JPH11263441A - 基板の移送設備における重なり基板の分離装置 - Google Patents
基板の移送設備における重なり基板の分離装置Info
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- JPH11263441A JPH11263441A JP6547598A JP6547598A JPH11263441A JP H11263441 A JPH11263441 A JP H11263441A JP 6547598 A JP6547598 A JP 6547598A JP 6547598 A JP6547598 A JP 6547598A JP H11263441 A JPH11263441 A JP H11263441A
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- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims abstract description 33
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マガジンホルダー内に積み重ねて収納されて
いる基板Ａ，Ｃを、その最上段のものから真空吸着式コ
レット３にて一枚ずつ取り出すに際し、前記真空吸着式
コレット３にて吸着した基板が二枚重ねに密着している
とき、これを確実に一枚ずつに分離する。 【手段】 前記真空吸着式コレット３の移送経路中に分
離ステージ４を設けて、この分離ステージの箇所におい
て前記真空吸着式コレットに真空吸着している基板の厚
さを厚みセンサー７ａ，７ｂにて検出し、これにより二
枚重ねであると判断された場合には、下側の基板を分離
ステージ４の上面に真空吸着用ポート８にて吸着して、
上側の基板のみを前記真空吸着式コレット３にて持ち上
げる。
いる基板Ａ，Ｃを、その最上段のものから真空吸着式コ
レット３にて一枚ずつ取り出すに際し、前記真空吸着式
コレット３にて吸着した基板が二枚重ねに密着している
とき、これを確実に一枚ずつに分離する。 【手段】 前記真空吸着式コレット３の移送経路中に分
離ステージ４を設けて、この分離ステージの箇所におい
て前記真空吸着式コレットに真空吸着している基板の厚
さを厚みセンサー７ａ，７ｂにて検出し、これにより二
枚重ねであると判断された場合には、下側の基板を分離
ステージ４の上面に真空吸着用ポート８にて吸着して、
上側の基板のみを前記真空吸着式コレット３にて持ち上
げる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、積み重ねられた複
数枚の基板を、一枚ずつ移送する場合において、二枚重
ねの基板を各基板ごとに分離するための装置に関するも
のである。
数枚の基板を、一枚ずつ移送する場合において、二枚重
ねの基板を各基板ごとに分離するための装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体レーザチップの製造に際
しては、図１に示すように、棒状基板Ａを使用して、複
数個の半導体レーザチップＡ１を一列に並べて一体化し
た状態で製造し、この棒状基板Ａにおける長手側面
Ａ′、つまり、前記各半導体レーザチップＡ１における
発光面Ａ１′に金属による薄い反射膜を形成したのち、
前記棒状基板Ａを、各半導体レーザチップＡ１ごとにブ
レイクすると言う方法が採用されている。
しては、図１に示すように、棒状基板Ａを使用して、複
数個の半導体レーザチップＡ１を一列に並べて一体化し
た状態で製造し、この棒状基板Ａにおける長手側面
Ａ′、つまり、前記各半導体レーザチップＡ１における
発光面Ａ１′に金属による薄い反射膜を形成したのち、
前記棒状基板Ａを、各半導体レーザチップＡ１ごとにブ
レイクすると言う方法が採用されている。
【０００３】また、前記棒状基板Ａにおける長手側面
Ａ′、つまり、前記各半導体レーザチップＡ１における
発光面Ａ１′に金属による薄い反射膜を形成するに際し
ては、この棒状基板Ａの複数枚を、上面を開放したマガ
