JPH11237620A - パターン化可能な導伝性トレースを有する表示器の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光が薄い多層板を通過するよう制御する電気
的に変調された信号を用いる平坦パネル表示器を製造す
る方法を提供する。 【解決手段】 表示器は電気的に感応する光変調層の両
側にわたり、導電性を有しパターン化可能な第一と第二
の光感応層をそれぞれ設け；第一の導電性トレースを形
成するために第一の波長の放射で第一の光感応層をパタ
ーン化し；第二の導電性トレースを形成するために第二
の波長の放射で第二の光感応層をパターン化する各段階
からなる光感応導電トレースを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】関連する出願の相互参照 本発明はＳｔａｎｌｅｙ Ｗ．Ｓｔｅｐｈｅｎｓｏｎに
よる本出願と同日に出願された米国特許出願
，”Ａ Ｓｈｅｅｔ Ｈａｖｉｎｇ Ｐａｔｔｅｒｎ
ａｂｌｅ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｔｒａｃｅｓ ｆｏ
ｒ Ｕｓｅ ｉｎａ Ｄｉｓｐｌａｙ”、Ｓｔａｎｌｅ
ｙ Ｗ．Ｓｔｅｐｈｅｎｓｏｎによる１９９７年１０月
３０日に出願された米国特許出願０８／９６１０５
９，”Ｄｉｓｐｌａｙ Ａｐｐａｒａｔｕｓ Ｕｓｉｎ
ｇ Ｌｉｇｈｔ Ｐａｔｔｅｒｎａｂｌｅ Ｃｏｎｄｕ
ｃｔｉｖｅ Ｔｒａｃｅｓ”、Ｓｔａｎｌｅｙ Ｗ．Ｓ
ｔｅｐｈｅｎｓｏｎによる１９９７年１０月３０日に出
願された米国特許出願０８／９６１０５６，”Ｓｉｎｇ
ｌｅ Ｓｈｅｅｔ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｈａｖｉｎｇ Ｐ
ａｔｔｅｒｎａｂｌｅ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｔｒａ
ｃｅｓ”に関係し、これらの関係する出願の開示をここ
に参考として引用する。

【０００２】

【発明の属する技術分野】本発明は画像表示器に関す
る。本発明は光が薄い多層板を通過するよう制御する電
気的に変調された信号を用いる平坦パネル表示器に関す
る。

【０００３】

【従来の技術】平坦パネル表示器は多くの技術を用いて
製造されうる。典型的な実施例はＷｉｌｌｉａｍ Ｃ．
Ｏ’Ｍａｒａ（Ｃｈａｐｍａｎ＆Ｈａｌｌ、ニューヨー
ク、１９９３）による「液晶平坦パネル表示器」及び他
の類似の出版物に開示されている。これらの表示器は基
板として透明ガラス板を用い、電気的トレースは導伝性
トレースの第一の組を形成する平行なラインのパターン
にスパッタされる。インジウム錫酸化物のような透明導
電体は電荷をトレースによりブロックされない透明領域
にわたって分散するようにトレースにわたりスパッタさ
れる。第二の基板は同様に透明導電層を有するトレース
の組でコートされる。層は基板にわたり塗布され、ねじ
れネマチック（ＴＮ）又は超ねじれ（ｓｕｐｅｒ−ｔｗ
ｉｓｔｅｄ）ネマチック（ＳＴＮ）構造で液晶を方向付
けるようパターン化される。２つの基板は離間され、２
つの基板の間の空間は液晶材料で満たされている。各組
からの導電体の対は選択され、液晶材料の光学的透過特
性を変化するよう給電される。

【０００４】他の実施例ではトレースは直交グリッドを
画成せず、図形的シンボルを形成し、又は英数字表示器
を形成するよう構成される。更なる実施例では透明基板
上の能動的表示器はスパッタされ又はプリントされ、メ
モリ要素に書き込まれた情報に依存して各表示器要素を
連続的に駆動するためにメモリ要素を用いる。ＳＩＤＤ
ＩＧＥＳＴ ９０ ａｒｔｉｃｌｅ １２．６に開示さ
れている他の実施例では液晶材料は液晶ポリマーマトリ
ックス（ＬＣＰＣ）を形成するよう重合的に分散され
る。ＬＣＰＣは典型的には紫外線重合アクリルポリマー
に配置される。液晶はポリマー内で均一化され、乳濁液
は基板にコートされる。紫外線が乳濁液に照射される。
乳濁液は硬化し、液晶材料のバブルは固形のポリマーマ
トリックスに保持される。

