JPH11236247A - 導電性反射防止膜が被覆されたガラス物品 - Google Patents
導電性反射防止膜が被覆されたガラス物品Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ＣＲＴのフェースプレート前面に被覆される導
電性反射防止膜で、その後フアンネルとの封着工程での
熱処理を受けても、低い導電性を確保する反射防止膜の
は得られていない。 【解決手段】フェースプレート上にインコネル金属層２
ｎｍ、高屈折率層としてのチタン酸プラセオジウム層２
０ｎｍ、保護層としてのフッ化マグネシウム層１５ｎ
ｍ、導電層としてのＩＴＯ層２０ｎｍ、低屈折率層とし
てのフッ化マグネシウム層８６ｎｍをこの順に積層した
積層体とする。４５０℃、６０分後で５００Ω／□以下
で可視光透過率が６５〜８５％、可視光線反射率１％未
満の特性の物品が得られる。
電性反射防止膜で、その後フアンネルとの封着工程での
熱処理を受けても、低い導電性を確保する反射防止膜の
は得られていない。 【解決手段】フェースプレート上にインコネル金属層２
ｎｍ、高屈折率層としてのチタン酸プラセオジウム層２
０ｎｍ、保護層としてのフッ化マグネシウム層１５ｎ
ｍ、導電層としてのＩＴＯ層２０ｎｍ、低屈折率層とし
てのフッ化マグネシウム層８６ｎｍをこの順に積層した
積層体とする。４５０℃、６０分後で５００Ω／□以下
で可視光透過率が６５〜８５％、可視光線反射率１％未
満の特性の物品が得られる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、導電性と光吸収性
を兼ね備えた反射防止膜が被覆されたガラス物品に関
し、とりわけ陰極線管に用いられるガラス製フェースプ
レートやフェースプレートの表示部前面に樹脂又はガラ
スフリット等の接着剤で貼り合わせて用いられる導電性
反射防止ガラス板に関する。
を兼ね備えた反射防止膜が被覆されたガラス物品に関
し、とりわけ陰極線管に用いられるガラス製フェースプ
レートやフェースプレートの表示部前面に樹脂又はガラ
スフリット等の接着剤で貼り合わせて用いられる導電性
反射防止ガラス板に関する。
【０００２】
【従来の技術】テレビジョンなどのように陰極線管を用
いた表示装置では、外光の表示面での反射率を低くして
表示品位を良くすることが行われている。また、この陰
極線管を用いた表示装置では、電子銃の使用により高電
圧が用いられるため、表示面は帯電が起こり、これによ
り空気中のゴミや埃を引きつけるため、表示面の帯電を
防止するために導電性にすることが行われている。その
ために、導電性反射防止膜を被覆したガラス板を陰極線
管のフェースプレートに貼り付けたり、フェースプレー
ト外表面に直接導電性反射防止膜を被覆することが行わ
れている。
いた表示装置では、外光の表示面での反射率を低くして
表示品位を良くすることが行われている。また、この陰
極線管を用いた表示装置では、電子銃の使用により高電
圧が用いられるため、表示面は帯電が起こり、これによ
り空気中のゴミや埃を引きつけるため、表示面の帯電を
防止するために導電性にすることが行われている。その
ために、導電性反射防止膜を被覆したガラス板を陰極線
管のフェースプレートに貼り付けたり、フェースプレー
ト外表面に直接導電性反射防止膜を被覆することが行わ
れている。
【０００３】上記の陰極線管の表示品を向上させる目的
で用いられる光学物品としては、特開平６−２６３４８
３号公報に、ガラス板／ＩＴＯ／チタン酸プラセオジウ
ム／フッ化マグネシウム／チタン酸プラセオジウム／フ
ッ化マグネシウムで表せる積層体が知られている。
で用いられる光学物品としては、特開平６−２６３４８
３号公報に、ガラス板／ＩＴＯ／チタン酸プラセオジウ
ム／フッ化マグネシウム／チタン酸プラセオジウム／フ
ッ化マグネシウムで表せる積層体が知られている。
【０００４】また、金属層と透明酸化物層を積層して導
電性反射防止体としたものとしては、特開昭６４−７０
７０１号公報に開示されているガラス板／ステンレス／
酸化チタン／酸化珪素で表せる積層体や、特開平１−１
８０３３３号公報に開示されているガラス板／フッ化マ
グネシウム／ステンレス／酸化チタン／フッ化マグネシ
ウムで表せる積層体や、特許公報第２５６５５３８号に
開示されている、ガラス板／チタン酸プラセオジウム／
ステンレス／チタン酸プラセオジウム／フッ化マグネシ
ウムで表せる積層体がある。
電性反射防止体としたものとしては、特開昭６４−７０
７０１号公報に開示されているガラス板／ステンレス／
酸化チタン／酸化珪素で表せる積層体や、特開平１−１
８０３３３号公報に開示されているガラス板／フッ化マ
グネシウム／ステンレス／酸化チタン／フッ化マグネシ
ウムで表せる積層体や、特許公報第２５６５５３８号に
