JPH11249128A

JPH11249128A - 反射型液晶装置及び電子機器

Info

Publication number: JPH11249128A
Application number: JP10049875A
Authority: JP
Inventors: Tomio Sonehara; 富雄曽根原
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1998-03-02
Filing date: 1998-03-02
Publication date: 1999-09-17

Abstract

(57)【要約】【課題】反射型液晶装置において、幻惑や映り込みな
どによる視認性の低下を抑制することのできる装置構造
を提供する。【解決手段】背面側基板２０の内面上に透明樹脂層２
２を形成する。透明樹脂層２２の表面には、背面側基板
２０の板面に対して傾斜した傾斜面部２２ａが多数配列
されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は反射型液晶装置及び
それを搭載した電子機器に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、反射型液晶装置としては、一般的
なＴＮ型、ＳＴＮ型液晶装置のように液晶層を含む液晶
セルの前面側及び背面側にそれぞれ偏光板を配置し、背
面側の偏光板のさらに背後に反射板を配置するものがあ
る。しかしながら、このような偏光板を用いた反射型液
晶装置は、外光を液晶セル内に取り込み、その反射光の
みで表示を視認可能にしている上に、外光の入射時及び
反射光の放出時においてそれぞれ２枚の偏光板を通過す
る必要があることにより大きな光損失が生ずるため、表
示が暗いという問題点がある。

【０００３】この表示が暗いという反射型液晶装置の欠
点を低減するために、偏光板を前面側基板の前面にのみ
配置した一枚偏光板方式の反射型液晶装置が提案されて
いる。この方式の液晶装置は、電界印加状態によって液
晶層の複屈折作用を変えることによって前面側の偏光板
を反射光が透過する場合と透過しない場合とに制御する
ものである。たとえば、液晶層の複屈折によって前面に
配置された偏光板を通過してきた直線偏光の偏光状態を
徐々に変化させていき、ちょうど液晶層を通過して反射
面に到達したところで円偏光になるようにすると、反射
光が再び液晶層を通過したときに当初とは直交する偏光
方向を備えた直線偏光になり、偏光板を通過することが
できなくなり、一方、液晶層に電界を印加したときには
上記の直線偏光が液晶層を通過していくと反射面上にお
いて当初とは直交する偏光方向を備えた直線偏光にな
り、その反射光が再び液晶層を逆に通過すると、当初と
同じ偏光方向の直線偏光になるために偏光板を通過可能
にするように構成することができる。

【０００４】この方式の反射型液晶装置では、光透過状
態において白色表示を実現するために、反射板自体の表
面に凹凸を付けたり、或いは、表面凹凸形状を設けた下
地樹脂層の表面上に薄い金属膜を形成し下地樹脂層の表
面状態を反映する反射面を形成することなどによって、
反射面における光散乱を利用して白色度を向上させるよ
うにしている。

【０００５】また、偏光板を用いることなく表示を可能
にするタイプの他の液晶装置も開発されている。この種
の液晶装置には、電界によって液晶層を光散乱状態と光
透過状態とに制御して表示を行う散乱モードを用いた液
晶装置がある。この液晶装置においては、液晶層自体の
光散乱状態によって白色表示を実現し、液晶層の光透過
状態によって反射面からの正反射光が目に入らないよう
にすることで黒色表示を実現するようになっている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の一枚
偏光板方式や散乱モードを用いた液晶装置においては、
偏光板の枚数を減らしたり、或いは全く偏光板を用いな
いことから表示を明るくすることができるものの、反射
板からの直接の正反射によって目が幻惑され、却って視
認性が悪化する場合があるという問題点がある。

【０００７】たとえば、一枚偏光板方式においては、白
色表示を可能にするために反射面が散乱性の粗面となっ
ているものの、外光が反射面において反射すると、反射
光の光強度分布は入射角に対応する所定の反射方向を中
心に強くなるため、光源などの光がちょうど視認してい
る者の目に入るような角度関係になっている場合には視
認性が極端に悪化する。

【０００８】一方、液晶層の散乱モードを用いた液晶装
置においても、液晶層の光透過状態において外光の直接
反射が目に入ることによって上記と同様の幻惑や背景の
映り込みが発生し、視認性を著しく悪化させる。

