JPH11240848A - ｎ−パラフィン原料処理のための多段プロセス - Google Patents
ｎ−パラフィン原料処理のための多段プロセスInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 各プロセスで施設、移送、保管等が不要なプ
ロセスを提供する。 【解決手段】 （ａ）ｎ−パラフィン原料を用意し、
（ｂ）脱水素異性化条件でｎ−パラフィン原料を脱水素
異性化触媒と接触させ脱水素異性化生成物ストリームを
得、（ｃ）脱水素異性化生成物ストリームからの少なく
ともイソオレフィン画分とアルキルアルコールとを混合
しエーテル化反応原料を得、（ｄ）エーテル化反応原料
をエーテル化触媒とエーテル化条件で接触させエーテル
化生成物ストリームを得、（ｅ）エーテル化生成物スト
リームからの少なくともイソパラフィンおよびオレフィ
ン画分を含んだアルキル化反応原料とアルキル化触媒と
を反応させアルキル化生成物ストリームを得、（ｆ）ア
ルキル化生成物ストリームのｎ−パラフィン画分をステ
ップ（ａ）のｎ−パラフィン原料に添加する各ステップ
を有する。
ロセスを提供する。 【解決手段】 （ａ）ｎ−パラフィン原料を用意し、
（ｂ）脱水素異性化条件でｎ−パラフィン原料を脱水素
異性化触媒と接触させ脱水素異性化生成物ストリームを
得、（ｃ）脱水素異性化生成物ストリームからの少なく
ともイソオレフィン画分とアルキルアルコールとを混合
しエーテル化反応原料を得、（ｄ）エーテル化反応原料
をエーテル化触媒とエーテル化条件で接触させエーテル
化生成物ストリームを得、（ｅ）エーテル化生成物スト
リームからの少なくともイソパラフィンおよびオレフィ
ン画分を含んだアルキル化反応原料とアルキル化触媒と
を反応させアルキル化生成物ストリームを得、（ｆ）ア
ルキル化生成物ストリームのｎ−パラフィン画分をステ
ップ（ａ）のｎ−パラフィン原料に添加する各ステップ
を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ｎ−パラフィン原
料を処理するための多段プロセスに関し、特に、脱水素
異性化段階、エーテル化段階、アルキル化段階による処
理を通じてｎ−パラフィン原料を処理する循環プロセス
であって、上記アルキル化段階での反応生成物の一部
が、第一段階用の原料に再循環されるプロセスに関す
る。
料を処理するための多段プロセスに関し、特に、脱水素
異性化段階、エーテル化段階、アルキル化段階による処
理を通じてｎ−パラフィン原料を処理する循環プロセス
であって、上記アルキル化段階での反応生成物の一部
が、第一段階用の原料に再循環されるプロセスに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、ｎ−パラフィンや他の原料を転化
してより有用で価値の高い生成物、例えばイソパラフィ
ン、アルキル第３アルキルエーテル、およびアルキレー
ト等を得るために種々のプロセスが知られている。
してより有用で価値の高い生成物、例えばイソパラフィ
ン、アルキル第３アルキルエーテル、およびアルキレー
ト等を得るために種々のプロセスが知られている。
【０００３】これまで、これら各プロセスは、個別に実
施されており、従って、各プロセスを実施するには、個
別の施設や装置が必要となっていた。
施されており、従って、各プロセスを実施するには、個
別の施設や装置が必要となっていた。
【０００４】
【本発明が解決しようとする課題】そこで、原料が後続
の段階で処理されて、種々の所望の生成物が得られ、か
つ、各プロセスで、施設、移送、保管等を個別に必要と
することのないプロセスを提供することが求められてい
る。
の段階で処理されて、種々の所望の生成物が得られ、か
つ、各プロセスで、施設、移送、保管等を個別に必要と
することのないプロセスを提供することが求められてい
る。
【０００５】従って、本発明に係る方法では、ｎ−パラ
フィン原料および得られる反応生成物が、順次多数の異
なる反応ゾーンすなわち反応帯で処理され、かつ、最終
反応生成物の一部が第一の反応帯に再循環される。本発
