JPH11259846A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPH11259846A JPH11259846A JP353099A JP353099A JPH11259846A JP H11259846 A JPH11259846 A JP H11259846A JP 353099 A JP353099 A JP 353099A JP 353099 A JP353099 A JP 353099A JP H11259846 A JPH11259846 A JP H11259846A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 保磁力およびノイズ特性が共に優れた磁気記
録媒体を提供する。 【解決手段】 非磁性基板1上に非磁性下地膜2、磁性
膜3および保護膜4を備え、磁性膜3は、Coを主成分
とする材料からなるものであり、非磁性下地膜2は、第
1下地膜2Aと第2下地膜2Bを備えた2層構造を有
し、第1下地膜2AはCrを主成分とする材料からなる
ものであり、第2下地膜2BはCr/Nb系合金、Cr
/W系合金、Cr/V系合金、およびCr/Mo系合金
のうちいずれかを主成分とする材料からなるものとされ
る。
録媒体を提供する。 【解決手段】 非磁性基板1上に非磁性下地膜2、磁性
膜3および保護膜4を備え、磁性膜3は、Coを主成分
とする材料からなるものであり、非磁性下地膜2は、第
1下地膜2Aと第2下地膜2Bを備えた2層構造を有
し、第1下地膜2AはCrを主成分とする材料からなる
ものであり、第2下地膜2BはCr/Nb系合金、Cr
/W系合金、Cr/V系合金、およびCr/Mo系合金
のうちいずれかを主成分とする材料からなるものとされ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ドラム、磁気
テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体に係り、特に、
ノイズ特性および保磁力が共に優れた磁気記録媒体に関
する。
テープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体に係り、特に、
ノイズ特性および保磁力が共に優れた磁気記録媒体に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置等の高記録密度
化に伴い、磁気抵抗効果を利用した磁気ヘッド(以下、
MRヘッドと略記する)が多く用いられている。このた
め、磁気記録媒体についても、ノイズ特性等の磁気特性
に優れたものが必要とされてきている。これは、MRヘ
ッドが従来の電磁誘導型ヘッドに比べて再生感度が高
く、ヘッドノイズが低いものであるため、磁気ディスク
装置等のS/N比、記録密度等の特性を向上させるため
には、磁気記録媒体についてもノイズ特性等の磁気特性
が優れたものが必要となるためである。
化に伴い、磁気抵抗効果を利用した磁気ヘッド(以下、
MRヘッドと略記する)が多く用いられている。このた
め、磁気記録媒体についても、ノイズ特性等の磁気特性
に優れたものが必要とされてきている。これは、MRヘ
ッドが従来の電磁誘導型ヘッドに比べて再生感度が高
く、ヘッドノイズが低いものであるため、磁気ディスク
装置等のS/N比、記録密度等の特性を向上させるため
には、磁気記録媒体についてもノイズ特性等の磁気特性
が優れたものが必要となるためである。
【0003】現在、一般に用いられている磁気記録媒体
としては、NiPメッキ膜を形成したAl合金などから
なる基板上にCr等からなる非磁性下地膜を形成し、そ
の上にCoを主成分とする材料などからなる磁性膜を形
成し、その上に保護膜および潤滑膜を形成したものがあ
る。
としては、NiPメッキ膜を形成したAl合金などから
なる基板上にCr等からなる非磁性下地膜を形成し、そ
の上にCoを主成分とする材料などからなる磁性膜を形
成し、その上に保護膜および潤滑膜を形成したものがあ
る。
【0004】この種の磁気記録媒体としては、特公平5
−24564号公報に開示されたものが知られている。
該公報に開示された磁気記録媒体は、厚みを50ないし
200ÅとしたCrからなる非磁性下地膜を設けること
により、角型比を向上させたもである。また特開平1−
232522号公報には、非磁性下地膜として、Cr
に、Cu、Nb、Ti、V、Zr、Mo、Zn、W、お
よびTaのうち1種以上の金属を添加した合金からな
り、厚みを500ないし3000Åとしたものを用いる
ことによって、磁気特性、特に保磁力を高めた磁気記録
媒体が提案されている。
−24564号公報に開示されたものが知られている。
該公報に開示された磁気記録媒体は、厚みを50ないし
200ÅとしたCrからなる非磁性下地膜を設けること
により、角型比を向上させたもである。また特開平1−
232522号公報には、非磁性下地膜として、Cr
に、Cu、Nb、Ti、V、Zr、Mo、Zn、W、お
よびTaのうち1種以上の金属を添加した合金からな
り、厚みを500ないし3000Åとしたものを用いる
ことによって、磁気特性、特に保磁力を高めた磁気記録
媒体が提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
公平5−24564号公報に開示された磁気記録媒体に
あっては、Crからなる非磁性下地膜内で結晶が十分に
(200)方位となるように成長せず、その結果、この
下地膜に対しエピタキシャル成長する磁性膜内の結晶の
配向性が乱れ、得られる磁気記録媒体の保磁力等の磁気
特性が不十分となる不都合があった。また、特開平1−
232522号公報に開示された磁気記録媒体では、C
r合金からなる非磁性下地膜を形成する際に、膜内でC
r合金からなる結晶が粗大化し、非磁性下地膜上に形成
される磁性膜内の磁性粒子が、上記粗大化Cr合金結晶
を含む非磁性下地膜に対しエピタキシャル成長して粗大
化し、その結果、得られる磁気記録媒体がノイズ特性等
の磁気特性に劣るものとなってしまう問題があった。本
発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、保磁力およ
びノイズ特性が共に優れた磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。
公平5−24564号公報に開示された磁気記録媒体に
あっては、Crからなる非磁性下地膜内で結晶が十分に
(200)方位となるように成長せず、その結果、この
下地膜に対しエピタキシャル成長する磁性膜内の結晶の
配向性が乱れ、得られる磁気記録媒体の保磁力等の磁気
特性が不十分となる不都合があった。また、特開平1−
232522号公報に開示された磁気記録媒体では、C
r合金からなる非磁性下地膜を形成する際に、膜内でC
r合金からなる結晶が粗大化し、非磁性下地膜上に形成
される磁性膜内の磁性粒子が、上記粗大化Cr合金結晶
を含む非磁性下地膜に対しエピタキシャル成長して粗大
化し、その結果、得られる磁気記録媒体がノイズ特性等
の磁気特性に劣るものとなってしまう問題があった。本
発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、保磁力およ
びノイズ特性が共に優れた磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題は、磁性膜を、
Coを主成分とする材料からなるものとし、非磁性下地
膜を、第1下地膜上に第2下地膜を形成した2層構造を
有し、第1下地膜をCrを主成分とする材料からなるも
のとし、第2下地膜をCr/Nb系合金、Cr/W系合
