JPH11259855A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH11259855A JPH11259855A JP10345917A JP34591798A JPH11259855A JP H11259855 A JPH11259855 A JP H11259855A JP 10345917 A JP10345917 A JP 10345917A JP 34591798 A JP34591798 A JP 34591798A JP H11259855 A JPH11259855 A JP H11259855A
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- recording medium
- magnetic recording
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/09—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ヘッドなどによって記録、読み出し（再
生）、消去を繰り返し行うことができ、且つ高いコント
ラストを有する画像の表示が可能なディスプレイ等への
応用にも適した磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板１、その基板１の表面に形成さ
れた、溝２の深さが０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の
側壁の配列が０．２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔
となる互いに平行な多数の直線状の溝、その溝の側壁面
３に形成された厚さ５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層４
および基板を挟む１対の誘電体多層膜５、６からなる磁
気記録媒体。更に誘電体多層膜５、６の外側に配設され
た１対の偏光子８、９を有する磁気記録媒体。
生）、消去を繰り返し行うことができ、且つ高いコント
ラストを有する画像の表示が可能なディスプレイ等への
応用にも適した磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板１、その基板１の表面に形成さ
れた、溝２の深さが０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の
側壁の配列が０．２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔
となる互いに平行な多数の直線状の溝、その溝の側壁面
３に形成された厚さ５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層４
および基板を挟む１対の誘電体多層膜５、６からなる磁
気記録媒体。更に誘電体多層膜５、６の外側に配設され
た１対の偏光子８、９を有する磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関
し、更に詳しくは、磁気ヘッドなどによって記録、読み
出し（再生）、消去を繰り返し行うことができ、また光
と磁場を与えることによって記録を目視することが可能
なディスプレイ等への応用にも適した磁気記録媒体に関
するものである。
し、更に詳しくは、磁気ヘッドなどによって記録、読み
出し（再生）、消去を繰り返し行うことができ、また光
と磁場を与えることによって記録を目視することが可能
なディスプレイ等への応用にも適した磁気記録媒体に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、磁気光学効果（ファラデー効
果やカー効果）を示す磁性体は、例えば、情報の記録、
読み出し（再生）、消去可能な光磁気ディスクメモリー
に利用されている。また、磁気光学効果を示す磁性体を
有する記録媒体は、磁気ヘッドなどにより画像の記録を
行い、それに光を照射させファラデー効果やカー効果を
利用して画像を表示させるディスプレイへの応用も検討
されている。しかしながら、磁気ヘッドなどによって記
録、読み出し（再生）、消去を繰り返し行うことがで
き、且つ高いコントラストを有する画像の表示が可能な
ディスプレイ等への応用にも適した磁気記録媒体は、未
だ得られていない。
果やカー効果）を示す磁性体は、例えば、情報の記録、
読み出し（再生）、消去可能な光磁気ディスクメモリー
に利用されている。また、磁気光学効果を示す磁性体を
有する記録媒体は、磁気ヘッドなどにより画像の記録を
行い、それに光を照射させファラデー効果やカー効果を
利用して画像を表示させるディスプレイへの応用も検討
されている。しかしながら、磁気ヘッドなどによって記
録、読み出し（再生）、消去を繰り返し行うことがで
き、且つ高いコントラストを有する画像の表示が可能な
ディスプレイ等への応用にも適した磁気記録媒体は、未
だ得られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題は
このような問題点を解決し、磁気ヘッドなどによって記
録、読み出し（再生）、消去を繰り返し行うことがで
き、且つ高いコントラストを有する画像の表示が可能な
ディスプレイ等への応用にも適した磁気記録媒体を提供
することにある。
このような問題点を解決し、磁気ヘッドなどによって記
録、読み出し（再生）、消去を繰り返し行うことがで
き、且つ高いコントラストを有する画像の表示が可能な
ディスプレイ等への応用にも適した磁気記録媒体を提供
することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、第一
に、透明基板、その基板の表面に形成された、溝の深さ
が０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の側壁の配列が０．
２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔となる互いに平行
な多数の直線状の溝、その溝の側壁面に形成された厚さ
５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層および基板を挟む１対
の誘電体多層膜からなることを特徴とする磁気記録媒体
が提供される。
に、透明基板、その基板の表面に形成された、溝の深さ
が０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の側壁の配列が０．
２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔となる互いに平行
な多数の直線状の溝、その溝の側壁面に形成された厚さ
５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層および基板を挟む１対
の誘電体多層膜からなることを特徴とする磁気記録媒体
が提供される。
【０００５】第二に、上記第一の磁気記録媒体におい
て、誘電体多層膜の外側に配設された１対の偏光子を有