開示されている、ガラス板／チタン酸プラセオジウム／
ステンレス／チタン酸プラセオジウム／フッ化マグネシ
ウムで表せる積層体がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
６−２６３４８３号公報に記載の積層体は、すべての層
が透明酸化物で構成されているため光吸収性がない。し
たがって、導電性と高い透過率を有するものの、その積
層体を陰極線管前面に設けた場合、表示コントラストを
大きくして画像を見やすくするという機能はなかった。
また、この積層構成では、導電性反射防止膜の電気抵抗
の耐熱性が十分でないので、たとえばフェースプレート
表示面に直接に被覆するとファンネルとフェースプレー
トをガラスフリットで接合し電子銃ユニットを密封する
ときの加熱工程で抵抗が大きく上昇してしまい、帯電防
止の性能が著しく低下するという問題点があった。
６−２６３４８３号公報に記載の積層体は、すべての層
が透明酸化物で構成されているため光吸収性がない。し
たがって、導電性と高い透過率を有するものの、その積
層体を陰極線管前面に設けた場合、表示コントラストを
大きくして画像を見やすくするという機能はなかった。
また、この積層構成では、導電性反射防止膜の電気抵抗
の耐熱性が十分でないので、たとえばフェースプレート
表示面に直接に被覆するとファンネルとフェースプレー
トをガラスフリットで接合し電子銃ユニットを密封する
ときの加熱工程で抵抗が大きく上昇してしまい、帯電防
止の性能が著しく低下するという問題点があった。
【０００６】また、上記の金属層と透明酸化物層を積層
して導電性反射防止体としたものは、金属層を用いてい
るので光吸収性を有しているので表示コントラストを上
げられるが、導電性を十分に確保するには金属層の厚み
を大きくする必要があり、それにより可視光線の透過率
が低下してしまうという問題点があった。すなわち陰極
線管の表示面に被覆する反射防止膜として適した光吸収
性と高い導電性を具備する特性をいずれも有するもので
はなかった。
して導電性反射防止体としたものは、金属層を用いてい
るので光吸収性を有しているので表示コントラストを上
げられるが、導電性を十分に確保するには金属層の厚み
を大きくする必要があり、それにより可視光線の透過率
が低下してしまうという問題点があった。すなわち陰極
線管の表示面に被覆する反射防止膜として適した光吸収
性と高い導電性を具備する特性をいずれも有するもので
はなかった。
【０００７】上記のように、陰極線管の手前に直接また
は間接に設けられる導電性反射防止膜は、画像の視認性
を向上させる光吸収性と、帯電を防止するための導電性
と、さらに加熱工程を受けても導電性が大きく低下しな
い（耐熱抵抗力がある）性能を併せ有するものが望まれ
ており、これを実現し提供するという課題があった。本
発明は、上記課題を解決するためになされたものであ
る。
は間接に設けられる導電性反射防止膜は、画像の視認性
を向上させる光吸収性と、帯電を防止するための導電性
と、さらに加熱工程を受けても導電性が大きく低下しな
い（耐熱抵抗力がある）性能を併せ有するものが望まれ
ており、これを実現し提供するという課題があった。本
発明は、上記課題を解決するためになされたものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基体上
に、基体側から第１層として金属層、第２層として５５
０ｎｍの波長における屈折率が２．０〜２．４の透明高
屈折率層、第３層として酸化インジウムを主成分とする
透明導電層、第４層として５５０ｎｍの波長における屈
折率が１．３５〜１．４６の低屈折率層が順次積層され
てなる導電性反射防止膜が被覆されたガラス物品におい
て、前記第２層と第３層の間にフッ化マグネシウムまた
は二酸化珪素の保護層を介在させたことを特徴とするガ
ラス物品である。
に、基体側から第１層として金属層、第２層として５５
０ｎｍの波長における屈折率が２．０〜２．４の透明高
屈折率層、第３層として酸化インジウムを主成分とする
透明導電層、第４層として５５０ｎｍの波長における屈
折率が１．３５〜１．４６の低屈折率層が順次積層され
てなる導電性反射防止膜が被覆されたガラス物品におい
て、前記第２層と第３層の間にフッ化マグネシウムまた
は二酸化珪素の保護層を介在させたことを特徴とするガ
ラス物品である。
【０００９】本発明の透明ガラス基体は、５５０ｎｍに
おける屈折率が１．４〜１．７の透明または着色ガラス
基体が用いられ、ガラスの組成としてはとくに限定され
るものではなく、ソーダ石灰珪酸組成、ホウ珪酸組成、
アルミノ珪酸組成、アルミノホウ珪酸組成などのガラス
を、必要により曲げ加工や風冷強化などによる加工をし
たものが用いられる。
