JPH1125854A - プラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼成炉 - Google Patents
プラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼成炉Info
- Publication number
- JPH1125854A JPH1125854A JP9175610A JP17561097A JPH1125854A JP H1125854 A JPH1125854 A JP H1125854A JP 9175610 A JP9175610 A JP 9175610A JP 17561097 A JP17561097 A JP 17561097A JP H1125854 A JPH1125854 A JP H1125854A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- hearth
- plate
- muffle
- kiln
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/30—Details, accessories or equipment specially adapted for furnaces of these types
- F27B9/3077—Arrangements for treating electronic components, e.g. semiconductors
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/14—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
- F27B9/20—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path
- F27B9/24—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path being carried by a conveyor
- F27B9/2407—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path being carried by a conveyor the conveyor being constituted by rollers (roller hearth furnace)
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/30—Details, accessories or equipment specially adapted for furnaces of these types
- F27B9/32—Casings
- F27B9/34—Arrangements of linings
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/30—Details, accessories or equipment specially adapted for furnaces of these types
- F27B2009/305—Particular conformation of the furnace
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Control Of Resistance Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 マッフル表面の付着不純物の除去あるいはマ
ッフル内からのガラス基板の破損片の除去等の炉メンテ
ナンスを容易に行なうことのできるプラズマディスプレ
イパネル用ローラハース型連続焼成炉を提供する。 【解決手段】 マッフル１０により区画された処理室Ｈ
を有するプラズマディスプレイパネル用ローラハース型
連続焼成炉において、前記処理室を耐熱鋼製の天井板１
１と炉床板１４と内板１１構造の側壁とでマッフル構造
とし、天井板と炉床板をそれぞれ炉内側の炉側壁部３に
着脱自在に取り付けた分離可能とする一方、炉の天井壁
部１と炉床壁部２の大半を分離構造とし、それぞれ炉外
側の側壁部に着脱自在に取り付け炉内天井壁部と炉内炉