することを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
て、誘電体多層膜の外側に配設された１対の偏光子を有
することを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
【０００６】第三に、基板、その基板の表面に形成され
た、溝の深さが０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の側壁
の配列が０．２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔とな
る互いに平行な多数の直線状の溝、その溝の側壁面に形
成された厚さ５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層、基板の
一方の面に設けられた誘電体多層膜と誘電体多層膜上に
配設された偏光子、および基板の他方の面に設けられた
光反射膜からなることを特徴とする磁気記録媒体が提供
される。
た、溝の深さが０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の側壁
の配列が０．２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔とな
る互いに平行な多数の直線状の溝、その溝の側壁面に形
成された厚さ５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層、基板の
一方の面に設けられた誘電体多層膜と誘電体多層膜上に
配設された偏光子、および基板の他方の面に設けられた
光反射膜からなることを特徴とする磁気記録媒体が提供
される。
【０００７】第四に、上記第一乃至第三のいずれかに記
載の磁気記録媒体において、誘電体多層膜が有機材料か
らなることを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
載の磁気記録媒体において、誘電体多層膜が有機材料か
らなることを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
【０００８】第五に、上記第一乃至第四のいずれかに記
載の磁気記録媒体において、磁性体層が平均粒子径２０
Å乃至２００ÅのＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉまたはこれらの合金
を含むことを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
載の磁気記録媒体において、磁性体層が平均粒子径２０
Å乃至２００ÅのＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉまたはこれらの合金
を含むことを特徴とする磁気記録媒体が提供される。
【０００９】以下に本発明をさらに詳しく説明する。図
１は本発明の磁気記録媒体の一例を模式的に示す拡大断
面図であり、透明基板１の表面に、溝の深さが０．１μ
ｍ乃至５μｍであり、溝の側壁の配列が０．２μｍ乃至
２．０μｍの範囲で等間隔となる互いに平行な多数の直
線状の溝２を有し、その溝の側壁面３に厚さ５ｎｍ乃至
１００ｎｍの磁性体層４が形成されており、透明基板１
は１対の誘電体多層膜５および６により挟まれている。
なお、誘電体多層膜６は別の透明基板７の表面形成され
ており、それが基板１の表面に接着されている。
１は本発明の磁気記録媒体の一例を模式的に示す拡大断
面図であり、透明基板１の表面に、溝の深さが０．１μ
ｍ乃至５μｍであり、溝の側壁の配列が０．２μｍ乃至
２．０μｍの範囲で等間隔となる互いに平行な多数の直
線状の溝２を有し、その溝の側壁面３に厚さ５ｎｍ乃至
１００ｎｍの磁性体層４が形成されており、透明基板１
は１対の誘電体多層膜５および６により挟まれている。
なお、誘電体多層膜６は別の透明基板７の表面形成され
ており、それが基板１の表面に接着されている。
【００１０】透明基板１または７としては、有機材料或
いは無機材料のいずれで成形されたものでもよく、その
材料としては、例えばポリアクリル酸エステル、ポリメ
タアクリル酸エステル、ポリアクリル酸、ポリアクリル
アミド等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リスチレン、ＡＢＳ樹脂等のスチレン系樹脂、ポリサル
フォン、ポリエーテルサルフォン、ポリプロピレン樹
脂、ポリアリレート、エポキシ樹脂、ポリ−４−メチル
ペンテン−１、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、
フェノキシ樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ジエチレング
リコールビスアリルカーボネート、ナイロン樹脂、フル
オレン系ポリマー、酢酸セルロース、ガラス、石英、ア
ルミナなどが挙げられる。透明基板の厚さとしては１ｍ
ｍ以下、特に５０〜５００μｍが適当であり、薄いほど
磁性体層と磁気ヘッドとの距離が近くなり好ましい。
いは無機材料のいずれで成形されたものでもよく、その
材料としては、例えばポリアクリル酸エステル、ポリメ
タアクリル酸エステル、ポリアクリル酸、ポリアクリル
アミド等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リスチレン、ＡＢＳ樹脂等のスチレン系樹脂、ポリサル
フォン、ポリエーテルサルフォン、ポリプロピレン樹
脂、ポリアリレート、エポキシ樹脂、ポリ−４−メチル
ペンテン−１、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、
フェノキシ樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ジエチレング
リコールビスアリルカーボネート、ナイロン樹脂、フル
オレン系ポリマー、酢酸セルロース、ガラス、石英、ア
ルミナなどが挙げられる。透明基板の厚さとしては１ｍ
ｍ以下、特に５０〜５００μｍが適当であり、薄いほど
磁性体層と磁気ヘッドとの距離が近くなり好ましい。
【００１１】本発明における磁性体層４の材料として
は、磁気光学効果（ファラデー効果やカー効果）が大き
く、磁性体層に平行な磁気異方性を有し、保磁力が３０
０〜２０００エルステッドのものが好ましい。
は、磁気光学効果（ファラデー効果やカー効果）が大き
く、磁性体層に平行な磁気異方性を有し、保磁力が３０
０〜２０００エルステッドのものが好ましい。
【００１２】磁性体層４の材料としては、強磁性体、特
に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ又はこれらの合金が好ましい。こ
れらの金属または合金は大きな磁気光学効果を有し、ま
た、これらの金属または合金を微粒子化（好ましくは、
平均粒子径２０Å〜２００Å）することにより、磁性体
層に平行な磁気異方性をもたせ保磁力を高めることがで
きる。このことは、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉまたはこれらの合
金の粒子径をコントロールすることによって保磁力を任
