JPH11233397A - アライメント方法及び半導体装置 - Google Patents
アライメント方法及び半導体装置Info
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- JPH11233397A JPH11233397A JP10031469A JP3146998A JPH11233397A JP H11233397 A JPH11233397 A JP H11233397A JP 10031469 A JP10031469 A JP 10031469A JP 3146998 A JP3146998 A JP 3146998A JP H11233397 A JPH11233397 A JP H11233397A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アライメントマークの輪郭が不鮮明になった
場合であっても、アライメントポイントを一定に把握で
きるアライメント方法を得る。 【解決手段】 作業者は、アライメントマーク1の全部
又は一部(少なくとも角D0A0B0及び角A0B0C
0)がレンズ視野4に入るようにチップ2を移動し、ア
ライメントポイントAP0の割り出しを行う。即ち、2
等分線を求める角としていずれの角が特定されているか
を欠陥検査装置から読み出し、読み出した角D0A0B
0及び角A0B0C0のそれぞれの2等分線を求め、そ
の交点をアライメントポイントAP0として割り出す。
そして、割り出したアライメントポイントAP0の位置
と、レンズ視野4に表示されているターゲットスコープ
5の中心点Oとのずれ量に基づいて、アライメントポイ
ントAP0と中心点Oとを重ね合わせるために必要なス
テージの駆動量を算出し、チップ2を移動する。
場合であっても、アライメントポイントを一定に把握で
きるアライメント方法を得る。 【解決手段】 作業者は、アライメントマーク1の全部
又は一部(少なくとも角D0A0B0及び角A0B0C
0)がレンズ視野4に入るようにチップ2を移動し、ア
ライメントポイントAP0の割り出しを行う。即ち、2
等分線を求める角としていずれの角が特定されているか
を欠陥検査装置から読み出し、読み出した角D0A0B
0及び角A0B0C0のそれぞれの2等分線を求め、そ
の交点をアライメントポイントAP0として割り出す。
そして、割り出したアライメントポイントAP0の位置
と、レンズ視野4に表示されているターゲットスコープ
5の中心点Oとのずれ量に基づいて、アライメントポイ
ントAP0と中心点Oとを重ね合わせるために必要なス
テージの駆動量を算出し、チップ2を移動する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、DRAM、マイ
コン等の半導体デバイスや、TFT、PDP等の表示デ
バイスの欠陥検査において、検査対象を検査装置上の所
定の位置に配置するためのアライメント方法、及び所定
のアライメントマークを有する半導体装置に関するもの
である。
コン等の半導体デバイスや、TFT、PDP等の表示デ
バイスの欠陥検査において、検査対象を検査装置上の所
定の位置に配置するためのアライメント方法、及び所定
のアライメントマークを有する半導体装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスや表示デバイスの製造プ
ロセスの途中において欠陥検査が行われる。このとき、
検査対象たる半導体デバイス等が形成されているチップ
を、検査装置上の所定の位置に配置する必要がある。こ
のため、位置合わせ用のアライメントマークをチップ上
に付すことが行われる。
ロセスの途中において欠陥検査が行われる。このとき、
検査対象たる半導体デバイス等が形成されているチップ
を、検査装置上の所定の位置に配置する必要がある。こ
のため、位置合わせ用のアライメントマークをチップ上
に付すことが行われる。
【0003】図28は、チップ200の構成を示す平面
図である。チップ200上に長方形のアライメントマー
ク100が付されている。チップ200のアライメント
を確実に行うべく、作業者はアライメントマーク100
中に所定のアライメントポイントを指定し、これを欠陥
検査装置に教示する。図29は、教示画面300にアラ
イメントマーク100を表示した状態を示す図である。
例えば、アライメントマーク100の辺10aと辺10
bとの交点をアライメントポイントAP100として指
定する。そして、アライメントマーク100の形状と、
指定したアライメントポイントAP100の位置とを欠
陥検査装置に教示する。
図である。チップ200上に長方形のアライメントマー
ク100が付されている。チップ200のアライメント
を確実に行うべく、作業者はアライメントマーク100
中に所定のアライメントポイントを指定し、これを欠陥
検査装置に教示する。図29は、教示画面300にアラ
イメントマーク100を表示した状態を示す図である。
例えば、アライメントマーク100の辺10aと辺10
bとの交点をアライメントポイントAP100として指
定する。そして、アライメントマーク100の形状と、
指定したアライメントポイントAP100の位置とを欠
陥検査装置に教示する。
【0004】欠陥検査装置の有するステージ上の所定の
位置にチップ200を載置するために、欠陥検査装置
は、ステージに載置されたチップ200の中から、教示
されたアライメントマーク100の形状と同一の形状を
画像処理技術によって探索する。そして、発見した図形
に基づいて、アライメントポイントAP100として指
定されたポイントを割り出す。
位置にチップ200を載置するために、欠陥検査装置
は、ステージに載置されたチップ200の中から、教示
されたアライメントマーク100の形状と同一の形状を
画像処理技術によって探索する。そして、発見した図形
に基づいて、アライメントポイントAP100として指
定されたポイントを割り出す。
【0005】一方、ウエハ表面の平坦化技術としてCM
P(Chemical Mechanical Polishing)法が導入された
こと等に起因して、欠陥検査装置によるアライメントマ
ークの自動探索がこれまでにも増して困難となりつつあ
る。欠陥検査装置による自動探索が失敗に終わった場合
は、作業者が手動によってアライメントマークの探索を
行う。図30は、手動によるチップのアライメントを説
明するための図である。作業者は、欠陥検査装置のステ
ージを駆動してチップ200を移動しつつ、欠陥検査装
置の有するレンズのレンズ視野400内において、チッ
プ200の中からアライメントマーク100を探索す
る。アライメントマーク100を発見した後、アライメ
ントポイントAP100の指定手順に従って、発見した
アライメントマーク100の中からアライメントポイン
トAP100を割り出す。そして、割り出したアライメ
ントポイントAP100とレンズ視野400に表示され
ているターゲットスコープ50の中心点Oとが重なり合
うように、欠陥検査装置のステージを駆動してチップ2
00を移動する。
P(Chemical Mechanical Polishing)法が導入された
こと等に起因して、欠陥検査装置によるアライメントマ
ークの自動探索がこれまでにも増して困難となりつつあ
る。欠陥検査装置による自動探索が失敗に終わった場合
は、作業者が手動によってアライメントマークの探索を
行う。図30は、手動によるチップのアライメントを説
明するための図である。作業者は、欠陥検査装置のステ
ージを駆動してチップ200を移動しつつ、欠陥検査装
置の有するレンズのレンズ視野400内において、チッ
プ200の中からアライメントマーク100を探索す
る。アライメントマーク100を発見した後、アライメ
ントポイントAP100の指定手順に従って、発見した
アライメントマーク100の中からアライメントポイン
トAP100を割り出す。そして、割り出したアライメ
ントポイントAP100とレンズ視野400に表示され
ているターゲットスコープ50の中心点Oとが重なり合
うように、欠陥検査装置のステージを駆動してチップ2
00を移動する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】図31は、アライメン
トマーク100の輪郭が不鮮明な状況を示す図である。
アライメントマーク100の図形の端が3重にぼやけて
おり、アライメントマーク100の輪郭が不明確となっ
ている。かかる状況は、欠陥検査装置にアライメントポ
イント等を教示するために教示画面300にアライメン
トマーク100を表示する際、及び、検査においてレン
ズ視野400にアライメントマーク100を表示する際
の双方において生じ得る。従って、実際に検査を行う作
業者が欠陥検査装置にアライメントポイントを教示する
作業者と同一人である場合はともかく、別人である場合
は、図形の端に関する認識の相違によってアライメント
ポイントを異なる位置に把握してしまい、正確なアライ
メントを行うことができないという問題があった。例え
ば、アライメントポイントAP100を欠陥検査装置に
教示したのに対し、検査を行う作業者がアライメントポ
イントAP101を割り出した場合に、このような問題
が生ずる。また、初めに教示した工程と同一位置をアラ
イメントポイントとして別工程で教示しようとした場合
も、形成されている層の違いにより同様の問題が生ず
る。
トマーク100の輪郭が不鮮明な状況を示す図である。
アライメントマーク100の図形の端が3重にぼやけて
おり、アライメントマーク100の輪郭が不明確となっ
ている。かかる状況は、欠陥検査装置にアライメントポ
イント等を教示するために教示画面300にアライメン
トマーク100を表示する際、及び、検査においてレン
ズ視野400にアライメントマーク100を表示する際