【０００９】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、反射型液晶装置において、反射光
が目に入ることによる幻惑や背景の映り込みなどに起因
する視認性の低下を抑制することができ、特に、一枚偏
光板方式や散乱モードを用いた液晶装置における視認性
を向上させることのできる新規の反射型液晶装置を提供
することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明が講じた手段は、前面側基板と、背面側基板と
の間に印加電界に応じて光透過状態と光散乱状態とが制
御されてなる液晶層が配置されてなり、前記背面側基板
の内面上に反射面が配置された反射型液晶装置におい
て、前記反射面の表面上に樹脂層が形成されてなり、前
記樹脂層が前記背面側基板に対して傾斜した微細な傾斜
面を有することを特徴とする。

【００１１】この手段によれば、反射面上に形成された
透明樹脂層の表面の傾斜面部によって入射光及び反射光
が屈折されるので、反射面が傾斜面部の傾斜方向とは逆
側に背面側基板の板面に対して傾斜した反射面によって
反射される場合と等価になるため、液晶セルに入射した
外光の正反射光の方向を視認者の視線方向からそらせる
ことができ、幻惑や背景の映り込みなどを低減して、視
認性を向上させることができる。

【００１２】また、前面側基板と、背面側基板との間に
印加電界に応じて光学特性を変化させる液晶層を配置
し、前記背面側基板の内面上に反射面を備えた反射型液
晶装置において、前記反射面は、前記背面側基板に対し
て傾斜した微細な多数の傾斜面が形成されてなることを
特徴とする。

【００１３】この手段によれば、反射面が多数の傾斜反
射面部によって構成されていることから、反射面が傾斜
反射面部の傾斜方向に傾斜している場合と等価になるた
め、液晶セルに入射した外光の正反射光の方向を視認者
の視線方向からそらせることができ、幻惑や背景の映り
込みなどを低減して、視認性を向上させることができ
る。

【００１４】この場合にはまた、前記背面側基板の内面
上に下地樹脂層が形成されてなり、該下地樹脂層の表面
は前記背面側基板に対して傾斜した微細な多数の傾斜面
を有してなり、前記下地樹脂層の表面上に前記反射層が
形成されてなることを特徴とする。この手段によれば、
多数の傾斜面部を備えた表面形状を有する下地樹脂層の
表面上に反射層を形成するだけで多数の傾斜反射面部を
構成することができるので、下地樹脂層として表面加工
し易い素材を選定することによって多数の傾斜反射面部
を容易に形成することができる。

【００１５】上記各手段における前記傾斜面部は、露光
量に応じて溶解量若しくは硬化量の変化する感光性樹脂
層を形成し、該感光性樹脂層に対する露光量を前記背面
側基板の板面方向に変調させて形成したものであること
が好ましい。この手段によれば、微細な傾斜面部でも正
確かつ容易に形成することができる。

【００１６】なお、前記透明電極層若しくは前記傾斜反
射面部は、前記傾斜面部の傾斜方向寄りの斜め上方から
気相法により前記傾斜面部の表面上に被着されたもので
あることが望ましい。

【００１７】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る実施形態について説明する。図１は、本発明に係
る反射型液晶装置の第１実施形態の概略構成を示す概略
縦断面図である。この実施形態では、無機ガラスからな
る透明な前面側基板１０と背面側基板２０との間に液晶
層３０が図示しないシール材によって封止されている。
前面側基板１０の外面上には偏光板４０が貼着される。

【００１８】前面側基板の内面上にはＩＴＯ（インジウ
ムスズ酸化物）などからなる透明電極１１が形成され、
この透明電極１１上に全面的に図示しない配向膜が塗布
形成され、所定方向、たとえば、図示左右方向にラビン
グ処理が施される。一方、背面側基板２０の内面上に
は、ＡｌやＣｒなどの金属を蒸着、スパッタリング等に
より被着して反射電極２１が形成されている。この反射
電極２１の表面上には、透明樹脂層２２が形成され、透
明樹脂層２２の表面上には、微細な傾斜面２２ａがスト
ライプ状に形成され、この傾斜面２２ａが図示左右方向
に複数配列されてなる表面凹凸形状が形成されている。
この透明樹脂層２２の表面上にも図示しない所定の配向
膜が形成され、上記と同様に液晶層３０内の液晶分子の
配向方向及びツイスト角に応じた方向にラビング処理が
施される。

