JPH11258416A - カラーフィルタ製造装置および方法ならびにカラーフィルタ - Google Patents
カラーフィルタ製造装置および方法ならびにカラーフィルタInfo
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- JPH11258416A JPH11258416A JP7854798A JP7854798A JPH11258416A JP H11258416 A JPH11258416 A JP H11258416A JP 7854798 A JP7854798 A JP 7854798A JP 7854798 A JP7854798 A JP 7854798A JP H11258416 A JPH11258416 A JP H11258416A
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- Optical Filters (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 インクジェット方式の特性を生かした、安価
で信頼性の高いカラーフィルタの製造装置および方法な
らびにカラーフィルタを提供する。 【解決手段】 インクジェットによる描画によってカラ
ーフィルタが形成される基板を移動手段に搭載し、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３色のインクジェットをそれぞれ別個独立して吐
出する少なくとも１組の描画ヘッドに対してインクジェ
ット吐出方向と交差する平面内を移動させて、該描画ヘ
ッドにより複数の色を同時に描画する際、予め、前記移
動平面内の直交する方向の少なくとも３カ所に設けられ
た基準マークを持つ基板を前記移動手段に搭載し、移動
手段を移動させながら、基準マークと描画ヘッドとの前
記平面内の相対変位を検出して移動手段の移動距離と前
記基準マーク座標の移動量の差を求めておき、描画によ
りカラーフィルタを形成する際、直交する各進行方向へ
の移動量差をその進行方向の倍率とし、かつ各進行方向
に直交する方向への移動量差を直交度として、前記移動
手段の移動距離および移動方向を補正して描画する。
で信頼性の高いカラーフィルタの製造装置および方法な
らびにカラーフィルタを提供する。 【解決手段】 インクジェットによる描画によってカラ
ーフィルタが形成される基板を移動手段に搭載し、Ｒ，
Ｇ，Ｂ３色のインクジェットをそれぞれ別個独立して吐
出する少なくとも１組の描画ヘッドに対してインクジェ
ット吐出方向と交差する平面内を移動させて、該描画ヘ
ッドにより複数の色を同時に描画する際、予め、前記移
動平面内の直交する方向の少なくとも３カ所に設けられ
た基準マークを持つ基板を前記移動手段に搭載し、移動
手段を移動させながら、基準マークと描画ヘッドとの前
記平面内の相対変位を検出して移動手段の移動距離と前
記基準マーク座標の移動量の差を求めておき、描画によ
りカラーフィルタを形成する際、直交する各進行方向へ
の移動量差をその進行方向の倍率とし、かつ各進行方向
に直交する方向への移動量差を直交度として、前記移動
手段の移動距離および移動方向を補正して描画する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビやパ
ーソナルコンピュータ等に使用されるカラー液晶ディス
プレイのカラーフィルタを製造するための装置および方
法に関し、特にインクジェット記録技術を利用した液晶
カラーフィルタの製造技術に関するものである。
ーソナルコンピュータ等に使用されるカラー液晶ディス
プレイのカラーフィルタを製造するための装置および方
法に関し、特にインクジェット記録技術を利用した液晶
カラーフィルタの製造技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のカラーフィルタ製造方法として、
染色法、顔料分散法、電着法および印刷法等が知られて
いる。 染色法は、ガラス基板上に染色用の材料である水溶性
の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工
程により所望のパターンに形成後、パターンを染色漕に
浸漬して着色されたパターンを得る工程を、Ｒ，Ｇ，Ｂ
３回繰り返すことによりカラーフィルタを形成する方法
である。 顔料分散法は、染色法から置き換わりつつある方法
で、ガラス基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成
し、これをパターニングすることにより単色のパターン
を得る工程を、Ｒ，Ｇ，Ｂ３回繰り返すことによりカラ
ーフィルタを形成する方法である。
染色法、顔料分散法、電着法および印刷法等が知られて
いる。 染色法は、ガラス基板上に染色用の材料である水溶性
の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工
