JPH11255779A - シロールジボロン酸化合物、シロール共重合体及びそれらの製造方法並びにシロール誘導体の製造方法 - Google Patents

シロールジボロン酸化合物、シロール共重合体及びそれらの製造方法並びにシロール誘導体の製造方法

Info

Publication number
JPH11255779A
JPH11255779A JP5944798A JP5944798A JPH11255779A JP H11255779 A JPH11255779 A JP H11255779A JP 5944798 A JP5944798 A JP 5944798A JP 5944798 A JP5944798 A JP 5944798A JP H11255779 A JPH11255779 A JP H11255779A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substituted
independently represent
compound
unsubstituted alkyl
silole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5944798A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4151103B2 (ja
Inventor
Kohei Tamao
皓平 玉尾
Shigehiro Yamaguchi
茂弘 山口
Manabu Uchida
内田　　学
Yusho Izumisawa
勇昇 泉澤
Kenji Furukawa
顕治 古川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JNC Corp
Original Assignee
Chisso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chisso Corp filed Critical Chisso Corp
Priority to JP05944798A priority Critical patent/JP4151103B2/ja
Publication of JPH11255779A publication Critical patent/JPH11255779A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4151103B2 publication Critical patent/JP4151103B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光機能材料、電子機能材料あるいはそれらの
合成原料等として使用できるπ電子系化合物や共重合体
を自由にかつ収率良く合成する。 【解決手段】 下記式（I） 【化１】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
れ独立に置換又は無置換のアルキル基を示す。］で示さ
れるシロールジボロン酸化合物をπ電子系化合物や共重
合体の合成の出発物質として用いる。この式（I）の化
合物は、下記式（II） 【化２】 ［Ｒ1〜Ｒ4は前記と同様である。］で示されるジエチニ
ルシラン化合物にホウ素化合物を作用させることによっ
て得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光機能材料、電子
機能材料等の合成原料として使用されるシロールジボロ
ン酸化合物及びその製造方法に関する。また、本発明
は、光機能材料、電子機能材料等としての用途が期待で
きるシロール共重合体及びシロール誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】π電子系有機化合物を光機能材料や電子
機能材料に応用しようとする試みは、多種多彩で多くの
研究機関で行われている。これらの中で代表的な化合物
群の１つとして、基本構造にヘテロ５員環構造を持つ１
群のπ電子系有機化合物、例えばチオフェンあるいはピ
ロールなどが知られている。しかしながら、これらの大
部分のヘテロ５員環は電子供与性であるため、その特徴
から材料への応用に制限があった。このため、電子受容
性の化合物が求められていた。
【０００３】最近、ヘテロ元素がケイ素であるシラシク
ロペンタジエン環（シロール環）が電子受容性を示すこ
とが報告され、種々の機能性材料への応用が予測されて
いる。例えば、特開平６−１００６６９号では導電性重
合体への応用の可能性が示され、特開平６ー１６６７４
６号では光機能性材料への応用の可能性が示されてい
る。また、日本化学会第７０春季年会講演予稿集IIの７
００ページ（２Ｄ１０２）及び７０１ページ（２Ｄ１０
３）、日本化学会第７１秋季年会講演予稿集の３２ペー
ジ（２Ｐ１α２１及び２Ｐ１α２２）には、シラシクロ