ジンホルダーＢ内に、各棒状基板Ａの間に棒状のスペー
サ基板Ｃを挟みながら多段状に積み重ね、この状態で、
前記各棒状基板Ａにおける長手側面Ａ′に対して、金属
による薄い反射膜をスパッタリングにて同時に形成する
と言う方法が採用れている。なお、ここで、各棒状基板
Ａの間にスペーサ基板Ｃを挟むのは、各棒状基板Ａにお
ける発光面Ａ１′に金属による薄い反射膜を均一に形成
するためのである。
Ａ′、つまり、前記各半導体レーザチップＡ１における
発光面Ａ１′に金属による薄い反射膜を形成するに際し
ては、この棒状基板Ａの複数枚を、上面を開放したマガ
ジンホルダーＢ内に、各棒状基板Ａの間に棒状のスペー
サ基板Ｃを挟みながら多段状に積み重ね、この状態で、
前記各棒状基板Ａにおける長手側面Ａ′に対して、金属
による薄い反射膜をスパッタリングにて同時に形成する
と言う方法が採用れている。なお、ここで、各棒状基板
Ａの間にスペーサ基板Ｃを挟むのは、各棒状基板Ａにお
ける発光面Ａ１′に金属による薄い反射膜を均一に形成
するためのである。
【０００４】更にまた、前記のスパッタリングを行った
後は、前記マガジンホルダーＢ内における各棒状基板Ａ
及び各スペーサ基板Ｃを、最上段のものから真空吸着式
のコレットにて一枚ずつ取り出し、棒状基板Ａを取り出
したときには、この棒状基板Ａを次の工程への移送テー
ブルに載せる一方、スペーサ基板Ｃを取り出したときに
は、このスペーサ基板Ｃを、スペーサ基板用ボックス内
に入れると言うように構成している。
後は、前記マガジンホルダーＢ内における各棒状基板Ａ
及び各スペーサ基板Ｃを、最上段のものから真空吸着式
のコレットにて一枚ずつ取り出し、棒状基板Ａを取り出
したときには、この棒状基板Ａを次の工程への移送テー
ブルに載せる一方、スペーサ基板Ｃを取り出したときに
は、このスペーサ基板Ｃを、スペーサ基板用ボックス内
に入れると言うように構成している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、交互に積み重
ねられた棒状基板Ａ及びスペーサ基板Ｃのうちには、互
いに密着したものが存在するから、前記したように、マ
ガジンホルダーＢ内に積み重ねられた各棒状基板Ａ及び
各スペーサ基板Ｃをその最上段のものから真空吸着式コ
レットにて一枚ずつ取り出すと言う方法では、棒状基板
Ａを取り出したはずのものが、この棒状基板Ａの裏面に
密着しているスペーサ基板Ｃも一緒に取り出して、棒状
基板の次の工程への移送テーブルに載せたり、或いは、
スペーサ基板Ｃを取り出したはずのものが、このスペー
サ基板Ｃの裏面に密着している棒状基板Ａも一緒に取り
出して、スペーサ基板用のボックス内に入れたりすると
言うように、基板を二枚重ねに密着した状態で取り出す
ことが多発すると言う問題があった。
ねられた棒状基板Ａ及びスペーサ基板Ｃのうちには、互
いに密着したものが存在するから、前記したように、マ
ガジンホルダーＢ内に積み重ねられた各棒状基板Ａ及び
各スペーサ基板Ｃをその最上段のものから真空吸着式コ
レットにて一枚ずつ取り出すと言う方法では、棒状基板
Ａを取り出したはずのものが、この棒状基板Ａの裏面に
密着しているスペーサ基板Ｃも一緒に取り出して、棒状
基板の次の工程への移送テーブルに載せたり、或いは、
スペーサ基板Ｃを取り出したはずのものが、このスペー
サ基板Ｃの裏面に密着している棒状基板Ａも一緒に取り
出して、スペーサ基板用のボックス内に入れたりすると
言うように、基板を二枚重ねに密着した状態で取り出す
ことが多発すると言う問題があった。
【０００６】本発明は、このように二枚の重ねに密着し
た状態で取り出した場合に、これを各基板ごとに確実に
分離するようにした装置を提供することを技術的課題と
するものである。
た状態で取り出した場合に、これを各基板ごとに確実に
分離するようにした装置を提供することを技術的課題と
するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、「多数枚の基板を積み重ねて収納した
マガジンホルダーと、基板の移送テーブルと、その間を