【０００５】画像表示器はカラーフィルタ配列が表示器
の画素上に形成されている場合にはカラー画像を提供し
うる。米国特許第５４６２８２２号では３つのカラー層
がカラーフィルター上に形成されている。この特許では
透明電極層がカラーフィルタ上に形成される。フィルタ
板は液晶層上に整列される。この板はガラスであり、ハ
ロゲン化銀のカラー形成層を有する。透明電極材料はＣ
ＦＡにわたり高温でスパッタされる。特に透明電極材料
の存在は染料層の染料のイオン的な迷走を引き起こす。
電気的な導電層を染料層から分離することは利点であ
る。

【０００６】従来技術は表示器を製造するために多くの
複数の分離された層を必要とした。電気的トレース及び
透明導電性層は典型的には真空蒸着を通して基板に材料
の繰り返しの堆積により形成される。これらのプロセス
は高価であり、資本集約的な装置で長い処理時間を必要
とする。平坦パネル表示器のコストを低くすることは利
点である。付加的に現在の構造は低コストの大規模な平
坦パネル表示器を製造するために変更できない。低コス
トの大規模な平坦パネル表示器を形成しうることは利点
である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記の
問題を克服した表示装置を提供することにある。本発明
の他の目的は光照射及び化学処理を用いて表示器を変調
する導電性トレースを形成することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の目的は ａ） 電気的に感応する光変調層の両側にわたり、導電
性を有しパターン化可能な第一と第二の光感応層をそれ
ぞれ設け； ｂ） 第一の導電性トレースを形成するために第一の波
長の放射で第一の光感応層をパターン化し； ｃ） 第二の導電性トレースを形成するために第二の波
長の放射で第二の光感応層をパターン化する 各段階からなる光感応導電トレースを有する表示器を製
造する方法により達成される。

【０００９】本発明はフィルム内に電気的に応答する光
制御領域を形成するために光及びマスクを用いて層内に
トレースを形成するために特に有用である。感光性を与
えられたシートは次にフィルム内に電気的に応答する光
制御構造を形成するために化学的に処理される。本発明
は低コスト、低温層及び処理を用いた表示器を製造す
る。この表示器は低コスト写真層技術を用いる。マスク
を通過する光はトレース及びカラーフィルタの構成を制
御する。それは光変調層及びパターン化された導電性ト
レースを用いる。大きな容量のシート材料はコートさ
れ、光感応材料の露光を変化することにより表示器の異
なる種類を形成しうる。

【００１０】

【発明の実施の形態】図１を参照するに処理されていな
い表示器５はポリエステルプラスチックで形成されたコ
ダックＥｓｔａｒベースフィルムのような透明な透過性
材料であり、２０から２００ミクロンの間の厚さを有す
る基板１２を含む。例示的な実施例では第一の基板はポ
リエステルフィルムベースの８０ミクロンの厚さのシー
トである。ポリカーボネートのような他の透明ポリマー
もまた使用されうる。基板１２は光感応性金属形成層１
４を支持する第一の面１２ａを有する。

【００１１】好ましくは光感応金属形成層１４はハロゲ
ン化銀粒子の乳剤である。或いは金又は銅塩のような他
の光感応性、金属形成材料が用いられても良い。ハロゲ
ン化銀乳剤の場合にはゼラチンの中の高濃度のハロゲン
化銀塩が従来の画像化乳剤より導電性を改善するために
用いられる。微粒子インジウム錫酸化物又は０．５から
２．０ミクロンの間の直径の銀粒子が金属銀が形成され
るときに導電性を改善するために乳剤に加えられる。

