JPH11255957A - 安定剤混合物 - Google Patents
安定剤混合物Info
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- JPH11255957A JPH11255957A JP10376316A JP37631698A JPH11255957A JP H11255957 A JPH11255957 A JP H11255957A JP 10376316 A JP10376316 A JP 10376316A JP 37631698 A JP37631698 A JP 37631698A JP H11255957 A JPH11255957 A JP H11255957A
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Abstract
(B)2種の異なる化合物の重量比が1:10ないし1
0:1であり、Znの有機塩、Znの無機塩、Mgの有
機塩およびMgの無機塩からなる群から選択された2種
の異なる化合物を含む安定剤混合物;ただし(1)該安
定剤混合物は過塩素酸を本質的に含んでおらず、そして
(2)成分(B)の2種の化合物は、ZnOおよびZn
ステアレートの組合せならびにZnOおよびヒドロタル
サイトの組合せとは異なる安定剤混合物;は、光、熱ま
たは酸化により誘因される分解に対する有機材料、特に
ポリオレフィンの安定化に有効である。
Description
化合物および2種の異なるMgおよび/またはZn−化
合物を含む安定剤混合物;光、熱または酸化により誘因
された分解に対して有機材料、特にポリオレフィンを安
定化させるために該混合物を使用することならびにその
ようにして安定化された有機材料に関する。
フィンの安定化は数々の刊行物、例えばUS−A−49
29652、US−A−5025051、US−A−5
037870、EP−A−276923、EP−A−2
90388、EP−A−429731、EP−A−46
8923、EP−A−661341、EP−A−690
094、DE−A−19545896(Derwent
96−278994/29;ケミカルアブストラクト1
25:116779q)、WO−A−95/2576
7、GB−A−2293827及びケミカルアブストラ
クト106:197407zに記載されている。
(A)立体障害性アミン化合物、および(B)2種の異
なる化合物の重量比が1:10ないし10:1であり、
Znの有機塩、Znの無機塩、Mgの有機塩およびMg
の無機塩からなる群から選択された2種の異なる化合物
を含む安定剤混合物に関する;ただし(1)該安定剤混
合物は本質的に過塩素酸を含んでおらず、そして(2)
成分(B)の2種の化合物は、ZnOおよびZnステア
レートの組合せならびにZnOおよびヒドロタルサイト
の組合せとは異なる。
の重量比は好ましくは1:5ないし5:1、特に1:2
ないし2:1である。立体障害性アミンは好ましくは、
次式(I)または(II)
およびG2 は互いに独立して水素原子、メチル基を表す
か、あるいは一緒になって置換基=Oを表す。)で表さ
れる基の少なくとも1種を含む化合物である。立体障害
性アミンのより詳細な例は以下の分類(a’)ないし
(i’)に記載される。
それぞれ独立して水素原子、メチル基を表し、G11は水
素原子、O・、ヒドロキシル基、炭素原子数1ないし1
8のアルキル基、炭素原子数3ないし8のアルケニル
基、炭素原子数3ないし8のアルキニル基、炭素原子数
7ないし12のアルアルキル基、炭素原子数1ないし1
8のアルコキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアル
コキシ基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルコキシ
基、炭素原子数1ないし8のアルカノイル基、炭素原子
数3ないし5のアルケノイル基、炭素原子数1ないし1
8のアルカノイルオキシ基、グリシジル基または式−C
H2 CH(OH)−Z(式中、Zは水素原子、メチル基
またはフェニル基を表す。)で表される基を表し、好ま
しくはG11は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基またはアクリ
ロイル基を表し、そしてG12は、n1 が1の場合、水素
原子、酸素原子の1個またはそれ以上により中断されて
いない又は中断されている炭素原子数1ないし18のア
ルキル基、シアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル
基;脂肪族、脂環族、芳香族脂肪族、不飽和または芳香
族カルボン酸、カルバミン酸またはリン含有酸の一価の
基または一価のシリル基、好ましくは2ないし18個の
炭素原子を有する脂肪族カルボン酸の基、7ないし15
個の炭素原子を有する脂環族カルボン酸の基、または3
ないし5個の炭素原子を有するα,β−不飽和カルボン
酸の基、7ないし15個の炭素原子を有する芳香族カル
ボン酸の基を表し、それぞれのカルボン酸は−COOZ
12基の1ないし3個により脂肪族、脂環族または芳香族
部分に置換されていてよく、ここではZ12は水素原子、
炭素原子数1ないし20のアルキル基、炭素原子数3な
いし12のアルケニル基、炭素原子数5ないし7のシク
ロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表し、G
12は、n1 が2の場合、炭素原子数2ないし12のアル
ケニル基、炭素原子数4ないし12のアルケニレン基、
キシリレン基;脂肪族、脂環族、芳香族脂肪族または芳
香族ジカルボン酸、ジカルバミン酸またはリン含有酸の
二価の基または二価のシリル基、好ましくは2ないし3
6個の炭素原子を有する脂肪族ジカルボン酸の基、8な
いし14個の炭素原子を有する脂環族または芳香族ジカ
ルボン酸の基または8ないし14個の炭素原子を有する
脂肪族、脂環族または芳香族ジカルバミン酸の基を表
し、それぞれのジカルボン酸は−COOZ12基の1また
は2個により脂肪族、脂環族または芳香族部分に置換さ
れていてよく、G12は、n1 は3の場合、−COOZ12
基により脂肪族、脂環族または芳香族部分に置換されて
いてもよい脂肪族、脂環族または芳香族トリカルボン酸
の三価の基、芳香族トリカルバミン酸の三価の基または
リン含有酸の三価の基または三価のシリル基を表し、そ
してG12は、n1 が4の場合、脂肪族、脂環族または芳
香族テトラカルボン酸の四価の基を表す。〕で表される
化合物。
おいて式(−CO)x Rで表される基を意味し、xは上
述で定義された通りであり、Rの意味は以下に与えられ
る定義から生じる。20個までの炭素原子を有するアル
キル基は、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、n−
ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、
n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−
ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、
n−ヘキサデシル基またはn−オクタデシル基である。
てのG11は、例えば1−プロペニル基、アリル基、メタ
リル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、2−ヘキ
セニル基、2−オクテニル基または4−第三ブチル−2
−ブテニル基である。炭素原子数3ないし8のアルキニ
ル基としてのG11は、好ましくはプロパルギル基であ
る。炭素原子数7ないし12のアルアルキル基としての
G11は、特にフェネチル基、特にベンジル基である。
してのG11は、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、
ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシロキシ基、ドデシロ
キシ基、テトラデシロキシ基、ヘキサデシロキシ基およ
びオクタデシロキシ基である。炭素原子数6ないし12
のアルコキシ基は、特にヘプトキシ基およびオクトキシ
基が好ましい。炭素原子数5ないし8のシクロアルコキ
シ基としてのG11は、例えばシクロペントキシ基、シク
ロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロオクトキ
シ基、シクロデシロキシ基およびシクロドデシロキシ基
である。炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基
は、特にシクロペントキシ基およびシクロヘキソキシ基
が好ましい。
シ基は、例えばベンジルオキシ基である。炭素原子数1
ないし8のアルカノイル基としてのG11は、例えばホル
ミル基、プロピオニル基、ブチリル基、オクタノイル基
であるが、好ましくはアセチル基であり、そして炭素原
子数3ないし5のアルケノイル基としてのG11は、特に
アクリロイル基である。炭素原子数1ないし18のアル
カノイルオキシ基G11は、例えばホルミルオキシ基、ア
セチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキ
シ基、バレリルオキシ基、ラウロイルオキシ基、パルミ
トイルオキシ基およびステアロイルオキシ基である。
12がカルボン酸の一価の基である場合、それは例えばア
セチル基、カプロイル基、ステアロイル基、アクリロイ
ル基、メタクロイル基、ベンゾイル基またはβ−(3,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オニル基である。G12が一価のシリル基である場合、そ
れは例えば式−(Cj H2j)−Si(Z’)2 Z”(式
中、jは2ないし5の範囲内の整数であり、Z’および
Z”はそれぞれ互いに独立して炭素原子数1ないし4の
アルキル基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基
を表す。)で表される基である。
合、それは例えばマロニル基、スクシニル基、グルタリ
ル基、アジポイル基、スベロイル基、セバコイル基、マ
レオイル基、イタコニル基、フタロイル基、ジブチルマ
ロニル基、ジベンジルマロニル基、ブチル(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロニル基ま
たはビシクロヘプテンジカルボニル基または次式
である場合、それは例えばトリメルリトイル基、シトリ
ル基またはニトリロトリアセチル基である。G12がテト
ラカルボン酸の四価の基である場合、それは例えばブタ
ン−1,2,3,4−テトラカルボン酸またはピロメル
リト酸の四価の基である。G12がジカルバミン酸の二価
の基である場合、それは例えばヘキサメチレンジカルバ
モイル基または2,4−トルイレンジカルバモイル基で
ある。GおよびG1 が水素原子を表し、G11が水素原子
またはメチル基を表し、n1が2であり、そしてG12が
4ないし12個の炭素原子を有する脂肪族ジカルボン酸
のジアシル基である式(Ia)で表される化合物が好ま
しい。
合物の例は以下の化合物である。 1)4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン 2)1−アリル−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン 3)1−ベンジル−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン 4)1−(4−第三ブチル−2−ブテニル)−4−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 5)4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン 6)1−エチル−4−サリシロイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン 7)4−メタクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−
ペンタメチルピペリジン 8)1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4
−イルβ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオネート 9)ジ(1−ベンジル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)マレエート 10)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)スクシネート 11)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)グルタレート 12)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)アジペート 13)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)セバケート 14)ジ(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ン−4−イル)セバケート 15)ジ(1,2,3,6−テトラメチル−2,6−ジ
エチル−ピペリジン−4−イル)セバケート 16)ジ(1−アリル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)フタレート 17)1−ヒドロキシ−4−β−シアノエチルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 18)1−アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル アセテート 19)トリ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)トリメルリテート 20)1−アクリロイル−4−ベンジルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン 21)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)ジエチルマロネート 22)ジ(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ン−4−イル)ジブチルマロネート 23)ジ(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ン−4−イル)ブチル(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)マロネート 24)ジ(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)セバケート 25)ジ(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケート 26)ヘキサン−1’,6’−ビス(4−カルバモイル
オキシ−1−n−ブチル−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン) 27)トルエン−2’,4’−ビス(4−カルバモイル
オキシ−1−n−プロピル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン) 28)ジメチルビス(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−オキシ)シラン 29)フェニルトリス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−オキシ)シラン 30)トリス(1−プロピル−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)ホスフィット 30−a)トリス(1−メチル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)ホスフィット 31)トリス(1−プロピル−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)ホスフェート 32)フェニル ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジン−4−イル)ホスホネート 33)4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジン 34)4−ヒドロキシ−N−ヒドロキシエチル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン 35)4−ヒドロキシ−N−(2−ヒドロキシプロピ
ル)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 36)1−グリシジル−4−ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン 36−a)1,2,3,4−テトラキス〔2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−4−イルオキシカルボニ
