JPH1124243A - 感光性平版印刷版 - Google Patents

感光性平版印刷版

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Publication number
JPH1124243A
JPH1124243A JP17385497A JP17385497A JPH1124243A JP H1124243 A JPH1124243 A JP H1124243A JP 17385497 A JP17385497 A JP 17385497A JP 17385497 A JP17385497 A JP 17385497A JP H1124243 A JPH1124243 A JP H1124243A
Authority
JP
Japan
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group
compound
printing plate
lithographic printing
photosensitive
Prior art date
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Pending
Application number
JP17385497A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinji Matsumoto
晋治 松本
Ryoji Hattori
良司 服部
Iku Fukumuro
郁 福室
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP17385497A priority Critical patent/JPH1124243A/ja
Publication of JPH1124243A publication Critical patent/JPH1124243A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光層と支持体との接着性の向上と、優れた
保存性とを両立して達成し得る感光性平版印刷版の提
供。 【解決手段】 置換又は未置換のアミノ基を有する化合
物を支持体との共有結合により設け、更に400〜11
00nmにλmaxを有する増感色素、ラジカル発生剤
及びエチレン性不飽和結合を分子中に有する光重合可能
な化合物を含有する感光層を設けてなることを特徴とす
る感光性平版印刷版。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版に
関し、特に支持体と感光層との結合が強化された感光性
平版印刷版に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、ネガ型感光性平版印刷版は公
知であり、露光部が硬化するジアゾ樹脂含有感光層を設
けたもの、光重合性感光層を設けたもの、光架橋性感光
層を設けたもの等が知られている。これら感光性平版印
刷版はその上に透明ネガフィルムの原稿をのせ、紫外光
を露光する操作により印刷版が得られるが、作業が煩雑
であったため、近年レーザ光をその印刷版表面に走査さ
せ、文字原稿、画像原稿等を直接版面上に形成させフィ
ルムレスで直接製版する試みがなされて来た。例えば特
公昭61−9621号、特開昭63−178105号及
び特開平2−244050号には上記の方法で直接製版
を得ることが記載されている。しかしながら、こうした
方法に用いられた印刷版は、感光層と支持体との接着性
が必ずしも満足のいくものではなく、例えば高速で大部
数の印刷に使用すると画像のヌケが生じたり、細線がと
んだりするという問題が生じる。そこで感光層と支持体
との接着性を強化するために様々な方法が採用されてお
り、例えば支持体表面の粗面化したり、又ジアゾ樹脂を
含有した下引層を感光層と支持体との間に設けたりとい
った方法が挙げられる。しかしながら、支持体表面の粗
面化は未露光部の親水性が低下して印刷に汚れを生じさ
せ、又ジアゾ樹脂を含有した下引層は接着性の効果を奏
するのに時間を要するなど、幾多の問題を有している。
【0003】それらの問題を解消するものとして特開平
7−159983号には、支持体にラジカルにより付加
反応を起こし得る官能基を共有結合により設けてなる感
光性印刷板が開示されている。しかしながらこの感光性
印刷板は、長時間の保存時において一部のラジカルによ
る反応が進行して感光層の重合を促進して現像後に感光
層の残膜が生じ、印刷時に汚れが発生する。又露光部の
支持体表面と感光層との界面での付加反応が十分でない
ために接着性に問題が生じたりするなど、いずれも支持
体との接着性と保存性を満足するものは得られていなか
った。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的は感光層と支持体と
の接着性の向上と優れた保存性を両立して達成し得る感
光性平版印刷版を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成される。
【0006】(1)置換又は未置換のアミノ基を有する
化合物を支持体との共有結合により設け、更に400〜
1100nmにλmaxを有する増感色素、ラジカル発
生剤及びエチレン性不飽和結合を分子中に有する光重合
可能な化合物を含有する感光層を設けてなることを特徴
とする感光性平版印刷版。
【0007】(2)極性基を有する化合物を支持体との
共有結合により設け、更に400〜1100nmにλm
axを有する増感色素、ラジカル発生剤及びエチレン性
不飽和結合を分子中に有する光重合可能な化合物を含有
する感光層を設けてなることを特徴とする感光性平版印
刷版。
【0008】(3)ラジカルを発生しうる基を有する化
合物を支持体との共有結合により設け、更に400〜1
100nmにλmaxを有する増感色素、ラジカル発生
剤及びエチレン性不飽和結合を分子中に有する光重合可
能な化合物を含有する感光層を設けてなることを特徴と
する感光性平版印刷版。
【0009】(4)下記〜の官能基の組み合わせの
何れか一方を有する化合物を支持体との共有結合により
設け、更に前記組み合わせの残る官能基を有する化合
物、400〜1100nmにλmaxを有する増感色
素、ラジカル発生剤及びエチレン性不飽和結合を分子中
に有する光重合可能な化合物を含有する感光層を設けて
なることを特徴とする感光性平版印刷版。
【0010】(カルボン酸基−アミノ基、イソシア
ネート基−カルボン酸基、アセタール基−アミノ基、
カルボン酸基−アミド基、キレート結合可能な金属
−該金属とキレート結合可能な官能基) 本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した
結果、置換又は未置換のアミノ基を有する化合物、極性
基を有する化合物、ラジカルを発生しうる基を有する化
合物のうち、何れか1つを支持体との共有結合により設
け、更に400〜1100nmにλmaxを有する増感
色素、ラジカル発生剤及びエチレン性不飽和結合を分子
中に有する光重合可能な化合物を含有する感光層を設け
れば上記目的を達成せしめることを見出し本発明に至っ
たものである。又、特定の官能基の組み合わせの何れか
一方を有する化合物を支持体との共有結合により設け、
更に前記組み合わせの残る官能基を有する化合物を感光
層に含有せしめる態様も上記目的を同様に達成せしめ
る。
【0011】以下、本発明を詳細に説明する。
【0012】本発明の感光性平版印刷版は、a)置換又
は未置換のアミノ基を有する化合物(タイプ1)、b)
極性基を有する化合物(タイプ2)或いはc)ラジカル
を発生しうる基を有する化合物(タイプ3)を支持体と
の共有結合により設け、更に400〜1100nmにλ
maxを有する増感色素、ラジカル発生剤及びエチレン
性不飽和結合を分子中に有する光重合可能な化合物を含
有する感光層を設けてなることを特徴とする。
【0013】又、別の態様としてd)下記〜の官能
基の組み合わせの何れか一方を有する化合物を支持体と
の共有結合により設け、更に前記組み合わせの残る官能
基を有する化合物、400〜1100nmにλmaxを
有する増感色素、ラジカル発生剤及びエチレン性不飽和
結合を分子中に有する光重合可能な化合物を含有する感
