JPH11231458A

JPH11231458A - 改善された物性を有する熱処理可能な画像形成要素

Info

Publication number: JPH11231458A
Application number: JP10333849A
Authority: JP
Inventors: Charles Leo Bauer; レオバウアーチャールズ; Dorothy Theresa Java; テレサジャバドロシー
Original assignee: Eastman Kodak Co
Current assignee: Eastman Kodak Co
Priority date: 1997-11-26
Filing date: 1998-11-25
Publication date: 1999-08-27
Also published as: DE69818612T2; EP0919863B1; DE69818612D1; US5965347A; EP0919863A1

Abstract

(57)【要約】【課題】耐掻ききず性を改善した熱処理可能な画像形
成要素を提供する。【解決手段】有機銀塩酸化剤とその有機銀塩酸化剤の
ための還元剤とを併せ有する画像形成組合せ体を反応可
能な位置関係で含む画像形成層をもつ支持体を含んでな
り、かつ、その画像形成層がバインダーおよび塩素化炭
化水素を含んでなる熱処理可能な画像形成要素。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、改善された物性を
有する熱処理可能な画像形成要素に関する。

【０００２】

【従来の技術】熱処理可能な画像形成要素は、典型的
に、画像形成層と裏打ち層、下塗り層およびオーバーコ
ート層のような種々の他の層を含む。熱処理可能な画像
形成要素における画像形成要素は、典型的に、ポリ（ビ
ニルブチラール）のようなポリマーバインダーとベヘン
酸銀、還元剤および現像液のような種々の画像形成成分
の混合物からなる。

【０００３】熱処理可能な画像形成要素の層に対して種
々な添加剤を加えることは知られている。かかる添加剤
には、例えば、米国特許第３，８９３，８６０号、同第
５，４６８，６０３号および同第５，５２７，７５８号
明細書に開示されているような可塑剤が含まれる。

【０００４】ポリビニルブチラールに可塑剤を使用する
ことは知られている。例えば、 H.Mark等編の、Encyclo
pedia of Polymer Science and Engineering , 第１７
巻、第１５６頁、 J. Wiley & Sons, ニューヨーク、１
９８９年発行には、有用な可塑剤として、フタレート、
ホスフェート、脂肪酸エステルおよびポリエステル系材
料のような特定の材料を示唆しつつ、“広範囲の可塑剤
がポリビニル（ブチラール）に好適である”ことが教示
されている。

【０００５】また、その他の画像形成要素に可塑剤を加
えることも知られている。例えば、米国特許第４，７０
５，７３６号明細書には、熱現像可能なジアゾ型フィル
ムに可塑剤を使用することが記載されている。可塑剤を
添加すると、熱処理時の現像感度が増大する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】熱処理可能な画像形成
要素は、例えば、外部点源からの圧力、またはこの要素
を露光あるいは熱処理のための位置に供給する移送機構
からの圧力により、掻ききずを受け易い。画像形成要素
を保護するため、保護オーバーコートが層に塗布され
る。しかし、このオーバーコートは、苛酷な使用下で
は、十分な掻ききず保護を与えない。本発明では、熱処
理可能な画像形成要素の耐掻ききず性を改善することの
問題を解決することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】我々は、熱処理可能な画
像形成要素の画像形成層に塩素化炭化水素を添加する
と、要素の耐掻ききず性を改善することを見い出した。
塩素化炭化水素は、少なくとも８個の炭素原子、好まし
くは１２〜３０個の炭素原子を有するものがよい。望ま
しい塩素化炭化水素では、１２個の炭素原子を有する。

【０００８】したがって、本発明には、有機銀塩酸化剤
とその有機銀塩酸化剤のための還元剤とを併せ有する画
像形成組合せ体を反応可能な位置関係で含む画像形成層
をもつ支持体を含み、かつその画像形成層がバインダー
および塩素化炭化水素を含む熱処理可能な画像形成要素
が含まれる。本発明によれば、改善された耐掻ききず性
を有する熱処理可能な画像形成要素が提供される。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の熱処理可能な画像形成要
素は、画像が要素の像様加熱によって形成されるような
タイプのものであってよいし、あるいは、画像が像様露
光に続く要素の均一加熱によって形成されるようなタイ
プのものであってもよい。後者のタイプの要素は、普
通、フォトサーモグラフ要素と呼ばれる。