金、Cr/V系合金、およびCr/Mo系合金のうちい
ずれかを主成分とする材料からなるものとした磁気記録
媒体によって解決される。上記第2下地膜を、Cr/N
b系合金を主成分とする材料からなるものとする場合に
は、この第2下地膜中のNb含有量を5〜20at%と
するのが好ましい。また第2下地膜を、Cr/W系合金
を主成分とする材料からなるものとする場合には、この
第2下地膜中のW含有量を5〜60at%、さらに好ま
しくは10〜60at%とするのが望ましい。また第2
下地膜を、Cr/V系合金を主成分とする材料からなる
ものとする場合には、この第2下地膜中のV含有量を2
〜30at%とするのが好ましい。また第2下地膜を、
Cr/Mo系合金を主成分とする材料からなるものとす
る場合には、この第2下地膜中のMo含有量を2〜25
at%とするのが好ましい。また、第1下地膜の膜厚は
25〜600Åとするのが好ましく、第2下地膜の膜厚
は1〜200Åとするのが好ましい。また、非磁性基板
としては、表面にNiPメッキを施したアルミニウム合
金からなるもの、またはガラスからなるものを用いるの
が好ましい。
Coを主成分とする材料からなるものとし、非磁性下地
膜を、第1下地膜上に第2下地膜を形成した2層構造を
有し、第1下地膜をCrを主成分とする材料からなるも
のとし、第2下地膜をCr/Nb系合金、Cr/W系合
金、Cr/V系合金、およびCr/Mo系合金のうちい
ずれかを主成分とする材料からなるものとした磁気記録
媒体によって解決される。上記第2下地膜を、Cr/N
b系合金を主成分とする材料からなるものとする場合に
は、この第2下地膜中のNb含有量を5〜20at%と
するのが好ましい。また第2下地膜を、Cr/W系合金
を主成分とする材料からなるものとする場合には、この
第2下地膜中のW含有量を5〜60at%、さらに好ま
しくは10〜60at%とするのが望ましい。また第2
下地膜を、Cr/V系合金を主成分とする材料からなる
ものとする場合には、この第2下地膜中のV含有量を2
〜30at%とするのが好ましい。また第2下地膜を、
Cr/Mo系合金を主成分とする材料からなるものとす
る場合には、この第2下地膜中のMo含有量を2〜25
at%とするのが好ましい。また、第1下地膜の膜厚は
25〜600Åとするのが好ましく、第2下地膜の膜厚
は1〜200Åとするのが好ましい。また、非磁性基板
としては、表面にNiPメッキを施したアルミニウム合
金からなるもの、またはガラスからなるものを用いるの
が好ましい。
【0007】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の磁気記録媒体の
一実施形態を示すもので、ここに示す磁気記録媒体は、
非磁性基板1上に、非磁性下地膜2、磁性膜3および保
護膜4が順次形成されたもので、非磁性下地膜2は、第
1下地膜2A上に第2下地膜2Bを形成した2層構造を
有するものとされている。
一実施形態を示すもので、ここに示す磁気記録媒体は、
非磁性基板1上に、非磁性下地膜2、磁性膜3および保
護膜4が順次形成されたもので、非磁性下地膜2は、第
1下地膜2A上に第2下地膜2Bを形成した2層構造を
有するものとされている。
【0008】非磁性基板1としては、磁気記録媒体用基
板として一般に用いられるNiPメッキAl合金、すな
わち表面にNiPメッキが施されたアルミニウム合金に
加え、ガラス、セラミック、カーボン、シリコン、シリ
コンカーバイドなどからなるものを用いることができ
る。
板として一般に用いられるNiPメッキAl合金、すな
わち表面にNiPメッキが施されたアルミニウム合金に
加え、ガラス、セラミック、カーボン、シリコン、シリ
コンカーバイドなどからなるものを用いることができ
る。
【0009】中でも特に、NiPメッキAl合金、また
はガラスからなるものを用いるのが好ましい。これは、
NiPメッキAl合金には、安価であり磁気記録媒体の
製造コストを低く抑えることが可能となるという利点が
あり、ガラスには、表面平滑性に優れ、得られる磁気記
録媒体がCSS特性に優れたものとなるという利点があ
るためである。また非磁性基板1は、その表面にテクス
チャ加工を施すことによって、平均表面粗さRaを20
Å以下とするのが好ましい。この平均表面粗さRaが2
0Åを越えると、磁気記録媒体のグライドハイト特性が
低下するため好ましくない。
はガラスからなるものを用いるのが好ましい。これは、
NiPメッキAl合金には、安価であり磁気記録媒体の
製造コストを低く抑えることが可能となるという利点が
あり、ガラスには、表面平滑性に優れ、得られる磁気記
録媒体がCSS特性に優れたものとなるという利点があ
るためである。また非磁性基板1は、その表面にテクス
チャ加工を施すことによって、平均表面粗さRaを20
Å以下とするのが好ましい。この平均表面粗さRaが2
0Åを越えると、磁気記録媒体のグライドハイト特性が
低下するため好ましくない。
【0010】非磁性下地膜2の第1下地膜2Aは、その
上に形成される第2下地膜2B内の結晶配向性を良好な
ものとするためのもので、Crを主成分とする材料から
なるものとされる。なお、ここで主成分とは当該成分を
50at%以上、好ましくは70at%以上含むことを
指す。
上に形成される第2下地膜2B内の結晶配向性を良好な
ものとするためのもので、Crを主成分とする材料から
なるものとされる。なお、ここで主成分とは当該成分を
50at%以上、好ましくは70at%以上含むことを
指す。
【0011】この第1下地膜2Aの膜厚は、25〜60
0Å、好ましくは25〜500Å、さらに好ましくは2
5〜300Åとするのが望ましい。この膜厚が25Å未
満であると、膜2A内での結晶成長が不十分となり、こ
れにより膜2Aに対しエピタキシャル成長する第2下地
膜2B内の結晶、および膜2Bに対しエピタキシャル成
長する磁性膜3内の結晶の配向性が悪化し、得られる磁
気記録媒体の保磁力等の磁気特性が低下する。また上記
膜厚が600Åを越えると、この膜2A内で成長する結
晶が粗大化し、これにより第2下地膜2Bおよび磁性膜
3内で成長する結晶の粗大化が起こり、得られる磁気記
録媒体のノイズ特性等の磁気特性が低下する。特に、上
記膜厚を25〜300Åとすると、第1下地膜2A内の
結晶を粗大化させることなく結晶配向性を良好なものと
する効果を十分なものとし、磁気記録媒体の保磁力、ノ
イズ特性をいっそう優れたものとすることができるため
好ましい。
0Å、好ましくは25〜500Å、さらに好ましくは2
5〜300Åとするのが望ましい。この膜厚が25Å未
満であると、膜2A内での結晶成長が不十分となり、こ
れにより膜2Aに対しエピタキシャル成長する第2下地
膜2B内の結晶、および膜2Bに対しエピタキシャル成
長する磁性膜3内の結晶の配向性が悪化し、得られる磁
気記録媒体の保磁力等の磁気特性が低下する。また上記
膜厚が600Åを越えると、この膜2A内で成長する結
晶が粗大化し、これにより第2下地膜2Bおよび磁性膜
3内で成長する結晶の粗大化が起こり、得られる磁気記
録媒体のノイズ特性等の磁気特性が低下する。特に、上
記膜厚を25〜300Åとすると、第1下地膜2A内の
結晶を粗大化させることなく結晶配向性を良好なものと
する効果を十分なものとし、磁気記録媒体の保磁力、ノ
イズ特性をいっそう優れたものとすることができるため
好ましい。
【0012】第2下地膜2Bは、Cr/Nb系合金、C
r/W系合金、Cr/V系合金、およびCr/Mo系合
金のうちいずれかを主成分とする材料からなるものとさ
れる。ここで主成分とは、当該成分(Nb、W、V、M
oのうちいずれかと、Crとの和)を50at%以上、
好ましくは80at%以上含むことを指す。