程により所望のパターンに形成後、パターンを染色漕に
浸漬して着色されたパターンを得る工程を、Ｒ，Ｇ，Ｂ
３回繰り返すことによりカラーフィルタを形成する方法
である。 顔料分散法は、染色法から置き換わりつつある方法
で、ガラス基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成
し、これをパターニングすることにより単色のパターン
を得る工程を、Ｒ，Ｇ，Ｂ３回繰り返すことによりカラ
ーフィルタを形成する方法である。
【０００３】電着法は、ガラス基板上に透明電極をパ
ターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装
液に浸漬して単色を電着する工程を、Ｒ，Ｇ，Ｂ３回繰
り返すことによりカラーフィルタを形成し、最後に焼成
する方法である。 印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散させ、印刷を
３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂを塗り分けた後樹脂
を熱硬化させる方法である。
ターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装
液に浸漬して単色を電着する工程を、Ｒ，Ｇ，Ｂ３回繰
り返すことによりカラーフィルタを形成し、最後に焼成
する方法である。 印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散させ、印刷を
３回繰り返すことによりＲ，Ｇ，Ｂを塗り分けた後樹脂
を熱硬化させる方法である。
【０００４】ところで、これらの方法に共通しているの
はＲ，Ｇ，Ｂ３色を着色するために同一の工程を３回繰
り返す必要があり、 （１）コストが高くなる。 （２）工程数が多いために歩留まりが低下する、等の欠
点がある。さらに、電着法では形成可能なパターンの形
状が限定されるためＴＦＴには適用が困難であり、印刷
法では、解像性が悪くパターン微細化への対応が困難で
ある等の欠点が挙げられる。
はＲ，Ｇ，Ｂ３色を着色するために同一の工程を３回繰
り返す必要があり、 （１）コストが高くなる。 （２）工程数が多いために歩留まりが低下する、等の欠
点がある。さらに、電着法では形成可能なパターンの形
状が限定されるためＴＦＴには適用が困難であり、印刷
法では、解像性が悪くパターン微細化への対応が困難で
ある等の欠点が挙げられる。
【０００５】これらの欠点を補うべく、インクジェット
を用いたカラーフィルタの製造方法として特開昭５９−
７５２０５、特開昭６３−２３５９０１等が出願されて
いる。
を用いたカラーフィルタの製造方法として特開昭５９−
７５２０５、特開昭６３−２３５９０１等が出願されて
いる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
例では、 （１）装置の精度補償方法が考慮されていない、等の欠
点がある。また、装置精度を補償するための方法として
特開平１−２１７３２０においては、基板上に配置され
た基準マークを基板上を走査しながら測定し、ずれ量に
応じて基板の位置を微調整する方法が提案されている。
しかし、本従来例においては、 （２）描画へッドやアライメント光学系が基板上を走査
しており、ゴミ等の落下が懸念される。 （３）複数の描画ヘッドの位置合わせは考慮されていな
い。 （４）より高精度に描画するためのＢＭ（ブラックマト
リクス）のディストーション補正は考慮されていない。
等の欠点がある。
例では、 （１）装置の精度補償方法が考慮されていない、等の欠
点がある。また、装置精度を補償するための方法として
特開平１−２１７３２０においては、基板上に配置され
た基準マークを基板上を走査しながら測定し、ずれ量に
応じて基板の位置を微調整する方法が提案されている。
しかし、本従来例においては、 （２）描画へッドやアライメント光学系が基板上を走査
しており、ゴミ等の落下が懸念される。 （３）複数の描画ヘッドの位置合わせは考慮されていな
い。 （４）より高精度に描画するためのＢＭ（ブラックマト
リクス）のディストーション補正は考慮されていない。
等の欠点がある。
【０００７】本発明の目的は、上記従来法の有する解像
性等の特性を満足し、かつインクジェット方式の特性を
生かした、安価で信頼性の高いカラーフィルタの製造装
置および方法ならびにカラーフィルタを提供することに
ある。
性等の特性を満足し、かつインクジェット方式の特性を
生かした、安価で信頼性の高いカラーフィルタの製造装
置および方法ならびにカラーフィルタを提供することに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のカラーフィルタ製造装置は、複数色のイン
クジェットをそれぞれ別個独立して吐出する少なくとも
１組の描画ヘッドを有する描画ヘッドユニットと、該イ
ンクジェットによる描画によってカラーフィルタが形成
