JPH11238244A - 光メモリ装置 - Google Patents
光メモリ装置Info
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- JPH11238244A JPH11238244A JP10040014A JP4001498A JPH11238244A JP H11238244 A JPH11238244 A JP H11238244A JP 10040014 A JP10040014 A JP 10040014A JP 4001498 A JP4001498 A JP 4001498A JP H11238244 A JPH11238244 A JP H11238244A
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Abstract
プローブの位置決めを容易にするとともに、プローブ移
動量のダイナミックレンジを大幅に向上させることがで
きる光メモリ装置を提供する。 【解決手段】 フォトンのトンネル現象により生じるエ
バネッセント光を用いて、光記録媒体4に対する情報の
記録/再生を行う光メモリ装置であって、テーパー状8
の先端部分にエバネッセント光を発生させるスリット型
の開口部9を有する第1のプローブ2と、テーパー状1
0の先端部分にエバネッセント光を発生させるスリット
型の開口部11を有する第2のプローブ3とを設け、前
記第1及び第2のプローブ2,3を、各々のスリット型
の開口部9,11が互いに交差する状態で、前記光記録
媒体4を挟んで対向するように配置してなるものであ
る。
Description
記録/再生が可能なエバネッセント光を利用した光メモ
リ装置に関するものである。
置は、顕微鏡の分野から発展してきたので、まず始め
に、エバネッセント波を利用した顕微鏡の技術から、以
下簡単に説明する。
に用いて、光の波長以下の分解能を実現する光学式ニア
フィールド顕微鏡がある。これは、光学プローブ上にエ
バネッセント波を生じさせ、試料との相互作用によって
生じる場の変化を検出するか、或いは、試料表面上にエ
バネッセント波を生じさせ、光学プローブを近づけてエ
バネッセント波の状態を検出することによって、高分解
能な試料の形状測定を行うものある。
セント波が非伝播光であり、波長程度の距離で減衰する
という性質を利用して、試料の表面形状を高い分解能で
計測することができる。また、エバネッセント波は通常
の伝播光では実現できない短い波長の光波である。光波
の波長が短い程、横方向の分解能が高くできるので、光
学式ニアフィールド顕微鏡は、高解像度測定が可能とな
る。
折率側へ全反射角以上の入射角で光を入射した場合に生
じる。また、波長よりも小さい径のピンホールに光を入
射した時にもピンホール上にエバネッセント波が生じ
る。光学式ニアフィールド顕微鏡は、エバネッセント波
の発生方法によって、二種類に大別することができる。
一方はフォトントンネリング型ニアフィールド顕微鏡
で、他方はピンホール型ニアフィールド顕微鏡である。
微鏡では、高屈折率のチップやカバーガラス等に全反射
角以上で光を入射した場合に生じるエバネッセント波を
用いている。フォトントンネリング型ニアフィールド顕
微鏡は、非走査型及び走査型の両方で実現可能である。
ィールド顕微鏡を実現した報告がGuerraによって
なされている(Guerra:Appl.Opt.,2
6,3741,(1990))。これによると、通常の
反射光学顕微鏡を少し改良するだけで、試料を高分解で
直接観察することができる。
アフィールド顕微鏡は、Courjon(D.Cour
jon,K Sarayeddine, and M.
Spajer:Optics Commun.,71,
23(1989))、Reddic(R.C.Redd
ick,R.J.Warmack,and T.L.F
errell:Phys.Rev.B,39,767
(1989))、大津(蒋曙東、冨田直幸、大津元一、
光学、第20巻、134(1991))らによって、そ
れぞれ報告されている。
長より小さいピンホールや波長より小さい面積まで先端
を尖らせた光導波チップに光を入射し、チップ先端に生
じるエバネッセント場を用いている。
拡がりは、エバネッセント波の侵入長程度までは、ほと
んど拡がらないことが知られている。従って、ピンホー
ル型ニアフィールド顕微鏡は、スポット走査顕微鏡の形
式を取る。このアイディアは、1956年O’Keef
eが提案し(J.A.O’Keefe:J.Opt.S
oc.Am.,45,359(1956))、1972
年にAshがマイクロ波を用いた実験を行っている
(E.A.Ash and G.Nicholls:N
ature,237,510(1972))。
のIssacsonのグループ(E.Betzig,
A.Lewis,A.Harootunian,M.I
ssacson and E.Kratschmer:
Biophys.J.,49,269(1986))
と、IBMチューリッヒのPohlのグループ(D.
