JPH11269593A - Aluminum alloy blank for magnetic disk base and its production - Google Patents

Aluminum alloy blank for magnetic disk base and its production

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JPH11269593A
JPH11269593A JP10072735A JP7273598A JPH11269593A JP H11269593 A JPH11269593 A JP H11269593A JP 10072735 A JP10072735 A JP 10072735A JP 7273598 A JP7273598 A JP 7273598A JP H11269593 A JPH11269593 A JP H11269593A
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JP
Japan
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weight
aluminum alloy
magnetic disk
blank
plating
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JP10072735A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Hayashi
雄一 林
Hideo Fujimoto
日出男 藤本
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Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce an aluminum alloy blank for a magnetic disk base securing plating properties equal to those of the conventional alloy and capable of improving the grindability in substrate working and to provide a method for producing the same. SOLUTION: A blank for a magnetic disk base made of an aluminum alloy is the one in which I (110)/I (100), i.e., the ratio of the X-ray integrated intensity I (110) of the crystal orientation (110) face to the X-ray integrated intensity I (100) of the crystal orientation (100) face exceeds 0.4. This blank has a compsn. contg., by weight, >=3.0% Mg, contg. one or more kinds of elements selected from the group of 0.02 to 0.l% Cr and 0.005 to 0.1% Zr, and the balance Al with inevitable impurities, and in which, among the impurities, the contents of Fe and Si are respectively regulated to <=0.05%. This aluminum alloy is cast and is subjected to each stage of facing, homogenizing treatment, hot rolling and cold rolling by a cold working ratio of 70 to 90%.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク基盤用
アルミニウム合金ブランク及びその製造方法に関し、更
に詳細には、GR研削加工時における優れた研削性を示
す磁気ディスク基盤用アルミニウム合金ブランク及びそ
の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate and a method for manufacturing the same, and more particularly, to an aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate showing excellent grindability during GR grinding and a method for manufacturing the same. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、コンピュータ等の記録媒体とし
て使用される磁気ディスク等の基盤材としては、軽
量、非磁性、高剛性、精密加工、研磨により容易
に良好な表面精度が得られること、安価であること等
の理由により、アルミニウム合金が使用されてきた。特
に、5086合金等の5000系アルミニウム合金は、
上記の特性が良好であるため、塗布型メディア及び薄膜
メディアを通じてHDD用アルミニウム合金基盤材とし
て使用されてきた。
2. Description of the Related Art In general, as a base material of a magnetic disk or the like used as a recording medium of a computer or the like, a light-weight, non-magnetic, high-rigidity, high-precision machining and polishing can easily obtain good surface accuracy, and a low cost. For this reason, aluminum alloys have been used. In particular, 5000 series aluminum alloys such as 5086 alloy,
Because of the good properties described above, it has been used as an aluminum alloy base material for HDDs through coating type media and thin film media.

【0003】通常、このアルミニウム合金ディスクの作
成方法は、以下の手順による。即ち、アルミニウム鋳塊
を造塊し、その後、均熱及び熱間圧延工程を施し、その
後、冷間圧延等により所定の板厚とする。その後、ディ
スク形状に打ち抜きを行い、所謂ブランクとする。その
後、ディスク材を平坦な定盤間に挟みながら、300℃
以上の温度で焼鈍するという所謂フラットベーキングを
行う。このフラットベーキングは、後工程で行われる磁
性層のスパッタリング時に、熱的に安定な状態を作り出
すためにも必要である。その後、サブストレート加工を
行う。このサブストレート加工とは、アルミニウム合金
基盤を#3000番程度の砥石で研磨する工程であり、
以下の目的がある。即ち、一つは所定の寸法に仕上げる
ためであり、二つ目としては後工程で行うメッキ及び研
磨工程のために、ブランク表面部の酸化膜層を除去し、
またメッキ前のアルミニウム表面の粗度を低滅させるた
めである。このサブストレート加工により、アルミニウ
ム合金の表面粗度は30nm程度となる。その後、この
サブストレートに20μm以下の厚さのNi−Pメッキ
を施し、ディスクに強度及び硬度を与え、ディスクが傷
ついてデータエラーが発生することを防止する。更に、
このNi−Pメッキ層には、所謂メッキ欠陥が生じてい
るために、このような欠陥を除去し、またNi−Pメッ
キ膜が平滑となるようにメッキ膜の研磨を行う。この工
程により、磁気ヘッドの低浮上化が可能となり、高密度
記録が得られる。その後、メッキ層上に磁性層をスパッ
タリングにより形成し、磁気ディスクとして使用する。
[0003] Usually, a method for producing this aluminum alloy disk is according to the following procedure. That is, an aluminum ingot is formed, then subjected to a soaking and hot rolling step, and then to a predetermined thickness by cold rolling or the like. Thereafter, punching is performed into a disk shape to obtain a so-called blank. Then, while sandwiching the disc material between flat surface plates,
The so-called flat baking of annealing at the above temperature is performed. This flat baking is also necessary to create a thermally stable state during the sputtering of the magnetic layer performed in a later step. After that, substrate processing is performed. This substrate processing is a step of polishing an aluminum alloy substrate with a grindstone of about # 3000,
The purpose is as follows. That is, one is to finish to a predetermined size, and the second is to remove the oxide film layer on the surface of the blank for plating and polishing steps performed in a later step,
It is also for reducing the roughness of the aluminum surface before plating. By this substrate processing, the surface roughness of the aluminum alloy becomes about 30 nm. Thereafter, the substrate is plated with Ni-P having a thickness of 20 μm or less to give the disk strength and hardness, thereby preventing the disk from being damaged and causing a data error. Furthermore,
Since this Ni-P plating layer has a so-called plating defect, such a defect is removed and the plating film is polished so that the Ni-P plating film becomes smooth. This step makes it possible to lower the flying height of the magnetic head and obtain high-density recording. Thereafter, a magnetic layer is formed on the plating layer by sputtering and used as a magnetic disk.