ル〕ブタン 36−b)1,2,3,4−テトラキス〔1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イルオキシカル
ボニル〕ブタン 36−c)2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イルオキシカルボニル(炭素原子数15ないし17
のアルカン)
びG11は上述の(a’)で定義された通りであり、G13
は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭
素原子数2ないし5のヒドロキシアルキル基、炭素原子
数5ないし7のシクロアルキル基、炭素原子数7ないし
8のアルアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルカ
ノイル基、炭素原子数3ないし5のアルケノイル基、ベ
ンゾイル基または次式
14は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、
炭素原子数3ないし8のアルケニル基、炭素原子数5な
いし7のシクロアルキル基を表し、あるいは水素原子、
シアノ基、アルコキシカルボニル基またはカルバミド基
により置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基;
グリシジル基、式−CH2 −CH(OH)−Zまたは式
−CONH−Zで表される基を表し、式中Zは水素原
子、メチル基またはフェニル基を表し;n2 が2である
場合、G14は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、
炭素原子数6ないし12のアリーレン基、キシリレン
基、−CH2 −CH(OH)−CH2 −の基または−C
H2 −CH(OH)−CH2 −O−D−O−の基を表
し、式中Dは炭素原子数2ないし10のアルキレン基、
炭素原子数6ないし15のアリーレン基、炭素原子数6
ないし12のシクロアルキレン基を表すか、またはG13
がアルカノイル基、アルケノイル基またはベンゾイル基
ではない場合、G14は代わりとして1−オキソ−炭素原
子数2ないし12のアルキレン基、脂肪族、脂環族もし
くは芳香族ジカルボン酸またはジカルバミン酸の二価の
基を表すか、または代わりとして−CO−基を表し、n
2 が3である場合、G14は次式
合、G13およびG14は一緒になって脂肪族、脂環族また
は芳香族1,2−または1,3−ジカルボン酸の二価の
基を表すことも可能である。)で表される化合物。
を以下に示す。アルキル置換基はいずれも(a’)に関
して定義された通りである。炭素原子数5ないし7のシ
クロアルキル置換基はいずれも、特に、シクロヘキシル
基を表す。炭素原子数7ないし8のアルアルキル基とし
てG13は、特にフェニルエチル基、または特にベンジル
基を表す。炭素原子数2ないし5のヒドロキシアルキル
基としてのG13は特に2−ヒドロキシエチル基または2
−ヒドロキシプロピル基である。炭素原子数1ないし1
8のアルカノイル基としてのG13は、例えばホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、オクタ
ノイル基、ドデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オク
タデカノイル基であるが、好ましくはアセチル基であ
り、炭素原子数3ないし5のアルケノイル基としてのG
13は特にアクリロイル基である。
てのG14は、例えばアリル基、メタリル基、2−ブテニ
ル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基または2−
オクテニル基である。ヒドロキシル−、シアノ−、アル
コキシカルボニル−またはカルバミド−置換炭素原子数
1ないし4のアルキル基としてG14は、例えば2−ヒド
ロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シア
ノエチル基、メトキシカルボニルメチル基、2−エトキ
シカルボニルエチル基、2−アミノカルボニルプロピル
基または2−(ジメチルアミノカルボニル)エチル基で
あってよい。炭素原子数2ないし12のアルキレン基は
いずれも、例えばエチレン基、プロピレン基、2,2−
ジメチルプロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチ
レン基、オクタメチレン基、デカメチレン基またはドデ
カメチレン基である。
基はいずれも、例えばo−、m−またはp−フェニレン
基、1,4−ナフチレン基または4,4’−ジフェニレ
ン基である。炭素原子数6ないし12のシクロアルキレ
ン基は特にシクロヘキシレン基がよい。1−オキソ−炭
素原子数2ないし12のアルキレン基は、好ましくは次
式
化合物であり、式中n2 は1または2であり、Gおよび
G1 は水素原子を表し、G11は水素原子またはメチル基
を表し、G13は水素原子、炭素原子数1ないし12のア
ルキル基または次式
素原子数1ないし12のアルキル基を表し、n2 が2の
場合、G14は炭素原子数2ないし8のアルキレン基また
は1−オキソ−炭素原子数2ないし8のアルキレン基を
表す。
物の例を以下に示す。 37)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)ヘキサメチレン−1,6−ジア
ミン 38)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)ヘキサメチレン−1,6−ジア
セタミド 39)ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)アミン 40)4−ベンゾイルアミノ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン 41)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)N,N’−ジブチルアジパミド 42)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)−N,N’−ジシクロヘキシル
−2−ヒドロプロピレン−1,3−ジアミン 43)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)−p−キシリレンジアミン 44)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)スクシンアミド 45)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)N−(2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−イル)−β−アミノ−ジプロピオネート 46)次式の化合物
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン 48)4−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−第三ブ
チルベンズアミド)−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン 49)4−メタクリルアミド−1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジン
テトラメチルピペリジン−4−イルアミノ(2−ヒドロ
キシプロピレン)〕イソシアヌレート 49−c)2−(2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−イルアミノ)−2−(2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イルアミノカルボニル)プロ
パン 49−d)1,6−ビス〔N−(2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)ホルミルアミノ〕ヘキ
サン
11は(a’)において定義された通りであり、そしてn
3 が1の場合、G15は炭素原子数2ないし8のアルキレ
ン基または炭素原子数2ないし8のヒドロキシアルキレ
ン基あるいは炭素原子数4ないし22のアシルオキシア
ルキレン基を表し、そしてn3 が2の場合、G15は(−
CH2 )2 C(CH2 −)2 の基を表す。)で表される
化合物。炭素原子数2ないし8のアルキレン基または炭
素原子数2ないし8のヒドロキシアルキレン基としての
G15は、例えばエチレン基、1−メチルエチレン基、プ
ロピレン基、2−エチルプロピレン基または2−エチル
−2−ヒドロキシメチルプロピレン基である。炭素原子
数4ないし22のアシルオキシアルキレン基としてのG
15は、例えば2−エチル−2−アセトキシメチルプロピ
レン基である。
合物の例を以下に示す。 50)9−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−
1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン 51)9−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−
3−エチル−1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデ
カン 52)8−アザ−2,7,7,8,9,9−ヘキサメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ〔4.5〕デカン 53)9−アザ−3−ヒドロキシメチル−3−エチル−
8,8,9,10,10−ペンタメチル−1,5−ジオ
キサスピロ〔5.5〕ウンデカン 54)9−アザ−3−エチル−3−アセトキシメチル−
9−アセチル−8,8,10,10−テトラメチル−
1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン 55)2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
スピロ−2’−(1’,3’−ジオキサン)−5’−ス
ピロ−5’’−(1’’,3’’−ジオキサン)−
2’’−スピロ−4’’’−(2’’’,2’’’,
6’’’,6’’’−テトラメチルピペリジン)
または(Id−3)
11は(a’)において定義された通りであり、G16は水
素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、アリル
基、ベンジル基、グリシジル基または炭素原子数2ない
し6のアルコキシアルキル基を表し、そして、n4 が1
である場合、G17は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし5のアルケニル基、
炭素原子数7ないし9のアルアルキル基、炭素原子数5
ないし7のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし4の
ヒドロキシアルキル基、炭素原子数2ないし6のアルコ
キシアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール
基、グリシジル基または式−(CH2 )p−COO−Q
もしくは式−(CH2 )p−O−CO−Qで表される基
を表し、式中pは1または2であり、Qは炭素原子数1
ないし4のアルキル基またはフェニル基を表し、そし
て、n4 が2である場合、G17は炭素原子数2ないし1
2のアルキレン基、炭素原子数4ないし12のアルケニ
レン基、炭素原子数6ないし12のアリーレン基、−C
H2 −CH(OH)−CH2 −O−D’−O−CH2 −
CH(OH)−CH2−(式中D’は炭素原子数2ない
し10のアルキレン基、炭素原子数6ないし15のアリ
ーレン基、炭素原子数6ないし12のシクロアルキレン
基を表す。)で表される基または−CH2 CH(O
D’’)CH2 −(OCH2 −CH(OD’’)C
H2 )2 −(式中D’’は水素原子、炭素原子数1ない
し18のアルキル基、アリル基、ベンジル基、炭素原子
数2ないし12のアルカノイル基またはベンゾイル基を
表す。)で表される基を表し、T1 およびT2 は互いに
独立して水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル
基あるいは無置換あるいはハロゲンまたは炭素原子数1
ないし4のアルキル置換炭素原子数6ないし10のアリ
ール基もしくは炭素原子数7ないし9のアルアルキル基
を表すか、あるいはT1 およびT2 はそれらが結合して
いる炭素原子で一緒になって炭素原子数5ないし14の
シクロアルカン環を形成する。)で表される化合物。式
(Id−3)で表される化合物が好ましい。
d−3)における幾つかの変例を以下に示す。炭素原子
数1ないし12のアルキル置換基はいずれも、例えばメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、第
二ブチル基、第三ブチル基、n−ヘキシル基、n−オク
チル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デ
シル基、n−ウンデシル基またはn−ドデシル基であ
る。炭素原子数1ないし18のアルキル置換基はいずれ
も、例えば上述に示した基で表され、そして加えて、例
えばn−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ヘキ
サデシル基またはn−オクタデシル基も表す。
ル置換基はいずれも、例えばメトキシメチル基、エトキ
シメチル基、プロポキシメチル基、第三ブトキシメチル
基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、n−ブト
キシエチル基、第三ブトキシエチル基、イソプロポキシ
エチル基またはプロポキシプロピル基である。炭素原子
数3ないし5のアルケニル基としてのG17は、例えば1
−プロペニル基、アリル基、メタリル基、2−ブテニル
基または2−ペンテニル基である。炭素原子数7ないし
9のアルアルキル基としてのG17、T1 およびT2 は特
にフェネチル基または特にベンジル基である。T1 およ
びT2 が炭素原子で一緒になってシクロアルカン環を形
成する場合、例えばこれはシクロペンタン、シクロヘキ
サン、シクロオクタンまたはシクロドデカン環であって
よい。
ル基としてのG17は、例えば2−ヒドロキシエチル基、
2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシブチル基ま
たは4−ヒドロキシブチル基である。炭素原子数6ない
し10のアリール基としてのG17、T1 およびT2 は、
特に無置換もしくはハロゲン原子もしくは炭素原子数1
ないし4のアルキル基により置換されたフェニル基、α
−もしくはβ−ナフチル基である。炭素原子数2ないし
12のアルキレン基としてのG17は、例えばエチレン
基、プロピレン基、2,2−ジメチルプロピレン基、テ
トラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン
基、デカメチレン基またはドデカメチレン基である。炭
素原子数4ないし12のアルケニレン基としてG17は、
特に2−ブテニレン基、2−ペンテニレン基または3−
ヘキセニレン基である。
してのG17は、例えばo−、m−またはp−フェニレン
基、1,4−ナフチレン基または4,4’−ジフェニレ
ン基でる。炭素原子数2ないし12のアルカノイル基と
してのD’’は、例えばプロピオニル基、ブチリル基、
オクタノイル基、ドデカノイル基であるが、アセチル基
が好ましい。炭素原子数2ないし10のアルキレン基、
炭素原子数6ないし15のアリーレン基または炭素原子
数6ないし12のシクロアルキレン基としてのD’は、
例えば(b’)においてDのために与えられた定義の一
つを有する。
の例を以下に示す。 56)3−ベンジル−1,3,8−トリアザ−7,7,
9,9−テトラメチルスピロ〔4.5〕デカン−2,4
−ジオン 57)3−n−オクチル−1,3,8−トリアザ−7,
7,9,9−テトラメチルスピロ〔4.5〕デカン−
2,4−ジオン 58)3−アリル−1,3,8−トリアザ−1,7,
7,9,9−ペンタメチルスピロ〔4.5〕デカン−
2,4−ジオン 59)3−グリシジル−1,3,8−トリアザ−7,
7,8,9,9−ペンタメチルスピロ〔4.5〕デカン
−2,4−ジオン 60)1,3,7,7,8,9,9−ヘプタメチル−
1,3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4
−ジオン 61)2−イソプロピル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソスピロ
〔4.5〕デカン 62)2,2−ジブチル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソスピロ
〔4.5〕デカン 63)2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−
3,20−ジアザ−21−オキソジスピロ〔5.1.1
1.2〕ヘンエイコサン 64)2−ブチル−7,7,9,9−テトラメチル−1
−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキソスピロ〔4.