床壁部に電熱ヒータ１７ａ，１７ｂを配設した。
ッフル内からのガラス基板の破損片の除去等の炉メンテ
ナンスを容易に行なうことのできるプラズマディスプレ
イパネル用ローラハース型連続焼成炉を提供する。 【解決手段】 マッフル１０により区画された処理室Ｈ
を有するプラズマディスプレイパネル用ローラハース型
連続焼成炉において、前記処理室を耐熱鋼製の天井板１
１と炉床板１４と内板１１構造の側壁とでマッフル構造
とし、天井板と炉床板をそれぞれ炉内側の炉側壁部３に
着脱自在に取り付けた分離可能とする一方、炉の天井壁
部１と炉床壁部２の大半を分離構造とし、それぞれ炉外
側の側壁部に着脱自在に取り付け炉内天井壁部と炉内炉
床壁部に電熱ヒータ１７ａ，１７ｂを配設した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰという）用隔壁等を焼成する
ローラハース型連続焼成炉に関するものである。
レイパネル（以下、ＰＤＰという）用隔壁等を焼成する
ローラハース型連続焼成炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＰＤＰの製造工程には、対向するガラス
基板の少なくとも一方に形成した多数の隔壁を焼成する
工程、あるいはガラス基板の一方の外縁部に塗布した封
着剤を仮焼成する工程等の焼成工程がある。たとえば、
隔壁の焼成は、粉末ガラス等（ＰｂＯ・Ｂ2Ｏ3系低融点
ガラス粉末と特殊セラミック粉末とを混合したもの）
に、樹脂バインダを溶剤に溶解したビークルを加えて混
練したペーストをスクリーン印刷法によりガラス基板上
に数回塗布して所定高さの隔壁を形成し、所定時間放置
してレベリングを行なったのち、１００〜１５０℃で１
０〜１５分間乾燥を行なう。その後、焼成炉でペースト
に含まれる有機物を分解させるために昇温速度５〜１５
℃／分で焼成温度（５５０〜５８０℃）まで昇温し、約
１０分間保持して隔壁を焼成する。その後２〜１５℃／
分の降温速度で冷却するものである。この焼成炉として
は、ローラハース型連続焼成炉が実用化されている。こ
のローラハース型焼成炉は、マッフル構造の加熱帯と徐
冷帯および水冷ジャケット構成の冷却帯で構成され、前
記加熱帯および徐冷帯の処理室は、炉内のクリーン化に
対応するため、前記マッフル（天井板、炉床板、両側
板）をそれぞれ耐熱ガラスで構成し、各板をそれぞれ炉
内壁と所定間隔をもって配置したものである。なお、前
記加熱帯は通常、昇温帯、加熱帯および焼成帯から構成
されている。
基板の少なくとも一方に形成した多数の隔壁を焼成する
工程、あるいはガラス基板の一方の外縁部に塗布した封
着剤を仮焼成する工程等の焼成工程がある。たとえば、
隔壁の焼成は、粉末ガラス等（ＰｂＯ・Ｂ2Ｏ3系低融点
ガラス粉末と特殊セラミック粉末とを混合したもの）
に、樹脂バインダを溶剤に溶解したビークルを加えて混
練したペーストをスクリーン印刷法によりガラス基板上
に数回塗布して所定高さの隔壁を形成し、所定時間放置
してレベリングを行なったのち、１００〜１５０℃で１
０〜１５分間乾燥を行なう。その後、焼成炉でペースト
に含まれる有機物を分解させるために昇温速度５〜１５
℃／分で焼成温度（５５０〜５８０℃）まで昇温し、約
１０分間保持して隔壁を焼成する。その後２〜１５℃／
分の降温速度で冷却するものである。この焼成炉として
は、ローラハース型連続焼成炉が実用化されている。こ
のローラハース型焼成炉は、マッフル構造の加熱帯と徐
冷帯および水冷ジャケット構成の冷却帯で構成され、前
記加熱帯および徐冷帯の処理室は、炉内のクリーン化に
対応するため、前記マッフル（天井板、炉床板、両側
板）をそれぞれ耐熱ガラスで構成し、各板をそれぞれ炉
内壁と所定間隔をもって配置したものである。なお、前
記加熱帯は通常、昇温帯、加熱帯および焼成帯から構成
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、隔壁等の焼
成処理時、ペースト中の樹脂バインダ等の有機物は空気
と反応して熱・酸化分解して除去されるが、この分解ガ
ス中の炭化物等の不純物がマッフル表面に付着する。そ
のため、定期的にこの不純物を除去してマッフル表面を
清浄化する必要がある。また、焼成処理中に炉内でガラ
ス基板が破損すると、炉内から破損物を除去する必要が
ある。しかしながら、従来のローラハース型連続焼成炉
では、加熱帯等の処理室を形成するマッフルが耐熱ガラ