【００１０】熱処理可能な画像形成要素には、バインダ
ー中に（以下で更に詳細に論じられるような）適当な画
像形成材料を含む画像形成層が含まれる。バインダー
は、好ましくは高分子材料であって、該樹脂には、ポリ
（ビニルブチラール）、酢酪酸セルロース、ポリ（メチ
ルメタクリレート）、ポリ（ビニルピロリドン）、エチ
ルセルロース、ポリスチレン、ポリ（塩化ビニル）、塩
素化ゴム、ポリイソブチレン、ブタジエン−スチレン共
重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニ
リデンと酢酸ビニルの共重合体、ポリ（ビニルアルコー
ル）およびポリカーボネートが含まれる。必要な画像形
成特性を得るため、この層には、典型的に５０重量％未
満のバインダーが含まれる。

【００１１】本発明によれば、少なくとも８個の炭素原
子を有する塩素化炭化水素が、画像形成層に添加され
る。好ましい塩素化炭化水素では、１２〜３０個の炭素
原子を有する。この好ましい塩素化炭化水素は、１２個
の炭素原子を有する。画像形成層に添加される塩素化炭
化水素の量は、バインダーの重量に対して２．５〜２５
重量％であり、より好ましくは５〜１５重量％、そして
最も好ましくは８〜１２重量％である。

【００１２】本発明の熱処理可能な画像形成要素には、
（ｉ）有機銀塩酸化剤、好ましくはベヘン酸銀のような
長鎖脂肪酸の銀塩と、（ii）この有機銀塩酸化剤のため
の還元剤、好ましくはフェノール還元剤、および（iii
）任意選択の調色剤を含む画像形成組合せ体を反応可
能な位置関係で含有する少なくとも一層の画像形成層が
含まれる。本発明のフォトサーモグラフ要素には、更に
その場でおよび／または余所の場で調製される写真ハロ
ゲン化銀が含まれるが、かかる画像形成要素を記載する
文献には、例えば、米国特許第３，４５７，０７５号、
同第４，４５９，３５０号、同第４，２６４，７２５
号、および同第４，７４１，９９２号明細書、並びにRe
search Disclosure , １９７８年６月、第１７０２９項
がある。

【００１３】フォトサーモグラフ要素には、典型的に、
写真ハロゲン化銀から本質的になる感光性成分が含まれ
る。フォトサーモグラフ材料では、ハロゲン化銀からの
潜像銀は、処理時に前述の画像形成組合せ体用の触媒と
して働くものと考えられている。写真ハロゲン化銀の好
ましい濃度は、フォトサーモグラフ材料中のベヘン酸銀
のモル当り、０．０１〜１０モルの写真ハロゲン化銀の
範囲である。所望の場合には、その他の感光性銀塩が、
写真ハロゲン化銀と併用されれば有用である。好ましい
写真ハロゲン化銀は、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭
化銀、塩臭沃化銀、およびこれらハロゲン化銀の混合物
である。極く微細な粒子の写真ハロゲン化銀が特に有用
である。この写真ハロゲン化銀は、写真技術で知られる
いずれの手順で調製されてもよい。写真ハロゲン化銀を
形成するそのような手順および写真ハロゲン化銀の形態
は、例えば、Research Disclosure , １９７８年１２
月、第１７６４３項およびResearch Disclosure , １９
７８年６月、第１７０２９項に記載されている。

【００１４】平板状粒子の写真ハロゲン化銀も、また、
例えば米国特許第４，４３５，４９９号明細書に記載さ
れているように、有用である。写真ハロゲン化銀は、洗
浄されなくても洗浄されてもよく、化学増感され、カブ
リの形成に対して保護され、また、上記 Research Disc
losure刊行物に記載されるように保管中の感光性の喪失
に対して安定化されていてもよい。ハロゲン化銀は、例
えば、米国特許第４，４５７，０７５号明細書に記載さ
れるようにその場で調製されても、あるいは写真技術で
知られている方法によって余所で調製されてもよい。