r/W系合金、Cr/V系合金、およびCr/Mo系合
金のうちいずれかを主成分とする材料からなるものとさ
れる。ここで主成分とは、当該成分(Nb、W、V、M
oのうちいずれかと、Crとの和)を50at%以上、
好ましくは80at%以上含むことを指す。
【0013】第2下地膜2Bを、Cr/Nb系合金を主
成分とする材料からなるものとする場合には、第2下地
膜2B中のNbの含有量を、5〜20at%とするのが
好ましい。この含有量が5at%未満、または20at
%を越える場合には、得られる磁気記録媒体の保磁力、
ノイズ特性等の磁気特性が低下する。上記Nb含有量
は、5〜15at%、さらに好ましくは5〜10at%
とすると、上記磁気特性をいっそう向上させることが可
能となる。
成分とする材料からなるものとする場合には、第2下地
膜2B中のNbの含有量を、5〜20at%とするのが
好ましい。この含有量が5at%未満、または20at
%を越える場合には、得られる磁気記録媒体の保磁力、
ノイズ特性等の磁気特性が低下する。上記Nb含有量
は、5〜15at%、さらに好ましくは5〜10at%
とすると、上記磁気特性をいっそう向上させることが可
能となる。
【0014】第2下地膜2Bを、Cr/W系合金を主成
分とする材料からなるものとする場合には、第2下地膜
2B中のWの含有量を、5〜60at%とするのが好ま
しい。この含有量が5at%未満、または60at%を
越える場合には、得られる磁気記録媒体の保磁力、ノイ
ズ特性等の磁気特性が低下する。上記Wの含有量は、1
0〜60at%、さらに好ましくは20〜50at%と
すると、上記磁気特性をいっそう向上させることが可能
となる。
分とする材料からなるものとする場合には、第2下地膜
2B中のWの含有量を、5〜60at%とするのが好ま
しい。この含有量が5at%未満、または60at%を
越える場合には、得られる磁気記録媒体の保磁力、ノイ
ズ特性等の磁気特性が低下する。上記Wの含有量は、1
0〜60at%、さらに好ましくは20〜50at%と
すると、上記磁気特性をいっそう向上させることが可能
となる。
【0015】第2下地膜2Bを、Cr/V系合金を主成
分とする材料からなるものとする場合には、第2下地膜
2B中のVの含有量を、2〜30at%とするのが好ま
しい。この含有量が2at%未満、または30at%を
越える場合には、得られる磁気記録媒体の保磁力、ノイ
ズ特性等の磁気特性が低下する。上記Vの含有量は、5
〜25at%、さらに好ましくは15〜25at%とす
ると、上記磁気特性をいっそう向上させることが可能と
なる。
分とする材料からなるものとする場合には、第2下地膜
2B中のVの含有量を、2〜30at%とするのが好ま
しい。この含有量が2at%未満、または30at%を
越える場合には、得られる磁気記録媒体の保磁力、ノイ
ズ特性等の磁気特性が低下する。上記Vの含有量は、5
〜25at%、さらに好ましくは15〜25at%とす
ると、上記磁気特性をいっそう向上させることが可能と
なる。
【0016】第2下地膜2Bを、Cr/Mo系合金を主
成分とする材料からなるものとする場合には、第2下地
膜2B中のMoの含有量を、2〜25at%とするのが
好ましい。この含有量が2at%未満、または25at
%を越える場合には、得られる磁気記録媒体の保磁力、
ノイズ特性等の磁気特性が低下する。上記Moの含有量
は、5〜20at%、さらに好ましくは10〜20at
%とすると、上記磁気特性をいっそう向上させることが
可能となる。
成分とする材料からなるものとする場合には、第2下地
膜2B中のMoの含有量を、2〜25at%とするのが
好ましい。この含有量が2at%未満、または25at
%を越える場合には、得られる磁気記録媒体の保磁力、
ノイズ特性等の磁気特性が低下する。上記Moの含有量
は、5〜20at%、さらに好ましくは10〜20at
%とすると、上記磁気特性をいっそう向上させることが
可能となる。
【0017】第2下地膜2Bの膜厚は、1〜200Å、
好ましくは5〜100Å、さらに好ましくは10〜50
Åとするのが望ましい。この膜厚が1Å未満であると、
膜2B内での結晶成長が不十分となり、この膜2B上に
形成される磁性膜3内の結晶配向性が悪化し、得られる
磁気記録媒体の保磁力等の磁気特性が低下する。また上
記膜厚が200Åを越えると、この膜2B内で成長する
結晶が粗大化し、これによって磁性膜3内で成長する結
晶の粗大化が起こり、得られる磁気記録媒体のノイズ特
性等の磁気特性が低下する。
好ましくは5〜100Å、さらに好ましくは10〜50
Åとするのが望ましい。この膜厚が1Å未満であると、
膜2B内での結晶成長が不十分となり、この膜2B上に
形成される磁性膜3内の結晶配向性が悪化し、得られる
磁気記録媒体の保磁力等の磁気特性が低下する。また上
記膜厚が200Åを越えると、この膜2B内で成長する
結晶が粗大化し、これによって磁性膜3内で成長する結
晶の粗大化が起こり、得られる磁気記録媒体のノイズ特
性等の磁気特性が低下する。
【0018】磁性膜3は、Coを主成分とする材料から
なるものとされ、この材料としては、例えばCoと、C
r、Pt、Ta、B、Ti、Ag、Cu、Al、Au、
W、およびMoのうち1種または2種以上との合金を含
むものを用いることができる。上記材料の好適な具体例
としては、Co/Cr/Ta、Co/Cr/Pt、Co
/Cr/Pt/Ta系の合金を主成分とするものを挙げ
ることができる。中でも特に、Co/Cr/Pt/Ta
系合金を用いることが好ましい。磁性膜3の膜厚は、1
50〜400Åとするのが好適である。
なるものとされ、この材料としては、例えばCoと、C
r、Pt、Ta、B、Ti、Ag、Cu、Al、Au、
W、およびMoのうち1種または2種以上との合金を含
むものを用いることができる。上記材料の好適な具体例
としては、Co/Cr/Ta、Co/Cr/Pt、Co
/Cr/Pt/Ta系の合金を主成分とするものを挙げ
ることができる。中でも特に、Co/Cr/Pt/Ta
系合金を用いることが好ましい。磁性膜3の膜厚は、1
50〜400Åとするのが好適である。
【0019】保護膜4の材料としては、カーボン、酸化
シリコン、窒化シリコンなどを用いることができ、その
厚みは、50〜200Åとするのが好ましい。また、保
護膜4上に、パーフルオロポリエーテルなどからなる潤
滑膜を設けることも可能である。
シリコン、窒化シリコンなどを用いることができ、その
厚みは、50〜200Åとするのが好ましい。また、保
護膜4上に、パーフルオロポリエーテルなどからなる潤
滑膜を設けることも可能である。
【0020】上記磁気記録媒体にあっては、磁性膜3
を、Coを主成分とする材料からなるものとし、非磁性
下地膜2を、第1下地膜2A上に第2下地膜2Bを形成
した2層構造を有するものとし、第1下地膜2AをCr
を主成分とする材料からなるものとし、第2下地膜をC
r/Nb系合金、Cr/W系合金、Cr/V系合金、お
よびCr/Mo系合金のうちいずれかを主成分とする材
料からなるものとしたので、保磁力およびノイズ特性が
共に優れた磁気記録媒体を得ることができる。
を、Coを主成分とする材料からなるものとし、非磁性
下地膜2を、第1下地膜2A上に第2下地膜2Bを形成
した2層構造を有するものとし、第1下地膜2AをCr
を主成分とする材料からなるものとし、第2下地膜をC
r/Nb系合金、Cr/W系合金、Cr/V系合金、お
よびCr/Mo系合金のうちいずれかを主成分とする材
料からなるものとしたので、保磁力およびノイズ特性が
共に優れた磁気記録媒体を得ることができる。
【0021】上記構成によって上記磁気特性向上効果が
得られる理由は明らかでないが、この理由は次に示すも