される基板を搭載して前記描画ヘッドのインクジェット
吐出方向と交差する平面内を移動する移動手段と、前記
基板と描画へッドとの相対位置を検出する相対変位検出
手段とを備え、前記描画ヘッドユニットにより複数の色
を同時に描画する、液晶用カラーフィルタの製造装置に
おいて、予め、前記移動平面内の直交する２方向に対応
して少なくとも３カ所に設けられた基準マークを持つ基
板を前記移動手段に搭載した際、移動手段を移動させな
がらそれらの基準マークを前記相対変位検出手段により
計測し、移動手段の移動量と基準マークの移動量の差を
算出する手段と、前記描画によりカラーフィルタを形成
する際、直交する各進行方向への移動量差をその進行方
向の倍率とし、かつ各進行方向に直交する方向への移動
量差を直交度として、前記移動手段の移動距離および移
動方向を補正する手段とを具備することを特徴とする。
め、本発明のカラーフィルタ製造装置は、複数色のイン
クジェットをそれぞれ別個独立して吐出する少なくとも
１組の描画ヘッドを有する描画ヘッドユニットと、該イ
ンクジェットによる描画によってカラーフィルタが形成
される基板を搭載して前記描画ヘッドのインクジェット
吐出方向と交差する平面内を移動する移動手段と、前記
基板と描画へッドとの相対位置を検出する相対変位検出
手段とを備え、前記描画ヘッドユニットにより複数の色
を同時に描画する、液晶用カラーフィルタの製造装置に
おいて、予め、前記移動平面内の直交する２方向に対応
して少なくとも３カ所に設けられた基準マークを持つ基
板を前記移動手段に搭載した際、移動手段を移動させな
がらそれらの基準マークを前記相対変位検出手段により
計測し、移動手段の移動量と基準マークの移動量の差を
算出する手段と、前記描画によりカラーフィルタを形成
する際、直交する各進行方向への移動量差をその進行方
向の倍率とし、かつ各進行方向に直交する方向への移動
量差を直交度として、前記移動手段の移動距離および移
動方向を補正する手段とを具備することを特徴とする。
【０００９】また、本発明のカラーフィルタ製造方法
は、インクジェットによる描画によってカラーフィルタ
が形成される基板を移動手段に搭載し、複数色のインク
ジェットをそれぞれ別個独立して吐出する少なくとも１
組の描画ヘッドを備えた描画ヘッドユニットに対して該
描画ヘッドのインクジェット吐出方向と交差する平面内
を移動させ、該描画ヘッドユニットにより複数の色を同
時に描画する、液晶用カラーフィルタの製造方法におい
て、予め、少なくとも前記移動平面内の直交する方向の
少なくとも３カ所に設けられた基準マークを持つ基板を
前記移動手段に搭載し、移動手段を移動させながら、前
記カラーフィルタが形成される基板と描画ヘッドとの前
記平面内の相対変位を検出する相対変位検出手段によ
り、移動手段の移動距離と前記基準マーク座標の移動量
の差を求め、前記描画によりカラーフィルタを形成する
際、直交する各進行方向への移動量差をその進行方向の
倍率とし、かつ各進行方向に直交する方向への移動量差
を直交度として、前記移動手段の移動距離および移動方
向を補正して描画することを特徴とする。
は、インクジェットによる描画によってカラーフィルタ
が形成される基板を移動手段に搭載し、複数色のインク
ジェットをそれぞれ別個独立して吐出する少なくとも１
組の描画ヘッドを備えた描画ヘッドユニットに対して該
描画ヘッドのインクジェット吐出方向と交差する平面内
を移動させ、該描画ヘッドユニットにより複数の色を同
時に描画する、液晶用カラーフィルタの製造方法におい
て、予め、少なくとも前記移動平面内の直交する方向の
少なくとも３カ所に設けられた基準マークを持つ基板を
前記移動手段に搭載し、移動手段を移動させながら、前
記カラーフィルタが形成される基板と描画ヘッドとの前
記平面内の相対変位を検出する相対変位検出手段によ
り、移動手段の移動距離と前記基準マーク座標の移動量
の差を求め、前記描画によりカラーフィルタを形成する
際、直交する各進行方向への移動量差をその進行方向の
倍率とし、かつ各進行方向に直交する方向への移動量差
を直交度として、前記移動手段の移動距離および移動方
向を補正して描画することを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態に係る、イ
ンクジェット方式で液晶用のカラーフィルタを製造する
製造装置は、ガラス基板を搭載し、描画ヘッドと平行な
平面内を移動させる移動装置と、ガラス基板と描画ヘッ
ド間の隙間を検出する装置と、前記検出結果によりガラ
ス基板と描画ヘッドの隙間を一定に保つ手段と、ガラス
基板と描画へッド間の相対変位を検出するアライメント
検出装置と、描画へッドから吐出されたインクの着弾位
置を検出する手段と、前記着弾位置の検出結果およびア
ライメント検出結果によりガラス基板と描画ヘッドの位
置合わせを行なう装置とを備え、描画ヘッドユニットに
より複数の色を同時に描画することを特徴とするカラー