【0004】近年では、コンピュータの低価格化と共に
アルミニウム合金基盤にも低コストが求められており、
サブストレート加工においてもコストダウンが求められ
るようになっている。このサブストレートの加工コスト
低減技術として、例えば、サブストレートの加工性改善
のために、研削速度の低下原因となる砥石目詰まりを抑
制することを目的として、表面層の酸化膜を除去するも
のが提案されている(特開平5−248863号公
報)。
[0004] In recent years, as the cost of computers has been reduced, the cost of aluminum alloy substrates has also been reduced.
Cost reduction is also required in substrate processing. As a technique for reducing the processing cost of the substrate, for example, a technique of removing an oxide film of a surface layer for the purpose of suppressing clogging of a grinding wheel which causes a reduction in a grinding speed in order to improve workability of the substrate is known. It has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 5-248866).

【0005】しかしながら、上記加工方法は表面層の酸
化膜の除去により、サブストレートの加工性を改善する
ものであり、アルミニウム合金基盤自体の研削性を改善
するものではなかった。
However, the above-mentioned processing method improves the workability of the substrate by removing the oxide film of the surface layer, but does not improve the grindability of the aluminum alloy substrate itself.

【0006】また、アルミニウム合金基盤自体の加工性
を向上させる方法としては、アルミニウム合金のFe含
有量を増加することが考えられる。
As a method of improving the workability of the aluminum alloy substrate itself, it is conceivable to increase the Fe content of the aluminum alloy.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アルミ
ニウム合金基盤自体の加工性を向上させるために、アル
ミニウム合金のFe含有量を増加させると、メッキ時に
ノジュールといわれる凸状欠陥が増加することになり、
メッキ後の研磨量が増加し、研磨コストが増加してしま
うという欠点がある。
However, if the Fe content of the aluminum alloy is increased in order to improve the workability of the aluminum alloy substrate itself, convex defects called nodules at the time of plating increase.
There is a disadvantage that the polishing amount after plating increases, and the polishing cost increases.

【0008】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、従来合金と同等のメッキ性を確保すると共
に、サブストレート加工の研削性を向上させることがで
きる磁気ディスク基盤用アルミニウム合金ブランク及び
その製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and provides an aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate capable of securing the same plating property as that of a conventional alloy and improving the grinding property of substrate processing. And a method for producing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ディス
ク基盤用アルミニウム合金ブランクは、アルミニウム合
金製の磁気ディスク基盤用ブランクにおいて、結晶方位
(110)面のX線積分強度I(110)と結晶方位
(100)面のX線積分強度I(100)との比I(1
10)/I(100)が0.4を超えるものであること
を特徴とする。
An aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate according to the present invention is a magnetic disk substrate blank made of an aluminum alloy, which has an X-ray integrated intensity I (110) of the crystal orientation (110) plane and a crystal orientation. The ratio I (1) to the X-ray integral intensity I (100) of the azimuth (100) plane
10) / I (100) is more than 0.4.

【0010】本発明に係る磁気ディスク基盤用アルミニ
ウム合金ブランクの製造方法は、Mg:3.0重量%以
上を含有し、Cr:0.02乃至0.1重量%及びZ
r:0.005乃至0.1重量%からなる群から選択さ
れた元素を1種以上含有し、残部がAl及び不純物から
なり、前記不純物のうち、Fe及びSiを夫々Fe:
0.05重量%以下、Si:0.05重量%以下に規制
したアルミニウム合金を鋳造し、面削、均質化処理、熱
間圧延、70乃至90%の冷間加工率による冷間圧延の
各工程を実施し、結晶方位(110)面のX線積分強度
I(110)と(結晶方位(100)面のX線積分強度
I(100)との比I(110)/I(100)が0.
4を超えるアルミニウム合金ブランクを製造することを
特徴とする。
The method of manufacturing an aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate according to the present invention comprises Mg: 3.0% by weight or more, Cr: 0.02 to 0.1% by weight, and Z:
r: contains at least one element selected from the group consisting of 0.005 to 0.1% by weight, with the balance being Al and impurities, of which Fe and Si are Fe:
Casting an aluminum alloy regulated to 0.05% by weight or less and Si: 0.05% by weight or less, each of face milling, homogenizing treatment, hot rolling, and cold rolling at a cold working rate of 70 to 90%. The process is carried out, and the ratio I (110) / I (100) of the integrated X-ray intensity I (110) of the (110) plane and the integrated X-ray intensity I (100) of the (100) plane is obtained. 0.
It is characterized by producing more than 4 aluminum alloy blanks.

【0011】この磁気ディスク基盤用アルミニウム合金
ブランクの製造方法において、更に、必須元素として、
Mn:0.05乃至0.5重量%を含有することができ
る。また、更に、選択元素として、Cu:0.02乃至
0.1重量%及びZn:0.02乃至0.5重量%から
なる群から選択された元素を1種以上含有することがで
きる。更にまた、前記冷間圧延工程の前に、焼鈍温度が
260乃至400℃の焼鈍工程を設けることができる。
In the method for manufacturing an aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate, the method further comprises:
Mn: 0.05 to 0.5% by weight can be contained. Further, as the selected element, one or more elements selected from the group consisting of 0.02 to 0.1% by weight of Cu and 0.02 to 0.5% by weight of Zn can be contained. Furthermore, an annealing step at an annealing temperature of 260 to 400 ° C. can be provided before the cold rolling step.

【0012】本発明においては、アルミニウム合金自体
の化学成分は従来の磁気ディスク基盤用アルミニウム合
金と同等としてメッキ層の劣化を回避しつつ、サブスト
レート加工性を向上させることを目的としてなされたも
のである。
In the present invention, the chemical composition of the aluminum alloy itself is the same as that of the conventional aluminum alloy for magnetic disk substrates, with the object of avoiding the deterioration of the plating layer and improving the substrate workability. is there.

【0013】本発明は、前記課題を解決するために、本
発明者が種々検討した結果、メッキ性を損なわずに、サ
ブストレート加工性を得るためには、最終焼鈍時に生じ
る再結晶粒の面方位をコントロールすることが極めて有
効であるという新規の知見を得、本発明を完成したもの
である。
According to the present invention, the present inventors have conducted various studies to solve the above-mentioned problems. As a result, in order to obtain the substrate workability without impairing the plating property, the surface of the recrystallized grains generated during the final annealing is required. The present inventors have obtained a new finding that it is extremely effective to control the azimuth, and have completed the present invention.

【0014】先ず、本発明者等は、再結晶粒の面方位に
よる加工性を調査し、R一方位といわれる再結晶粒の
(110)面が研削加工性に優れていることを究明し
た。そこで、面方位のコントロールにより、R−方位:
(110)を多く残すことが有効であるとの知見を得
た。
First, the present inventors investigated the workability of the recrystallized grains according to the plane orientation, and found that the (110) plane of the recrystallized grains, which is said to be one-sided, has excellent grinding workability. Then, by controlling the plane direction, the R-direction:
It has been found that it is effective to leave many (110).

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て、詳細に説明する。先ず、面方位について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail. First, the plane orientation will be described.

【0016】(1)面方位に対する結晶粒径の影響 再結晶粒が小さいと、最終焼鈍時に、個々の再結晶自
体に費やされる熱エネルギーは分散され、成長サイズが
小さく、また多くなる。このため、R−方位である(1
10)面方位を持つ再結晶粒が多くなる。 再結晶粒は、冷間加工時に導入される加工歪みを核と
するために、冷間加工率が高ければ高いほど、再結晶粒
は小さくなる。 一方で、冷間加工率のみによる加工歪みの蓄積には限
界があり、遷移元素であるMn又はCrの添加により、
結晶粒内へのアルミニウム化合物としての析出が生じ、
加工歪みの蓄積に有効である。
(1) Influence of the crystal grain size on the plane orientation If the recrystallized grains are small, the thermal energy consumed for each recrystallization itself during final annealing is dispersed, and the growth size is small and large. Therefore, the R-direction (1)
10) Recrystallized grains having a plane orientation increase. Since the recrystallized grains have the work strain introduced at the time of cold working as a nucleus, the higher the cold work rate, the smaller the recrystallized grains. On the other hand, there is a limit to the accumulation of working strain due to only the cold working rate, and by adding Mn or Cr as a transition element,
Precipitation as an aluminum compound in crystal grains occurs,
This is effective for accumulating processing strain.

【0017】(2)面方位に対する中間焼鈍の影響 熱間圧延コイルに中間焼鈍を施すと再結晶化が起こ
り、立方体方位(100)面とR−方位:(110)面
が成長する。 加工性が悪い立方体方位は、後の工程で行われる冷間
加工により、方位分散されるが、R−方位は残存する。 冷間加工により立方体方位から方位分散した種々の方
位からも最終焼鈍によりR−方位が成長するために、中
間焼鈍で生じたR−方位の分だけ、R−方位の占有率が
高くなる。
(2) Influence of Intermediate Annealing on Plane Orientation When intermediate annealing is applied to a hot-rolled coil, recrystallization occurs, and a cubic (100) plane and an R-orientation: (110) plane grow. The cubic orientation with poor workability is dispersed by cold working performed in a later step, but the R-direction remains. Since the R-direction grows by final annealing even from various directions dispersed from the cubic direction by cold working, the occupancy of the R-direction increases by the amount of the R-direction generated by the intermediate annealing.

【0018】以上の知見によると、結晶粒をコントロー
ルする必要性は無く、従来から使用されているアルミニ
ウム合金を使用して、優れた研削加工性を有するアルミ
ニウム合金基盤ブランクの製造が可能となることがわか
る。
According to the above findings, there is no need to control the crystal grains, and it is possible to manufacture an aluminum alloy base blank having excellent grinding workability by using a conventionally used aluminum alloy. I understand.

【0019】次に、本発明における再結晶粒の面方位比
率の限定理由について説明する。サブストレート加工に
おいて、再結晶粒の(110)面が研削加工性に優れて
いる。再結晶粒の(110)面方位は、X線積分強度比
I(110)/I(100)が0.40未満では、再結
晶粒の(110)面が不足し、十分な研削加工性が得ら
れない。このため、X線積分強度比I(110)/I
(100)を0.40以上とする。
Next, the reason for limiting the plane orientation ratio of recrystallized grains in the present invention will be described. In substrate processing, the (110) plane of recrystallized grains is excellent in grinding workability. When the X-ray integrated intensity ratio I (110) / I (100) is less than 0.40, the (110) plane of the recrystallized grains has insufficient (110) planes and sufficient grinding workability. I can't get it. Therefore, the X-ray integrated intensity ratio I (110) / I
(100) is set to 0.40 or more.

【0020】次に、アルミニウム(Al)合金の化学成
分の限定理由について説明する。
Next, the reasons for limiting the chemical components of the aluminum (Al) alloy will be described.

【0021】Mg:3.0重量%以上 MgはAl合金磁気ディスク基盤用ブランクの強度向上
に有効な元素であり、通常ディスク材としては4重量%
程度添加されている。Mgの含有量が3.0重量%未満
ではディスク材として十分な強度が得られないため、M
g含有量は3.0重量%以上とする。一方、Mg量が6
重量%を超えると圧延割れが発生し、圧延加工が困難に
なることから、その含有量を6重量%以下とすることが
好ましい。
Mg: 3.0% by weight or more Mg is an element effective for improving the strength of an Al alloy magnetic disk substrate blank, and is usually 4% by weight as a disk material.
To some extent. If the Mg content is less than 3.0% by weight, sufficient strength as a disk material cannot be obtained.
The g content is 3.0% by weight or more. On the other hand, when the amount of Mg is 6
If the content exceeds 5% by weight, rolling cracks occur and the rolling process becomes difficult. Therefore, the content is preferably set to 6% by weight or less.