【００１２】第一の光感応層１４は光変調層３０をコー
ト可能である。光変調層３０は従来の設計の液晶であ
る。一実施例では液晶材料はゼラチンのようなポリマー
バインダー内で均一化される。液晶、ゼラチン乳剤は層
の光変調を最適にするよう１から３０ミクロンの間の厚
さにコートされる。ゼラチン内のマイクロ封入された強
誘電性（ＦＬＣ）材料のような他の光変調し、電気的に
作動する材料もまたコートされうる。

【００１３】第二の光感応層２４が光変調層３０上に塗
布される。光感応層は第一の光感応層１４と類似であ
る。第二の光感応層２４は異なる波長の光に感応する。
ハロゲン化銀乳剤の場合には従来の光増感剤が用いられ
る。一実施例では第一の光感応層１４は緑の光に増感さ
れたハロゲン化銀乳剤である。第二の光感応層２４は赤
又は赤外光に増感されたハロゲン化銀乳剤である。

【００１４】図２では光感応層２４が一以上のマスクを
通して増感された色の光に露光され、非導電性領域２６
と導電性領域２８とを形成するために現像される。基板
１２の第二の面１２ｂはカラーフィルタ配列４０を担持
する。カラーフィルタ層４０は第一の光感応層１４が基
板１２に塗布される前に基板１２にプリントされた単一
層である。あるいはカラーフィルタ配列４０はハロゲン
化銀カラー染料形成化学の３層であり、各層はカラーフ
ィルタ配列４０の別のカラーを形成する。そのような多
層配列の例は米国特許第５４６２８２２号に記載されて
いる。この発明はカラーフィルタ配列にわたり高温で導
電性層をスパッタする。本発明では導電層は基板１２の
反対側に配置された金属トレースである。

【００１５】本発明によればカラーフィルタ配列４０は
ハロゲン化銀カラー染料形成乳剤の場合には基板１２の
第二の面１１ｂに配置されうる。導電性トレース１６、
２８を形成するために用いられる金属形成プロセスは金
属銀の維持を必要とする。カラー染料形成ハロゲン化銀
乳剤の場合には不透明な金属銀は光が形成された染料を
通過して透過するよう除去されなければならない。第二
の基板表面１２ｂ上にカラー形成ハロゲン化銀乳剤を配
置し、第一の基板表面１２ａ上に金属形成ハロゲン化銀
を配置することは両方の層の別の化学処理を許容する。
第二の基板表面１２ｂ上に形成されたカラーフィルタ配
列４０を有する場合には形成された画素の大きさは一つ
の変調された画素からの光が異なるカラーフィルタ領域
を照射するのを防ぐためにシートの厚さよりも顕著に大
きくなければならない。８０ミクロン厚さの基板１２の
場合には画素の寸法は基板１２の厚さの５倍又は４００
ミクロンより大きくなければならない。

【００１６】図２は露光され、現像されたカラーフィル
タ配列４０を含む。赤色フィルタ層５０は赤色フィルタ
染色領域５２と赤色フィルタ非染色領域５４を形成する
ために露光され、現像されたハロゲン化銀乳剤層であ
る。第二の緑色フィルタ層６０は緑色フィルタ染色領域
６２と緑色フィルタ非染色領域６４を形成するために露
光され、現像されたハロゲン化銀乳剤層である。青色フ
ィルタ層７０は青色フィルタ染色領域７２と青色フィル
タ非染色領域７４を形成するために露光され、現像され
たハロゲン化銀乳剤層である。多層カラーフィルタ配列
４０の露光と現像は基板１２の第一の基板表面１２ａ上
の層の塗布の前になされうる。或いはカラーフィルタ配
列５０はスクリーンプリンティングのような光不感応プ
リント処理を用いて光変調された乳剤と同じ側に単一の
層としてプリントされても良い。カラーフィルタ配列４
０がトレースが形成される前に形成される場合には光感
応層１４、２８のトレースを形成するトレースマスク９
０（図６）が形成されたトレースがカラーフィルタ配列
４０と整列するようカラーフィルタ配列４０と整列す
る。