意に変化させることができることを意味する。
に、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ又はこれらの合金が好ましい。こ
れらの金属または合金は大きな磁気光学効果を有し、ま
た、これらの金属または合金を微粒子化（好ましくは、
平均粒子径２０Å〜２００Å）することにより、磁性体
層に平行な磁気異方性をもたせ保磁力を高めることがで
きる。このことは、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉまたはこれらの合
金の粒子径をコントロールすることによって保磁力を任
意に変化させることができることを意味する。
【００１３】すなわち、磁性材料としてＦｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉまたはこれらの合金の超微粒子を用いることにより、
情報の書き込み及びその消去がしやすく、またディスプ
レイ等に応用した場合に高いコントラストを有する画像
の表示が可能な磁気記録媒体を得ることができる。Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉまたはこれらの合金の超微粒子を含む磁
性体層はガス中蒸着法を用いて形成することができる
が、蒸着の際、ガス中に僅かに（数１００ｍｔｏｒｒ）
空気を導入することが好ましい。
ｉまたはこれらの合金の超微粒子を用いることにより、
情報の書き込み及びその消去がしやすく、またディスプ
レイ等に応用した場合に高いコントラストを有する画像
の表示が可能な磁気記録媒体を得ることができる。Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉまたはこれらの合金の超微粒子を含む磁
性体層はガス中蒸着法を用いて形成することができる
が、蒸着の際、ガス中に僅かに（数１００ｍｔｏｒｒ）
空気を導入することが好ましい。
【００１４】誘電体多層膜５および６は、屈折率の高い
層と低い層を同じ光学的厚さで交互に積層したもので、
λ／４積層膜と呼ばれるものである。
層と低い層を同じ光学的厚さで交互に積層したもので、
λ／４積層膜と呼ばれるものである。
【００１５】その材料としては、可視光に対して透明な
ものが好ましく、無機材料として、例えばＮａ3Ａｌ
Ｆ6、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＣｅＦ3、
ＰｄＦ2、Ｎｄ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｚｎ
Ｓなどが挙げられ、また有機材料としては、可視光域に
吸収がなければ一般的な有機材料を用いることができ、
例えばポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エ
ステル、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド等のアク
リル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、Ａ
ＢＳ樹脂等のスチレン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエ
ーテルサルフォン、ポリプロピレン樹脂、ポリアリレー
ト、エポキシ樹脂、ポリ−４−メチルペンテン−１、フ
ッ素化ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、
ポリオレフィン系樹脂、ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート、ナイロン樹脂、フルオレン系ポリマ
ー、酢酸セルロースなどが挙げられる。
ものが好ましく、無機材料として、例えばＮａ3Ａｌ
Ｆ6、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＣｅＦ3、
ＰｄＦ2、Ｎｄ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、Ｚｎ
Ｓなどが挙げられ、また有機材料としては、可視光域に
吸収がなければ一般的な有機材料を用いることができ、
例えばポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エ
ステル、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド等のアク
リル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、Ａ
ＢＳ樹脂等のスチレン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエ
ーテルサルフォン、ポリプロピレン樹脂、ポリアリレー
ト、エポキシ樹脂、ポリ−４−メチルペンテン−１、フ
ッ素化ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、
ポリオレフィン系樹脂、ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネート、ナイロン樹脂、フルオレン系ポリマ
ー、酢酸セルロースなどが挙げられる。
【００１６】誘電体多層膜を有機材料で形成することに
より、大がかりな真空装置を用いなくても誘電体多層膜
を形成することができ、また基板を加熱しなくても誘電
体多層膜を形成することができるので、基板を全てプラ
スチックとし、変形可能な磁気記録媒体を作製すること
ができる。
より、大がかりな真空装置を用いなくても誘電体多層膜
を形成することができ、また基板を加熱しなくても誘電
体多層膜を形成することができるので、基板を全てプラ
スチックとし、変形可能な磁気記録媒体を作製すること
ができる。
【００１７】誘電体多層膜の積層数としては２〜５０層
が好ましく、６〜１０層がさらに好ましい。その理由
は、前記のように、誘電体多層膜は屈折率の高い層と屈
折率の低い層との組合わせであるため、その層数は偶数
となり、２〜４層では高コントラストの効果が少なく、
５０層以上では製作コストが高くなりすぎ実用的でな
く、より少ない層数で高いコントラストの効果を得るた
めには６〜１０層が好ましいことからである。誘電体多
層膜の膜厚としては薄いほうが記録の際の磁界が磁性体
層に届き易く好ましい。また、誘電体多層膜は透明度が
５０％以上（反射率が５０％未満）であることが好まし
い。
が好ましく、６〜１０層がさらに好ましい。その理由
は、前記のように、誘電体多層膜は屈折率の高い層と屈
折率の低い層との組合わせであるため、その層数は偶数
となり、２〜４層では高コントラストの効果が少なく、
５０層以上では製作コストが高くなりすぎ実用的でな
く、より少ない層数で高いコントラストの効果を得るた
めには６〜１０層が好ましいことからである。誘電体多
層膜の膜厚としては薄いほうが記録の際の磁界が磁性体
層に届き易く好ましい。また、誘電体多層膜は透明度が
５０％以上（反射率が５０％未満）であることが好まし
い。
【００１８】図２は本発明の磁気記録媒体の他の例を模
式的に示す拡大断面図であり、上記図１の磁気記録媒体