おける屈折率が１．４〜１．７の透明または着色ガラス
基体が用いられ、ガラスの組成としてはとくに限定され
るものではなく、ソーダ石灰珪酸組成、ホウ珪酸組成、
アルミノ珪酸組成、アルミノホウ珪酸組成などのガラス
を、必要により曲げ加工や風冷強化などによる加工をし
たものが用いられる。
【００１０】本発明の第１層である金属層としては、イ
ンコネル、ニッケル、ニクロム、クロム、チタンなどの
金属または合金の層を用いることができる。本発明の吸
収層は、表示のコントラストを向上させるために５５０
ｎｍの波長における光吸収率を約１５〜３５％とするの
が好ましく、そのために１ｎｍ以上の厚みにすることが
好ましい。また、表示の明るさを確保するために、その
厚みは５ｎｍ以下とするのが好ましい。
ンコネル、ニッケル、ニクロム、クロム、チタンなどの
金属または合金の層を用いることができる。本発明の吸
収層は、表示のコントラストを向上させるために５５０
ｎｍの波長における光吸収率を約１５〜３５％とするの
が好ましく、そのために１ｎｍ以上の厚みにすることが
好ましい。また、表示の明るさを確保するために、その
厚みは５ｎｍ以下とするのが好ましい。
【００１１】本発明の第２層の高屈折率の層は、波長５
５０ｎｍにおける屈折率が２．０〜２．４の透明酸化物
の層が用いられる。チタン酸プラセオジウム、二酸化チ
タニウム、酸化ジルコニウムおよび五酸化タンタルの層
が好ましく用いられ、なかでもチタン酸プラセオジウム
の層は、ＰｒＴｉＯ3を蒸発材料として酸素を導入せず
にほぼその化学量論的組成に近い組成の層を成膜するこ
とができるので、第２層を成膜するときに第１層の金属
層を酸化劣化させることがないので好ましい。第２の層
の厚みは１０〜６０ｎｍとするのが好ましい。この範囲
内とすることにより、他の層と積層されたときの光の干
渉作用により可視光線域の反射率を低くすることができ
る。
５０ｎｍにおける屈折率が２．０〜２．４の透明酸化物
の層が用いられる。チタン酸プラセオジウム、二酸化チ
タニウム、酸化ジルコニウムおよび五酸化タンタルの層
が好ましく用いられ、なかでもチタン酸プラセオジウム
の層は、ＰｒＴｉＯ3を蒸発材料として酸素を導入せず
にほぼその化学量論的組成に近い組成の層を成膜するこ
とができるので、第２層を成膜するときに第１層の金属
層を酸化劣化させることがないので好ましい。第２の層
の厚みは１０〜６０ｎｍとするのが好ましい。この範囲
内とすることにより、他の層と積層されたときの光の干
渉作用により可視光線域の反射率を低くすることができ
る。
【００１２】本発明の保護層は、フッ化マグネシウムま
たは二酸化珪素の層で形成される。導電性反射防止膜が
陰極線管の組立時の加熱工程を経るとき、空気中の酸素
が層内を拡散浸透し、最も空気側から遠い金属層に到達
してこれを酸化するときに光吸収性が低下する。この酸
素の拡散透過を防止するために、保護層の厚みは１０ｎ
ｍ以上とするのが好ましい。また他の層と積層されたと
きの光の干渉作用で可視光線反射率を低くする上で３０
ｎｍ以下とするのが好ましい。
たは二酸化珪素の層で形成される。導電性反射防止膜が
陰極線管の組立時の加熱工程を経るとき、空気中の酸素
が層内を拡散浸透し、最も空気側から遠い金属層に到達
してこれを酸化するときに光吸収性が低下する。この酸
素の拡散透過を防止するために、保護層の厚みは１０ｎ
ｍ以上とするのが好ましい。また他の層と積層されたと
きの光の干渉作用で可視光線反射率を低くする上で３０
ｎｍ以下とするのが好ましい。
【００１３】チタン酸プラセオジウムの層およびフッ化
マグネシウムの層とも、酸素を導入することなく成膜す
ることができるので、これらの層は光吸収性の金属層を
その成膜中に酸化させることはない。またこの保護層
は、陰極線管のフェースプレートとファンネルとの封着
などの組立工程において熱処理を受けても、金属層が酸
化劣化するのを防止抑制する。
マグネシウムの層とも、酸素を導入することなく成膜す
ることができるので、これらの層は光吸収性の金属層を
その成膜中に酸化させることはない。またこの保護層
は、陰極線管のフェースプレートとファンネルとの封着
などの組立工程において熱処理を受けても、金属層が酸
化劣化するのを防止抑制する。
【００１４】本発明においては、導電性反射防止膜の導
電性は、第１層の金属層および第３層の透明導電層によ
り維持されるが、主として第３層の透明導電層により確
保され、この層は酸化インジウムを主成分とする層で構
成される。通常酸化インジウムに酸化錫を少量含有させ
たもの（ＩＴＯ）が低い抵抗を得る上で好ましい。酸化
インジウムに対して酸化錫を３〜１５重量％含有させた
ものが、抵抗を低くするので好ましい。透明導電層の厚
みは、導電性反射防止膜のシート抵抗と光の干渉作用に
よる透過率および反射率特性から、１０〜６０ｎｍの範