【００１５】フォトサーモグラフ要素には、典型的に、
有機銀塩酸化剤、好ましくは長鎖脂肪酸の銀塩を含む酸
化−還元画像形成組合せ体が含まれる。このような有機
銀塩は、照明時に耐暗黒性を有する。好ましい有機銀塩
酸化剤は、１０〜３０個の炭素原子を有する長鎖脂肪酸
の銀塩である。有用な有機銀塩酸化剤の例には、ベヘン
酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、
ヒドロキシステアリン酸銀、カプリン酸銀、ミリスチン
酸銀、およびパルミチン酸銀がある。有機銀塩酸化剤の
組合せも有用である。脂肪酸の有機銀塩でない有用な有
機銀塩酸化剤の例には、安息香酸銀およびベンゾトリア
ゾール銀がある。

【００１６】フォトサーモグラフ要素における有機銀塩
酸化剤の最適濃度は、所望の画像、特定の有機銀塩酸化
剤、特定の還元剤および特定のフォトサーモグラフ要素
によって変る。有機銀塩酸化剤の好ましい濃度は、要素
中のハロゲン化銀のモル当り０．１〜１００モルの有機
銀塩酸化剤の範囲である。有機銀塩酸化剤の組合せが存
在するときには、有機銀塩酸化剤の全濃度は、好ましく
は前記の濃度範囲にある。

【００１７】種々の還元剤が、フォトサーモグラフ要素
には有用である。画像形成組合せ体での有用な還元剤の
例には、ビス−β−ナフトールのような置換フェノール
およびナフトール；ヒドロキノン、ピロガロールおよび
カテコールのようなポリヒドロキシベンゼン；２，４−
ジアミノフェノールおよびメチルアミノフェノールのよ
うなアミノフェノール；アスコルビン酸、アスコルビン
酸ケタールおよびその他のアスコルビン酸誘導体のよう
なアスコルビン酸還元剤；ヒドロキシルアミン還元剤；
１−フェニル−３−ピラゾリドンおよび４−メチル−４
−ヒドロキシメチル−１−フェニル−３−ピラゾリドン
のような３−ピラゾリドン還元剤；並びにスルホンアミ
ドフェノール還元剤およびフォトサーモグラフ要素に有
用であることが知られているその他の有機還元剤が含ま
れ、これらは、米国特許第３，９３３，５０８号、同第
３，８０１，３２１号明細書およびResearch Disclosur
e, １９７８年６月、第１７０２９項に記載されてい
る。有機還元剤の併用も、またこのフォトサーモグラフ
要素に有用である。

【００１８】フォトサーモグラフ要素に好ましい有機還
元剤は、米国特許第３，８０１，３２１号明細書に記載
されるようなスルホンアミドフェノール還元剤である。
有用なスルホンアミドフェノール還元剤の例には、２，
６−ジクロロ−４−ベンゼン−スルホンアミドフェノー
ル；ベンゼンスルホンアミドフェノール；および２，６
−ジブロモ−４−ベンゼンスルホンアミドフェノール、
並びにそれらの組合せがある。

【００１９】フォトサーモグラフ要素での有機還元剤の
最適濃度は、特定のフォトサーモグラフ要素、所望の画
像、処理条件、特定の有機銀塩および特定の酸化剤のよ
うな要素によって変る。