における誘電体多層膜５および６の外側に１対の偏光子
８および９が配設されている。偏光子８および９として
は、市販されているもの、例えば、ヨウ素を用いたフィ
ルム偏光子などを用いることができる。
式的に示す拡大断面図であり、上記図１の磁気記録媒体
における誘電体多層膜５および６の外側に１対の偏光子
８および９が配設されている。偏光子８および９として
は、市販されているもの、例えば、ヨウ素を用いたフィ
ルム偏光子などを用いることができる。
【００１９】図３は本発明の磁気記録媒体のさらに別の
例を模式的に示す拡大断面図であり、基板１の表面に、
溝の深さが０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の側壁の配
列が０．２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔となる互
いに平行な多数の直線状の溝２を有し、その溝の側壁面
３に厚さ５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層４が形成され
ており、基板１の一方の面に設けられた誘電体多層膜６
と誘電体多層膜の外側に配設された偏光子９、及び基板
の他方の面に形成さた光反射膜１０を有している。
例を模式的に示す拡大断面図であり、基板１の表面に、
溝の深さが０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の側壁の配
列が０．２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔となる互
いに平行な多数の直線状の溝２を有し、その溝の側壁面
３に厚さ５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層４が形成され
ており、基板１の一方の面に設けられた誘電体多層膜６
と誘電体多層膜の外側に配設された偏光子９、及び基板
の他方の面に形成さた光反射膜１０を有している。
【００２０】光反射膜１０は、特定の可視光域波長に高
い反射率を有する材料、例えばＣｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｐｔ、Ｒｈ、ＴｅＯｘ、ＴｅＣ、ＳｅＡｓ、ＴｅＡ
ｓ、ＴｉＮ、ＴａＮ、ＣｒＮ等を用い、真空蒸着法、ス
パッタリング法、イオンプレーティング法などにより形
成される。膜厚としては５００〜１０００Åが好まし
い。この他にも、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2などの交互多層膜、
金属と誘電体の交互多層膜、傾斜型反射板、ホログラム
反射板（日本ポラロイド社製「ホロブライト」等）など
も使用できる。
い反射率を有する材料、例えばＣｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｐｔ、Ｒｈ、ＴｅＯｘ、ＴｅＣ、ＳｅＡｓ、ＴｅＡ
ｓ、ＴｉＮ、ＴａＮ、ＣｒＮ等を用い、真空蒸着法、ス
パッタリング法、イオンプレーティング法などにより形
成される。膜厚としては５００〜１０００Åが好まし
い。この他にも、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2などの交互多層膜、
金属と誘電体の交互多層膜、傾斜型反射板、ホログラム
反射板（日本ポラロイド社製「ホロブライト」等）など
も使用できる。
【００２１】このような磁気記録媒体においては、光反
射層を設けた構造としたので、基板に不透明なものを用
いることができ、また反射像を見ることができるので磁
気記録媒体の裏からバックライトで照射する必要もな
く、軽く持ち運びやすいディスプレイ用の磁気記録媒体
を作製することができる。ここでの「不透明な基板」と
は次のような意味合いをもっている。本来、磁気記録媒
体全体を通過した可視光で画像を形成する場合は、より
明るい画像を見るために、基板の透過率はより１００％
に近い方が好ましい。しかし、基板上に反射膜を設けた
磁気記録媒体においては、画像品質と基板の透過率とは
無関係であるので、選択範囲が制限される透明基板でな
く、選択範囲の広い所謂不透明な基板を用いることがで
きる。従って、″不透明″とは可視光透過率が７０％程
度以下を表すものとする。
射層を設けた構造としたので、基板に不透明なものを用
いることができ、また反射像を見ることができるので磁
気記録媒体の裏からバックライトで照射する必要もな
く、軽く持ち運びやすいディスプレイ用の磁気記録媒体
を作製することができる。ここでの「不透明な基板」と
は次のような意味合いをもっている。本来、磁気記録媒
体全体を通過した可視光で画像を形成する場合は、より
明るい画像を見るために、基板の透過率はより１００％
に近い方が好ましい。しかし、基板上に反射膜を設けた
磁気記録媒体においては、画像品質と基板の透過率とは
無関係であるので、選択範囲が制限される透明基板でな
く、選択範囲の広い所謂不透明な基板を用いることがで
きる。従って、″不透明″とは可視光透過率が７０％程
度以下を表すものとする。
【００２２】さらに、磁気記録媒体をディスプレイとし
て使用する場合には、光の透過率を向上させ、また化学
的腐食や光による化学的変化からの防止を図るうえか
ら、光反射膜を有する面の反対側、すなわち光の入射す
る側の最も外側の表面上に反射防止膜を形成しておくこ
とが、特に望ましい。
て使用する場合には、光の透過率を向上させ、また化学
的腐食や光による化学的変化からの防止を図るうえか
ら、光反射膜を有する面の反対側、すなわち光の入射す
る側の最も外側の表面上に反射防止膜を形成しておくこ
とが、特に望ましい。
【００２３】次に、本発明の磁気記録媒体の製造法につ
いて説明する。例えば、前記図１、図２または図３に示
す磁気記録媒体は、次のようにして製造することができ
る。すなわち、（１）基板の表面に、凹形の溝をフォト
リソグラフィー技術を用いて直線状にかつ互いに平行に
なるように多数列形成する工程、（２）溝が形成された
基板上に強磁性体よりなる薄膜（磁性体層）を形成する
工程、（３）形成された磁性体層のうち凹形の溝の側壁
の表面に形成された部分のみが残存するようにエッチン
グ処理を行う工程、（４）基板の裏面に誘電体多層膜を
形成する工程、または基板の裏面に光反射膜を形成する
工程、（５）別の透明基板上に誘電体多層膜を形成し、
それを、磁性体層を有する基板表面に誘電体多層膜が密
着するように張り合わせる工程、（６）１対の偏光子を
磁性体層及び誘電体多層膜を挟むように最外面に配設す
る工程、または透明基板の光反射膜を有する面と反対の
面に偏光子を配設する工程、などにより製造することが
できる。
いて説明する。例えば、前記図１、図２または図３に示
す磁気記録媒体は、次のようにして製造することができ
る。すなわち、（１）基板の表面に、凹形の溝をフォト
リソグラフィー技術を用いて直線状にかつ互いに平行に
なるように多数列形成する工程、（２）溝が形成された
基板上に強磁性体よりなる薄膜（磁性体層）を形成する
工程、（３）形成された磁性体層のうち凹形の溝の側壁
の表面に形成された部分のみが残存するようにエッチン
グ処理を行う工程、（４）基板の裏面に誘電体多層膜を