ペンタジエン誘導体を有機ＥＬ素子に応用した例が報告
されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記のように種々の機
能性材料にシラシクロペンタジエン誘導体を応用する場
合、目的に応じてシラシクロペンタジエン誘導体に様々
な置換基を導入することは、化合物の性質をコントロー
ルすることに繋がり、結果として機能性材料の性能が向
上するために、非常に重要な技術の１つと考えられる。
【０００５】ところが、従来のシラシクロペンタジエン
誘導体の合成法は、ケミカルレビュウ、９０巻、２１５
〜２６３ページ、１９９０年（Chem. Rev., 90, 215-26
3(1990)）及びその参考文献、あるいはオルガノメタリ
ックス、１４巻、１０８９〜１０９１ページ、１９９５
年（Organometallics, 14, 1089-91(1995)）に記載され
ているように特定のものに限定されており、種々の誘導
体を自由に合成することはできなかった。
【０００６】そこで、新規合成法として、特開平９−１
９４４８７、特開平７−１７９４７７及び特開平７−３
００４８９には、２，５位に反応性の置換基を導入した
シロール誘導体の合成が開示されている。しかしなが
ら、これらに記載の方法では、過剰に用いた金属錯体を
消費するために用いるシリルクロライドに由来する副生
成物が生じ、最終的に得られるシロール誘導体の精製を
困難にさせる欠点があった。
【０００７】一方、光機能材料、電子機能材料等として
の用途が期待できるシロール−チオフェン共重合体が、
特開平６−１６６７４６及び特開平６−１００６６９に
開示されているが、これらに記載の共重合体はシロール
とチオフェンの１対１の共重合体ではなく、チオフェン
が過剰になっていた。また、これらに記載の製造法で
は、シロールとチオフェンの１対１の交互共重合体を合
成することは不可能であった。
【０００８】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、光機能材料、電子機能材料あるいはそれらの合成原
料等として使用できるπ電子系化合物や共重合体を自由
にかつ収率良く合成することが可能なシロールジボロン
酸化合物及びその製造方法を提供することを目的とす
る。また、本発明は、光機能材料、電子機能材料等とし
ての用途が期待できるシロール共重合体及びその製造方
法並びにシロール誘導体の製造方法を提供することを目
的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するため、下記の第１〜第５発明を提供する。第１発明 下記式（I）
【化１１】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
示す。］で示されるシロールジボロン酸化合物。
【００１０】第２発明 下記式（II）
【化１２】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
示す。］で示されるジエチニルシラン化合物にホウ素化
合物を作用させて、下記式（I）
【化１３】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
示す。］で示される化合物を得ることを特徴とするシロ
ールジボロン酸化合物の製造方法。
【００１１】第３発明 下記式（III）
【化１４】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
示し、Ａｒは置換又は無置換のアリーレン基又は２価の
ヘテロ環基を示し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子又は下
記式
【化１５】 で示される基（ただし、Ｙ1は水素原子又はＢ（ＯＨ）2
である）を示し、Ｙは水素原子、Ｂ（ＯＨ）2又はＡｒ
Ｘ1（ただし、Ｘ1は水素原子又はハロゲン原子である）
を示す。ｎは１以上の数である。］で示されるシロール
共重合体。
【００１２】第４発明 下記式（I）
【化１６】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
示す。］で示されるシロールジボロン酸化合物にジハロ
ゲン化合物を作用させて、下記式（III）
【化１７】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
示し、Ａｒは置換又は無置換のアリーレン基又は２価の
ヘテロ環基を示し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子又は下
記式
【化１８】 で示される基（ただし、Ｙ1は水素原子又はＢ（ＯＨ）2
である）を示し、Ｙは水素原子、Ｂ（ＯＨ）2又はＡｒ
Ｘ1（ただし、Ｘ1は水素原子又はハロゲン原子である）
を示す。ｎは１以上の数である。］で示される化合物を