【0022】Cr:0.02乃至0.1重量% Crは再結晶粒の微細化に寄与する元素である。この効
果を得るためには、Crを0.02重量%以上添加する
ことが必要である。しかし、Crを0.1重量%を超え
て添加すると、晶出物の粗大化が進行しやすいので、C
r量は0.02乃至0.1重量%の範囲とする。
Cr: 0.02 to 0.1% by weight Cr is an element that contributes to refining of recrystallized grains. In order to obtain this effect, it is necessary to add Cr in an amount of 0.02% by weight or more. However, if Cr is added in excess of 0.1% by weight, coarsening of the crystallized material tends to proceed.
The amount of r is in the range of 0.02 to 0.1% by weight.

【0023】Zr:0.005乃至0.1重量% Zrも再結晶粒の微細化に寄与する元素である。この効
果を得るためには、Zrを0.005重量%以上添加す
ることが必要である。しかし、Zr量が0.1重量%を
超えると、晶出物の粗大化が進行しやすいので、Zr量
は0.005乃至0.1重量%の範囲とする。
Zr: 0.005 to 0.1% by weight Zr is also an element that contributes to refining of recrystallized grains. In order to achieve this effect, it is necessary to add 0.005% by weight or more of Zr. However, if the amount of Zr exceeds 0.1% by weight, coarsening of the crystallized material tends to proceed, so the amount of Zr is set in the range of 0.005 to 0.1% by weight.

【0024】Mn:0.05乃至0.5重量% Mnは再結晶粒の微細化に寄与する元素であると共に、
メッキ欠陥の寸法を減少させる効果がある。これは、M
nが粗大なAl−Fe系晶出物の一部を置換してAl
(Mn・Fe)をつくり、結果として粗大なAl−Fe
系晶出物が減少することに起因している。しかし、Mn
が0.05重量%未満では十分な微細化効果が得られ
ず、また0.5重量%を超えてMnを添加すると、粒界
に偏析を起こして、メッキ欠陥が急激に増加する。この
ため、Mn含有量は0.05乃至0.5重量%とする。
Mn: 0.05 to 0.5% by weight Mn is an element that contributes to refining of recrystallized grains.
This has the effect of reducing the size of plating defects. This is M
n replaces a part of the coarse Al-Fe crystallized product to form Al
(Mn · Fe), resulting in coarse Al-Fe
This is due to a decrease in system crystallization. However, Mn
If less than 0.05% by weight, a sufficient refining effect cannot be obtained, and if more than 0.5% by weight, Mn is segregated at the grain boundaries and plating defects increase rapidly. Therefore, the Mn content is 0.05 to 0.5% by weight.

【0025】Cu:0.02乃至0.1重量% CuはAl合金中に均一に固溶し、ジンケート処理時の
Znの基盤表面への析出を均一且つ微細にする効果を有
している。これによって、メッキ面のノジュールの発生
を抑制することができる。しかし、Cu添加量が0.0
2重量%未満では上記の効果が得られず、また0.1重
量%を超えて添加すると、ノジュールの発生が多大とな
ったり、結晶粒界のエッチングが過剰となり、メッキ面
の平滑性を損ねるので好ましくない。従って、Cu量は
0.02乃至0.1重量%とする。
Cu: 0.02 to 0.1% by weight Cu has a uniform solid solution in the Al alloy, and has an effect of uniformly and finely depositing Zn on the substrate surface during zincate treatment. Thereby, generation of nodules on the plating surface can be suppressed. However, when the amount of Cu added is 0.0
If the amount is less than 2% by weight, the above-mentioned effects cannot be obtained. If the amount exceeds 0.1% by weight, nodules are greatly generated or crystal grain boundaries are excessively etched, thereby impairing the smoothness of the plated surface. It is not preferable. Therefore, the amount of Cu is set to 0.02 to 0.1% by weight.

【0026】Zn:0.02乃至0.5重量% ZnもAl合金中に均一に固溶し、ジンケート処理時の
Znの基盤表面への析出を微細とし、ノジュールの発生
を抑制する効果を有している。しかし、Zn添加量が
0.02重量%未満では上記の効果が得られず、また
0.5重量%を超えて添加すると、ノジュールの発生が
多大となったり、結晶粒界のエッチングが過剰となり、
メッキ面の平滑性を損ねるので好ましくない、従って、
Zn量は0.02重量%乃至0.5重量%とする。
Zn: 0.02 to 0.5% by weight Zn also forms a solid solution in the Al alloy uniformly, has an effect of minimizing precipitation of Zn on the substrate surface during zincate treatment, and suppressing generation of nodules. doing. However, if the amount of Zn is less than 0.02% by weight, the above effect cannot be obtained, and if the amount exceeds 0.5% by weight, nodules are generated significantly or the grain boundary is excessively etched. ,
It is not preferable because it impairs the smoothness of the plated surface.
The Zn content is between 0.02% by weight and 0.5% by weight.

【0027】Fe:0.05重量%以下 Feは通常地金不純物として混入し、鋳造工程などにお
いてAl−Fe系の金属間化合物を生じやすい。この金
属間化合物はディスク用基盤としての加工、所謂サブス
トレート加工時の切削及び研磨・研削等の加工工程にお
いて脱落し、窪みとなったり、また、メッキ前処理工程
において脱落し、メッキ面のピット又はノジュールの原
因となる。そこで、Feの含有量は0.05重量%以下
とする。Feは不可避的不純物として混入する元素であ
るが、Fe含有量が0.005重量%以下とするために
は、純度99.99重量%等の極めて高価な地金を必要
とするため、製造コストが上昇すると共に、打ち抜き性
及びサブストレート加工性が低下し、更にメッキを施す
場合の晶出物微細化の効果も飽和しており、メッキの密
着性にも問題が生じる。そこで、Fe元素は不純物とし
て0.05重量%以下に規制する必要があるが、その規
制値は0.005重量%以上であることが好ましい。
Fe: 0.05% by weight or less Fe is usually mixed as ingot impurities, and Al-Fe-based intermetallic compounds are easily generated in a casting process or the like. This intermetallic compound falls off during processing as a disk base, so-called substrate processing, such as cutting and polishing / grinding, and becomes a depression, or drops off in a plating pretreatment step, resulting in pits on the plating surface. Or cause nodules. Therefore, the content of Fe is set to 0.05% by weight or less. Fe is an element mixed as an unavoidable impurity. However, in order to reduce the Fe content to 0.005% by weight or less, extremely expensive metal having a purity of 99.99% by weight or the like is required. With the increase, the punchability and the substrate processability are reduced, and the effect of miniaturization of the crystallized substance when plating is saturated is also saturated, which causes a problem in the adhesion of the plating. Therefore, the Fe element must be restricted to 0.05% by weight or less as an impurity, and the regulated value is preferably 0.005% by weight or more.