フィルタ製造装置において、少なくとも移動平面内の直
交する方向の少なくとも３カ所に設けられた基準マーク
を持つ基板を前記移動装置の移動体に搭載し、基準マー
クを平面内の相対変位検出装置により、移動体を移動さ
せながら移動体の移動距離と基準マーク座標の差を求
め、移動体の進行方向の差を倍率として、直交方向の差
を直交度として補正して描画することを特徴とする。
ンクジェット方式で液晶用のカラーフィルタを製造する
製造装置は、ガラス基板を搭載し、描画ヘッドと平行な
平面内を移動させる移動装置と、ガラス基板と描画ヘッ
ド間の隙間を検出する装置と、前記検出結果によりガラ
ス基板と描画ヘッドの隙間を一定に保つ手段と、ガラス
基板と描画へッド間の相対変位を検出するアライメント
検出装置と、描画へッドから吐出されたインクの着弾位
置を検出する手段と、前記着弾位置の検出結果およびア
ライメント検出結果によりガラス基板と描画ヘッドの位
置合わせを行なう装置とを備え、描画ヘッドユニットに
より複数の色を同時に描画することを特徴とするカラー
フィルタ製造装置において、少なくとも移動平面内の直
交する方向の少なくとも３カ所に設けられた基準マーク
を持つ基板を前記移動装置の移動体に搭載し、基準マー
クを平面内の相対変位検出装置により、移動体を移動さ
せながら移動体の移動距離と基準マーク座標の差を求
め、移動体の進行方向の差を倍率として、直交方向の差
を直交度として補正して描画することを特徴とする。
【００１１】本発明の他の実施の形態に係る、インクジ
ェット方式で液晶用のカラーフィルタを製造する製造方
法は、ガラス基板を搭載し、描画ヘッドと平行な平面内
を移動させる移動装置と、ガラス基板と描画ヘッド間の
隙間を検出する装置と、前記検出結果によりガラス基板
と描画ヘッドの隙間を一定に保つ手段と、ガラス基板と
描画ヘッド間のアライメント検出装置と、描画ヘッドか
ら吐出されたインクの着弾位置を検出する手段と、前記
着弾位置の検出結果およびアライメント検出結果により
ガラス基板、描画ヘッドの位置合わせを行なう装置とを
備え、前記描画へッドユニットにより複数の色を同時に
描画することを特徴とするカラーフィルタ製造装置を用
いてカラーフィルタを製造する際、少なくとも移動平面
内の直交する方向の少なくとも３カ所に設けられた基準
マークを持つ基板を搭載し、基準マークを平面内の相対
変位検出装置により、移動体を移動させながら移動体の
移動距離と基準マーク座標の差を求め、移動体の進行方
向の差を倍率として、直交方向の差を直交度として補正
して描画することを特徴とする。
ェット方式で液晶用のカラーフィルタを製造する製造方
法は、ガラス基板を搭載し、描画ヘッドと平行な平面内
を移動させる移動装置と、ガラス基板と描画ヘッド間の
隙間を検出する装置と、前記検出結果によりガラス基板
と描画ヘッドの隙間を一定に保つ手段と、ガラス基板と
描画ヘッド間のアライメント検出装置と、描画ヘッドか
ら吐出されたインクの着弾位置を検出する手段と、前記
着弾位置の検出結果およびアライメント検出結果により
ガラス基板、描画ヘッドの位置合わせを行なう装置とを
備え、前記描画へッドユニットにより複数の色を同時に
描画することを特徴とするカラーフィルタ製造装置を用
いてカラーフィルタを製造する際、少なくとも移動平面
内の直交する方向の少なくとも３カ所に設けられた基準
マークを持つ基板を搭載し、基準マークを平面内の相対
変位検出装置により、移動体を移動させながら移動体の
移動距離と基準マーク座標の差を求め、移動体の進行方
向の差を倍率として、直交方向の差を直交度として補正
して描画することを特徴とする。
【００１２】本発明においては、前記基準マークの代わ
りにブラックマトリクスを使用することができる。
りにブラックマトリクスを使用することができる。
【００１３】
【作用】ブラックマトリクスの描画されたガラス基板に
Ｒ，Ｇ，Ｂ３色のカラーフィルタを形成するため、３色
の描画ヘッドを高精度に位置合わせしたユニットにより
３色を同時に描画する装置においては、ガラス基板を描
画ヘッドのインクジェット吐出面と平行な面（ＸＹ平
面）内で移動させる移動体の移動方向および２軸の直交
方向の誤差が存在するとブラックマトリクスに対する位
置誤差が発生し、カラーフィルタの開口部からインクが
はみ出るおそれがある。
Ｒ，Ｇ，Ｂ３色のカラーフィルタを形成するため、３色
の描画ヘッドを高精度に位置合わせしたユニットにより
３色を同時に描画する装置においては、ガラス基板を描
画ヘッドのインクジェット吐出面と平行な面（ＸＹ平
面）内で移動させる移動体の移動方向および２軸の直交
方向の誤差が存在するとブラックマトリクスに対する位
置誤差が発生し、カラーフィルタの開口部からインクが
はみ出るおそれがある。
【００１４】本発明によれば、描画前に直交方向に少な
くとも３点の基準マークが存在する基板を移動体上に搭
載し、少なくとも１軸方向の移動体の移動軸と基準マー
クを合わせ、移動体の移動量と基準マークの移動方向の
位置ずれを測定する。また、直交方向の移動軸について