得ることを特徴とするシロール共重合体の製造方法。
【００１３】第５発明 下記式（I）
【化１９】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
示す。］で示されるシロールジボロン酸化合物にハロゲ
ン化合物を作用させて、下記式（IV）
【化２０】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
示し、Ａｒは置換又は無置換のアリール基又はヘテロ環
基を示す。］で示される化合物を得ることを特徴とする
シロール誘導体の製造方法。
【００１４】この場合、式（I）〜（III）の化合物にお
いて、Ｒ1及びＲ2のアルキル基としては、炭素数１〜１
０のもの、特に１〜６のものが好ましい。Ｒ1及びＲ2の
アリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、
アニシル基が特に好適である。また、Ｒ1及びＲ2のアル
キル基又はアリール基における置換基としては、例えば
アルキル基、アルコシキ基、アリール基、アリールオキ
シ基、シリル基等が挙げられる。
【００１５】式（I）〜（III）の化合物において、Ｒ3
及びＲ4のアルキル基としては、炭素数１〜１０のも
の、特に１〜６のものが好ましい。また、Ｒ3及びＲ4の
アルキル基における置換基としては、例えばアルキル
基、アルコシキ基、アリール基、アリールオキシ基、シ
リル基等が挙げられる。
【００１６】式（III）の化合物において、Ｘのハロゲ
ン原子としては、臭素、塩素、ヨウ素が特に適当であ
る。また、ｎは１〜１００００、特に１０〜１０００で
あることが好ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】第２発明では、式（II）のジエチ
ニルシラン化合物にホウ素化合物を作用させて、式
（I）のシロールジボロン酸化合物を得る。この場合、
ホウ素化合物としては、例えばビス（ジエチルアミノ）
ボリルクロライドを用いることができるが、これに限定
されるものではない。また、反応溶媒としては、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ベンゼ
ン、トルエン等の任意のものを使用することができる。
反応温度は、特に制限はないが、通常、−７８℃〜室温
程度が好ましい。
【００１８】より具体的には、第２発明では、例えば後
述する合成例１に示すように、式（II）のジエチニルシ
ラン化合物のＬＤＭＡＮ（リチウムジメチルアミノナフ
タレニド）を用いた分子内還元的環化反応により、２，
５−ジリチオシロールを得、これをジアミノクロロボラ
ンで捕捉した後、加水分解することにより、式（I）の
シロールジボロン酸化合物を得ることができる。
【００１９】第３発明の共重合体の末端部分について
は、確認することが困難であるため、特定することが難
しいが、第３発明の共重合体では、両末端にシロール環
が存在してもよく、両末端にＡｒが存在してもよく、一
方の末端にシロール環、他方の末端にＡｒが存在しても
よい。また、重合性の反応部位についても、ボロン酸又
はハロゲンのまま停止しているか、それらが水素に置き
換わっていることが推測される。
【００２０】第４発明では、式（I）のシロールジボロ
ン酸化合物にジハロゲン化合物を作用させて、式（II
I）のシロール共重合体を得る。この場合、ジハロゲン
化合物としては、例えば２，５−ジブロモチオフェンを
用いることができるが、これに限定されるものではな
い。また、反応溶媒、反応温度については前記と同様で
ある。
【００２１】第５発明では、式（I）のシロールジボロ
ン酸化合物にハロゲン化合物を作用させて、式（IV）の
シロール誘導体を得る。この場合、ハロゲン化合物とし
ては、例えば３−ブロモピリジンを用いることができる
が、これに限定されるものではない。また、反応溶媒、
反応温度については前記と同様である。
【００２２】より具体的には、第４発明及び第５発明で
は、例えば後述する合成例２〜４に示すように、Ｐｄ
（０）触媒を用いた式（I）の化合物と臭化アリールと
のクロスカップリング反応により、一連の２，５−ジア
リールシロールを良好な収率で得ることができる。ま
た、例えば後述する合成例５に示すように、ジブロモチ
オフェンとのカップリング反応により、これまで合成が
不可能であったシロール−チオフェン交互共重合体を得
ることができる。
【００２３】
【実施例】次に、実施例により本発明を具体的に示す
が、本発明は下記実施例に限定されるものではない。以
下の合成例で使用した原料化合物あるいは合成した化合
物は次の通りである。したがって、合成例１が第１及び
第２発明の実施例であり、合成例２〜４が第５発明の実
施例であり、合成例５が第３及び第４発明の実施例であ
る。なお、以下の記述において、Ｍｅはメチル基、Ｅｔ
はエチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。