スで構成されているため、この耐熱ガラスの破損を防止
する必要上、前記不純物の除去作業、破損物の除去作業
は慎重に行なわなければならず作業性が悪く作業時間が
長くなる。また、側板を形成するマッフルは炉内壁から
所定間隔をもって設けるため、それだけ、炉幅が大きく
なる等の問題を有していた。したがって、本発明は加熱
帯等の処理室をマッフル構造とするものの、マッフル内
表面に付着した不純物の除去を容易に、かつ、ガラス基
板が処理室内で破損した際に、これら破損片をマッフル
を破損することなく容易に除去することのできるＰＤＰ
用ローラハース型連続焼成炉を提供することを目的とす
る。また、より生産性のよいＰＤＰ用ローラハース型連
続焼成炉を提供することを目的とする。
成処理時、ペースト中の樹脂バインダ等の有機物は空気
と反応して熱・酸化分解して除去されるが、この分解ガ
ス中の炭化物等の不純物がマッフル表面に付着する。そ
のため、定期的にこの不純物を除去してマッフル表面を
清浄化する必要がある。また、焼成処理中に炉内でガラ
ス基板が破損すると、炉内から破損物を除去する必要が
ある。しかしながら、従来のローラハース型連続焼成炉
では、加熱帯等の処理室を形成するマッフルが耐熱ガラ
スで構成されているため、この耐熱ガラスの破損を防止
する必要上、前記不純物の除去作業、破損物の除去作業
は慎重に行なわなければならず作業性が悪く作業時間が
長くなる。また、側板を形成するマッフルは炉内壁から
所定間隔をもって設けるため、それだけ、炉幅が大きく
なる等の問題を有していた。したがって、本発明は加熱
帯等の処理室をマッフル構造とするものの、マッフル内
表面に付着した不純物の除去を容易に、かつ、ガラス基
板が処理室内で破損した際に、これら破損片をマッフル
を破損することなく容易に除去することのできるＰＤＰ
用ローラハース型連続焼成炉を提供することを目的とす
る。また、より生産性のよいＰＤＰ用ローラハース型連
続焼成炉を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、マッフルにより区画された処理室を有す
るプラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼
成炉において、前記処理室を耐熱鋼製の天井板と耐熱鋼
製の炉床板と耐熱鋼製内板構造の側壁とでマッフル構造
とし、前記天井板と炉床板をそれぞれ炉内側の炉側壁部
に着脱自在に取り付けるとともに、前記炉の天井壁部と
炉床壁部の大半を分離構造とし、これらをそれぞれ炉外
側の側壁部に着脱自在に取り付け、かつ、炉内天井壁部
と炉内炉床壁部に電熱ヒータを配設したものである。ま
た、前記天井板と炉床板との間を２枚の耐熱鋼製仕切板
で上部処理室と下部処理室とに分割するとともに、２枚
の仕切板間で形成される空間に電熱ヒータを設け、か
つ、前記上部，下部処理室にそれぞれハースローラを配
設したものである。
成するために、マッフルにより区画された処理室を有す
るプラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼
成炉において、前記処理室を耐熱鋼製の天井板と耐熱鋼
製の炉床板と耐熱鋼製内板構造の側壁とでマッフル構造
とし、前記天井板と炉床板をそれぞれ炉内側の炉側壁部
に着脱自在に取り付けるとともに、前記炉の天井壁部と
炉床壁部の大半を分離構造とし、これらをそれぞれ炉外
側の側壁部に着脱自在に取り付け、かつ、炉内天井壁部
と炉内炉床壁部に電熱ヒータを配設したものである。ま
た、前記天井板と炉床板との間を２枚の耐熱鋼製仕切板
で上部処理室と下部処理室とに分割するとともに、２枚
の仕切板間で形成される空間に電熱ヒータを設け、か
つ、前記上部，下部処理室にそれぞれハースローラを配
設したものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の態様を図
にしたがって説明する。図に示すＰＤＰ用ローラハース
型連続焼成炉（以下、Ｒ・Ｈ型焼成炉という）Ｔは、大
略、昇温帯Ａ、加熱帯Ｂ、焼成帯Ｃ、徐冷帯Ｄと急冷帯
Ｅとからなる。そして、前記昇温帯Ａから徐冷帯Ｄの各
処理室Ｈはマッフル構造となっており、かつ、Ｒ・Ｈ型
焼成炉Ｔの内部には上下２段に所定間隔でハースローラ
Ｒが設けられ、ＰＤＰを構成するガラス基板Ｗが上下２
列で同時に焼成されるようになっている。
にしたがって説明する。図に示すＰＤＰ用ローラハース