も移動方向のずれおよび移動と直交方向のずれ量を測定
し、直交方向のずれ量を直交度の補正値、それぞれの移
動方向のずれ量を倍率値として、移動体の移動量のオフ
セット値として補正して制御する。このことにより、移
動体の移動精度を補償して高精度な描画を行なうことが
できる。具体的には、 ブラックマトリクスに対して正確にインクを打ち込む
ことができるので高精度な描画が可能である。 移動体の直交方向の組立精度を粗くできコストダウン
になる。
くとも３点の基準マークが存在する基板を移動体上に搭
載し、少なくとも１軸方向の移動体の移動軸と基準マー
クを合わせ、移動体の移動量と基準マークの移動方向の
位置ずれを測定する。また、直交方向の移動軸について
も移動方向のずれおよび移動と直交方向のずれ量を測定
し、直交方向のずれ量を直交度の補正値、それぞれの移
動方向のずれ量を倍率値として、移動体の移動量のオフ
セット値として補正して制御する。このことにより、移
動体の移動精度を補償して高精度な描画を行なうことが
できる。具体的には、 ブラックマトリクスに対して正確にインクを打ち込む
ことができるので高精度な描画が可能である。 移動体の直交方向の組立精度を粗くできコストダウン
になる。
【００１５】また、上記の補正をガラス基板上に描画さ
れたブラックマトリクスを基準として行なうことによ
り、移動体、ヘッドの位置補正に加え、描画基板の精度
を補償して高精度に描画することができる。すなわち、 ブラックマトリクスの精度に合わせて描画することが
でき描画の余裕を増やすことができる。
れたブラックマトリクスを基準として行なうことによ
り、移動体、ヘッドの位置補正に加え、描画基板の精度
を補償して高精度に描画することができる。すなわち、 ブラックマトリクスの精度に合わせて描画することが
でき描画の余裕を増やすことができる。
【００１６】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。図１は本発明の第１の実施例に係る装置の全体構成
を示す。同図において、１は基準マーク付きガラス基
板、２は描画ヘッドユニット、３１〜３３はヘッドと基
板間の距離測定装置、４はヘッド・基板間の平面内の相
対変位検出装置、５はヘッドユニット洗浄装置、６はＸ
Ｙ平面内移動ステージ、７はθ−Ｚ−チルト移動ステー
ジ、９は基板搬送用ロボットである。
る。図１は本発明の第１の実施例に係る装置の全体構成
を示す。同図において、１は基準マーク付きガラス基
板、２は描画ヘッドユニット、３１〜３３はヘッドと基
板間の距離測定装置、４はヘッド・基板間の平面内の相
対変位検出装置、５はヘッドユニット洗浄装置、６はＸ
Ｙ平面内移動ステージ、７はθ−Ｚ−チルト移動ステー
ジ、９は基板搬送用ロボットである。
【００１７】図２は図１におけるステージ６および７の
詳細図である。同図において、８（８１〜８３）はＺ−
チルト駆動用アクチュエータである。図３は基準マーク
付きガラス基板のイメージを、図４は測定結果のイメー
ジを、図５は描画機制御系構成を示す。図５において、
１００はＸＹ位置検出部、１０１はＺ−チルト・ＸＹθ
計測画像処理部、１０２はインクジェットドライバ部で
ある。
詳細図である。同図において、８（８１〜８３）はＺ−
チルト駆動用アクチュエータである。図３は基準マーク
付きガラス基板のイメージを、図４は測定結果のイメー
ジを、図５は描画機制御系構成を示す。図５において、
１００はＸＹ位置検出部、１０１はＺ−チルト・ＸＹθ
計測画像処理部、１０２はインクジェットドライバ部で
ある。
【００１８】上記構成において、基準マーク（図４の４
１）付きガラス基板１をロボット９によりθ−Ｚ−チル
トステージ７上に搭載する。この間にヘッドユニット２
は洗浄装置５により洗浄される。基板１の搭載が終了す
ると、ＸＹ位置検出器１００により基板１の位置を検出
および制御しながらＸＹステージ６によりヘッド・基板
間の距離（隙間）測定位置に移動し、Ｚ−チルト測定装
置３（３１〜３３）によりヘッド・基板間の距離を測定
し、その測定値が所定の値となるようＺ−チルト駆動用
アクチュエータ８により基板の位置合わせを行なう。
１）付きガラス基板１をロボット９によりθ−Ｚ−チル
トステージ７上に搭載する。この間にヘッドユニット２
は洗浄装置５により洗浄される。基板１の搭載が終了す
ると、ＸＹ位置検出器１００により基板１の位置を検出
および制御しながらＸＹステージ６によりヘッド・基板
間の距離（隙間）測定位置に移動し、Ｚ−チルト測定装
置３（３１〜３３）によりヘッド・基板間の距離を測定
し、その測定値が所定の値となるようＺ−チルト駆動用
アクチュエータ８により基板の位置合わせを行なう。
【００１９】次いで、ＸＹステージ６で基板１を基準位
置に移動し、基準位置での基板１上の基準マーク４１と
基準位置に設けられているマーク４２との位置ずれおよ
び基準位置からそれぞれＸ，Ｙ方向に一定量ステップし
た位置でのマーク４１と４２のずれを検出装置４により
測定する（図４）。