【００２４】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
【００２５】ただし、前記式（IIIa）のシロール−チオ
フェン共重合体において、Ｘは水素原子、ハロゲン原子
又は下記式
【化２７】 で示される基（ただし、Ｙ1は水素原子又はＢ（ＯＨ）2
である）を示し、Ｙは水素原子、Ｂ（ＯＨ）2又は下記
式
【化２８】 で示される基（ただし、Ｘ1は水素原子又はハロゲン原
子である）を示す。
【００２６】（合成例１）１，１−ジエチルシロール−
２，５−ジボロン酸の合成（式（Ia）の化合物） ナフタレン（１５．４ｇ，１２ｍｍｏｌ）及び粒状リチ
ウム（８２ｍｇ，１２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（９ｍｌ）溶
液を、アルゴン下において室温で６時間撹拌した。得ら
れた濃い緑色のリチウムナフタレナイド溶液に、式（II
a）で示されるジエチニルシラン（０．８７ｇ，３ｍｍ
ｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を室温で加えた。同温度
で５分間撹拌した後、混合物を−７８℃に冷却した。混
合物に、トリフェニルシリルクロライド（１．７７ｇ，
６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液を添加した。同温
度で１時間撹拌した後、ビス（ジエチルアミノ）ボリル
クロライド（１．１４ｇ，６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍ
ｌ）溶液を加えた。混合物を６時間で室温に加温した。
生じた白色の沈殿物を濾去し、濾液を濃縮した。混合物
をＥｔ2Ｏに溶解し、１Ｎ塩酸水溶液で加水分解した。
Ｅｔ2Ｏで抽出した後、抽出混合物を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、濾過し、ロータリーエバポレーション
により濃縮した。混合物にヘキサンを加え、シロールジ
ボロン酸及びトリフェニルジシロキサンの混合物である
沈殿物を濾過して採取した。この操作を３回繰り替えし
た後、全沈殿物を１，２−ジクロロエタンに溶解した。
混合物を濾過したところ、不溶分として分光的に純粋な
式（Ia）の化合物（５００ｍｇ，１．３２ｍｍｏｌ）が
収率４４％で得られた。
【００２７】その物性値は以下の通りであった。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１．０１−１．０５（ｍ，
１０Ｈ），６．９０−７．００（ｍ，４Ｈ），７．１５
−７．２０（ｍ，６Ｈ）．
【００２８】（合成例２）１，１−ジエチル−２，５−
ジ（３−ピリジル）シロール（式（IVａ）の化合物）の
合成 式（Ia）の化合物（１８９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）と３
−ブロモピリジン（１５８ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）との
混合物及びＮａ2ＣＯ3（１０６ｍｇ，１ｍｍｏｌ）に、
Ｐｄ2（ｄｂａ）3・ＣＨＣｌ3（２６ｍｇ，０．０２５
ｍｍｏｌ）及びＰＰｈ3（２６ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）
のＴＨＦ（３．５ｍｌ）溶液を室温において加えた。１
ｍｌの水を添加した後、混合物を撹拌下において４２時
間環流した。1Ｈ−ＮＭＲによって反応の完了を確認し
た後、水を添加し、混合物をＥｔ2Ｏで抽出した。エー
テル層を１Ｎ塩酸水溶液で抽出した。水層を１Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液で中和した後、Ｅｔ2Ｏで抽出した。
有機層抽出物をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た後、濾過した。濾液をロータリーエバポレーションに
より濃縮したところ、純粋な式（IVａ）の化合物（２０
４ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ）が収率９２％で得られた。
【００２９】その物性値は以下の通りであった。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ０．９８−１．０５（ｍ，
１０Ｈ），６．７４−６．８０（ｍ，４Ｈ），６．９５
−７．１５（ｍ，１０Ｈ），８．２０−８．３０（ｍ，
４Ｈ）．
【００３０】（合成例３）１，１−ジエチル−２，５−
ジフェニルシロール（式（IVｂ）の化合物）の合成 合成例２において、３−ブロモピリジンをブロモベンゼ
ンに代えたこと以外は、合成例２に準ずる方法で式（IV
ｂ）の化合物を合成した。収率は９３％であった。