光層を設けてなることを特徴とする(タイプ4)。
【0014】(カルボン酸基−アミノ基、イソシア
ネート基−カルボン酸基、アセタール基−アミノ基、
カルボン酸基−アミド基、キレート結合可能な金属
−該金属とキレート結合可能な官能基)以下、順に説明
する。
【0015】〔1〕共有結合可能な化合物 (タイプ1)「置換又は未置換のアミノ基を有する化合
物」としては、該置換又は未置換のアミノ基を有するシ
ランカップリング剤が好ましく、以下の一般式(1)で
表される化合物が挙げられる。
【0016】
【化1】
【0017】R1〜R3は、炭素数1〜3のアルコキシ基
又は同アルキル基であり、R1〜R3の少なくとも一つは
該アルコキシ基である。R4は置換又は未置換のアミノ
基で置換されたアルキル基を表す。該アミノ基としては
特に1級アミノ基又は2級アミノ基が好ましく、特に2
級アミノ基だけを有していることが好ましい。又該アミ
ノ基への置換基としてはアルキル基が好ましい。又、R
4が、
【0018】
【化2】
【0019】(R5〜R7は、炭素数1〜3のアルコキシ
基又は同アルキル基であり、R5〜R7の少なくとも一つ
は該アルコキシ基である。R8はSiとの連結基を表
し、例えば、
【0020】
【化3】
【0021】であり、又R9〜R12はアルキル基を表
す。)であってもよい。これらの具体的な化合物例を以
下に挙げるが本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【0022】
【化4】
【0023】(タイプ2)極性基を有する化合物として
は、該極性基を有するシランカップリング剤が好まし
く、下記一般式(2)で表される化合物が挙げられる。
【0024】
【化5】
【0025】R1′〜R3′は、炭素数1〜3のアルコキ
シ基又は同アルキル基であり、R′〜R′の少なく
とも一つは該アルコキシ基である。ただし、R4′は極
性基を少なくとも1つ有する官能基である。
【0026】極性基としては、カルボン酸基、水酸基、
燐酸基、スルフォン酸基、アミノ基などが挙げられる。
これら極性基を有する化合物の具体的な化合物例を以下
に挙げるが本発明はこれらに限定されるものではない。
【0027】
【化6】
【0028】(タイプ3)ラジカルを発生しうる基を有
する化合物としては、該ラジカルを発生しうる基を有す
るシランカップリング剤が好ましく、下記一般式(3)
で表される化合物が挙げられる。
【0029】
【化7】
【0030】R1″〜R3″は、炭素数1〜3のアルコキ
シ基又は同アルキル基であり、R1″〜R3″の少なくと
も一つは該アルコキシ基である。ただし、R4″はラジ
カルを発生しうる基を少なくとも1つ有する官能基であ
る。
【0031】ラジカルを発生しうる基としては、例えば
有機過酸化エステル基、ハロゲン原子、チオール基等を
含むものが挙げられ、ハロゲン原子を含む炭素数1〜1
8のアルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ
基、芳香族系の炭化水素等、又チオール基を用いること
も可能である。具体的には塩素、臭素などのハロゲンを
有する基、例えばクロロエチレン、ブロモエチレン、ク
ロロプロピレンなどのハロゲンを有する脂肪族系の官能
基、ベンジルクロライド、ベンジルブロマイドなどの芳
香族系ハロゲンを有する脂肪族系の官能基、又はチオー
ル基、トリアジン、ヨードニウム塩などのオニウム塩を
有する官能基などが挙げられる。
【0032】これらの具体的な化合物例を以下に挙げる
が本発明はこれらに限定されるものではない。
【0033】
【化8】
【0034】(タイプ4)本タイプでは、下記〜の
官能基の組み合わせの何れか一方を有する化合物、即ち
各々カルボン酸基−アミノ基、イソシアネート基−
カルボン酸基、アセタール基−アミノ基、カルボン
酸基−アミド基、キレート結合可能な金属−該金属と
キレート結合可能な官能基、の何れか一方を有する化合
物であれば特に制限なく使用でき、又前記組み合わせの
うち、残る一方の官能基を有する化合物を感光層に含有
せしめることを必須の構成要件とするものである。
【0035】カルボン酸基を有する具体的な化合物とし
ては、例えば(OCH33Si(CH23COOH,
(OCH33Si(CH24COOH,(OC25)S
i(CH22COOH,(OC373Si(CH23
COOHなどのカルボン酸基含有シランカップリング
剤、又CH2=CHCOO(CH22COOH,CH2
CHCOO(CH23COOH,CH2=CHCOO
(CH24COOHなどのアクリロイル基を有するカル
ボン酸などが挙げられる。
【0036】イソシアネート基を有する具体的な化合物
としては、例えばOCN(CH23Si(OC
253,OCN(CH24Si(OCH33,OCN
(CH22Si(OCH33などのイソシアネート基を
有するシランカップリング剤、又OCN(CH22CO
O(CH2=CH),OCN(CH23COO(CH2
CH)などのイソシアネート基及び不飽和基を有する化
合物が挙げられる。
【0037】アセタール基を有する具体的な化合物とし
ては、例えば(C25O)2CHCH2Si(OC
33,(C36O)2CH(CH23Si(OC
253などのアセタール基を有するシランカップリン
グ剤、又(C25O)2CHCH2COO(CH2=C
H),(C25O)2CH(CH23COO(CH2=C
H)などのアセタール基及び不飽和基を有する化合物が
挙げられる。
【0038】アミノ基を有する具体的な化合物として
は、例えばNH2(CH23Si(OCH33,CH3
H(CH22Si(OCH33,(CH32NH(CH
22Si(OC252などのシランカップリング剤、
又は(CH32N(CH22COOCH=CH2,(C
3)(C25)N−(CH22−COOCH=CH2
どのアミノ基含有のモノマーが挙げられる。
【0039】アミド基を有する具体的な化合物として
は、例えばNH2CO(CH23Si(OCH33,N
2CO(CH22Si(OC253などのアミド基含
有シランカップリング剤、又NH2CO(CH23CO
OCH=CH2,NH2COCH2COOCH=CH2など
のアミド基含有のモノマーが挙げられる。
【0040】キレート結合可能な金属としては、例えば
Ni(CH23Si(OCH32,Cu(CH23Si
(OCH33,Fe(CH23Si(OCH33が挙げ
られ、又該金属とキレート結合可能な官能基としては、
例えば
【0041】
【化9】
【0042】等が挙げられる。式中、Qは置換基を有し
ていてもよいベンゼン環、ナフタレン環を表し、又R
は、式中のRを有するベンゼン環に置換可能なものであ
れば特に制限なく使用出来る。上記金属とキレート結合
可能な官能基を有する化合物の具体例を以下に挙げる。
【0043】
【化10】
【0044】尚、上記のうち、が特に好ましい。
【0045】上記のタイプ1〜4で挙げた化合物を支持
体との共有結合により設ける方法としては、浸積又は塗
布が挙げられる。浸積する場合には、上記の化合物及び
後述する水溶性樹脂を含む処理剤を水或いは溶剤に溶解
させ、浸積させることにより行なうことができる。浸積
方法としては、従来のPS版で用いられているような浸
積方法を用いることが可能である。又、塗布の場合は、
同水溶性樹脂とともに上記の化合物を水或いは溶剤に溶
解させた後支持体上に塗布を行うことにより、下引き層
として設けることが出来る。尚、支持体は上記のタイプ
1〜4で挙げた化合物と共有結合可能なものを選択する
ことが必要であり、不可能な場合は共有結合可能な処理
を施すことが必要である。
【0046】上記のタイプ1〜4で挙げた化合物と併用
可能な樹脂としては、水溶性樹脂を用いることが可能で
ある。例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドン、水溶性ナイロン、ポリアクリル酸、ポリアクリ
ル酸ナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、ゼラチン、水溶性ポリビニルホルマール、
水溶性ポリビニルアセタール、水溶性ポリビニルブチラ
ール、水溶性ポリエステル、水溶性ポリウレタン、ヒド
ロキシプロピルセルロース又はこれら樹脂を構成するモ
ノマー成分の共重合体、又はこれら樹脂の混合物などが