形成する工程、または基板の裏面に光反射膜を形成する
工程、（５）別の透明基板上に誘電体多層膜を形成し、
それを、磁性体層を有する基板表面に誘電体多層膜が密
着するように張り合わせる工程、（６）１対の偏光子を
磁性体層及び誘電体多層膜を挟むように最外面に配設す
る工程、または透明基板の光反射膜を有する面と反対の
面に偏光子を配設する工程、などにより製造することが
できる。
【００２４】図４は、本発明の磁気記録媒体を製造する
際に、基板の表面に溝を形成し、形成された溝の側壁に
磁性体層を形成する工程の一例を示す説明図である。ま
ず、石英などからなる基板１にレジスト層１１を積層し
（ａ）、レジスト層１１上に等間隔の互いに平行な多数
の直線状のパターンを有するフォトマスクを配置してＵ
Ｖ光を露光し、ついでウェットエッチングしてレジスト
層１１を一定の幅及び間隔になるようにパタン化し
（ｂ）、基板１を特定の深さにエッチングして溝２を形
成し（ｃ）、次いでレジスト層１１を剥離する（ｄ）。
この溝２は比較的容易に加工面に対して垂直に深く（１
０μｍくらいまで）形成することができる。また、リソ
グラフィー法を使用すれば、直線性のきれいな細線状の
溝を形成することができる。
際に、基板の表面に溝を形成し、形成された溝の側壁に
磁性体層を形成する工程の一例を示す説明図である。ま
ず、石英などからなる基板１にレジスト層１１を積層し
（ａ）、レジスト層１１上に等間隔の互いに平行な多数
の直線状のパターンを有するフォトマスクを配置してＵ
Ｖ光を露光し、ついでウェットエッチングしてレジスト
層１１を一定の幅及び間隔になるようにパタン化し
（ｂ）、基板１を特定の深さにエッチングして溝２を形
成し（ｃ）、次いでレジスト層１１を剥離する（ｄ）。
この溝２は比較的容易に加工面に対して垂直に深く（１
０μｍくらいまで）形成することができる。また、リソ
グラフィー法を使用すれば、直線性のきれいな細線状の
溝を形成することができる。
【００２５】基板として透明プラスチック板を用いる場
合には、透明プラスチック板上に例えばＳｉＯ2薄膜を
ＰＶＤ法で製膜し、このＳｉＯ2薄膜表面に溝を形成す
るようにしてもよく、また溝が形成された石英基板を原
板として形状をレプリカとして写し取ってもよい。
合には、透明プラスチック板上に例えばＳｉＯ2薄膜を
ＰＶＤ法で製膜し、このＳｉＯ2薄膜表面に溝を形成す
るようにしてもよく、また溝が形成された石英基板を原
板として形状をレプリカとして写し取ってもよい。
【００２６】次に、この溝が形成された基板上に強磁性
体よりなる薄膜（磁性体層）４を形成する（ｅ）。この
磁性体層の形成方法としては、ＰＶＤ法もしくはＣＶＤ
法や、メッキ法が好適に採用されるが、特に製法が制限
されるものではない。次いで、形成された磁性体層のう
ち基板表面に平行な部分をＡｒイオン１２によるエッチ
ング（湿式、乾式を問わないが、基板側に逆バイアス電
圧を印加して逆スパッタ法によるのが好ましい）で除去
する（ｆ）ことにより、溝の側壁面に磁性体層を形成す
ることができる（ｇ）。
体よりなる薄膜（磁性体層）４を形成する（ｅ）。この
磁性体層の形成方法としては、ＰＶＤ法もしくはＣＶＤ
法や、メッキ法が好適に採用されるが、特に製法が制限
されるものではない。次いで、形成された磁性体層のう
ち基板表面に平行な部分をＡｒイオン１２によるエッチ
ング（湿式、乾式を問わないが、基板側に逆バイアス電
圧を印加して逆スパッタ法によるのが好ましい）で除去
する（ｆ）ことにより、溝の側壁面に磁性体層を形成す
ることができる（ｇ）。
【００２７】
【作用】本発明の磁気記録媒体に記録を行うには、例え
ば磁性体層に垂直な磁界を印加すればよく、棒磁石ある
いは垂直磁気ヘッドといわれる誘電コイルを用いた磁気
ヘッドなどにより磁界を印加すればよい。記録の消去を
行うには、磁性体層に一様な磁界（磁性体層に対して上
向き、下向き又は横向き）を印加してもよいし、交流磁
界を印加し且つゼロ磁界になるよう遠ざけてもよい。
ば磁性体層に垂直な磁界を印加すればよく、棒磁石ある
いは垂直磁気ヘッドといわれる誘電コイルを用いた磁気
ヘッドなどにより磁界を印加すればよい。記録の消去を
行うには、磁性体層に一様な磁界（磁性体層に対して上
向き、下向き又は横向き）を印加してもよいし、交流磁
界を印加し且つゼロ磁界になるよう遠ざけてもよい。
【００２８】また、バイアス磁界を与えておいてレーザ
ー光を照射して加熱することにより記録を行い、記録の
際とはバイアス磁界の向きを逆にしてレーザー光を照射
して記録の消去を行う、等の方法によって記録・消去を
行うことができる。
ー光を照射して加熱することにより記録を行い、記録の
際とはバイアス磁界の向きを逆にしてレーザー光を照射
して記録の消去を行う、等の方法によって記録・消去を
行うことができる。
【００２９】次に、磁気記録媒体をディスプレイに適用
した場合の画像表示の原理を説明する。図５は前記図３
に示すような反射型の磁気記録媒体（磁気光学素子）を
ディスプレイに適用した場合の画像表示の原理（コント
ラストの付け方）を模式的に示す説明図である。図５の
磁性体層４において、画像部分（暗くしたい部分）を棒
磁石等の磁気ヘッドにより膜面に垂直方向に磁化された
磁化部４ａ（矢印１３が磁化方向＝スピンを示してい
る）、非画像部分（明るくしたい部分）を非磁化部４ｂ
とする。
した場合の画像表示の原理を説明する。図５は前記図３
に示すような反射型の磁気記録媒体（磁気光学素子）を
ディスプレイに適用した場合の画像表示の原理（コント
ラストの付け方）を模式的に示す説明図である。図５の
磁性体層４において、画像部分（暗くしたい部分）を棒
磁石等の磁気ヘッドにより膜面に垂直方向に磁化された
磁化部４ａ（矢印１３が磁化方向＝スピンを示してい
る）、非画像部分（明るくしたい部分）を非磁化部４ｂ
とする。
【００３０】まず、図５（ａ）に示すように偏光子９に
光線が入射した場合、この偏光子９を通れる方向の偏光
面１４を有する光が誘電体多層膜６（図示せず）を経て
磁性体層４に入射する。図５（ｂ）に示すように磁性体
層４に入射した偏光面１４を有する光のうち、磁化部４
ａに入射した光１４ａはファラデー回転角θだけ回転し
て光反射膜１０に入射するが、非磁化部４ｂに入射した
光１４ｂはそのまま光反射膜１０に入射する。
光線が入射した場合、この偏光子９を通れる方向の偏光
面１４を有する光が誘電体多層膜６（図示せず）を経て
磁性体層４に入射する。図５（ｂ）に示すように磁性体
層４に入射した偏光面１４を有する光のうち、磁化部４
ａに入射した光１４ａはファラデー回転角θだけ回転し
て光反射膜１０に入射するが、非磁化部４ｂに入射した
光１４ｂはそのまま光反射膜１０に入射する。
【００３１】図５（ｃ）に示すように光反射膜１０に入
射した光はその偏光面状態で反射されて、図５（ｄ）に
示すように、再び磁性体層４に入射する。このとき、磁
化部４ａに入射した光１４ａは再びファラデー回転角θ
だけ回転して（合計、２θ）、図５（ｅ）に示すよう
に、誘電体多層膜６（図示せず）を経て偏光子９に向か
うが、非磁化部４ｂに入射した光１４ｂはそのまま誘電
体多層膜６（図示せず）を経て偏光子９に向かう。この
ときの磁化部４ａに入射した光１４ａは偏光面１４が偏
光子９を通過できない方向に回転しているので暗くな