W.Pohl,W.Denk,and M.Lazn
z:Appl.Phys.Lett.,44,651
(1984))が独立に実際の装置化と実験等を行っ
た。
表面形状計測における深さ方向の分解能向上には成功し
ているが、横方向の解像度を向上させるのは難しく、あ
まり良い結果は得られていない。これは、従来の光学式
ニアフィールド顕微鏡における光学プローブでは、試料
の相互作用に寄与する光強度の効率が極めて悪く、検出
におけるSN比が低いためである。
ては、ピエゾ素子等を用いて微小な位置決めを行ってい
るが、試料が2次元の広がりを持っている場合、図5に
示すように、アクチュエーターやピエゾ素子等のプロー
ブ走査手段103によリ、プローブ101の先端を試料
面内に沿って正確に位置決めするには高い精度が求めら
れていたが、それぞれのプローブ走査手段103は力学
的に独立になっていないので、精度の高い走査が困難で
あった。また、移動量のダイナミックレンジが狭いの
で、大きな試料の測定はできないという問題点があっ
た。
スクメモリ等の記録密度を向上させることが課題となっ
ている。このためには、記録媒体への書き込み及び読み
出しに用いるプローブ光を小さく集光することが必要で
ある。そこで、プローブ光を小さく集光するために、超
解像現象を利用した光ピックアップが試作されている
(日経エレクトロニクス、第528巻、124(199
1))。超解像現象はプローブ光の干渉を利用して、ス
ポット径を小さくしているが、スポット径の理論限界は
波長の1/2までである。
は、プローブ光の波長を短くする必要がある。しかし、
現実にはプローブ光の短波長化には限界があり、高密度
化にはオーバーヘッドが存在する。すなわち、従来の光
ピックアップの問題点は、スポット径を波長の1/2程
度までしか小さくできないことである。
微鏡の手法を用いて、光の波長以下の大きさの領域に信
号を記録することが最近考えられている(例えば、特開
平7−21564号公報参照)が、上記光学式ニアフィ
ールド顕微鏡と同様の問題点により実現されていない。
ト波を効率よく発生させる1つの手法として、第58回
応用物理学会学術講演会講演予稿集1997年10月
(5a−L−5)には、スリット型のプローブを用いた
ミリ波帯近接場顕微鏡が開示されている。これは、プロ
ーブをスリット型とすることで、発生するエバネッセン
ト波のパワーを増大させるというものであり、実験では
ミリ波を用いている。しかしながら、発生するエバネッ
セント波はスリット型であるので、従来の光メモリ装置
のように小さな記録ピットに記録することはできない。
1564号公報等にて提案されているような、フォトン
のトンネル現象により生じるエバネッセント波を利用し
て情報の記録/再生を行う所謂P−STM(フォトン走
査型トンネル顕微鏡)を応用した光メモリ装置(また
は、単にP−STMでフォトン走査型トンネリングメモ
リとも言う)においては、プローブ光の強度が極めて小
さいため、信頼性の高い情報記録/再生を行うことがで
きないという問題があるとともに、プローブの位置決め
精度、及び移動量を確保するのが困難であるという問題
があった。
れたものであり、第1にプローブ光の強度を向上させ、
第2にプローブの位置決めを容易にするとともに、プロ
ーブ移動量のダイナミックレンジを大幅に向上させるこ
とができる光メモリ装置を提供することを目的とする。
明に係る光メモリ装置は、フォトンのトンネル現象によ
り生じるエバネッセント光を用いて、光記録媒体に対す
る情報の記録/再生を行う光メモリ装置であって、テー
パー状の先端部分にエバネッセント光を発生させるスリ
ット型の開口部を有する第1のプローブと、テーパー状
の先端部分にエバネッセント光を発生させるスリット型
の開口部を有する第2のプローブとを設け、前記第1及
び第2のプローブを、各々のスリット型の開口部が互い
に交差する状態で、前記光記録媒体を挟んで対向するよ
うに配置してなるものである。
を、光記録媒体を挟んだ状態で対向配置しているので、
この第1及び第2のプローブの交点の微小な領域に、パ
ワーの大きいエバネッセント波を集中させることがで
き、プローブ光の強度を向上させることが可能となる。
従って、信頼性の高い情報の記録/再生を保証すること
ができる。
装置は、前記請求項1に記載の光メモリ装置において、
前記第1及び第2のプローブを、各々のスリット型の開
口部が互いに直交する状態で対向配置したものである。
ブを、各々のスリット型の開口部が互いに直交するよう
に対向配置しているので、エバネッセント波の集中領域
(記録ピット)の面積を小さくすることができ、密度の
高い情報の記録/再生を行うことが可能となる。
装置は、前記請求項1又は2に記載の光メモリ装置にお
いて、前記第1及び第2のプローブを、各々のスリット
型の開口部から発生するエバネッセント光がトンネリン
グしない程度のギャップを有する状態で対向配置したも
のである。
の隙間を、エバネッセント波がトンネリングしない程度
のギャップとしているので、2つのプローブ間の中心に
パワーの大きいエバネッセント波を発生させることがで
き、高密度且つ信頼性の高い情報の記録/再生を行うこ