置に移動し、基準位置での基板１上の基準マーク４１と
基準位置に設けられているマーク４２との位置ずれおよ
び基準位置からそれぞれＸ，Ｙ方向に一定量ステップし
た位置でのマーク４１と４２のずれを検出装置４により
測定する（図４）。
【００２０】測定された結果のＸステージのＸ方向のず
れ量δx をＸ方向倍率、ＹステージのＹ方向のずれ量δ
y をＹ方向倍率、ＹステージのＸ方向のずれ量δxyを直
交度のオフセット値θxyとして入力し、描画時には生産
用の基板を搭載し、ＸＹステージ６の移動量を前記倍率
および直交度により補正し、ＸＹステージ６で基板を移
動させながらＸＹ位置検出部１００の結果から所定の位
置でインクジェットドライバ部１０２に指令し、ヘッド
ユニット２によりＲ，Ｇ，Ｂのパターンを描画する。
れ量δx をＸ方向倍率、ＹステージのＹ方向のずれ量δ
y をＹ方向倍率、ＹステージのＸ方向のずれ量δxyを直
交度のオフセット値θxyとして入力し、描画時には生産
用の基板を搭載し、ＸＹステージ６の移動量を前記倍率
および直交度により補正し、ＸＹステージ６で基板を移
動させながらＸＹ位置検出部１００の結果から所定の位
置でインクジェットドライバ部１０２に指令し、ヘッド
ユニット２によりＲ，Ｇ，Ｂのパターンを描画する。
【００２１】本実施例によれば、 ステージの直交度および倍率を補正して描画するので
高精度な描画が可能である。 ステージ、装置の組立精度を粗くできるのでコストダ
ウンが可能である。等の特徴がある。
高精度な描画が可能である。 ステージ、装置の組立精度を粗くできるのでコストダ
ウンが可能である。等の特徴がある。
【００２２】
【第２の実施例】図６および図７は本発明の第２の実施
例を説明するためのもので、図６はブラックマトリック
スのイメージを、図７は着弾位置測定のイメージを示
す。本実施例では、基板に描画されたブラックマトリク
スを基準にして第１の実施例で説明した方法により移動
体６の直交度および倍率を合わせるようにしている。こ
の調整は基板毎に行なってもあるいは基板ロットが変化
する毎等に行なってもよい。本実施例においては、基板
１をＸＹステージ６で基準位置に移動し、基準位置での
マークと基板１上の基準マークとの位置ずれおよび基準
位置からそれぞれＸ，Ｙ方向に一定量ステップしたとき
の上記マークと基板１上の基準マークとのずれを検出装
置４により測定する（図７）。
例を説明するためのもので、図６はブラックマトリック
スのイメージを、図７は着弾位置測定のイメージを示
す。本実施例では、基板に描画されたブラックマトリク
スを基準にして第１の実施例で説明した方法により移動
体６の直交度および倍率を合わせるようにしている。こ
の調整は基板毎に行なってもあるいは基板ロットが変化
する毎等に行なってもよい。本実施例においては、基板
１をＸＹステージ６で基準位置に移動し、基準位置での
マークと基板１上の基準マークとの位置ずれおよび基準
位置からそれぞれＸ，Ｙ方向に一定量ステップしたとき
の上記マークと基板１上の基準マークとのずれを検出装
置４により測定する（図７）。
【００２３】測定された結果のＸステージのＸ方向のず
れ量δx をＸ方向倍率、ＹステージのＹ方向のずれ量δ
y をＹ方向倍率、ＸステージとブラックマトリクスのＸ
方向の角度ずれ量θx をＸ方向の直交度のオフセット、
ＹステージとブラックマトリックスのＹ方向の角度ずれ
θy でＹ方向直交度オフセットとして入力し、描画時に
は前記倍率、直交度として補正し、生産用の基板を搭載
し、ＸＹステージ６で基板を移動させながらＸＹ位置検
出部１００の結果から所定の位置でインクジェットドラ
イバ部１０２に指令し、ヘッドユニット２によりＲ，
Ｇ，Ｂのパターンを描画する。
れ量δx をＸ方向倍率、ＹステージのＹ方向のずれ量δ
y をＹ方向倍率、ＸステージとブラックマトリクスのＸ
方向の角度ずれ量θx をＸ方向の直交度のオフセット、
ＹステージとブラックマトリックスのＹ方向の角度ずれ
θy でＹ方向直交度オフセットとして入力し、描画時に
は前記倍率、直交度として補正し、生産用の基板を搭載
し、ＸＹステージ６で基板を移動させながらＸＹ位置検
出部１００の結果から所定の位置でインクジェットドラ
イバ部１０２に指令し、ヘッドユニット２によりＲ，
Ｇ，Ｂのパターンを描画する。
【００２４】本実施例によれば、第１の実施例の特徴に
加え、 ブラックマトリックスに対して装置、ヘッドのアライ
メントを行なうのでより高精度な補正が可能である。 ブラックマトリックスに図６に示すようなディストー
ションが存在しても補正して描画が可能であり、描画精
度のマージン拡大が可能である。等の特徴がある。
加え、 ブラックマトリックスに対して装置、ヘッドのアライ
メントを行なうのでより高精度な補正が可能である。 ブラックマトリックスに図６に示すようなディストー
ションが存在しても補正して描画が可能であり、描画精
度のマージン拡大が可能である。等の特徴がある。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、移