【００３１】（合成例４）１，１−ジエチル−２，５−
ジ（２−チエニル）シロール（式（IVｃ）の化合物）の
合成 合成例２において、３−ブロモピリジンを２−ブロモチ
オフェンに代えたこと以外は、合成例２に準ずる方法で
式（IVｃ）の化合物を合成した。収率は９７％であっ
た。
【００３２】（合成例５）式（IIIa）のシロール−チオ
フェン共重合体の合成 合成例２において、３−ブロモピリジンを２，５−ジブ
ロモチオフェンに代えたこと以外は、合成例２に準ずる
方法で式（IIIa）のシロール−チオフェン共重合体を合
成した。収率は８３％であった。得られたポリマーの分
子量は、ポリスチレン換算でＭｗ=６９００、Ｍｎ=３５
００であった。
【００３３】（比較合成例）１，１−ジメチル−２，５
−ジ（３−ピリジル）−３，４−ジフェニルシラシクロ
ペンタジエンの合成 ナフタレン２．５６ｇの入った５０ｍｌ二口フラスコ内
をアルゴンガスで置換後、フラスコ内にリチウム１４０
ｍｇ及びＴＨＦ１５ｍｌを加えた。４時間撹拌した後、
合成例１で得られたシラン誘導体１．３ｇを滴下した。
続いて１０分後に０℃まで冷却後、ターシャリーブチル
ジフェニルシリルクロライド２．７５ｇを加え、２０分
撹拌後、塩化亜鉛のテトラメチルエチレンジアミン錯体
５．０５ｇを添加した。反応温度を室温に戻し、３ーブ
ロモピリジン１．９ｇとビストリフェニルフォスフィン
ジクロロパラジウム１７５ｍｇを加え、１６時間還流し
た。析出した固体を濾過後、反応溶液を濃縮した。これ
に１Ｎ塩酸とエーテルを加え、水層に抽出した。水層を
水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性にした後、エーテ
ルにて抽出し、さらに水で洗浄後、硫酸ナトリウムにて
乾燥し濃縮した。ヘキサンと酢酸エチルとの混合溶媒か
ら再結晶を行い、目的化合物を得た。収率は３３％であ
り、合成例２に比べて収率は低かった。
【００３４】その物性値は以下の通りであった。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ０．５０（ｓ，６Ｈ），
６．７５−６．８０（ｍ，４Ｈ），６．９５−７．０６
（ｍ，８Ｈ），７．０６−７．１２（ｍ，２Ｈ）．
【００３５】（応用例）２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍ
ｍのガラス基板上にＩＴＯを蒸着法にて１００ｎｍの厚
さで製膜したもの（東京三容真空（株）製）を透明支持
基板とした。この透明支持基板を市販のスピンナーに固
定し、合成例５で得られたシロール−チオフェン共重合
体のクロロフォルム溶液を基板表面に滴下した。５００
０ｒｐｍの回転速度で、基板にシロール−チオフェン共
重合体をスピンコートした。次いで、この共重合体を塗
布した基板を市販の蒸着装置（真空機工（株）製）の基
板ホルダーに固定し、石英製のるつぼにＮ，Ｎ’−ジフ
ェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−４，
４’−ジアミノビフェニル（以下、ＴＰＤと略記する）
を入れ、別のるつぼに８−ヒドロキシキノリンアルミニ
ウム（以下、Ａｌｑと略記する）を入れて真空槽を１×
１０-4Ｐａまで減圧した。るつぼを加熱し、膜厚４０ｎ
ｍになるようにＴＰＤを蒸着した。この上に、Ａｌｑ入
りのるつぼを加熱して、膜厚５０ｎｍになるようにＡｌ
ｑを蒸着した。蒸着速度は０．１〜０．２ｎｍ／秒であ
った。次に、グラファイト製のるつぼにマグネシウムを
いれ、別のるつぼに銀を入れて真空槽を１×１０-4Ｐａ
まで減圧した。その後、真空槽を１×１０-4Ｐａまで減
圧してから、グラファイト製のるつぼからマグネシウム
を１．２〜２．４ｎｍ／秒の蒸着速度で、同時にもう一
方のるつぼから銀を０．１〜０．２ｎｍ／秒の蒸着速度
で蒸着した。上記条件でマグネシウムと銀の混合金属電
極を発光層の上に２００ｎｍ積層蒸着して対向電極と
し、素子を形成した。ＩＴＯ電極を陽極、マグネシウム
と銀の混合電極を陰極として、得られた素子に直流電圧
を印加すると、電流が流れ、発光面が均一な緑色の発光
を得た。
【００３６】
【発明の効果】第１発明に係る式（I）のシロールジボ
ロン酸化合物は、単離可能であるとともに、含シロール
π共役化合物の有用な前駆体として作用するため、該化
合物を出発物質として用いることにより、非線形光学材
料、導電性材料、有機ＥＬ素子、電子写真などの光電子
機能材料あるいはそれらの合成原料等として使用できる
π電子系化合物や共重合体を自由にかつ収率良く合成す
ることが可能となる。また、第３発明に係る式（III）
のシロール共重合体及び第５発明で得られるシロール誘
導体は、上記光電子機能材料等としての用途が期待でき
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古川 顕治 神奈川県横須賀市久里浜一丁目16番７号