の双方において生じ得る。従って、実際に検査を行う作
業者が欠陥検査装置にアライメントポイントを教示する
作業者と同一人である場合はともかく、別人である場合
は、図形の端に関する認識の相違によってアライメント
ポイントを異なる位置に把握してしまい、正確なアライ
メントを行うことができないという問題があった。例え
ば、アライメントポイントAP100を欠陥検査装置に
教示したのに対し、検査を行う作業者がアライメントポ
イントAP101を割り出した場合に、このような問題
が生ずる。また、初めに教示した工程と同一位置をアラ
イメントポイントとして別工程で教示しようとした場合
も、形成されている層の違いにより同様の問題が生ず
る。
【0007】また、図32〜35は、より正確なアライ
メントを実現するアライメント方法を順に説明するため
の図である。チップ201には粗アライメントマーク1
00と精アライメントマーク101とが形成されてお
り、まず、上記と同様の方法によって粗アライメントマ
ーク100に関してアライメントを行う(図33)。次
に、欠陥検査装置にセットされているレンズをより高倍
率のものに変更した後、精アライメントマーク101に
関してアライメントを行う(図34,35)。しかし、
粗アライメントマーク100と精アライメントマーク1
01とを個別に形成していたため、アライメントマーク
を形成するために必要な領域が大きくなり、チップ20
1の素子形成領域がそれに応じて小さくなるという問題
があった。
メントを実現するアライメント方法を順に説明するため
の図である。チップ201には粗アライメントマーク1
00と精アライメントマーク101とが形成されてお
り、まず、上記と同様の方法によって粗アライメントマ
ーク100に関してアライメントを行う(図33)。次
に、欠陥検査装置にセットされているレンズをより高倍
率のものに変更した後、精アライメントマーク101に
関してアライメントを行う(図34,35)。しかし、
粗アライメントマーク100と精アライメントマーク1
01とを個別に形成していたため、アライメントマーク
を形成するために必要な領域が大きくなり、チップ20
1の素子形成領域がそれに応じて小さくなるという問題
があった。
【0008】本発明はこれらの問題を解決するために成
されたものであり、教示画面やレンズ視野に表示される
アライメントマークの輪郭が不鮮明になった場合であっ
ても、作業者の認識の相違によることなくアライメント
ポイントを一定に把握できるアライメント方法を得ると
ともに、粗アライメントマーク及び精アライメントマー
クを用いてより正確なアライメントを行う際にもアライ
メントマークを設けるために必要な領域を小さくできる
アライメント方法を得ることを主な目的とするものであ
る。
されたものであり、教示画面やレンズ視野に表示される
アライメントマークの輪郭が不鮮明になった場合であっ
ても、作業者の認識の相違によることなくアライメント
ポイントを一定に把握できるアライメント方法を得ると
ともに、粗アライメントマーク及び精アライメントマー
クを用いてより正確なアライメントを行う際にもアライ
メントマークを設けるために必要な領域を小さくできる
アライメント方法を得ることを主な目的とするものであ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明のうち請求項1
に係るアライメント方法は、処理対象の有するアライメ
ントマークを探索する工程と、発見したアライメントマ
ークから、アライメントマークを構成する図形の輪郭に
基づいて予め特定された第1及び第2の角を認識する工
程と、第1及び第2の角のそれぞれの2等分線たる第1
及び第2の2等分線の交点としてアライメントポイント
を把握する工程とを備えるものである。
に係るアライメント方法は、処理対象の有するアライメ
ントマークを探索する工程と、発見したアライメントマ
ークから、アライメントマークを構成する図形の輪郭に
基づいて予め特定された第1及び第2の角を認識する工
程と、第1及び第2の角のそれぞれの2等分線たる第1
及び第2の2等分線の交点としてアライメントポイント
を把握する工程とを備えるものである。
【0010】また、この発明のうち請求項2に係るアラ
イメント方法は、請求項1記載のアライメント方法であ
って、第1及び第2の角はそれぞれ、輪郭を構成する複
数の線分の中から2つの線分を特定し、2つの線分をそ
れぞれ含む2つの直線同士が交差することにより成す角
として与えられることを特徴とするものである。
イメント方法は、請求項1記載のアライメント方法であ
って、第1及び第2の角はそれぞれ、輪郭を構成する複
数の線分の中から2つの線分を特定し、2つの線分をそ
れぞれ含む2つの直線同士が交差することにより成す角
として与えられることを特徴とするものである。
【0011】また、この発明のうち請求項3に係るアラ
イメント方法は、請求項1記載のアライメント方法であ
って、アライメントマークの探索は、一軸及び他軸を有
するターゲットスコープが表示されたレンズ視野内にお
いて行われ、一軸及び他軸のそれぞれは第1及び第2の
2等分線に平行することを特徴とするものである。
イメント方法は、請求項1記載のアライメント方法であ
って、アライメントマークの探索は、一軸及び他軸を有
するターゲットスコープが表示されたレンズ視野内にお
いて行われ、一軸及び他軸のそれぞれは第1及び第2の
2等分線に平行することを特徴とするものである。
【0012】また、この発明のうち請求項4に係るアラ
イメント方法は、請求項3記載のアライメント方法であ
って、図形は菱形であり、第1及び第2の角は菱形の有
する4つの角のうち隣り合う2つの角として特定される
ことを特徴とするものである。
イメント方法は、請求項3記載のアライメント方法であ
って、図形は菱形であり、第1及び第2の角は菱形の有
する4つの角のうち隣り合う2つの角として特定される
ことを特徴とするものである。
【0013】また、この発明のうち請求項5に係るアラ
イメント方法は、請求項4記載のアライメント方法であ
って、第1及び第2の2等分線同士の交点を求めること
は、菱形の2つの対角線同士の交点を求めることによっ
て実行されることを特徴とするものである。
イメント方法は、請求項4記載のアライメント方法であ
って、第1及び第2の2等分線同士の交点を求めること
は、菱形の2つの対角線同士の交点を求めることによっ
て実行されることを特徴とするものである。
【0014】また、この発明のうち請求項6に係るアラ
イメント方法は、請求項3記載のアライメント方法であ
って、アライメントマークは処理対象に形成されている
パターンであることを特徴とするものである。
イメント方法は、請求項3記載のアライメント方法であ
って、アライメントマークは処理対象に形成されている
パターンであることを特徴とするものである。
【0015】また、この発明のうち請求項7に係るアラ
イメント方法は、請求項6記載のアライメント方法であ
って、パターンは長方形であり、第1及び第2の角は長
方形の有する4つの角のうち隣り合う2つの角として特
定されることを特徴とするものである。
イメント方法は、請求項6記載のアライメント方法であ
って、パターンは長方形であり、第1及び第2の角は長
方形の有する4つの角のうち隣り合う2つの角として特
定されることを特徴とするものである。
【0016】また、この発明のうち請求項8に係るアラ
イメント方法は、請求項1記載のアライメント方法であ
って、アライメントマークは粗アライメントマークと精
アライメントマークとを有し、低倍率の第1のレンズを
用いて粗アライメントマークに基づくアライメントを行
う工程と、第1のレンズを高倍率の第2のレンズに変更
した後、精アライメントマークに基づくアライメントを
行う工程とを備え、精アライメントマークは粗アライメ
ントマーク内に形成されることを特徴とするものであ
る。
イメント方法は、請求項1記載のアライメント方法であ
って、アライメントマークは粗アライメントマークと精
アライメントマークとを有し、低倍率の第1のレンズを
用いて粗アライメントマークに基づくアライメントを行
う工程と、第1のレンズを高倍率の第2のレンズに変更
した後、精アライメントマークに基づくアライメントを
行う工程とを備え、精アライメントマークは粗アライメ
ントマーク内に形成されることを特徴とするものであ
る。
【0017】また、この発明のうち請求項9に係るアラ
イメント方法は、請求項1記載のアライメント方法であ
って、アライメントマークは複数の図形から構成されて
いることを特徴とするものである。
イメント方法は、請求項1記載のアライメント方法であ
って、アライメントマークは複数の図形から構成されて
いることを特徴とするものである。
【0018】また、この発明のうち請求項10に係るア
ライメント方法は、請求項1記載のアライメント方法で
あって、アライメントマークはダイシングライン上に形
成されることを特徴とするものである。
ライメント方法は、請求項1記載のアライメント方法で
あって、アライメントマークはダイシングライン上に形
成されることを特徴とするものである。
【0019】また、この発明のうち請求項11に係る半
導体装置は、アライメントマークを構成する図形の輪郭
に基づいて特定される第1及び第2の角のそれぞれの2
等分線同士の交点がアライメントポイントとして把握さ
れるアライメントマークを備えるものである。
導体装置は、アライメントマークを構成する図形の輪郭
に基づいて特定される第1及び第2の角のそれぞれの2
等分線同士の交点がアライメントポイントとして把握さ
れるアライメントマークを備えるものである。
【0020】また、この発明のうち請求項12に係る半
導体装置は、請求項11記載の半導体装置であって、図
形は菱形であり、第1及び第2の角は菱形の有する4つ