用いられる。中でも、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステ
ルが好ましい。
【0047】〔2〕感光層 (増感色素)本発明において、感光層に含有される増感
色素としては400〜1100nmにλmaxを有する
ものが使用される。好ましいものとしては、例えばクマ
リン系色素、ピラゾロトリアゾール系色素、バルビツー
ル酸系色素又はベンゾピラン系色素が挙げられる。
【0048】クマリン系色素の例としては、下記の一般
式(4)で表される化合物が挙げられる。
【0049】
【化11】
【0050】式中、Aは、炭素原子又はヘテロ原子の総
数が5〜15個の複素環基、−Z−R6(R6は、炭素原
子1〜10のアルキル基、同アルケニル基、同アルコキ
シ基、炭素原子6〜12のアリール基、同アリールオキ
シ基、環を合成する炭素原子数とヘテロ原子の合計が5
〜15の複素環基或いは水酸基を、又Zはカルボニル
基、アミド基、ウレイド基、カルバモイル基、スルホニ
ル基、スルフィニル基を表す。)を表し、R1は水素原
子、シアノ基、R2〜R5は水素原子、アリールアミノ
基、アシル基、カルボン酸基、アルキルオキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、アリール基、アル
キルウレイド基、アリールウレイド基を表す。
【0051】クマリン系色素の具体例を以下に示す。
【0052】
【化12】
【0053】ピラゾロトリアゾール系色素としては、例
えば特願平8−54648号に記載のものが好適に使用
出来る。具体的には、下記一般式(5)及び(6)で表
される化合物が挙げられる。
【0054】
【化13】
【0055】式中、Z1、Z2及びZ3は各々、−N=又
は−C(R2)=を表し、R1及びR2は各々、水素原子
又は1価の置換基を表し、L1及びL2は各々メチン基を
表し、B1及びB2は各々、5〜6員の芳香族環残基又は
複素環残基を表す。
【0056】又、下記一般式(7)は一般式(5)及び
一般式(6)の部分構造を表す。
【0057】
【化14】
【0058】式中、Z1、Z2、Z3及びR1は、それぞれ
前記一般式(5)、一般式(6)のZ1、Z2、Z3及び
1と同義である。一般式(7)で表される部分構造の
中でも、下記一般式(7−1)〜(7−6)で表される
ものが更に好ましい。
【0059】
【化15】
【0060】式中、R11、R12、R13、R14、R15及び
16は各々、水素原子又は非金属の置換基を表す。
【0061】一般式(5)及び(6)中のB1及びB2
表される5〜6員の芳香族環残基又は複素環残基の具体
例として以下の如き基が挙げられる。
【0062】
【化16】
【0063】構造中、R17は水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アリール基、−OR18、−SR18、−N
(R19)(R20)を表し、R18、R19及びR20は各々、
水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、pは0〜
4の整数、qは0〜3の整数、rは0〜2の整数を表
す。p、q、rが、それぞれ2以上の時、複数個のR17
は同じでも異なってもよく、又、互いに結合して環を形
成してもよい。
【0064】一般式(5)〜(8)中、R1、R2
11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R
19及びR20で表されるアルキル基は、炭素数1〜12の
鎖状又は環状のアルキル基(メチル、エチル、ベンジ
ル、フェネチル、プロピル、ブチル、i−ブチル、ペン
チル、ヘキシル、オクチル、ノニル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシル等)が好ましく、置換
基を有していてもよい。
【0065】R1、R2、R11〜R20で表されるアリール
基は、炭素数6〜12のアリール基(フェニル、ナフチ
ル等)が好ましく、置換基を有していてもよい。
【0066】R1、R2、R11、R12、R13、R14、R15
及びR16で表される複素環基は、5〜6員の複素環(オ
キサゾール、ベンゾオキサゾール、チアゾール、イミダ
ゾール、ピリジン、フラン、チオフェン、スルホラン、
ピラゾール、ピロール、クロマン、クマリン等の環)残
基が好ましく、置換基を有していてもよい。
【0067】R1、R2、R11〜R16で表されるアルケニ
ル基は、炭素数2〜12のアルケニル基(ビニル、アリ
ル、1−プロペニル、2−ペンテニル、1,3−ブタジ
エニル等)が好ましい。
【0068】R13、R14、R15及びR16で表されるハロ
ゲン原子としては、弗素、塩素又は臭素が好ましい。
【0069】L1、L2で表されるメチン基は、無置換で
も置換されていてもよい。
【0070】上記の各基が有してもよい置換基として
は、例えばカルボキシル基、炭素数1〜12のスルホン
アミド基(メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド、ブタンスルホンアミド、オクタンスルホンアミド
等)、炭素数0〜12のスルファモイル基(スルファモ
イル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイ
ル、ブチルスルファモイル等)、炭素数2〜12のスル
ホニルカルバモイル基(メタンスルホニルカルバモイ
ル、プロパンスルホニルカルバモイル、ベンゼンスルホ
ニルカルバモイル等)、炭素数1〜12のアシルスルフ
ァモイル基(アセチルスルファモイル、プロピオニルス
ルファモイル、ピバロイルスルファモイル、ベンゾイル
スルファモイル等)、炭素数1〜12の鎖状又は環状の
アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、ブチル、
ヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、2−ヒドロキシエチル、4−カルボキシブチ
ル、2−メトキシエチル、ベンジル、フェネチル、4−
カルボキシベンジル、2−ジエチルアミノエチル等)、
炭素数2〜12のアルケニル(ビニル、アリル、ブテニ
ル等)、炭素数1〜12のアルコキシ基(メトキシ、エ
トキシ、ブトキシ等)、ハロゲン原子(弗素、塩素、臭
素等)、炭素数0〜12のアミノ基(アミノ、ジメチル
アミノ、ジエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ
等)、炭素数2〜12のエステル基(メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル等)、炭素数l〜12のアミド
基(アセチルアミノ、ペンズアミド等)、炭素数1〜1
2のカルバモイル基(カルバモイル、メチルカルバモイ
ル、フェニルカルバモイル等)、炭素数6〜12のアリ
ール基(フェニル、ナフチル、4−カルボキシフェニ
ル、3,5−ジカルボキシフェニル、4−メトキシフェ
ニル、4−メタンスルホンアミドフェニル等)、炭素数
6〜10のアリールオキシ基(フェノキシ、4−カルボ
キシフェノキシ、4−メチルフェノキシ、ナフトキシ
等)、炭素数1〜8のアルキルチオ基(メチルチオ、エ
チルチオ、オクチルチオ等)、炭素数6〜10のアリー
ルチオ基(フェニルチオ、ナフチルチオ等)、炭素数1
〜10のアシル基(アセチル、ベンゾイル、プロパノイ
ル、ピバロイル等)、炭素数1〜10のスルホニル基
(メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル等)、炭素数
1〜10のウレイド基(ウレイド、メチルウレイド
等)、炭素数2〜10のウレタン基(メトキシカルボニ
ルアミノ、エトキシカルボニルアミノ等)、シアノ基、
ヒドロキシル基、ニトロ基、複素環基(5−カルボキシ
ベンゾオキサゾール、ピリジン、スルホラン、フラン、
ピロール、ピロリジン、モルホリン、ピペラジン、ピリ
ミジン等の残基)等を挙げることができる。
【0071】R11とR12、R13とR14、R14とR15ある
いはR15とR16が互いに連結して形成される5又は6員
環としては、ピロリジン、ピペリジン、ベンゼン、モル
ホリン等の各環を挙げることができる。