【0028】Si:0.05重量%以下 Siも通常地金不純物として混入するものであり、鋳造
工程等においてMg−Si系晶出物を生じる。このMg
−Si系晶出物はメッキ前処理工程において脱落し、ピ
ットの原因となるため、Siの含有量は0.05重量%
以下とする。一方、Si量を0.005重量%以下にし
ようとすると、純度99.99重量%等の極めて高価な
地金を必要とするため、製造コストが上昇すると共に、
打ち抜き性及びサブストレート加工性が低下し、更にメ
ッキを施す場合に晶出微細化の効果も飽和しており、メ
ッキの密着性にも問題が生じる。そこで、Si元素は不
純物として0.05重量%以下に規制するものである
が、その規制値は0.005重量%以上であることが好
ましい。
Si: 0.05% by weight or less Si is usually mixed as a metal impurity, and Mg-Si-based crystallization occurs in a casting process or the like. This Mg
-Si-based crystals fall off during the pre-plating process and cause pits, so the Si content is 0.05% by weight.
The following is assumed. On the other hand, if the amount of Si is reduced to 0.005% by weight or less, an extremely expensive metal having a purity of 99.99% by weight or the like is required.
Punching properties and substrate workability are reduced, and the effect of miniaturization of crystallization is also saturated when plating is performed, which causes a problem in the adhesion of plating. Therefore, the Si element is restricted to 0.05% by weight or less as an impurity, and the regulated value is preferably 0.005% by weight or more.

【0029】次に、本発明の製造条件について説明す
る。
Next, the manufacturing conditions of the present invention will be described.

【0030】まず、常法によりスラブを造塊し、均熱処
理を行う。引き続き、熱間圧延を行い、ホットコイルを
製造した後、中間焼鈍を施し、冷間圧延を行う。
First, a slab is formed by a conventional method and subjected to a soaking heat treatment. Subsequently, after hot rolling is performed to produce a hot coil, intermediate annealing is performed and cold rolling is performed.

【0031】中間焼鈍は、熱間加工組織を再結晶化させ
て、R−方位の成長を促進し、成長させた分だけ、最終
焼鈍のR−方位を多くするために行う。このため、中間
焼鈍により再結晶化を引き起こす必要がある。従って、
中間焼鈍温度が260℃未満では、再結晶化のために必
要な熱エネルギーが十分に得られず、工業的には不適当
な焼鈍(概ね50時間以上)を施さなければ十分な再結
晶が起こらない。しかし、中間焼鈍温度が400℃を超
えると、中間焼鈍時の再結晶組織の粗大化が起こり、フ
ラットベーキング後に十分な強度が得られない。このた
め、中間焼鈍温度は260乃至400℃とする。なお、
中間焼鈍時間については、特に制約を受けないが、前述
の効果を十分に得るためには、30分以上であることが
望ましい。また、焼鈍時間が10時間を超えると、初期
目的が達成されているので製造コストが上昇するため、
10時間以下が望ましい。
The intermediate annealing is performed in order to recrystallize the hot-worked structure, promote the growth of the R-direction, and increase the R-direction of the final annealing by an amount corresponding to the growth. For this reason, it is necessary to cause recrystallization by intermediate annealing. Therefore,
If the intermediate annealing temperature is lower than 260 ° C., sufficient heat energy for recrystallization cannot be obtained, and sufficient recrystallization occurs unless industrially inappropriate annealing (approximately 50 hours or more) is performed. Absent. However, if the intermediate annealing temperature exceeds 400 ° C., the recrystallized structure at the time of intermediate annealing becomes coarse, and sufficient strength cannot be obtained after flat baking. For this reason, the intermediate annealing temperature is set to 260 to 400 ° C. In addition,
The intermediate annealing time is not particularly limited, but is preferably 30 minutes or more in order to sufficiently obtain the above-described effects. Further, if the annealing time exceeds 10 hours, the initial purpose is achieved, so that the manufacturing cost increases,
10 hours or less is desirable.

【0032】次に、中間焼鈍後の冷間加工の加工率につ
いては、同様に、再結晶核を十分に得るために、以下の
ように規制する。中間焼鈍の加工率が70%未満である
と、加工歪みが不足して、再結晶核が十分得られないた
め、70%以上であることが必要である。しかし、冷間
加工率が90%を超えると、仕上げ板厚に対するホット
コイルの板厚が厚くなり過ぎ、仕上圧延により製品板厚
を得にくくなるため、工業的に不適当となる。このため
に、中間焼鈍後の加工率は70乃至90%とする必要が
ある。
Next, the working ratio of the cold working after the intermediate annealing is similarly regulated as follows in order to sufficiently obtain recrystallization nuclei. If the working rate of the intermediate annealing is less than 70%, the working strain is insufficient, and sufficient recrystallization nuclei cannot be obtained. Therefore, the working rate is required to be 70% or more. However, when the cold working ratio exceeds 90%, the thickness of the hot coil becomes too large relative to the finished plate thickness, and it becomes difficult to obtain a product plate thickness by finish rolling, which is industrially unsuitable. For this reason, the working ratio after the intermediate annealing needs to be 70 to 90%.

【0033】なお、本発明において、フラットベーキン
グ条件は特に規定しないが、同工程は磁気ディスクのフ
ラットネス(平坦度)改善のために行う処理であり、前
述の如く、平坦な定盤間にディスクを数枚乃至数十枚は
さみ、加圧しながら300乃至400℃の温度で30分
以上の熱処理を行うものである。
In the present invention, the flat baking conditions are not particularly defined. However, this step is a process performed to improve the flatness (flatness) of the magnetic disk. And heat treatment at a temperature of 300 to 400 ° C. for 30 minutes or more while pressing.

【0034】なお、冷間加工工程の後工程については、
定法に従えばよく、以下に一例を示す。通常の圧延板は
粗度が例えばR =0.1乃至0.5μmとディスク基
盤としては大きく、また歪みも更に低下させる必要があ
るので、切削又は研磨によりディスク表面を削除し、所
謂サブストレートとする。このサブストレートに下地メ
ッキを行う。
The post-process of the cold working process is as follows.
It is sufficient to follow a conventional method, and an example is shown below. A normal rolled plate has a roughness of, for example, R = 0.1 to 0.5 μm, which is large as a disc base, and it is necessary to further reduce the distortion. Therefore, the disc surface is removed by cutting or polishing, and the so-called substrate is formed. I do. Base plating is performed on this substrate.

【0035】メッキ工程は通常、脱脂、エッチング、Z
n置換等、前処理工程及び実際のメッキ膜形成工程から
なる。メッキ膜には通常Ni−P等の非磁性のものを使
用する。このメッキ工程は、ディスク表面に硬さを付与
し、HDDとして使用した場合にヘッドクラッシュ等に
よる損傷を防止するために行う。そこで、強度向上のた
めには、最低5μm以上のメッキ厚とするのが望まし
く、またあまり厚くすると、メッキ液が多量に必要であ
り、製造コストが上昇するため、20μmを超えるもの
とするのは好ましくない。このメッキ工程により、所謂
下地メッキ基盤を作製できる。
The plating process is usually performed by degreasing, etching, and Z
It consists of a pretreatment step such as n-substitution and an actual plating film forming step. A non-magnetic material such as Ni-P is usually used for the plating film. This plating step is performed to impart hardness to the disk surface and to prevent damage due to head crash or the like when used as an HDD. Therefore, in order to improve the strength, it is desirable that the plating thickness is at least 5 μm or more. If the thickness is too large, a large amount of plating solution is required, and the production cost increases. Not preferred. By this plating step, a so-called base plating base can be manufactured.

【0036】この下地メッキ基盤は次に研磨工程に供せ
られ、メッキ欠陥を除去し、表面の平滑性を高める。更
に、所謂テクスチャ処理を必要に応じて行い、スパッタ
等により磁性膜を形成した後、磁気ディスクが完成す
る。
The underplated substrate is then subjected to a polishing step to remove plating defects and enhance surface smoothness. Further, so-called texture processing is performed as necessary, and a magnetic film is formed by sputtering or the like, and then the magnetic disk is completed.

【0037】[0037]

【実施例】次に、本発明の実施例に係る磁気ディスク基
盤用ブランクを製造し、その特性を評価した結果につい
て、本発明の範囲から外れる比較例と比較して説明す
る。
Next, a description will be given of a result of manufacturing a magnetic disk substrate blank according to an embodiment of the present invention and evaluating the characteristics thereof, in comparison with a comparative example which is out of the scope of the present invention.

【0038】第1実施例 下記表1に示す化学成分を有するアルミニウム合金を造
塊し、510℃で均熱処理を行った後、熱間圧延を5m
m厚まで行い、更に冷間圧延を行い板厚0.83mm
(冷間加工率83%)を得た。350℃に3時間加熱す
る熱処理を行い、ビッカース硬度計により硬さを測定
し、JIS5号試験片を用いて引っ張り強度を測定し
た。評価は、硬度60MHv以上、耐力100N/mm
2以上を◎(優)、硬度57MHv以上、耐力90N/
mm2以上を○(良)、それ以下のものを×(劣)とし
た。また、得られた冷間圧延板を外径95mm、内径2
5mmに打ち抜き加工を行い、次いで350℃×3hで
歪み取り焼鈍を行い、所謂ブランクディスクを作製し、
X線による積分強度を理学電気(株)社製RAD−Cに
より測定した。測定条件は、管電圧40KV、管電流5
0mAとし、ターゲットにはCuターゲット、2θ角=
30乃至140°とした。サブストレート加工は下記表
2に示す条件で行った。研削加工速度の評価は、15μ
m/分以上を◎(優)、10μm/分以上を○(良)、
それ以下を×(劣)とした。
First Example An aluminum alloy having the chemical components shown in Table 1 below was ingoted, subjected to a soaking treatment at 510 ° C., and then hot-rolled for 5 m.
m thickness, then cold-rolled to a thickness of 0.83mm
(A cold working rate of 83%). Heat treatment was performed at 350 ° C. for 3 hours, hardness was measured with a Vickers hardness tester, and tensile strength was measured using a JIS No. 5 test piece. Evaluation is hardness 60 MHv or more, yield strength 100 N / mm
2 or more ◎ (excellent), hardness 57 MHv or more, proof stress 90 N /
mm 2 or more was rated as (good), and less than 2 mm was rated as x (poor). Further, the obtained cold-rolled sheet was 95 mm in outer diameter and 2 mm in inner diameter.
Punching to 5 mm, then performing strain relief annealing at 350 ° C. × 3 h to produce a so-called blank disk,
The integrated intensity by X-ray was measured by RAD-C manufactured by Rigaku Corporation. The measurement conditions were: tube voltage 40 KV, tube current 5
0 mA, and the target was a Cu target, 2θ angle =
30 to 140 °. The substrate processing was performed under the conditions shown in Table 2 below. Evaluation of grinding speed is 15μ
◎ (excellent) for m / min or more, ○ (good) for 10 μm / min or more,
Below that, it was evaluated as x (poor).