の角のうち隣り合う2つの角として特定されることを特
徴とするものである。
導体装置は、請求項11記載の半導体装置であって、図
形は菱形であり、第1及び第2の角は菱形の有する4つ
の角のうち隣り合う2つの角として特定されることを特
徴とするものである。
【0021】
【発明の実施の形態】実施の形態1.図1は、チップの
構成を示す平面図である。アライメントマーク1がチッ
プ2上に形成されている。また、図2は、アライメント
マーク1を拡大して示す平面図である。アライメントマ
ーク1は、4つの頂点A0,B0,C0,D0を有する
不等辺四角形から成っている。
構成を示す平面図である。アライメントマーク1がチッ
プ2上に形成されている。また、図2は、アライメント
マーク1を拡大して示す平面図である。アライメントマ
ーク1は、4つの頂点A0,B0,C0,D0を有する
不等辺四角形から成っている。
【0022】図3は、アライメントポイントの設定方法
を説明するための図である。作業者は、教示画面3にア
ライメントマーク1を表示し、アライメントマーク1を
構成する図形中から任意の2角を特定する。ここでは、
角D0A0B0及び角A0B0C0の2角を特定したも
のとする。そして、特定した2角のそれぞれについて2
等分線を求め、求めた2等分線同士の交点をアライメン
トポイントAP0として設定する。そして、アライメン
トマーク1の形状と、設定したアライメントポイントA
P0の位置と、2等分線を求めるために特定した2角
(角D0A0B0及び角A0B0C0)とを欠陥検査装
置に教示する。
を説明するための図である。作業者は、教示画面3にア
ライメントマーク1を表示し、アライメントマーク1を
構成する図形中から任意の2角を特定する。ここでは、
角D0A0B0及び角A0B0C0の2角を特定したも
のとする。そして、特定した2角のそれぞれについて2
等分線を求め、求めた2等分線同士の交点をアライメン
トポイントAP0として設定する。そして、アライメン
トマーク1の形状と、設定したアライメントポイントA
P0の位置と、2等分線を求めるために特定した2角
(角D0A0B0及び角A0B0C0)とを欠陥検査装
置に教示する。
【0023】欠陥検査装置の有するステージ上の所定の
位置にチップ2を載置するために、欠陥検査装置は、ス
テージに載置されたチップ2の中から、教示されたアラ
イメントマーク1の形状と同一の形状を画像処理技術に
よって自動探索する。そして、発見した図形に基づい
て、アライメントポイントAP0として指定されたポイ
ントを割り出す。しかし、欠陥検査装置がアライメント
マーク1を自動探索により認識できなかった場合は、作
業者が手動によってアライメントマーク1を探索する。
位置にチップ2を載置するために、欠陥検査装置は、ス
テージに載置されたチップ2の中から、教示されたアラ
イメントマーク1の形状と同一の形状を画像処理技術に
よって自動探索する。そして、発見した図形に基づい
て、アライメントポイントAP0として指定されたポイ
ントを割り出す。しかし、欠陥検査装置がアライメント
マーク1を自動探索により認識できなかった場合は、作
業者が手動によってアライメントマーク1を探索する。
【0024】図4は、作業者によるアライメントマーク
1の手動探索を説明するための図である。作業者は、欠
陥検査装置の有するステージを駆動することによりチッ
プ2を移動して、チップ2の中からアライメントマーク
1を探索する。アライメントマーク1を発見した後、ア
ライメントマーク1の全部又は一部(少なくとも角D0
A0B0及び角A0B0C0)がレンズ視野4に入るよ
うにチップ2を移動し、アライメントポイントAP0の
割り出しを行う。即ち、2等分線を求める角としていず
れの角が特定されているかを欠陥検査装置から読み出
し、読み出した角D0A0B0及び角A0B0C0のそ
れぞれの2等分線を求め、その交点をアライメントポイ
ントAP0として割り出す。そして、割り出したアライ
メントポイントAP0の位置と、レンズ視野4に表示さ
れているターゲットスコープ5の中心点Oとのずれ量に
基づいて、アライメントポイントAP0と中心点Oとを
重ね合わせるために必要なステージの駆動量を算出し、
チップ2を移動する。図5は、チップ2の移動が完了し
た後のレンズ視野4を表示する図である。このようにし
て、チップ2が形成されたウエハは、欠陥検査装置の有
するステージ上の所定の位置に正確にアライメントされ
ることとなる。
1の手動探索を説明するための図である。作業者は、欠
陥検査装置の有するステージを駆動することによりチッ
プ2を移動して、チップ2の中からアライメントマーク
1を探索する。アライメントマーク1を発見した後、ア
ライメントマーク1の全部又は一部(少なくとも角D0
A0B0及び角A0B0C0)がレンズ視野4に入るよ
うにチップ2を移動し、アライメントポイントAP0の
割り出しを行う。即ち、2等分線を求める角としていず
れの角が特定されているかを欠陥検査装置から読み出
し、読み出した角D0A0B0及び角A0B0C0のそ
れぞれの2等分線を求め、その交点をアライメントポイ
ントAP0として割り出す。そして、割り出したアライ
メントポイントAP0の位置と、レンズ視野4に表示さ
れているターゲットスコープ5の中心点Oとのずれ量に
基づいて、アライメントポイントAP0と中心点Oとを
重ね合わせるために必要なステージの駆動量を算出し、
チップ2を移動する。図5は、チップ2の移動が完了し
た後のレンズ視野4を表示する図である。このようにし
て、チップ2が形成されたウエハは、欠陥検査装置の有
するステージ上の所定の位置に正確にアライメントされ
ることとなる。
【0025】なお、以上の説明では不等辺四角形のアラ
イメントマーク1について述べたが、これに限るもので
はなく、図6に示す3角形のもの(角C1A1B1の2
等分線と角A1B1C1の2等分線との交点をアライメ
ントポイントAP1として指定)や、図7に示す5角形
のもの(角E2A2B2の2等分線と角A2B2C2の
2等分線との交点をアライメントポイントAP2として
指定)であってもよい。また、2等分線を求める角とし
て必ずしも隣り合う2つの角を特定する必要はなく、図
8に示すように対向する2つの角(角D3A3B3及び
角B3C3D3)を特定してもよい。但しこの場合は、
特定した2つの角の2等分線同士が互いに一致又は平行
しないことが条件となる。ただ、この条件を満足する場
合であっても、2本の2等分線同士が平行に近いと交点
の位置を特定するのが難しくなる。かかる観点からは、
角C3AP3A3が90度となる場合が最も位置の特定
が容易であり、願わくば角C3AP3A3が60度から
120度程度の範囲にあるのが望ましい。以上の説明か
ら明らかなように、アライメントマーク1としては、一
致又は平行しない角の2等分線を2本描くことができる
図形であればどのようなものであってもよい。
イメントマーク1について述べたが、これに限るもので
はなく、図6に示す3角形のもの(角C1A1B1の2
等分線と角A1B1C1の2等分線との交点をアライメ
ントポイントAP1として指定)や、図7に示す5角形
のもの(角E2A2B2の2等分線と角A2B2C2の
2等分線との交点をアライメントポイントAP2として
指定)であってもよい。また、2等分線を求める角とし
て必ずしも隣り合う2つの角を特定する必要はなく、図
8に示すように対向する2つの角(角D3A3B3及び
角B3C3D3)を特定してもよい。但しこの場合は、
特定した2つの角の2等分線同士が互いに一致又は平行
しないことが条件となる。ただ、この条件を満足する場
合であっても、2本の2等分線同士が平行に近いと交点
の位置を特定するのが難しくなる。かかる観点からは、
角C3AP3A3が90度となる場合が最も位置の特定
が容易であり、願わくば角C3AP3A3が60度から
120度程度の範囲にあるのが望ましい。以上の説明か
ら明らかなように、アライメントマーク1としては、一
致又は平行しない角の2等分線を2本描くことができる
図形であればどのようなものであってもよい。
【0026】このように本実施の形態1に係るアライメ
ント方法によれば、教示画面又はレンズ視野に表示され
るアライメントマークの輪郭が不明確となった場合であ
っても、アライメントポイントを設定する作業者と、実
際に欠陥検査を行う作業者との間の認識の相違に拘わら
ず、常に一定のアライメントポイントを把握することが
できる。図9は、本実施の形態1に係るアライメント方
法の効果を具体的に説明するための図である。アライメ
ントポイントを設定する作業者が2等分線を求める角と
して角D00A00B00及び角A00B00C00の
2角を特定し、これを欠陥検査装置に教示したものとす
る。一方、実際に欠陥検査を行う作業者はアライメント
マーク1の輪郭上の頂点として角D01A01B01及
び角A01B01C01の2角を認識したものとする。
しかし、この場合であっても、角D01A01B01及
び角A01B01C01のそれぞれの2等分線に基づい
て把握されるアライメントポイントはAP0となり、欠
陥検査装置に教示されたアライメントポイントに等しく
なる。即ち、アライメントマーク1の輪郭に関する作業
者間の認識の相違によって、アライメントポイントAP
0が一致しないということはない。
ント方法によれば、教示画面又はレンズ視野に表示され
るアライメントマークの輪郭が不明確となった場合であ
っても、アライメントポイントを設定する作業者と、実
際に欠陥検査を行う作業者との間の認識の相違に拘わら
ず、常に一定のアライメントポイントを把握することが
できる。図9は、本実施の形態1に係るアライメント方
法の効果を具体的に説明するための図である。アライメ
ントポイントを設定する作業者が2等分線を求める角と
して角D00A00B00及び角A00B00C00の
2角を特定し、これを欠陥検査装置に教示したものとす