【0072】これらの増感色素の中でも、下記一般式
(G)で表される色素は単独でラジカル発生能を有する
ので好ましい。
【0073】
【化17】
【0074】式中、R1、R2、L1、L2及びB2は、そ
れぞれ前記一般式(6)におけるR1、R2、L1、L2
びB2と同義である。
【0075】以下に一般式(5)又は(6)で表される
ピラゾロトリアゾール系色素の代表化合物例を挙げる。
【0076】
【化18】
【0077】
【化19】
【0078】
【化20】
【0079】
【化21】
【0080】
【化22】
【0081】
【化23】
【0082】
【化24】
【0083】
【化25】
【0084】
【化26】
【0085】又バルビツール酸系色素としては、下記の
構造の色素を用いることが好ましい。
【0086】
【化27】
【0087】
【化28】
【0088】
【化29】
【0089】
【化30】
【0090】
【化31】
【0091】
【化32】
【0092】
【化33】
【0093】ベンゾピラン系色素としては、下記一般式
(9)で表される化合物が好適に使用出来る。
【0094】
【化34】
【0095】R1、R4〜R7はシアノ基、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、エステ
ル基、カルボン酸基、アルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、R2、R3はそれぞれ独立して水素原子、置
換されてもよい直鎖又は分岐したアルキル基、アリール
基、シクロアルキル基などである。Xは、酸素原子又は
イミノ基、Y、Zは窒素原子を表す。又、R6〜R7が縮
合した環を形成してもよい。
【0096】ベンゾピラン系色素の具体的な化合物例を
以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
【0097】
【化35】
【0098】(ラジカル発生剤)本発明において、感光
層に含有されるラジカル発生剤としては、例えば有機過
酸化物、トリアジン、ヨードニウム塩、鉄アレーン錯体
又はチタノセン化合物から選ばれることが好ましい。
【0099】有機過酸化物としては、特開昭59−15
04号及び特開昭61−243807号記載の有機過酸
化物を用いることができる。それらは、分子中に酸素−
酸素混合結合を一個以上有する有機過酸化物である。具
体的な化合物としては、例えばメチルエチルケトンパー
オキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、
シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキ
サイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパー
オキサイドなどのケトンパーオキサイド、アセチルパー
オキサイド、プロピオニルパーオキサイド、イソブチル
パーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、3,
5,5−トリメチルヘキサノイル、デカノイルパーオキ
サイド、ウラロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーキ
サイド、ベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクロロ
ベンゾイルパーオキサイド、アセチルシクロヘキサンス
ルホニルパーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド
類、tert−ブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒ
ドロパーオキサイドジイソプロピルベンゼンヒドロパー
オキサイド、p−メタンヒドロパーオキサイド、2,5
−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイ
ド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロパーオ
キサイドなどのヒドロパーオキサイド類、ジ−tert
−ブチルパーオキサイド、tert−ブチルクミルパー
オキサイド、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキ
シイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5
−ジ(tert−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリ
メチルシクロヘキサン、n−ブチル−4,4′−ビス
(tert−ブチルパーオキシ)ブタンなどのパーオキ
シケタール類、tert−ブチルパーオキシアセテー
ト、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、te
rt−ブチルパーオキシオクトエート、tert−ブチ
ルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシ
ネオデカネート、tert−ブチルパーオキシ−3,
5,5−トリメチルヘキサノエート、tert−ブチル
パーオキシベンゾエートジ−tert−ブチルパーオキ
シフタレート、tert−ブチルパーオキシイソフタレ
ート、tert−ブチルパーオキシラウレート、2,5
−ジメチル−2,5−ジベンゾイルパーオキシヘキサン
などのアルキルパーエステル類、ジ−2−エチルヘキシ
ルパーオキシジカーボネート、ジ−イソプロピルパーオ
キシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシカ
ーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネー
ト、ジ−メトキシイソプロピルパーオキシジカーボネー
ト、ジ−3−メトキシブチルパーオキシジカーボネー
ト、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネー
ト、ビス−(4−tert−ブチルシクロヘキシル)パ
ーオキシジカーボネートなどのパーオキシカーボネート
類、コハク酸パーオキシキサイドに代表される水溶性パ
ーオキサイド類が挙げられる。好ましくは、特に、下記
の構造の有機過酸化物を用いることができる。
【0100】
【化36】
【0101】鉄アレーン錯体としては下記の構造のもの
が挙げられるが、特にT−4が好ましい。
【0102】
【化37】
【0103】チタノセン化合物としては、前記した増感
色素との共存下で光照射した場合、活性ラジカルを発生
し得るものであればよく、例えば特開昭59−1523
96号、特開昭61−151197号に記載されている
公知の化合物を適宜に選択して用いることができる。更
に具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−
クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル
(以下A−1と記す)、ジ−シクロペンタジエニル−T
i−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ
−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−
ペンタフルオロフェニ−1−イル(以下A−2と記
す)、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ
−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−
ジフルオロフェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエ
ニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−
イル)フェニル)チタニウム(以下A−3と記す)等を
挙げることができる。
【0104】トリアジンとしては、例えば、ハロゲン置
換アルキル基を有するものが好ましく、特に以下の一般