【００２０】前述の熱処理可能な要素には、好ましく
は、種々のコロイドおよびポリマーが、ビヒクルおよび
バインダーとして単独であるいは組合せて、また種々の
層中に含まれる。有用な材料は、親水性または疎水性で
ある。それらは、透明または半透明であり、そして、ゼ
ラチン、ゼラチン誘導体、セルロース誘導体、デキシト
ランのようなポリサッカライドまたはアラビアゴムのよ
うな天然産出物質と、ポリ（ビニルピロリドン）のよう
な水溶性ポリビニル化合物およびアクリルアミドポリマ
ーのような合成ポリマー物質の両者が含まれる。その他
の有用な合成ポリマー化合物には、ラテックス形態にあ
るような分散ビニル化合物および特に写真要素の寸法安
定性を増大させるものが含まれる。有効なポリマーに
は、アルキルアクリレートおよびメタクリレート、アク
リル酸、スルホアクリレートのような水不溶性ポリマ
ー、並びに架橋部を有する水不溶性ポリマーが含まれ
る。好ましい高分子物質および樹脂には、ポリ（ビニル
ブチラール）、酢酪酸セルロース、ポリ（メチルメタク
リレート）、ポリ（ビニルピロリドン）、エチルセルロ
ース、ポリスチレン、ポリ（塩化ビニル）、塩素化ゴ
ム、ポリイソブチレン、ブタジエン−スチレン共重合
体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニリデ
ンと酢酸ビニルの共重合体、ポリ（ビニルアルコール）
およびポリカーボネートが含まれる。

【００２１】前述したフォトサーモグラフ要素およびサ
ーモグラフ要素には、有用な画像形成を助長することが
知られている添加剤が含まれてよい。フォトサーモグラ
フ要素には、Research Disclosure , １９７８年１２
月、第１７６４３項およびResearch Disclosure , １９
７８年６月、第１７０２９項に記載されるような、感度
向上化合物、増感色素、硬膜剤、帯電防止剤、可塑剤お
よび滑剤、塗工助剤、蛍光増白剤、吸収およびフィルタ
ー色素として機能する現像改質剤が含まれてよい。

【００２２】フォトサーモグラフ要素には、好ましくは
また、活性剤トナーまたはトナー促進剤として知られる
調色剤が含まれてもよい。調色剤の組合せも、また、フ
ォトサーモグラフ要素に有用である。有用な調色剤およ
び調色剤の組合せの例は、例えば、Research Disclosur
e , １９７８年６月、第１７０２９項および米国特許第
４，１２３，２８２号明細書に記載されている。有用な
調色剤の例には、例えば、フタルイミド、Ｎ−ヒドロキ
シフタルイミド、Ｎ−カリウム−フタルイミド、コハク
酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタルイミド、
フタラジン、１−（２Ｈ）−フタラジノンおよび２−ア
セチルフタラジノンが含まれる。

【００２３】後処理画像安定剤および潜像保持安定化剤
は、フォトサーモグラフ要素に有用である。フォトサー
モグラフの技術分野で知られるいかなる安定化剤も、前
述のフォトサーモグラフ要素に有用である。有用な安定
化剤の実施例には、例えば、米国特許第４，４５９，３
５０号明細書に記載されるような光分解的に活性な安定
化剤および安定化剤の先駆体が含まれる。有用な安定化
剤のその他の例には、米国特許第３，８７７，９４０号
明細書に記載されるような、アゾールチオエーテルおよ
びブロック化アゾールイネチオン安定化剤の先駆体およ
びカルバモイル安定化剤の先駆体が含まれる。

【００２４】熱処理可能な要素には、種々の支持体が含
まれる。有用な支持体の例には、ポリ（酢酸ビニル）フ
ィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ（エチレンテレフ
タレート）フィルム、ポリ（エチレンナフタレート）フ
ィルム、ポリカーボネートフィルム、および同族のフィ
ルムおよび樹脂様材料、並びに紙、ガラス、金属および
熱処理温度に耐えるその他の支持体がある。

【００２５】熱処理可能な要素の層は、浸漬塗布、エア
ーナイフ塗布、カーテン塗布またはホッパーを用いる押
出塗布を含む、写真の技術分野で周知の塗布法によって
支持体上に塗布される。所望の場合には、二層以上の層
が同時に塗布される。

【００２６】分光増感色素は、該要素に増加した感度を
与えるために、フォトサーモグラフ要素において有用で
ある。有用な増感色素は、例えば、Research Disclosur
e ,１９７８年６月、第１７０２９項およびResearch Di
sclosure , １９７８年１２月、第１７６４３項に記載
されている。