【００１９】単純マトリクス型液晶装置の場合には透明
電極１１と反射電極２１とは相互に直交する方向に伸び
るストライプ状に形成され、ＴＦＴ（薄膜トランジス
タ）やＭＩＭ（金属−絶縁体−金属）素子などのアクテ
ィブ素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶装置で
は、透明電極１１はストライプ状であり、反射電極は画
素領域毎に分離した平面矩形状などの独立形状に形成さ
れている。

【００２０】本実施形態の液晶層３０としては、ＴＮ型
液晶やＳＴＮ型液晶を所定のツイスト角になるように配
向膜のラビング方向やカイラル剤などを用いて適宜に設
定して用いることができる。たとえば、ＥＣＢ（電子的
制御複屈折）効果を用いた表示方式には幾つもの種類が
あるが、電界無印加状態において液晶分子を垂直配向さ
せ、偏光状態の変化がないようにし、電界印加状態にお
いて液晶分子を光の通過方向に対して傾斜させて所望の
リタデーションを得て、偏光状態を変えることにより前
面側の偏光板に反射光を通過させたり、遮断させたりす
る場合もあり、また、ＳＴＮ型液晶の場合には、電界無
印加状態において液晶層のリタデーションに応じて直線
偏光に対する偏光状態の変換を行い、電界印加状態にお
いては液晶分子が垂直配向することによって偏光状態に
対する影響をなくすることができる。この場合には光の
波長による偏光状態の分散を補償するために位相差板を
配置する場合もある。

【００２１】本実施形態では、液晶層３０内にＴＮ型液
晶を封入し、このＴＮ型液晶のツイスト角θと、偏光板
４０の光透過軸に対する液晶層３０内における前面側の
液晶分子の配向角φと、液晶層３０のリタデーションΔ
ｎ・ｄとを調整することによって、液晶層３０に対する
電界印加状態に応じて光の透過と遮断とを制御できるよ
うに構成している。ここで、液晶層３０が電界無印加状
態にある場合には、外光が偏光板４０を通過して直線偏
光になった後に、液晶層３０を通過すると反射面上で円
偏光になり、反射光が再び液晶層３０を通過すると、当
初とは直交する偏光方向を備えた直線偏光になることに
よって偏光板４０を通過できなくなり、液晶層３０が電
界印加状態にある場合には、偏光板４０を通過した直線
偏光が液晶層３０を通過すると反射面上において当初と
は直交する偏光方向を備えた直線偏光となり、その反射
光が再び液晶層３０を通過すると当初の偏光方向と同じ
偏光方向を備えた直線偏光になることによって偏光板４
０を通過することができるように設定されている。

【００２２】本実施形態の液晶層３０としては、散乱モ
ードを用いた表示方式を採用しても良い。この場合に
は、前面側基板１０の前面に配置した偏光板４０は不要
であり、液晶層３０への電界印加状態に応じて液晶層３
０自体が光散乱状態又は光透過状態となって表示を行う
ようになっている。本実施形態の散乱モードを実現する
ものとしては、高分子分散型液晶と呼ばれるものを用い
る場合がある。この場合、液晶層３０の内部には液晶分
子と高分子とが互いに分散した状態にて存在している。
この状態としては、液晶中に高分子粒子が分散した状態
のもの、液晶中に多量の高分子粒子が連接するように配
置されているもの、ゲル状高分子の網の目状の骨格内に
液晶が含まれるものなど、種々の態様のものがある。

【００２３】この場合、液晶と光若しくは電子線などで
重合させることが可能な高分子前駆体とを相溶させた溶
液を空セル内に注入した後、光や電子線などを照射する
ことによって高分子前駆体を重合させ、相分離によって
液晶中に高分子を析出させることにより液晶層３０を形
成することが好ましい。液晶としては誘電異方性及び屈
折率異方性を備えたものであれば種々の液晶を用いるこ
とができる。ここで、液晶が正の誘電異方性を備えてい
る場合には基板表面のラビング処理によって液晶を水平
配向させ、液晶が負の誘電異方性を備えている場合には
液晶を垂直配向させることが好ましい。特に、この方法
にて液晶層を形成する場合、液晶と高分子の双方を所定
方向に配向させることができる。