式(10)で表されるs−トリアジン類が好ましい。
【0105】
【化38】
【0106】式中、Rはアルキル基、ハロゲン置換アル
キル基、アルコキシ基で置換されていてもよいフェニル
ビニレン基又はアリール基(例えば、フェニル基、ナフ
チル基等)若しくは置換体を表し、Xはハロゲン原子を
表す。一般式(10)で表されるs−トリアジン類の具
体的例示化合物を以下に示す。
【0107】
【化39】
【0108】
【化40】
【0109】本発明ではオニウム塩を用いることができ
る。オニウム塩としては、ヨードニウム塩、スルフォニ
ウム塩、ホスフォニウム塩、スタンノニウム塩などが挙
げられる。特公昭55−39162号、特開昭59−1
4023号並びに「マクロモレキュルス(Macrom
olecules)、第10巻、第1307頁(197
7年)記載の各種オニウム化合物を用いることが可能で
ある。ヨードニウム塩としては、好ましくはジアリール
ヨードニウム塩を用いることができる。例えば、ジフェ
ニルヨードニウム塩、ジトリルヨードニウム塩、フェニ
ル(p−メトキシフェニル)ヨードニウム塩、ビス(m
−ニトロフェニル)ヨードニウム塩、ビス(p−ter
t−ブチルフェニル)ヨードニウム塩、ビス(p−シア
ノフェニル)ヨードニウム塩等のクロリド、ブロミド、
四フッ化ホウ素塩、六フッ化ホウ素塩、六フッ化リン
塩、六フッ化ヒ素塩、六フッ化アントモン塩、過塩素酸
塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸
塩、p−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸塩、n
−ブチルトリフェニルホウ素塩等が挙げられる。
【0110】本発明において、エチレン性不飽和結合を
分子中に有する光重合可能な化合物(以下、単にエチレ
ン性不飽和結合を有する化合物とする)としては公知の
モノマーが特に制限なく使用することができる。例えば
2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
ルアクルレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート
等の単官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこ
れらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、
クロトネート、マレエート等に代えた化合物、ポリエチ
レングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトール
ジアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ヒ
ドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプ
ロラクトン付加物のジアクリレート等の2官能アクリル
酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレート
をメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレ
エート等に代えた化合物、或いはトリメチロールプロパ
ントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート、ピロガロールトリアクリレート等の多官能
アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアク
リレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネー
ト、マレエート等に代えた化合物等を挙げることができ
る。又適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、又はメ
タアクリル酸を導入し、光重合性を付与した、いわゆる
プレポリマーと呼ばれるものも好適に使用できる。この
他に特開昭58−212994号、同61−6649
号、同62−46688号、同62−48589号、同
62−173295号、同62−187092号、同6
3−67189号、特開平1−244891号等に記載
の化合物などを挙げることができ、更に「11290の
化学商品」化学工業日報社、p.286〜p.294に
記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料
編)」高分子刊行会、p.11〜65に記載の化合物な
ども本発明においては好適に用いることができる。これ
らの中で、分子内に2個以上のアクリル基又はメタクリ
ル基を有する化合物が本発明においては好ましく、更に
分子量が10,000以下、より好ましくは5,000
以下のものが好ましい。又本発明ではこれらのモノマー
或いはプレポリマーのうち1種又は2種以上を混合して
用いることができる。
【0111】感光層には、上記の構成要件以外に他の組
成物を含有せしめることも可能であり、例えば重合禁止
剤(重合防止剤)、バインダー及び可視画剤等が挙げら
れる。
【0112】重合禁止剤のうち、熱重合防止剤は保存時
の重合を防止する目的で添加することが可能である。具
体例としては、p−メトキシフェノール、ハイドロキノ
ン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコール、ter
t−ブチルカテコール、フェノチアジン等をあげること
ができる。更に、硫黄化合物、及びリン化合物を単独又
は併用させて用いることもできる。これらの熱重合防止
剤は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有す
る化合物100重量部に対して0.001から5重量部
の範囲で添加されるのが好ましい。
【0113】本発明で用いることが可能なバインダーと
しては、バインダーとして機能するものであればその種
類は任意であるが、酸価が20〜250の範囲の親油性
高分子化合物が好ましい。
【0114】これら、高分子化合物(高分子重合体)と
しては、例えばポリアミド、ポリエステル、ポリカーボ
ネート、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリビニルクロ
ライド及びそのコポリマー、ポリビニルブチラール樹
脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。
これらの中で好ましい高分子化合物は、下記(1)〜
(17)に記載のモノマーの混合物を共重合して得られ
た共重合高分子化合物である。上記モノマー混合物に
は、モノマーと共重合し得る他のモノマーを混合しても
よい。又、高分子化合物は、上記モノマーの共重合体に
よって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレート等によって修飾したも
のであってもよい。
【0115】(1)芳香族水酸基を有するモノマー:例
えば、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ンm−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシフェニルア
クリレート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、m
−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【0116】(2)脂肪族水酸基を有するモノマー:例
えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、N−メチロールアクリルア
ミド、N−メチロールメタクリルアミド、4−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルアク
リレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、6
−ヒドロキシヘキシルアクリレート、6−ヒドロキシヘ
キシルメタクリレート、N−(2−ヒドロキシエチル)
アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)メタク
リルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【0117】(3)アミノスルホニル基を有するモノマ
ー:例えば、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミ
ノフェニルアクリレート、N−(p−アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)アクリルアミド等。
【0118】(4)スルホンアミド基を有するモノマ
ー:例えば、N−(p−トルエンスルホニル)アクリル
アミド、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルア
ミド等。
【0119】(5)α、β−不飽和カルボン酸類:例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
【0120】(6)置換又は無置換のアルキルアクリレ
ート:例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア
ミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アク
リル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル
酸−2−クロロエチル、N、N−ジメチルアミノエチル
アクリレート、グリシジルアクリレート等。
【0121】(7)置換又は無置換のアルキルメタクリ
レート:例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル
酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニ
ル、メタクリルデシル、メタクリル酸ウンデシル、メタ
クリル酸ウンデシル、メタクリル酸ドデシル、メタクリ
ル酸ベンジル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリ
ル酸−2−クロロエチル、N、N−ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等。
【0122】(8)アクリルアミド若しくはメタクリル
アミド類:例えば、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルアクリル
アミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−フェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−
(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド等。
【0123】(9)フッ化アルキル基を含有するモノマ
ー:例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフ
ルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピル
メタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレー
ト、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフル
オロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、N−ブチル−N−(2−アクリロキ
シエチル)ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド
等。
【0124】(10)ビニルエーテル類:例えば、エチ
ルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、
プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。
【0125】(11)ビニルエステル類:例えば、ビニ
ルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレ
ート、安息香酸ビニル等。
【0126】(12)スチレン類:例えば、スチレン、
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【0127】(13)ビニルケトン類:例えば、メチル
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン等。
【0128】(14)オレフィン類:例えば、エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等。
【0129】(15)側鎖に複数環を有するビニル化合
物:N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、
4−ビニルピリジン等。
【0130】(16)シアノ基を有するモノマー:例え
ばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、2−ペンテ
ンニトリル、2−メチル−3−ブテンニトリル、2−シ
アノエチルアクリレート、o−シアノスチレン、m−シ
アノスチレン、p−シアノスチレン等(17)アミノ基
を有するモノマー:例えばN,N−ジエチルアミノエチ
ルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアク
リレート、N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ポリブタジエンウレタンアクリレート、N,N−ジ
メチルアミノプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチ
ルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N−イソ
プロピルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルア
ミド等。
【0131】上記共重合体は、ゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー(GPC)によって測定された重量平
均分子量が1万〜20万であるものが好ましいが、重量
平均分子量はこの範囲に限定されるものではない。上記
高分子重合体には、必要に応じて、ポリビニルブチラー
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエス
テル樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂
等、他の任意の高分子重合体を併用してもよい。感光層
中の感光性組成物におけるこれら高分子重合体の含有量
は、20〜90重量%の範囲が好ましく、30〜70重
量%の範囲が更に好ましい。
【0132】本発明における感光層組成物には、必要で
あれば可視画性を付与するために可視画剤を添加するこ
とが可能である。例えば染料又は顔料等を用いることが
できるが、特に用いる露光手段の露光波長に吸収のない
もので、かつ可視画性を有するものが好ましい。染料と
しては600〜700nmに吸収を有し、吸光係数の大
きいものがより好ましい。又、本発明においては更に重
合を促進する目的でアミンやチオール、ジスルフィド等
に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等を添加するこ
とが可能である。添加可能な重合促進剤や連鎖移動触媒
の具体例としては、例えば、N−フェニルグリシン、ト
リエタノールアミン、N,N−ジエチルアニリン等のア
ミン類、USP4、414、312号や特開昭64−1
3144号記載のチオール類、特開平2−29161号
記載のジスルフィド類、USP3,558,322号や
特開昭64−17048号記載のチオン類、特開平2−
291560号記載のo−アシルチオヒドロキサメート
やN−アルコキシピリジンチオン類が挙げられる。
【0133】本発明の感光層組成物は更に目的に応じ
て、染料、有機及び無機顔料、ホスフィン、ホスホネー
ト、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防止
剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、界
面活性剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、発泡剤、防カビ剤帯電防止剤、磁性
体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤等と
混合して使用しても良い。
【0134】支持体のうち、親水性支持体としては例え
ばアルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金
属板、例えばポリエステルフィルム、ポリエチレンフィ
ルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィル
ムに前述の金属薄膜をラミネート又は蒸着したもの、例
えばポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイ
ロンフィルム等の表面を親水化処理を施したもの等が挙
げられる。前述のプラスチックフィルムの親水化処理方
法としては、硫酸処理、酸素プラズマエッチング処理、
コロナ放電処理、水溶性樹脂層塗布層を設ける等が好ま
しく用いられる。印刷版としては、表面を砂目立て、陽
極酸化処理、封孔処理を施したアルミニウム板が特に好
ましい。
【0135】砂目立て処理の方法としては、例えば機械
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独或いは組合わせて用いることができる。又電解
によりエッチングするには、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸
等の無機の酸を単独乃至2種以上混合した浴を用いて行
われる。砂目立て処理の後、必要に応じてアルカリ或い
は酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和して水
洗する。
【0136】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は1〜50m
g/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/
dm2であり、特に好ましくは25〜40mg/dm2
ある。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリン
酸クロム酸浴液(リン酸85%液:35ml、酸化クロ
ム(IV):20gを1lの水に溶解して作製)に浸漬
し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変化測
定から求められる。
【0137】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。親水
性支持体はその表面の水に対する接触角が60度以下、
より好ましくは40度以下である。親水性支持体の厚さ
は、50〜1000μm、好ましくは75〜500μm
の範囲である。
【0138】本発明における感光層組成物は低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボ
ンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングス
テンランプ、アルゴンイオンレーザ、ヘリウムカドニウ
ムレーザ、ヘリウムネオンレーザ、クリプトンイオンレ
ーザ、各種半導体レーザ、YAGレーザ、発光ダイオー
ド、CRT光源、プラズマ光源等の各種光源を用いた露
光により、目的とする重合物や硬化物を得ることができ
る。故に、バインダーその他とともに基板上に塗布して
各種インキ、各種刷版材料、各種プルーフ材料、フォト
レジスト、電子写真、ダイレクト刷版材料、ホログラム
材料等の感光材料やマイクロカプセル等の各種記録媒
体、更には接着剤、粘着剤、粘接着剤、封止剤及び各種
塗料に応用することも可能である。
【0139】本発明の感光性平版印刷板における画像記
録用レーザー光源としては、半導体レーザー、YAGレ
ーザー、炭酸ガスレーザー、ヘリウムネオンレーザーな
どが挙げられる。半導体レーザーの中では、光学効率を
大幅に低下させることなく、又焦点において数μm〜数
十μmに絞り込み易いものとして、いわゆるシングルモ
ードレーザーダイオードを用いることが好ましい。レー
ザー以外の光源としては発光ダイオード(LED)が挙
げられる。複数の発光素子を集積したアレイとして使用
しやすいものは、LED及び半導体レーザーである。光
源の波長として400〜550nm前後のものが求めら
れるときは、半導体レーザー又はYAGレーザーと非線
形光学効果を有する素子を組合せて、半波長に変換する
ことも可能である。
【0140】レーザーの走査方法としては、円筒外面走
査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査
では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させな
がらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査としレ
ーザー光の移動を副走査とする。円筒内面走査では、ド
ラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側
から照射し、光学系の一部又は全部を回転させることに
より円周方向に主走査を行ない、光学系の一部又は全部
をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向
に副走査を行なう。平面走査では、ポリゴンミラーやガ
ルバノミラーとfθレンズ等を組み合わせてレーザー光
の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。
円筒外面走査及び円筒内面走査の方が光学系の精度を高
め易く、高密度記録には適している。円筒外面走査の場
合、ドラムの回転速度を上げることにより走査速度を上
げることは容易であるが、回転速度の上昇は記録材料に
帯電を生じ易く、これによって埃が吸い寄せられ画像欠
陥が発生する。複数の発光素子を同時に使用する、いわ
ゆるマルチチャンネル露光の場合、円筒外面走査が最も
適している。
【0141】本発明の感光性平版印刷版における現像
液、補充液としては、従来より知られているアルカリ水
溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、第二燐酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、重炭酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム及
び同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。又、
モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミ
ン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパ
ノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピ
リジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのア
ルカリ剤は、単独もしくは二種以上組合せて用いられ
る。又、該現像液中に必要に応じ、アニオン性界面活性
剤、両性活性剤やアルコール等の有機溶媒を加えること
ができる。
【0142】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、以下の
「部」は「重量部」を表す。
【0143】実施例1 〈感光性平版印刷版の作製〉 (支持体の表面処理方法)支持体の表面処理方法として
は下記のように行った。
【0144】表面を砂目立て、陽極酸化処理、封孔処理
を施したアルミニウム板の表面に陽極酸化被覆量が50
mg/dm2となるようにシリケート処理を行い、更に
下記組成の表面処理剤を70℃に上昇させて、アルミニ
ウム板を20秒間浸積させた。その際、下引き方法とし
てはアルミニウム板を下引き処理液中で約25秒間浸積
させ、その後水を入れた処理槽中で10秒間浸積し、水
洗を行った。
【0145】 (下引き層液処方) 共有結合可能な化合物(アミノ系のカップリング剤 S−1) 1部 水 999部 下引き層が施されたアルミ支持体上に、下記処方の感光
層塗布液を膜厚が約1.3g/m2となるように塗布し
た。感光層塗布液は塗布後に95℃で90秒間乾燥し
た。
【0146】 (感光層塗布液処方) U324A(新中村化学株式会社製) 28部 DPHA(日本化薬) 28部 フッ素系界面活性剤(FC431 住友3M株式会社製) 1部 増感色素 K−3 1部 ラジカル発生剤 BTTB 4部 バインダー 30部 メチルエチルケトン 270部 シクロペンタノン 90部 フタロシアニン系顔料 (0.3μm MHI454御国色素株式会社) 6部 下記処方の保護層塗布液を膜厚が約1.5g/cm2
なるように感光層上に塗布し、感光性平版印刷版1を得
た。保護層塗布液は塗布後に70℃で90秒間乾燥し
た。
【0147】 (保護層塗布液処方) ポリビニルアルコール 99部 F142D(フッ素系界面活性剤/大日本インキ株式会社製) 1部 水 900部 上記感光性平版印刷版1の共有結合可能な化合物、増感
色素、ラジカル発生剤を表1の如く変更して感光性平版
印刷版2〜16を得た。尚、感光性平版印刷版16は比
較例である。
【0148】〈露光、現像処理〉得られた感光性平版印
刷版2〜16を保護層側が光源側になるようにドラムに
巻き付け、ドラムを回転しながら30mWアルゴンイオ
ンレーザーを露光した。
【0149】露光後、自動現像機に挿入して現像した。
現像液の温度は35℃、又現像時間は20秒に保った。
尚、自動現像機は大日本スクリーン社製を使用した。
【0150】〈評価〉露光、現像処理後の平版印刷版に
対し、以下の評価を行った。
【0151】(初期感度)レーザー光強度はガウス分布
していると考えて、ドラムの回転数を一定にして、レー
ザー光強度の1/e2に相当するところの線幅と形成さ
れた画像の線幅が等しいところの光強度(μW/c
2)を求め、照射時間との積からエネルギー値を求め
た。
【0152】(保存性)平版印刷版を温度40℃、湿度
80%の環境下で3日間恒温槽中に保存し、その後上記
と同様にして感度を求めた。又、未露光部については、
現像後に印刷機で印刷を行い印刷版へのインキの付き量
を評価した。インキが付着していないものは保存性(汚
れ)が良好である。
【0153】(耐刷性)レーザー光で3%に相当する網
点面積率をドットアナライザーを用いて測定した。10
0枚印刷するごとに網点面積率を測定し、網点面積率が
1%以下に相当する時点での印刷枚数を示す。
【0154】得られた結果を以下の表1に示す。
【0155】
【表1】
【0156】表1から明らかなように、共有結合可能な
化合物を有する感光性平版印刷版1〜15は10万枚以
上の印刷でも優れた耐刷性を示し、又初期感度のみなら
ず、保存後の感度変化がなく汚れも発生しないなど保存
性も改善されており、比較例に対し、優れていることが
明白である。
【0157】
【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版により、感光
層と支持体との接着性の向上、そして優れた保存性を両
立して達成し得るという顕著に優れた効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08F 2/44 C08F 2/44 B 291/00 291/00

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 置換又は未置換のアミノ基を有する化合
    物を支持体との共有結合により設け、更に400〜11
    00nmにλmaxを有する増感色素、ラジカル発生剤
    及びエチレン性不飽和結合を分子中に有する光重合可能
    な化合物を含有する感光層を設けてなることを特徴とす
    る感光性平版印刷版。
  2. 【請求項2】 上記置換又は未置換のアミノ基を有する
    化合物がシランカップリング剤を含有することを特徴と
    する請求項1記載の感光性平版印刷版。
  3. 【請求項3】 上記置換又は未置換のアミノ基を有する
    化合物が支持体と感光層との間に設けられた層に含有さ
    れてなることを特徴とする請求項1又は2記載の感光性
    平版印刷版。
  4. 【請求項4】 極性基を有する化合物を支持体との共有
    結合により設け、更に400〜1100nmにλmax
    を有する増感色素、ラジカル発生剤及びエチレン性不飽
    和結合を分子中に有する光重合可能な化合物を含有する
    感光層を設けてなることを特徴とする感光性平版印刷
    版。
  5. 【請求項5】 上記極性基を有する化合物がシランカッ
    プリング剤を含有することを特徴とする請求項4記載の
    感光性平版印刷版。
  6. 【請求項6】 上記極性基が水酸基、カルボン酸基、ス
    ルフォン酸基、燐酸基及び4級アンモニウム塩基から選
    ばれることを特徴とする請求項4又は5記載の感光性平
    版印刷版。
  7. 【請求項7】 上記極性基を有する化合物が支持体と感
    光層との間に設けられた層に含有されてなることを特徴
    とする請求項4乃至6の何れか1項記載の感光性平版印
    刷版。
  8. 【請求項8】 ラジカルを発生しうる基を有する化合物
    を支持体との共有結合により設け、更に400〜110
    0nmにλmaxを有する増感色素、ラジカル発生剤及
    びエチレン性不飽和結合を分子中に有する光重合可能な
    化合物を含有する感光層を設けてなることを特徴とする
    感光性平版印刷版。
  9. 【請求項9】 上記ラジカルを発生しうる基を有する化
    合物がシランカップリング剤を含有することを特徴とす
    る請求項8記載の感光性平版印刷版。
  10. 【請求項10】 上記ラジカルを発生しうる基が有機過
    酸化エステル基、ハロゲン原子、チオール基から選ばれ
    ることを特徴とする請求項8又は9記載の感光性平版印
    刷版。
  11. 【請求項11】 下記〜の官能基の組み合わせの何
    れか一方を有する化合物を支持体との共有結合により設
    け、更に前記組み合わせの残る官能基を有する化合物、
    400〜1100nmにλmaxを有する増感色素、ラ
    ジカル発生剤及びエチレン性不飽和結合を分子中に有す
    る光重合可能な化合物を含有する感光層を設けてなるこ
    とを特徴とする感光性平版印刷版。(カルボン酸基−
    アミノ基、イソシアネート基−カルボン酸基、アセ
    タール基−アミノ基、カルボン酸基−アミド基、キ
    レート結合可能な金属−該金属とキレート結合可能な官
    能基)
  12. 【請求項12】 前記支持体との共有結合により設けら
    れた化合物が、支持体と感光層との間に設けられた層に
    含有されてなることを特徴とする請求項11記載の感光
    性平版印刷版。
  13. 【請求項13】 前記増感色素がクマリン系色素、ピラ
    ゾロトリアゾール系色素、バルビツール酸系色素又はベ
    ンゾピラン系色素から選ばれることを特徴とする請求項
    1乃至12の何れか1項記載の感光性平版印刷版。
  14. 【請求項14】 前記ラジカル発生剤が有機過酸化物、
    トリアジン、ヨードニウム塩、金属アレーン錯体又はチ
    タノセン化合物から選ばれることを特徴とする請求項1
    乃至13の何れか1項記載の感光性平版印刷版。
  15. 【請求項15】 支持体と感光層との間に設けられた層
    中に水溶性樹脂を含有してなることを特徴とする請求項
    1乃至14の何れか1項記載の感光性平版印刷版。
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