreen compounds | |
| AU720481B2 (en) | Photostable, emulsifier-free cosmetic compositions | |
| JPH092929A (ja) | ジベンゾイルメタン誘導体及び酸化チタンナノピグメントを含む組成物及びその使用 | |
| JP2013173798A (ja) | アボベンゾンを含有するサンケア組成物の増強された光安定性 | |
| CN108136227B (zh) | 用于功能活性化合物的增溶剂 | |
| JP3226484B2 (ja) | ジベンゾイルメタン誘導体、１，３，５−トリアジン誘導体及びベンザルマロン酸ジアルキルを含む組成物およびその使用方法 | |
| JPH07330566A (ja) | 光防御化粧品組成物およびその使用方法 | |
| CA2231080A1 (en) | Concentrated solutions of a 1,3,5-triazine derivative sunscreen and their use for the preparation of cosmetic compositions | |
| US6518451B2 (en) | Diesters of naphthalene dicarboxylic acid | |
| US5609853A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising synergistic admixture of sunscreen compounds | |
| EP0891766A1 (en) | Light-screening agents | |
| JPH11292748A (ja) | ジベンゾイルメタン、ベンゾフェノン及びトリアジンの各誘導体を含む日焼け防止化粧品組成物 | |
| ES2259408T3 (es) | Procedimiento de fotoestabilizacion de sistemas filtrantes mediante copolimeros de bloques y composiciones cosmeticas fotoprotectoras. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040408 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040922 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050711 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050719 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051213 |