【００１７】好ましい実施例では基板１２の両側の全て
の層は処理される。光吸収材料７５の層は基板１２の片
側又は両側にコートされる。光吸収材料７５は当業者に
良く知られた組成であり、それはハロゲン化銀フィルム
のハレーション防止層を提供する。付加的な層はそれぞ
れ第一と第二の基板表面１２ａ、１２ｂ上の層の独立し
た露光を許容する。光吸収材料７５は光感応層１４、２
４を現像するために用いた溶液に溶解し、それにより基
板１２は表示器５が処理された後に光学的に透過性を有
する。

【００１８】完成された表示器５の平面図は図３に示さ
れる。分かりやすくするために光変調材料３２は透明な
状態に駆動されており、カラーフィルタ配列は第二の基
板表面１２ｂに塗布されていない状態を示す。第二の光
感応層２４の垂直トレース２８は緑色の光のラインによ
り形成される。光変調層３０は図では透明である。水平
トレース１６は赤又は赤外光のラインを用いて第一の光
感応層１４に形成される。

【００１９】この好ましい実施例では表示器５はビデオ
規格ＳＭＰＴＥ２７４Ｍにより画像を形成するよう設計
される。水平トレース１６はライン間に４００ミクロン
のギャップを有する１００ミクロン幅である１０８０の
トレースからなる。ライン間に４００ミクロンのギャッ
プを有する１００ミクロン幅の１９２０の垂直トレース
２８が存在する。透明な開口８２は５００ミクロン四方
の画素で４００ミクロン四方である。

【００２０】図４の（ａ），（ｂ）は導電性トレース１
６、２８を示す断面図である。導電性トレース１６、２
８は直交し、画素８０を画成する。水平トレース１６と
垂直トレース２８は不透明であり、この実施例では各画
素８０を縁取る。透明な開口８２は各画素８０に対して
光変調領域として動作する。水平トレース１６は透明開
口８２を横切るフィラメントグリッド８４を有する。垂
直フィラメントグリッド８４は２組の５ミクロン幅で１
５ミクロンの間隔のフィラメントからなり、それらは相
互に直交し、４５゜の角度で配置される。水平フィラメ
ントグリッド８６は垂直フィラメントグリッド８４と類
似の構造であり、各垂直トレース２８から水平に走る。
透明開口８２を横切る２組のフィラメントグリッドの交
差は透明開口８２を横切るトレース１６、２８から電荷
を拡散する。換言すれば垂直及び水平の第一と第二の導
電性トレースはそれらの間に電位が印加されたときに光
変調材料層３０が表示された画像が形成されるように第
一の光感応層１４、第二の光感応層２４、基板１２、カ
ラーフィルタ配列４０を通過する光を選択的に透過する
よう動作する電界を形成する。

【００２１】代替実施例では画素８０は図５の（ａ），
（ｂ）に示されるようにトレース１６、２８の交差に囲
まれた４つの四角形（ｑｕａｄｒａｎｔ）として画成さ
れる。フィラメントグリッド８４、８６は各４つの四角
形のそれぞれに配置される。この代替的な構造は電界が
透明開口８２にわたり半分より少なく伸張するという利
点を有する。これはフィラメントグリッド８４、８６が
電荷を分散しなければならない距離を減少することによ
りフィラメントグリッド８４、８６を横切る電界の損失
を減少する。

【００２２】フィラメントグリッド８４と８６との間の
領域は限られた金属銀をフィラメントグリッド８４と８
６との間の透明開口に堆積させる放射のレベルに露光さ
れる。或いは５から２ミクロンの間の粒子の大きさの微
粒子のインジウム錫酸化物のような光感応性のない導電
性材料がフィラメントグリッド８４と８６との間の開口
を横切る電界を拡散するように層１４、２４に用いられ
得る。他の実施例ではインジウム錫酸化物は光感応性層
１４、２４（図１を参照）が塗布される前に基板１２に
スパッタコートされる。ＩＴＯがスパッタされたときに
スパッタされた材料が水平トレース１６の近傍で基板１
２を横切る電荷を拡散するよう作用する。これにより第
一の光感応層１５の透明開口８２を通過する光透過特性
が改善される。各画素８０に入射する光のあるものはト
レース１６、１８及びフィラメントグリッド８４、８６
の不透明さにより阻止され、残りは処理された第一の光
感応層１４と処理された第二の光感応層２４との間の電
界により制御される。