型連続焼成炉（以下、Ｒ・Ｈ型焼成炉という）Ｔは、大
略、昇温帯Ａ、加熱帯Ｂ、焼成帯Ｃ、徐冷帯Ｄと急冷帯
Ｅとからなる。そして、前記昇温帯Ａから徐冷帯Ｄの各
処理室Ｈはマッフル構造となっており、かつ、Ｒ・Ｈ型
焼成炉Ｔの内部には上下２段に所定間隔でハースローラ
Ｒが設けられ、ＰＤＰを構成するガラス基板Ｗが上下２
列で同時に焼成されるようになっている。
【０００６】また、少なくともマッフル１０の内面に不
純物が付着し、あるいはガラス基板Ｗが破損しやすい前
記昇温帯Ａおよび加熱帯Ｂは、図２，図５に示す断面構
造となっている。なお、図においては、焼成帯Ｃおよび
徐冷帯Ｄも同様構成としてある。すなわち、昇温帯Ａお
よび加熱帯Ｂを構成する天井壁部１の一部（以下、分離
天井壁部１ａという）と炉床壁部２の一部（以下、分離
炉床部２ａという）は、所定ブロック毎に炉側壁部３か
ら着脱自在となっている。
純物が付着し、あるいはガラス基板Ｗが破損しやすい前
記昇温帯Ａおよび加熱帯Ｂは、図２，図５に示す断面構
造となっている。なお、図においては、焼成帯Ｃおよび
徐冷帯Ｄも同様構成としてある。すなわち、昇温帯Ａお
よび加熱帯Ｂを構成する天井壁部１の一部（以下、分離
天井壁部１ａという）と炉床壁部２の一部（以下、分離
炉床部２ａという）は、所定ブロック毎に炉側壁部３か
ら着脱自在となっている。
【０００７】具体的には、図３，図６および図７に示す
ように、分離天井壁部１ａは吊下げ金具４により上方に
炉側壁部３から分離され、また分離炉床部２ａは炉床２
下方に敷設されたローラコンベア５上を移動するリフタ
ーテーブル６により下方に炉側壁部３から分離されるよ
うになっている。なお、前記分離天井壁部１ａと分離炉
床部２ａとは炉側壁部３にボルト・ナット等の着脱自在
な取付部材７により取り付けられている。
ように、分離天井壁部１ａは吊下げ金具４により上方に
炉側壁部３から分離され、また分離炉床部２ａは炉床２
下方に敷設されたローラコンベア５上を移動するリフタ
ーテーブル６により下方に炉側壁部３から分離されるよ
うになっている。なお、前記分離天井壁部１ａと分離炉
床部２ａとは炉側壁部３にボルト・ナット等の着脱自在
な取付部材７により取り付けられている。
【０００８】前記マッフル１０は内板１１、天井板１
２、炉床板１４とからなり、いずれも耐熱鋼板、好まし
くは、酸化スケールの発生による不都合を防ぐため、耐
酸化性耐熱鋼、たとえば、サンドビック社製２５３ＭＡ
等である。
２、炉床板１４とからなり、いずれも耐熱鋼板、好まし
くは、酸化スケールの発生による不都合を防ぐため、耐
酸化性耐熱鋼、たとえば、サンドビック社製２５３ＭＡ
等である。
【０００９】そして、前記内板１１は炉側壁部３の内表
面に沿い、かつ、その上下端部は外方に折曲され、分離
天井壁部１ａおよび分離炉床壁部２ａが分離される位置
において外方に長く延びている。天井板１２と炉床板１
４とは、図３，図６および図７に示すように、断面凹凸
を有し、その両端を炉側壁部３の上下端の内側に内板１
１とともにボルト１３により取り付けられている。
面に沿い、かつ、その上下端部は外方に折曲され、分離
天井壁部１ａおよび分離炉床壁部２ａが分離される位置
において外方に長く延びている。天井板１２と炉床板１
４とは、図３，図６および図７に示すように、断面凹凸
を有し、その両端を炉側壁部３の上下端の内側に内板１
１とともにボルト１３により取り付けられている。
【００１０】なお、本実施の態様においては、前記天井
板１２と炉床板１４との間に２枚の仕切板１５が所定間
隔をもって前記内板１１に設けた受け金具１６上に２段
に載置されるようになっている。また、分離天井壁部１
ａと分離炉床部２ａおよび前記２段の仕切板１５間には
電熱ヒータ１７ａ，１７ｂ，１７ｃがそれぞれ配設さ
れ、前記ハースローラＲは前記天井板１１と仕切板１５
間および仕切板１５と炉床板１４との間に端部が炉側壁
部３から外に突出するように配設されている。さらに、
昇温帯Ａと徐冷帯Ｄには、図１，図２，図５に示すよう
に、処理室Ｈ内にクーリングエア等の気体供給手段１８
と炉内雰囲気を炉外に排気する排気手段１９が設けてあ
る。
板１２と炉床板１４との間に２枚の仕切板１５が所定間
隔をもって前記内板１１に設けた受け金具１６上に２段
に載置されるようになっている。また、分離天井壁部１
ａと分離炉床部２ａおよび前記２段の仕切板１５間には
電熱ヒータ１７ａ，１７ｂ，１７ｃがそれぞれ配設さ