【００２７】前述したフォトサーモグラフ要素は、好ま
しくは、露光および処理前に、フォトサーモグラフ要素
を安定化させるのを助けるための熱安定化剤を含む。か
かる熱安定化剤は、保管時のフォトサーモグラフ要素に
改善された安定性を与える。好ましい熱安定化剤には、
２−ブロモ−２−ｐ−トリスルホニルアセトアミドのよ
うな２−ブロモ−２−アリールスルホニルアセトアミ
ド；２−（トリブロモメチルスルホニル）ベンゾチアゾ
ール；および６−メチルもしくは６−フェニル−２，４
−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジンのような
６−置換−２，４−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−ト
リアジンがある。

【００２８】熱処理可能な要素は、種々の形態のエネル
ギーに曝される。フォトサーモグラフ要素の場合には、
かかる形態のエネルギーには、写真ハロゲン化銀が感光
性であるものを含み、そして、紫外、可視および赤外域
の電磁スペクトル、並びに電子ビーム、およびベータ
線、ガンマ線、Ｘ−線、α粒子、中性子線およびその他
のレーザーによって発生する非干渉性（ランダム位相）
または干渉性（同位相）形態のいずれかの粒子、波動様
の放射線エネルギーが含まれる。露光は、写真ハロゲン
化銀の分光増感により、単色、オルソまたはパンクロで
ある。像様露光は、好ましくは、フォトサーモグラフ要
素に現像可能な潜像を得るのに十分な時間および強度で
実施される。

【００２９】フォトサーモグラフ要素の像様露光後に、
得られる潜像は、単に該要素を熱処理温度に全体を加熱
することにより現像される。この全体加熱は、ただ、そ
のフォトサーモグラフ要素を、現像された像が形成され
るまで、例えば０．５〜６０秒間、９０℃〜１８０℃の
範囲の温度に加熱することを意味する。この熱処理温度
を増減することによって、処理時間をより短かくした
り、あるいは長くすることは有用である。好ましい熱処
理温度は、１００℃〜１４０℃の範囲である。

【００３０】サーモグラフ要素の場合には、画像形成の
ための熱エネルギー源および手段は、サーモグラフの画
像形成技術分野で知られているいかなる像様の熱照射源
および手段であってよい。このサーモグラフ画像形成手
段は、例えば、赤外加熱手段、レーザー、またはマイク
ロ波加熱手段であってよい。

【００３１】フォトサーモグラフおよびサーモグラフ画
像形成技術で周知な加熱手段は、照射されるフォトサー
モグラフ要素に対して所望の処理温度を与えるのに有用
である。加熱手段は、例えば、単一のホットプレート、
アイロン、ローラー、加熱ドラム、マイクロ波加熱手段
または加熱空気である。

【００３２】加熱処理は、好ましくは周囲の圧力および
湿度条件下で実施される。通常の大気圧および湿度から
はずれる条件は有益である。

【００３３】熱処理可能な要素の成分は、所望の画像を
与える要素のいかなる場所にあってもよい。望む場合に
は、一以上の成分が該要素の一以上の層内にあってもよ
い。例えば、ある場合には、ある割合の還元剤、トナ
ー、安定化剤および／またはその他の添加剤が、要素の
フォトサーモグラフ画像形成層の上方のオーバーコート
層内に含まれていることが望ましい。ある場合には、こ
れにより要素の各層内におけるある添加剤の移行を減ず
るからである。

【００３４】画像形成組合せ体の各成分は、所望の画像
を得るために、互いに“関連して”いることが必要であ
る。こゝで、“関連して”という用語は、フォトサーモ
グラフ要素内で、写真ハロゲン化銀と画像形成組合せ体
とが、所望の処理が可能で、かつ有用な画像を形成する
ような位置に互いに存在していることを意味している。