囲とするのが好ましい。
電性は、第１層の金属層および第３層の透明導電層によ
り維持されるが、主として第３層の透明導電層により確
保され、この層は酸化インジウムを主成分とする層で構
成される。通常酸化インジウムに酸化錫を少量含有させ
たもの（ＩＴＯ）が低い抵抗を得る上で好ましい。酸化
インジウムに対して酸化錫を３〜１５重量％含有させた
ものが、抵抗を低くするので好ましい。透明導電層の厚
みは、導電性反射防止膜のシート抵抗と光の干渉作用に
よる透過率および反射率特性から、１０〜６０ｎｍの範
囲とするのが好ましい。
【００１５】透明導電層の厚みが１０ｎｍ未満であると
抵抗が大きくなり、かつ受ける熱処理工程により抵抗値
の上昇が著しく増加するので好ましくない。また、厚み
が６０ｎｍを越えると、積層する他の層との光の干渉作
用により可視光線領域での反射率が大きくなるので好ま
しくない。本発明によればシート抵抗を５００Ω／□以
下とすることができ、かつ４５０℃の高温の熱処理を受
けても、なお５００Ω／□以下の抵抗値とすることがで
きる。
抵抗が大きくなり、かつ受ける熱処理工程により抵抗値
の上昇が著しく増加するので好ましくない。また、厚み
が６０ｎｍを越えると、積層する他の層との光の干渉作
用により可視光線領域での反射率が大きくなるので好ま
しくない。本発明によればシート抵抗を５００Ω／□以
下とすることができ、かつ４５０℃の高温の熱処理を受
けても、なお５００Ω／□以下の抵抗値とすることがで
きる。
【００１６】本発明の第４層の低屈折率層は、５５０ｎ
ｍにおける屈折率が１．３５〜１．４６の可視域で透明
な低屈折率材料で構成される。この低屈折率材料として
はフッ化マグネシウムと二酸化珪素が好んで用いられ、
屈折率がより小さいフッ化マグネシウムが、反射率をよ
く低下させるのでより好ましい。
ｍにおける屈折率が１．３５〜１．４６の可視域で透明
な低屈折率材料で構成される。この低屈折率材料として
はフッ化マグネシウムと二酸化珪素が好んで用いられ、
屈折率がより小さいフッ化マグネシウムが、反射率をよ
く低下させるのでより好ましい。
【００１７】本発明においては、酸化インジウムを主成
分とする透明導電層は、低屈折率層に被覆され空気に遮
断されているので、導電性反射防止膜が加熱処理を受け
ても酸素の透明導電層までの侵入が抑制され、そのシー
ト抵抗の変化が小さい。
分とする透明導電層は、低屈折率層に被覆され空気に遮
断されているので、導電性反射防止膜が加熱処理を受け
ても酸素の透明導電層までの侵入が抑制され、そのシー
ト抵抗の変化が小さい。
【００１８】本発明の導電性反射防止膜の各層を上記厚
みの範囲内で選定することにより、可視光線反射率を１
％以下に維持して、可視光線透過率を６５〜８５％とす
ることができ、かつ、この特性は４５０℃の熱処理を受
けても大きく変化しないようにすることができる。
みの範囲内で選定することにより、可視光線反射率を１
％以下に維持して、可視光線透過率を６５〜８５％とす
ることができ、かつ、この特性は４５０℃の熱処理を受
けても大きく変化しないようにすることができる。
【００１９】上記の特性は、導電性反射防止膜を被覆し
たフェースプレートをファンネルと加熱接合して陰極線
管とする場合にとくに有用な特性である。ガラス物品と
しての光吸収性は、金属層の厚みのみによってもよく、
またガラス基体自身の着色による光吸収（ガラス自体に
着色成分を混入）と併せて行ってもよい。
たフェースプレートをファンネルと加熱接合して陰極線
管とする場合にとくに有用な特性である。ガラス物品と
しての光吸収性は、金属層の厚みのみによってもよく、
またガラス基体自身の着色による光吸収（ガラス自体に
着色成分を混入）と併せて行ってもよい。
【００２０】本発明の導電性反射防止膜の第３層と第４
層の間に、第２の保護層を介在させるようにして６層構
成の膜とすることにより、反射率を大きく上昇させたり
透過率を大きく低下させたりすることなく、かつ加熱処
理を受けても吸収率の低下および抵抗値の上昇を一層抑
制することができる。この目的のための第２の保護層の
材料としては、二酸化珪素の層または二酸化アルミニウ
ムの層が好ましい。
層の間に、第２の保護層を介在させるようにして６層構
成の膜とすることにより、反射率を大きく上昇させたり
透過率を大きく低下させたりすることなく、かつ加熱処
理を受けても吸収率の低下および抵抗値の上昇を一層抑
制することができる。この目的のための第２の保護層の
材料としては、二酸化珪素の層または二酸化アルミニウ
ムの層が好ましい。
【００２１】第２の保護層は、石英ガラスや二酸化アル
ミニウムを蒸着材料として成膜することができる。蒸着
に際しては、酸素を成膜室内に導入することなくまたは
少量導入することで蒸着材料とほぼ同じ組成の層に成膜