5〕デカンおよび好ましくは: 65)8−アセチル−3−ドデシル−1,3,8−トリ
アザ−7,7,9,9−テトラメチルスピロ〔4.5〕
デカン−2,4−ジオン および以下に示す化合物:
であり、G1 およびG2は水素原子、メチル基または一
緒になって置換基=Oを表し、Eは−O−または−N
D’’’−を表し、Aは炭素原子数2ないし6のアルキ
レン基または−(CH2 )3 −O−を表し、X1 は数0
または1であり、D’’’は水素原子、炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数2ないし5のヒドロ
キシアルキル基または炭素原子数5ないし7のシクロア
ルキル基を表す。)で表される基を表し、G19はG18と
同様であるか、あるいは−N(G21)(G22)、−OG
23、−N(H)(CH2 OG23)または−N(CH2 O
G23)2 の基の一つを表し、n5 が1の場合、G20はG
18またはG19と同様であり、そしてn5 が2の場合、G
20は−E−DIV−E−(式中DIVは炭素原子数2ないし
8のアルキレン基または−N(G21)−の基の1つ又は
2つにより鎖が中断されている炭素原子数2ないし8の
アルキレン基を表す。)で表される基を表し、G21は炭
素原子数1ないし12のアルキル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基または炭素原子数1ないし4のヒドロキ
シアルキル基あるいは次式
アルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基または炭素
原子数1ないし4のヒドロキシアルキル基を表し、そし
てG23は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基またはフェニル基を表すか、あるいはG21およびG22
は一緒になって炭素原子数4ないし5のアルキレン基ま
たは炭素原子数4ないし5のオキサアルキレン基、例え
ば−CH2 CH2 OCH2 CH2−または式−CH2 C
H2 N(G11)CH2 CH2 −の基を表す。〕で表され
る化合物。
示す。炭素原子数1ないし12のアルキル置換基はいず
れも、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n
−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、n−ヘキシ
ル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノ
ニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基またはn−ド
デシル基である。ヒドロキシアルキル置換基はいずれ
も、例えば2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプ
ロピル基、3−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシ
ブチル基または4−ヒドロキシブチル基である。炭素原
子数5ないし7のシクロアルキル置換基はいずれも、例
えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基またはシクロ
ヘプチル基である。シクロヘキシル基が好ましい。炭素
原子数2ないし6のアルキレン基としてのAは、例えば
エチレン基、プロピレン基、2,2−ジメチルプロピレ
ン基、テトラメチレン基またはヘキサメチレン基であ
る。G21およびG22が一緒になって炭素原子数4ないし
5のアルキレン基またはオキサアルキレン基である場
合、例えばテトラメチレン基、ペンタメチレン基または
3−オキサペンタメチレン基である。
合物の例を以下に示す。
る。
る。)で表される化合物。この種類からの好ましい例は
以下の化合物である。
ピペリジン基を含む構造繰り返し単位を有するオリゴマ
ーまたはポリマー化合物であり、特にポリエステル、ポ
リエーテル、ポリアミド、ポリアミン、ポリウレタン、
ポリウレア、ポリアミノトリアジン、ポリ(メタ)アク
リレート、ポリ(メタ)アクリルアミドおよびそれらの
コポリマーであってそのような基を含むもの。この種類
の2,2,6,6−ポリアルキルピペリジン化合物の例
は以下の式で表される化合物であり、式中m1 ないしm
14は2ないし約200の数であり、好ましくは2ないし
100、例えば2ないし50、2ないし40または3な
いし40または4ないし10である。
遊離原子価で飽和した末端基の定義は、該化合物を製造
するために使用された方法に依存して、以下に示され
る。化合物の合成後に末端基を変性することも可能であ
る。
基は、例えば水素原子または基−CO−(CH2 )2 −
COO−Yもしくは−CO−(CH2 )4 −COO−Y
(それぞれYは水素原子または炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表す。)であってよく、ジアシル基に結合
した末端基は、例えば−O−Yまたは次式
例えば次式
した末端基は、例えば塩素原子であってよい。
基に結合した末端基は、例えば塩素原子または次式
た末端基は、例えば水素原子または次式
原子を、例えば−OHまたはアミノ基で置き換えること
は都合よい。適当なアミン基は代表的に:ピロリジン−
1−イル基、モルホリノ基、−NH2 、−N(炭素原子
数1ないし8のアルキル)2 および−NY’(炭素原子
数1ないし8のアルキル)(式中、Y’は水素原子また
は次式
ペリジン−4−イルアミノ残基に結合した末端基は、例
えば水素原子であってよく、2−ヒドロキシプロピレン
残基に結合した末端基は、例えば次式
水素原子または次式
た末端基は、例えば−OCH3 または塩素原子であって
よい。
水素原子または次式
た末端基は、例えば−OCH3 または塩素原子であって
よい。
水素原子または次式
た末端基は、例えば−OCH3 または塩素原子であって
よい。
例えば水素原子であってよく、そしてエステル残基に結
合した末端基は、例えば次式
例えば水素原子であってよく、そしてエステル残基に結
合した末端基は、例えば次式
例えば水素原子であってよく、そしてアミド残基に結合
した末端基は、例えば次式
は、例えば塩素原子または次式
した末端基は、例えば水素原子または次式
えば−OHまたはアミノ基で置き換えることは都合よ
い。適当なアミノ基は代表的に:ピロリジン−1−イル
基、モルホリノ基、−NH2 、−N(炭素原子数1ない
し8のアルキル)2 および−NY’(炭素原子数1ない
し8のアルキル)(式中、Y’は水素原子または次式
メチル−4−ピペリジル基が1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル基により置き換えられた化合
物92に相当する化合物も好ましい。
は、例えば水素原子であってよく、そして−CH2 CH
2 −残基に結合した末端基は、例えば次式
は、例えば水素原子であってよく、そしてジアシル残基
に結合した末端基は、例えば塩素原子であってよい。
m’15およびm’’15はそれぞれ0ないし200、好ま
しくは0ないし100、特に0ないし50の数であり、
但しm’15+m’’15は2ないし200、好ましくは2
ないし100、特に2ないし50の数である。化合物9
5において、ジアミノ残基に結合した末端基は、例えば
水素原子であってよく、そして−CH2 CH2 −基に結
合した末端基は、例えばハロゲン原子、特に塩素原子ま
たは臭素原子であってよい。
いし25の数である。)で表される化合物。製造時に、
式(96−I)および(96−II)で表される化合物
を混合物として一緒に得ることが可能であり、従ってそ
のような状態でも使用され得る。(96−I):(96
−II)の重量比は、例えば20:1ないし1:20ま
たは1:10ないし10:1である。
た末端基は、例えば水素原子であってよく、そして2−
ヒドロキシプロピレン基に結合した末端基は、例えば次
式
て、ジメチレン基に結合した末端基は、例えば−OHで
あってよく、そして酸素原子に結合した末端基は、例え
ば水素原子であってよい。ポリエーテル基も末端基とな
り得る。
れ互いに独立して、直接結合または炭素原子数1ないし
10のアルキレン基を表し、G11は(a’)において定
義された通りであり、そしてm17は1ないし50、例え
ば2ないし25の数を表す。)で表される化合物。式
(97)で表される化合物において、>C=O基に結合
した末端基は、例えば次式
末端基は、例えば次式
い。
て他は次式
は2ないし100、特に2ないし50の範囲の数であ
る。)で表される化合物。式(98)で表される化合物
において、−CH2 −残基に結合した末端基は、例えば
水素原子であってよく、そして−CH(CO2 RIV)−
残基に結合した末端基は、例えば−CH=CH−COO
RIVで表される基であってよい。
G29およびG32はそれぞれ互いに独立して、直接結合ま
たは−N(X1 )−CO−X2 −CO−N(X3)−の
基を表し、ここでX1 およびX3 はそれぞれ互いに独立
して、水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル
基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または
次式
原子数1ないし4のアルキレン基を表し、G30、G31、
G34およびG35は、それぞれ互いに独立して、水素原
子、炭素原子数1ないし30のアルキル基、炭素原子数
5ないし12のシクロアルキル基またはフェニル基を表
し、G33は水素原子、炭素原子数1ないし30のアルキ
ル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭
素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、フェニル基
または式(99−1)で表される基を表し、そしてm19
は1ないし50の数を表す。)で表される化合物。
2,5−ジオキソピロリジン環に結合した末端基は、例
えば水素原子であってよく、そして−C(G34)
(G35)−基に結合した末端基は、例えば
物の例は
m19は1ないし25の数である。)である。
により得られる中間体生成物を、式(100b)
能な生成物;(式中、m’20、m’’20およびm’’’
20は、それぞれ互いに独立して2ないし12の数であ
り、G36は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フ
ェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基を表し、そしてG11は(a’)において定義された
通りである。)。好ましい生成物はケミカルアブストラ
クト−CAS No.136 504−96−6を有す
る(化合物100−A)。
100−1、100−2または100−3で表される化
合物により表される。これら3種の化合物の混合物の形
状においても使用されうる。
て、m20は好ましくは1ないし20である。
G37は炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子
数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルキル置換炭素原子数5ないし12のシクロア
ルキル基、フェニル基または炭素原子数1ないし10の
アルキル置換フェニル基を表し、G38は炭素原子数3な
いし10のアルキレン基を表し、そしてm21は1ないし
50、例えば2ないし25の数である。)で表される化
合物。
ケイ素原子に結合した末端基は、例えば(G37)3 Si
−O−であってよく、そして酸素原子に結合した末端基
は、例えば−Si(G37)3 であってよい。m21が3な
いし10の数である場合、すなわち遊離原子価が構造式
に示され、直接結合を形成する場合、式(101)で表
される化合物は環式化合物の形状であってもよい。式
(101)の化合物の例は
ー性化合物において、アルキル基の例は、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、2−エチ
ルブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、1−メ
チルペンチル基、1,3−ジメチルブチル基、n−ヘキ
シル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘプチル基、イソ
ヘプチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、
1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、n−オ
クチル基、2−エチルヘキシル基、1,1,3−トリメ
チルヘキシル基、1,1,3,3−テトラメチルペンチ
ル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、1−メチル
ウンデシル基、ドデシル基、1,1,3,3,5,5−
ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基およびドデシル基で
あり;シクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、シクロヘプチル基およびシクロオクチ
ル基であり;例えば7ないし9のフェニルアルキル基の
例は、ベンジル基であり;そしてアルキレン基の例は、
エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基、2,2−ジメチルトリメ
チレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレ
ン基、オクタメチレン基およびデカメチレン基である。
(a’)において定義された通りであり、そしてG14は
(b’)において定義された通りであるが、G14は−C
ONH−Zおよび−CH2 −CH(OH)−CH2 −O
−D−O−では表され得ない。)で表される化合物。そ
のような化合物の例を以下に示す。
i−1)
たは炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基を表
し、G41は炭素原子数2ないし12のアルキレン基を表
し、そしてG42は水素原子、炭素原子数1ないし8のア
ルキル基、−O・、−CH2 CN、炭素原子数3ないし
6のアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルア
ルキル基;炭素原子数1ないし4のアルキル基によりフ
ェニル基上に置換された炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル基;または炭素原子数1ないし8のアシル基
を表す。)の基を表す。〕で表される化合物。
4のアルキル基、特にメチル基、エチル基、プロピル基
またはブチル基である。シクロアルキル基は好ましくは
シクロヘキシル基である。アルキレン基は、例えばエチ
レン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレ
ン基、ペンタメチレン基、2,2−ジメチルトリメチレ
ン基またはヘキサメチレン基である。アルケニル基は好
ましくはアリル基である。フェニルアルキル基は好まし
くはベンジル基である。アシル基は好ましくはアセチル
基である。
される化合物である。
しくは上述の化合物1ないし106の1種である。化合
物5、10、13、14、24、25、36−a、36
−b、49−a−I、49−a−II、49−e、6
3、75、76、80−a、81、84−1、84−
2、92、93、96−I、96−II、97−I、9
7−II、99−I、100−A、101−I、105
および106が興味深い。化合物5、10、13、1
4、36−a、36−b、49−a−I、49−a−I
I、49−d、49−e、63、69−a、76、80
−a、81、84−1、84−2、92、96−I、9
6−II、97−II、99−I、99−II、99−
III、100−A、101−Iおよび105が好まし
く、化合物13、14、36−a、36−b、49−a
−I、49−a−II、63、76、81、84−1、
92、96−I、96−II、100−Aおよび101
−Iが特に好ましい。
シウムの有機塩は、好ましくは式MeL2 (式中Meは
亜鉛またはマグネシウムを表し、Lは有機酸またはエノ
ールのアニオンを表す。)の化合物を表す。有機酸は、
例えばスルホン酸、スルフィン酸、ホスホン酸またはホ
スフィン酸であり得るが、カルボン酸が好ましい。この
酸は、脂肪族、芳香族、芳香族脂肪族または脂環族であ
ってよく、側鎖または分枝鎖状であってよく、水素原子
またはアルコキシ基により置換されていてよく、飽和ま
たは不飽和であってよく、好ましくは1ないし24個の
炭素原子を含有する。
プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、2−エチ
ルカプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
パルチミン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、
ラクチン酸、リシノール酸、2−エトキシプロピオン
酸、安息香酸、サリチル酸、4−ブチル安息香酸、トル
イル酸、4−ドデシル安息香酸、フェニル酢酸、ナフチ
ル酢酸、シクロヘキサンカルボン酸、4−ブチルシクロ
ヘキサンカルボン酸またはシクロヘキシル酢酸である。
このカルボン酸はカルボン酸の工業的混合物、例えば脂
肪酸の工業的混合物またはアルキル化安息香酸の工業的
混合物であってもよい。
は、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、α,α−ジ
メチルエタンスルホン酸、n−ブタンスルホン酸、n−
ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸、4−ノニルベンゼンスルホン酸、4−ドデシ
ルベンゼンスルホン酸またはシクロヘキサンスルホン
酸、ドデカンスルフィン酸、ベンゼンスルフィン酸また
はナフタレンスルフィン酸、ブチルホスホン酸、フェニ
ルホスホン酸、モノメチルまたはモノエチルフェニルホ
スホネート、モノブチルベンジルホスホネート、ジブチ
ルホスフィン酸またはジフェニルホスフィン酸である。
ジカルボニル化合物またはo−アシルフェノールのアニ
オンが好ましい。β−ジカルボニル化合物の例は、アセ
チルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタ
ン、エチルアセトアセテート、ブチルアセトアセテー
ト、ラウリルアセトアセテートまたはα−アセチルシク
ロヘキサノンである。o−アシルフェノールの例は、2
−アセチルフェノール、2−ブチロイルフェノール、2
−アセチル−1−ナフトール、2−ベンゾイルフェノー
ルまたはサリチルアルデヒドである。エノレートは、5
ないし20個の炭素原子を有するβ−ジカルボニル化合
物のアニオンが好ましい。
ルアセトネートまたは、例えば1ないし24個の炭素原
子を有する脂肪族モノカルボキシレートが好ましい。マ
グネシウムアセテート、ラウレートおよびステアレー
ト、亜鉛ホルメート、アセテート、エナンテート、ラウ
レートおよびステアレートならびに亜鉛アセチルアセト
ネートおよびマグネシウムアセチルアセトネートは特に
好ましい例の幾つかである。亜鉛ステアレート、マグネ
シウムステアレート、亜鉛アセチルアセトネート、マグ
ネシウムアセチルアセトネート、亜鉛アセテートおよび