のであると推察することができる。非磁性下地膜2を第
1下地膜2A上に第2下地膜2Bを形成した2層構造と
し、第1および第2下地膜2A、2Bを上記材料からな
るものとすることによって、膜2A上に形成される上記
4種のCr合金のいずれかからなる第2下地膜2B内の
結晶が、Crを主成分とする第1下地膜2Aに対しエピ
タキシャル成長し、配向性が良好なものとなる。このた
め、第2下地膜2Bを、結晶配向性を乱すことなく、結
晶の粗大化が生じない範囲まで薄膜化することが可能と
なる。また、第2下地膜2Bを上記4種のCr合金のう
ちいずれかからなるものとすることによって、第2下地
膜2B内の結晶の格子定数が、Coを主成分とする材料
からなる磁性膜3内で成長する結晶の格子定数に近いも
のとなる。このように、第2下地膜2B内の結晶が、粗
大化せずかつ配向性に優れ、しかも格子定数が磁性膜3
内の結晶のものに近いものとなることによって、膜2B
に対しエピタキシャル成長する磁性膜3内の結晶が粗大
化することなく配向性が良好なものとなり、得られる磁
気記録媒体が保磁力およびノイズ特性が共に優れたもの
となる。
得られる理由は明らかでないが、この理由は次に示すも
のであると推察することができる。非磁性下地膜2を第
1下地膜2A上に第2下地膜2Bを形成した2層構造と
し、第1および第2下地膜2A、2Bを上記材料からな
るものとすることによって、膜2A上に形成される上記
4種のCr合金のいずれかからなる第2下地膜2B内の
結晶が、Crを主成分とする第1下地膜2Aに対しエピ
タキシャル成長し、配向性が良好なものとなる。このた
め、第2下地膜2Bを、結晶配向性を乱すことなく、結
晶の粗大化が生じない範囲まで薄膜化することが可能と
なる。また、第2下地膜2Bを上記4種のCr合金のう
ちいずれかからなるものとすることによって、第2下地
膜2B内の結晶の格子定数が、Coを主成分とする材料
からなる磁性膜3内で成長する結晶の格子定数に近いも
のとなる。このように、第2下地膜2B内の結晶が、粗
大化せずかつ配向性に優れ、しかも格子定数が磁性膜3
内の結晶のものに近いものとなることによって、膜2B
に対しエピタキシャル成長する磁性膜3内の結晶が粗大
化することなく配向性が良好なものとなり、得られる磁
気記録媒体が保磁力およびノイズ特性が共に優れたもの
となる。
【0022】なお、上記実施形態では、非磁性下地膜2
を、第1下地膜2A上に第2下地膜2Bを形成した2層
構造を有するものとしたが、本発明の磁気記録媒体はこ
れに限らず、非磁性下地膜2を、第1下地膜2Aの下層
側に1または複数の膜を設けた3層以上の構造を有する
ものとすることも可能である。また、上記実施形態で
は、第2下地膜2Bを、Cr/Nb系合金、Cr/W系
合金、Cr/V系合金、およびCr/Mo系合金のうち
いずれかを主成分とする材料からなるものとしたが、本
発明の磁気記録媒体はこれに限らず、第2下地膜2B
を、これら4種のうち2種以上の合金を主成分とする材
料からなるものとすることもできる。
を、第1下地膜2A上に第2下地膜2Bを形成した2層
構造を有するものとしたが、本発明の磁気記録媒体はこ
れに限らず、非磁性下地膜2を、第1下地膜2Aの下層
側に1または複数の膜を設けた3層以上の構造を有する
ものとすることも可能である。また、上記実施形態で
は、第2下地膜2Bを、Cr/Nb系合金、Cr/W系
合金、Cr/V系合金、およびCr/Mo系合金のうち
いずれかを主成分とする材料からなるものとしたが、本
発明の磁気記録媒体はこれに限らず、第2下地膜2B
を、これら4種のうち2種以上の合金を主成分とする材
料からなるものとすることもできる。
【0023】
【実施例】以下、本発明の実施例を示す。ただし、本発
明は以下の実施例に限定されるものでなく、本発明の範
囲内で任意に変更可能である。 (実施例1〜4)図1に示すものと同様の磁気記録媒体
を以下に示すようにして作製した。表面粗さRaが15
Åとなるようにテクスチャリングを施したNiPメッキ
Al基板1(温度220℃)を、DCマグネトロンスパ
ッタ装置(アネルバ製3100)のチャンバ内に収容
し、チャンバ内の真空到達度を2×10-7Torrとした
後、Crからなるターゲットを用いたスパッタリングに
より、非磁性基板1上にCrからなる第1下地膜2A
を、膜厚が100Åとなるよう形成した。
明は以下の実施例に限定されるものでなく、本発明の範
囲内で任意に変更可能である。 (実施例1〜4)図1に示すものと同様の磁気記録媒体
を以下に示すようにして作製した。表面粗さRaが15
Åとなるようにテクスチャリングを施したNiPメッキ
Al基板1(温度220℃)を、DCマグネトロンスパ
ッタ装置(アネルバ製3100)のチャンバ内に収容
し、チャンバ内の真空到達度を2×10-7Torrとした
後、Crからなるターゲットを用いたスパッタリングに
より、非磁性基板1上にCrからなる第1下地膜2A
を、膜厚が100Åとなるよう形成した。
【0024】次いで、第1下地膜2A上に、Cr/Nb
系合金からなるターゲットを用いて、この合金からなる
第2下地膜2Bを、膜厚が150Åとなるよう形成し
た。ここで用いたCr/Nb系合金としては、いずれも
CrおよびNbからなり、成分比(at%)がCr95N
b5、Cr90Nb10、Cr80Nb20、およびCr75Nb
25である4種類のものを用いた。次いで、第2下地膜2
B上に、Co/Cr/Pt/Ta系合金(Co75Cr16
Pt6Ta3)からなるターゲットを用いて、この合金か
らなる磁性膜3を形成した。
系合金からなるターゲットを用いて、この合金からなる
第2下地膜2Bを、膜厚が150Åとなるよう形成し
た。ここで用いたCr/Nb系合金としては、いずれも
CrおよびNbからなり、成分比(at%)がCr95N
b5、Cr90Nb10、Cr80Nb20、およびCr75Nb
25である4種類のものを用いた。次いで、第2下地膜2
B上に、Co/Cr/Pt/Ta系合金(Co75Cr16
Pt6Ta3)からなるターゲットを用いて、この合金か
らなる磁性膜3を形成した。
【0025】次いで、磁性膜3上に、カーボンからなる
保護膜4を膜厚150Åとなるよう形成した。なお、上
記各膜を形成する操作においてはスパッタガスとしてA
rを用い、その圧力は3mTorrとした。上記磁性膜3の
膜厚は残留磁化膜厚積(BrT)で140Gμmとなっ
た。
保護膜4を膜厚150Åとなるよう形成した。なお、上
記各膜を形成する操作においてはスパッタガスとしてA
rを用い、その圧力は3mTorrとした。上記磁性膜3の
膜厚は残留磁化膜厚積(BrT)で140Gμmとなっ
た。
【0026】(比較例1)第2下地膜2Bを、Cr/N
b系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例1〜4と同様にして磁気記録媒体を作製した。
b系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例1〜4と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0027】上記実施例1〜4および比較例1の磁気記
録媒体の記録再生特性を、再生部に磁気抵抗(MR)素
子を有する複合型薄膜磁気ヘッドを用い、線記録密度1
48.5KFCIにて測定した。測定項目はSNR(Si
gnal to Noise Ratio)、およびノイズ(Noise)とし
た。また、上記磁気記録媒体の保磁力(Hc)を振動式磁
気特性装置(VSM)を用いて測定した。結果を図2に
示す。図2において、横軸は第2下地膜2B中のNb含
有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μV)、