することができるので、第２の保護層の直前に成膜した
ＩＴＯ層を酸化させることがないので、この層のシート
抵抗を増加させることなく成膜できる。
ミニウムを蒸着材料として成膜することができる。蒸着
に際しては、酸素を成膜室内に導入することなくまたは
少量導入することで蒸着材料とほぼ同じ組成の層に成膜
することができるので、第２の保護層の直前に成膜した
ＩＴＯ層を酸化させることがないので、この層のシート
抵抗を増加させることなく成膜できる。
【００２２】第２の保護層の厚みは１ｎｍ以上とするの
が好ましく、その厚みの上限は、積層される他の層との
光の干渉作用によって定まる反射率を低くする上で３０
ｎｍ以下とするのが好ましい。
が好ましく、その厚みの上限は、積層される他の層との
光の干渉作用によって定まる反射率を低くする上で３０
ｎｍ以下とするのが好ましい。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を説明
する。図１（ａ）、（ｂ）は、本発明の光学物品９の実
施例の断面図である。図１（ａ）は、ガラス板１の片面
に導電性反射防止膜８が被覆されており、図１（ｂ）は
陰極線管用のフェースプレート１の凸側表面に導電性反
射防止膜８が被覆されている。
する。図１（ａ）、（ｂ）は、本発明の光学物品９の実
施例の断面図である。図１（ａ）は、ガラス板１の片面
に導電性反射防止膜８が被覆されており、図１（ｂ）は
陰極線管用のフェースプレート１の凸側表面に導電性反
射防止膜８が被覆されている。
【００２４】図２は、導電性反射防止膜８を構成する層
の一実施例を示す一部断面図で、ガラス基体であるガラ
ス板１の片面に順次、インコネル合金層２、チタン酸プ
ラセオジウム層３、保護層であるフッ化マグネシウム層
６、錫を含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）層４、第２
の保護層である酸化アルミニウム層７、フッ化マグネシ
ウム層５が被覆されている。
の一実施例を示す一部断面図で、ガラス基体であるガラ
ス板１の片面に順次、インコネル合金層２、チタン酸プ
ラセオジウム層３、保護層であるフッ化マグネシウム層
６、錫を含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）層４、第２
の保護層である酸化アルミニウム層７、フッ化マグネシ
ウム層５が被覆されている。
【００２５】図３、図４は、本発明の実施例５で得られ
た光学物品のそれぞれ透過率曲線、反射率曲線を示す。
Ａは熱処理前、Ｂは熱処理後（４５０℃、６０分）の曲
線である。
た光学物品のそれぞれ透過率曲線、反射率曲線を示す。
Ａは熱処理前、Ｂは熱処理後（４５０℃、６０分）の曲
線である。
【００２６】ガラス板１は、所望の形状に切断され、必
要により公知の方法により曲げ加工や風冷強化されたも
のが用いられる。導電性反射防止膜の各層は、公知の真
空蒸着やイオンプーティング法により被覆される。上記
の層のうち酸化物からなる層はスパッタリングによって
も被覆することができる。
要により公知の方法により曲げ加工や風冷強化されたも
のが用いられる。導電性反射防止膜の各層は、公知の真
空蒸着やイオンプーティング法により被覆される。上記
の層のうち酸化物からなる層はスパッタリングによって
も被覆することができる。
【００２７】以下に本発明を実施例に基づいて説明す
る。 実施例１〜５ １００ｍｍ×１００ｍｍ×厚み３ｍｍのソーダ石灰シリ
カ組成のガラス板を真空蒸着装置にいれ、蒸着装置内に
設けられた基板加熱ヒータにより３００℃に加熱した状
態で、表１および表２に示す蒸着条件および層の構成
で、導電性反射防止膜を被覆した本発明の光学物品を作
製した。
る。 実施例１〜５ １００ｍｍ×１００ｍｍ×厚み３ｍｍのソーダ石灰シリ
カ組成のガラス板を真空蒸着装置にいれ、蒸着装置内に
設けられた基板加熱ヒータにより３００℃に加熱した状
態で、表１および表２に示す蒸着条件および層の構成
で、導電性反射防止膜を被覆した本発明の光学物品を作
製した。
【００２８】蒸着材料の蒸発は、電子ビーム蒸着法で行
い、蒸着るつぼからガラス板までの距離を約１００ｃｍ
とし、ガラス板を回転させながら行った。蒸着開始前の
到達真空度はいずれの層についても、油拡散ポンプで
０．００３Ｐａまで排気を行った。第３層および第２の
保護層については、その成膜は酸素ガスを外部から一定
量導入し、表１に示す酸素導入圧力で行い、金属層およ
びフッ化マグネシウム層については、酸素を導入せずに
行った。
い、蒸着るつぼからガラス板までの距離を約１００ｃｍ
とし、ガラス板を回転させながら行った。蒸着開始前の
到達真空度はいずれの層についても、油拡散ポンプで
０．００３Ｐａまで排気を行った。第３層および第２の