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記式（I） 【化１】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
    アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
    れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
    示す。］で示されるシロールジボロン酸化合物。
  2. 【請求項２】 下記式（II） 【化２】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
    アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
    れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
    示す。］で示されるジエチニルシラン化合物にホウ素化
    合物を作用させて、下記式（I） 【化３】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
    アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
    れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
    示す。］で示される化合物を得ることを特徴とするシロ
    ールジボロン酸化合物の製造方法。
  3. 【請求項３】 下記式（III） 【化４】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
    アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
    れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
    示し、Ａｒは置換又は無置換のアリーレン基又は２価の
    ヘテロ環基を示し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子又は下
    記式 【化５】 で示される基（ただし、Ｙ1は水素原子又はＢ（ＯＨ）2
    である）を示し、Ｙは水素原子、Ｂ（ＯＨ）2又はＡｒ
    Ｘ1（ただし、Ｘ1は水素原子又はハロゲン原子である）
    を示す。ｎは１以上の数である。］で示されるシロール
    共重合体。
  4. 【請求項４】 下記式（I） 【化６】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
    アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
    れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
    示す。］で示されるシロールジボロン酸化合物にジハロ
    ゲン化合物を作用させて、下記式（III） 【化７】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
    アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
    れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
    示し、Ａｒは置換又は無置換のアリーレン基又は２価の
    ヘテロ環基を示し、Ｘは水素原子、ハロゲン原子又は下
    記式 【化８】 で示される基（ただし、Ｙ1は水素原子又はＢ（ＯＨ）2
    である）を示し、Ｙは水素原子、Ｂ（ＯＨ）2又はＡｒ
    Ｘ1（ただし、Ｘ1は水素原子又はハロゲン原子である）
    を示す。ｎは１以上の数である。］で示される化合物を
    得ることを特徴とするシロール共重合体の製造方法。
  5. 【請求項５】 下記式（I） 【化９】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
    アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
    れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
    示す。］で示されるシロールジボロン酸化合物にハロゲ
    ン化合物を作用させて、下記式（IV） 【化１０】 ［式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に置換又は無置換の
    アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ3及びＲ4はそれぞ
    れ独立に置換又は無置換のアルキル基又はアリール基を
    示し、Ａｒは置換又は無置換のアリール基又はヘテロ環
    基を示す。］で示される化合物を得ることを特徴とする
    シロール誘導体の製造方法。
JP05944798A 1998-03-11 1998-03-11 シロールジボロン酸化合物、シロール共重合体及びそれらの製造方法並びにシロール誘導体の製造方法 Expired - Fee Related JP4151103B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05944798A JP4151103B2 (ja) 1998-03-11 1998-03-11 シロールジボロン酸化合物、シロール共重合体及びそれらの製造方法並びにシロール誘導体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05944798A JP4151103B2 (ja) 1998-03-11 1998-03-11 シロールジボロン酸化合物、シロール共重合体及びそれらの製造方法並びにシロール誘導体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11255779A true JPH11255779A (ja) 1999-09-21
JP4151103B2 JP4151103B2 (ja) 2008-09-17