とが可能となる。
装置は、前記請求項1乃至3に記載の光メモリ装置にお
いて、前記第1及び第2のプローブには、互いに可干渉
性を有する光がそれぞれ入射してなるものである。
いに可干渉性を有する光を使用しているので、第1のプ
ローブと第2のプローブとによって発生したエバネッセ
ント波が互いに干渉し、可干渉性を有さない光を使用す
る場合に比べて、光パワーが増大するため、さらに効率
よくエバネッセント波を発生させることが可能となる。
装置は、前記請求項1乃至4に記載の光メモリ装置にお
いて、前記第1及び第2のプローブには、各々のスリッ
ト型の開口部の長手方向と垂直な偏向方向を持つ光を入
射してなるものである。
を、各々のスリット型の開口部の長手方向と垂直な方向
としているので、プローブの先端における透過光の発生
を防止し、エバネッセント波のみを発生させることがで
き、上記従来例のように、読み出し(再生)の際に、プ
ローブと光記録媒体との間の距離を正弦波状に変化さ
せ、それに同期して変化する成分のみを取り出す必要が
なくなるため、S/Nの高い情報の記録/再生を行うこ
とが可能となる。
装置は、前記請求項1乃至5に記載の光メモリ装置にお
いて、前記第1及び第2のプローブを、それぞれ光記録
媒体に対し、独立して1次元走査させるための走査手段
を設けてなるものである。
走査させるための走査手段を、それぞれ力学的に独立な
1次元走査するものとしているので、互いの走査手段同
士は干渉されず、精度の高いプローブの位置決めが可能
となるとともに、プローブ走査のダイナミックレンジも
2次元走査に比べて向上させることができる。また、2
次元走査手段に比べて機構が単純であるので、コストダ
ウンにもつながる。
1実施形態について、図1乃至図3とともに説明する。
ここで、図1は本実施形態の光メモリ装置の概略構成を
示す説明図、図2は本実施形態の光メモリ装置における
プローブを示す概略説明図、図3は本実施形態の光メモ
リ装置における光記録媒体内の記録ピットを示す概略説
明図である。
ように、ガラスファイバー等により形成された2つのプ
ローブ2,3と、それぞれのプローブ2,3を走査させ
るプローブ走査手段(図示せず)と、透明基板上にフォ
トクロミック材料等を含む記録層が形成された光記録媒
体4とから構成される。尚、2つのプローブ2,3は、
図2に示すように、先端形状がテーパー状8,10に形
成されており、その先端にスリット状の開口部9,11
が設けられている。
5,6を入射すると、スリット状の開口部9,11付近
にエバネッセント波が発生する。このエバネッセント波
の存在領域は非常に小さく、波長程度の広がりにしかな
っていない。従って、従来のCD(コンパクトディス
ク)、MD(ミニディスク)、DVD(デジタルビデオ
ディスク)のようにレーザ光を集光レンズを用いた場合
のビームウエスト径よりも格段に小さい記録ピットに記
録可能となる。
口部9,11が互いに直交する状態で対向配置されてお
り、各プローブ2,3の開口部9,11間の隙間は、そ
れぞれのプローブ2,3の開口部9,11からのエバネ
ッセント波が他方のプローブ3,2に伝播しない限界ま
で近付けている。また、光記録媒体4は、光強度に対し
て反応闇値を有し、前記各プローブ2,3の開口部9,
11の隙間に挿入可能な厚さであることが要求される。
ついて、図3とともに説明する。図3は光記録媒体4の
XY面を表しており、領域12と領域13とはそれぞ
れ、第1のプローブ2によるエバネッセント波発生領域
と第2のプローブ3によるエパネッセント波発生領域を
表している。光記録媒体4は、光強変に対して反応閲値
を有しているので、領域12と領域13の斜線の部分は
感光せず、領域12と領域13の重なる部分14のみが
感光する。
どちらか一方によるエパネッセント波パワーでは、光記
録媒体4の材料は変化しないが、他方のプローブ3,2
によるエバネッセント波パワーが加わった状態で、初め
て材料が変化する。尚、ここで言う感光とは、写真技術
における感光のみを表現しているのではなく、材料の光
学定数を変化させたり、光により電子を励起すること等
一般のことを表現するものとする。
ブ2,3に入射する入射光5,6の偏光方向を、スリッ
ト状の開ロ部9,11の長手方向に垂直方向としてい
る。これによって、プローブ2,3の開口部9,11方
向の電場の振動は発生しないので、開口部9,11から
は透過光が生じることなく、エバネッセント波のみが発
生することになる。従って、透過光による光記録媒体4
への不要な記録がなされるのを防ぐことができる。
材料4の記録ピットヘの位置決めについて説明する。上
述したとおり、本実施形態の光メモリ装置では、第1の
プローブ2と第2のプローブ3とから発生するエバネッ
セント波が交わる領域12に位置する記録材料部分が記
録ピットとなる。従って、図5とともに上述した従来例
のように、プローブをXY面内で2次元走査する必要は
ない。
においては、それぞれのプローブ2,3を、光記録媒体
4に対して1次元に走査させることによって、XY面内
の任意の場所に記録ピットを形成することが可能とな
る。また、本実施形態のプローブ走査手段は、力学的に
独立した2つの1次元走査手段により構成しているの
で、精度が高い信頼性のあるプローブ走査を行うことが
可能である。
生)について説明する。光記録媒体4への情報の書き込
み(記録)時は、上述したように、第1のプローブ2及
び第2のプローブ3に同時に入射光5,6を入射させる
が、光記録媒体4から情報を読み出す場合には、2つの
プローブ2,3のうち、どちらか一方のみに読み出し用
の入射光を入射し、他方のプローブで光記録媒体4の記
録ピットからの光を検出すれば良い。
3にそれぞれ入射される入射光5,6は、全く独立なも
のでも良いが、同一のレーザ装置より発生された光を分
割して使用することができる。これについて、本発明の
メモリ装置の第2実施形態として、図4とともに説明す
るが、上述した第1実施形態と同一部分には同一符号を
付し、その説明は省略する。ここで、図4は本実施形態
の光メモリ装置の概略構成を示す説明図である。
に、レーザ装置(光源)21と各々のプローブ2,3と
の間にビームスプリッター22を設け、このビームスプ
リッター22によって2分割された分割光を、それぞれ
のプローブ2,3の入射光5,6としている。尚、23
〜25はビームスプリッター22の一方の出力光をプロ
ーブ3の入射口に導光するミラーである。
ブ2と第2のプローブ3とから発生するエバネッセント
波が、光記録媒体4によって伝播光に変換され、さらに
第1及び第2のプローブ2,3による伝播光は同一光源
21によるものであるので、光記録媒体4の記録領域1
4において干渉し、さらに記録光パワー強度を強めるこ
とが可能となる。
は、光記録媒体4としてディスク型のものについて説明
したが、この形状に限るものではなく、平面のものであ
れば何でも良い。また、プローブ2,3を走査させるの
ではなく、光記録媒体4を走査させる走査手段を設ける
ことで、光記録媒体4全域にプローブ2,3の先端を走
査するようにしても良いことは明らかである。
及び第2のプローブ2,3として、強度を保持するため
に、テーパー8,10の先端部分にスリット状の開口部
9,11を設けたが、スリット状に分布するエバネッセ
ント波を発生させる構造を有するプローブであれば、こ
れも使用することが可能である。エバネッセント波は、
上述した微小開口によるものの他に、回折格子、全反射
によっても発生することが知られている。
リ装置は、上述したような構成としているので、第1及
び第2のプローブを、光記録媒体を挟んだ状態で対向配
置しているので、この第1及び第2のプローブの交点の
微小な領域に、パワーの大きいエバネッセント波を集中
させることができ、プローブ光の強度を向上させること
が可能となる。従って、信頼性の高い情報の記録/再生
を保証することができる。
装置は、前記第1及び第2のプローブを、各々のスリッ
ト型の開口部が互いに直交するように対向配置している
ので、エバネッセント波の集中領域の面積を小さくする
ことができ、密度の高い情報の記録/再生を行うことが
可能となる。
装置は、第1及び第2のプローブ間の隙間を、エバネッ
セント波がトンネリングしない程度のギャップとしてい
るので、2つのプローブ間の中心にパワーの大きいエバ
ネッセント波を発生させることができ、高密度且つ信頼
性の高い情報の記録/再生を行うことが可能となる。
装置は、プローブ入射光として、互いに可干渉性を有す
る光を使用しているので、第1のプローブと第2のプロ
ーブとによって発生したエバネッセント波が互いに干渉
し、可干渉性を有さない光を使用する場合に比べて、光
パワーが増大するため、さらに効率よくエバネッセント
波を発生させることが可能となる。
装置は、プローブ入射光の偏向方向を、各々のスリット
型の開口部の長手方向と垂直な方向としているので、プ
ローブの先端における透過光の発生を防止し、エバネッ
セント波のみを発生させることができ、S/Nの高い情
報の記録/再生を行うことが可能となる。
装置は、第1及び第2のプローブを走査させるための走
査手段を、それぞれ力学的に独立な1次元走査するもの
としているので、互いの走査手段同士は干渉されず、精
度の高いプローブの位置決めが可能となるとともに、プ
ローブ走査のダイナミックレンジも2次元走査に比べて
向上させることができる。また、2次元走査手段に比べ
て機構が単純であるので、コストダウンにもつながる。
成を示す説明図である。
プローブを示す概略説明図である。
光記録媒体内の記録ピットを示す説明図である。
成を示す説明図である。
ある。
Claims (6)
- 【請求項1】 フォトンのトンネル現象により生じるエ
バネッセント光を用いて、光記録媒体に対する情報の記
録/再生を行う光メモリ装置であって、 テーパー状の先端部分にエバネッセント光を発生させる
スリット型の開口部を有する第1のプローブと、 テーパー状の先端部分にエバネッセント光を発生させる
スリット型の開口部を有する第2のプローブとを設け、 前記第1及び第2のプローブを、各々のスリット型の開
口部が互いに交差する状態で、前記光記録媒体を挟んで
対向するように配置したことを特徴とする光メモリ装
置。 - 【請求項2】 前記請求項1に記載の光メモリ装置にお
いて、 前記第1及び第2のプローブは、各々のスリット型の開
口部が互いに直交する状態で、対向配置されたことを特
徴とする光メモリ装置。 - 【請求項3】 前記請求項1又は2に記載の光メモリ装
置において、 前記第1及び第2のプローブは、各々のスリット型の開
口部から発生するエバネッセント光がトンネリングしな
い程度のギャップを有する状態で、対向配置されたこと
を特徴とする光メモリ装置。 - 【請求項4】 前記請求項1乃至3に記載の光メモリ装
置において、 前記第1及び第2のプローブは、互いに可干渉性を有す
る光がそれぞれ入射されるものであることを特徴とする
光メモリ装置。 - 【請求項5】 前記請求項1乃至4に記載の光メモリ装
置において、 前記第1及び第2のプローブは、各々のスリット型の開
口部の長手方向と垂直な偏向方向を持つ光が入射される
ものであることを特徴とする光メモリ装置。 - 【請求項6】 前記請求項1乃至5に記載の光メモリ装
置において、 前記第1及び第2のプローブを、それぞれ光記録媒体に
対し、独立して1次元走査させるための走査手段を設け
たことを特徴とする光メモリ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04001498A JP3502539B2 (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | 光メモリ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04001498A JP3502539B2 (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | 光メモリ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11238244A true JPH11238244A (ja) | 1999-08-31 |
| JP3502539B2 JP3502539B2 (ja) | 2004-03-02 |
Family
ID=12569062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04001498A Expired - Fee Related JP3502539B2 (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | 光メモリ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3502539B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007139466A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Tokyo Institute Of Technology | 近接場光顕微鏡、近接場光イメージング方法、近接場光イメージング装置、近接場光イメージング法をコンピュータに実行させるプログラム、記録媒体および高密度記録情報メディア読み取り装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03272499A (ja) * | 1990-03-20 | 1991-12-04 | Fujitsu Ltd | X線ビーム走査装置 |
| JPH08313433A (ja) * | 1995-05-17 | 1996-11-29 | Satoshi Kawada | 赤外顕微分光分析方法及び装置 |
-
1998
- 1998-02-23 JP JP04001498A patent/JP3502539B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03272499A (ja) * | 1990-03-20 | 1991-12-04 | Fujitsu Ltd | X線ビーム走査装置 |
| JPH08313433A (ja) * | 1995-05-17 | 1996-11-29 | Satoshi Kawada | 赤外顕微分光分析方法及び装置 |
Cited By (1)
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| JP2007139466A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Tokyo Institute Of Technology | 近接場光顕微鏡、近接場光イメージング方法、近接場光イメージング装置、近接場光イメージング法をコンピュータに実行させるプログラム、記録媒体および高密度記録情報メディア読み取り装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3502539B2 (ja) | 2004-03-02 |
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