マグネシウムアセテートは特に興味深い。
ば亜鉛オキシド、マグネシウムオキシド、亜鉛ヒドロキ
シド、マグネシウムヒドロキシド、または ・Zn−ヒドロキシド−カルボネート、Mg−ヒドロキ
シド−カルボネート、ドロマイト、例えばCa/Mgカ
ルボネート、例えば登録商標ミクロミネラルズ(Micro M
inerals)からの登録商標ミクロドルスーパー(Microdol
Super)であるか;または ・天然または合成ヒドロタルサイト のような化合物を含有するカルボネートである。
H)16CO3 ・4H2 Oの構造を有する。合成ヒドロタ
ルサイトの代表的な経験的構造式は Al2 Mg4.35OH11.36 CO3(1.67) ・xH2 O である。合成生成物の例には; Mg0.7 Al0.3 (OH)2 (CO3 )0.15・0.54
H2 O Mg4.5 Al2 (OH)13CO3 ・3.5H2 O または Mg4.2 Al(OH)12.4CO3 が含まれる。好ましい合成ヒドロタルサイトは登録商標
レヘイス(REHEIS)からの登録商標L−55Rならびに登
録商標キョウワケミカルインダストリー社(Kyowa Chem
icalIndustry Co) からの登録商標ZHT−4Aおよび
DHT−4Aである。
成分(B)の2種の異なる化合物は、例えば: ・Mg−ステアレートおよびヒドロタルサイト(登録商
標DHT−4A) ・Zn−ステアレートおよびヒドロタルサイト(登録商
標DHT−4A) ・Mg−アセチルアセトネートおよびヒドロタルサイト
(登録商標DHT−4A) ・Mg−オキシドおよびヒドロタルサイト(登録商標D
HT−4A) ・Mg−ヒドロキシドおよびヒドロタルサイト(登録商
標DHT−4A) ・Zn−ヒドロキシド−カルボネートおよびMg−ステ
アレート ・Zn−ヒドロキシド−カルボネートおよびZn−ステ
アレート ・Zn−ヒドロキシド−カルボネートおよびMg−アセ
チルアセトネート ・Zn−ヒドロキシド−カルボネートおよびMg−オキ
シド ・Zn−ヒドロキシド−カルボネートおよびZn−オキ
シド ・Zn−ヒドロキシド−カルボネートおよびMg−ヒド
ロキシド ・ヒドロタルサイト(登録商標レヘイス(REHEIS))およ
びMg−ステアレート ・ヒドロタルサイト(登録商標レヘイス(REHEIS))およ
びZn−ステアレート ・ヒドロタルサイト(登録商標レヘイス(REHEIS))およ
びMg−オキシド ・ドロマイト(登録商標ミクロドルスーパー(Microdol
Super))およびZn−ステアレート ・ドロマイト(登録商標ミクロドルスーパー(Microdol
Super))およびMg−ステアレート ・ドロマイト(登録商標ミクロドルスーパー(Microdol
Super))およびZn−オキシド ・ドロマイト(登録商標ミクロドルスーパー(Microdol
Super))およびMg−ヒドロキシド ・Mg−ステアレートおよびZn−ステアレート ・Mg−ステアレートおよびZn−アセチルアセトネー
ト ・Mg−ステアレートおよびMg−オキシド ・Mg−ステアレートおよびZn−オキシド ・Mg−ステアレートおよびMg−ヒドロキシド ・Zn−ステアレートおよびMg−アセテート ・Zn−ステアレートおよびMg−オキシド ・Zn−ステアレートおよびMg−ヒドロキシド ・Mg−アセチルアセトネートおよびZn−アセチルア
セトネート ・Mg−アセチルアセトネートおよびMg−オキシド ・Mg−アセチルアセトネートおよびZn−オキシド ・Mg−アセチルアセトネートおよびMg−ヒドロキシ
ド ・Zn−アセチルアセトネートおよびMg−オキシド ・Zn−アセチルアセトネートおよびZn−オキシド または ・Mg−オキシドおよびZn−オキシド
2種の異なる化合物が、ヒドロタルサイト、ドロマイ
ト、Zn−ヒドロキシド−カルボネート、Mg−ヒドロ
キシド−カルボネート、Zn−オキシド、Mg−オキシ
ド、Zn−ヒドロキシド、Mg−ヒドロキシド、Zn−
ステアレート、Mg−ステアレート、Zn−アセチルア
セトネート、Mg−アセチルアセトネート、Zn−アセ
テート、Mg−アセテートからなる群から選択される安
定剤混合物に関する。特に好ましい具体化によると、成
分(B)はZn−オキシドを含まない。
顔料または(C2)紫外線吸収剤または(C3)顔料お
よび紫外線吸収剤を付加的に含む安定剤混合物に関す
る。顔料(成分(C1))は無機または有機顔料であっ
てよい。無機顔料の例は、チタニウムジオキシド、亜鉛
オキシド、カーボンブラック、カドミウムスルフィド、
カドニウムセレニド、クロムオキシド、鉄オキシド、鉛
オキシド等である。有機材料の例は、アゾ顔料、アント
ラキノン、フタロシアニン、テトラクロロイソインドリ
ノン、キナクリドン、イソインドリン、ペリレンまたは
ピロロピロール(例えばピグメントレッド254)等で
ある。
dbook,第三版,Hanser Publishers,Munich Vienna New
York" の第647ないし659頁、項目11.2.
1.1ないし11.2.4.2に記載されている全顔料
を、成分(C1)として使用することができる。特に好
ましい顔料はチタニウムジオキシドであり、所望により
有機顔料に組み合わせる。
ラーインデックス)ピグメントイエロー93、C.I.
ピグメントイエロー95、C.I.ピグメントイエロー
138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.
ピグメントイエロー155、C.I.ピグメントイエロ
ー162、C.I.ピグメントイエロー168、C.
I.ピグメントイエロー180、C.I.ピグメントイ
エロー183、C.I.ピグメントレッド44、C.
I.ピグメントレッド170、C.I.ピグメントレッ
ド202、C.I.ピグメントレッド214、C.I.
ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド2
64、C.I.ピグメントレッド272、C.I.ピグ
メントレッド48:2、C.I.ピグメントレッド4
8:3、C.I.ピグメントレッド53:1、C.I.
ピグメントレッド57:1、C.I.ピグメントグリー
ン7、C.I.ピグメントブルー15:1、C.I.ピ
グメントブルー15:3およびC.I.ピグメントバイ
オレット19である。
−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、
2−ヒドロキシベンゾフェノン、置換または未置換の安
息香酸エステル、アクリレート、オキサミド、2−(2
−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、レ
ソルシノールのモノベンゾエートまたはホルムアミジン
である。
トリアゾールは、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3’,5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(5’−第三ブチル−
2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3’,5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロ。シフェ
ニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’
−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニ
ル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−
第二ブチル−5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
4’−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(3’,5’−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシ
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ビ
ス(α,α−ジメチルベンジル)−2’−ヒドロキシフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル
−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカル
ボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリア
ゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−
エチルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル]−2’−
ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’
−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−
クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル
−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニル
エチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−
第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチル
オキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−エチ
ルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロ
キシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−ドデ
シル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒド
ロキシ−5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエ
チル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’−メチ
レン−ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)−6−ベンゾトリアゾル−2−イルフェノール]ま
たは2−[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカ
ルボニルエチル)−2’−ヒドロキシフェニル]−2H
−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300
とのエステル交換生成物;次式[R−CH2 CH2 −C
OO(CH2 )3 −]2 −[式中、Rは3’−第三ブチ
ル−4’−ヒドロキシ−5’−2H−ベンゾトリアゾル
−2−イルフェニル基を表す。]で表されるものであ
る。2−(3’,5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロ
キシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2
−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチ
ルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾールおよび
2−(3’,5’−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシ
フェニル)−ベンゾトリアゾールが好ましい。
ば、4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクチルオキ
シ、4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベン
ジルオキシ、4,2’,4’−トリヒドロキシまたは
2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体であ
る。2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノ
ンが好ましい。
例えば、4−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェ
ニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジ
ベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベン
ゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
2,4−ジ−第三ブチルフェニル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト、オクタデシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゾエートまたは2−メチル−4,6−ジ−第
三ブチルフェニル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゾエートである。2,4−ジ−第三ブチルフ
ェニル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ゾエートおよびヘキサデシル−3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンゾエートが好ましい。
アノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル
−α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、メチ
ル−α−カルボメトキシシンナメート、メチル−α−シ
アノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、ブチル
−α−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメー
ト、メチル−α−カルボメトキシ−p−メトキシシンナ
メートまたはN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビ
ニル)−2−メチルインドリンである。オキサミドは、
例えば、4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、
2,2’−ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオク
チルオキシ−5,5’−ジ−第三ブトキサニリド、2,
2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−第三ブトキサ
ニリド、2−エトキシ−2’−エチルオキサニリド、
N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサ
ミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2’−エトキサ
ニリド、またはその2−エトキシ−2’−エチル−5,
4’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、o−および
p−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、またはo
−およびp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物で
ある。
3,5−トリアジンは、例えば、2,4,6−トリス
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキ
シフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェ
ニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−
(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロポキシ)フ
ェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,
3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2
−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピルオキシ)
フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,
3,5−トリアジン、2−[4−(ドデシルオキシ/ト
リデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒ
ドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒド
ロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ−
プロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメ
チルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−
ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−
ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル
−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−
ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシ−プ
ロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジンまたは
2−(2−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシ
フェニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジンで
ある。2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェ
ニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジンおよび2(2−ヒドロキシ−4
−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジフェニル−
1,3,5−トリアジンが好ましい。
えば次式
式
(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2
−ヒドロキシベンゾフェノンまたはヒドロキシフェニル
トリアジンである。本発明の更に好ましい具体化は、C
aの有機塩またはCaの無機塩を付加的に含む安定剤混
合物に関する。Caの有機塩の例は、Ca−ステアレー
ト、Ca−ラウレート、Ca−ラクテートおよびCa−
ステアロイルラクテートである。Caの無機塩の例は、
CaOおよびCa(OH)2 である。
は酸化により誘因される分解に対して有機材料を安定化