動体の各方向の倍率、直交度を測定し、移動体のオフセ
ットとして補正しながら描画することにより、 高精度な描画が可能 装置精度を粗くできコストダウンが可能 タクトを落とすことなく高精度な描画が可能 等の特徴がある。
動体の各方向の倍率、直交度を測定し、移動体のオフセ
ットとして補正しながら描画することにより、 高精度な描画が可能 装置精度を粗くできコストダウンが可能 タクトを落とすことなく高精度な描画が可能 等の特徴がある。
【図１】 本発明の第１の実施例に係る装置全体図であ
る。
る。
【図２】 図１の装置におけるステージの全体図であ
る。
る。
【図３】 第１の実施例に係る基板上の基準マーク配置
図である。
図である。
【図４】 第１の実施例に係る基板の基準マーク測定結
果のイメージ図である。
果のイメージ図である。
【図５】 図１の装置の制御系の構成図である。
【図６】 第２の実施例に係る倍率測定方法の説明図で
ある。
ある。
【図７】 第２の実施例に係る直交度測定方法の説明図
である。
である。
１：ガラス基板、２：描画へッドユニット、３（３１〜
３３）：ヘッド基板間の距離測定装置、４：へッド・基
板間の平面内の相対変位検出装置、５：へッドユニット
洗浄装置、６：ＸＹ平面内移動ステージ、７：θ−Ｚ−
チルト移動ステージ、８（８１〜８３）：Ｚ−チルト駆
動用アクチュエータ、９：基板搬送用ロボット、１０
０：ＸＹ位置検出器、１０１：画像処理、１０２：イン
クジェットドライバ。
３３）：ヘッド基板間の距離測定装置、４：へッド・基
板間の平面内の相対変位検出装置、５：へッドユニット
洗浄装置、６：ＸＹ平面内移動ステージ、７：θ−Ｚ−
チルト移動ステージ、８（８１〜８３）：Ｚ−チルト駆
動用アクチュエータ、９：基板搬送用ロボット、１０
０：ＸＹ位置検出器、１０１：画像処理、１０２：イン
クジェットドライバ。
Claims (5)
- 【請求項１】 複数色のインクジェットをそれぞれ別個
独立して吐出する少なくとも１組の描画ヘッドを有する
描画ヘッドユニットと、該インクジェットによる描画に
よってカラーフィルタが形成される基板を搭載して前記
描画ヘッドのインクジェット吐出方向と交差する平面内
を移動する移動手段と、前記基板と描画へッドとの相対
位置を検出する相対変位検出手段とを備え、前記描画ヘ
ッドユニットにより複数の色を同時に描画する、液晶用
カラーフィルタの製造装置において、 予め、前記移動平面内の直交する２方向に対応して少な
くとも３カ所に設けられた基準マークを持つ基板を前記
移動手段に搭載した際、移動手段を移動させながらそれ
らの基準マークを前記相対変位検出手段により計測し、
移動手段の移動量と基準マークの移動量の差を算出する
手段と、 前記描画によりカラーフィルタを形成する際、直交する
各進行方向への移動量差をその進行方向の倍率とし、か
つ各進行方向に直交する方向への移動量差を直交度とし
て、前記移動手段の移動距離および移動方向を補正する
手段とを具備することを特徴とするカラーフィルタ製造
装置。 - 【請求項２】 インクジェットによる描画によってカラ
ーフィルタが形成される基板を移動手段に搭載し、複数
色のインクジェットをそれぞれ別個独立して吐出する少
なくとも１組の描画ヘッドを備えた描画ヘッドユニット
に対して該描画ヘッドのインクジェット吐出方向と交差
する平面内を移動させ、該描画ヘッドユニットにより複
数の色を同時に描画する、液晶用カラーフィルタの製造
方法において、 予め、少なくとも前記移動平面内の直交する方向の少な
くとも３カ所に設けられた基準マークを持つ基板を前記
移動手段に搭載し、 移動手段を移動させながら、前記カラーフィルタが形成
される基板と描画ヘッドとの前記平面内の相対変位を検
出する相対変位検出手段により、移動手段の移動距離と
前記基準マーク座標の移動量の差を求め、 前記描画によりカラーフィルタを形成する際、直交する
各進行方向への移動量差をその進行方向の倍率とし、か
つ各進行方向に直交する方向への移動量差を直交度とし
て、前記移動手段の移動距離および移動方向を補正して
描画することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。 - 【請求項３】 前記基準マークとして、前記カラーフィ
ルタが形成される基板に予め形成されたブラックマトリ
クスを使用することを特徴とする請求項２記載のカラー
フィルタ製造方法。 - 【請求項４】 前記請求項１項に記載の装置を用いて製
造されたことを特徴とするカラーフィルタ。 - 【請求項５】 前記請求項２または３項に記載の方法に