保護層については、その成膜は酸素ガスを外部から一定
量導入し、表１に示す酸素導入圧力で行い、金属層およ
びフッ化マグネシウム層については、酸素を導入せずに
行った。
【００２９】
【表１】 表１ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 層 蒸着材料 蒸着速度 蒸着時導入 酸素圧力 （ｎｍ／ｓｅｃ） （Ｐａ） −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 第１層（光吸収性金属層） インコネル ０．０３ 酸素導入せず 第２層（高屈折率層） ＰｒＴｉＯ3 ０．２７ 酸素導入せず ＴｉＯ2 ０．２５ 酸素導入せず 第３層（透明導電層） ＩＴＯ ０．０６ ０．４０ 第４層（低屈折率層） ＭｇＦ2 ０．６６ 酸素導入せず 保護層 ＭｇＦ2 ０．６６ 酸素導入せず 第２の保護層 Ａｌ2Ｏ3 ０．２９ ０．５３ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 注）ＩＴＯ：酸化錫５重量％含有
【００３０】得られた光学物品を蒸着装置から取り出
し、可視光線反射率、シート抵抗、可視光線透過率を測
定した。表１に各層の蒸着条件を、表２に導電性反射防
止膜の層構成を、表３に得られた光学物品の特性を比較
例とともに示す。
し、可視光線反射率、シート抵抗、可視光線透過率を測
定した。表１に各層の蒸着条件を、表２に導電性反射防
止膜の層構成を、表３に得られた光学物品の特性を比較
例とともに示す。
【００３１】表１〜表３に示すように、本発明の実施例
１〜５の光学物品は、４５０℃の熱処理を受けても抵抗
の上昇が小さいことが分かる。また、熱処理前後での透
過率が６５〜８５％の範囲内で安定しているので、熱処
理工程を受ける陰極線管用の導電反射防止膜付き物品と
して、膜の厚みの決定が容易であるという利点を併せ有
することが分かる。
１〜５の光学物品は、４５０℃の熱処理を受けても抵抗
の上昇が小さいことが分かる。また、熱処理前後での透
過率が６５〜８５％の範囲内で安定しているので、熱処
理工程を受ける陰極線管用の導電反射防止膜付き物品と
して、膜の厚みの決定が容易であるという利点を併せ有
することが分かる。
【００３２】比較例１〜２ 表１および表２に示す蒸着条件および層の構成で、比較
例となる光学物品のサンプルを作製した。その結果を表
３に示す。比較例１は、導電層を透明導電膜をＩＴＯの
みで構成しているので光吸収性が無い上に、熱処理によ
る抵抗の上昇が大きくなってしまうという性質があっ流
ことが分かる。比較例２は熱処理前後で低いシート抵抗
が得られないことが分かる。
例となる光学物品のサンプルを作製した。その結果を表
３に示す。比較例１は、導電層を透明導電膜をＩＴＯの
みで構成しているので光吸収性が無い上に、熱処理によ
る抵抗の上昇が大きくなってしまうという性質があっ流
ことが分かる。比較例２は熱処理前後で低いシート抵抗
が得られないことが分かる。
【００３３】
【表２】 表２ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 例 第１層 第２層 保護層 第３層 第２の 第４層 保護層 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ インコネル PrTiO3 MgF2 ITO MgF2 ２ ２０ １５ ２０ ８６ 実施例２ インコネル PrTiO3 MgF2 ITO MgF2 ２ ２０ １５ ４０ ８６ 実施例３ インコネル PrTiO3 MgF2 ITO MgF2 ４ ３５ １０ ２０ ８１ 実施例４ インコネル TiO2 MgF2 ITO MgF2 ２ １１ １５ ２０ ８６ 実施例５ インコネル PrTiO3 MgF2 ITO Al2O3 MgF2 ２ ２０ １５ ２０ ３ ８６ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例１ ITO PrTiO3 MgF2 PrTiO3 MgF2 ２３ ５ ３４ １３０ ９６ 比較例２ PrTiO3 ステンレス PrTiO3 MgF2 ６２ ４ ６２ ９８ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 層の下の数字は厚み（ｎｍ）
【００３４】