するために適している。そのような有機材料の例を以下
に示す。 1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−1
−エン、ポリ−4−メチルペンテ−1−エン、ポリイソ
プレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィ
ン、例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、ポリエチレン(所望に架橋されることができ
る。)、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密
度および高分子量ポリエチレン(HDPE−HMW)、
高密度および超高分子量ポリエチレン(HDPE−UH
MW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリ
エチレン(LDPE)、線状低密度ポリエチレン(LL
DPE)、(VLDPE)および(ULDPE)。
例示されたモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリ
エチレンおよびポリプロピレンは、種々の、そして特に
以下の方法によって製造されることができる。 a)ラジカル重合(通常、高圧下および高温で)。 b)触媒重合であって、通常1種またはそれ以上の周期
表のIVb、Vb、VIbまたはVIII群の金属原子
を含む触媒を使用するもの。これらの金属原子は通常1
個またはそれ以上の、代表的にはπ−またはσ−配位さ
れ得るオキシド、ハライド、アルコレート、エステル、
エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび/また
はアリールのようなリガンドを有する。これらの金属錯
体は遊離状態または代表的には活性化塩化マグネシウ
ム、塩化チタン(III)、アルミナまたは酸化ケイ素
のような基材上に固定され得る。これらの触媒は重合媒
体中に可溶または不溶であり得る。触媒は重合において
それら自身で使用されることができ、または代表的には
金属アルキル、金属ヒドライド、金属アルキルハライ
ド、金属アルキルオキシドまたは金属アルキルオキサン
のようなさらなる活性化剤が使用されることができ、該
金属原子は周期表のIa、IIaおよび/またはIII
a群の元素である。活性化剤はさらなるエステル、エー
テル、アミンまたはシリルエーテル基を用いて都合よく
変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス
(Phillips)、スタンダード オイル インデ
ィアナ(Standard Oil Indian
a)、チグラー(−ナッタ)(Ziegler(−Na
tta))、TNZ(デュポン(DuPont))、メ
タロセンまたはシングルサイト触媒(single s
ite catalyst)(SSC)と命名される。
合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混
合物、ポリプロピレンとポリエチレン(例えばPP/H
DPE、PP/LDPE)および種々の型のポリエチレ
ンの混合物(例えばLDPE/HDPE)。 3.モノオレフィンおよびジオレフィンの相互または他
のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プ
ロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン(LLD
PE)およびそれらと低密度ポリエチレン(LDPE)
との混合物、プロピレン/ブテ−1−エンコポリマー、
プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/ブテ
−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリマ
ー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン/
ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマー、
プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン/イ
ソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレート
コポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコポリ
マー、エチレン/ビニルアセテートコポリマーおよびそ
れらと一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン/アク
リル酸コポリマーおよびそれらの塩(アイオノマー)並
びにエチレンとプロピレンおよびヘキサジエン、ジシク
ロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのよう
なジエンとのターポリマー;およびそのようなコポリマ
ー相互および1)において記述されたポリマーとの混合
物、例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレンコポ
リマー、LDPE/エチレン−ビニルアセテートコポリ
マー(EVA)、LDPE/エチレン−アクリル酸コポ
リマー(EAA)、LLDPE/EVA、LLDPE/
EAAおよび交互またはランダムポリアルキレン/一酸
化炭素コポリマーおよびそれらと、例えばポリアミドの
ような他のポリマーとの混合物。
いし9)であって、それらの水素化変性物(例えば粘着
付与剤)を含むもの、およびポリアルキレンおよび澱粉
の混合物。 5.ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ
(α−メチルスチレン)。 6.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタ
ジエン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/アル
キルメタクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキル
アクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキルメタク
リレート、スチレン/無水マレイン酸、スチレン/アク
リロニトリル/メチルアクリレート、スチレンコポリマ
ーおよび他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエンターポ
リマーの高衝撃強度性の混合物;およびスチレン/ブタ
ジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、
スチレン/エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレ
ン/エチレン/プロピレン/スチレンのようなスチレン
のブロックコポリマー。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン;ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタアク
リロニトリル);ポリブタジエンにスチレン、アクリロ
ニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエン
にスチレンおよび無水マレイン酸;ポリブタジエンにス
チレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸または
マレイミド;ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミ
ド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレ
ートまたはメタクリレート;エチレン/プロピレン/ジ
エンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル;
ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリ
レートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレー
ト/ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、並びにそれらの6)においえ記述されたコポリ
マーとの混合物、例えばABS、MBS、ASAまたは
AESポリマーとして知られているコポリマー混合物。 8.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および
臭素化コポリマー(ハロブチルゴム)、塩素化またはス
ルホ塩素化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレ
ンのコポリマー、エピクロロヒドリン ホモ−およびコ
ポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、
例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ
化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、並びにそれらのコポ
リマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル/ビニルアセテートまたは塩化ビニリデン/ビニルア
セテートコポリマー。
マーおよびポリアクリレート並びにポリメタクリレート
のようなそれらの誘導体、ブチルアクリレートで耐衝撃
変性された(impact−modified)ポリメ
チルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリア
クリロニトリル。 10.9)において記述されたモノマーの相互または他
の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニト
リル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/アル
キルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/アル
コキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル/
ビニルハライドコポリマーまたはアクリロニトリル/ア
ルキルメタクリレート/ブタジエンターポリマー。 11.不飽和アルコールおよびアミンから誘導されたポ
リマーまたはアシル誘導体またはそれらのアセタール、
例えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラル、ポリアリル
フタレートまたはポリアリルメラミン、並びに1)にお
いて記述されたオレフィンとのそれらのコポリマー。
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシドのような環式
エーテルのホモポリマーおよびコポリマーまたはそれら
のビスグリシジルエーテルとのコポリマー。 13.ポリオキシメチレンのようなポリアセタールおよ
びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むそれらのポ
リオキシメチレン、熱可塑性ポリウレタン、アクリレー
トまたはMBSで変性されたポリアセタール。 14.ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およ
びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポ
リアミドとの混合物。 15.一方の成分としてヒドロキシル末端基で終了され
たポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン、
および他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシ
アナートから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの
前駆物質。
/またはアミノカルボン酸または対応するラクタムから
誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリ
アミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/1
0、6/9、6/12、4/6、12/12、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミンおよび
アジピン酸から出発した芳香族ポリアミド、ヘキサメチ
レンジアミンおよびイソフタル酸または/およびテレフ
タル酸から変性剤としてエラストマーを用いてまたは用
いずに製造されたポリアミド、例えばポリ−2,4,4
−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポ
リ−m−フェニレンイソフタルアミド、およびまた上記
されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリ
マー、アイオノマーまたは化学結合もしくはグラフトさ
れたエラストマー、またはポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリ
コールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー、
並びにEPDMまたはABSで変性されたポリアミドま
たはコポリアミド、および加工の間に縮合されたポリア
ミド(RIMポリアミド系)。 17.ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポ
リエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダント
インおよびポリベンズイミダゾール。 18.ジカルボン酸並びにジオールおよび/またはヒド
ロキシカルボン酸または対応するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロ
ールシクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキ
シベンゾエート、並びにヒドロキシル末端基で終了され
たポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテル
エステル、およびまたポリカーボネートまたはMBSで
変性されたポリエステル。
ルカーボネート。 20.ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。 21.一方の成分としてアルデヒド、および他方の成分
としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された
架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹
脂、尿素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホル
ムアルデヒド樹脂。 22.乾式および不乾式アルキド樹脂。 23.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、およびまた低
燃焼性のそれらのハロゲン含有変性物。 24.置換されたアクリレートから誘導された架橋可能
なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレートまたはポリエステルアクリレート。 25.メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアナート、イソ
シアヌレート、ポリイソシアナートまたはエポキシ樹脂
で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびア
クリレート樹脂。 26.脂肪族、環式脂肪族、ヘテロ環式または芳香族グ
リシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例え
ばビスフェノールAおよびビスフェノールFのジグリシ
ジルエーテルの生成物であって、無水物またはアミンの
ような慣用の硬化剤と、促進剤を用いてまたは用いずに
架橋されたもの。
な天然ポリマーおよび化学変性されたそれらの同質誘導
体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオ
ネートおよびセルロースブチレート、またはメチルセル
ロースのようなセルロースエーテル、並びにロジンおよ
びそれらの誘導体。 28.上記されたポリマーのブレンド(ポリブレン
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/A
SA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリ
レート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PU
R、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/
HIPS、PPO/PA6.6およびコポリマー、PA
/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT/PC
/ABSまたはPBT/PET/PC。 29.天然起源および合成有機材料であって、純粋なモ
ノマー性化合物またはそのような化合物の混合物、例え
ば鉱物油、動物および植物脂肪、油およびワックス、ま
たは合成エステル(例えばフタレート、アジペート、ホ
スフェートまたはトリメリテート)をベースとした油、
脂肪およびワックス、および代表的には紡糸組成物とし
て使用される合成エステルと鉱物油とのあらゆる重量比
における混合物、並びにそのような材料の水性乳濁液。 30.天然または合成ゴムの水性乳濁液、例えば天然ラ
テックスまたはカルボキシル化スチレン/ブタジエンコ
ポリマーの天然ラテックス。
酸化により誘導される分解を受ける有機材料および上述
の安定剤混合物を含む組成物に関する。但し有機材料は
本質的に過塩素酸を含まない。本発明の更なる具体化は
光、熱または酸化により誘因された分解に対して有機材
料を安定化するための方法であって、該方法は有機材料
中に上述した安定剤混合物を混入することからなる。但
し有機材料は本質的に過塩素酸を含まない。有機材料は
好ましくは合成ポリマーであり、特に上述の群から選択
されたものが好ましい。ポリオレフィンが好ましく、そ
してポリエチレン、ポリプロピレンおよびそれらのコポ
リマーが特に好ましい。
1)および/または(C2)を個々または互いに混合し
て、安定化させる有機材料に添加することができる。立
体障害性アミン化合物(成分(A))は有機材料中に、
有機材料の重量を基準として、好ましくは0.01ない
し5%、特に0.01ないし1%または0.05ないし
1%の量で存在する。2種の異なるMgおよび/または
Zn塩(成分(B))は、一緒に、有機材料中に、有機
材料の重量を基準として、好ましくは0.005ないし
1%、特に0.05ないし0.2%の量で存在する。
料中に、有機材料の重量を基準として、好ましくは0.
01ないし10%、特に0.05ないし1%の量で存在
する。紫外線吸収剤(成分(C2))は所望により有機
材料中に、有機材料の重量を基準として、好ましくは
0.01ないし1%、特に0.05ないし0.5%の量
で存在する。成分(C3)(紫外線吸収剤と組合せた顔
料)の全量は、有機材料の重量を基準として、好ましく
は0.01ないし10%である。顔料に対する紫外線吸
収剤の重量比は、例えば2:1ないし1:10である。
たチタニウムジオキシドである場合、チタニウムジオキ
シドは好ましくは有機材料中に、有機材料の重量を基準
として、0.01ないし5%の量で存在し、そして有機
顔料は、有機材料の重量を基準として、例えば0.01
ないし2%の量で存在してよい。成分(A):(B)の
重量比は好ましくは10:1ないし1:10である。成
分(A):(C1)の重量比は好ましくは10:1ない
し1:10である。成分(A):(C2)の重量比は好
ましくは20:1ないし1:2である。成分(A):
(C3)の重量比は好ましくは10:1ないし1:10
である。
前もしくは間に、または有機材料中に溶融もしくは分散
させた化合物を使用することにより、必要であればそれ
に続く溶媒の除去を伴って、安定化させる有機材料中に
取り込むことが可能である。例えば、2.5ないし25
重量%の濃度でこれらの成分を含む粉末、粒子またはマ
スターバッチの形状で該成分を有機材料中に添加するこ
とが可能である。所望であれば、有機材料中に取り込む
前に、成分(A)、(B)および所望により(C1)お
よび/または(C2)を互いに溶融ブレンドすることが
可能である。それを重合の前もしくは間または架橋の前
に、ポリマーに添加することができる。本発明により安
定化された材料は幅広い形状で、例えばフィルム、繊
維、テープ、成形材料、異形材として、または塗料、接
着剤もしくはパテのためのバインダーとして使用するこ
とが可能である。
添加剤も含んでよい。以下に例を示す。1.酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール 、例えば、2,6−
ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチ
ル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブ
チル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル
−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル
−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチ
ル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、直鎖または側鎖におい
て枝分れ鎖であるノニルフェノール、例えば、2,6−
ジ−ノニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル
−6−(1’−メチルウンデシ−1’−イル)フェノー
ル、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘプタデシ
−1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−
(1’−メチルトリデシ−1’−イル)フェノールおよ
びそれらの混合物。1.2.アルキルチオメチルフェノール 、例えば、2,
4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノー
ル、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノ
ール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフェ
ノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチル−4−ノニル
フェノール。
ドロキノン、例えば、2,6−ジ−第三ブチル−4−メ
トキシフェノール、2,5−ジ−第三ブチルヒドロキノ
ン、2,5−ジ−第三アミルヒドロキノン、2,6−ジ
フェニル−4−オクタデシルオキシフェノール、2,6
−ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス(3,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペ
ート。1.4.トコフェロール 、例えば、α−トコフェロー
ル、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−ト
コフェロールおよびそれらの混合物(ビタミンE)。1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば、2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェ
ノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−
メチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブ
チル−2−メチルフェノール)、4,4’−チオビス
(3,6−ジ−第二アミルフェノール)、4,4’−ビ
ス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジス
ルフィド。
えば、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−
メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−第
三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレ
ンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシ
ル)フェノール]、2,2’−メチレンビス(4−メチ
ル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチ
レンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,
2’−メチレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−第
三ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メ
チレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニル
フェノール]、2,2’−メチレンビス[6−(α,α
−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,
4’−メチレンビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル)、4,4’−メチレンビス(6−第三ブチル−2−
メチルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6
−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシ
ベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビ
ス(3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)ブ
チレート]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2
−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチ
ルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]
テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2
−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブ
タン、1,1,5,5−テトラ(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。
合物、例えば、3,5,3’,5’−テトラ−第三ブチ
ル−4,4’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オク
タデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル
メルカプトアセテート、トリデシル−4−ヒドロキシ−
3,5−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロ
キシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレー
ト、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。1.8.ヒドロキシベンジル化マロネート 、例えば、ジ
オクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル
−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオクタデシ
ル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル
−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)マロネート、ビス[4−(1,1,3,
3−テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
マロネート。1.9.芳香族ヒドロキシベンジル化合物 、例えば、
1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼ
ン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベン
ゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)フェノール。
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5
−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−
4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6
−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三
ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)
イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,
3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)
ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−
トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベ
ンジル)イソシアヌレート。1.11.ベンジルホスホネート 、例えば、ジメチル−
2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホネート、ジエチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−3,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネ
ート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−4−ヒドロキ
シ−3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエ
チルエステルのカルシウム塩。1.12.アシルアミノフェノール 、例えば、4−ヒド
ロキシラウリン酸アニリド、4−ヒドロキシステアリン
酸アニリド、N−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)カルバミン酸オクチルエステル。
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一価
または多価アルコールとのエステル、アルコール例、メ
タノール、エタノール、n−オクタノール、i−オクタ
ノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオー
ル、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、
1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビ
ス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカ
ノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシ
メチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシク
ロ[2.2.2]オクタン。1.14.β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3
−メチルフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多
価アルコールとのエステル 、アルコール例、メタノー
ル、エタノール、n−オクタノール、i−オクタノー
ル、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒ
ドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチ
ル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ
[2.2.2]オクタン。1.15.β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル 、アルコール例、メタノール、
エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6
−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレ
ングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリ
トール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
ト、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、
3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、
トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパ
ン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7
−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アルコ
ールとのエステル、アルコール例、メタノール、エタノ
ール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−
チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4
−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリ
オキサビシクロ[2.2.2]オクタン。1.17.β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオン酸のアミド 、例えば、N,
N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミド、N,
N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)トリメチレンジアミド、N,
N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヒドラジド。1.18.アスコルビン酸(ビタミンC) 。
N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミ
ン、N,N’−ジ−第二ブチル−p−フェニレンジアミ
ン、N,N’−ビス(1,4−ジメチルペンチル)−p
−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−エチル−
3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,
N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フェニレンジ
アミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−フェニレン
ジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジア
ミン、N,N’−ビス(2−ナフチル)−p−フェニレ
ンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−
フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)
−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1
−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレン
ジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フェニル−p−
フェニレンジアミン、4−(p−トルエンスルファモイ
ル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−N,N’
−ジ−第二ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、N−アリルジフェニルアミン、4−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチル
アミン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフ
チルアミン、N−フェニル−2−ナフチルアミン、オク
チル化ジフェニルアミン、例えばp,p’−ジ−第三オ
クチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノ
ール、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイル
アミノフェノール、4−ドデカノイルアミノフェノー
ル、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス(4
−メトキシフェニル)アミン、2,6−ジ−第三ブチル
−4−ジメチルアミノメチルフェノール、2,4’−ジ
アミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニ
ルメタン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,
4’−ジアミノジフェニルメタン、1,2−ビス[(2
−メチルフェニル)アミノ]エタン、1,2−ビス(フ
ェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、
ビス[4−(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル]
アミン、第三オクチル化N−フェニル−1−ナフチルア
ミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル/第三オク
チルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキ
ル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−
およびジアルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェ
ニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブ
チルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−
3,3−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フ
ェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル/
第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジ
アルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、N−
アリルフェノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフ
ェニル−1,4−ジアミノブテ−2−エン、N,N−ビ
ス(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジ−4−イ
ル)ヘキサメチレンジアミン、ビス(2,2,6,6−
テトラメチルピペリジ−4−イル)セバケート、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジノ−4−オン、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジノ−4−オール。
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]
のニッケル錯体、例えば1:1または1:2錯体であっ
て、n−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはN
−シクロヘキシルジエタノールアミンのようなさらなる
配位子を伴うまたは伴わないもの、ニッケルジブチルジ
チオカルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三
ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例
えばメチルまたはエチルエステルのニッケル塩、例えば
2−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウンデシルケトキ
シムのようなケトキシムのニッケル錯体、1−フェニル
−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾールのニッケ
ル錯体であって、さらなる配位子を伴うまたは伴わない
もの。3.金属奪活剤 、例えば、N,N’−ジフェニルオキサ
ミド、N−サリチラル−N’−サリチロイルヒドラジ