る。一方、実際に欠陥検査を行う作業者はアライメント
マーク1の輪郭上の頂点として角D01A01B01及
び角A01B01C01の2角を認識したものとする。
しかし、この場合であっても、角D01A01B01及
び角A01B01C01のそれぞれの2等分線に基づい
て把握されるアライメントポイントはAP0となり、欠
陥検査装置に教示されたアライメントポイントに等しく
なる。即ち、アライメントマーク1の輪郭に関する作業
者間の認識の相違によって、アライメントポイントAP
0が一致しないということはない。
【0027】なお、以上の説明では、検査対象たるチッ
プを欠陥検査装置の有するステージ上にアライメントす
る場合について述べたが、これに限らず、一般に半導体
装置の製造工程等において被処理対象を処理装置へアラ
イメントする工程に関して本発明を適用することによ
り、上記と同様の効果を得ることができるのはいうまで
もない。
プを欠陥検査装置の有するステージ上にアライメントす
る場合について述べたが、これに限らず、一般に半導体
装置の製造工程等において被処理対象を処理装置へアラ
イメントする工程に関して本発明を適用することによ
り、上記と同様の効果を得ることができるのはいうまで
もない。
【0028】実施の形態2.図10は、本発明の実施の
形態2に係るアライメント方法を説明するための図であ
る。以下、2等分線を求める角としてアライメントマー
ク1の角D0A0B0及び角A0B0C0の2角を特定
した場合を想定して説明する。本実施の形態2において
は、レンズ視野4に表示されているターゲットスコープ
の一方の軸5a及び他方の軸5bを、角DOAOBO及
び角A0B0C0のそれぞれの2等分線に平行になるよ
うに配置する。
形態2に係るアライメント方法を説明するための図であ
る。以下、2等分線を求める角としてアライメントマー
ク1の角D0A0B0及び角A0B0C0の2角を特定
した場合を想定して説明する。本実施の形態2において
は、レンズ視野4に表示されているターゲットスコープ
の一方の軸5a及び他方の軸5bを、角DOAOBO及
び角A0B0C0のそれぞれの2等分線に平行になるよ
うに配置する。
【0029】図11は、本実施の形態2に係るアライメ
ント方法の効果を説明するための図である。図11に示
すように本実施の形態2に係るアライメント方法によれ
ば、欠陥検査を行う作業者は特定された角の2等分線を
求めるという作業を行わなくても、角DOAOBOが軸
5b上に、かつ角A0B0C0が軸5a上にそれぞれ来
るようにチップ2を移動することにより、簡易にチップ
のアライメントを行うことができる。
ント方法の効果を説明するための図である。図11に示
すように本実施の形態2に係るアライメント方法によれ
ば、欠陥検査を行う作業者は特定された角の2等分線を
求めるという作業を行わなくても、角DOAOBOが軸
5b上に、かつ角A0B0C0が軸5a上にそれぞれ来
るようにチップ2を移動することにより、簡易にチップ
のアライメントを行うことができる。
【0030】実施の形態3.図12は、本発明の実施の
形態3に係るアライメント方法を説明するための図であ
る。図12に示すように本実施の形態3においては、ア
ライメントマーク1の形状を菱形にするとともに、2等
分線を求める角として、菱形の有する4つの角のうち隣
り合う2つの角(例えば角D4A4B4及び角A4B4
C4)を特定する。実際に欠陥検査を行う作業者は、レ
ンズ視野4内において、角D4A4B4及び角A4B4
C4がともにターゲットスコープ50の軸上に来るよう
にチップを移動することによってアライメントを行う。
形態3に係るアライメント方法を説明するための図であ
る。図12に示すように本実施の形態3においては、ア
ライメントマーク1の形状を菱形にするとともに、2等
分線を求める角として、菱形の有する4つの角のうち隣
り合う2つの角(例えば角D4A4B4及び角A4B4
C4)を特定する。実際に欠陥検査を行う作業者は、レ
ンズ視野4内において、角D4A4B4及び角A4B4
C4がともにターゲットスコープ50の軸上に来るよう
にチップを移動することによってアライメントを行う。
【0031】このように本実施の形態3に係るアライメ
ント方法によれば、角の2等分線同士が互いに直交する
ため、従来から使用されている十文字ターゲットスコー
プを用いてアライメントポイントを割り出すことができ
る。また、アライメントマークを菱形とすることにより
以下の効果が得られる。即ち、不等辺四角形のアライメ
ントマークのアライメントポイントを割り出すために
は、特定した2角の2等分線をそれぞれ求める必要があ
った。ここで、不等辺四角形のアライメントマークにお
いて特定した2角の2等分線同士の交点を求めるという
ことは、菱形のアライメントマークにおいては対角線同
士の交点を求めるということに等しい。従って、図12
において、頂点B4と頂点D4とを結ぶ第1の対角線
と、頂点A4と頂点C4とを結ぶ第2の対角線との交点
を求めることにより簡単にアライメントポイントAP5
を割り出すことができる。
ント方法によれば、角の2等分線同士が互いに直交する
ため、従来から使用されている十文字ターゲットスコー
プを用いてアライメントポイントを割り出すことができ
る。また、アライメントマークを菱形とすることにより
以下の効果が得られる。即ち、不等辺四角形のアライメ
ントマークのアライメントポイントを割り出すために
は、特定した2角の2等分線をそれぞれ求める必要があ
った。ここで、不等辺四角形のアライメントマークにお
いて特定した2角の2等分線同士の交点を求めるという
ことは、菱形のアライメントマークにおいては対角線同
士の交点を求めるということに等しい。従って、図12
において、頂点B4と頂点D4とを結ぶ第1の対角線
と、頂点A4と頂点C4とを結ぶ第2の対角線との交点
を求めることにより簡単にアライメントポイントAP5
を割り出すことができる。
【0032】実施の形態4.上記実施の形態1〜3で
は、2等分線を求める角を特定するにあたり、アライメ
ントマーク1を構成する図形の頂点に基づいてこれを特
定する場合について述べたが、本実施の形態4において
は、図形の頂点からではなく図形を構成する線分に基づ
いて2等分線を求める角を特定する。
は、2等分線を求める角を特定するにあたり、アライメ
ントマーク1を構成する図形の頂点に基づいてこれを特
定する場合について述べたが、本実施の形態4において
は、図形の頂点からではなく図形を構成する線分に基づ
いて2等分線を求める角を特定する。
【0033】図13は、本発明の実施の形態4に係るア
ライメント方法を説明するための図である。アライメン
トマーク1は4つの線分a0〜d0を有している。ま
ず、欠陥検査装置にアライメントポイントを教示する作
業者は、教示画面にアライメントマーク1を表示し、ア
ライメントマーク1を構成する4つの線分a0〜d0の
中から2つの線分を特定する。ここでは、線分a0と線
分b0とを特定したものとする。そして、線分a0及び
線分b0をそれぞれ延長して直線a00及び直線b00
とし、直線a00と直線b00とが交わることにより成
す角a00b00を1つ目の角として特定する。次に作
業者は、上記特定した2つの線分a0,b0と少なくと
も1つの線分が異なる他の2つの線分を特定する。ここ
では、線分b0と線分c0とを特定したものとする。そ
して、線分b0及び線分c0をそれぞれ延長して直線b
00及び直線c00とし、直線b00と直線c00とが
交わることにより成す角b00c00を2つ目の角とし
て特定する。そして、特定した2角のそれぞれの2等分
線同士の交点をアライメントポイントAP6として設定
する。そして、アライメントマーク1の形状と、設定し
たアライメントポイントAP6の位置と、2等分線を求
める直線を得るために特定した2対の線分(線分a0,
b0、及び線分b0,c0)とを欠陥検査装置に教示す
る。
ライメント方法を説明するための図である。アライメン
トマーク1は4つの線分a0〜d0を有している。ま
ず、欠陥検査装置にアライメントポイントを教示する作
業者は、教示画面にアライメントマーク1を表示し、ア
ライメントマーク1を構成する4つの線分a0〜d0の
中から2つの線分を特定する。ここでは、線分a0と線
分b0とを特定したものとする。そして、線分a0及び
線分b0をそれぞれ延長して直線a00及び直線b00
とし、直線a00と直線b00とが交わることにより成
す角a00b00を1つ目の角として特定する。次に作
業者は、上記特定した2つの線分a0,b0と少なくと
も1つの線分が異なる他の2つの線分を特定する。ここ
では、線分b0と線分c0とを特定したものとする。そ
して、線分b0及び線分c0をそれぞれ延長して直線b
00及び直線c00とし、直線b00と直線c00とが
交わることにより成す角b00c00を2つ目の角とし
て特定する。そして、特定した2角のそれぞれの2等分
線同士の交点をアライメントポイントAP6として設定
する。そして、アライメントマーク1の形状と、設定し
たアライメントポイントAP6の位置と、2等分線を求
める直線を得るために特定した2対の線分(線分a0,
b0、及び線分b0,c0)とを欠陥検査装置に教示す
る。
【0034】欠陥検査装置によるアライメントマーク1
の自動探索が失敗に終わり、作業者による手動探索に移
行した場合において、作業者は、2等分線を求める直線
を得るために特定した2対の線分としていずれの線分が
特定されているかを欠陥検査装置から読み出す。次に、
読み出した2対の線分a0,b0、及びb0,c0をそ
れぞれ延長することにより直線a00,b00,c00
とし、さらに、直線a00と直線b00とが交わること
により成す角の2等分線、及び直線b00と直線c00
とが交わることにより成す角の2等分線をそれぞれ求め
る。そして、求めた2等分線同士の交点をアライメント
ポイントAP6として割り出す。
の自動探索が失敗に終わり、作業者による手動探索に移
行した場合において、作業者は、2等分線を求める直線
を得るために特定した2対の線分としていずれの線分が
特定されているかを欠陥検査装置から読み出す。次に、
読み出した2対の線分a0,b0、及びb0,c0をそ
れぞれ延長することにより直線a00,b00,c00
とし、さらに、直線a00と直線b00とが交わること
により成す角の2等分線、及び直線b00と直線c00
とが交わることにより成す角の2等分線をそれぞれ求め
る。そして、求めた2等分線同士の交点をアライメント
ポイントAP6として割り出す。
【0035】このように本実施の形態4に係るアライメ
ント方法によれば、アライメントマークの輪郭が不明確
になってアライメントマークを構成する図形の頂点自体
が不明瞭となった場合であっても、2等分線を求める角
を適切に特定することができる。
ント方法によれば、アライメントマークの輪郭が不明確
になってアライメントマークを構成する図形の頂点自体
が不明瞭となった場合であっても、2等分線を求める角
を適切に特定することができる。
【0036】実施の形態5.上記実施の形態1〜4で
は、アライメントマーク1を一つの図形で構成している
場合について説明したが、一致又は平行しない角の2等
分線を2本描くことができる図形でさえあれば、アライ
メントマーク1が複数の図形によって構成されていても
構わない。また、特定される角がアライメントポイント
から見て鋭角であっても鈍角であっても構わない。従っ
て、アライメントマーク1を構成する図形として、図1
4〜図17に示すような図形を採用することもできる。
は、アライメントマーク1を一つの図形で構成している
場合について説明したが、一致又は平行しない角の2等
分線を2本描くことができる図形でさえあれば、アライ
メントマーク1が複数の図形によって構成されていても
構わない。また、特定される角がアライメントポイント
から見て鋭角であっても鈍角であっても構わない。従っ
て、アライメントマーク1を構成する図形として、図1
4〜図17に示すような図形を採用することもできる。
【0037】このように本実施の形態5に係るアライメ
ント方法によれば、アライメントマークを構成するため
に採用する図形の自由度を大きくすることができる。特
に図14又は図15に示した図形を採用した場合は、図
形の面積を小さくすることができるため、工程途中でア
ライメントマークが剥がれる危険性を少なくすることが
できる。
ント方法によれば、アライメントマークを構成するため
に採用する図形の自由度を大きくすることができる。特
に図14又は図15に示した図形を採用した場合は、図
形の面積を小さくすることができるため、工程途中でア
ライメントマークが剥がれる危険性を少なくすることが
できる。
【0038】実施の形態6.図18は、複数のチップ2
が形成されているウエハの構成を部分的に拡大して示す
平面図である。隣り合うチップ2同士の間には、ウエハ
を各チップごとに切り分けるためのダイシングライン6
が設けられている。本実施の形態6においては、アライ
メントマーク1をこのダイシングライン6上に形成す
る。なお、図18では、アライメントマーク1として菱
形のものを記載したが、上述したごとく、一致又は平行
しない角の2等分線を2本描くことができる図形から成
るアライメントマークであればどのようなものであって
もよい。
が形成されているウエハの構成を部分的に拡大して示す
平面図である。隣り合うチップ2同士の間には、ウエハ
を各チップごとに切り分けるためのダイシングライン6
が設けられている。本実施の形態6においては、アライ
メントマーク1をこのダイシングライン6上に形成す
る。なお、図18では、アライメントマーク1として菱
形のものを記載したが、上述したごとく、一致又は平行
しない角の2等分線を2本描くことができる図形から成
るアライメントマークであればどのようなものであって
もよい。
【0039】このように本実施の形態6に係るアライメ
ント方法によれば、アライメントマークをダイシングラ
イン上に形成するため、アライメントマークを形成する
ための領域をチップ内に設ける必要がなく、チップ内の
素子形成領域を十分に確保することができる。
ント方法によれば、アライメントマークをダイシングラ
イン上に形成するため、アライメントマークを形成する
ための領域をチップ内に設ける必要がなく、チップ内の
素子形成領域を十分に確保することができる。
【0040】実施の形態7.図19は、チップ2の構成
を部分的に拡大して示す平面図である。チップ2には、
複数のボンディングパッド7が形成されているが、その
うちの一つを例えば菱形のボンディングパッド7aと
し、アライメントマークとして機能させる。アライメン
トマークは、画像処理技術によってその図形が認識でき
さえすればよく、電気的な特性は問われない。従って、
配線やキャパシタとしてのテストパターン、あるいはボ
ンディングパッド等の製品として機能するパターンを、
実施の形態1で述べた条件を満たす図形に設計してアラ
イメントマークとして用いることができる。
を部分的に拡大して示す平面図である。チップ2には、
複数のボンディングパッド7が形成されているが、その
うちの一つを例えば菱形のボンディングパッド7aと
し、アライメントマークとして機能させる。アライメン
トマークは、画像処理技術によってその図形が認識でき
さえすればよく、電気的な特性は問われない。従って、
配線やキャパシタとしてのテストパターン、あるいはボ
ンディングパッド等の製品として機能するパターンを、
実施の形態1で述べた条件を満たす図形に設計してアラ
イメントマークとして用いることができる。
【0041】このように本実施の形態7に係るアライメ
ント方法によれば、アライメントマークを新たに形成す
るための領域を設ける必要がなく、チップ内の素子形成
領域を十分に確保することができるとともに、製品レイ
アウトの自由度を高めることもできる。
ント方法によれば、アライメントマークを新たに形成す
るための領域を設ける必要がなく、チップ内の素子形成
領域を十分に確保することができるとともに、製品レイ
アウトの自由度を高めることもできる。
【0042】実施の形態8.図20は、チップ2の構成
を部分的に拡大して示す平面図である。本実施の形態8
においては、上記実施の形態7と同様にチップ2内の所
定のパターンをアライメントマークとして用いることに
加え、特に4つの頂点A9,B9,C9,D9を有する
長方形のパターン7をアライメントマークとして用い
る。
を部分的に拡大して示す平面図である。本実施の形態8
においては、上記実施の形態7と同様にチップ2内の所
定のパターンをアライメントマークとして用いることに
加え、特に4つの頂点A9,B9,C9,D9を有する
長方形のパターン7をアライメントマークとして用い
る。
【0043】図21は、レンズ視野4を表示する図であ
る。レンズ視野4には十文字ターゲットスコープが表示
されており、その2つの軸5c,5dはともに、レンズ
視野4内における垂直y軸方向から45度だけ傾斜して
いる。このようにターゲットスコープを垂直y軸方向か
ら45度だけ傾斜させることにより、角D9A9B9の
2等分線とターゲットスコープの軸5dとが互いに平行
するようになり、また、角A9B9C9の2等分線とタ
ーゲットスコープの軸5cとが互いに平行するようにな
る。
る。レンズ視野4には十文字ターゲットスコープが表示
されており、その2つの軸5c,5dはともに、レンズ
視野4内における垂直y軸方向から45度だけ傾斜して
いる。このようにターゲットスコープを垂直y軸方向か
ら45度だけ傾斜させることにより、角D9A9B9の
2等分線とターゲットスコープの軸5dとが互いに平行
するようになり、また、角A9B9C9の2等分線とタ
ーゲットスコープの軸5cとが互いに平行するようにな
る。
【0044】このように本実施の形態8に係るアライメ
ント方法によれば、長方形のパターン7をアライメント
マークとして用いるため、角の2等分線同士が互いに垂
直に交わる。従って、従来から使用されている十文字タ
ーゲットスコープを垂直y軸方向から45度傾斜させて
使用することができる。また、菱形のパターンに比べて
長方形のパターンは一般的にチップ2内に数多く形成さ
れているという利点もある。
ント方法によれば、長方形のパターン7をアライメント
マークとして用いるため、角の2等分線同士が互いに垂
直に交わる。従って、従来から使用されている十文字タ
ーゲットスコープを垂直y軸方向から45度傾斜させて
使用することができる。また、菱形のパターンに比べて
長方形のパターンは一般的にチップ2内に数多く形成さ
れているという利点もある。
【0045】実施の形態9.図22は、本発明の実施の
形態9に係るアライメント方法に使用するアライメント
マーク9の構成を示す平面図である。アライメントマー
ク9は、4つの頂点A10,B10,C10,D10を
有する粗アライメントマーク1aと、4つの頂点A1
1,B11,C11,D11を有する精アライメントマ
ーク1bとから成り、図22に示すように、精アライメ
ントマーク1bは粗アライメントマーク1a内に形成さ
れている。2等分線を求める角として、粗アライメント
マーク1aに対しては角D10A10B10及び角A1
0B10C10を、精アライメントマーク1bに対して
は角D11A11B11及び角A11B11C11をそ
れぞれ特定する。そして作業者は、上記実施の形態1と
同様にして、粗アライメントマーク1a及び精アライメ
ントマーク1bのそれぞれに関して、角の2等分線同士
の交点をアライメントポイントとして個別に設定し、欠
陥検査装置に教示する。なお、図22では、互いに相似
する粗アライメントマーク1a及び精アライメントマー