【表３】 表３ ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ 例 反射率（％） シート抵抗(Ω/□)) 透過率（％） 初期 熱処理後 初期 熱処理後 初期 熱処理後 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ 0.22 0.19 281 297 74.7 81.3 実施例２ 0.58 0.53 84 191 73.2 78.8 実施例３ 0.33 0.31 244 219 67.8 72.8 実施例４ 0.18 0.15 257 243 76.2 81.5 実施例５ 0.20 0.16 267 208 75.7 79.8 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比較例１ 0.13 0.10 218 7024 93.0 93.1 比較例２ 0.20 0.19 923 870 65.2 69.3 ＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝＝ シート抵抗：正方形に切断したガラス板の対向する辺のエッジ部の導電性反射防 止膜表面上に、超音波を印加して電極を設け、電極間の電気抵抗を 測定。 反射率：可視光線反射率 透過率：可視光線透過率 熱処理：４５０℃に６０分維持
【００３５】実施例でえられた光学物品が、よい耐熱抵
抗性（熱処理を受けても電気抵抗が大きく変化しない特
性質）を有する理由は十分に明らかではないが、次のよ
うに考えられる。実施例の透明導電層は、ガラス基板上
に直接被覆されていないので、熱処理を受けてもガラス
基体表面から透明導電層への酸素侵入が無いので酸化を
受けにくく、さらに透明導電層は、真空中で成膜された
直後の清浄なフッ化マグネシウムあるいは二酸化珪素の
層の上に直接被覆されているので、結晶性がよく発達し
緻密な層になっており、このため隣接する層からの酸素
の拡散侵入が生じにくい。したがって、大気中で熱処理
を受けても層中の酸素欠陥がつぶれにくく、耐熱抵抗値
の安定性有する至ったと考えられる。
抗性（熱処理を受けても電気抵抗が大きく変化しない特
性質）を有する理由は十分に明らかではないが、次のよ
うに考えられる。実施例の透明導電層は、ガラス基板上
に直接被覆されていないので、熱処理を受けてもガラス
基体表面から透明導電層への酸素侵入が無いので酸化を
受けにくく、さらに透明導電層は、真空中で成膜された
直後の清浄なフッ化マグネシウムあるいは二酸化珪素の
層の上に直接被覆されているので、結晶性がよく発達し
緻密な層になっており、このため隣接する層からの酸素
の拡散侵入が生じにくい。したがって、大気中で熱処理
を受けても層中の酸素欠陥がつぶれにくく、耐熱抵抗値
の安定性有する至ったと考えられる。
【００３６】
【発明の効果】本発明の光学物品は、陰極線管の組立工
程において受ける加熱工程を受けても、導電性および光
吸収性が劣化（透過率が増大）することがない。本発明
においては、導電性反射防止膜の導電性は主として酸化
インジウムを主成分とする透明導電層で得られ、光吸収
性は金属層で得られる。
程において受ける加熱工程を受けても、導電性および光
吸収性が劣化（透過率が増大）することがない。本発明
においては、導電性反射防止膜の導電性は主として酸化
インジウムを主成分とする透明導電層で得られ、光吸収
性は金属層で得られる。
【００３７】本発明の金属層は、酸素を導入して成膜さ
れる透明導電層の被覆に先立ち、酸素を導入せずに成膜
される高屈折率層および保護層の２つの層により酸素雰
囲気から保護されることにより一層酸化が抑制される。
れる透明導電層の被覆に先立ち、酸素を導入せずに成膜
される高屈折率層および保護層の２つの層により酸素雰
囲気から保護されることにより一層酸化が抑制される。
【００３８】さらに、透明導電層および金属層の厚みを
それぞれ１０〜６０ｎｍ、１〜５ｎｍの範囲とすること
により、陰極線管の表示品質を向上させるのに適した透
過率である６５〜８５％の範囲内にすることができる。
それぞれ１０〜６０ｎｍ、１〜５ｎｍの範囲とすること
により、陰極線管の表示品質を向上させるのに適した透
過率である６５〜８５％の範囲内にすることができる。
【００３９】
【図１】図１は、本発明の光学物品の実施例の断面図で
ある。
ある。
【図２】図２は、本発明の導電性反射防止膜の積層構成
の１実施例を説明するための図である。
の１実施例を説明するための図である。
【図３】実施例５で得られた光学物品の熱処理前後の透
過率曲線を示す図である。
過率曲線を示す図である。
【図４】実施例５で得られた光学物品の熱処理前後の反
射率曲線を示す図である。
射率曲線を示す図である。
１：ガラス基体 ２：金属層 ３：透明高屈折率層、 ４：透明導電層 ５：低屈折率層 ６：保護層 ７：第２の保護層 ８：導電性反射防止膜 ９：光学物品
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 荻野 悦男 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内