【００３５】フォトサーモグラフ要素は、典型的に、フ
ィルム形成性バインダー、好ましくは親水性フィルム形
成性バインダーを含む透明保護層を有している。かかる
バインダーには、例えば、架橋ポリビニルーアルコー
ル、ゼラチン、またはポリ（珪酸）が含まれる。特に好
ましいのは、ポリ（珪酸）を単独で含むか、あるいは米
国特許第４，８２８，９７１号明細書に記載されるよう
な、水溶性ヒドロキシル含有モノマーまたはポリマーと
組合せて含むバインダーである。

【００３６】“保護層”なる用語は、本願では、オーバ
ーコート層、つまり画像感光層を覆う層、あるいは裏打
ち層、つまり画像感光層から反対側の支持体上にある層
であってよい、透明な画像非感光性層を意味するのに使
われている。この画像要素は、保護層とその下層間に接
着性中間層を含んでもよい。保護層は、必ずしも、画像
形成要素の最外層でなくてもよい。

【００３７】保護層には、５×１０¹¹オーム／平方未
満の表面固有抵抗を有する導電層が含まれてよい。かか
る導電性オーバーコート層は、米国特許第５，５４７，
８２１号明細書に記載されている。

【００３８】フォトサーモグラフ画像形成要素は、一般
に、少なくとも一層の艶消粒子を有する透明保護層を含
んでいる。有機または無機のいずれの艶消粒子が使用さ
れてもよい。有機艶消粒子の例には、屡々ビーズの形態
にある、アクリル酸およびメタクリル酸のポリマーエス
テル、例えばポリ（メチルメタクリレート）、およびス
チレンポリマーおよび共重合体のようなポリマーがあ
る。無機艶消粒子の例には、ガラス、二酸化珪素、二酸
化チタン、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、硫酸
バリウム、または炭酸カルシウムがある。艶消粒子およ
びそれらの使い方は、また、米国特許第３，４１１，９
０７号、同第３，７５４，９２４号、同第４，８５５，
２１９号、同第５，２７９，９３４号、同第５，２８
８，５９８号、同第５，３７８，５７７号、同第５，７
５０，３２８号および同第５，５６３，２２６号明細書
に記載されている。

【００３９】広範囲の物質が、フォトサーモグラフ要素
の要件に合致する保護裏打ち層を作製するのに使用でき
る。この保護層は、透明であって、かつ、最小濃度、最
大濃度および写真感度のようなフォトサーモグラフ要素
のセンシトメトリー特性に悪影響を与えてはならない。
有用な保護層には、ポリ（珪酸）と水溶性ヒドロキシル
含有モノマーまたは米国特許第４，７４１，９９２号お
よび同第４，８２８，９７１号明細書に記載されるよう
なポリ（珪酸）と混和性であるポリマーからなるものが
含まれる。ポリ（珪酸）とポリ（ビニルアルコール）の
組合せは、特に有用である。その他の有用な保護層に
は、ポリメチルメタクリレート、アクリルアミドポリマ
ー、酢酸セルロース、架橋ポリビニルアルコール、アク
リロニトリル、塩化ビニリデンおよび２−（メタクリロ
キシ）エチル−トリメチルアンモニウムメタスルフェー
トのターポリマー、架橋ゼラチン、ポリエステルおよび
ポリウレタンから形成されるものが含まれる。

【００４０】特に好ましい保護層は、前述した米国特許
第５，３１０，６４０号および同第５，５４７，８２１
号明細書に記載されている。

【００４１】

【実施例】実施例１：比較例Ａ：熱処理可能な画像形成要素を、０．１７８mm
の厚さを有する青い（濃度０．１４）ポリ（エチレンテ
レフタレート）支持体にフォトサーモグラフ画像形成層
および保護オーバーコートを塗布することによって作製
した。熱処理可能な画像形成要素の各層は、浸漬塗布、
エアーナイフ塗布、スロット塗布、カーテン塗布または
ホッパーを用いる押出塗布を含む、フォトグラフの技術
分野で知られる塗布手段によって支持体上に塗布され
る。フォトサーモグラフ画像形成組成物を、７３．５％
の２−ブタノン、１１．０％のトルエン、１５％のメタ
ノールおよび０．５％の Dowanolを含む混合物から、湿
潤被覆量７５．３cc／ｍ²で塗布して、以下の乾燥組成
の画像形成層を形成した。