【００２４】高分子前駆体としては、ビフェニルメクリ
レートその他のメタクリレート、アクリレート、その他
のビニル化合物などの光或いは電子線重合性の化合物、
エポキシ化合物などの熱重合性の化合物を用いることが
できる。熱重合性の化合物については適度な温度まで加
熱して高分子を相分離させることができる。また、高分
子としてエチルセルロースのような熱可塑性の化合物を
用いることができ、この場合には、加熱状態で液晶と混
合させた後、空セル内に注入して冷却すれば高分子を相
分離させることができる。なお、液晶成分中にカイラル
成分を混入することにより、表示のコントラストや視角
依存性を向上させることができる。

【００２５】本実施形態において高分子分散型の液晶層
３０を形成する具体例としては、たとえば、液晶として
メルク社製の「ＢＬ００７」（商品名）を９０ｗｔ％、
カイラル成分としてメルク社製の「ＣＢ１５」（商品
名）を１〜３ｗｔ％（但し、ツイスト角に応じて当該範
囲にこだわらずに適宜調整する。）、高分子前駆体とし
てビフェニルメタクリレートを７ｗｔ％混合してなる溶
液を作成し、この溶液を前面側基板１０、背面側基板２
０及びシール材からなる基板間ギャップが５ミクロン程
度の空セル内に注入し、封止してから、紫外線を照射し
て液晶中に高分子粒子を相分離させる。紫外線の照射量
を適宜に設定すると、駆動電圧が５ボルト程度となり、
時計用ＩＣでも十分駆動できるものとなる。このような
液晶層の形成方法では液晶成分の割合は５０〜９５ｗｔ
％程度であることにより、駆動電圧と表示態様とを実用
的な範囲に設定することができる。

【００２６】このような液晶層３０においては、電界無
印加状態では、液晶層内の液晶と高分子粒子とが共に水
平に配向して液晶と高分子粒子の光屈折率がほぼ等しく
なるために光透過状態になる。一方、所定のしきい値を
越える電界を印加した状態では、電界が印加された領域
において誘電異方性を有する液晶が垂直に配向するとと
もに、液晶は屈折率異方性をも備えているので高分子の
光屈折率との間に差が生じ、光散乱状態となる。

【００２７】このため、数字、文字、図形などの表示内
容に応じた領域にしきい値を越える電圧を印加すること
により白濁させることができる。この場合に、液晶層３
０に所定の電界を印加するために前面側基板１０と背面
側基板２０の内面上にマトリクス状の多数の電極を形成
しておいてもよく、或いはまた、数字、文字、図形のう
ちの或る限定された数の表示内容のみを表示すれば足り
る場合には、一方の基板内面に幾つかのセグメント電極
を形成し、他方の基板内面にコモン電極を形成してもよ
い。また、液晶と高分子との屈折率の設定により、電界
無印加状態で光散乱状態になり、電界印加状態で光透過
状態になるように構成することも可能である。

【００２８】上記実施形態においては、図２に示すよう
に、反射電極２１の表面上に透明な樹脂層２２が形成さ
れ、透明樹脂層２２の表面に微細なストライプ状の傾斜
面２２ａが配列されているので、外光が液晶装置に入射
した場合、傾斜面２２ａの存在により透明樹脂層２２に
おいて入射時及び反射時にそれぞれ屈折を受けて反射方
向が変わる。図示の場合には、透明樹脂層２２がなけれ
ば点線に示すように外光が反射されるのに対し、透明樹
脂層２２によって一点鎖線に示すように反射し、二点鎖
線に示すように反射電極２１の表面に対して傾斜した仮
想的な反射面が存在するかのように作用する。

【００２９】これによって、図２に示す場合には、外光
が図示左側寄りに反射されるため、視認者の目に入りに
くくなり、外光の正反射による幻惑や背景の映り込みを
低減して視認性を向上させることができる。この場合に
は、たとえば、図示右側を表示面の上部側とした姿勢で
本液晶装置を用いた表示パネルを配置することによっ
て、上方から照射される照明光などを視認者の目よりも
下方に反射させて視認性を高めることができる。