【００２３】図６は導電性トレース１６、２８を形成す
るトレースマスク９０を示す。この実施例ではトレース
を形成する化学物質は光により活性化される領域の銀導
電性トレースを形成するよう設計される。パンクロマチ
ック光源（図示せず）は全ての波長の光をトレースマス
ク９０に供給する。トレースマスク９０はパンクロマチ
ック光の波長の部分を選択的に阻止する着色された領域
８８、８９を有し、それによりトレースマスク９０の領
域は特定の波長で着色された光を通過する。光感応層１
４、２４は従来技術の光感応染料でコートされた従来技
術のハロゲン化銀結晶である。ハロゲン化銀粒子を表す
三角形の中心の破線はハロゲン化銀粒子が露光されてい
ることを示す。光感応層１４は第一の波長λ１に応答
し、光感応層２４は第二の波長λ２に応答する。上記の
ように光感応層１４は緑色光に感光性を与えられ、トレ
ースマスク９０はこれらの領域にわたり緑色の第一の染
料８８を含み、それは光感応層１４で導電性及び光感応
層２４で非導電性を必要とする。光感応層２４は赤色放
射に感応し、赤色の第二の染料８９は光感応層２４で導
電性を必要とし、光感応層１４で非導電性を必要とする
領域に配置される。染色された領域では特定の波長のみ
が通過し、２つの層１４、２４の一つのみが銀を現像す
る。

【００２４】カラーフィルタ配列４０の３つのフィルタ
層５０、６０、７０は光の異なる波長に感光性を与えら
れた感光性のハロゲン化銀結晶を有する。光吸収材料７
５は導電性トレース１６、２８を形成するために用いら
れた光と同じ波長を使用することを許容する。カラーフ
ィルタマスク８７は選択されたカラーフィルタ層の光感
応性と適合する光の選択された放射の通過を許容するフ
ィルタされた領域を有する。カラーフィルタマスク８７
は別の又は同時のいずれかの露光段階でトレースマスク
９０と整列され、それによりカラーフィルタ配列４０は
第一の基板表面１２ａ上の導電体と整列される。これは
トレースマスク９０及びカラーフィルタマスク８７を整
列フレームに配置し、２つのマスクの間に未処理の表示
器５を配置することによりなされる。次に光を表示器５
の両面を同時に露光するためにマスクを通して照射す
る。単一のフレームでの同時の露光により正確な整列が
確実にされる。或いは光の特定の波長で励起される異な
る光源を用いることにより一連のマスクが用いられ得
る。

【００２５】トレースマスクの平面図は図７の（ａ），
（ｂ）に示される。図７の（ａ）は好ましい実施例によ
るトレースマスク９０を示す。垂直トレース２８に対応
する領域は赤色染料を含む。２つのトレースが交差する
部分では染料は塗布されない。何故ならば銀が両方の層
１４、２４で必要とされるからである。透明開口８２に
対応する領域は、そこに銀を形成する光を阻止する黒い
染料をコートされる。透明開口８２にわたるフィラメン
トグリッド８４、８６は透明な開口８２に対応する領域
にわたる黒い染料に形成された透明なラインにより形成
される。

【００２６】代替的なトレースマスク９０は図７の
（ｂ）に示される。フィラメントグリッド８４、８６
（図７の（ａ））は脆弱である故に代替実施例ではフィ
ラメントグリッド８４、８６は除去され、導電性トレー
ス１６、２８はほとんどの画素８０にわたり配置され
る。各導電性トレース１６、２８は狭い水平のギャップ
８８と狭い垂直のギャップ８９により隣接する導電性ト
レース１６、２８から電気的に分離される。この代替的
な実施例では画素８０は５００ミクロン四方であり、ギ
ャップ８８、８９に対して２５ミクロン幅を有する。水
平ギャップ８８は緑色に感応する水平導電性トレース１
６に対してのみ形成され、マゼンタで染色される。垂直
ギャップ８９は赤色に感応する垂直導電性トレース２８
でのみ銀の形成を阻止し、シアンで染色される。