Claims (13)
- 【請求項１】ガラス基体上に、基体側から第１層として
金属層、第２層として５５０ｎｍの波長における屈折率
が２．０〜２．４の透明高屈折率層、第３層として酸化
インジウムを主成分とする透明導電層、第４層として５
５０ｎｍの波長における屈折率が１．３５〜１．４６の
低屈折率層が順次積層されてなる導電性反射防止膜が被
覆されたガラス物品において、前記第２層と第３層の間
にフッ化マグネシウムまたは二酸化珪素の保護層を介在
させたことを特徴とするガラス物品。 - 【請求項２】前記第３層の透明導電層の厚みを１０〜６
０ｎｍとした請求項１に記載のガラス物品。 - 【請求項３】前記第１層の金属層の厚みを１〜５ｎｍと
した請求項１または２に記載のガラス物品。 - 【請求項４】前記第２層の高屈折率層の厚みを１０〜６
０ｎｍとした請求項２または３に記載のガラス物品。 - 【請求項５】前記第４層の低屈折率層の厚みを７０〜９
５ｎｍとした請求項２〜４のいずれかに記載のガラス物
品。 - 【請求項６】前記保護層の厚みを１０〜３０ｎｍとした
請求項２〜５のいずれかに記載のガラス物品。 - 【請求項７】前記第２層の高屈折率層をチタン酸プラセ
オジウム、二酸化チタニウム、酸化ジルコニウムおよび
五酸化タンタルからなる群から選ばれたいずれかひとつ
の層とした請求項２〜６のいずれかに記載のガラス物
品。 - 【請求項８】前記第４層の低屈折率層をフッ化マグネシ
ウムとする請求項２〜７のいずれかに記載のガラス物
品。 - 【請求項９】前記導電性反射防止膜の面積抵抗を、５０
０Ω／□以下とした請求項１〜８のいずれかに記載のガ
ラス物品。 - 【請求項１０】可視光線反射率を１％以下、可視光線透
過率を６５〜８５％とした請求項１〜９のいずれかに記
載のガラス物品。 - 【請求項１１】前記導電性反射防止膜の第３層と第４層
の間に酸化アルミニウムまたは二酸化珪素の第２の保護
層を介在させたことを特徴とする請求項１〜１０のいず
れかに記載のガラス物品。 - 【請求項１２】前記第２の保護層の厚みを１ｎｍ以上と
する請求項１１に記載のガラス物品。 - 【請求項１３】透明基体がガラス板または陰極線管用フ
エースプレートである請求項１〜１２のいずれかに記載
のガラス物品。
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|---|---|---|---|
| JP04154298A JP3581783B2 (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | 導電性反射防止膜が被覆されたガラス物品 |
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| JP04154298A JP3581783B2 (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | 導電性反射防止膜が被覆されたガラス物品 |
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|---|---|
| JPH11236247A true JPH11236247A (ja) | 1999-08-31 |
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|---|---|---|---|---|
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| KR20010103321A (ko) * | 2000-05-09 | 2001-11-23 | 츄, 자우-지어 | 씨알티 표면의 고도전성 반사방지 코팅용 진공 스퍼터링및 습식 코팅의 조합 공정 |
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| JP2012187806A (ja) * | 2011-03-10 | 2012-10-04 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電層積層基材 |
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|---|---|---|---|---|
| CN102909914B (zh) * | 2012-10-26 | 2015-07-01 | 福建省石狮市通达电器有限公司 | 一种笔记本壳体的成型工艺 |
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1998
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