【0039】更に、市販のメッキ液を使用してNi−P
を施し、メッキ欠陥の評価を行った、評価方法は200
倍の光学顕微鏡視野下でカウントを行い、ディスク1枚
につき60視野、ディスク10枚の測定を行った後、1
mm2当たりへ換算した。評価は、10μm以上のノジ
ュールが1個/mm2未満、且つピットがないものを◎
(優)、10μm以上のノジュールが1個/mm2以上
5個/mm2未満、且つピットがないものを○(良)、
ノジュールが5個/mm2以上若しくはピットが存在す
るものを×(劣)とした。
Further, using a commercially available plating solution, Ni-P
Was performed and plating defects were evaluated. The evaluation method was 200
Counting was performed under an optical microscope field of 1.times., And after measuring 60 fields of view per disc and 10 discs, 1
It was converted to per mm 2. The evaluation was performed when nodules having a size of 10 μm or more were less than 1 / mm 2 and there were no pits.
(Excellent) Nodules of 10 μm or more are 1 piece / mm 2 or more
Less than 5 / mm 2 and no pits
A sample having nodules of 5 / mm 2 or more or having pits was evaluated as x (poor).

【0040】これらの評価結果を下記表3に示す、本発
明の実施例のアルミニウム合金はいずれも優れた研削加
工性と十分な強度、メッキ性を兼ね備えていた。
The results of these evaluations are shown in Table 3 below. All of the aluminum alloys of the examples of the present invention had excellent grinding workability and sufficient strength and plating properties.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】[0042]

【表2】 [Table 2]

【0043】[0043]

【表3】 [Table 3]

【0044】第2実施例 次に、研削性に及ぼす冷間加工率の影響を調査した結果
について説明する。下記表4に示す化学成分を有するア
ルミニウム合金を第1実施例と同様に造塊し、510℃
で均熱処理を行った後、熱間圧延を後工程の冷間加工工
程で所定の冷間加工率が得られる板厚まで行った。この
熱間加工における板厚を下記表5に示す。更に、冷間圧
延を行い、板厚を0.83mmとした。次いで、350
℃に3時間加熱する熱処理を行い、ビッカース硬度計に
より硬さを測定し、JIS5号試験片を用いて引っ張り
強度を測定した。評価は、硬度60MHv以上、耐力1
00N/mm2以上を◎(優)、硬度57MHv以上、
耐力90N/mm2以上を○(良)、それ以下のものを
×(劣)とした。また、得られた冷間圧延板を外径95
mm、内径25mmに打ち抜き加工し、次いで350℃
に3時間加熱して歪み取り焼鈍を行い、所謂ブランクデ
ィスクを作製し、第1実施例と同様に、X線による積分
強度測定、前述の表2に示す条件でサブストレート加工
を行った。研削加工速度の評価は、15μm/分以上を
◎(優)、10μm/分以上を○(良)、それ以下を×
(劣)とした。
Second Example Next, the result of investigation on the effect of the cold working rate on the grindability will be described. An aluminum alloy having the chemical components shown in Table 4 below was agglomerated in the same manner as in the first example, and was 510 ° C.
, And hot rolling was performed to a sheet thickness at which a predetermined cold working ratio was obtained in a subsequent cold working step. Table 5 below shows the plate thickness in this hot working. Furthermore, cold rolling was performed to reduce the sheet thickness to 0.83 mm. Then 350
A heat treatment of heating to 3 ° C. for 3 hours was performed, the hardness was measured with a Vickers hardness tester, and the tensile strength was measured using a JIS No. 5 test piece. Evaluation: hardness 60 MHv or more, proof stress 1
00N / mm 2 or more ◎ (excellent), hardness 57MHv more,
A proof stress of 90 N / mm 2 or more was rated as ○ (good), and less than 90 N / mm 2 was rated as x (poor). Further, the obtained cold-rolled sheet was made to have an outer diameter of 95.
mm, inner diameter 25mm, then 350 ° C
For 3 hours to perform strain relief annealing to produce a so-called blank disk, and to perform integrated intensity measurement using X-rays and substrate processing under the conditions shown in Table 2 above, as in the first embodiment. The evaluation of the grinding speed was evaluated as ◎ (excellent) for 15 μm / min or more, ○ (good) for 10 μm / min or more, and × for less than 10 μm / min.
(Poor).

【0045】これらの評価結果を下記表6に示す。本発
明の実施例のアルミニウム合金はいずれも優れた研削加
工性と十分な強度を兼ね備えたアルミニウム合金である
ことがわかる。
The results of these evaluations are shown in Table 6 below. It can be seen that the aluminum alloys of the examples of the present invention are all aluminum alloys having both excellent grinding workability and sufficient strength.

【0046】[0046]

【表4】 [Table 4]

【0047】[0047]

【表5】 [Table 5]

【0048】[0048]

【表6】 [Table 6]

【0049】第3実施例 本実施例は研削性に及ぼす中間焼鈍条件の影響を調査し
たものである。第2実施例と同様に、表4に示す化学成
分を有するアルミニウム合金を用い、第1実施例と同様
に造塊し、510℃で均熱処理を行った後、熱間圧延を
5mm厚まで行った後に、下記表7に示す条件で中間焼
鈍を行い、冷間圧延で板厚を0.83mm(冷間加工率
83%)に仕上げた。更に、350℃に3時間加熱する
熱処理を行い、ビッカース硬度計により硬さを測定し、
JIS5号試験片を用いて引っ張り強度を測定した。評
価は、硬度60MHv以上、耐力100N/mm2以上
を◎(優)、硬度57MHv以上、耐力90N/mm2
以上を○(良)、それ以下のものを×(劣)とした。ま
た、得られた冷間圧延板を外径95mm、内径25mm
に打ち抜き加工を行い、次いで350℃に3時間加熱す
る歪み取り焼鈍を行い、所謂ブランクディスクを作製
し、第1実施例と同様に、X線による積分強度を測定
し、表2に示す条件でサブストレート加工を行った。
Third Embodiment In this embodiment, the effect of the intermediate annealing conditions on the grindability was investigated. Similarly to the second embodiment, an aluminum alloy having the chemical components shown in Table 4 was used to form an ingot in the same manner as in the first embodiment. After that, intermediate annealing was performed under the conditions shown in Table 7 below, and the sheet thickness was finished by cold rolling to 0.83 mm (83% cold work rate). Further, a heat treatment of heating at 350 ° C. for 3 hours is performed, and the hardness is measured with a Vickers hardness meter.
The tensile strength was measured using a JIS No. 5 test piece. The evaluation was ◎ (excellent) when the hardness was 60 MHv or more and the proof stress was 100 N / mm 2 or more, and the hardness was 57 MHv or more and the proof stress was 90 N / mm 2.
The above was rated as ((good), and the one below it as × (poor). Further, the obtained cold-rolled sheet was made to have an outer diameter of 95 mm and an inner diameter of 25 mm.
Then, a so-called blank disk was prepared by performing strain relief annealing by heating to 350 ° C. for 3 hours, and the integrated intensity by X-ray was measured in the same manner as in the first embodiment. Substrate processing was performed.