【００２７】トレース１８、１６を形成する大きな透明
領域での不透明な点は光開口９１に対応する。光開口９
１はトレース１８、１６の交差を通して光出射穴として
作用する。光開口９１はトレース１８、１６を通して５
０パーセントの有効な光透過を得るよう１１．６ミクロ
ンオフセットされた１３．５ミクロンの中心に１０ミク
ロンの開口を有するよう配列された交互の配列である。
光開口９１の直径と間隔は表示器５を通して光導電性を
最大にする一方でトレース１６、２８に沿って導電性を
最大にするよう制御される。

【００２８】処理された表示器５は図８の（ａ），
（ｂ）に示される。図８の（ａ）はトレースフィラメン
ト設計により作られる。トレース１６、２８はそれぞれ
の層で形成され、水平トレース１６はトレース２８の下
で導電性であることは示されていない。透明開口８２の
拡大図はフィラメントグリッド８４、８６を示す。図８
の（ｂ）は広いトレース設計により作られた表示器５を
示す。トレース１６、２８は各画素８０にわたり概略全
幅である。トレース構造の拡大図は両方の層１４、２４
（図６を参照）を通して形成される光開口９１を示す。
光変調材料３２はトレース１６、２８の交差での電界に
応答して光開口９１を通過する光を制御する。カラーフ
ィルタ配列４０はあらかじめ形成され、又は第一の基板
表面１２ａ上の導電体の形成と共に処理される。

【００２９】図９はカラーフィルタ配列４０を形成する
ために用いられるカラーフィルタマスク８７の例であ
る。赤色フィルタ染料領域５２緑色フィルタ染料領域６
２、青色フィルタ染料領域７２に対応するカラー領域は
繰り返しのパターンで形成される。画素マスク８１はス
トレイ光を隣接する画素からマスクする、又は代替実施
例のトレース間の開口を阻止ために画素８０の境界に形
成される。

【００３０】別の化学処理がカラーフィルタ配列４０及
び光感応層１４、２４に対して必要とされる。そのよう
な処理は同時に又は別の段階でなされうる。導電性トレ
ース形成の場合には銀は維持されなければならない。カ
ラー染料形成の場合には染料は知られているカラー染料
形成処理により形成される。一例では染料形成化学物質
は各層に配置される。ハロゲン化銀の金属銀への現像は
現像材を消耗させ、そのプロセスで染料プレカーサーを
染料へ変換する。現像された銀は不透明であり、現像さ
れていないハロゲン化銀は光の存在下で銀に変換されう
る故に全ての銀は抽出されなければならない。故に第二
の従来技術の漂白固定段階はフィルタ層から全ての銀を
抽出する。代替的なプロセスでは染料プレカーサーは現
像剤に含まれ、３つの別の現像処理が染料を各層に順次
堆積する。再び第二の段階はカラーフィルタ層から銀を
抽出する。

【００３１】図１０の（ａ）から（ｅ）は光感応層１
４、２４に形成された導電性トレース１６、２８を形成
するプロセスの異なる段階を表す概略断面図である。用
いられたプロセスは米国特許第３０３３７６５号及び米
国特許第３４６４８２２号に開示されており、この開示
はここに参考として引用する。この実施例で露光されな
いハロゲン化銀９２は光感応性物質である。図１０の
（ａ）を理解するためにそれは図６の一部であることが
助けとなる。トレースマスク９０は未露光のハロゲン化
銀９２に影響せずに露光されたハロゲン化銀９４を照射
する波長で光を通過する。図１０の（ｂ）で光感応性層
１４、２４は露光されたハロゲン化銀９４は金属の銀９
６に変換するよう写真的に現像される。図１０の（ｃ）
では従来の写真的に固定する段階が未露光のハロゲン化
銀９２を除去するために用いられる。図１０の（ｄ）で
は金属銀９６はハロゲン化銀９８を形成するために漂白
剤により再ハロゲン化される。図１０の（ｅ）では再ハ
ロゲン化された銀９８は再現像された銀１００を形成す
るために現像される。現像剤中の金属塩は導電性を改善
するために付加的な金属１０２を堆積するよう用いられ
る。代替的な処理ではゼラチン内の金属銀粒子は銀粒子
上に金属パラジウムを堆積するために第一のプレーティ
ング浴に浸けられる。銅塩の最後のプレーティング浴は
トレース１６、２８の導電性を改善するために付加的な
導電体を付加する。

【００３２】表示器５への電気的接続は図１１の
（ａ），（ｂ）に示されている。水平トレース１６と垂
直トレース２８は導電パッド１１４の格子状のパターン
で端子配置（終端）される。鋭い先端１１２を有するピ
ン１１０は固定の非導電性基板（図示せず）に配置され
る。ピン１１０は表示器５に押されて入り、それにより
鋭い先端１１２は導電性パッド１１４を通り各トレース
１６、２８の端まで貫く。貫通動作は表示器５のトレー
ス１６、２８間の電気的相互接続を提供する。

【００３３】本発明は好ましい実施例を特に参照して詳
細に説明されてきたが、変更及び改良は本発明の精神及
び範囲内でなされうる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の方法で用いられる処理されていないシ
ートの断面図である。

【図２】本発明の方法により処理された図１のシートの
断面図である。

【図３】本発明により完成された表示器の平面図であ
る。

【図４】（ａ）は図３の表示器の平面図、（ｂ）はその
一部を除去した図である。

【図５】（ａ）は本発明の他の実施例による表示器の平
面図、（ｂ）はその一部を除去した図である。

【図６】図１の処理されていないシートに書き込む光を
示す断面図である。

【図７】本発明による導電性トレースを形成するために
用いられるマスクを示す。

【図８】（ａ）、（ｂ）にそれぞれ図７の（ａ）、
（ｂ）のマスクにより形成された表示器構造の平面図を
示す。

【図９】本発明による導電性トレースを形成するために
用いられる他のマスクの平面図を示す。

【図１０】本発明による導電性トレースを形成の種々の
段階を示す。

【図１１】（ａ）は本発明により形成された表示器の導
電性トレースの端子配置を示す平面図、（ｂ）はライン
Ａ−Ａに沿った断面図である。

【符号の説明】

５ 表示器 １２ 基板 １２ａ 第一の基板表面 １２ｂ 第二の基板表面 １４ 第一の光感応層 １６ 水平トレース ２４ 第二の光感応層 ２６ 第二の層の非導電性領域 ２８ 第二の層の導電性領域（垂直トレース） ３０ 光変調層 ３２ 光変調材料 ４０ カラーフィルタ配列 ５０ 赤色フィルタ層 ５２ 赤色フィルタ染色領域 ５４ 赤色フィルタ非染色領域 ６０ 緑色フィルタ層 ６２ 緑色フィルタ染色領域 ６４ 緑色フィルタ非染色領域 ７０ 青色フィルタ層 ７２ 青色フィルタ染色領域 ７４ 青色フィルタ非染色領域 ７５ 光吸収材料 ８０ 画素 ８１ 画素マスク ８２ 透明開口 ８４ 垂直フィラメントグリッド ８６ 水平フィラメントグリッド ８７ カラーフィルタマスク ８８ 第一の染料 ８９ 第二の染料 ９０ トレースマスク ９１ 光開口 ９２ 未露光ハロゲン化銀 ９４ 露光ハロゲン化銀 ９６ 金属銀 ９８ 再ハロゲン化された銀 １００ 現像された銀 １０２ 付加的な金属 １１０ 再現像された銀 １１２ 鋭い先端 １１４ 導電性パッド

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ａ） 電気的に感応する光変調層の両側に
   わたり、導電性を有しパターン化可能な第一と第二の光
   感応層をそれぞれ設け； ｂ） 第一の導電性トレースを形成するために第一の波
   長の放射で第一の光感応層をパターン化し； ｃ） 第二の導電性トレースを形成するために第二の波
   長の放射で第二の光感応層をパターン化する 各段階からなる光感応導電トレースを有する表示器を製
   造する方法。
2. 【請求項２】 該第一と第二の導電性トレースは画素の
   直交パターンを形成する請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 該第一と第二の光感応層はハロゲン化銀
   結晶を含み、パターン化段階はそれぞれ第一と第二の光
   感応層で領域を金属化し、及び金属化しないために感光
   し及び感光しなかったハロゲン化銀結晶を現像する段階
   を含む請求項１記載の方法。