【００３０】上記の透明樹脂層２２としては、ＯＭＮＩ
ＤＥＸ（デュポン社製、商標）やＤＭＰ−１２８（ポラ
ロイド社製、製品番号）などのフォトポリマーその他の
感光性樹脂を反射電極２１の表面上に塗布し、図３に示
すように、例えば、２本のレーザ光源２３，２４を相互
に間隔を開けて配置することによってレンズなどの光学
系を介して干渉露光を行う。この場合、ストライプ状の
傾斜面部を設けるにはレーザ光源２３，２４をストライ
プの長手方向に走査すればよい。本実施形態の透明樹脂
層としては、露光量に応じて溶解量が変化する感光溶解
型フォトポリマーなどの感光溶解型ポジ型レジスト、或
いは、露光量に応じて硬化量が変化する感光硬化型フォ
トポリマーなどの感光硬化型ネガ型レジストを用いる。
これらを用いることにより、上記干渉露光による周期的
な露光量に応じて現像時の溶解量が変化するので、上記
のような傾斜面２２ａを形成することができる。この場
合、傾斜面の傾斜方向は、２つのレーザ光源２３，２４
の間にある対称軸の両側で相互に反対になる。一定方向
の傾斜面を周期的に形成するには、２つのレーザ光源の
対称軸の一側のみを露光に用いればよい。また、上記レ
ーザ光源２３，２４の光強度を平面方向に亘って均一化
するために、濃淡分布のあるフィルタに拘束を通して光
強度を均一にするか、或いは、拘束を大きく広げて、広
げた光束のうちの一部を用いて光強度の均一性を確保す
ることが好ましい。傾斜面部の傾斜方向、傾斜角度、傾
斜面の周期などは、光源の配置、間隔、光源光の波長、
感光性樹脂の露光量に対する溶解若しくは硬化特性など
を調節することによって適宜に設定できる。傾斜面の周
期は１〜３０μｍ程度、特に１０μｍ程度とすることが
好ましい。

【００３１】このようにして透明樹脂に直接光を照射し
てその露光量に応じて表面凹凸形状を形成する場合、露
光量の平面的な変調度合いに応じて透明樹脂層２２の光
屈折率にも平面的な周期構造が発生する。このような光
屈折率の変調構造は、上記表面凹凸形状に加えて光の変
調をさらに高める。

【００３２】透明樹脂層２２の露光による光屈折率の変
化は、表面に傾斜面が形成されていない場合でも、光屈
折率の変化のみで、上述の実施形態と同様の光屈折作用
を果たすことが可能である。露光量の傾斜によって透明
樹脂層２２に平面的な光屈折率の周期的傾斜構造が形成
され、この光屈折率の傾斜によって上述と同様の機能を
有する透明樹脂層を形成することができる。

【００３３】なお、透明樹脂層２２の表面に形成される
傾斜面２２ａの配列構造は上述のようにストライプ状の
ような１次元周期構造であるものに限らず、マトリクス
状その他の２次元周期構造を備えたものであってもよ
い。

【００３４】また、上記干渉露光法を用いて形成するも
のは、上述のような単なる傾斜面の周期構造に限らな
い。例えば、より複雑なホログラムを透明樹脂層２２の
表面に形成してもよい。

【００３５】さらに、上記のような表面凹凸形状を形成
する場合、直接の干渉露光法に限らず、レジストマスク
その他の遮光マスクを介して露光を行ってもよい。

【００３６】図４には、上記実施形態とは異なる別の実
施形態における反射型液晶装置の概略構造を示す部分拡
大断面図である。この実施形態においては、前面側基板
１０の内面上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）などの各
着色層１２ａを適宜に配列させてなるカラーフィルタ１
２が形成され、その上に透明な保護膜１３が形成された
後、さらにその上に透明電極１４が形成される。一方、
背面側基板２０の内面上にはＡｌ、Ｃｒなどの金属類か
らなる反射層２５がほぼ全面的に形成され、この反射層
２５の表面上に透明樹脂層２６が形成されている。この
透明樹脂層２６の表面には、上記着色層１２ａとほぼ同
幅の傾斜面２６ａが１０μｍ幅程度の平面周期で、隣接
する傾斜面との間の段差が２μｍ程度になるようにスト
ライプ状に形成されている。傾斜面２６ａの表面上に
は、ＩＴＯなどからなる透明電極層２７が形成される。
この透明電極層２７は、好ましくは厚さが傾斜面の間の
段差よりも小さくなるように形成される。このようにす
ると、各透明電極層２７は当該段差によって相互に離反
された状態で形成されるので、透明電極層２７のパター
ニングを行うことなく、画素間の電気的絶縁を確保する
ことができる。また、隣接する透明電極層２７の間の絶
縁性をより確実に得るためには、図中矢印Ｑに示すよう
に、傾斜面２６ａの傾斜方向よりの斜め上方からスパッ
タリングなどによって形成することによって、傾斜面２
６ａの間の段差によって陰になる領域が発生するように
し、当該領域において隣接する透明電極層２７の間を確
実に離反させるようにすればよい。