【００４２】表１：フォトサーモグラフ画像形成層乾燥被覆量成分（ｇ／ｍ²）コハク酸イミド０．１４３フタルイミド０．５７２ポリ−ジメチルシロキサン（General Electric SF-96-200) ０．００７２−ブロモ−２−（（４−メチルフェニル）スルホニル）アセトアミド０．１０５ナフチルトリアジン０．０２５パルミチン酸０．１２７Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゼンスルホンアミド１．７１６銀（臭化銀として）０．４６０Ｂ−１５７０８増感色素０．００４銀（ベヘン酸銀として）９．３７２ポリビニルブチラール、M.W. 90,000-120,000 (Monsanto Butvar B-76, １１〜１３％ヒドロキシル含有量）５．１４８硼酸トリメチル０．０８８沃化ナトリウム、ＵＳＰ０．０００水銀（臭化水銀として）０．００１

【００４３】次いで、得られた画像形成層に、表２に記
載のポリビニルアルコールおよび加水分解テトラエチル
オルソシリケートの混合物を湿潤被覆量４０．４cc／ｍ
²でオーバーコートして、乾燥した。

【００４４】表２：オーバーコート溶液成分ｇ蒸溜水２２６．４ポリビニルアルコール（PVA, Elvanol 52-22, DuPont製、８６〜８９％加水分解）（６．２wt％の蒸溜水溶液）４４３．０テトラエチルオルソシリケート（３５．４wt％のメタノール／水（５３：４７）溶液）２５１．６ｐ−トルエンスルホン酸（１Ｎ蒸溜水溶液）３．１ Olin １０Ｇ（１０wt％の蒸溜水溶液）(Olin １０Ｇは、パラ−イソノニルフェノキシポリグリシドールであり、米国，Olin社の商標で、そこから入手可能である）１０．０シリカ（１．５μｍ）３．０

【００４５】比較例Ｂこのサンプルは、乾燥被覆量８．６３５ｇ／ｍ²の But
var Ｂ−７６および０．１４６ｇ／ｍ²の硼酸トリメチ
ルを乳剤に使用し、このサンプルを湿潤被覆量８８．６
cc／ｍ²で塗布した点を除き、比較例Ａと同じである。

【００４６】比較例Ｃこのサンプルは、 Occidental Chemical社製の０．１２
９ｇ／ｍ²のChlorwax−６５、塩素化炭化水素（または
パラフィン）、（Butvarの量に対して２．５wt％）を可
塑剤として乳剤層に添加した点を除き、比較例Ｂと同じ
である。

【００４７】比較例Ｄこのサンプルは、 Occidental Chemical社製の０．２５
７ｇ／ｍ²のChlorwax−６５、塩素化炭化水素（または
パラフィン）、（Butvarの量に対して５wt％）を可塑剤
として乳剤層に添加した点を除き、比較例Ｂと同じであ
る。

【００４８】本発明Ｅこのサンプルは、 Occidental Chemical社製の０．５１
５ｇ／ｍ²のChlorwax−６５、塩素化炭化水素（または
パラフィン）、（Butvarの量に対して１０wt％）を可塑
剤として乳剤層に添加した点を除き、比較例Ｂと同じで
ある。

【００４９】本発明Ｆこのサンプルは、Dover Chemical社製の０．５１５ｇ／
ｍ²のParoil−１５０Ａ、塩素化炭化水素（またはパラ
フィン）、（Butvarの量に対して１０wt％）を可塑剤と
して乳剤層に添加した点を除き、比較例Ｂと同じであ
る。

【００５０】作製後、これらのサンプルをセンシトメト
リー特性および耐掻ききず性に関して評価した。センシ
トメトリーに係る可塑剤の結果は、６３８nmレーザーで
適当な濃度の画像を書き込み、５秒間１２３℃で熱処理
した後、各サンプルのＤmin 、相対感度およびＤmax を
測定することにより決定した。本発明のサンプルＣ〜Ｆ
は、比較例の塗膜ＡおよびＢに比して、同等のＤmin を
有し、そして同等かあるいは僅かに増加した感度および
Ｄmax を有していた。

