JPH11246568A - ３−アミノ−１，２−ジオール誘導体の製造方法 - Google Patents
３−アミノ−１，２−ジオール誘導体の製造方法Info
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- JPH11246568A JPH11246568A JP10066266A JP6626698A JPH11246568A JP H11246568 A JPH11246568 A JP H11246568A JP 10066266 A JP10066266 A JP 10066266A JP 6626698 A JP6626698 A JP 6626698A JP H11246568 A JPH11246568 A JP H11246568A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Abstract
(57)【要約】
【目的】３−アミノ−１，２−ジオール誘導体の製造方
法 【構成】β−アミノ−α−ヒドロキシルアルデヒド誘導
体に有機亜鉛化合物を付加させると、立体選択的に３−
アミノ−１，２−ジオール誘導体が製造できる。
法 【構成】β−アミノ−α−ヒドロキシルアルデヒド誘導
体に有機亜鉛化合物を付加させると、立体選択的に３−
アミノ−１，２−ジオール誘導体が製造できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品の重要中間
体、例えば、降圧剤レニン阻害剤の合成中間体、ＨＩＶ
プロテアーゼ阻害剤の合成中間体として有用な、３−ア
ミノ−１，２−ジオール誘導体の製造方法に関するもの
である。
体、例えば、降圧剤レニン阻害剤の合成中間体、ＨＩＶ
プロテアーゼ阻害剤の合成中間体として有用な、３−ア
ミノ−１，２−ジオール誘導体の製造方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】３−アミノ−１，２−ジオール誘導体の
製法としては、出発原料としてα−アミノ酸を用い、α
−アミノアルデヒドを中間体としてシアノヒドリンに変
換した後、グリニャ−ル反応によりケトン体に導き、還
元する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、５３巻、６１０
９ページ、１９８８年）、α−アミノアルデヒドをオレ
フィンに変換した後、四酸化オスミウム酸化でジオール
へ導く方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔ
ｒｙ、５巻、６２５ページ、１９９４年）、アリルアル
コールをエポキシアルデヒドとした後にアジド化する方
法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、５０巻、６１６３ペー
ジ、１９９４年）、酒石酸やリボースを出発原料として
２つの水酸基の立体をそのまま利用する方法（Ｃｈｅ
ｍ．Ｌｅｔｔ．、１７０９ページ、１９９０年、Ｔｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．、３３巻、３５６７ペー
ジ、１９９２年）等が既に報告されている。
製法としては、出発原料としてα−アミノ酸を用い、α
−アミノアルデヒドを中間体としてシアノヒドリンに変
換した後、グリニャ−ル反応によりケトン体に導き、還
元する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、５３巻、６１０
９ページ、１９８８年）、α−アミノアルデヒドをオレ
フィンに変換した後、四酸化オスミウム酸化でジオール
へ導く方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔ
ｒｙ、５巻、６２５ページ、１９９４年）、アリルアル
コールをエポキシアルデヒドとした後にアジド化する方
法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、５０巻、６１６３ペー
ジ、１９９４年）、酒石酸やリボースを出発原料として
２つの水酸基の立体をそのまま利用する方法（Ｃｈｅ
ｍ．Ｌｅｔｔ．、１７０９ページ、１９９０年、Ｔｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．、３３巻、３５６７ペー
ジ、１９９２年）等が既に報告されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記のα−アミノアル
デヒドを中間体とする方法は、α−アミノアルデヒド自
体が不安定であり、アミノ基の不斉をもとにα位、β位
の２つの水酸基を立体選択的に構築することは非常に困
難である。アリルアルコールを出発原料とする場合も、
エポキシアルデヒドのグリニャ−ル反応における立体選
択性は低い。また、酒石酸やリボースを出発原料とする
方法は、２つの水酸基の立体をそのまま利用できるとい
う利点はあるが、工程数が長いという問題がある。
デヒドを中間体とする方法は、α−アミノアルデヒド自
体が不安定であり、アミノ基の不斉をもとにα位、β位
の２つの水酸基を立体選択的に構築することは非常に困
難である。アリルアルコールを出発原料とする場合も、
エポキシアルデヒドのグリニャ−ル反応における立体選
択性は低い。また、酒石酸やリボースを出発原料とする
方法は、２つの水酸基の立体をそのまま利用できるとい
う利点はあるが、工程数が長いという問題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく研究を重ねた結果、一般式［２］：
題を解決すべく研究を重ねた結果、一般式［２］：
【化２】（一般式［２］中、Ｒ1はアルキル基、アリー
ル基、Ｒ2はスルホニル基などのアミノ基の保護基、Ｒ3
はシリル基、アリールメチル基などの水酸基の保護基を
示す。）で表わされるβ−アミノ−α−ヒドロキシルア
ルデヒド誘導体に、塩化亜鉛とアルキルまたはアリール
グリニャ−ル化合物から調製した有機亜鉛化合物を付加
させると、立体選択的に一般式［１］：
ル基、Ｒ2はスルホニル基などのアミノ基の保護基、Ｒ3
はシリル基、アリールメチル基などの水酸基の保護基を
示す。）で表わされるβ−アミノ−α−ヒドロキシルア
ルデヒド誘導体に、塩化亜鉛とアルキルまたはアリール
グリニャ−ル化合物から調製した有機亜鉛化合物を付加
させると、立体選択的に一般式［１］：
【化１】（一般式［１］中、Ｒ1、Ｒ4はアルキル基、ア
リール基、Ｒ2はスルホニル基などのアミノ基の保護
基、Ｒ3はシリル基、アリールメチル基などの水酸基の
保護基を示す。）で表わされる３−アミノ−１，２−ジ
オール誘導体を製造できることを見いだし、本発明を完
成するに至った。
リール基、Ｒ2はスルホニル基などのアミノ基の保護
基、Ｒ3はシリル基、アリールメチル基などの水酸基の
保護基を示す。）で表わされる３−アミノ−１，２−ジ
オール誘導体を製造できることを見いだし、本発明を完
成するに至った。
【０００５】すなわち本発明は一般式［１］で表される
３−アミノ−１，２−ジオール誘導体の製造にあたり、
一般式［２］で表されるβ−アミノ−α−ヒドロキシル
アルデヒド誘導体を原料化合物とし、有機溶媒中、有機
亜鉛化合物を用いる製造方法に関するものである。
３−アミノ−１，２−ジオール誘導体の製造にあたり、
一般式［２］で表されるβ−アミノ−α−ヒドロキシル
アルデヒド誘導体を原料化合物とし、有機溶媒中、有機
亜鉛化合物を用いる製造方法に関するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳述する。
【０００７】本発明方法における原料化合物であるβ−
アミノ−α−ヒドロキシルアルデヒド誘導体は一般式
［２］で表わされるものであり、容易に入手可能である
（例えば、特開平８−０８０５７３）。Ｒ1の具体例と
しては、シクロヘキシル基、イソプロピル基、ヘプチル
基など特に制限はない。Ｒ2の具体例としては、トシル
基、ベンジル基などアミノ基の保護基、Ｒ3はｔ−ブチ
ルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基な
どのシリル基やベンジル基など水酸基の保護基を示す。
アミノ−α−ヒドロキシルアルデヒド誘導体は一般式
［２］で表わされるものであり、容易に入手可能である
（例えば、特開平８−０８０５７３）。Ｒ1の具体例と
しては、シクロヘキシル基、イソプロピル基、ヘプチル
基など特に制限はない。Ｒ2の具体例としては、トシル
基、ベンジル基などアミノ基の保護基、Ｒ3はｔ−ブチ
ルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基な
どのシリル基やベンジル基など水酸基の保護基を示す。
【０００８】有機亜鉛化合物は、非プロトン性有機溶媒
中、塩化亜鉛（１モル）に対してアルキルまたはアリー
ルグリニャ−ル化合物（３モル）を室温（２５℃）にて
１時間撹拌することにより容易に調整できる。
中、塩化亜鉛（１モル）に対してアルキルまたはアリー
ルグリニャ−ル化合物（３モル）を室温（２５℃）にて
１時間撹拌することにより容易に調整できる。
【０００９】有機亜鉛化合物の使用量は、一般式［２］
で表わされる化合物１モルに対して１．５〜５モル、好
ましくは３〜４モルであり、非プロトン性有機溶媒中、
好ましくはテトラヒドロフラン中で行い、反応温度は−
１００〜０℃、好ましくは−７８〜−４０℃である。
で表わされる化合物１モルに対して１．５〜５モル、好
ましくは３〜４モルであり、非プロトン性有機溶媒中、
好ましくはテトラヒドロフラン中で行い、反応温度は−
１００〜０℃、好ましくは−７８〜−４０℃である。
【００１０】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を説明する。
ＮＭＲスペクトルは日本電子社製ＥＸ−４００を用いて
測定した。
ＮＭＲスペクトルは日本電子社製ＥＸ−４００を用いて
測定した。
【００１１】
【実施例１】（２Ｓ*，３Ｒ*，４Ｓ*）−３−Ｏ−ｔ−
ブチルジメチルシリル−１−シクロヘキシル−６−メチ
ル−２−トシルアミノ−４−ヘプタノールの製造
ブチルジメチルシリル−１−シクロヘキシル−６−メチ
ル−２−トシルアミノ−４−ヘプタノールの製造
【００１２】塩化亜鉛（１．０７ｇ，７．８４ｍｍｏ
ｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３４ｍｌ）に、アルゴ
ン雰囲気下室温にてイソブチルマグネシウムブロミドの
ジエチルエーテル溶液（２Ｍ，１１．８ｍｌ）を滴下
し、室温にて１時間撹拌し反応剤を調製する。（２Ｒ
*，３Ｓ*）−２−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−
トシルアミノ−４−シクロヘキシルブタナール（８２８
ｍｇ，１．８２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液
（３０ｍｌ）に、アルゴン雰囲気下−７８℃にて調製し
た有機亜鉛化合物のテトラヒドロフラン／ジエチルエー
テル溶液（４５．８ｍｌ，７．８４ｍｍｏｌ）を滴下し
同温度にて１時間攪拌する。飽和塩化アンモニウム水溶
液を加え、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、濾過、濃縮しシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー （展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン
＝１：８）にて精製し、（２Ｓ*，３Ｒ*，４Ｓ*）−３
−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−１−シクロヘキシル
−６−メチル−２−トシルアミノ−４−ヘプタノール
（７８６ｍｇ，１．５４ｍｍｏｌ，収率８４％，ジアス
テレオマー比９７：３）を得る。ＮＭＲによりその構造
を確認した。得られたスペクトルデータを下に示す。
ｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３４ｍｌ）に、アルゴ
ン雰囲気下室温にてイソブチルマグネシウムブロミドの
ジエチルエーテル溶液（２Ｍ，１１．８ｍｌ）を滴下
し、室温にて１時間撹拌し反応剤を調製する。（２Ｒ
*，３Ｓ*）−２−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−
トシルアミノ−４−シクロヘキシルブタナール（８２８
ｍｇ，１．８２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液
（３０ｍｌ）に、アルゴン雰囲気下−７８℃にて調製し
た有機亜鉛化合物のテトラヒドロフラン／ジエチルエー
テル溶液（４５．８ｍｌ，７．８４ｍｍｏｌ）を滴下し
同温度にて１時間攪拌する。飽和塩化アンモニウム水溶
液を加え、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、濾過、濃縮しシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー （展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン
＝１：８）にて精製し、（２Ｓ*，３Ｒ*，４Ｓ*）−３
−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリル−１−シクロヘキシル
−６−メチル−２−トシルアミノ−４−ヘプタノール
（７８６ｍｇ，１．５４ｍｍｏｌ，収率８４％，ジアス
テレオマー比９７：３）を得る。ＮＭＲによりその構造
を確認した。得られたスペクトルデータを下に示す。
【００１３】1H NMR (CDCl3): δ 0.01 (s, 3H), 0.05
(s, 3H), 0.56-0.66 (m, 1H), 0.71-1.09 (m, 4H), 0.8
7 (s, 9H), 0.87 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.92 (d, J =
6.8Hz, 3H), 1.11-1.58 (m, 9H), 1.70-1.79 (m, 1H),
2.21-2.40 (m, 1H), 2.42 (s, 3H), 3.34 (dd, J = 2.
2, 8.5 Hz, 1H), 3.48-3.59 (m, 1H), 3.59-3.64 (m,
1H), 5.27 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.29 (d, J = 8.3 H
z, 2H), 7.77 (d, J =8.3 Hz, 2H).
(s, 3H), 0.56-0.66 (m, 1H), 0.71-1.09 (m, 4H), 0.8
7 (s, 9H), 0.87 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 0.92 (d, J =
6.8Hz, 3H), 1.11-1.58 (m, 9H), 1.70-1.79 (m, 1H),
2.21-2.40 (m, 1H), 2.42 (s, 3H), 3.34 (dd, J = 2.
2, 8.5 Hz, 1H), 3.48-3.59 (m, 1H), 3.59-3.64 (m,
1H), 5.27 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.29 (d, J = 8.3 H
z, 2H), 7.77 (d, J =8.3 Hz, 2H).
【００１４】13C NMR (CDCl3): δ -4.39, -3.71, 18.0
9, 21.40, 21.49, 24.07, 24.38, 25.91, 25.99, 26.2
6, 26.48, 32.53, 33.34, 33.85, 38.53, 43.51, 53.2
0, 71.01, 75.84, 127.32 (2C), 129.53 (2C), 138.37,
143.21.
9, 21.40, 21.49, 24.07, 24.38, 25.91, 25.99, 26.2
6, 26.48, 32.53, 33.34, 33.85, 38.53, 43.51, 53.2
0, 71.01, 75.84, 127.32 (2C), 129.53 (2C), 138.37,
143.21.
【００１５】
【参考例１】（２Ｓ*，３Ｒ*，４Ｓ*）−３−Ｏ−ｔ−
ブチルジメチルシリル−１−シクロヘキシル−６−メチ
ル−２−トシルアミノ−４−ヘプタノールの製造
ブチルジメチルシリル−１−シクロヘキシル−６−メチ
ル−２−トシルアミノ−４−ヘプタノールの製造
【００１６】（２Ｒ*，３Ｓ*）−２−Ｏ−ｔ−ブチルジ
メチルシリル−３−トシルアミノ−４−シクロヘキシル
ブタナール（１２４ｍｇ，０．２７４ｍｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン溶液（７ｍｌ）に、アルゴン雰囲気下−
７８℃にてイソブチルマグネシウムブロミドのジエチル
エーテル溶液（２Ｍ，０．３５ｍｌ）を滴下し同温度に
て１時間攪拌する。飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、濾過、濃縮しシリカゲルカラムクロマト
グラフィー （展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：
８）にて精製し、標記化合物（５１．３ｍｇ，０．１０
０ｍｍｏｌ，収率３７％，ジアステレオマー比７７：２
３）を得る。ＮＭＲによりその構造を確認した。得られ
たスペクトルデータを下に示す。
メチルシリル−３−トシルアミノ−４−シクロヘキシル
ブタナール（１２４ｍｇ，０．２７４ｍｍｏｌ）のテト
ラヒドロフラン溶液（７ｍｌ）に、アルゴン雰囲気下−
７８℃にてイソブチルマグネシウムブロミドのジエチル
エーテル溶液（２Ｍ，０．３５ｍｌ）を滴下し同温度に
て１時間攪拌する。飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、濾過、濃縮しシリカゲルカラムクロマト
グラフィー （展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：
８）にて精製し、標記化合物（５１．３ｍｇ，０．１０
０ｍｍｏｌ，収率３７％，ジアステレオマー比７７：２
３）を得る。ＮＭＲによりその構造を確認した。得られ
たスペクトルデータを下に示す。
【００１７】1H NMR (CDCl3):δ 0.01 (s, 2.3H), 0.05
(s, 2.3H), 0.11 (s, 0.7H), 0.14(s, 0.7H), 0.56-0.
66 (m, 1H), 0.71-1.09 (m, 4H), 0.87 (s, 6.9H), 0.8
7 (d, J = 6.8 Hz, 2.3H), 0.89 (d, J = 5.9 Hz, 0.7
H), 0.90 (d, J = 5.4 Hz, 0.7H), 0.91 (s, 2.1H), 0.
92 (d, J = 6.8 Hz, 2.3H), 1.11-1.58 (m, 9H), 1.70-
1.79 (m, 1H), 2.21-2.40 (m, 1H), 2.42 (s, 2.3H),
2.43 (s, 0.7H), 3.24-3.32 (m, 0.23H), 3.34 (dd, J
= 2.2, 8.5 Hz, 0.77H), 3.48-3.59 (m, 0.77H), 3.59
-3.64 (m, 0.77H), 3.68 (dd, J = 2.9, 2.9 Hz, 0.23
H), 3.69-3.75 (m, 0.23H), 4.42 (d, J = 6.8 Hz, 0.2
3H), 5.27 (d, J = 8.8 Hz, 0.77H), 7.29(d, J = 8.3
Hz, 1.54H), 7.31 (d, J = 8.3 Hz, 0.46H), 7.75 (d,
J = 8.3 Hz, 0.46H), 7.77 (d, J = 8.3 Hz, 1.54H).
(s, 2.3H), 0.11 (s, 0.7H), 0.14(s, 0.7H), 0.56-0.
66 (m, 1H), 0.71-1.09 (m, 4H), 0.87 (s, 6.9H), 0.8
7 (d, J = 6.8 Hz, 2.3H), 0.89 (d, J = 5.9 Hz, 0.7
H), 0.90 (d, J = 5.4 Hz, 0.7H), 0.91 (s, 2.1H), 0.
92 (d, J = 6.8 Hz, 2.3H), 1.11-1.58 (m, 9H), 1.70-
1.79 (m, 1H), 2.21-2.40 (m, 1H), 2.42 (s, 2.3H),
2.43 (s, 0.7H), 3.24-3.32 (m, 0.23H), 3.34 (dd, J
= 2.2, 8.5 Hz, 0.77H), 3.48-3.59 (m, 0.77H), 3.59
-3.64 (m, 0.77H), 3.68 (dd, J = 2.9, 2.9 Hz, 0.23
H), 3.69-3.75 (m, 0.23H), 4.42 (d, J = 6.8 Hz, 0.2
3H), 5.27 (d, J = 8.8 Hz, 0.77H), 7.29(d, J = 8.3
Hz, 1.54H), 7.31 (d, J = 8.3 Hz, 0.46H), 7.75 (d,
J = 8.3 Hz, 0.46H), 7.77 (d, J = 8.3 Hz, 1.54H).
【００１８】
【参考例２】（２Ｓ*，３Ｒ*，４Ｓ*）−３−Ｏ−ｔ−
ブチルジメチルシリル−１−シクロヘキシル−６−メチ
ル−２−トシルアミノ−４−ヘプタノールの製造
ブチルジメチルシリル−１−シクロヘキシル−６−メチ
ル−２−トシルアミノ−４−ヘプタノールの製造
【００１９】（２Ｒ*，３Ｓ*）−２−Ｏ−ｔ−ブチルジ
メチルシリル−３−トシルアミノ−４−シクロヘキシル
ブタナール（５９．４ｍｇ，０．１３１ｍｍｏｌ）のジ
エチルエーテル溶液（３ｍｌ）に、アルゴン雰囲気下−
７８℃にてイソブチルマグネシウムブロミドのジエチル
エーテル溶液（１Ｍ，０．３２ｍｌ）を滴下し同温度に
て１時間攪拌する。飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、濾過、濃縮しシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー （展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：
８）にて精製し、標記化合物（３５．８ｍｇ，０．０６
９９ｍｍｏｌ，収率５３％，ジアステレオマー比４０：
６０）を得る。ＮＭＲによりその構造を確認した。得ら
れたスペクトルデータを下に示す。
メチルシリル−３−トシルアミノ−４−シクロヘキシル
ブタナール（５９．４ｍｇ，０．１３１ｍｍｏｌ）のジ
エチルエーテル溶液（３ｍｌ）に、アルゴン雰囲気下−
７８℃にてイソブチルマグネシウムブロミドのジエチル
エーテル溶液（１Ｍ，０．３２ｍｌ）を滴下し同温度に
て１時間攪拌する。飽和塩化アンモニウム水溶液を加
え、クロロホルムで抽出し、抽出液を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、濾過、濃縮しシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー （展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：
８）にて精製し、標記化合物（３５．８ｍｇ，０．０６
９９ｍｍｏｌ，収率５３％，ジアステレオマー比４０：
６０）を得る。ＮＭＲによりその構造を確認した。得ら
れたスペクトルデータを下に示す。
【００２０】1H NMR (CDCl3): δ 0.01 (s, 1.2H), 0.0
5 (s, 1.2H), 0.11 (s, 1.8H), 0.14 (s, 1.8H), 0.56-
0.66 (m, 1H), 0.71-1.09 (m, 4H), 0.87 (s, 3.6H),
0.87(d, J = 6.8 Hz, 1.2H), 0.89 (d, J = 5.9 Hz, 1.
8H), 0.90 (d, J = 5.4 Hz,1.8H), 0.91 (s, 5.4H), 0.
92 (d, J = 6.8 Hz, 1.2H), 1.11-1.58 (m, 9H), 1.70-
1.79 (m, 1H), 2.21-2.40 (m, 1H), 2.42 (s, 1.2H),
2.43 (s, 1.8H), 3.24-3.32 (m, 0.6H), 3.34 (dd, J =
2.2, 8.5 Hz, 0.4H), 3.48-3.59 (m, 0.4H),3.59-3.64
(m, 0.4H), 3.68 (dd, J = 2.9, 2.9 Hz, 0.6H), 3.6
9-3.75 (m, 0.6H), 4.42 (d, J = 6.8 Hz, 0.6H), 5.27
(d, J = 8.8 Hz, 0.4H), 7.29 (d, J= 8.3 Hz, 0.8H),
7.31 (d, J = 8.3 Hz, 1.2H), 7.75 (d, J = 8.3 Hz,
1.2H),7.77 (d, J = 8.3 Hz, 0.8H).
5 (s, 1.2H), 0.11 (s, 1.8H), 0.14 (s, 1.8H), 0.56-
0.66 (m, 1H), 0.71-1.09 (m, 4H), 0.87 (s, 3.6H),
0.87(d, J = 6.8 Hz, 1.2H), 0.89 (d, J = 5.9 Hz, 1.
8H), 0.90 (d, J = 5.4 Hz,1.8H), 0.91 (s, 5.4H), 0.
92 (d, J = 6.8 Hz, 1.2H), 1.11-1.58 (m, 9H), 1.70-
1.79 (m, 1H), 2.21-2.40 (m, 1H), 2.42 (s, 1.2H),
2.43 (s, 1.8H), 3.24-3.32 (m, 0.6H), 3.34 (dd, J =
2.2, 8.5 Hz, 0.4H), 3.48-3.59 (m, 0.4H),3.59-3.64
(m, 0.4H), 3.68 (dd, J = 2.9, 2.9 Hz, 0.6H), 3.6
9-3.75 (m, 0.6H), 4.42 (d, J = 6.8 Hz, 0.6H), 5.27
(d, J = 8.8 Hz, 0.4H), 7.29 (d, J= 8.3 Hz, 0.8H),
7.31 (d, J = 8.3 Hz, 1.2H), 7.75 (d, J = 8.3 Hz,
1.2H),7.77 (d, J = 8.3 Hz, 0.8H).
【００２１】
【発明の効果】本発明によって、β−アミノ−α−ヒド
ロキシルアルデヒド誘導体から立体選択的に医薬品の重
要中間体である３−アミノ−１，２−ジオール誘導体を
製造する方法を提供することが可能になった。光学活性
なβ−アミノ−α−ヒドロキシルアルデヒド誘導体を原
料化合物として用いれば、同様の方法で簡便に光学活性
な３−アミノ−１，２−ジオール誘導体へ変換すること
が可能である。
ロキシルアルデヒド誘導体から立体選択的に医薬品の重
要中間体である３−アミノ−１，２−ジオール誘導体を
製造する方法を提供することが可能になった。光学活性
なβ−アミノ−α−ヒドロキシルアルデヒド誘導体を原
料化合物として用いれば、同様の方法で簡便に光学活性
な３−アミノ−１，２−ジオール誘導体へ変換すること
が可能である。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式［１］： 【化１】 （一般式［１］中、Ｒ1、Ｒ4はアルキル基、アリール
基、Ｒ2はスルホニル基などのアミノ基の保護基、Ｒ3は
シリル基、アリールメチル基などの水酸基の保護基を示
す。）で表される３−アミノ−１，２−ジオール誘導体
の製造にあたり、一般式［２］ 【化２】 （一般式［２］中、Ｒ1はアルキル基、アリール基、Ｒ2
はスルホニル基などのアミノ基の保護基、Ｒ3はシリル
基、アリールメチル基などの水酸基の保護基を示す。）
で表されるβ−アミノ−α−ヒドロキシルアルデヒド誘
導体に有機溶媒中、アルキルまたはアリール金属化合物
を付加させることを特徴とする製造方法。 - 【請求項２】アルキルまたはアリール金属化合物とし
て、有機亜鉛化合物を用いることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10066266A JPH11246568A (ja) | 1998-03-02 | 1998-03-02 | ３−アミノ−１，２−ジオール誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10066266A JPH11246568A (ja) | 1998-03-02 | 1998-03-02 | ３−アミノ−１，２−ジオール誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11246568A true JPH11246568A (ja) | 1999-09-14 |
Family
ID=13310882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10066266A Pending JPH11246568A (ja) | 1998-03-02 | 1998-03-02 | ３−アミノ−１，２−ジオール誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11246568A (ja) |
-
1998
- 1998-03-02 JP JP10066266A patent/JPH11246568A/ja active Pending
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