り、非磁化部４ｂに入射した光１４ｂは偏光子９を通過
できる方向のままであるので明るくなる。これにより、
磁化部４ａが暗く非磁化部４ｂが明るくなるコントラス
トの付いた画像表示が可能となる。
射した光はその偏光面状態で反射されて、図５（ｄ）に
示すように、再び磁性体層４に入射する。このとき、磁
化部４ａに入射した光１４ａは再びファラデー回転角θ
だけ回転して（合計、２θ）、図５（ｅ）に示すよう
に、誘電体多層膜６（図示せず）を経て偏光子９に向か
うが、非磁化部４ｂに入射した光１４ｂはそのまま誘電
体多層膜６（図示せず）を経て偏光子９に向かう。この
ときの磁化部４ａに入射した光１４ａは偏光面１４が偏
光子９を通過できない方向に回転しているので暗くな
り、非磁化部４ｂに入射した光１４ｂは偏光子９を通過
できる方向のままであるので明るくなる。これにより、
磁化部４ａが暗く非磁化部４ｂが明るくなるコントラス
トの付いた画像表示が可能となる。
【００３２】また、光の進行方向に対して平行に磁性体
層が配置された本発明の磁気記録媒体（磁気光学素子）
においては、磁性体層と磁性体層との間の空間部（溝
部）或いは磁性体層と磁性体層との間の基板部（溝を形
成する凸部）を通過する光も、磁化された磁性体層で反
射されることにより巨大な磁気光学効果（偏光面の回
転）が生じるので、高いコントラストを有する画像の表
示が可能となる。
層が配置された本発明の磁気記録媒体（磁気光学素子）
においては、磁性体層と磁性体層との間の空間部（溝
部）或いは磁性体層と磁性体層との間の基板部（溝を形
成する凸部）を通過する光も、磁化された磁性体層で反
射されることにより巨大な磁気光学効果（偏光面の回
転）が生じるので、高いコントラストを有する画像の表
示が可能となる。
【００３３】特に、上記磁性体層と磁性体層との間の空
間部（溝部）と磁性体層と磁性体層との間の基板部（溝
を形成する凸部）との屈折率差により、それぞれの部分
を通った光の位相が揃ったときに偏光面の回転が更に大
きくなると考えられ、より高いコントラストを有する画
像の表示が可能となる。なお、基板として、例えばＳｉ
Ｏ2薄膜をよりもっと大きな屈折率を有するものを用い
た場合には、磁性体層と磁性体層との間の空間部（溝
部）を屈折率の小さな物質で埋めてもよい。
間部（溝部）と磁性体層と磁性体層との間の基板部（溝
を形成する凸部）との屈折率差により、それぞれの部分
を通った光の位相が揃ったときに偏光面の回転が更に大
きくなると考えられ、より高いコントラストを有する画
像の表示が可能となる。なお、基板として、例えばＳｉ
Ｏ2薄膜をよりもっと大きな屈折率を有するものを用い
た場合には、磁性体層と磁性体層との間の空間部（溝
部）を屈折率の小さな物質で埋めてもよい。
【００３４】さらに、前記図１および図２に示すような
磁性体層および基板を挟む１対の誘電体多層膜を有する
磁気記録媒体においては、磁性体層と磁性体層との間
（上記溝部および溝を形成する凸部）に入射する光は、
誘電体多層膜が反射板となり誘電体多層膜間に閉じ込め
られ、偏光面の回転が更に増幅されて大きくなり、より
高いコントラストを有する画像の表示が可能となる。
磁性体層および基板を挟む１対の誘電体多層膜を有する
磁気記録媒体においては、磁性体層と磁性体層との間
（上記溝部および溝を形成する凸部）に入射する光は、
誘電体多層膜が反射板となり誘電体多層膜間に閉じ込め
られ、偏光面の回転が更に増幅されて大きくなり、より
高いコントラストを有する画像の表示が可能となる。
【００３５】
【実施例】以下、実施例に基づき本発明をより詳細に説
明する。
明する。
【００３６】実施例１ ０．５ｍｍ厚の石英基板の表面に、合計で１２０ｎｍ厚
となるようにＣｒ2Ｏ3、ついでＣｒの２層を設け、更に
その上にポジ型レジスト層を設けた。レジスト層上に互
いに平行な多数の直線状のパターンを有するフォトマス
クを配置し、ＵＶ光を用いてレジスト層上に互い１．０
μｍの等間隔で平行な幅１．０μｍの多数の直線状の細
線パターンを露光し、ついでウェットエッチング手法に
より上記レジスト層をエッチングし、更にフッ素系ガス
を用いて石英表面をエッチングして、深さ０．４μｍ、
幅１．０μｍの溝、即ち溝の深さが０．４μｍであり、
溝の側壁の配列が１．０μｍで等間隔となる互いに平行
な多数の直線状の溝を形成した。ついでレジスト層およ
びＣｒ2Ｏ3、Ｃｒの２層を剥離した。次に、ガス中蒸着
法を用いて、基板加熱なしで、上記石英基板の凹凸面上
に鉄を蒸着し磁性体層を形成した。使用したガスはＡｒ
と空気の混合ガスで、Ａｒを５０ＣＣＭ、空気を５ＣＣ
Ｍの流量で流し、全圧力で１．３Ｐａとした。このよう
にして形成された磁性体層は平均粒子径７ｎｍの鉄微粒
子を含有していた。また、平均膜厚は７６ｎｍであっ
た。さらに、平坦部（上記磁性体層の形成時に基板表面
と同一平面に置いたガラス板上に形成された磁性体層）
で測定した保磁力は４５０エルステッドであり、面内磁
気異方性を有していた。次いでイオンエッチング装置を
用いて、基板側に−３５０Ｖを印加し、Ａｒガスを導入
して逆スパッタ法により、形成された磁性体層のうち基
板表面に平行な部分を除去し、溝の側壁面のみに磁性体
層を形成した。磁性体層の磁気光学効果を磁気光学効果
測定装置により測定したところ、波長６３０ｎｍの場合
の偏光面回転角（１５Ｋガウスに磁界を印加したした後
のゼロ磁界での回転角）は１６度であった。
となるようにＣｒ2Ｏ3、ついでＣｒの２層を設け、更に
その上にポジ型レジスト層を設けた。レジスト層上に互
いに平行な多数の直線状のパターンを有するフォトマス
クを配置し、ＵＶ光を用いてレジスト層上に互い１．０
μｍの等間隔で平行な幅１．０μｍの多数の直線状の細
線パターンを露光し、ついでウェットエッチング手法に
より上記レジスト層をエッチングし、更にフッ素系ガス
を用いて石英表面をエッチングして、深さ０．４μｍ、
幅１．０μｍの溝、即ち溝の深さが０．４μｍであり、
溝の側壁の配列が１．０μｍで等間隔となる互いに平行
な多数の直線状の溝を形成した。ついでレジスト層およ
びＣｒ2Ｏ3、Ｃｒの２層を剥離した。次に、ガス中蒸着
法を用いて、基板加熱なしで、上記石英基板の凹凸面上
に鉄を蒸着し磁性体層を形成した。使用したガスはＡｒ
と空気の混合ガスで、Ａｒを５０ＣＣＭ、空気を５ＣＣ
Ｍの流量で流し、全圧力で１．３Ｐａとした。このよう
にして形成された磁性体層は平均粒子径７ｎｍの鉄微粒
子を含有していた。また、平均膜厚は７６ｎｍであっ
た。さらに、平坦部（上記磁性体層の形成時に基板表面
と同一平面に置いたガラス板上に形成された磁性体層）
で測定した保磁力は４５０エルステッドであり、面内磁
気異方性を有していた。次いでイオンエッチング装置を
用いて、基板側に−３５０Ｖを印加し、Ａｒガスを導入
して逆スパッタ法により、形成された磁性体層のうち基
板表面に平行な部分を除去し、溝の側壁面のみに磁性体
層を形成した。磁性体層の磁気光学効果を磁気光学効果
測定装置により測定したところ、波長６３０ｎｍの場合
の偏光面回転角（１５Ｋガウスに磁界を印加したした後
のゼロ磁界での回転角）は１６度であった。
【００３７】ついで上記のようにして形成した磁性体層
を用いて、前記図２に示すような磁気記録媒体（磁気光