横方向に往復動して前記マガジンホルダー内における基
板をその最上端のものから順次持ち上げるようにした真
空吸着式コレットとから成る基板の移送設備において、
前記真空吸着式コレットの前記マガジンホルダーから前
記移送テーブルへの移送経路の途中に分離ステージを設
けて、前記真空吸着式コレットがこの分離ステージの箇
所において下降動したのち上昇動するように構成する一
方、前記分離ステージに、前記真空吸着式コレットに真
空吸着している基板の厚さを検出する厚みセンサーを設
け、更に、前記分離ステージの上面に、この上面に対し
て基板を吸着するための真空吸着用ポートを設ける。」
と言う構成にした。
るため本発明は、「多数枚の基板を積み重ねて収納した
マガジンホルダーと、基板の移送テーブルと、その間を
横方向に往復動して前記マガジンホルダー内における基
板をその最上端のものから順次持ち上げるようにした真
空吸着式コレットとから成る基板の移送設備において、
前記真空吸着式コレットの前記マガジンホルダーから前
記移送テーブルへの移送経路の途中に分離ステージを設
けて、前記真空吸着式コレットがこの分離ステージの箇
所において下降動したのち上昇動するように構成する一
方、前記分離ステージに、前記真空吸着式コレットに真
空吸着している基板の厚さを検出する厚みセンサーを設
け、更に、前記分離ステージの上面に、この上面に対し
て基板を吸着するための真空吸着用ポートを設ける。」
と言う構成にした。
【０００８】
【発明の作用・効果】この構成において、真空吸着式コ
レットが、マガジンホルダー内における各基板のうち最
上段の基板を吸着して持ち上げると、この真空吸着式コ
レットは、分離ステージの箇所に移動して、これに吸着
されている基板の厚さが厚みセンサーにて検出される。
レットが、マガジンホルダー内における各基板のうち最
上段の基板を吸着して持ち上げると、この真空吸着式コ
レットは、分離ステージの箇所に移動して、これに吸着
されている基板の厚さが厚みセンサーにて検出される。
【０００９】この厚みセンサーによる厚さ検出により、
前記真空吸着式コレットに一枚の基板のみを吸着してい
ると判断された場合、前記真空吸着式コレットは、その
まま移送テーブルまで移動して、前記一枚の基板を移送
テーブルに載せる。これに対して、前記真空吸着式コレ
ットに吸着されている基板が厚みセンサーによって二枚
重ねであると判断された場合、前記真空吸着式コレット
は、分離ステージの上面に向かって下降動することによ
り、これに吸着されている二枚の基板のうち下側の基板
を、分離ステージの上面に対して真空吸着用ポートにて
吸着する。
前記真空吸着式コレットに一枚の基板のみを吸着してい
ると判断された場合、前記真空吸着式コレットは、その
まま移送テーブルまで移動して、前記一枚の基板を移送
テーブルに載せる。これに対して、前記真空吸着式コレ
ットに吸着されている基板が厚みセンサーによって二枚
重ねであると判断された場合、前記真空吸着式コレット
は、分離ステージの上面に向かって下降動することによ
り、これに吸着されている二枚の基板のうち下側の基板
を、分離ステージの上面に対して真空吸着用ポートにて
吸着する。
【００１０】次いで、前記真空吸着式コレットが、上側
の基板を吸着したままで上昇動することにより、二枚重
ねの両基板を、その下側の基板を分離ステージの上面に
残して、上側の基板を前記真空吸着式コレットにて持ち
上げるように分離し、持ち上げた一枚の基板を移送テー
ブルに載せる。これが済むと、前記真空吸着式コレット
は、前記分離ステージの上面に残された基板を、持ち上
げて移送テーブルに載せる作動を行うのである。
の基板を吸着したままで上昇動することにより、二枚重
ねの両基板を、その下側の基板を分離ステージの上面に
残して、上側の基板を前記真空吸着式コレットにて持ち
上げるように分離し、持ち上げた一枚の基板を移送テー
ブルに載せる。これが済むと、前記真空吸着式コレット
は、前記分離ステージの上面に残された基板を、持ち上
げて移送テーブルに載せる作動を行うのである。
【００１１】このように、本発明は、マガジンホルダー