【００５１】塗膜の耐掻ききず性は、単一アーム掻きき
ず試験（ＳＡＳ）を用いて評価した。掻ききず試験の前
に、Ｄmax で処理して、テスト比較用の均一濃度を与え
た。試験は、荷重をかけた３ミルのサファイア針を用い
て、一連の荷重、即ち１００，８０，６０，４０，３
０，２０，１０および５ｇの下でサンプルに掻ききずを
付けた。サンプルは、各荷重で２．８cm幅にわたって掻
ききずを付け、これを各荷重で３回繰り返す。掻ききず
の激しさは、針が動いた掻ききず面の７５％より多くの
表面に最初の連続切り込みが発生する最小荷重を測定す
る（グラム単位の切り込みが記録される）ことにより得
られる。評価のため、このサンプルを灯をつけた観察箱
上で観察する。ＳＡＳ試験で記録される荷重の増大によ
って、耐掻ききず性の向上が示される。

【００５２】表３には、作製したサンプルのＳＡＳ試験
結果がまとめられている。このデータによれば、塩素化
炭化水素をポリマーバインダーの量に対して２．５wt％
より多い量で乳剤に添加するときに、改善された耐掻き
きず性が得られることが示されている。

【００５３】表３サンプルＳＡＳ結果（切り込みに対するｇ）ＲＣ４−６９４９比較例Ａ６０１比較例Ｂ８５２本発明Ｃ８０３本発明Ｄ９８６本発明Ｅ９５８本発明Ｆ９５９

【００５４】実施例２本実施例では、比較例Ｂおよび本発明Ｅのサンプルを繰
り返した。更に、その他のサンプル、比較例Ｇを、非塩
素化可塑剤である１０wt％のジブチルフタレート（０．
１５１ｇ／ｍ²）を用いた点を除き、本発明Ｅと同じに
作製した。そのＳＡＳ結果を表４にまとめる。

【００５５】表４ＳＡＳＲＣ４− サンプル可塑剤（切り込みに対するｇ）７１１２比較例Ｂ無６０１本発明Ｅ１０％ Chlorowax ６５８０４比較例Ｇ１０％ジブチルフタレート６０５

【００５６】これらの結果によれば、単に塩素化可塑剤
のみが、サンプルの耐掻ききず性を改良していることが
示されている。

【００５７】本発明は、好ましい実施態様を特に参照し
て詳細に述べてきたが、その変形および修正も本発明の
技術思想および範囲内に含まれることが理解されよう。

【００５８】最後に本発明の好ましい態様について以
下、列記する。

【００５９】１．有機銀塩酸化剤とその有機銀塩酸化剤
のための還元剤とを併せ有する画像形成組合せ体を反応
可能な位置関係で含む画像形成層をもつ支持体を含んで
なり、かつ、その画像形成層がバインダーおよび塩素化
炭化水素を含んでなる熱処理可能な画像形成要素。

【００６０】２．前記塩素化炭化水素が少なくとも８個
の炭素原子を有する、前記１に記載の画像形成要素。

【００６１】３．前記塩素化炭化水素が１２〜３０個の
炭素原子を有する、前記１に記載の画像形成要素。

【００６２】４．前記画像形成層がポリ（ビニルブチラ
ール）のバインダーを含む前記１に記載の画像形成要
素。

【００６３】５．前記塩素化炭化水素がバインダーの重
量に対して２．５〜２５wt％の量で存在する前記１に記
載の画像形成要素。

【００６４】６．前記画像形成要素がフォトサーモグラ
フ画像形成要素であり、かつ更にハロゲン化銀乳剤を含
む前記１に記載の画像形成要素。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機銀塩酸化剤とその有機銀塩酸化剤の
ための還元剤とを併せ有する画像形成組合せ体を反応可
能な位置関係で含む画像形成層をもつ支持体を含んでな
り、かつ、その画像形成層がバインダーおよび塩素化炭
化水素を含んでなる熱処理可能な画像形成要素。