学素子）を作製した。即ち、上記磁性体層を有する石英
基板の裏面に、屈折率１．４６のＳｉＯ2低屈折率膜
と、屈折率２．４５のＴｉＯ2高屈折率膜を、膜厚９０
ｎｍとして交互に１０層、４００℃に基板加熱して、積
層し誘電体多層膜５を形成した。ついで、これと同様に
して０．５ｍｍ厚の別の石英基板の表面に形成された誘
電体多層膜６を磁性体層を有する基板表面に誘電体多層
膜が密着するように張り合わせた。誘電体多層膜５およ
び６の透過率は等しく約９０％であった。
を用いて、前記図２に示すような磁気記録媒体（磁気光
学素子）を作製した。即ち、上記磁性体層を有する石英
基板の裏面に、屈折率１．４６のＳｉＯ2低屈折率膜
と、屈折率２．４５のＴｉＯ2高屈折率膜を、膜厚９０
ｎｍとして交互に１０層、４００℃に基板加熱して、積
層し誘電体多層膜５を形成した。ついで、これと同様に
して０．５ｍｍ厚の別の石英基板の表面に形成された誘
電体多層膜６を磁性体層を有する基板表面に誘電体多層
膜が密着するように張り合わせた。誘電体多層膜５およ
び６の透過率は等しく約９０％であった。
【００３８】次に、誘電体多層膜５および６の外側に一
対の偏光子８および９を配設した。偏光子８および９に
は市販のヨウ素系フィイルム偏光子を用いた。このよう
にして作製された磁気記録媒体（磁気光学素子）は、磁
性体層４を一対の誘電体多層膜５および６、透明基板１
および７、及び一対の偏光子８および９で挟んだサンド
イッチ構造を有するものである。このようにして作製さ
れた磁性体層４の磁気光学効果を磁気光学効果測定装置
で測定したところ、波長６３０ｎｍの場合の偏光面回転
角（１５Ｋガウスに磁界を印加した後のゼロ磁界での回
転角）は２４度であった。上記のような構成の磁気記録
媒体（磁気光学素子）によれば、磁性体層４が一対の誘
電体多層膜５および６により挟まれた構造となっている
ので、磁気記録媒体（磁気光学素子）中に入射した光は
誘電体多層膜５および６中で多重反射し、その光のエネ
ルギーが磁性体層４に蓄えられる局在化現象が生ずる。
この結果磁性体層４の磁気光学効果が増大し、偏光面回
転角が増大することになる。また、偏光子８および９の
外側から、表面磁束密度３Ｋガウス、直径２ｍｍのサイ
ズの永久磁石を備えた磁気ペンの先端で、磁界を印加し
て、磁性体層４の一部を磁化して磁気記録を行ったとこ
ろ、磁化部は暗くなり、コントラスト１．８の画像が得
られた。
対の偏光子８および９を配設した。偏光子８および９に
は市販のヨウ素系フィイルム偏光子を用いた。このよう
にして作製された磁気記録媒体（磁気光学素子）は、磁
性体層４を一対の誘電体多層膜５および６、透明基板１
および７、及び一対の偏光子８および９で挟んだサンド
イッチ構造を有するものである。このようにして作製さ
れた磁性体層４の磁気光学効果を磁気光学効果測定装置
で測定したところ、波長６３０ｎｍの場合の偏光面回転
角（１５Ｋガウスに磁界を印加した後のゼロ磁界での回
転角）は２４度であった。上記のような構成の磁気記録
媒体（磁気光学素子）によれば、磁性体層４が一対の誘
電体多層膜５および６により挟まれた構造となっている
ので、磁気記録媒体（磁気光学素子）中に入射した光は
誘電体多層膜５および６中で多重反射し、その光のエネ
ルギーが磁性体層４に蓄えられる局在化現象が生ずる。
この結果磁性体層４の磁気光学効果が増大し、偏光面回
転角が増大することになる。また、偏光子８および９の
外側から、表面磁束密度３Ｋガウス、直径２ｍｍのサイ
ズの永久磁石を備えた磁気ペンの先端で、磁界を印加し
て、磁性体層４の一部を磁化して磁気記録を行ったとこ
ろ、磁化部は暗くなり、コントラスト１．８の画像が得
られた。
【００３９】また、磁気記録の方法として、磁性体層４
の全体を基板面に垂直方向に磁化（下向きに磁化）した
のち、表面磁束密度３Ｋガウス、直径２ｍｍのサイズの
永久磁石を備えた磁気ペンの先端で、画像部として逆の
垂直方向に磁化（上向きに磁化）した場合には、上記よ
り２倍のコントラストが得られた。なお、一対の偏光子
８および９はコントラストが最大となる角度に吸収軸を
回転して配置した。
の全体を基板面に垂直方向に磁化（下向きに磁化）した
のち、表面磁束密度３Ｋガウス、直径２ｍｍのサイズの
永久磁石を備えた磁気ペンの先端で、画像部として逆の
垂直方向に磁化（上向きに磁化）した場合には、上記よ
り２倍のコントラストが得られた。なお、一対の偏光子
８および９はコントラストが最大となる角度に吸収軸を
回転して配置した。
【００４０】比較例１ 実施例１において、誘電体多層膜５および６を設けなか
った以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体（磁気光
学素子）を作製した。この磁気記録媒体（磁気光学素
子）について実施例１と同様にして偏光子８および９の
外側から磁界を印加して、磁性体層４の一部を磁化して
磁気記録を行ったところ、コントラスト０．９の画像し
か得られなかった。
った以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体（磁気光
学素子）を作製した。この磁気記録媒体（磁気光学素
子）について実施例１と同様にして偏光子８および９の
外側から磁界を印加して、磁性体層４の一部を磁化して
磁気記録を行ったところ、コントラスト０．９の画像し
か得られなかった。
【００４１】実施例２ 実施例１のＳｉＯ2とＴｉＯ2で構成された誘電体多層膜
の代わりに、低屈折率膜として屈折率１．３５の一液エ
ポキシ系紫外線硬化樹脂（アデカオプトマーＫＲ５６
７、旭電化工業株式会社製）、高屈折率膜として屈折率
１．５７の一液ポリエン、ポリチオール系紫外線硬化樹
脂（ＢＹ−３０５、旭電化工業株式会社製）をそれぞれ
用い、膜厚２００ｎｍとして交互に樹脂膜を２０層積層
して誘電体多層膜を作製した以外は実施例１と同様にし
て磁気記録媒体（磁気光学素子）を作製した。樹脂膜は
スピンコート法を用いて製膜し、硬化には水銀ランプ
（８０Ｗ／ｃｍ）を１灯用いた。誘電体多層膜の透過率
は８５％であった。この磁気記録媒体（磁気光学素子）
について実施例１と同様にして偏光子の外側から磁界を
印加して、磁性体層の一部を磁化して磁気記録を行った
ところ、コントラスト１．６の画像が得られた。
の代わりに、低屈折率膜として屈折率１．３５の一液エ
ポキシ系紫外線硬化樹脂（アデカオプトマーＫＲ５６
７、旭電化工業株式会社製）、高屈折率膜として屈折率
１．５７の一液ポリエン、ポリチオール系紫外線硬化樹
脂（ＢＹ−３０５、旭電化工業株式会社製）をそれぞれ
用い、膜厚２００ｎｍとして交互に樹脂膜を２０層積層
して誘電体多層膜を作製した以外は実施例１と同様にし
て磁気記録媒体（磁気光学素子）を作製した。樹脂膜は
スピンコート法を用いて製膜し、硬化には水銀ランプ
（８０Ｗ／ｃｍ）を１灯用いた。誘電体多層膜の透過率
は８５％であった。この磁気記録媒体（磁気光学素子）
について実施例１と同様にして偏光子の外側から磁界を
印加して、磁性体層の一部を磁化して磁気記録を行った
ところ、コントラスト１．６の画像が得られた。
【００４２】実施例３ 実施例１において、磁性体層を有する石英基板の裏面に
誘電体多層膜を形成する代わりに、約２００ｎｍのアル
ミニウムの光反射膜を形成し、アルミニウムの膜の外側
には偏光子を配設しなかった以外は実施例１と同様にし
て前記図３に示すような磁気記録媒体（磁気光学素子）
を作製した。このようにして作製された磁気記録媒体
（磁気光学素子）は、透明基板１の磁性体層側に誘電体
多層膜６、透明基板７及び偏光子９を有し、透明基板１
の裏面に光反射膜１０を有するものである。
誘電体多層膜を形成する代わりに、約２００ｎｍのアル
ミニウムの光反射膜を形成し、アルミニウムの膜の外側
には偏光子を配設しなかった以外は実施例１と同様にし
て前記図３に示すような磁気記録媒体（磁気光学素子）
を作製した。このようにして作製された磁気記録媒体
（磁気光学素子）は、透明基板１の磁性体層側に誘電体
多層膜６、透明基板７及び偏光子９を有し、透明基板１
の裏面に光反射膜１０を有するものである。
【００４３】この磁気記録媒体（磁気光学素子）におい
ては、偏光子側から入射した光が、誘電体多層膜と光反
射膜の間で反射を繰り返す。偏光子側から入射した光は
偏光子によって直線偏光になり、磁性体層の磁化した部
分を通過した後、偏光面が回転され、更に光反射膜で反
射した後、上記磁性体層の磁化した部分を再度通過して
更に回転され回転角が倍になり、最初入射した偏光子を
通過できなくなって、暗い部分をつくる。上記磁気記録
媒体（磁気光学素子）について実施例１と同様にして偏
光子の外側から磁界を印加して、磁性体層の一部を磁化
して磁気記録を行ったところ、コントラスト１．６の画
像が得られた。
ては、偏光子側から入射した光が、誘電体多層膜と光反
射膜の間で反射を繰り返す。偏光子側から入射した光は
偏光子によって直線偏光になり、磁性体層の磁化した部
分を通過した後、偏光面が回転され、更に光反射膜で反
射した後、上記磁性体層の磁化した部分を再度通過して
更に回転され回転角が倍になり、最初入射した偏光子を
通過できなくなって、暗い部分をつくる。上記磁気記録
媒体（磁気光学素子）について実施例１と同様にして偏
光子の外側から磁界を印加して、磁性体層の一部を磁化
して磁気記録を行ったところ、コントラスト１．６の画
像が得られた。
【００４４】
【発明の効果】本発明によれば、磁気ヘッドなどによっ
て記録、読み出し（再生）、消去を繰り返し行うことが
でき、且つ高いコントラストを有する画像の表示が可能
なディスプレイ等への応用にも適した磁気記録媒体を得
ることができる。
て記録、読み出し（再生）、消去を繰り返し行うことが
でき、且つ高いコントラストを有する画像の表示が可能
なディスプレイ等への応用にも適した磁気記録媒体を得
ることができる。
【図１】本発明の磁気記録媒体の一例を模式的に示す拡
大断面図である。
大断面図である。
【図２】本発明の磁気記録媒体の他の例を模式的に示す
拡大断面図である。
拡大断面図である。
【図３】本発明の磁気記録媒体のさらに別の例を模式的
に示す拡大断面図である。
に示す拡大断面図である。
【図４】本発明の磁気記録媒体を製造する際に、基板の
表面に溝を形成し、形成された溝の側壁に磁性体層を形
成する工程の一例を示す説明図である。
表面に溝を形成し、形成された溝の側壁に磁性体層を形
成する工程の一例を示す説明図である。
【図５】本発明の磁気記録媒体（磁気光学素子）をディ
スプレイに適用した場合の画像表示の原理（コントラス
トの付け方）を模式的に示す説明図である。
スプレイに適用した場合の画像表示の原理（コントラス
トの付け方）を模式的に示す説明図である。
１ 基板 ２ 溝 ３ 溝の側壁面 ４ 磁性体層 ４ａ 磁化部 ４ｂ 非磁化部 ５ 誘電体多層膜 ６ 誘電体多層膜 ７ 透明基板 ８ 偏光子 ９ 偏光子 １０ 光反射膜 １１ レジスト層 １２ Ａｒイオン １３ 磁化方向 １４ 偏光面 １４ａ 磁化部に入射した光 １４ｂ 非磁化部に入射した光
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 11/10 ５２１ Ｇ１１Ｂ 11/10 ５２１Ｈ Ｈ０１Ｆ 10/12 Ｈ０１Ｆ 10/12
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基板、その基板の表面に形成され
た、溝の深さが０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の側壁
の配列が０．２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔とな
る互いに平行な多数の直線状の溝、その溝の側壁面に形
成された厚さ５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層および基
板を挟む１対の誘電体多層膜からなることを特徴とする
磁気記録媒体。 - 【請求項２】 誘電体多層膜の外側に配設された１対の
偏光子を有することを特徴とする請求項１記載の磁気記
録媒体。 - 【請求項３】 基板、その基板の表面に形成された、溝
の深さが０．１μｍ乃至５μｍであり、溝の側壁の配列
が０．２μｍ乃至２．０μｍの範囲で等間隔となる互い
に平行な多数の直線状の溝、その溝の側壁面に形成され
た厚さ５ｎｍ乃至１００ｎｍの磁性体層、基板の一方の
面に設けられた誘電体多層膜と誘電体多層膜の外側に配
設された偏光子、および基板の他方の面に設けられた光
反射膜からなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項４】 誘電体多層膜が有機材料からなることを
特徴とする請求項１、２または３記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】 磁性体層が平均粒子径２０Å乃至２００
ÅのＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉまたはこれらの合金を含むことを
特徴とする請求項１、２、３または４記載の磁気記録媒
体。
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| JP9-352348 | 1997-12-05 | ||
| JP34591798A JP4033368B2 (ja) | 1997-12-05 | 1998-12-04 | 磁気表示媒体 |
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| JP4033368B2 JP4033368B2 (ja) | 2008-01-16 |
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|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-12-04 JP JP34591798A patent/JP4033368B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-04 US US09/205,781 patent/US6187431B1/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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