より製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7854798A JPH11258416A (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | カラーフィルタ製造装置および方法ならびにカラーフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7854798A JPH11258416A (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | カラーフィルタ製造装置および方法ならびにカラーフィルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11258416A true JPH11258416A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=13664955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7854798A Pending JPH11258416A (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | カラーフィルタ製造装置および方法ならびにカラーフィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11258416A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100637714B1 (ko) | 2005-03-31 | 2006-10-25 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| CN100358719C (zh) * | 2004-05-12 | 2008-01-02 | 精工爱普生株式会社 | 液滴喷出装置、以及电光学装置及其制造方法、电子仪器 |
| US7347530B2 (en) | 2006-06-22 | 2008-03-25 | Orbotech Ltd | Inkjet printing of color filters |
| US7455388B2 (en) | 2004-05-12 | 2008-11-25 | Seiko Epson Corporation | Liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electrooptical device, electrooptical device, and electronic apparatus |
-
1998
- 1998-03-12 JP JP7854798A patent/JPH11258416A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100358719C (zh) * | 2004-05-12 | 2008-01-02 | 精工爱普生株式会社 | 液滴喷出装置、以及电光学装置及其制造方法、电子仪器 |
| US7455388B2 (en) | 2004-05-12 | 2008-11-25 | Seiko Epson Corporation | Liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electrooptical device, electrooptical device, and electronic apparatus |
| US7857424B2 (en) | 2004-05-12 | 2010-12-28 | Seiko Epson Corporation | Liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electrooptical device, electrooptical device, and electronic apparatus |
| CN101219596B (zh) | 2004-05-12 | 2011-04-27 | 精工爱普生株式会社 | 液滴喷出装置、以及电光学装置及其制造方法 |
| US8096637B2 (en) | 2004-05-12 | 2012-01-17 | Seiko Epson Corporation | Liquid droplet ejection apparatus, method of manufacturing electrooptical device, electrooptical device, and electronic apparatus |
| KR100637714B1 (ko) | 2005-03-31 | 2006-10-25 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| US7347530B2 (en) | 2006-06-22 | 2008-03-25 | Orbotech Ltd | Inkjet printing of color filters |
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