【0050】研削加工速度の評価は、15μm/分以上
を◎(優)、10μm/分以上を○(良)、それ以下を
×(劣)とした。機械的性質及び研削加工性の評価結果
を下記表8に示す。本発明の実施例はいずれも優れた研
削加工性と十分な強度を兼ね備えたアルミニウム合金で
あることがわかる。
The grinding speed was evaluated as ◎ (excellent) for 15 μm / min or more, ○ (good) for 10 μm / min or more, and × (poor) for less than 15 μm / min. Table 8 below shows the evaluation results of the mechanical properties and the grindability. It can be seen that the examples of the present invention are all aluminum alloys having both excellent grinding workability and sufficient strength.

【0051】[0051]

【表7】 [Table 7]

【0052】[0052]

【表8】 [Table 8]

【0053】[0053]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
研削性が極めて向上すると共に、良好なメッキ性及び十
分な強度を有するアルミニウム合金性磁気ディスク基盤
用ブランクを製造できるので、本発明はハードディスク
用アルミニウム合金基盤の加工コストの削減に著しく寄
与する。
As described in detail above, according to the present invention,
The present invention significantly contributes to a reduction in the processing cost of an aluminum alloy base for a hard disk, because the aluminum alloy base for a hard disk can be manufactured with extremely improved grindability and a good plating property and sufficient strength.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C22F 1/00 661 C22F 1/00 661D 684 684C 691 691B 694 694A ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI C22F 1/00 661 C22F 1/00 661D 684 684C 691 691B 694 694A

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム合金製の磁気ディスク基盤
用ブランクにおいて、結晶方位(110)面のX線積分
強度I(110)と結晶方位(100)面のX線積分強
度I(100)との比I(110)/I(100)が
0.4を超えるものであることを特徴とする磁気ディス
ク基盤用アルミニウム合金ブランク。
In a blank for an aluminum alloy magnetic disk substrate, the ratio of the integrated X-ray intensity I (110) of the (110) plane to the integrated X-ray intensity I (100) of the (100) plane. An aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate, wherein I (110) / I (100) exceeds 0.4.
【請求項2】 Mg:3.0重量%以上を含有し、C
r:0.02乃至0.1重量%及びZr:0.005乃
至0.1重量%からなる群から選択された元素を1種以
上含有し、残部がAl及び不純物からなり、前記不純物
のうち、Fe及びSiを夫々Fe:0.05重量%以
下、Si:0.05重量%以下に規制されたアルミニウ
ム合金を鋳造し、面削、均質化処理、熱間圧延、70乃
至90%の冷間加工率による冷間圧延の各工程を実施
し、結晶方位(110)面のX線積分強度I(110)
と(結晶方位(100)面のX線積分強度I(100)
との比I(110)/I(100)が0.4を超えるア
ルミニウム合金ブランクを製造することを特徴とする磁
気ディスク基盤用アルミニウム合金ブランクの製造方
法。
2. Mg containing not less than 3.0% by weight,
r: at least one element selected from the group consisting of 0.02 to 0.1% by weight and Zr: 0.005 to 0.1% by weight, the balance being Al and impurities; , Fe and Si are cast from aluminum alloys in which Fe: 0.05% by weight or less and Si: 0.05% by weight or less are respectively cast, face milled, homogenized, hot rolled, and 70 to 90% cold. Each step of cold rolling is performed according to the hot working ratio, and the integrated X-ray intensity I (110) of the crystal orientation (110) plane is obtained.
And (X-ray integrated intensity of crystal orientation (100) plane I (100)
A method for producing an aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate, comprising producing an aluminum alloy blank having a ratio I (110) / I (100) exceeding 0.4.
【請求項3】 更に、必須元素として、Mn:0.05
乃至0.5重量%を含有することを特徴とする請求項2
に記載の磁気ディスク基盤用アルミニウム合金ブランク
の製造方法。
3. Mn: 0.05 as an essential element.
3 to 0.5% by weight.
3. The method for producing an aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate according to item 1.
【請求項4】 更に、選択元素として、Cu:0.02
乃至0.1重量%及びZn:0.02乃至0.5重量%
からなる群から選択された元素を1種以上含有すること
を特徴とする請求項2又は3に記載の磁気ディスク基盤
用アルミニウム合金ブランクの製造方法。
4. Further, as an optional element, Cu: 0.02
To 0.1% by weight and Zn: 0.02 to 0.5% by weight
The method for producing an aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate according to claim 2, wherein the method comprises at least one element selected from the group consisting of:
【請求項5】 前記冷間圧延工程の前に、焼鈍温度が2
60乃至400℃の焼鈍工程を設けることを特徴とする
請求項2乃至4のいずれか1項に記載の磁気ディスク基
盤用アルミニウム合金ブランクの製造方法。
5. An annealing temperature of 2 before the cold rolling step.
The method for producing an aluminum alloy blank for a magnetic disk substrate according to any one of claims 2 to 4, wherein an annealing step at 60 to 400 ° C is provided.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2020102294A (en) * 2018-12-20 2020-07-02 古河電気工業株式会社 Aluminum alloy substrate for magnetic disk and manufacturing method thereof, and magnetic disk using aluminum alloy substrate for magnetic disk

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JP2020102294A (en) * 2018-12-20 2020-07-02 古河電気工業株式会社 Aluminum alloy substrate for magnetic disk and manufacturing method thereof, and magnetic disk using aluminum alloy substrate for magnetic disk

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