から真空吸着式コレットにて持ち上げた基板が二枚重ね
になっていに場合、これを分離ステージにおいて、一枚
ごとに分離するものであるから、基板を二枚重ねに密着
した状態で取り出すことを大幅に低減できる効果を有す
る。
から真空吸着式コレットにて持ち上げた基板が二枚重ね
になっていに場合、これを分離ステージにおいて、一枚
ごとに分離するものであるから、基板を二枚重ねに密着
した状態で取り出すことを大幅に低減できる効果を有す
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
３〜図５の図面について説明する。この図において、符
号Ｂは、前記図２に示すと同じマガジンホルダーであ
り、このマガジンホルダーＢには、図１に示す棒状基板
Ａの複数枚と、厚さの異なるスペーサ基板Ｃの複数枚と
が、交互に積み重ねるようにして収納されている。
３〜図５の図面について説明する。この図において、符
号Ｂは、前記図２に示すと同じマガジンホルダーであ
り、このマガジンホルダーＢには、図１に示す棒状基板
Ａの複数枚と、厚さの異なるスペーサ基板Ｃの複数枚と
が、交互に積み重ねるようにして収納されている。
【００１３】符号１は、前記マガジンホルダーＢ内にお
ける各棒状基板Ａを載置し、この棒状基板Ａを次の工程
に移送するための移送テーブルを、符号２は、前記マガ
ジンホルダーＢ内における各スペーサＣを受け入れるス
ペーサ基板用ボックスを各々示す。また、符号３は、二
個一対の真空吸着式コレットを示し、この真空吸着式コ
レット３は、前記マガジンホルダーＢ、移送テーブル１
及びスペーサ基板用ボックス２の相互間を横方向に往復
動し、且つ、これらの箇所において下降動したのち上昇
動するように構成されている。
ける各棒状基板Ａを載置し、この棒状基板Ａを次の工程
に移送するための移送テーブルを、符号２は、前記マガ
ジンホルダーＢ内における各スペーサＣを受け入れるス
ペーサ基板用ボックスを各々示す。また、符号３は、二
個一対の真空吸着式コレットを示し、この真空吸着式コ
レット３は、前記マガジンホルダーＢ、移送テーブル１
及びスペーサ基板用ボックス２の相互間を横方向に往復
動し、且つ、これらの箇所において下降動したのち上昇
動するように構成されている。
【００１４】そして、前記真空吸着式コレット３の移動
経路のうち前記スペーサ基板用ボックス２と移送テーブ
ル１との間の部分に、分離ステージ４を配設して、前記
真空吸着式コレット３を、当該真空吸着式コレット３が
この分離ステージ４上に来たときにおいても下降動した
のち上昇動するように構成する。更に、前記分離ステー
ジ４には、左右一対の支持板５，６を立設して、この両
支持板５，６の間を、前記真空吸着式コレット３が通過
するように構成して、この両支持板５，６に、その間を
通過する前記棒状基板Ａ及びスペーサ基板Ｃの厚さを検
出するために発光素子７ａと受光素子７ｂとで構成した
厚みセンサーを設ける。
経路のうち前記スペーサ基板用ボックス２と移送テーブ
ル１との間の部分に、分離ステージ４を配設して、前記
真空吸着式コレット３を、当該真空吸着式コレット３が
この分離ステージ４上に来たときにおいても下降動した
のち上昇動するように構成する。更に、前記分離ステー
ジ４には、左右一対の支持板５，６を立設して、この両
支持板５，６の間を、前記真空吸着式コレット３が通過
するように構成して、この両支持板５，６に、その間を
通過する前記棒状基板Ａ及びスペーサ基板Ｃの厚さを検
出するために発光素子７ａと受光素子７ｂとで構成した
厚みセンサーを設ける。
【００１５】加えて、前記分離ステージ４には、真空源
に繋がる真空吸着用ポート８の複数個を、前記分離ステ
ージ４の上面に開口するように設けて、この真空吸着用
ポート８により、前記分離ステージ４の上面に前記棒状
基板Ａ又はスペーサ基板Ｃを吸着するように構成する一
方、前記両支持板５，６のうち一方の支持板５には、圧
縮空気の噴出ノズル９の複数個を、当該各噴出ノズル９
から噴出する空気が分離ステージ４の上面に沿って流れ
たのち他方の支持板６に穿設したスリット孔１０より吹
き抜けるように設ける。
に繋がる真空吸着用ポート８の複数個を、前記分離ステ
ージ４の上面に開口するように設けて、この真空吸着用
ポート８により、前記分離ステージ４の上面に前記棒状
基板Ａ又はスペーサ基板Ｃを吸着するように構成する一
方、前記両支持板５，６のうち一方の支持板５には、圧
縮空気の噴出ノズル９の複数個を、当該各噴出ノズル９
から噴出する空気が分離ステージ４の上面に沿って流れ
たのち他方の支持板６に穿設したスリット孔１０より吹
き抜けるように設ける。
【００１６】この構成において、一対の真空吸着式コレ
ット３が、マガジンホルダーＢの箇所において下降動し
たのち上昇することにより、マガジンホルダーＢ内にお
ける各棒状基板Ａ及び各スペーサ基板Ｃのうち最上段に
おける棒状基板Ａ又はスペーサ基板Ｃを吸着して持ち上
げると、この一対の真空吸着式コレット３は、分離ステ
ージ４の箇所に移動する。これにより、この真空吸着式
コレット３に吸着されている棒状基板Ａ又はスペーサ基
板Ｃが厚みセンサーを構成する発光素子７ａと受光素子
７ｂとの間を通過することにより、その厚さが検出され
る。
ット３が、マガジンホルダーＢの箇所において下降動し
たのち上昇することにより、マガジンホルダーＢ内にお
ける各棒状基板Ａ及び各スペーサ基板Ｃのうち最上段に
おける棒状基板Ａ又はスペーサ基板Ｃを吸着して持ち上
げると、この一対の真空吸着式コレット３は、分離ステ
ージ４の箇所に移動する。これにより、この真空吸着式
コレット３に吸着されている棒状基板Ａ又はスペーサ基
板Ｃが厚みセンサーを構成する発光素子７ａと受光素子
７ｂとの間を通過することにより、その厚さが検出され
る。
【００１７】この厚みセンサーによる厚さ検出により、
前記一対の真空吸着式コレット３に一枚の棒状基板Ａの
みを吸着していると判断された場合、前記一対の真空吸
着式コレット３は、棒状基板Ａの吸着を解除することな
く、そのまま移送テーブル１の箇所まで移動しし下降動
したのち吸着を解除することにより、前記一枚の棒状基
板Ａを移送テーブル１に載せる。
前記一対の真空吸着式コレット３に一枚の棒状基板Ａの
みを吸着していると判断された場合、前記一対の真空吸
着式コレット３は、棒状基板Ａの吸着を解除することな
く、そのまま移送テーブル１の箇所まで移動しし下降動
したのち吸着を解除することにより、前記一枚の棒状基
板Ａを移送テーブル１に載せる。
【００１８】これに対して、前記一対の真空吸着式コレ
ット３に吸着されている棒状基板Ａの裏面にスペーサ基
板Ｃが密着していると厚みセンサーによって判断された
場合には、前記一対の真空吸着式コレット３は、分離ス
テージ４の上面に向かって下降動することにより、これ
に吸着されている棒状基板Ａの下面に密着しているスペ
ーサ基板Ｃを、分離ステージ４の上面に対して真空吸着
用ポート８にて吸着する。
ット３に吸着されている棒状基板Ａの裏面にスペーサ基
板Ｃが密着していると厚みセンサーによって判断された
場合には、前記一対の真空吸着式コレット３は、分離ス
テージ４の上面に向かって下降動することにより、これ
に吸着されている棒状基板Ａの下面に密着しているスペ
ーサ基板Ｃを、分離ステージ４の上面に対して真空吸着
用ポート８にて吸着する。
【００１９】次いで、前記一対の真空吸着式コレット３
が、棒状基板Ａを吸着したままで上昇動することによ
り、下側のスペーサ基板Ｃを分離ステージ４の上面に残
して、上側の棒状基板を前記真空吸着式コレット３にて
持ち上げるように分離し、持ち上げた一枚の棒状基板Ａ
を、当該一枚の棒状基板Ａが前記厚みセンサーにて棒状
基板であるか否かが再度判別され、棒状基板であると判
断されたときのみ、移送テーブル１に載せる一方、前記
分離ステージ４の上面に残されたスペーサ基板Ｃは、分
離ステージ４の上面に対する吸着が解除されたのち、噴
出ノズル９から噴出する空気により、スリット孔１０を
通ってサブのスペーサ基板ボックス１１に入るように除
去されるか、或いは、前記一対の真空吸着式コレット３
にてスペーサ基板用ボックス２に排出される。
が、棒状基板Ａを吸着したままで上昇動することによ
り、下側のスペーサ基板Ｃを分離ステージ４の上面に残
して、上側の棒状基板を前記真空吸着式コレット３にて
持ち上げるように分離し、持ち上げた一枚の棒状基板Ａ
を、当該一枚の棒状基板Ａが前記厚みセンサーにて棒状
基板であるか否かが再度判別され、棒状基板であると判
断されたときのみ、移送テーブル１に載せる一方、前記
分離ステージ４の上面に残されたスペーサ基板Ｃは、分
離ステージ４の上面に対する吸着が解除されたのち、噴
出ノズル９から噴出する空気により、スリット孔１０を
通ってサブのスペーサ基板ボックス１１に入るように除
去されるか、或いは、前記一対の真空吸着式コレット３
にてスペーサ基板用ボックス２に排出される。
【００２０】一方、前記厚みセンサーの検出によって、
前記一対の真空吸着式コレット３に一枚のスペーサ基板
Ａのみを吸着していると判断された場合、前記一対の真
空吸着式コレット３は、スペーサ基板Ｃの吸着を解除す
ることなく、そのままスペーサ基板用ボックス２の箇所
まで移動して、このスペーサ基板Ｃをスペーサ基板用ボ
ックス２に排出する。
前記一対の真空吸着式コレット３に一枚のスペーサ基板
Ａのみを吸着していると判断された場合、前記一対の真
空吸着式コレット３は、スペーサ基板Ｃの吸着を解除す
ることなく、そのままスペーサ基板用ボックス２の箇所
まで移動して、このスペーサ基板Ｃをスペーサ基板用ボ
ックス２に排出する。
【００２１】これに対して、前記一対の真空吸着式コレ
ット３に吸着されているスペーサ基板Ｃの裏面に棒状基
板Ａが密着していると厚みセンサーによって判断された
場合には、前記一対の真空吸着式コレット３は、分離ス
テージ４の上面に向かって下降動することにより、これ
に吸着されているスペーサ基板Ｃの下面に密着している
棒状基板Ａを、分離ステージ４の上面に対して真空吸着
用ポート８にて吸着する。
ット３に吸着されているスペーサ基板Ｃの裏面に棒状基
板Ａが密着していると厚みセンサーによって判断された
場合には、前記一対の真空吸着式コレット３は、分離ス
テージ４の上面に向かって下降動することにより、これ
に吸着されているスペーサ基板Ｃの下面に密着している
棒状基板Ａを、分離ステージ４の上面に対して真空吸着
用ポート８にて吸着する。
【００２２】次いで、前記一対の真空吸着式コレット３
が、スペーサ基板Ｃを吸着したままで上昇動することに
より、下側の棒状基板Ａを分離ステージ４の上面に残し
て、上側のスペーサ基板Ｃを前記真空吸着式コレット３
にて持ち上げるように分離し、持ち上げた一枚のスペー
サ基板Ｃを、当該一枚のスペーサ基板Ｃが前記厚みセン
サーにてスペーサ基板であるか否かが再度判別され、ス
ペーサ基板であると判断されたときのみ、スペーサ基板
用ボックス２に排出する一方、前記分離ステージ４の上
面に残された棒状基板Ａは、或いは、前記一対の真空吸
着式コレット３にて持ち上げられ、当該一枚の棒状基板
Ａが前記厚みセンサーにて棒状基板であるか否かが再度
判別され、棒状基板であると判断されたときのみ、移送
テーブル１に載せるのである。
が、スペーサ基板Ｃを吸着したままで上昇動することに
より、下側の棒状基板Ａを分離ステージ４の上面に残し
て、上側のスペーサ基板Ｃを前記真空吸着式コレット３
にて持ち上げるように分離し、持ち上げた一枚のスペー
サ基板Ｃを、当該一枚のスペーサ基板Ｃが前記厚みセン
サーにてスペーサ基板であるか否かが再度判別され、ス
ペーサ基板であると判断されたときのみ、スペーサ基板
用ボックス２に排出する一方、前記分離ステージ４の上
面に残された棒状基板Ａは、或いは、前記一対の真空吸
着式コレット３にて持ち上げられ、当該一枚の棒状基板
Ａが前記厚みセンサーにて棒状基板であるか否かが再度
判別され、棒状基板であると判断されたときのみ、移送
テーブル１に載せるのである。
【００２３】この動作を繰り返すことにより、前記マガ
ジンホルダーＢ内に交互に積み重ねて収納されている各
棒状基板Ａ及び各スペーサ基板Ｃを、一枚ずつに確実に
分離しながら、棒状基板用の移送テーブル１と、スペー
サ基板用ボックス２，１１とに取り出すのである。
ジンホルダーＢ内に交互に積み重ねて収納されている各