ン、N,N’−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,
N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヒドラジン、3−サリチロイル
アミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデ
ン)オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタ
ロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジ
ド、N,N’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、
N,N’−ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジ
ド、N,N’−ビス(サリチロイル)チオプロピオニル
ジヒドラジド。
えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブチル−4−メ
チルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、
ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニ
ル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,
4,6−トリス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリルソルビトールト
リホスフィット、テトラキス(2,4−ジ−第三ブチル
フェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、
6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−
第三ブチル−12H−ジベンズ[d,g]−1,3,2
−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,1
0−テトラ−第三ブチル−12−メチル−ジベンズ
[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス
(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニル)メチ
ルホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−
メチルフェニル)エチルホスフィット、2,2’,
2’’−ニトリロ[トリエチルトリス(3,3’,5,
5’−テトラ−第三ブチル−1,1’−ビフェニル−
2,2’−ジイル)ホスフィット]、2−エチルヘキシ
ル(3,3’,5,5’−テトラ−第三ブチル−1,
1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスフィット。5.ヒドロキシルアミン 、例えば、N,N−ジベンジル
ヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルア
ミン、N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、N,N
−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N−ジテトラデ
シルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサデシルヒド
ロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシル
アミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシルヒドロキ
シルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒド
ロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘導されたN,
N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
−フェニル−ニトロン、N−エチル−α−メチル−ニト
ロン、N−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、N−ラ
ウリル−α−ウンデシル−ニトロン、N−テトラデシル
−α−トリデシル−ニトロン、N−ヘキサデシル−α−
ペンタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプ
タデシル−ニトロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデ
シル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシル
−ニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニ
トロン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロ
ン、水素化牛脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキ
ルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。7.チオ相乗剤 、例えば、ジラウリルチオジプロピオネ
ートまたはジステアリルチオジプロピネート。8.過酸化物捕捉剤 、例えば、β−チオジプロピオン酸
のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチ
ルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダ
ゾールまたは2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛
塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシル
ジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス(β−
ドデシルメルカプト)プロピオネート。
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウム
ステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネ
ート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレ
ートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテ
コレートまたは亜鉛ピロカテコレート。10.核剤 、例えば、タルクのような無機材料、二酸化
チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、ホスフ
ェート、カーボネートまたはサルフェートであって、好
ましくはアルカリ土類金属のもの、モノ−またはポリカ
ルボン酸のような有機化合物およびそれらの塩、例え
ば、4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル
酢酸、ナトリウムスクシネートまたはナトリウムベンゾ
エート、イオン性コポリマー(”アイオノマー”)のよ
うなポリマー性化合物。11.充填剤および強化剤 、例えば、炭酸カルシウム、
シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、バリウムサルフェート、金属オキ
シドおよびヒドロキシド、カーボンブラック、グラファ
イト、木粉および他の天然生成物の粉末または繊維、合
成繊維。
潤滑剤、乳化剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整
剤、蛍光増白剤、難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。13.ベンゾフラノンおよびインドリノン 、例えば、
U.S.4325863、U.S.4338244、
U.S.5175312、U.S.5216052、
U.S.5252643、DE−A−4316611、
DE−A−4316622、DE−A−431687
6、EP−A−0589839もしくはEP−A−05
91102に記載されているものや、あるいは3─[4
−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−5,7−ジ
−第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ−
第三ブチル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエト
キシ)フェニル]ベンゾフラン−2−オン、3,3’−
ビス[5,7−ジ−第三ブチル−3−(4−[2−ヒド
ロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オ
ン]、5,7−ジ−第三ブチル−3−(4−エトキシフ
ェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−(4−アセトキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ−第三ブ
チル−ベンゾフラン−2−オン、3−(3,5−ジメチ
ル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ−第
三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、3−(3,4−ジ
メチルフェニル)−5,7−ジ−第三ブチルベンゾフラ
ン−2−オン、3−(2,3−ジメチルフェニル)−
5,7−ジ第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン。
/または4において上述したものである。次式
取り込むことが可能な、好ましい慣用の添加剤である。
慣用の添加剤の全量に対する成分(A)、(B)および
所望により(C1)および/または(C2)の全量の重
量比は、例えば100:1ないし1:100となりう
る。
に指定されない限り、全ての百分率および部は重量によ
るものである。以下の実施例IないしVIIにおいて使用される立体障
害性アミン化合物: (ポリマー性化合物に関しては、それぞれの場合におけ
る平均重合度を表示する。)化合物5: (登録商標ダスチブ(Dastib)845)
混合物: (好ましくは登録商標ホスタビン(Hostavin)N30)
そして(96−I)と(96−II)の重量比は4:1
である。)化合物97−II: (登録商標マルク(Mark)LA63)
UV31)
ブストラクトCAS NO.136 504−96−
6)) 次式(100a−1)
により得られた中間体生成物を、次式(100b−I)
能な生成物。
ロピレンプラックの光安定化 100部のポリプロピレン粉末(メルトフローインデッ
クス:230℃および2160gにおいて2.4g/1
0分)を、0.05部のペンタエリスリチルテトラキス
[3−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート]、0.05部のトリス[2,4
−ジ−第三ブチルフェニル]ホスファイトおよび表1な
いし4に示された安定剤系と共にバレル混合機中でブレ
ンドする。次いで、該ブレンドを200ないし220℃
の温度で押出機中において成形する。押出および粒子化
で得られた粒子を、自動射出成形装置で240ないし2
60℃で厚さ2mmのプラックに変形させる。このプラ
ックを試料ホルダー上に置き、フロリダにおいて天然の
曝露試験(南緯45°、直接、約140kLy/年)を
受けさせる。定期的に、赤外線分光光度計で試料のカル
ボニル含量を測定する。例えば、0.5(T0.5 )のカ
ルボニル吸収の形成に相当する曝露時間が該安定剤系の
能率のための尺度である。得られた値を表1ないし4に
まとめる。
の相乗効果を、算出したT0.5 値と実際に測定したT
0.5 値との比較により決定した。このT0.5 値は添加法
則(additivity law)(B. Ranby およびJ. F. Rabek; Pho
todegradation, Photooxidation and Photostabilizati
on of Polymers, Principles and Applications, JhonW
iley & Sons, London, New York, Sydney, Toronto, 19
75, 418および419 頁)に基づき、以下の方程式に従って
算出された。 予想安定化活性=(100%の(1)の安定化活性+1
00%の(2)の安定化活性)/2 T0.5 測定値>T0.5 計算値の場合、問題における2種
の補助添加剤の相乗効果が存在する。
る。
プロピレンプラックの光安定化 100部のポリプロピレン粉末(メルトフローインデッ
クス:230℃および2160gにおいて2.4g/1
0分)を、0.05部のペンタエリスリチルテトラキス
[3−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート]、0.05部のトリス(2,4
−ジ−第三ブチルフェニル)ホスファイトならびに表5
および6に示された安定剤系と共にバレル混合機中でブ
レンドする。次いで、該ブレンドを200ないし220
℃の温度で押出機中において成形する。押出および粒子
化で得られた粒子を、自動射出成形装置において240
ないし260℃で厚さ2mmのプラックに変形させる。
ェザー−オーメーターCi65(黒色パネル温度63±
2℃,水噴霧なし)で曝露する。定期的に、これらの試
料を曝露装置から取り出し、赤外線分光光度計で試料の
カルボニル含量を測定する。0.5のカルボニル吸収の
形成に相当する曝露時間が該光安定剤の能率のための尺
度である。得られた値を表5ないし6にまとめる。2種
の補助安定剤の相乗効果の決定を実施例Iに記載した通
り行う。
安定化 100部のポリプロピレン粉末(メルトフローインデッ
クス:230℃および2160gにおいて2g/10
分)を、0.05部のペンタエリスリチルテトラキス
[3−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート]、0.05部のトリス(2,4
−ジ−第三ブチルフェニル)ホスファイト、0.1部の
Caステアレート、0.4部のチタニウムジオキシド
(金紅石)および表7に示された安定剤系と共にバレル
混合機中でブレンドする。次いで、該ブレンドを180
ないし220℃の温度で押出機中において成形する。押
出および粒子化で得られた粒子を、平面シートダイを備
え付けた第二押出機で、220ないし260℃でフィル
ムに変形させる。該フィルムをリボン状にカットし、延
伸比1:6に達するまで延伸する。この操作により得ら
れたテープは、最終的に薄さ50μmおよび幅2.5m
mとなる。
ー上に置き、ウェザー−オーメーターCi65(黒色パ
ネル温度63±2℃,水噴霧なし)で曝露する。定期的
に、曝露されたテープの引張強度を測定する。初期引張
強度の50%(T50)の損失に相当する曝露時間が該安
定剤系の能率のための尺度である。得られた値を表7に
まとめる。2種の補助安定剤の相乗効果の決定を実施例
Iに記載した通り行う。
ィルムの光安定化 100部の安定化されていないポリプロピレンコポリマ
ー粉末(メルトフローインデックス:230℃および2
160gにおいて3.8g/10分)を、0.05部の
ペンタエリスリチルテトラキス[3−(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト]、0.1部のトリス(2,4−ジ−第三ブチルフェ
ニル)ホスファイトならびに表8および9に示された安
定剤系と共に登録商標ブラベンダープラストグラフで2
00℃で10分間均一化させる。
プレスで2個のアルミニウムホイル間で6分間、260
℃で0.5mm薄フィルムまで圧縮成形し、この薄フィ
ルムを水冷却プレスにおいて直ちに室温まで冷却する。
これらの0.5mmフィルムから60mm×25mmの
試料を切取り、ウェザー−オーメーターCi65(黒色
パネル温度63±2℃,水噴霧なし)で曝露する。定期
的にこれらの試料を曝露装置から取り出し、赤外線分光
光度計で試料のカルボニル含量を測定する。0.1のカ
ルボニル吸収の形成に相当する曝露時間が該安定剤系の
能率のための尺度である。得られた値を以下の表8およ
び9にまとめる。2種の補助安定剤の相乗効果の決定を
実施例Iに記載した通り行う。
光安定化 100部の安定化されていない高密度ポリエチレン粉末
(密度:0.964g/cm2 ,メルトフローインデッ
クス:190℃および2160gにおいて5.0g/1
0分)を、0.03部のオクタデシル3−(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
トおよび表10に示された安定剤系と共に登録商標ブラ
ベンダープラストグラフで180℃で10分間均一化さ
せる。
プレスで2個のアルミニウムホイル間で6分間、210
℃で0.5mm薄フィルムまで圧縮成形し、この薄フィ
ルムを水冷却プレスにおいて直ちに室温まで冷却する。
これらの0.5mmフィルムから60mm×25mmの
試料を切取り、ウェザー−オーメーターCi65(黒色
パネル温度63±2℃,水噴霧なし)で曝露する。定期
的にこれらの試料を曝露装置から取り出し、赤外線分光
光度計で試料のカルボニル含量を測定する。0.1のカ
ルボニル吸収の形成に相当する曝露時間が該安定剤系の
能率のための尺度である。得られた値を以下の表10に
まとめる。2種の補助安定剤の相乗効果の決定を実施例
Iに記載した通り行う。
の光安定化 0.05部のオクタデシル3−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートで安定化
させた100部の高密度ポリエチレン粉末(密度:0.
961g/cm2 ,メルトフローインデックス:190
℃および2160gにおいて6.0g/10分)および
0.05部のビス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)
ペンタエリトリチルジホスファイトを、表11に示され
た安定剤系と登録商標ブラベンダープラストグラフにお
いて180℃で10分間均一化させる。
プレスで2個のアルミニウムホイル間で6分間、210
℃で0.5mm薄フィルムまで圧縮成形し、この薄フィ
ルムを水冷却プレスにおいて直ちに室温まで冷却する。
これらの0.5mmフィルムから60mm×25mmの
試料を切取り、ウェザー−オーメーターCi65(黒色
パネル温度63±2℃,水噴霧なし)で曝露する。定期
的にこれらの試料を曝露装置から取り出し、赤外線分光
光度計で試料のカルボニル含量を測定する。0.1のカ
ルボニル吸収の形成に相当する曝露時間が該安定剤系の
能率のための尺度である。得られた値を以下の表11に
まとめる。2種の補助安定剤の相乗効果の決定を実施例
Iに記載した通り行う。
ーフィルムの光安定化 100部の安定化されていないポリプロピレン粉末(メ
ルトフローインデックス:230℃および2160gに
おいて3g/10分)を、0.05部のペンタエリスリ
チルテトラキス[3−(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、0.1部のト
リス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスファイト
ならびに表12および表13に示された安定剤系と共に
登録商標ブラベンダープラストグラフで200℃で10
分間均一化させる。
プレスで2個のアルミニウムホイル間で6分間、260
℃で0.5mm薄フィルムまで圧縮成形し、この薄フィ
ルムを水冷却プレスにおいて直ちに室温まで冷却する。
これらの0.5mmフィルムから60mm×25mmの
試料を切取り、ウェザー−オーメーターCi65(黒色
パネル温度63±2℃,水噴霧なし)で曝露する。定期
的に、これらの試料を曝露装置から取り出し、赤外線分
光光度計で試料のカルボニル含量を測定する。0.1の
カルボニル吸収の形成に相当する曝露時間が該安定剤系
の能率のための尺度である。得られた値を以下の表12
および13にまとめる。2種の補助安定剤の相乗効果の
決定を実施例Iに記載した通り行う。
Claims (12)
- 【請求項1】 (A)立体障害性アミン化合物、および
(B)2種の異なる化合物の重量比が1:10ないし1
0:1であり、Znの有機塩、Znの無機塩、Mgの有
機塩およびMgの無機塩からなる群から選択された2種
の異なる化合物を含む安定剤混合物;ただし(1)該安
定剤混合物は本質的に過塩素酸を含んでおらず、そして
(2)成分(B)の2種の化合物は、ZnOおよびZn
ステアレートの組合せならびにZnOおよびヒドロタル
サイトの組合せとは異なる安定剤混合物。 - 【請求項2】 立体障害性アミン化合物が次式(I)ま
たは(II) 【化1】 (式中Gは水素原子またはメチル基を表し、そしてG1
およびG2 は互いに独立して水素原子、メチル基を表す
か、または一緒になって置換基=Oを表す。)で表され
る基の少なくとも1種を含む化合物に相当する請求項1
記載の安定剤混合物。 - 【請求項3】 立体障害性アミン化合物が、次式 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】 (式中、R’は 【化6】 を表す。), 【化7】 【化8】 (m1 は数2ないし50を表す。), 【化9】 (m4 は数2ないし50を表す。), 【化10】 (m4 は数2ないし50を表す。), 【化11】 (m12は数2ないし50を表す。), 【化12】 (m16は数2ないし50を表す。), 【化13】(m16 * は数2ないし50を表す。), 【化14】 (m17は数1ないし50を表す。), 【化15】 (m19は数1ないし50を表す。), 【化16】 (m19は数1ないし50を表す。), 【化17】 (m19は数1ないし50を表す。);次式(100a−
I)で表されるポリアミド 【化18】 を塩化シアヌルと反応させることにより得られる中間体
生成物を、次式(100b−I)で表される化合物 【化19】 と反応させることにより得ることが可能な生成物; 【化20】 (m21は数1ないし50を表す。) または 【化21】 に相当する請求項1記載の安定剤混合物。 - 【請求項4】 成分(B)の2種の異なる化合物が、ヒ
ドロタルサイト、ドロマイト、Zn−ヒドロキシド−カ
ルボネート、Mg−ヒドロキシド−カルボネート、Zn
−オキシド、Mg−オキシド、Zn−ヒドロキシド、M
g−ヒドロキシド、Zn−ステアレート、Mg−ステア
レート、Zn−アセチルアセトネート、Mg−アセチル
アセトネート、Zn−アセテートおよびMg−アセテー
トからなる群から選択される請求項1記載の安定剤混合
物。 - 【請求項5】 成分(B)の2種の異なる化合物が、M
g−ステアレートおよびヒドロタルサイト、Zn−ステ
アレートおよびヒドロタルサイト、Mg−ステアレート
およびZn−ステアレート、Zn−ステアレートおよび
Mg−オキシド、またはMg−ステアレートおよびMg
−ヒドロキシドである請求項1記載の安定剤混合物。 - 【請求項6】 (C1)顔料または(C2)紫外線吸収
剤または(C3)顔料および紫外線吸収剤を付加的に含
む請求項1記載の安定剤混合物。 - 【請求項7】 顔料がチタニウムジオキシド、亜鉛オ
キシド、カーボンブラック、カドミウムスルフィド、カ
ドニウムセレニド、クロムオキシド、鉄オキシド、鉛オ
キシド、アゾ顔料、アントラキノン、フタロシアニン、
テトラクロロイソインドリノン、キナクリドン、イソイ
ンドリン、ペリレンまたはピロロピロールである請求項
6記載の安定剤混合物。 - 【請求項8】 紫外線吸収剤が2−(2’−ヒドロキシ
フェニル)ベンゾトリアゾール、2−ヒドロキシベンゾ
フェノン、置換または未置換の安息香酸エステル、アク
リレート、オキサミド、2−(2−ヒドロキシフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、レソルシノールのモノ
ベンゾエートまたはホルムアミジンである請求項6記載
の安定剤混合物。 - 【請求項9】 Caの有機塩またはCaの無機塩を付加
的に含む請求項1記載の安定剤混合物。 - 【請求項10】 光、熱または酸化により誘因された分
解を受ける有機材料および請求項1記載の安定剤混合物
を含む組成物であり、ただし本質的に過塩素酸を含まな
い組成物。 - 【請求項11】 有機材料がポリオレフィンである請求
項10記載の組成物。 - 【請求項12】 有機材料がポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエチレンコポリマーまたはポリプロピレンコ
ポリマーである請求項10記載の組成物。
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2003535206A (ja) * | 2000-05-31 | 2003-11-25 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 安定剤混合物 |
| WO2007000876A1 (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-04 | Adeka Corporation | 樹脂添加剤組成物及びその樹脂組成物 |
| KR100902337B1 (ko) | 2002-03-04 | 2009-06-12 | 시바 홀딩 인코포레이티드 | 착색된 폴리올레핀용 uv 흡수제의 상승작용성 조성물 |
| KR20100068260A (ko) * | 2007-08-28 | 2010-06-22 | 바스프 에스이 | 안정화제 혼합물 |
| JP2010528143A (ja) * | 2007-05-25 | 2010-08-19 | クラリアント・ファイナンス・(ビーブイアイ)・リミテッド | ポリカーボネート及びポリカーボネートブレンドの安定化 |
| JP2014525482A (ja) * | 2011-08-24 | 2014-09-29 | フィナ テクノロジー,インコーポレイティド | 熱可塑性樹脂用カルボン酸金属塩添加剤 |
| CN105612241A (zh) * | 2013-11-26 | 2016-05-25 | 株式会社艾迪科 | 光稳定剂组合物以及其树脂组合物 |
| WO2016159103A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2016-10-06 | 株式会社Adeka | 光安定剤マスターバッチおよびその製造方法 |
| JP2018070747A (ja) * | 2016-10-28 | 2018-05-10 | Toto株式会社 | 樹脂材料および成形体 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020016390A1 (en) | 1997-12-23 | 2002-02-07 | Francois Gugumus | Stabilizer mixtures |
| GB2347427B (en) * | 1997-12-23 | 2001-07-18 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilizer mixtures comprising a sterically hindered amine |
| US6828364B2 (en) * | 2000-07-14 | 2004-12-07 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilizer mixtures |
| DE10123732A1 (de) * | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Basf Ag | Stabilisierte Metallocen-Polyolefine |
| DE10152228A1 (de) * | 2001-10-20 | 2003-05-08 | Clariant Gmbh | Mischungen aus Wachsen und Polymeradditiven |
| US20030225191A1 (en) * | 2002-04-12 | 2003-12-04 | Francois Gugumus | Stabilizer mixtures |
| US20060014862A1 (en) * | 2004-07-15 | 2006-01-19 | Dzikowicz Robert T | Vulcanizing latex compounds without the use of metal oxide activators or a zinc based accelerator |
| ATE523554T1 (de) * | 2006-05-30 | 2011-09-15 | Borealis Tech Oy | Eine siliziumverbindung als korrosionsinhibitor in polyolefinzusammensetzungen |
| WO2009080427A1 (de) * | 2007-12-21 | 2009-07-02 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von uv-absorbierenden hybridmaterialien |
| WO2009082019A1 (ja) | 2007-12-21 | 2009-07-02 | Sumitomo Chemical Company, Limited | ポリプロピレン系樹脂組成物及び成形体 |
| JP5487611B2 (ja) * | 2007-12-21 | 2014-05-07 | 住友化学株式会社 | ポリプロピレン系樹脂組成物及びそれからなる成形体 |
| DE102009041841A1 (de) | 2008-12-17 | 2010-07-08 | Huhtamaki Forchheim Zweigniederlassung Der Huhtamaki Deutschland Gmbh & Co. Kg | UV- und Licht-Schutzfolie |
| CN101838428A (zh) * | 2010-03-15 | 2010-09-22 | 湖北工业大学 | 聚氯乙烯用环保无毒固体有机锡热稳定剂及其制造方法 |
| EP2840112B1 (en) * | 2013-08-21 | 2019-04-10 | Baerlocher GmbH | Stabilized polymer compositions and methods of making same |
| US10077410B2 (en) | 2016-07-13 | 2018-09-18 | Chevron Oronite Company Llc | Synergistic lubricating oil composition containing mixture of antioxidants |
| ES2986612T3 (es) * | 2017-06-02 | 2024-11-12 | Toppan Printing Co Ltd | Cuerpo moldeado de resina, material laminado, y lámina decorativa |
| US12421379B2 (en) * | 2017-07-06 | 2025-09-23 | Basf Se | Polyethylene pipe |
| EP3747976A4 (en) * | 2018-02-02 | 2021-11-10 | Adeka Corporation | STABILIZER COMPOSITION, THIS VINYL CHLORIDE RESIN COMPOSITION AND ARTICLE MOLDED THEREOF |
| CN110713638B (zh) * | 2018-07-11 | 2020-12-11 | 北京化工大学 | 一种水滑石/环氧天然橡胶/丁苯橡胶复合材料及制备方法 |
| US11753566B2 (en) | 2019-01-31 | 2023-09-12 | Synthomer Adhesive Technologies Llc | Low volatile tackifier compositions |
Family Cites Families (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0621211B2 (ja) * | 1985-08-13 | 1994-03-23 | 旭電化工業株式会社 | 塩化ビニル樹脂組成物 |
| US4806312A (en) * | 1985-08-28 | 1989-02-21 | Miles Inc. | Multizone analytical element having detectable signal concentrating zone |
| JP2553537B2 (ja) | 1987-01-23 | 1996-11-13 | 東燃化学 株式会社 | ポレプロピレン繊維防糸用組成物 |
| EP0290386B1 (de) * | 1987-05-05 | 1992-06-10 | Ciba-Geigy Ag | Stabilisierung von organischen Polymeren gegen Lichtabbau |
| EP0290391B1 (de) * | 1987-05-05 | 1992-06-10 | Ciba-Geigy Ag | Gegen Lichtschädigung stabilisierte Polyolefine |
| IT1215455B (it) * | 1987-05-05 | 1990-02-14 | Ciba Geigy Spa | Composizione stabilizzante per polietilene comprendente composti contenenti gruppi piperidinici e composti metallici |
| EP0309401B2 (en) | 1987-09-21 | 2002-06-05 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Stabilization of coatings with N-hydroxy hindered amines |
| AU2557988A (en) * | 1987-10-20 | 1989-05-23 | Ferro Corporation | Synthetic resin composition |
| US5141980A (en) | 1989-06-23 | 1992-08-25 | Elf Atochem North America, Inc. | Composition usable for the thermal and ultaviolet stabilization of thermoplastic resins and thermoplastic resins containing such a stabilizing composition |
| EP0421933B1 (de) * | 1989-10-06 | 1996-06-12 | Ciba-Geigy Ag | Stabilisierte chlorhaltige Polymerzusammensetzungen |
| EP0429731A1 (en) | 1989-12-01 | 1991-06-05 | At Plastics Inc. | Composition for use in films |
| JPH03177447A (ja) * | 1989-12-06 | 1991-08-01 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ポリプロピレン系樹脂組成物 |
| US5025050A (en) * | 1990-03-16 | 1991-06-18 | Ethyl Corporation | Ultraviolet-radiation stabilizer and flame retardant systems |
| IT1248698B (it) * | 1990-06-06 | 1995-01-26 | Ciba Geigy Spa | Composti piepridin-triazinici contenenti gruppi silossanici,atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici |
| IT1246170B (it) * | 1990-07-24 | 1994-11-16 | Ciba Geigy Spa | Composizione stabilizzante per polipropilene comprendente composti triazinici contenenti gruppi piperidinici e composti metallici |
| US5283273A (en) * | 1990-11-30 | 1994-02-01 | Ciba-Geigy Corporation | Stabilized chlorine-containing polymers |
| GB2252324A (en) | 1990-12-20 | 1992-08-05 | Bp Chem Int Ltd | Stabilizer composition |
| FR2675149B1 (fr) | 1991-04-09 | 1994-06-24 | Rhone Poulenc Chimie | Compositions de polymere halogene stabilisees a l'aide d'un additif mineral. |
| IT1258271B (it) | 1992-04-06 | 1996-02-22 | Enichem Sintesi | Processo per l'ottenimento di forme granulari di addittivi per polimeri organici. |
| EP0570337B1 (de) * | 1992-05-13 | 1998-03-18 | Ciba SC Holding AG | Stabilisierte chlorhaltige Polymerzusammensetzungen |
| US5324798A (en) | 1992-12-28 | 1994-06-28 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Polymer finishing process |
| KR950018227A (ko) * | 1993-12-27 | 1995-07-22 | 사토 아키오 | 폴리프로필렌수지조성물 |
| EP0751974B1 (en) | 1994-03-22 | 1999-10-27 | Ciba SC Holding AG | Process for the stabilization of hdpe |
| IT1269953B (it) * | 1994-06-27 | 1997-04-16 | Ciba Geigy Spa | Films di poliolefine o copolimeri di olefine con migliorata stabilita' alla luce e resistenza agli insetticidi |
| FR2725451B1 (fr) * | 1994-10-06 | 1998-04-17 | Sandoz Sa | Nouvelle composition stabilisante pour les matieres polymeres |
| ES2134083B1 (es) | 1994-12-09 | 2000-05-01 | Sumitomo Chemical Co | Pelicula de resina de poliolefinas de cubrimiento y metodo para cultivo de plantas. |
| ATE302816T1 (de) * | 1995-10-13 | 2005-09-15 | Crompton Vinyl Additives Gmbh | Stabilisatorkombinationen für chlorhaltige polymere |
| KR100254936B1 (ko) | 1995-10-18 | 2000-05-01 | 고토 기치 | 올레핀(공)중합체 조성물과 그 제조방법 및 올레핀(공)중합용 촉매와 그 제조방법 |
| ATE312874T1 (de) | 1996-03-22 | 2005-12-15 | Wolfgang Wehner | Stabilisatorkombination für chlorhaltige polymere |
| DE69730900T2 (de) | 1996-05-24 | 2006-02-23 | Mizusawa Industrial Chemicals, Ltd. | Harzadditiv, Verfahren zu seiner Herstellung und dieses Additiv verwendende Olefinharzzusammensetzung |
| US5929147A (en) | 1996-06-18 | 1999-07-27 | Montell North America Inc. | Embrittlement-resistant polyolefin composition and flexible articles therefrom |
| US5834541A (en) | 1997-05-02 | 1998-11-10 | Montell North America Inc. | Olefin polymer composition having low smoke generation and fiber and film prepared therefrom |
| US6262161B1 (en) * | 1997-06-26 | 2001-07-17 | The Dow Chemical Company | Compositions having improved ignition resistance |
-
1998
- 1998-12-16 GB GB9827567A patent/GB2332678B/en not_active Expired - Lifetime
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- 1998-12-23 NL NL1010890A patent/NL1010890C2/xx not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-03-19 US US09/811,960 patent/US20020013390A1/en not_active Abandoned
-
2002
- 2002-02-28 US US10/085,221 patent/US20030013784A1/en not_active Abandoned
-
2004
- 2004-08-09 US US10/914,704 patent/US7169835B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2009
- 2009-03-24 JP JP2009072522A patent/JP4726969B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003535206A (ja) * | 2000-05-31 | 2003-11-25 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 安定剤混合物 |
| KR100902337B1 (ko) | 2002-03-04 | 2009-06-12 | 시바 홀딩 인코포레이티드 | 착색된 폴리올레핀용 uv 흡수제의 상승작용성 조성물 |
| WO2007000876A1 (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-04 | Adeka Corporation | 樹脂添加剤組成物及びその樹脂組成物 |
| JPWO2007000876A1 (ja) * | 2005-06-29 | 2009-01-22 | 株式会社Adeka | 樹脂添加剤組成物及びその樹脂組成物 |
| JP2010528143A (ja) * | 2007-05-25 | 2010-08-19 | クラリアント・ファイナンス・(ビーブイアイ)・リミテッド | ポリカーボネート及びポリカーボネートブレンドの安定化 |
| KR20100068260A (ko) * | 2007-08-28 | 2010-06-22 | 바스프 에스이 | 안정화제 혼합물 |
| JP2014525482A (ja) * | 2011-08-24 | 2014-09-29 | フィナ テクノロジー,インコーポレイティド | 熱可塑性樹脂用カルボン酸金属塩添加剤 |
| JP2017214560A (ja) * | 2011-08-24 | 2017-12-07 | フィナ テクノロジー,インコーポレイティド | 熱可塑性樹脂用カルボン酸金属塩添加剤 |
| CN105612241A (zh) * | 2013-11-26 | 2016-05-25 | 株式会社艾迪科 | 光稳定剂组合物以及其树脂组合物 |
| WO2016159103A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2016-10-06 | 株式会社Adeka | 光安定剤マスターバッチおよびその製造方法 |
| KR20170132279A (ko) * | 2015-03-30 | 2017-12-01 | 가부시키가이샤 아데카 | 광안정제 마스터 배치 및 그의 제조 방법 |
| JPWO2016159103A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2018-01-25 | 株式会社Adeka | 光安定剤マスターバッチおよびその製造方法 |
| US10246563B2 (en) | 2015-03-30 | 2019-04-02 | Adeka Corporation | Photostabilizer master batch and method for manufacturing same |
| JP2018070747A (ja) * | 2016-10-28 | 2018-05-10 | Toto株式会社 | 樹脂材料および成形体 |
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