【００３７】図５は、さらに別の実施形態の概略構造を
示す拡大断面図である。この実施形態においては、図４
に示すものと同様の透明樹脂層２６を背面側基板２０の
内面上に形成した後、透明樹脂層２６の表面の傾斜面部
２６ａ上にＡｌやＣｒなどからなる反射電極層２８をス
パッタリング法や蒸着法などにより形成したものであ
る。ここで、反射電極層２８は、図４に示す透明電極層
２７と同様に、かつ、同様の理由で、傾斜面部２６ａの
間の段差よりも薄く形成されていることが好ましく、ま
た、図中矢印Ｑの方向（傾斜面部２６ａにおける傾斜方
向寄りの斜め上方）から斜めにスパッタリング或いは蒸
着されることが好ましい。

【００３８】図６は、本発明の反射型液晶装置を電子機
器に用いた例である。図６（ａ）は携帯電話に反射型の
液晶装置を用いた例である。図６（ｂ）は時計に反射型
の液晶装置を搭載した例であり、図６（ｃ）はパソコン
のような携帯機器に反射型の液晶装置を搭載した例であ
る。

【００３９】このような携帯機器に本願のような液晶装
置を適用することにより、低消費電力でしかも表示特性
の優れた電子機器を得ることができる。

【００４０】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、反
射面上に形成された透明樹脂層の表面の傾斜面部によっ
て入射光及び反射光が屈折されるので、反射面が傾斜面
部の傾斜方向とは逆側に背面側基板の板面に対して傾斜
した反射面によって反射される場合と等価になるため、
液晶セルに入射した外光の正反射光の方向を視認者の視
線方向からそらせることができ、幻惑や背景の映り込み
などを低減して、視認性を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る反射型液晶装置の実施形態の概略
構成を示す概略縦断面図である。

【図２】同実施形態における反射電極上に形成された透
明樹脂層の光学的作用を示す説明図である。

【図３】同実施形態における透明樹脂層の製造工程にお
ける干渉露光を行っている状態を模式的に示す説明図で
ある。

【図４】本発明に係る反射型液晶装置の異なる実施形態
の主要構造を示す概略断面図である。

【図５】本発明に係る反射型液晶装置の別の異なる実施
形態の主要構造を示す概略断面図である。

【図６】反射型液晶装置を搭載した電子機器の構成図を
示した図である。

【符号の説明】

１０前面側基板１１透明電極２０背面側基板２１反射電極２２，２６透明樹脂層２３，２４レーザ光源２５反射層２７透明電極層２８反射電極層３０液晶層４０偏光板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｚ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】前面側基板と、背面側基板との間に印加
電界に応じて光透過状態と光散乱状態とが制御されてな
る液晶層が配置されてなり、前記背面側基板の内面上に
反射面が配置された反射型液晶装置において、前記反射面の表面上に樹脂層が形成されてなり、前記樹
脂層が前記背面側基板に対して傾斜した微細な傾斜面を
有することを特徴とする反射型液晶装置。
【請求項２】前面側基板と、背面側基板との間に印加
電界に応じて光学特性を変化させる液晶層を配置し、前
記背面側基板の内面上に反射面を備えた反射型液晶装置
において、前記反射面は、前記背面側基板に対して傾斜した微細な
多数の傾斜面が形成されてなることを特徴とする反射型
液晶装置。
【請求項３】請求項２において、前記背面側基板の内
面上に下地樹脂層が形成されてなり、該下地樹脂層の表
面は前記背面側基板に対して傾斜した微細な多数の傾斜
面を有してなり、前記下地樹脂層の表面上に前記反射層
が形成されてなることを特徴とする反射型液晶装置。
【請求項４】請求項１又は請求項３において、前記傾
斜面は、露光量に応じて溶解量若しくは硬化量の変化す
る感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層に対する露光
量を前記背面側基板の板面方向に変調させて形成したも
のであることを特徴とする反射型液晶装置。
【請求項５】前記反射型液晶装置を搭載したことを特
徴とする電子機器。