棒状基板Ａ及び各スペーサ基板Ｃを、一枚ずつに確実に
分離しながら、棒状基板用の移送テーブル１と、スペー
サ基板用ボックス２，１１とに取り出すのである。
【図１】棒状基板及び半導体レーザチップを示す斜視図
である。
である。
【図２】前記棒状基板とスペーサ基板とをマガジンホル
ダー内に交互に積み重ねて収納した状態を示す斜視図で
ある。
ダー内に交互に積み重ねて収納した状態を示す斜視図で
ある。
【図３】本発明の実施の形態を示す斜視図である。
【図４】図３のIV−IV視拡大断面図である。
【図５】図３のＶ−Ｖ視拡大断面図である。
Ａ 棒状基板 Ｂ マガジンホルダー Ｃ スペーサ基板 １ 棒状基板用移送テーブル ２ スペーサ基板用ボックス ３ 真空吸着式コレット ４ 分離ステージ ５，６ 支持板 ７ａ，７ｂ 厚みセンサー用発光素子及び
受光素子 ８ 真空吸着用ポート ９ 空気の噴出ノズル １１ サブのスペーサ基板用ボック
ス
受光素子 ８ 真空吸着用ポート ９ 空気の噴出ノズル １１ サブのスペーサ基板用ボック
ス
Claims (1)
- 【請求項１】多数枚の基板を積み重ねて収納したマガジ
ンホルダーと、基板の移送テーブルと、その間を横方向
に往復動して前記マガジンホルダー内における基板をそ
の最上端のものから順次持ち上げるようにした真空吸着
式コレットとから成る基板の移送設備において、 前記真空吸着式コレットの前記マガジンホルダーから前
記移送テーブルへの移送経路の途中に分離ステージを設
けて、前記真空吸着式コレットがこの分離ステージの箇
所において下降動したのち上昇動するように構成する一
方、前記分離ステージに、前記真空吸着式コレットに真
空吸着している基板の厚さを検出する厚みセンサーを設
け、更に、前記分離ステージの上面に、この上面に対し
て基板を吸着するための真空吸着用ポートを設けたこと
を特徴とする基板の移送設備における重なり基板の分離
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06547598A JP3766536B2 (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 基板の移送設備における重なり基板の分離装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06547598A JP3766536B2 (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 基板の移送設備における重なり基板の分離装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11263441A true JPH11263441A (ja) | 1999-09-28 |
| JP3766536B2 JP3766536B2 (ja) | 2006-04-12 |
Family
ID=13288178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06547598A Expired - Fee Related JP3766536B2 (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 基板の移送設備における重なり基板の分離装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3766536B2 (ja) |
-
1998
- 1998-03-16 JP JP06547598A patent/JP3766536B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3766536B2 (ja) | 2006-04-12 |
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Legal Events
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