ク1bを示したが、必ずしも両者が相似の関係にある必
要はない。また、粗アライメントマーク1aに関するア
ライメントポイントと精アライメントマーク1bに関す
るアライメントポイントとが重なり合う場合について示
したが、必ずしも両者が重なり合う必要もない。
形態9に係るアライメント方法に使用するアライメント
マーク9の構成を示す平面図である。アライメントマー
ク9は、4つの頂点A10,B10,C10,D10を
有する粗アライメントマーク1aと、4つの頂点A1
1,B11,C11,D11を有する精アライメントマ
ーク1bとから成り、図22に示すように、精アライメ
ントマーク1bは粗アライメントマーク1a内に形成さ
れている。2等分線を求める角として、粗アライメント
マーク1aに対しては角D10A10B10及び角A1
0B10C10を、精アライメントマーク1bに対して
は角D11A11B11及び角A11B11C11をそ
れぞれ特定する。そして作業者は、上記実施の形態1と
同様にして、粗アライメントマーク1a及び精アライメ
ントマーク1bのそれぞれに関して、角の2等分線同士
の交点をアライメントポイントとして個別に設定し、欠
陥検査装置に教示する。なお、図22では、互いに相似
する粗アライメントマーク1a及び精アライメントマー
ク1bを示したが、必ずしも両者が相似の関係にある必
要はない。また、粗アライメントマーク1aに関するア
ライメントポイントと精アライメントマーク1bに関す
るアライメントポイントとが重なり合う場合について示
したが、必ずしも両者が重なり合う必要もない。
【0046】図23は、ウエハ全体の構成を示す平面図
である。ウエハ10に形成されている複数のチップ2の
それぞれに、アライメントマーク9が形成されている。
また、ウエハ10にはオリエンテーションフラット11
が設けられている。欠陥検査を実行するにあたりウエハ
10は欠陥検査装置の有するステージ上に載置される
が、その際、ウエハ10の外形、例えばオリエンテーシ
ョンフラット11の位置やその方向を基準とした大まか
な位置合わせが行われる。
である。ウエハ10に形成されている複数のチップ2の
それぞれに、アライメントマーク9が形成されている。
また、ウエハ10にはオリエンテーションフラット11
が設けられている。欠陥検査を実行するにあたりウエハ
10は欠陥検査装置の有するステージ上に載置される
が、その際、ウエハ10の外形、例えばオリエンテーシ
ョンフラット11の位置やその方向を基準とした大まか
な位置合わせが行われる。
【0047】欠陥検査装置によるアライメントマーク9
の自動探索が失敗に終わった場合、作業者は以下の手法
により検査対象の手動アライメントを行う。まず、欠陥
検査装置に低倍率のレンズをセットした状態で、検査対
象たるチップ2を観察する。図24は、このときのレン
ズ視野4を表示する図である。図24に示すように、レ
ンズ視野4内には4つのチップ2が表れているが、ここ
では右上のチップ2が検査対象のチップであるものと仮
定する。まず第1段階として、粗アライメントマーク1
aのアライメントポイントを基準としてチップ2のアラ
イメントを行う。即ち、粗アライメントマーク1aのア
ライメントポイントと、レンズ視野4に表示されている
ターゲットスコープの軸5e,5fの交点Oとのずれ量
に基づいて、両者を一致させるために必要なステージの
駆動量を算出し、欠陥検査装置のステージを駆動してチ
ップ2を移動する。図25は、チップ2の移動が完了し
た状態のレンズ視野4を表示する図である。
の自動探索が失敗に終わった場合、作業者は以下の手法
により検査対象の手動アライメントを行う。まず、欠陥
検査装置に低倍率のレンズをセットした状態で、検査対
象たるチップ2を観察する。図24は、このときのレン
ズ視野4を表示する図である。図24に示すように、レ
ンズ視野4内には4つのチップ2が表れているが、ここ
では右上のチップ2が検査対象のチップであるものと仮
定する。まず第1段階として、粗アライメントマーク1
aのアライメントポイントを基準としてチップ2のアラ
イメントを行う。即ち、粗アライメントマーク1aのア
ライメントポイントと、レンズ視野4に表示されている
ターゲットスコープの軸5e,5fの交点Oとのずれ量
に基づいて、両者を一致させるために必要なステージの
駆動量を算出し、欠陥検査装置のステージを駆動してチ
ップ2を移動する。図25は、チップ2の移動が完了し
た状態のレンズ視野4を表示する図である。
【0048】次に、欠陥検査装置にセットされていた低
倍率のレンズを高倍率のレンズに変更し、検査対象たる
チップ2のアライメントマーク9付近を観察する。図2
5は、このときのレンズ視野4を表示する図である。ア
ライメントマーク9を高倍率のレンズによって観察して
いるため、精アライメントマーク1bが拡大されてレン
ズ視野4内に表示される。従って、次に第2段階とし
て、精アライメントマーク1bのアライメントポイント
を基準としてチップ2のアライメントを行う。即ち、精
アライメントマーク1bのアライメントポイントとター
ゲットスコープの交点Oとのずれ量に基づいて、両者を
一致させるために必要なステージの駆動量を算出し、欠
陥検査装置のステージを駆動してチップ2を移動する。
図27は、チップ2の移動が完了した状態のレンズ視野
4を表示する図である。
倍率のレンズを高倍率のレンズに変更し、検査対象たる
チップ2のアライメントマーク9付近を観察する。図2
5は、このときのレンズ視野4を表示する図である。ア
ライメントマーク9を高倍率のレンズによって観察して
いるため、精アライメントマーク1bが拡大されてレン
ズ視野4内に表示される。従って、次に第2段階とし
て、精アライメントマーク1bのアライメントポイント
を基準としてチップ2のアライメントを行う。即ち、精
アライメントマーク1bのアライメントポイントとター
ゲットスコープの交点Oとのずれ量に基づいて、両者を
一致させるために必要なステージの駆動量を算出し、欠
陥検査装置のステージを駆動してチップ2を移動する。
図27は、チップ2の移動が完了した状態のレンズ視野
4を表示する図である。
【0049】このように本実施の形態9に係るアライメ
ント方法によれば、精アライメントマークが粗アライメ
ントマーク内に形成されているため、従来のように粗ア
ライメントマークと精アライメントマークとをチップ内
に個別に設ける場合と比較すると、アライメントマーク
を形成するために必要な領域の面積を小さくすることが
できる。
ント方法によれば、精アライメントマークが粗アライメ
ントマーク内に形成されているため、従来のように粗ア
ライメントマークと精アライメントマークとをチップ内
に個別に設ける場合と比較すると、アライメントマーク
を形成するために必要な領域の面積を小さくすることが
できる。
【0050】
【発明の効果】この発明のうち請求項1に係るものによ
れば、第1及び第2の2等分線の交点としてアライメン
トポイントを把握するため、発見したアライメントマー
クの輪郭が不明確であっても、作業者間の輪郭の認識の
相違によることなくアライメントポイントを常に一定の
位置に把握することができる。
れば、第1及び第2の2等分線の交点としてアライメン
トポイントを把握するため、発見したアライメントマー
クの輪郭が不明確であっても、作業者間の輪郭の認識の
相違によることなくアライメントポイントを常に一定の
位置に把握することができる。
【0051】また、この発明のうち請求項2に係るもの
によれば、アライメントマークの輪郭が不明確となり、
アライメントマークを構成する図形の角が丸みを帯びて
観察される場合であっても、2等分線を求めるための2
つの角を適切に特定することができる。
によれば、アライメントマークの輪郭が不明確となり、
アライメントマークを構成する図形の角が丸みを帯びて
観察される場合であっても、2等分線を求めるための2
つの角を適切に特定することができる。
【0052】また、この発明のうち請求項3に係るもの
によれば、ターゲットスコープの一軸及び他軸が第1及
び第2の2等分線にそれぞれ平行するため、ターゲット
スコープの一軸及び他軸の交点としてアライメントポイ
ントを把握することができる。従って、作業者が第1及
び第2の角に基づいて2等分線を求める必要はなく、簡
易にアライメントポイントを割り出すことができる。
によれば、ターゲットスコープの一軸及び他軸が第1及
び第2の2等分線にそれぞれ平行するため、ターゲット
スコープの一軸及び他軸の交点としてアライメントポイ
ントを把握することができる。従って、作業者が第1及
び第2の角に基づいて2等分線を求める必要はなく、簡
易にアライメントポイントを割り出すことができる。
【0053】また、この発明のうち請求項4に係るもの
によれば、アライメントマークを構成する図形が菱形で
あるため、第1及び第2の2等分線は互いに直交する。
従って、従来から使用されている十文字ターゲットスコ
ープを用いてアライメントポイントを割り出すことがで
きる。
によれば、アライメントマークを構成する図形が菱形で
あるため、第1及び第2の2等分線は互いに直交する。
従って、従来から使用されている十文字ターゲットスコ
ープを用いてアライメントポイントを割り出すことがで
きる。
【0054】また、この発明のうち請求項5に係るもの
によれば、菱形の対角線同士の交点をアライメントポイ
ントとして割り出すため、特定した第1及び第2の角の
それぞれの2等分線同士の交点をアライメントポイント
として割り出すよりも、簡単にアライメントポイントを
割り出すことができる。
によれば、菱形の対角線同士の交点をアライメントポイ
ントとして割り出すため、特定した第1及び第2の角の
それぞれの2等分線同士の交点をアライメントポイント
として割り出すよりも、簡単にアライメントポイントを
割り出すことができる。
【0055】また、この発明のうち請求項6に係るもの
によれば、処理対象に形成されているパターンをアライ
メントマークとして使用するため、アライメントマーク
を形成する領域を処理対象に設ける必要がない。
によれば、処理対象に形成されているパターンをアライ
メントマークとして使用するため、アライメントマーク
を形成する領域を処理対象に設ける必要がない。
【0056】また、この発明のうち請求項7に係るもの
によれば、一般的に処理対象に数多く形成されている長
方形のパターンをアライメントマークとして使用するこ
とができる。しかも、第1及び第2の2等分線が互いに
直交するため、従来から使用されている十文字ターゲッ
トスコープをレンズ視野内における垂直軸方向から45
度傾斜させて使用することにより、簡易にアライメント
ポイントを割り出すことができる。
によれば、一般的に処理対象に数多く形成されている長
方形のパターンをアライメントマークとして使用するこ
とができる。しかも、第1及び第2の2等分線が互いに
直交するため、従来から使用されている十文字ターゲッ
トスコープをレンズ視野内における垂直軸方向から45
度傾斜させて使用することにより、簡易にアライメント
ポイントを割り出すことができる。
【0057】また、この発明のうち請求項8に係るもの
によれば、精アライメントマークが粗アライメントマー
ク内に形成されているため、従来のように粗アライメン
トマークと精アライメントマークとを処理対象内に個別
に設ける場合と比較すると、アライメントマークを形成
するために必要な領域の面積を小さくすることができ
る。
によれば、精アライメントマークが粗アライメントマー
ク内に形成されているため、従来のように粗アライメン
トマークと精アライメントマークとを処理対象内に個別
に設ける場合と比較すると、アライメントマークを形成
するために必要な領域の面積を小さくすることができ
る。
【0058】また、この発明のうち請求項9に係るもの
によれば、図形の面積を小さくすることが出来るため、
工程途中でアライメントマークが剥がれる危険性を少な
くすることができる。
によれば、図形の面積を小さくすることが出来るため、
工程途中でアライメントマークが剥がれる危険性を少な
くすることができる。
【0059】また、この発明のうち請求項10に係るも
のによれば、アライメントマークをダイシングライン上
に設けるため、アライメントマークを形成するための領
域を処理対象内に設ける必要はなく、処理対象の素子形
成領域の面積を小さくすることはない。
のによれば、アライメントマークをダイシングライン上
に設けるため、アライメントマークを形成するための領
域を処理対象内に設ける必要はなく、処理対象の素子形
成領域の面積を小さくすることはない。
【0060】また、この発明のうち請求項11に係るも
のによれば、第1及び第2の角の2等分線同士の交点が
アライメントポイントとして把握されるため、アライメ
ントマークの輪郭が不明確であっても、作業者間の輪郭
の認識の相違によることなく、アライメントポイントを
常に一定に把握することができる。
のによれば、第1及び第2の角の2等分線同士の交点が
アライメントポイントとして把握されるため、アライメ
ントマークの輪郭が不明確であっても、作業者間の輪郭
の認識の相違によることなく、アライメントポイントを
常に一定に把握することができる。
【0061】また、この発明のうち請求項12に係るも
のによれば、アライメントマークを構成する図形が菱形
であるため、第1及び第2の2等分線は互いに直交す
る。従って、従来から使用されている十文字ターゲット
スコープを用いてアライメントポイントを割り出すこと
ができる。
のによれば、アライメントマークを構成する図形が菱形
であるため、第1及び第2の2等分線は互いに直交す
る。従って、従来から使用されている十文字ターゲット
スコープを用いてアライメントポイントを割り出すこと
ができる。
【図1】 チップの構成を示す平面図である。
【図2】 アライメントマーク1を拡大して示す平面図
である。
である。
【図3】 アライメントポイントの設定方法を説明する
ための図である。
ための図である。
【図4】 作業者によるアライメントマーク1の手動探
索を説明するための図である。
索を説明するための図である。
【図5】 チップ2の移動が完了した後のレンズ視野4
を表示する図である。
を表示する図である。
【図6】 3角形のアライメントマークを示す図であ
る。
る。
【図7】 5角形のアライメントマークを示す図であ
る。
る。
【図8】 2等分線を求める角として対向する2角を特
定するアライメントマークを示す図である。
定するアライメントマークを示す図である。
【図9】 本実施の形態1に係るアライメント方法の効
果を説明するための図である。
果を説明するための図である。
【図10】 本発明の実施の形態2に係るアライメント
方法を説明するための図である。
方法を説明するための図である。
【図11】 本実施の形態2に係るアライメント方法の
効果を説明するための図である。
効果を説明するための図である。
【図12】 本発明の実施の形態3に係るアライメント
方法を説明するための図である。
方法を説明するための図である。
【図13】 本発明の実施の形態4に係るアライメント
方法を説明するための図である。
方法を説明するための図である。
【図14】 アライメントマーク1を構成する図形を例
示する図である。
示する図である。
【図15】 アライメントマーク1を構成する図形を例
示する図である。
示する図である。
【図16】 アライメントマーク1を構成する図形を例
示する図である。
示する図である。
【図17】 アライメントマーク1を構成する図形を例
示する図である。
示する図である。
【図18】 複数のチップ2が形成されているウエハの
構成を部分的に拡大して示す平面図である。
構成を部分的に拡大して示す平面図である。
【図19】 チップ2の構成を部分的に拡大して示す平
面図である。
面図である。
【図20】 チップ2の構成を部分的に拡大して示す平
面図である。
面図である。
【図21】 レンズ視野4を表示する図である。
【図22】 本発明の実施の形態9に係るアライメント
方法に使用するアライメントマーク9の構成を示す平面
図である。
方法に使用するアライメントマーク9の構成を示す平面
図である。
【図23】 ウエハ全体の構成を示す平面図である。
【図24】 欠陥検査装置に低倍率のレンズをセットし
た状態のレンズ視野4を表示する図である。
た状態のレンズ視野4を表示する図である。
【図25】 チップ2の移動が完了した状態のレンズ視
野4を表示する図である。
野4を表示する図である。
【図26】 欠陥検査装置に高倍率のレンズをセットし
た状態のレンズ視野4を表示する図である。
た状態のレンズ視野4を表示する図である。
【図27】 チップ2の移動が完了した状態のレンズ視
野4を表示する図である。
野4を表示する図である。
【図28】 チップ200の構成を示す平面図である。
【図29】 教示画面300にアライメントマーク10
0を表示した状態を示す図である。
0を表示した状態を示す図である。
【図30】 手動によるチップのアライメントを説明す
るための図である。
るための図である。
【図31】 アライメントマーク100の輪郭が不鮮明
な状況を示す図である。
な状況を示す図である。
【図32】 より正確なアライメントを実現するアライ
メント方法を順に説明するための図である。
メント方法を順に説明するための図である。
【図33】 より正確なアライメントを実現するアライ
メント方法を順に説明するための図である。
メント方法を順に説明するための図である。
【図34】 より正確なアライメントを実現するアライ
メント方法を順に説明するための図である。
メント方法を順に説明するための図である。
【図35】 より正確なアライメントを実現するアライ
メント方法を順に説明するための図である。
メント方法を順に説明するための図である。
1,9 アライメントマーク、2 チップ、3 教示画
面、4 レンズ視野、5,50 ターゲットスコープ、
6 ダイシングライン、7,7a ボンディングパッ
ド、8 パターン。
面、4 レンズ視野、5,50 ターゲットスコープ、
6 ダイシングライン、7,7a ボンディングパッ
ド、8 パターン。
Claims (12)
- 【請求項1】 処理対象の有するアライメントマークを
探索する工程と、 発見した前記アライメントマークから、前記アライメン
トマークを構成する図形の輪郭に基づいて予め特定され
た第1及び第2の角を認識する工程と、 前記第1及び第2の角のそれぞれの2等分線たる第1及
び第2の2等分線の交点としてアライメントポイントを
把握する工程とを備えるアライメント方法。 - 【請求項2】 前記第1及び第2の角はそれぞれ、前記
輪郭を構成する複数の線分の中から2つの線分を特定
し、前記2つの線分をそれぞれ含む2つの直線同士が交
差することにより成す角として与えられる、請求項1記
載のアライメント方法。 - 【請求項3】 前記アライメントマークの探索は、一軸
及び他軸を有するターゲットスコープが表示されたレン
ズ視野内において行われ、 前記一軸及び他軸のそれぞれは前記第1及び第2の2等
分線に平行する、請求項1記載のアライメント方法。 - 【請求項4】 前記図形は菱形であり、前記第1及び第
2の角は前記菱形の有する4つの角のうち隣り合う2つ
の角として特定される、請求項3記載のアライメント方
法。 - 【請求項5】 前記第1及び第2の2等分線同士の交点
を求めることは、前記菱形の2つの対角線同士の交点を
求めることによって実行される、請求項4記載のアライ
メント方法。 - 【請求項6】 前記アライメントマークは前記処理対象
に形成されているパターンである、請求項3記載のアラ