および保磁力(Oe)を示す。なお図2中、第2下地膜
2B中のNb含有量が0at%であるものは、上記比較
例1に相当する。
録媒体の記録再生特性を、再生部に磁気抵抗(MR)素
子を有する複合型薄膜磁気ヘッドを用い、線記録密度1
48.5KFCIにて測定した。測定項目はSNR(Si
gnal to Noise Ratio)、およびノイズ(Noise)とし
た。また、上記磁気記録媒体の保磁力(Hc)を振動式磁
気特性装置(VSM)を用いて測定した。結果を図2に
示す。図2において、横軸は第2下地膜2B中のNb含
有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μV)、
および保磁力(Oe)を示す。なお図2中、第2下地膜
2B中のNb含有量が0at%であるものは、上記比較
例1に相当する。
【0028】(実施例5〜11)第2下地膜2Bを、C
r/W系合金からなるものとすること以外は実施例1〜
4と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで用いた
Cr/W系合金としては、いずれもCrおよびWからな
り、成分比がCr95W5、Cr85W15、Cr80W20、C
r65W35、Cr55W45、Cr45W5 5、およびCr35W65
である7種類のものを用いた。
r/W系合金からなるものとすること以外は実施例1〜
4と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで用いた
Cr/W系合金としては、いずれもCrおよびWからな
り、成分比がCr95W5、Cr85W15、Cr80W20、C
r65W35、Cr55W45、Cr45W5 5、およびCr35W65
である7種類のものを用いた。
【0029】(比較例2)第2下地膜2Bを、Cr/W
系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実施
例5〜11と同様にして磁気記録媒体を作製した。
系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実施
例5〜11と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0030】上記実施例5〜11および比較例2の磁気
記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜4に
おいて示したものと同様の方法で測定した結果を図3に
示す。図3において、横軸は第2下地膜2B中のW含有
量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μV)、お
よび保磁力(Oe)を示す。なお図3中、第2下地膜2
B中のW含有量が0at%であるものは、上記比較例2
に相当する。
記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜4に
おいて示したものと同様の方法で測定した結果を図3に
示す。図3において、横軸は第2下地膜2B中のW含有
量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μV)、お
よび保磁力(Oe)を示す。なお図3中、第2下地膜2
B中のW含有量が0at%であるものは、上記比較例2
に相当する。
【0031】(実施例12〜18)第2下地膜2Bを、
Cr/V系合金からなるものとすること以外は実施例1
〜4と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで用い
たCr/V系合金としては、いずれもCrおよびVから
なり、成分比がCr98V2、Cr94V6、Cr85V15、C
r80V20、Cr75V25、Cr70V30、およびCr65V35
である7種類のものを用いた。
Cr/V系合金からなるものとすること以外は実施例1
〜4と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで用い
たCr/V系合金としては、いずれもCrおよびVから
なり、成分比がCr98V2、Cr94V6、Cr85V15、C
r80V20、Cr75V25、Cr70V30、およびCr65V35
である7種類のものを用いた。
【0032】(比較例3)第2下地膜2Bを、Cr/V
系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実施
例12〜18と同様にして磁気記録媒体を作製した。
系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実施
例12〜18と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0033】上記実施例12〜18および比較例3の磁
気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜4
において示したものと同様の方法で測定した結果を図4
に示す。図4において、横軸は第2下地膜2B中のV含
有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μV)、
および保磁力(Oe)を示す。なお図4中、第2下地膜
2B中のV含有量が0at%であるものは、上記比較3
に相当する。
気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜4
において示したものと同様の方法で測定した結果を図4
に示す。図4において、横軸は第2下地膜2B中のV含
有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μV)、
および保磁力(Oe)を示す。なお図4中、第2下地膜
2B中のV含有量が0at%であるものは、上記比較3
に相当する。
【0034】(実施例19〜23)第2下地膜2Bを、
Cr/Mo系合金からなるものとすること以外は実施例
1〜4と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで用
いたCr/Mo系合金としては、いずれもCrおよびM
oからなり、成分比がCr95Mo5、Cr90Mo10、C
r85Mo15、Cr80Mo20、およびCr75Mo25である
5種類のものを用いた。
Cr/Mo系合金からなるものとすること以外は実施例
1〜4と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで用
いたCr/Mo系合金としては、いずれもCrおよびM
oからなり、成分比がCr95Mo5、Cr90Mo10、C
r85Mo15、Cr80Mo20、およびCr75Mo25である
5種類のものを用いた。
【0035】(比較例4)第2下地膜2Bを、Cr/M
o系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例19〜23と同様にして磁気記録媒体を作製した。
o系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例19〜23と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0036】上記実施例19〜23および比較例4の磁
気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜4
において示したものと同様の方法で測定した結果を図5
に示す。図5において、横軸は第2下地膜2B中のMo