Family

ID=13113561

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP05944798A Expired - Fee Related JP4151103B2 (ja) 1998-03-11 1998-03-11 シロールジボロン酸化合物、シロール共重合体及びそれらの製造方法並びにシロール誘導体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4151103B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002338581A (ja) * 2001-05-22 2002-11-27 Chisso Corp シラシクロペンタジエン誘導体の製造方法
JP2008189769A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Kyoto Univ メタロール共重合体
JP2015034239A (ja) * 2013-08-09 2015-02-19 株式会社ダイセル 有機ヘテロ高分子及びそれを用いた半導体デバイス
CN115216013A (zh) * 2021-04-21 2022-10-21 四川大学 一种聚联硼硅氧烷橡胶材料及其制备方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002338581A (ja) * 2001-05-22 2002-11-27 Chisso Corp シラシクロペンタジエン誘導体の製造方法
JP2008189769A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Kyoto Univ メタロール共重合体
JP2015034239A (ja) * 2013-08-09 2015-02-19 株式会社ダイセル 有機ヘテロ高分子及びそれを用いた半導体デバイス
CN115216013A (zh) * 2021-04-21 2022-10-21 四川大学 一种聚联硼硅氧烷橡胶材料及其制备方法
CN115216013B (zh) * 2021-04-21 2023-05-12 四川大学 一种聚联硼硅氧烷橡胶材料及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4151103B2 (ja) 2008-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3886381B2 (ja) 高分子及びその製造方法と使用
JP5399636B2 (ja) ジナフチレエチレン派生物、その合成方法、ジナフチルエチレン派生物から作られたフィルム及びそのフィルムを含む有機エレクトロルミネッセンスダイオード。
JP5940548B2 (ja) 新規なスピロビフルオレン化合物
KR20090051140A (ko) 새로운 유기 발광 소자 재료 및 이를 이용한 유기 발광 소자
JP2008247887A6 (ja) ジナフチレエチレン派生物、その合成方法、ジナフチルエチレン派生物から作られたフィルム及びそのフィルムを含む有機エレクトロルミネッセンスダイオード。
JP2007502251A (ja) ２位官能化及び２，７位二官能化カルバゾール類のモノマー類、オリゴマー類、及びポリマー類
KR20100113204A (ko) 새로운 유기 발광 소자 재료 및 이를 이용한 유기 발광 소자
TWI393724B (zh) 含硫族縮環多環式有機材料及其製造方法
RU2624820C2 (ru) Донорно-акцепторные сопряженные молекулы и способ их получения
JPWO2004018488A1 (ja) 多環縮環型π共役有機材料、およびその合成中間体、並びに多環縮環型π共役有機材料の製造方法
JP4151103B2 (ja) シロールジボロン酸化合物、シロール共重合体及びそれらの製造方法並びにシロール誘導体の製造方法
EP1416028A1 (en) New method for the production of monomers useful in the manufacture of semiconductive polymers
JP4552023B2 (ja) 多環縮環型π共役有機材料、その合成中間体、多環縮環型π共役有機材料の製造方法、および多環縮環型π共役有機材料の合成中間体の製造方法
JP4248926B2 (ja) 多置換アセン誘導体及びその製造方法
KR20050036903A (ko) 일렉트로루미네선스 폴리머, 비스플루오레닐실란 화합물및 유기 일렉트로루미네선스 소자
JPH08245636A (ja) セレノロセレノフェンオリゴマおよびその製造方法
JP4160142B2 (ja) ジ−ｐ−トリルジアルキルシラン誘導体、これよりなる発光高分子及びその製造方法
JP6319979B2 (ja) ホウ素含有化合物、及び、ホウ素含有重合体
JP5034157B2 (ja) 芳香族化合物
JP4135205B2 (ja) シラシクロペンタジエン誘導体の多量体
JP6596109B2 (ja) ホウ素含有化合物、及び、ホウ素含有重合体
JP2023526683A (ja) 有機発光素子
JP2004505959A (ja) ジ（ヘテロ）アリールアミノチアゾール誘導体及び有機発光ダイオード（ｏｌｅｄ）及び有機光起電力構成要素におけるその使用
JP2000256445A (ja) ジベンゾアゼピン化合物、該ジベンゾアゼピン化合物を骨格とする高分子、および有機薄膜ｅｌ素子
JP5650959B2 (ja) フタロシアンニンを側鎖に持つ発光材料及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050214

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050214

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20050214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080318

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080515

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080610

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080623

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110711

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120711

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130711

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees