JPH11261302A - Connection electrode structure and electronic device using same - Google Patents
Connection electrode structure and electronic device using sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は接続電極構造および
それを用いた電子装置、特に移動体通信機器のRF段な
どの高周波帯で用いられる部品の接続電極構造およびそ
れを用いた電子装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a connection electrode structure and an electronic device using the same, and more particularly to a connection electrode structure of a component used in a high frequency band such as an RF stage of a mobile communication device and an electronic device using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年の移動体通信機器の発達にともなっ
て、使用される周波数の高周波化が進み、それにともな
って高周波に特有の問題点が出てくるようになってきて
いる。2. Description of the Related Art With the development of mobile communication equipment in recent years, the frequency used has been increased to a higher frequency, and accordingly, problems specific to the high frequency have come to appear.
【0003】図5に、従来の接続電極としてボンディン
グパッドを有する2つの電子装置を電気的に接続してい
る状態を示す。図5において、電子装置1は高誘電率の
誘電体基板2の一方主面のほぼ全面に接地電極3を形成
し、誘電体基板2の他方主面に回路(図示せず)を形成
して構成されている。誘電体基板2の他方主面の端部に
は接続電極であるボンディングパッド5が形成され、接
続配線4を介して回路と接続されている。また、電子装
置7は誘電体基板8の一方主面のほぼ全面に接地電極9
を形成し、誘電体基板8の他方主面に回路(図示せず)
を形成して構成されている。誘電体基板8の他方主面の
端部にはボンディングパッド11が形成され、接続配線
10を介して回路と接続されている。そして、電子装置
1のボンディングパッド5と電子装置7のボンディング
パッド11はワイヤー13を介して接続されている。FIG. 5 shows a state in which two electronic devices having bonding pads as conventional connection electrodes are electrically connected. In FIG. 5, the electronic device 1 has a ground electrode 3 formed on almost the entirety of one main surface of a dielectric substrate 2 having a high dielectric constant, and a circuit (not shown) formed on the other main surface of the dielectric substrate 2. It is configured. A bonding pad 5 serving as a connection electrode is formed at an end of the other main surface of the dielectric substrate 2, and is connected to a circuit via a connection wiring 4. The electronic device 7 includes a ground electrode 9 on almost the entire one main surface of the dielectric substrate 8.
And a circuit (not shown) is formed on the other main surface of the dielectric substrate 8.
Is formed. A bonding pad 11 is formed at an end of the other main surface of the dielectric substrate 8, and is connected to a circuit via a connection wiring 10. The bonding pad 5 of the electronic device 1 and the bonding pad 11 of the electronic device 7 are connected via a wire 13.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ここで、図6に、図5
の電子装置1のA−A断面図を示す。これより分かるよ
うに、誘電体基板2のボンディングパッド5の下には接
地電極3が大きく形成されている。しかも両者の間には
高誘電率の誘電体基板2が存在する。そのため、ボンデ
ィングパッド5と接地電極3との間には浮遊容量として
比較的大きな静電容量C1が形成される。Here, FIG.
1 is a cross-sectional view of the electronic device 1 taken along line AA. As can be seen, a large ground electrode 3 is formed below the bonding pad 5 on the dielectric substrate 2. Moreover, a dielectric substrate 2 having a high dielectric constant exists between them. Therefore, a relatively large capacitance C1 is formed between the bonding pad 5 and the ground electrode 3 as a stray capacitance.
【0005】ボンディングパッド5と接地電極3との間
に形成される静電容量C1は、電子装置1を低い周波数
で使用する場合には、そのインピーダンスが高くなるた
めに電気的な影響はほとんど無い。しかしながら、電子
装置1の使用周波数が高くなるにつれてボンディングパ
ッド5と接地電極3との間に形成される静電容量C1の
インピーダンスは小さくなるため、ボンディングパッド
5から接地電極3の方に信号が流れるようになり、電子
装置1およびそれを使用した回路全体の電気的な特性に
悪影響を与えるようになるという問題がある。When the electronic device 1 is used at a low frequency, the capacitance C1 formed between the bonding pad 5 and the ground electrode 3 has a high impedance. . However, since the impedance of the capacitance C1 formed between the bonding pad 5 and the ground electrode 3 decreases as the operating frequency of the electronic device 1 increases, a signal flows from the bonding pad 5 to the ground electrode 3. As a result, there is a problem that the electrical characteristics of the electronic device 1 and the entire circuit using the electronic device 1 are adversely affected.
【0006】本発明は上記の問題点を解決することを目
的とするもので、接続電極と接地電極との間の浮遊容量
を小さくすることのできる接続電極構造およびそれを用
いた電子装置を提供する。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a connection electrode structure capable of reducing a stray capacitance between a connection electrode and a ground electrode, and an electronic device using the same. I do.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の接続電極構造は、高誘電率の誘電体基板上
に接続電極を形成するとともに、前記誘電体基板の前記
接続電極の下部およびその周辺の下部の少なくともいず
れか一方に低誘電率の誘電体を設けたことを特徴とす
る。In order to achieve the above object, a connection electrode structure according to the present invention comprises forming a connection electrode on a dielectric substrate having a high dielectric constant and forming the connection electrode on the dielectric substrate. A low dielectric constant dielectric is provided on at least one of the lower part and the lower part around the lower part.
【0008】また、本発明の接続電極構造は、前記接続
電極をボンディングパッドとしたことを特徴とする。Further, the connection electrode structure of the present invention is characterized in that the connection electrode is a bonding pad.
【0009】また、本発明の電子装置は、上記の接続電
極構造を用いたことを特徴とする。Further, an electronic device according to the present invention is characterized by using the above-mentioned connection electrode structure.
【0010】このように構成することにより、本発明の
接続電極構造においては、接続電極と接地電極間の浮遊
容量を小さくすることができる。With this configuration, in the connection electrode structure of the present invention, the stray capacitance between the connection electrode and the ground electrode can be reduced.
【0011】また、本発明の電子装置においては、接続
電極と接地電極との間の浮遊容量による高周波特性の劣
化を防止することができる。Further, in the electronic device according to the present invention, it is possible to prevent the high-frequency characteristics from deteriorating due to the stray capacitance between the connection electrode and the ground electrode.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】図1に、本発明の接続電極構造の
一実施例の斜視図を示す。また、図2に、図1のB−B
断面図を示す。図1および図2において、図5および図
6と同一もしくは同等の部分には同じ記号を付し、その
説明は省略する。FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of a connection electrode structure according to the present invention. Further, FIG. 2 shows a BB of FIG.
FIG. 1 and 2, the same or equivalent parts as those in FIGS. 5 and 6 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0013】図1および図2において、誘電体基板2の
接続電極であるボンディングパッド5およびその周辺の
下部には角穴が誘電体基板2を貫通して形成され、角穴
内には角穴を埋めるように四角柱状の低誘電率の誘電体
15が設けられている。低誘電率の誘電体15の高さは
誘電体基板2の厚みと同じに形成されている。そのた
め、ボンディングパッド5、接続電極4の一部および接
地電極3の一部は低誘電率の誘電体15の表面上に直接
形成されている。In FIGS. 1 and 2, a rectangular hole is formed in the bonding pad 5 serving as a connection electrode of the dielectric substrate 2 and a lower portion around the bonding pad 5 so as to penetrate the dielectric substrate 2, and a rectangular hole is formed in the rectangular hole. A quadrangular prism-shaped low dielectric constant dielectric 15 is provided so as to be filled. The height of the dielectric 15 having a low dielectric constant is formed to be the same as the thickness of the dielectric substrate 2. Therefore, the bonding pad 5, a part of the connection electrode 4, and a part of the ground electrode 3 are formed directly on the surface of the dielectric 15 having a low dielectric constant.
【0014】このように構成された接続電極構造の製造
方法の例を以下に述べる。まず、高誘電率の誘電体基板
のボンディングパッドを形成する位置に金型などであら
かじめ角穴を形成しておく。次に、この角穴にたとえば
低誘電率の誘電体である樹脂を充填して硬化させる。こ
れはあらかじめ誘電体基板の角穴に合わせて形成された
四角柱状の低誘電率の誘電体を圧入するような方法でも
構わない。その上で、高誘電率の誘電体基板および低誘
電率の誘電体の上に接地電極やボンディングパッド、接
続電極などを形成する。An example of a method for manufacturing the connection electrode structure thus configured will be described below. First, a square hole is previously formed in a high dielectric constant dielectric substrate at a position where a bonding pad is to be formed by using a mold or the like. Next, the square hole is filled with, for example, a resin that is a dielectric having a low dielectric constant and is cured. This may be a method of press-fitting a low-k dielectric material in the form of a quadrangular prism formed in advance in accordance with the square hole of the dielectric substrate. Then, a ground electrode, a bonding pad, a connection electrode and the like are formed on the dielectric substrate having a high dielectric constant and the dielectric having a low dielectric constant.
【0015】このように、誘電体基板2のボンディング
パッド5およびその周辺の下部に低誘電率の誘電体15
を設けることにより、ボンディングパッド5と接地電極
3との間に形成される浮遊容量としての静電容量C2
を、従来例における静電容量C1に比べて小さくするこ
とができる。その結果、使用周波数が高くなっても静電
容量C2のインピーダンスはあまり小さくならず、ボン
ディングパッドすなわち接続電極の電気的な特性の劣化
を防ぐことができる。As described above, the low dielectric constant dielectric 15 is formed on the bonding pad 5 of the dielectric substrate 2 and the lower portion of the periphery thereof.
Is provided, a capacitance C2 as a stray capacitance formed between the bonding pad 5 and the ground electrode 3 is provided.
Can be made smaller than the capacitance C1 in the conventional example. As a result, even if the operating frequency increases, the impedance of the capacitance C2 does not decrease so much, and deterioration of the electrical characteristics of the bonding pad, that is, the connection electrode can be prevented.
【0016】図3に、本発明の接続電極構造の別の実施
例の断面図を示す。図3で、図2と同一もしくは同等の
部分には同じ記号を付し、その説明は省略する。FIG. 3 shows a sectional view of another embodiment of the connection electrode structure of the present invention. In FIG. 3, the same or equivalent parts as those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
【0017】図3において、誘電体基板2のボンディン
グパッド5およびその周辺の下部には誘電体基板2を貫
通しない角穴が形成され、角穴内には角穴を埋めるよう
に、四角柱状で、高さが誘電体基板2の厚みより小さい
低誘電率の誘電体16が設けられている。そのため、ボ
ンディングパッド5、接続電極4の一部は誘電体16の
表面上に直接形成されている。Referring to FIG. 3, a rectangular hole which does not penetrate through the dielectric substrate 2 is formed in the bonding pad 5 of the dielectric substrate 2 and a lower portion of the periphery thereof. A dielectric 16 having a low dielectric constant whose height is smaller than the thickness of the dielectric substrate 2 is provided. Therefore, the bonding pad 5 and a part of the connection electrode 4 are formed directly on the surface of the dielectric 16.
【0018】なお、このように構成された接続電極構造
も、基本的に図1の接続電極構造と同様の方法で作るこ
とができる。It should be noted that the connection electrode structure configured as described above can be basically manufactured in the same manner as the connection electrode structure of FIG.
【0019】このように、低誘電率の誘電体16が誘電
体基板2を貫通せず、誘電体基板2の一部にのみ形成さ
れていても、ボンディングパッド5と接地電極3との間
に形成される浮遊容量としての静電容量C3を、従来例
における静電容量C1に比べて小さくすることができ
る。その結果、使用周波数が高くなっても静電容量C3
のインピーダンスはあまり小さくならず、ボンディング
パッド、すなわち接続電極の電気的な特性の劣化を防ぐ
ことができる。As described above, even if the dielectric 16 having a low dielectric constant does not penetrate through the dielectric substrate 2 and is formed only on a part of the dielectric substrate 2, the dielectric 16 is provided between the bonding pad 5 and the ground electrode 3. The formed capacitance C3 as a floating capacitance can be made smaller than the capacitance C1 in the conventional example. As a result, even if the operating frequency increases, the capacitance C3
Of the bonding pad, that is, the electrical characteristics of the connection electrode can be prevented from deteriorating.
【0020】なお、図1ないし図3の実施例においては
低誘電率の誘電体を四角柱状としたが、これは四角柱に
限るものではなく円柱や三角柱など別の形状であっても
構わない。また、低誘電率の誘電体をボンディングパッ
ドおよびその周辺の下部の全面に設けているが、これも
必ずしも全面に設ける必要はなく、ボンディングパッド
およびその周辺の下部の一部に設けたものであっても構
わないものである。In the embodiments shown in FIGS. 1 to 3, the low dielectric constant dielectric material is formed in the shape of a quadrangular prism. . In addition, the low dielectric constant dielectric is provided on the entire surface of the bonding pad and its lower part, but it is not always necessary to provide the dielectric on the bonding pad and a part of the lower part of the periphery of the bonding pad. It does not matter.
【0021】また、接続電極はボンディングパッドに限
るものではなく、半田付けランドなどの別の接続電極で
あっても同様の作用効果を生じるものである。Further, the connection electrode is not limited to the bonding pad, and a similar effect can be obtained even if another connection electrode such as a soldering land is used.
【0022】図4に、本発明の電子装置の一実施例を示
す。図4において、電子装置20は高誘電率の誘電体基
板21と、誘電体基板21の一方主面のほぼ全面に形成
された接地電極22、誘電体基板21の他方主面に互い
に平行に並べて形成した2本のマイクロストリップ線路
23および24、マイクロストリップ線路23の両端に
接続して形成された接続電極であるボンディングパッド
25および26、マイクロストリップ線路24の両端に
接続して形成されたボンディングパッド27および2
8、誘電体基板21のボンディングパッド25、26、
27、28の下部およびその周辺の下部に設けられた低
誘電率の誘電体25x、26x、27x、28xから構
成されている。ここで、低誘電率の誘電体25x、26
x、27x、28xは図1の誘電体15と同様に誘電体
基板21を貫通して形成されている。FIG. 4 shows an embodiment of the electronic device of the present invention. In FIG. 4, an electronic device 20 includes a dielectric substrate 21 having a high dielectric constant, a ground electrode 22 formed on substantially the entirety of one main surface of the dielectric substrate 21, and a dielectric substrate 21 arranged in parallel with the other main surface of the dielectric substrate 21. Two formed microstrip lines 23 and 24, bonding pads 25 and 26 as connection electrodes formed at both ends of microstrip line 23, and bonding pads formed at both ends of microstrip line 24 27 and 2
8, bonding pads 25, 26 of the dielectric substrate 21,
It is composed of low dielectric constant dielectrics 25x, 26x, 27x, 28x provided at the lower part of 27 and 28 and the lower part of the periphery thereof. Here, the low dielectric constant dielectrics 25x, 26
x, 27x, and 28x are formed through the dielectric substrate 21 similarly to the dielectric 15 in FIG.
【0023】このように構成された電子装置20におい
て、マイクロストリップ線路23と24の長さは目的の
周波数における波長の約1/4に形成されており、互い
に結合することによって方向性結合器として機能する。
そして、誘電体基板21のボンディングパッド25、2
6、27、28の下に低誘電率の誘電体25x、26
x、27x、28xをそれぞれ設けることによってボン
ディングパッドと接地電極との間に形成される浮遊容量
が小さくなり、各ボンディングパッド25、26、2
7、28と接地電極22との間の浮遊容量による電子装
置20、すなわち方向性結合器の高周波特性の劣化を防
止することができる。In the electronic device 20 configured as described above, the lengths of the microstrip lines 23 and 24 are formed to be about 4 of the wavelength at the target frequency, and are coupled to each other to form a directional coupler. Function.
Then, the bonding pads 25, 2
Low dielectric constant dielectrics 25x, 26 below 6, 27, 28
By providing x, 27x, and 28x, the stray capacitance formed between the bonding pad and the ground electrode is reduced.
It is possible to prevent the high-frequency characteristics of the electronic device 20, that is, the directional coupler, from deteriorating due to the stray capacitance between the ground electrodes 22 and 7, 28.
【0024】なお、図4に示した方向性結合器は1つの
例であって、本発明の電子装置は、高誘電率の誘電体基
板の接続電極の下部およびその周辺の下部の少なくとも
いずれか一方に低誘電率の誘電体を設けたものであれば
方向性結合器に限るものではない。The directional coupler shown in FIG. 4 is one example, and the electronic device according to the present invention is provided with at least one of a lower portion of a connection electrode of a dielectric substrate having a high dielectric constant and a lower portion of the lower portion. It is not limited to a directional coupler as long as it has a low dielectric constant dielectric.
【0025】[0025]
【発明の効果】本発明の接続電極構造によれば、誘電体
基板の接続電極の下部およびその周辺の下部の少なくと
も一方に低誘電率の誘電体を設けることにより、接続電
極と接地電極との間に形成される浮遊容量を小さくする
ことができ、接続電極の電気的な特性の劣化を防ぐこと
ができる。これによって、このような接続電極構造を用
いて構成された電子装置においても、高周波における回
路全体の電気的な特性の劣化を防ぐことができる。According to the connection electrode structure of the present invention, a low dielectric constant dielectric is provided on at least one of the lower portion of the connection electrode of the dielectric substrate and the lower portion around the connection electrode, so that the connection electrode and the ground electrode can be separated. The stray capacitance formed therebetween can be reduced, and deterioration of the electrical characteristics of the connection electrode can be prevented. As a result, even in an electronic device configured using such a connection electrode structure, it is possible to prevent the electrical characteristics of the entire circuit from deteriorating at high frequencies.
【図1】本発明のボンディングパッドの構造の一実施例
を示す一部透過斜視図である。FIG. 1 is a partially transparent perspective view showing one embodiment of the structure of a bonding pad of the present invention.
【図2】図1のボンディングパッドの構造のB−B断面
図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the structure of the bonding pad of FIG. 1 taken along line BB.
【図3】本発明のボンディングパッドの構造の別の実施
例を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the structure of the bonding pad of the present invention.
【図4】本発明の電子装置の一実施例を示す斜視図であ
る。FIG. 4 is a perspective view showing one embodiment of the electronic device of the present invention.
【図5】従来のボンディングパッドの構造を示す斜視図
である。FIG. 5 is a perspective view showing a structure of a conventional bonding pad.
【図6】図5のボンディングパッドの構造のA−A断面
図である。6 is a sectional view of the structure of the bonding pad shown in FIG. 5 taken along the line AA.
2…誘電体基板 3…接地電極 4…接続電極 5…ボンディングパッド 15、16…低誘電率の誘電体 20…電子装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... Dielectric substrate 3 ... Ground electrode 4 ... Connection electrode 5 ... Bonding pad 15, 16 ... Low dielectric constant dielectric 20 ... Electronic device
Claims (3)
成するとともに、前記誘電体基板の前記接続電極の下部
およびその周辺の下部の少なくともいずれか一方に低誘
電率の誘電体を設けたことを特徴とする接続電極構造。1. A connection electrode is formed on a dielectric substrate having a high dielectric constant, and a dielectric having a low dielectric constant is provided on at least one of a lower portion of the connection electrode and a lower portion of a periphery of the connection electrode on the dielectric substrate. A connection electrode structure.
たことを特徴とする、請求項1に記載の接続電極構造。2. The connection electrode structure according to claim 1, wherein said connection electrode is a bonding pad.
を用いたことを特徴とする電子装置。3. An electronic device using the connection electrode structure according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10063281A JPH11261302A (en) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | Connection electrode structure and electronic device using same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10063281A JPH11261302A (en) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | Connection electrode structure and electronic device using same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11261302A true JPH11261302A (en) | 1999-09-24 |
Family
ID=13224794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10063281A Pending JPH11261302A (en) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | Connection electrode structure and electronic device using same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11261302A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113851466A (en) * | 2021-11-29 | 2021-12-28 | 北京智芯微电子科技有限公司 | Isolation capacitor and preparation method thereof |
-
1998
- 1998-03-13 JP JP10063281A patent/JPH11261302A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113851466A (en) * | 2021-11-29 | 2021-12-28 | 北京智芯微电子科技有限公司 | Isolation capacitor and preparation method thereof |
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