明のこれらおよびその他の目的および利点は、以下に明
らかとされる。
フィン原料および得られる反応生成物が、順次多数の異
なる反応ゾーンすなわち反応帯で処理され、かつ、最終
反応生成物の一部が第一の反応帯に再循環される。本発
明のこれらおよびその他の目的および利点は、以下に明
らかとされる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的および
利点を容易に達成するためのものである。本発明によれ
ば、ｎ−パラフィン原料処理の多段プロセスが提供さ
れ、このプロセスは、（ａ）ｎ−パラフィン原料を用意
し、（ｂ）ｎ−パラフィン、イソ−パラフィン、オレフ
ィンおよびイソ−オレフィン画分を含んだ脱水素異性化
生成物ストリームが得られるように、脱水素異性化条件
でｎ−パラフィン原料を脱水素異性化触媒と接触させ、
（ｃ）前記脱水素異性化生成物ストリームからの少なく
とも前記イソ−オレフィン画分と、アルキルアルコール
と、を混合させて、エーテル化反応原料を得て、（ｄ）
アルキル第３アルキルエーテル（alkyl tert alkyl eth
er）、ｎ−パラフィン、イソパラフィンおよびオレフィ
ン画分を含んだエーテル化生成物ストリームが得られる
ように、前記エーテル化反応原料をエーテル化触媒とエ
ーテル化条件で接触させ、（ｅ）アルキレートとｎ−パ
ラフィン画分とを含んだアルキル化生成物ストリームが
得られるように、前記エーテル化生成物ストリームから
の少なくとも前記イソパラフィンおよびオレフィン画分
を含んだアルキル化反応原料と、アルキル化触媒と、
を、アルキル化条件下で反応させ、（ｆ）前記アルキル
化生成物ストリームの前記ｎ−パラフィン画分を、ステ
ップ（ａ）の前記ｎ−パラフィン原料に添加するという
各ステップを有する。
利点を容易に達成するためのものである。本発明によれ
ば、ｎ−パラフィン原料処理の多段プロセスが提供さ
れ、このプロセスは、（ａ）ｎ−パラフィン原料を用意
し、（ｂ）ｎ−パラフィン、イソ−パラフィン、オレフ
ィンおよびイソ−オレフィン画分を含んだ脱水素異性化
生成物ストリームが得られるように、脱水素異性化条件
でｎ−パラフィン原料を脱水素異性化触媒と接触させ、
（ｃ）前記脱水素異性化生成物ストリームからの少なく
とも前記イソ−オレフィン画分と、アルキルアルコール
と、を混合させて、エーテル化反応原料を得て、（ｄ）
アルキル第３アルキルエーテル（alkyl tert alkyl eth
er）、ｎ−パラフィン、イソパラフィンおよびオレフィ
ン画分を含んだエーテル化生成物ストリームが得られる
ように、前記エーテル化反応原料をエーテル化触媒とエ
ーテル化条件で接触させ、（ｅ）アルキレートとｎ−パ
ラフィン画分とを含んだアルキル化生成物ストリームが
得られるように、前記エーテル化生成物ストリームから
の少なくとも前記イソパラフィンおよびオレフィン画分
を含んだアルキル化反応原料と、アルキル化触媒と、
を、アルキル化条件下で反応させ、（ｆ）前記アルキル
化生成物ストリームの前記ｎ−パラフィン画分を、ステ
ップ（ａ）の前記ｎ−パラフィン原料に添加するという
各ステップを有する。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適実施形態を、
本発明に係る多段プロセスを概略的に示す図面を参照し
て説明する。本発明は、ｎ−パラフィン原料を処理する
ための多段プロセスに関し、脱水素異性化反応帯、エー
テル化反応帯、およびアルキル化反応帯により順次処理
を行うプロセスに関する。ここで、アルキル化反応帯か
らの原料の一部の画分は、第１反応帯即ち脱水素異性化
反応帯に再循環される。
本発明に係る多段プロセスを概略的に示す図面を参照し
て説明する。本発明は、ｎ−パラフィン原料を処理する
ための多段プロセスに関し、脱水素異性化反応帯、エー
テル化反応帯、およびアルキル化反応帯により順次処理
を行うプロセスに関する。ここで、アルキル化反応帯か
らの原料の一部の画分は、第１反応帯即ち脱水素異性化
反応帯に再循環される。
【０００８】添付図面は、このようなプロセスを概略的
に説明するものであり、ｎ−パラフィン原料の脱水素異
性化ゾーン１０から、上記プロセスが開始される。この
脱水素異性化ゾーン１０では、ｎ−パラフィン、イソパ
ラフィン、オレフィンおよびイソオレフィン画分を含有
する、脱水素異性化生成物ストリームが得られる。脱水
素異性化生成物ストリームの少なくともイソオレフィン
画分は、アルキルアルコールと混合されて、エーテル化
反応原料が生成され、これは、エーテル化ゾーン１２へ
と送られる。エーテル化ゾーン１２の生成物には、アル
キル第３アルキルエーテル生成物、ｎ−パラフィン、イ
ソパラフィン、およびオレフィン画分が含有される。本
発明に係るプロセスによれば、少なくともオレフィンと
イソパラフィン画分は、アルキル化ゾーン１４に送ら
れ、このゾーンでは、アルキレートとｎ−パラフィン画
分とを含有する生成物ストリームが得られる。
に説明するものであり、ｎ−パラフィン原料の脱水素異
性化ゾーン１０から、上記プロセスが開始される。この
脱水素異性化ゾーン１０では、ｎ−パラフィン、イソパ
ラフィン、オレフィンおよびイソオレフィン画分を含有
する、脱水素異性化生成物ストリームが得られる。脱水
素異性化生成物ストリームの少なくともイソオレフィン
画分は、アルキルアルコールと混合されて、エーテル化
反応原料が生成され、これは、エーテル化ゾーン１２へ
と送られる。エーテル化ゾーン１２の生成物には、アル
キル第３アルキルエーテル生成物、ｎ−パラフィン、イ
ソパラフィン、およびオレフィン画分が含有される。本
発明に係るプロセスによれば、少なくともオレフィンと
イソパラフィン画分は、アルキル化ゾーン１４に送ら
れ、このゾーンでは、アルキレートとｎ−パラフィン画
分とを含有する生成物ストリームが得られる。
【０００９】更に、本発明に係るプロセスでは、図示さ
れてもいるように、ｎ−パラフィン画分は、その後、ゾ
ーン１０への原料へと再循環されて、循環的多段プロセ
スが得られるという利点を有する。
れてもいるように、ｎ−パラフィン画分は、その後、ゾ
ーン１０への原料へと再循環されて、循環的多段プロセ
スが得られるという利点を有する。
【００１０】本発明によれば、ゾーン１０は、脱水素異
性化ゾーンであって、ｎ−パラフィン、イソパラフィ
ン、オレフィン、およびイソオレフィンを含んだ、所望
の生成物ストリームが得られるように、脱水素異性化条
件下で、ｎ−パラフィン原料が脱水素異性化触媒と接触
される。脱水素異性化触媒は、所望のどの触媒としても
よいが、好適には、改良モルデナイトゼオライト触媒で
あって、Ｐｔとプロモータ即ち助触媒とによって改良さ
れているものを用いる。この際の助触媒としては、ＩＩ
Ｂ金属、ＩＶＡ金属、ＶＩＢ金属およびこれらの任意混
合物が挙げられる。このような触媒は、Ｄｅ Ａｇｕｄ
ｅｌｏ等に付与された米国特許第５，４１６，０５２号
および米国特許第５，６５８，８３９号に詳細に記載さ
れている。
性化ゾーンであって、ｎ−パラフィン、イソパラフィ
ン、オレフィン、およびイソオレフィンを含んだ、所望
の生成物ストリームが得られるように、脱水素異性化条
件下で、ｎ−パラフィン原料が脱水素異性化触媒と接触
される。脱水素異性化触媒は、所望のどの触媒としても
よいが、好適には、改良モルデナイトゼオライト触媒で
あって、Ｐｔとプロモータ即ち助触媒とによって改良さ
れているものを用いる。この際の助触媒としては、ＩＩ
Ｂ金属、ＩＶＡ金属、ＶＩＢ金属およびこれらの任意混
合物が挙げられる。このような触媒は、Ｄｅ Ａｇｕｄ
ｅｌｏ等に付与された米国特許第５，４１６，０５２号
および米国特許第５，６５８，８３９号に詳細に記載さ
れている。
【００１１】脱水素異性化条件は、好適には、所望のｎ
−パラフィン、イソパラフィン、オレフィン、およびイ
ソオレフィン生成物ストリームが得られるように選択さ
れる。好適な脱水素異性化条件においては、パラフィン
の空間速度が約０．１ｈ-1〜約１０００ｈ-1で、パラフ
ィンに対する水素の比率は約０．１〜約３０、温度は約
２５０℃〜約８００℃である。より好適には、脱水素異
性化プロセス条件では、パラフィンの空間速度が約０．
１ｈ-1〜約２５０ｈ-1、パラフィンに対する水素の比率
が約１〜約１５、プロセス温度は約５００〜約６００℃
である。
−パラフィン、イソパラフィン、オレフィン、およびイ
ソオレフィン生成物ストリームが得られるように選択さ
れる。好適な脱水素異性化条件においては、パラフィン
の空間速度が約０．１ｈ-1〜約１０００ｈ-1で、パラフ
ィンに対する水素の比率は約０．１〜約３０、温度は約
２５０℃〜約８００℃である。より好適には、脱水素異
性化プロセス条件では、パラフィンの空間速度が約０．
１ｈ-1〜約２５０ｈ-1、パラフィンに対する水素の比率
が約１〜約１５、プロセス温度は約５００〜約６００℃
である。
【００１２】反応ゾーン１２は、好適には、エーテル化
触媒を有し、好適には、酸性イオン交換樹脂であって少
なくとも第一の活性金属相、好適にはパラジウムを有す
るエーテル化触媒を用いる。Ｒａｍｉｒｅｚ Ｄｅ Ａ
ｇｕｄｅｌｏ等に付与された米国特許第５，５２３，２
７２号に記載されるように、エーテル化触媒は、原料中
に硫黄が存在する場合、好適には、硫黄による不活性化
に対する耐性が得られるように選択される。
触媒を有し、好適には、酸性イオン交換樹脂であって少
なくとも第一の活性金属相、好適にはパラジウムを有す
るエーテル化触媒を用いる。Ｒａｍｉｒｅｚ Ｄｅ Ａ
ｇｕｄｅｌｏ等に付与された米国特許第５，５２３，２
７２号に記載されるように、エーテル化触媒は、原料中
に硫黄が存在する場合、好適には、硫黄による不活性化
に対する耐性が得られるように選択される。
【００１３】この触媒は、硫黄成分が約３００ｐｐｍ
（ｗｔ）まで含有される原料に好適である。この例で
は、好適なエーテル化触媒は酸性イオン交換樹脂であっ
て、実質的に、ジビニルベンゼンにより架橋度約５〜６
５％で架橋されたマクロ細孔性（macroporous ）ポリス
チレン樹脂、上記樹脂に支持されたパラジウム第一金属
相、および上記樹脂に支持された硫黄抑制第二金属相よ
りなり、この第二金属は、ｄ５電子配置を有する金属、
ｄ１０電子配置を有する金属、およびこれらの混合物で
あり、この第二金属相は、第一金属相よりも電子吸引力
が強くて第一金属相の硫黄による不活性化を抑えるよう
になっている。更に、第一金属相と第二金属相との原子
比は、約１：２０〜約１：０．１である。上述の米国特
許第５，５２３，２７２号は、更に、このような触媒を
開示しており、これらは、参照として本願に包含され
る。
（ｗｔ）まで含有される原料に好適である。この例で
は、好適なエーテル化触媒は酸性イオン交換樹脂であっ
て、実質的に、ジビニルベンゼンにより架橋度約５〜６
５％で架橋されたマクロ細孔性（macroporous ）ポリス
チレン樹脂、上記樹脂に支持されたパラジウム第一金属
相、および上記樹脂に支持された硫黄抑制第二金属相よ
りなり、この第二金属は、ｄ５電子配置を有する金属、
ｄ１０電子配置を有する金属、およびこれらの混合物で
あり、この第二金属相は、第一金属相よりも電子吸引力
が強くて第一金属相の硫黄による不活性化を抑えるよう
になっている。更に、第一金属相と第二金属相との原子
比は、約１：２０〜約１：０．１である。上述の米国特
許第５，５２３，２７２号は、更に、このような触媒を
開示しており、これらは、参照として本願に包含され
る。
【００１４】ゾーン１２におけるエーテル化は、好適に
は、反応原料がオレフィン、パラフィンおよびイソパラ
フィン画分だけでなく、アルキル第３アルキルエーテル
にも転化されるように、適切な条件下でなされる。好適
な条件では、圧力が約１０バール（bar ）から２５バー
ル、温度約４０℃から約９０℃、空間速度が約０．５ｈ
-1〜約５．０ｈ-1である。
は、反応原料がオレフィン、パラフィンおよびイソパラ
フィン画分だけでなく、アルキル第３アルキルエーテル
にも転化されるように、適切な条件下でなされる。好適
な条件では、圧力が約１０バール（bar ）から２５バー
ル、温度約４０℃から約９０℃、空間速度が約０．５ｈ
-1〜約５．０ｈ-1である。
【００１５】ゾーン１４におけるアルキル化は、好適に
は、アルキル化触媒を用いてアルキル化プロセス条件下
で行われる。この条件は、当業者には周知であり、アル
キレート、およびｎ−パラフィンを含んだ生成物ストリ
ームが得られるようになされる。上述したように、本発
明に係るプロセスにおいては、ｎ−パラフィンは、脱水
異性化ゾーン１０の原料に循環される。
は、アルキル化触媒を用いてアルキル化プロセス条件下
で行われる。この条件は、当業者には周知であり、アル
キレート、およびｎ−パラフィンを含んだ生成物ストリ
ームが得られるようになされる。上述したように、本発
明に係るプロセスにおいては、ｎ−パラフィンは、脱水
異性化ゾーン１０の原料に循環される。
【００１６】好適なｎ−パラフィン原料としては、ｎ−
パラフィン類例えばｎ−Ｃ4 −ｎ−Ｃ6 （ｎ−Ｃ4 、ｎ
−Ｃ6 ）等の任意の組み合わせや混合物が挙げられる。
ゾーン１０へとｎ−ブタン原料を提供することで、ｎ−
ブタン、イソブタン、ｎ−ブテンおよびイソブテンの生
成物ストリームが得られる。この生成物ストリームの少
なくともイソブテンの画分は、好適には、本発明におい
てはゾーン１２に送られる。このゾーン１２では、イソ
ブテンは、所望のエーテル化反応原料が得られるよう
に、例えばＭｅＯＨ（あるいはメチルアルコール）と混
合される。この例では、ゾーン１２からの生成物ストリ
ームには、メチル第３ブチルエーテル（methyl tert bu
tyl ether:MTBE）ｎ−ブテン、ｎ−ブタンおよびイソブ
タンが含まれることとなる。少なくともｎ−ブテンとイ
ソブタンの画分は、好適には、ゾーン１４へと供給さ
れ、所望のアルキル化がなされ、必要であれば更にイソ
ブタンをゾーン１４に更に添加して、所望のアルキル化
条件が得られるようにする。この例では、生成物ストリ
ームには、２，２ジメチルブタン、ｎ−ブタン等のアル
キレートが含まれることとなり、このｎ−ブタンは、好
適には、ゾーン１０への原料として循環されて、本発明
において所望されるように、循環多段反応が提供され
る。
パラフィン類例えばｎ−Ｃ4 −ｎ−Ｃ6 （ｎ−Ｃ4 、ｎ
−Ｃ6 ）等の任意の組み合わせや混合物が挙げられる。
ゾーン１０へとｎ−ブタン原料を提供することで、ｎ−
ブタン、イソブタン、ｎ−ブテンおよびイソブテンの生
成物ストリームが得られる。この生成物ストリームの少
なくともイソブテンの画分は、好適には、本発明におい
てはゾーン１２に送られる。このゾーン１２では、イソ
ブテンは、所望のエーテル化反応原料が得られるよう
に、例えばＭｅＯＨ（あるいはメチルアルコール）と混
合される。この例では、ゾーン１２からの生成物ストリ
ームには、メチル第３ブチルエーテル（methyl tert bu
tyl ether:MTBE）ｎ−ブテン、ｎ−ブタンおよびイソブ
タンが含まれることとなる。少なくともｎ−ブテンとイ
ソブタンの画分は、好適には、ゾーン１４へと供給さ
れ、所望のアルキル化がなされ、必要であれば更にイソ
ブタンをゾーン１４に更に添加して、所望のアルキル化
条件が得られるようにする。この例では、生成物ストリ
ームには、２，２ジメチルブタン、ｎ−ブタン等のアル
キレートが含まれることとなり、このｎ−ブタンは、好
適には、ゾーン１０への原料として循環されて、本発明
において所望されるように、循環多段反応が提供され
る。
【００１７】本発明は、その趣旨および本質的特性を逸
脱することなく、他の種々の形態で実現することができ
る。本実施形態は、どのような意味においても、例示的
なものであり、本発明を制限するものではない。本発明
の範囲は、添付の請求項により制限されるものであっ
て、等価な意味および範囲とみなされる修正や変更は、
すべて本願発明に包含されるものである。
脱することなく、他の種々の形態で実現することができ
る。本実施形態は、どのような意味においても、例示的
なものであり、本発明を制限するものではない。本発明
の範囲は、添付の請求項により制限されるものであっ
て、等価な意味および範囲とみなされる修正や変更は、
すべて本願発明に包含されるものである。
【図１】本発明に係るプロセスの説明図である。
１０ 脱水素異性化ゾーン １２ エーテル化ゾーン １４ アルキル化ゾーン
Claims (7)
- 【請求項１】 ｎ−パラフィン原料処理のための多段プ
ロセスにおいて、 （ａ）ｎ−パラフィン原料を用意するステップと、 （ｂ）ｎ−パラフィン、イソパラフィン、オレフィンお
よびイソオレフィン画分を含んだ脱水素異性化生成物ス
トリームが得られるように、脱水素異性化条件で前記ｎ
−パラフィン原料を脱水素異性化触媒と接触させるステ
ップと、 （ｃ）前記脱水素異性化生成物ストリームからの少なく
とも前記イソオレフィン画分と、アルキルアルコールと
を混合させて、エーテル化反応原料を得るステップと、 （ｄ）アルキル第３アルキルエーテル、ｎ−パラフィ
ン、イソパラフィンおよびオレフィン画分を含んだエー
テル化生成物ストリームが得られるように、前記エーテ
ル化反応原料を、エーテル化触媒とエーテル化条件で接
触させるステップと、 （ｅ）アルキレートとｎ−パラフィン画分とを含んだア
ルキル化生成物ストリームが得られるように、前記エー
テル化生成物ストリームからの少なくとも前記イソパラ
フィンおよびオレフィン画分を含んだアルキル化反応原
料と、アルキル化触媒とをアルキル化条件下で反応させ
るステップと、 （ｆ）前記アルキル化生成物ストリームの前記ｎ−パラ
フィン画分を、ステップ（ａ）の前記ｎ−パラフィン原
料に添加するステップと、を有することを特徴とするプ
ロセス。 - 【請求項２】 前記アルキル化反応原料に更にイソパラ
フィンを追加するステップを更に有することを特徴とす
る請求項１記載のプロセス。 - 【請求項３】 前記脱水素異性化触媒は、改良モルデナ
イトゼオライト触媒を含み、この改良モルデナイトゼオ
ライト触媒は、Ｐｔと助触媒とによって改良されてお
り、この助触媒は、ＩＩＢ金属、ＩＶＡ金属、ＶＩＢ金
属およびこれらの任意混合物から選択されることを特徴
とする請求項１記載のプロセス。 - 【請求項４】 前記脱水素異性化条件は、パラフィン空
間速度が約０．１ｈ-1 〜約１０００ｈ-1、パラフィンに
対する水素の比率は約０．１〜約３０、温度は約２５０
℃〜約８００℃であることを特徴とする請求項３記載の
プロセス。 - 【請求項５】 前記エーテル化触媒は、酸性イオン交換
樹脂と、この樹脂に支持されたパラジウム金属相とを有
することを特徴とする請求項１記載のプロセス。 - 【請求項６】 前記エーテル化反応原料は、硫黄と約３
００ｐｐｍまで含有し、前記エーテル化触媒は、 酸性イオン交換樹脂を有し、この酸性イオン交換樹脂
は、実質的に、 ジビニルベンゼンにより架橋度約５〜約６５％で架橋さ
れたマクロ細孔性ポリスチレン樹脂を有し、 前記樹脂に支持されたパラジウム第一金属相を有し、 前記樹脂に支持された硫黄抑制第二金属相を有し、この
第二金属は、ｄ５電子配置を有する金属、ｄ１０電子配
置を有する金属、およびこれらの混合物であり、この第
二金属相は、第一金属相が硫黄により不活性化されるこ
とを抑えるように、前記第一金属相よりも電子吸引力が
強くなっており、前記第一金属相と前記第二金属相との
原子比は、約１：２０〜約１：０．１であることを特徴
とする請求項１記載のプロセス。 - 【請求項７】 前記エーテル化条件は、圧力が約１０バ
ールから約２５バール、温度が約４０℃から約９０℃、
および空間速度が約０．５ｈ-1〜約５．０ｈ-1であるこ
とを特徴とする請求項１記載のプロセス。
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|---|---|---|---|
| US982,711 | 1997-12-02 | ||
| US08/982,711 US5907072A (en) | 1994-01-21 | 1997-12-02 | Multi-stage process for treating N-paraffins |
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- 1998-12-01 BR BR9804980-1A patent/BR9804980A/pt not_active Application Discontinuation
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