含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図5中、第2
下地膜2B中のMo含有量が0at%であるものは、上
記比較4に相当する。
気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜4
において示したものと同様の方法で測定した結果を図5
に示す。図5において、横軸は第2下地膜2B中のMo
含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図5中、第2
下地膜2B中のMo含有量が0at%であるものは、上
記比較4に相当する。
【0037】(実施例24〜27)第1下地膜2Aを実
施例1〜4と同様のものとし、第2下地膜2Bを、Cr
/Nb系合金(成分比:Cr95Nb5)、Cr/W系合
金(成分比:Cr85W15)、Cr/V系合金(成分比:
Cr85V15)、またはCr/Mo系合金(成分比:Cr
85Mo15)からなり、膜厚が150Åであるものとした
磁気記録媒体を作製した。
施例1〜4と同様のものとし、第2下地膜2Bを、Cr
/Nb系合金(成分比:Cr95Nb5)、Cr/W系合
金(成分比:Cr85W15)、Cr/V系合金(成分比:
Cr85V15)、またはCr/Mo系合金(成分比:Cr
85Mo15)からなり、膜厚が150Åであるものとした
磁気記録媒体を作製した。
【0038】(比較例5〜8)第1下地膜2Aを設けな
いこと以外は実施例24〜27と同様にして磁気記録媒
体を作製した。
いこと以外は実施例24〜27と同様にして磁気記録媒
体を作製した。
【0039】実施例24〜27、および比較例5〜8の
磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を表
1に示す。
磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を表
1に示す。
【0040】
【表1】
【0041】(実施例28〜31)図1に示すものと同
様の磁気記録媒体を、第1下地膜2Aの膜厚を200
Å、第2下地膜2Bの膜厚を30Åとすること以外は実
施例1〜4と同様にして作製した。第2下地膜2Bに用
いたCr/Nb系合金としては、いずれもCrおよびN
bからなり、成分比(at%)がCr95Nb5、Cr90
Nb10、Cr80Nb20、およびCr75Nb25である4種
類のものを用いた。次いで、第2下地膜2B上に、Co
/Cr/Pt/Ta系合金(Co75Cr16Pt6Ta3)
からなるターゲットを用いて、この合金からなる磁性膜
3を形成した。
様の磁気記録媒体を、第1下地膜2Aの膜厚を200
Å、第2下地膜2Bの膜厚を30Åとすること以外は実
施例1〜4と同様にして作製した。第2下地膜2Bに用
いたCr/Nb系合金としては、いずれもCrおよびN
bからなり、成分比(at%)がCr95Nb5、Cr90
Nb10、Cr80Nb20、およびCr75Nb25である4種
類のものを用いた。次いで、第2下地膜2B上に、Co
/Cr/Pt/Ta系合金(Co75Cr16Pt6Ta3)
からなるターゲットを用いて、この合金からなる磁性膜
3を形成した。
【0042】(比較例9)第2下地膜2Bを、Cr/N
b系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例28〜31と同様にして磁気記録媒体を作製した。
b系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例28〜31と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0043】上記実施例28〜31および比較例9の磁
気記録媒体の保磁力、および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を図
6に示す。図6において、横軸は第2下地膜2B中のN
b含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図6中、第2
下地膜2B中のNb含有量が0at%であるものは、上
記比較例9に相当する。
気記録媒体の保磁力、および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を図
6に示す。図6において、横軸は第2下地膜2B中のN
b含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図6中、第2
下地膜2B中のNb含有量が0at%であるものは、上
記比較例9に相当する。
【0044】(実施例32〜38)第2下地膜2Bを、
Cr/W系合金からなるものとすること以外は実施例2
8〜31と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで
用いたCr/W系合金としては、いずれもCrおよびW
からなり、成分比がCr95W5、Cr85W15、Cr80W
20、Cr65W35、Cr55W45、Cr45W5 5、およびCr
35W65である7種類のものを用いた。
Cr/W系合金からなるものとすること以外は実施例2
8〜31と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで
用いたCr/W系合金としては、いずれもCrおよびW
からなり、成分比がCr95W5、Cr85W15、Cr80W
20、Cr65W35、Cr55W45、Cr45W5 5、およびCr
35W65である7種類のものを用いた。
【0045】(比較例10)第2下地膜2Bを、Cr/
W系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例32〜38と同様にして磁気記録媒体を作製した。
W系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例32〜38と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0046】上記実施例32〜38および比較例10の
磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を図
7に示す。図7において、横軸は第2下地膜2B中のW
含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図7中、第2
下地膜2B中のW含有量が0at%であるものは、上記
比較例10に相当する。
磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を図
7に示す。図7において、横軸は第2下地膜2B中のW
含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図7中、第2
下地膜2B中のW含有量が0at%であるものは、上記
比較例10に相当する。
【0047】(実施例39〜45)第2下地膜2Bを、
Cr/V系合金からなるものとすること以外は実施例2
8〜31と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで
用いたCr/V系合金としては、いずれもCrおよびV
からなり、成分比がCr98V2、Cr94V6、Cr
85V15、Cr80V20、Cr75V25、Cr70V30、および
Cr65V35である7種類のものを用いた。
Cr/V系合金からなるものとすること以外は実施例2
8〜31と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここで
用いたCr/V系合金としては、いずれもCrおよびV
からなり、成分比がCr98V2、Cr94V6、Cr
85V15、Cr80V20、Cr75V25、Cr70V30、および
Cr65V35である7種類のものを用いた。
【0048】(比較例11)第2下地膜2Bを、Cr/
V系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例39〜45と同様にして磁気記録媒体を作製した。
V系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は実
施例39〜45と同様にして磁気記録媒体を作製した。
【0049】上記実施例39〜45および比較例11の
磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を図
8に示す。図8において、横軸は第2下地膜2B中のV
含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図8中、第2
下地膜2B中のV含有量が0at%であるものは、上記
比較例11に相当する。
磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を図
8に示す。図8において、横軸は第2下地膜2B中のV
含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図8中、第2
下地膜2B中のV含有量が0at%であるものは、上記
比較例11に相当する。
【0050】(実施例46〜50)第2下地膜2Bを、
Cr/Mo系合金からなるものとすること以外は実施例
28〜31と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここ
で用いたCr/Mo系合金としては、いずれもCrおよ
びMoからなり、成分比がCr95Mo5、Cr90M
o10、Cr85Mo15、Cr80Mo20、Cr75Mo25であ
る5種類のものを用いた。
Cr/Mo系合金からなるものとすること以外は実施例
28〜31と同様にして磁気記録媒体を作製した。ここ
で用いたCr/Mo系合金としては、いずれもCrおよ
びMoからなり、成分比がCr95Mo5、Cr90M
o10、Cr85Mo15、Cr80Mo20、Cr75Mo25であ
る5種類のものを用いた。
【0051】(比較例12)第2下地膜2Bを、Cr/
Mo系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は
実施例46〜50と同様にして磁気記録媒体を作製し
た。
Mo系合金に代えてCrからなるものとしたこと以外は
実施例46〜50と同様にして磁気記録媒体を作製し
た。
【0052】上記実施例46〜50および比較例12の
磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を図
9に示す。図9において、横軸は第2下地膜2B中のM
o含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図9中、第2
下地膜2B中のMo含有量が0at%であるものは、上
記比較12に相当する。
磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例1〜
4において示したものと同様の方法で測定した結果を図
9に示す。図9において、横軸は第2下地膜2B中のM
o含有量を示し、縦軸はSNR(dB)、ノイズ(μ
V)、および保磁力(Oe)を示す。なお図9中、第2
下地膜2B中のMo含有量が0at%であるものは、上
記比較12に相当する。
【0053】(実施例51〜54)第1下地膜2Aを、
実施例28〜31と同様のものとし、第2下地膜2B
を、Cr/Nb系合金(成分比:Cr95Nb5)、Cr
/W系合金(成分比:Cr85W15)、Cr/V系合金
(成分比:Cr85V15)、またはCr/Mo系合金(成
分比:Cr85Mo15)からなり、膜厚が30Åであるも
のとした磁気記録媒体を作製した。
実施例28〜31と同様のものとし、第2下地膜2B
を、Cr/Nb系合金(成分比:Cr95Nb5)、Cr
/W系合金(成分比:Cr85W15)、Cr/V系合金
(成分比:Cr85V15)、またはCr/Mo系合金(成
分比:Cr85Mo15)からなり、膜厚が30Åであるも
のとした磁気記録媒体を作製した。
【0054】(比較例13〜16)第1下地膜2Aを設
けないこと以外は実施例51〜54と同様にして磁気記
録媒体を作製した。
けないこと以外は実施例51〜54と同様にして磁気記
録媒体を作製した。
【0055】実施例51〜54、および比較例13〜1
6の磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例
1〜4において示したものと同様の方法で測定した結果
を表2に示す。
6の磁気記録媒体の保磁力および記録再生特性を実施例
1〜4において示したものと同様の方法で測定した結果
を表2に示す。
【0056】
【表2】
【0057】図2および図6より、非磁性下地膜2の第
2下地膜2BをCr/Nb系合金からなるものとし、第
2下地膜2B中のNb含有量を5〜20at%とした実
施例の磁気記録媒体は、比較例の磁気記録媒体に比べノ
イズ特性および保磁力に優れたものとなったことがわか
る。特に、第2下地膜2B中のNb含有量を5〜10a
t%としたものは、ノイズ特性、保磁力が共に優れたも
のとなったことがわかる。
2下地膜2BをCr/Nb系合金からなるものとし、第
2下地膜2B中のNb含有量を5〜20at%とした実
施例の磁気記録媒体は、比較例の磁気記録媒体に比べノ
イズ特性および保磁力に優れたものとなったことがわか
る。特に、第2下地膜2B中のNb含有量を5〜10a
t%としたものは、ノイズ特性、保磁力が共に優れたも
のとなったことがわかる。
【0058】図3および図7より、非磁性下地膜2の第
2下地膜2BをCr/W系合金からなるものとし、第2
下地膜2B中のW含有量を5〜60at%とした実施例
の磁気記録媒体は、比較例の磁気記録媒体に比べノイズ
特性に優れたものとなったことがわかる。特に、第2下
地膜2B中のW含有量を10〜60at%としたもの
は、ノイズ特性、保磁力が共に優れたものとなったこと
がわかる。
2下地膜2BをCr/W系合金からなるものとし、第2
下地膜2B中のW含有量を5〜60at%とした実施例
の磁気記録媒体は、比較例の磁気記録媒体に比べノイズ
特性に優れたものとなったことがわかる。特に、第2下
地膜2B中のW含有量を10〜60at%としたもの
は、ノイズ特性、保磁力が共に優れたものとなったこと
がわかる。
【0059】図4および図8より、非磁性下地膜2の第
2下地膜2BをCr/V系合金からなるものとし、第2
下地膜2B中のV含有量を2〜30at%とした実施例
の磁気記録媒体は、比較例の磁気記録媒体に比べノイズ
特性および保磁力に優れたものとなったことがわかる。
特に、第2下地膜2B中のV含有量を5〜25at%と
したものは、ノイズ特性、保磁力が共に優れたものとな
ったことがわかる。
2下地膜2BをCr/V系合金からなるものとし、第2
下地膜2B中のV含有量を2〜30at%とした実施例
の磁気記録媒体は、比較例の磁気記録媒体に比べノイズ
特性および保磁力に優れたものとなったことがわかる。
特に、第2下地膜2B中のV含有量を5〜25at%と
したものは、ノイズ特性、保磁力が共に優れたものとな
ったことがわかる。
【0060】図5および図9より、非磁性下地膜2の第
2下地膜2BをCr/Mo系合金からなるものとし、第
2下地膜2B中のMo含有量を2〜25at%とした実