イメント方法。 - 【請求項7】 前記パターンは長方形であり、前記第1
及び第2の角は前記長方形の有する4つの角のうち隣り
合う2つの角として特定される、請求項6記載のアライ
メント方法。 - 【請求項8】 前記アライメントマークは粗アライメン
トマークと精アライメントマークとを有し、 低倍率の第1のレンズを用いて前記粗アライメントマー
クに基づくアライメントを行う工程と、 前記第1のレンズを高倍率の第2のレンズに変更した
後、前記精アライメントマークに基づくアライメントを
行う工程とを備え、 前記精アライメントマークは前記粗アライメントマーク
内に形成される、請求項1記載のアライメント方法。 - 【請求項9】 前記アライメントマークは複数の図形か
ら構成されている、請求項1記載のアライメント方法。 - 【請求項10】 前記アライメントマークはダイシング
ライン上に形成される、請求項1記載のアライメント方
法。 - 【請求項11】 アライメントマークを構成する図形の
輪郭に基づいて特定される第1及び第2の角のそれぞれ
の2等分線同士の交点がアライメントポイントとして把
握される前記アライメントマークを備える半導体装置。 - 【請求項12】 前記図形は菱形であり、前記第1及び
第2の角は前記菱形の有する4つの角のうち隣り合う2
つの角として特定される、請求項11記載の半導体装
置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10031469A JPH11233397A (ja) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | アライメント方法及び半導体装置 |
| US09/122,793 US6242318B1 (en) | 1998-02-13 | 1998-07-27 | Alignment method and semiconductor device |
| KR1019980032913A KR100279139B1 (ko) | 1998-02-13 | 1998-08-13 | 정렬 방법 및 반도체 장치 |
| DE19843947A DE19843947A1 (de) | 1998-02-13 | 1998-09-24 | Ausrichtungsverfahren und Halbleiterbauelement |
| US09/822,178 US6400038B2 (en) | 1998-02-13 | 2001-04-02 | Alignment method and semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10031469A JPH11233397A (ja) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | アライメント方法及び半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11233397A true JPH11233397A (ja) | 1999-08-27 |
Family
ID=12332133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10031469A Pending JPH11233397A (ja) | 1998-02-13 | 1998-02-13 | アライメント方法及び半導体装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6242318B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11233397A (ja) |
| KR (1) | KR100279139B1 (ja) |
| DE (1) | DE19843947A1 (ja) |
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| US7355187B2 (en) | 2002-05-31 | 2008-04-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detection apparatus, position detection method, exposure apparatus, device manufacturing method, and substrate |
| JP2010067988A (ja) * | 2009-11-12 | 2010-03-25 | Canon Inc | 露光装置、位置検出方法、及びデバイス製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JPH11233397A (ja) * | 1998-02-13 | 1999-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | アライメント方法及び半導体装置 |
| KR20040032361A (ko) * | 2002-10-09 | 2004-04-17 | 코닉 시스템 주식회사 | 기판 정렬 공정에서의 광학계의 위치 보상방법 |
| KR100519789B1 (ko) * | 2003-03-20 | 2005-10-10 | 삼성전자주식회사 | 반도체 기판의 얼라인 방법 |
| US7089677B2 (en) * | 2004-05-05 | 2006-08-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for calibrating alignment mark positions on substrates |
| KR101015587B1 (ko) * | 2008-07-25 | 2011-02-17 | 세크론 주식회사 | 렌즈 간격 보정 방법 |
| KR101649424B1 (ko) * | 2014-12-31 | 2016-08-30 | 한국산업기술대학교산학협력단 | 위치 제어 시스템 및 방법 |
| KR102721980B1 (ko) | 2022-02-24 | 2024-10-25 | 삼성전자주식회사 | 기판 정렬 장치 및 이를 이용한 기판 정렬 방법 |
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|---|---|---|---|---|
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| FR2538923A1 (fr) * | 1982-12-30 | 1984-07-06 | Thomson Csf | Procede et dispositif d'alignement optique de motifs dans deux plans rapproches dans un appareil d'exposition comprenant une source de rayonnement divergent |
| US4780617A (en) * | 1984-08-09 | 1988-10-25 | Nippon Kogaku K.K. | Method for successive alignment of chip patterns on a substrate |
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| US4929893A (en) * | 1987-10-06 | 1990-05-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer prober |
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| US5773951A (en) * | 1996-03-25 | 1998-06-30 | Digital Test Corporation | Wafer prober having sub-micron alignment accuracy |
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-
1998
- 1998-02-13 JP JP10031469A patent/JPH11233397A/ja active Pending
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- 1998-08-13 KR KR1019980032913A patent/KR100279139B1/ko not_active Expired - Fee Related
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-
2001
- 2001-04-02 US US09/822,178 patent/US6400038B2/en not_active Expired - Fee Related
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| KR100279139B1 (ko) | 2001-01-15 |
| US6242318B1 (en) | 2001-06-05 |
| US6400038B2 (en) | 2002-06-04 |
| DE19843947A1 (de) | 1999-08-26 |
| KR19990071377A (ko) | 1999-09-27 |
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