れ、前記ハースローラＲは前記天井板１１と仕切板１５
間および仕切板１５と炉床板１４との間に端部が炉側壁
部３から外に突出するように配設されている。さらに、
昇温帯Ａと徐冷帯Ｄには、図１，図２，図５に示すよう
に、処理室Ｈ内にクーリングエア等の気体供給手段１８
と炉内雰囲気を炉外に排気する排気手段１９が設けてあ
る。
【００１１】つぎに、前記構成からなるＲ・Ｈ型焼成炉
Ｔを使用してＰＤＰ用隔壁の焼成方法を説明する。ま
ず、前記したペーストをスクリーン印刷法等によりガラ
ス基板Ｗ上に印刷して隔壁を形成し、１００〜１５０℃
で１０〜１５分間乾燥処理を行なう。ついで、乾燥処理
を経たガラス基板ＷをＲ・Ｈ型焼成炉Ｔの装入部に装入
し、ガラス基板Ｗを順次抽出側にハースローラＲで搬送
して、その間に隔壁を焼成処理する。
Ｔを使用してＰＤＰ用隔壁の焼成方法を説明する。ま
ず、前記したペーストをスクリーン印刷法等によりガラ
ス基板Ｗ上に印刷して隔壁を形成し、１００〜１５０℃
で１０〜１５分間乾燥処理を行なう。ついで、乾燥処理
を経たガラス基板ＷをＲ・Ｈ型焼成炉Ｔの装入部に装入
し、ガラス基板Ｗを順次抽出側にハースローラＲで搬送
して、その間に隔壁を焼成処理する。
【００１２】すなわち、Ｒ・Ｈ型焼成炉Ｔに装入された
ガラス基板Ｗは、昇温帯Ａおよび加熱帯Ｂで５〜１５℃
／minの昇温速度で焼成温度（５００〜６００℃）まで
加熱される。この間に、主に昇温帯Ａで隔壁中の樹脂バ
インダは熱・酸化分解され大半が気化し、処理室Ｈ内へ
供給されたクリーンエアとともに炉外に排出される。な
お、前記クリーンエアとは、ＪＩＳＢ９９２０で示され
る清浄度クラス７で露点−１０℃程度の空気をいう。そ
して、ガラス基板Ｗは焼成帯Ｃ（５００〜６００℃）で
所定時間（５〜３０分）保持されて隔壁が焼成され、つ
ぎの徐冷帯Ｄ、急冷帯Ｅで冷却され炉外に排出されるこ
とになる。
ガラス基板Ｗは、昇温帯Ａおよび加熱帯Ｂで５〜１５℃
／minの昇温速度で焼成温度（５００〜６００℃）まで
加熱される。この間に、主に昇温帯Ａで隔壁中の樹脂バ
インダは熱・酸化分解され大半が気化し、処理室Ｈ内へ
供給されたクリーンエアとともに炉外に排出される。な
お、前記クリーンエアとは、ＪＩＳＢ９９２０で示され
る清浄度クラス７で露点−１０℃程度の空気をいう。そ
して、ガラス基板Ｗは焼成帯Ｃ（５００〜６００℃）で
所定時間（５〜３０分）保持されて隔壁が焼成され、つ
ぎの徐冷帯Ｄ、急冷帯Ｅで冷却され炉外に排出されるこ
とになる。
【００１３】前記処理工程において、前述のように、主
として昇温帯Ａにおいて、隔壁中の樹脂バインダが熱・
酸化分解され、このときに生じる大半の不純物（ヤニ）
はクリーンエアとともに炉外に排出されるが、若干は前
記マッフル１０表面に付着して除去する必要が生じる。
また、ハースローラＲでガラス基板Ｗを炉内搬送中にお
いて破損し、その破損片を除去する必要が生じる。この
場合、分離天井壁部１ａあるいは分離炉床部２ａを炉側
壁部３に取り付けている取付部材７を取り外したのち、
分離天井壁部１ａは吊下げ金具４を利用してクレーンで
取り外し、また、分離炉床壁部２ａはリフタテーブル６
により取り外す。その後、天井板１２あるいは炉床板１
４を炉側壁部３に取り付けているボルト１３を取り外し
たのち天井板１２および炉床板１４を取り外し、さらに
は、仕切板１５を炉外に取出して、清掃あるいは破損片
を片付けることになる。
として昇温帯Ａにおいて、隔壁中の樹脂バインダが熱・
酸化分解され、このときに生じる大半の不純物（ヤニ）
はクリーンエアとともに炉外に排出されるが、若干は前
記マッフル１０表面に付着して除去する必要が生じる。
また、ハースローラＲでガラス基板Ｗを炉内搬送中にお
いて破損し、その破損片を除去する必要が生じる。この
場合、分離天井壁部１ａあるいは分離炉床部２ａを炉側
壁部３に取り付けている取付部材７を取り外したのち、
分離天井壁部１ａは吊下げ金具４を利用してクレーンで
取り外し、また、分離炉床壁部２ａはリフタテーブル６
により取り外す。その後、天井板１２あるいは炉床板１
４を炉側壁部３に取り付けているボルト１３を取り外し
たのち天井板１２および炉床板１４を取り外し、さらに
は、仕切板１５を炉外に取出して、清掃あるいは破損片
を片付けることになる。
【００１４】前記実施の態様においては、処理室Ｈのマ
ッフル構造を２枚の仕切板１５，１５により区切り、ハ
ースローラＲを２段に設けてガラス基板Ｗを処理する場
合について述べたが、仕切板１５、中間の電熱ヒータ１
７ｃを設けず、ハースローラＲも１段とするようにして
もよいことは勿論である。
ッフル構造を２枚の仕切板１５，１５により区切り、ハ
ースローラＲを２段に設けてガラス基板Ｗを処理する場
合について述べたが、仕切板１５、中間の電熱ヒータ１
７ｃを設けず、ハースローラＲも１段とするようにして
もよいことは勿論である。
【００１５】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、処理室を構成する炉の天井壁部と炉床壁部の大
半を炉本体（炉側壁部）から容易に取り外しのできる分
離天井壁部と分離炉床壁部とし、かつ、マッフルも分離
構造であるため、これらを取り外すことによりマッフル
に付着した不純物や破損ガラス片の除去作業を効率的に
行なえる。また、マッフル構成部材は従来のようにガラ
ス製でなく耐熱鋼製であるため、前記除去作業時に破損
することがなく取扱いが容易である。さらに、マッフル
の側壁は内板構造の側壁で構成するため、従来のよう
に、炉側壁の内側に所定間隔をもって設置する必要がな
く、それだけ炉巾を軽減することができる。さらにま
た、マッフル内に２枚の仕切板を設け、この仕切板間に
ヒータを配置して処理室を２室とし、この各処理室にロ
ーラハースを配設するようにすると、前述の効果に加え
て、さらに生産性を向上することができる。
よれば、処理室を構成する炉の天井壁部と炉床壁部の大
半を炉本体（炉側壁部）から容易に取り外しのできる分
離天井壁部と分離炉床壁部とし、かつ、マッフルも分離
構造であるため、これらを取り外すことによりマッフル
に付着した不純物や破損ガラス片の除去作業を効率的に
行なえる。また、マッフル構成部材は従来のようにガラ
ス製でなく耐熱鋼製であるため、前記除去作業時に破損
することがなく取扱いが容易である。さらに、マッフル
の側壁は内板構造の側壁で構成するため、従来のよう
に、炉側壁の内側に所定間隔をもって設置する必要がな
く、それだけ炉巾を軽減することができる。さらにま
た、マッフル内に２枚の仕切板を設け、この仕切板間に
ヒータを配置して処理室を２室とし、この各処理室にロ
ーラハースを配設するようにすると、前述の効果に加え
て、さらに生産性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明にかかるディスプレイパネル用ローラ
ハース型連続焼成炉の縦断面図。
ハース型連続焼成炉の縦断面図。
【図２】 図１の昇温帯の拡大断面図。
【図３】 図１の昇温帯における一部拡大側面図。
【図４】 図１の加熱帯における一部拡大詳細図。
【図５】 図２の要部拡大図。
【図６】 図５の一部拡大図。
【図７】 図５の一部拡大図。
【符号の説明】 Ａ…昇温帯、Ｂ…加熱帯、Ｃ…焼成帯、Ｄ…徐冷帯、Ｅ
…急冷帯、Ｈ…処理室、Ｒ…ハースローラ、Ｔ…ディス
プレイパネル用ローラハース型連続焼成炉、Ｗ…ガラス
基板、１…天井壁部、１ａ…分離天井壁部、２…炉床壁
部、２ａ…分離天井壁部、３…炉側壁部、４…吊下げ金
具、６…リフターテーブル、７…取付部材、１０…マッ
フル、１１…内板、１２…天井板、１４…炉床板、１５
…仕切板、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ…電熱ヒータ。
…急冷帯、Ｈ…処理室、Ｒ…ハースローラ、Ｔ…ディス
プレイパネル用ローラハース型連続焼成炉、Ｗ…ガラス
基板、１…天井壁部、１ａ…分離天井壁部、２…炉床壁
部、２ａ…分離天井壁部、３…炉側壁部、４…吊下げ金
具、６…リフターテーブル、７…取付部材、１０…マッ
フル、１１…内板、１２…天井板、１４…炉床板、１５
…仕切板、１７ａ，１７ｂ，１７ｃ…電熱ヒータ。
Claims (2)
- 【請求項１】 マッフルにより区画された処理室を有す
るプラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼
成炉において、前記処理室を耐熱鋼製の天井板と耐熱鋼
製の炉床板と耐熱鋼製内板構造の側壁とでマッフル構造
とし、前記天井板と炉床板をそれぞれ炉内側の炉側壁部
に着脱自在に取り付けるとともに、前記炉の天井壁部と
炉床壁部の大半を分離構造とし、これらをそれぞれ炉外
側の側壁部に着脱自在に取り付け、かつ、炉内天井壁部
と炉内炉床壁部に電熱ヒータを配設したことを特徴とす
るプラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼
成炉。 - 【請求項２】 前記天井板と炉床板との間を２枚の耐熱
鋼製仕切板で上部処理室と下部処理室とに分割するとと
もに、２枚の仕切板間で形成される空間に電熱ヒータを
設け、かつ、上部，下部処理室にそれぞれハースローラ
を配設したことを特徴とする前記請求項１に記載のプラ
ズマディスプレイパネル用ローラハース型連続熱処理
炉。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9175610A JPH1125854A (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | プラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼成炉 |
| TW087103561A TW370605B (en) | 1997-07-01 | 1998-03-11 | Roller hearth type continuous firing furnace for plasma display panel |
| KR1019980008655A KR19990013330A (ko) | 1997-07-01 | 1998-03-14 | 플라즈마 디스플레이 패널용 로울러 하아스형 연속 소성로 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9175610A JPH1125854A (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | プラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼成炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1125854A true JPH1125854A (ja) | 1999-01-29 |
| JPH1125854A5 JPH1125854A5 (ja) | 2005-03-17 |
Family
ID=15999109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9175610A Pending JPH1125854A (ja) | 1997-07-01 | 1997-07-01 | プラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼成炉 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1125854A (ja) |
| KR (1) | KR19990013330A (ja) |
| TW (1) | TW370605B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6930285B2 (en) | 2002-12-11 | 2005-08-16 | Pioneer Plasma Display Corporation | Firing furnace for plasma display panel and method of manufacturing plasma display panel |
| US7568914B2 (en) | 2006-07-10 | 2009-08-04 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Heat treatment apparatus |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100418030B1 (ko) * | 2001-05-11 | 2004-02-14 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 표시 패널의 제조장치 |
-
1997
- 1997-07-01 JP JP9175610A patent/JPH1125854A/ja active Pending
-
1998
- 1998-03-11 TW TW087103561A patent/TW370605B/zh active
- 1998-03-14 KR KR1019980008655A patent/KR19990013330A/ko not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6930285B2 (en) | 2002-12-11 | 2005-08-16 | Pioneer Plasma Display Corporation | Firing furnace for plasma display panel and method of manufacturing plasma display panel |
| US7568914B2 (en) | 2006-07-10 | 2009-08-04 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Heat treatment apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19990013330A (ko) | 1999-02-25 |
| TW370605B (en) | 1999-09-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4402846B2 (ja) | 平面ガラス基板用連続式焼成炉 | |
| KR101169106B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 다단 소성 장치 | |
| JP2002195755A5 (ja) | ||
| JPH1125854A (ja) | プラズマディスプレイパネル用ローラハース型連続焼成炉 | |
| US6168426B1 (en) | Batch-type kiln | |
| JPH11311484A (ja) | 炉内雰囲気循環型ローラハース式連続焼成炉 | |
| JPH10302635A (ja) | プラズマディスプレイパネルの塗布封着剤の仮焼成方法 | |
| KR100484562B1 (ko) | 롤러하스형연속글라스기판봉착로 | |
| WO2013088495A1 (ja) | ヒータユニット、焼成炉及び珪素含有多孔質セラミック焼成体の製造方法 | |
| JP3655729B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル用隔壁の焼成方法 | |
| CN1149039A (zh) | 抗菌陶瓷及其生产方法 | |
| JP2005114284A (ja) | 焼成炉 | |
| JP2001241849A (ja) | Ｐｄｐ基板焼成炉 | |
| JP3921716B2 (ja) | バッチ式熱処理炉 | |
| JP2002206863A (ja) | 連続式熱処理炉 | |
| JP2505358Y2 (ja) | 電子部品における厚膜形成用マッフル式焼成炉 | |
| JP3233055B2 (ja) | バッチ式熱処理炉 | |
| JP3920586B2 (ja) | 連続焼成炉用リフター装置 | |
| KR100418030B1 (ko) | 플라즈마 표시 패널의 제조장치 | |
| US4597735A (en) | High-efficiency porcelain enameling furnace | |
| JPH10267544A (ja) | 連続式熱処理炉 | |
| JPH0235232B2 (ja) | Renzokushikiroorahaasugatashoseiro | |
| JP2003202189A (ja) | 加熱帯および冷却帯を備えたトレイ搬送式連続炉 | |
| JP2007225173A (ja) | 熱処理炉及び太陽電池セル | |
| JPH05203364A (ja) | 連続処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040420 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040420 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060228 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060418 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061024 |