施例の磁気記録媒体は、比較例の磁気記録媒体に比べノ
イズ特性および保磁力に優れたものとなったことがわか
る。特に、第2下地膜2B中のMo含有量を5〜20a
t%としたものは、ノイズ特性、保磁力が共に優れたも
のとなったことがわかる。
2下地膜2BをCr/Mo系合金からなるものとし、第
2下地膜2B中のMo含有量を2〜25at%とした実
施例の磁気記録媒体は、比較例の磁気記録媒体に比べノ
イズ特性および保磁力に優れたものとなったことがわか
る。特に、第2下地膜2B中のMo含有量を5〜20a
t%としたものは、ノイズ特性、保磁力が共に優れたも
のとなったことがわかる。
【0061】表1および表2より、非磁性下地膜2を、
第1下地膜2Aと第2下地膜2Bからなる2層構造を有
するものとした実施例の磁気記録媒体は、単層構造の非
磁性下地膜を有する比較例のものに比べ、ノイズ特性に
優れたものとなったことがわかる。
第1下地膜2Aと第2下地膜2Bからなる2層構造を有
するものとした実施例の磁気記録媒体は、単層構造の非
磁性下地膜を有する比較例のものに比べ、ノイズ特性に
優れたものとなったことがわかる。
【0062】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
媒体にあっては、保磁力およびノイズ特性が共に優れた
ものとなる。
媒体にあっては、保磁力およびノイズ特性が共に優れた
ものとなる。
【図1】 本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示す一
部断面図である。
部断面図である。
【図2】 試験結果を示すグラフである。
【図3】 試験結果を示すグラフである。
【図4】 試験結果を示すグラフである。
【図5】 試験結果を示すグラフである。
【図6】 試験結果を示すグラフである。
【図7】 試験結果を示すグラフである。
【図8】 試験結果を示すグラフである。
【図9】 試験結果を示すグラフである。
1・・・非磁性基板、2・・・非磁性下地膜、2A・・・第1下
地膜、2B・・・第2下地膜、3・・・磁性膜、4・・・保護膜
地膜、2B・・・第2下地膜、3・・・磁性膜、4・・・保護膜
Claims (10)
- 【請求項1】 非磁性基板上に非磁性下地膜、磁性膜お
よび保護膜を備え、 磁性膜は、Coを主成分とする材料からなるものであ
り、 非磁性下地膜は、第1下地膜上に第2下地膜を形成した
2層構造を有し、第1下地膜はCrを主成分とする材料
からなるものであり、第2下地膜はCr/Nb系合金、
Cr/W系合金、Cr/V系合金、およびCr/Mo系
合金のうちいずれかを主成分とする材料からなるもので
あることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 第2下地膜が、Cr/Nb系合金を主成
分とする材料からなるものであり、この第2下地膜中の
Nb含有量が5〜20at%であることを特徴とする請
求項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 第2下地膜が、Cr/W系合金を主成分
とする材料からなるものであり、この第2下地膜中のW
含有量が5〜60at%であることを特徴とする請求項
1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項4】 第2下地膜中のW含有量が10〜60a
t%であることを特徴とする請求項3記載の磁気記録媒
体。 - 【請求項5】 第2下地膜が、Cr/V系合金を主成分
とする材料からなるものであり、この第2下地膜中のV
含有量が2〜30at%であることを特徴とする請求項
1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項6】 第2下地膜が、Cr/Mo系合金を主成
分とする材料からなるものであり、この第2下地膜中の
Mo含有量が2〜25at%であることを特徴とする請
求項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項7】 第1下地膜の膜厚が25〜600Åであ
ることを特徴とする請求項1〜6のうちいずれか1項記
載の磁気記録媒体。 - 【請求項8】 第2下地膜の膜厚が1〜200Åである
ことを特徴とする請求項1〜7のうちいずれか1項記載
の磁気記録媒体。 - 【請求項9】 非磁性基板が、表面にNiPメッキを施
したアルミニウム合金からなるものであることを特徴と
する請求項1〜8のうちいずれか1項記載の磁気記録媒
体。 - 【請求項10】 非磁性基板が、ガラスからなるもので
あることを特徴とする請求項1〜8のうちいずれか1項
記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP353099A JPH11259846A (ja) | 1998-01-12 | 1999-01-08 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP427498 | 1998-01-12 | ||
| JP10-4274 | 1998-01-12 | ||
| JP353099A JPH11259846A (ja) | 1998-01-12 | 1999-01-08 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11259846A true JPH11259846A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=26337131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP353099A Pending JPH11259846A (ja) | 1998-01-12 | 1999-01-08 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11259846A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6689496B1 (en) | 2000-04-07 | 2004-02-10 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium, method of producing magnetic recording medium, and magnetic storage apparatus |
-
1999
- 1999-01-08 JP JP353099A patent/JPH11259846A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6689496B1 (en) | 2000-04-07 | 2004-02-10 | Fujitsu Limited | Magnetic recording medium, method of producing magnetic recording medium, and magnetic storage apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041001 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20041012 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050301 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |