JPH11271966A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents
感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメントInfo
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Landscapes
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 光感度、解像性、耐薬品性(耐メッキ性)、
密着性、等に優れた感光性樹脂組成物及びそれらの性質
ならびに環境性、作業性等に優れた感光性エレメントの
提供。 【解決手段】 (A)バインダーポリマ、(B)分子内
に重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物及び
(C)光重合開始剤を含み、(B)成分が下記一般式
(I)で示される化合物及び下記一般式(II)で表され
る化合物を必須成分として含む感光性樹脂組成物。 (式中、R1は炭素数1〜10のアルキレン基を示し、
R2は次の一般式 (式中、R3は水素原子又はメチル基を、X1は炭素数
2〜6のアルキレン基を、nは1〜14の整数である)
で表される基を示す。)で示される化合物及び一般式
(II) (式中R4及びR5は水素原子又はメチル基を、X2及
びX3は炭素数2〜6のアルキレン基を示し、k及びm
はk+m=8〜40となる正の整数である)
密着性、等に優れた感光性樹脂組成物及びそれらの性質
ならびに環境性、作業性等に優れた感光性エレメントの
提供。 【解決手段】 (A)バインダーポリマ、(B)分子内
に重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物及び
(C)光重合開始剤を含み、(B)成分が下記一般式
(I)で示される化合物及び下記一般式(II)で表され
る化合物を必須成分として含む感光性樹脂組成物。 (式中、R1は炭素数1〜10のアルキレン基を示し、
R2は次の一般式 (式中、R3は水素原子又はメチル基を、X1は炭素数
2〜6のアルキレン基を、nは1〜14の整数である)
で表される基を示す。)で示される化合物及び一般式
(II) (式中R4及びR5は水素原子又はメチル基を、X2及
びX3は炭素数2〜6のアルキレン基を示し、k及びm
はk+m=8〜40となる正の整数である)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
及びこれを用いた感光性エレメントに関する。
及びこれを用いた感光性エレメントに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント回路板の製造分野におい
て、エッチング、メッキ等に用いられるレジスト材料と
しては、感光性樹脂組成物及びそれに支持体と保護フィ
ルムを用いて得られる感光性エレメントが広く用いられ
ている。プリント回路板は、感光性フィルムを銅基板上
にラミネートして、パターン露光した後、未露光部を現
像液で除去し、エッチング又はメッキ処理を施して、パ
ターンを形成させた後、硬化部分を基板上から剥離除去
する方法によって製造されている。
て、エッチング、メッキ等に用いられるレジスト材料と
しては、感光性樹脂組成物及びそれに支持体と保護フィ
ルムを用いて得られる感光性エレメントが広く用いられ
ている。プリント回路板は、感光性フィルムを銅基板上
にラミネートして、パターン露光した後、未露光部を現
像液で除去し、エッチング又はメッキ処理を施して、パ
ターンを形成させた後、硬化部分を基板上から剥離除去
する方法によって製造されている。
【0003】この未露光部の除去を行う現像液として
は、炭酸水素ナトリウム溶液等を使用するアルカリ現像
型が主流になっており、現像液は、通常、ある程度感光
層を溶解する能力がある限り使用され、使用時には現像
液中に感光性樹脂組成物が溶解又は分散される。近年の
印刷配線板の高密度化に伴い、銅基板とパターン形成さ
れた感光層との接触面積が小さくなる為、現像、エッチ
ング又はメッキ処理工程で優れた接着力、機械強度、耐
薬品性、柔軟性等が要求される。この種の特性のうち、
耐薬品性を向上させるのにビスフェノールA骨格をもつ
光重合性化合物を使用する方法が、特公平7−2720
5号公報に記載されているが、硬化膜が脆くなる傾向が
ある。また、耐薬品性と柔軟性を両立させた光重合性組
成物が、特開平8−286372に記載されているが、
解像度が若干劣るり高密度化対応が必ずしも充分ではな
いという問題がある。
は、炭酸水素ナトリウム溶液等を使用するアルカリ現像
型が主流になっており、現像液は、通常、ある程度感光
層を溶解する能力がある限り使用され、使用時には現像
液中に感光性樹脂組成物が溶解又は分散される。近年の
印刷配線板の高密度化に伴い、銅基板とパターン形成さ
れた感光層との接触面積が小さくなる為、現像、エッチ
ング又はメッキ処理工程で優れた接着力、機械強度、耐
薬品性、柔軟性等が要求される。この種の特性のうち、
耐薬品性を向上させるのにビスフェノールA骨格をもつ
光重合性化合物を使用する方法が、特公平7−2720
5号公報に記載されているが、硬化膜が脆くなる傾向が
ある。また、耐薬品性と柔軟性を両立させた光重合性組
成物が、特開平8−286372に記載されているが、
解像度が若干劣るり高密度化対応が必ずしも充分ではな
いという問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】請求項1、2及び3記
載の発明は、光感度、解像性、耐薬品性(耐メッキ
性)、密着性、機械強度、柔軟性等に優れた感光性樹脂
組成物を提供するものである。請求項4記載の発明は、
光感度、解像性、耐薬品性(耐メッキ性)、密着性、機
械強度、柔軟性、環境性、作業性等に優れた感光性エレ
メントを提供するものである。
載の発明は、光感度、解像性、耐薬品性(耐メッキ
性)、密着性、機械強度、柔軟性等に優れた感光性樹脂
組成物を提供するものである。請求項4記載の発明は、
光感度、解像性、耐薬品性(耐メッキ性)、密着性、機
械強度、柔軟性、環境性、作業性等に優れた感光性エレ
メントを提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)バイン
ダーポリマ、(B)分子内に重合可能なエチレン性不飽
和基を有する化合物及び(C)光重合開始剤を含み、前
記(B)成分が一般式(I)
ダーポリマ、(B)分子内に重合可能なエチレン性不飽
和基を有する化合物及び(C)光重合開始剤を含み、前
記(B)成分が一般式(I)
【化4】 (式中、R1は炭素数1〜10のアルキレン基を示し、
3個のR1は同一であっても相異してもよく、R2は次の
一般式
3個のR1は同一であっても相異してもよく、R2は次の
一般式
【化5】 (式中、R3は水素原子又はメチル基を示し、X1は炭素
数2〜6のアルキレン基を示し、nは1〜14の整数で
ある)で表される基を示し、3個のR2は同一であって
も相異してもよい)で示される化合物及び一般式(II)
数2〜6のアルキレン基を示し、nは1〜14の整数で
ある)で表される基を示し、3個のR2は同一であって
も相異してもよい)で示される化合物及び一般式(II)
【化6】 (式中R4及びR5は各々独立して水素原子又はメチル基
を示し、X2及びX3は各々独立して炭素数2〜6のアル
キレン基を示し、k及びmはk+m=8〜40となるよ
うに選ばれる正の整数である)で表される化合物を必須
成分として含む感光性樹脂組成物に関する。
を示し、X2及びX3は各々独立して炭素数2〜6のアル
キレン基を示し、k及びmはk+m=8〜40となるよ
うに選ばれる正の整数である)で表される化合物を必須
成分として含む感光性樹脂組成物に関する。
【0006】また、本発明は、(A)バインダーポリマ
が、酸価が100〜500であり、重量平均分子量が2
0,000〜300,000である前記の感光性樹脂組
成物に関する。また、本発明は、(A)成分、(B)成
分及び(C)成分の使用割合が、(A)成分及び(B)
成分の総量100重量部に対し、(A)成分が40〜8
0重量部、(B)成分が20〜60重量部及び(C)成
分が0.1〜20重量部であり、(B)成分中の上記一
般式(I)で表される化合物及び一般式(II)で表され
る化合物が各々3〜50重量部以上含まれる前記の感光
性樹脂組成物に関する。また、本発明は、前記感光性樹
脂組成物を支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレメ
ントに関する。
が、酸価が100〜500であり、重量平均分子量が2
0,000〜300,000である前記の感光性樹脂組
成物に関する。また、本発明は、(A)成分、(B)成
分及び(C)成分の使用割合が、(A)成分及び(B)
成分の総量100重量部に対し、(A)成分が40〜8
0重量部、(B)成分が20〜60重量部及び(C)成
分が0.1〜20重量部であり、(B)成分中の上記一
般式(I)で表される化合物及び一般式(II)で表され
る化合物が各々3〜50重量部以上含まれる前記の感光
性樹脂組成物に関する。また、本発明は、前記感光性樹
脂組成物を支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレメ
ントに関する。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の感光性樹脂組成物は、
(A)バインダーポリマ、(B)分子内に重合可能なエ
チレン性不飽和基を有する化合物及び(C)光重合開始
剤を含み、前記(B)成分が、上記一般式(I)及び一
般式(II)で表される化合物を必須成分として含むもの
である。
(A)バインダーポリマ、(B)分子内に重合可能なエ
チレン性不飽和基を有する化合物及び(C)光重合開始
剤を含み、前記(B)成分が、上記一般式(I)及び一
般式(II)で表される化合物を必須成分として含むもの
である。
【0008】本発明における(A)バインダーポリマと
しては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、これらと
共重合しうるビニルモノマ等を共重合させて得られるの
ビニル共重合体等が挙げられ、これらの共重合体は、単
独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。前記ビ
ニルモノマとしては、特に制限はなく、例えばアクリル
酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、アクリ
ル酸ブチルエステル、アクリル酸2−エチルヘキシルエ
ステル、アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、
アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、アクリル酸
ジエチルアミノエチルエステル、メタクリル酸グリシジ
ルエステル、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレ
ート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリ
レート、以上に対応するメタクリル酸エステル、アクリ
ルアミド、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニ
ルトルエン等が挙げられる。
しては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、これらと
共重合しうるビニルモノマ等を共重合させて得られるの
ビニル共重合体等が挙げられ、これらの共重合体は、単
独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。前記ビ
ニルモノマとしては、特に制限はなく、例えばアクリル
酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、アクリ
ル酸ブチルエステル、アクリル酸2−エチルヘキシルエ
ステル、アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、
アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、アクリル酸
ジエチルアミノエチルエステル、メタクリル酸グリシジ
ルエステル、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレ
ート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリ
レート、以上に対応するメタクリル酸エステル、アクリ
ルアミド、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニ
ルトルエン等が挙げられる。
【0009】(A)バインダーポリマは、アルカリ水溶
液(例えば、1〜3重量%の炭酸ナトリウム又は炭酸カ
リウム水溶液等)に可溶又は膨潤可能であることが、現
像性、環境保全性等の点で好ましく、そのような性質を
具備するためにカルボキシル基を有していることが好ま
しい。また、(A)バインダーポリマを、アルカリ水溶
液(例えば、1〜3重量%の炭酸ナトリウム又は炭酸カ
リウム水溶液等)に可溶又は膨潤可能なものとする場
合、その酸価は、100〜500であることが好まし
い。酸価が100未満では、現像時間が遅くなる傾向が
あり、500を超えると、光硬化したレジストの耐現像
液性が低下する傾向がある。また、(A)バインダーポ
リマの重量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマト
グラフィーにより測定し、標準ポリスチレン換算したも
の)は、20,000〜300,000であることが好
ましい。重量平均分子量が、30,000未満では、耐
現像液性が低下する傾向があり、300,000を超え
ると、現像時間が長くなる傾向がある。
液(例えば、1〜3重量%の炭酸ナトリウム又は炭酸カ
リウム水溶液等)に可溶又は膨潤可能であることが、現
像性、環境保全性等の点で好ましく、そのような性質を
具備するためにカルボキシル基を有していることが好ま
しい。また、(A)バインダーポリマを、アルカリ水溶
液(例えば、1〜3重量%の炭酸ナトリウム又は炭酸カ
リウム水溶液等)に可溶又は膨潤可能なものとする場
合、その酸価は、100〜500であることが好まし
い。酸価が100未満では、現像時間が遅くなる傾向が
あり、500を超えると、光硬化したレジストの耐現像
液性が低下する傾向がある。また、(A)バインダーポ
リマの重量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマト
グラフィーにより測定し、標準ポリスチレン換算したも
の)は、20,000〜300,000であることが好
ましい。重量平均分子量が、30,000未満では、耐
現像液性が低下する傾向があり、300,000を超え
ると、現像時間が長くなる傾向がある。
【0010】本発明における(B)分子内に少なくとも
一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合化
合物に、必須成分として含まれる上記一般式(I)で表
される化合物において、上記一般式(I)中、R1であ
る炭素数1〜10のアルキレン基としては、例えば、メ
チレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン
基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ネオ
ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレ
ン基、2−エチル−ヘキシレン基、ノニレン基、デシレ
ン基等が挙げられる。また、X1である炭素数2〜6の
アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレ
ン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン
基、ペンチレン基、ネオペンチレン基、ヘキシレン基等
が挙げられ、解像性、耐メッキ性の点からエチレン基が
好ましい。また、R2である上記一般式中のnは、1〜
14の整数であり、2〜14であることが好ましい。n
が14を超えると耐薬品性が低下する。
一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合化
合物に、必須成分として含まれる上記一般式(I)で表
される化合物において、上記一般式(I)中、R1であ
る炭素数1〜10のアルキレン基としては、例えば、メ
チレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン
基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ネオ
ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレ
ン基、2−エチル−ヘキシレン基、ノニレン基、デシレ
ン基等が挙げられる。また、X1である炭素数2〜6の
アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレ
ン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン
基、ペンチレン基、ネオペンチレン基、ヘキシレン基等
が挙げられ、解像性、耐メッキ性の点からエチレン基が
好ましい。また、R2である上記一般式中のnは、1〜
14の整数であり、2〜14であることが好ましい。n
が14を超えると耐薬品性が低下する。
【0011】上記一般式(I)で示される化合物の市販
品としては例えば、UA−21(上記一般式(I)でR
1が−C6H12−、R2におけるnが4、X1が−CH2C
H2−、R3が−CH3の化合物、新中村化学工業(株)商
品名)がある。一般式(I)で表される化合物は、単独
で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
品としては例えば、UA−21(上記一般式(I)でR
1が−C6H12−、R2におけるnが4、X1が−CH2C
H2−、R3が−CH3の化合物、新中村化学工業(株)商
品名)がある。一般式(I)で表される化合物は、単独
で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
【0012】また、本発明における(B)成分中に、必
須成分として含まれる上記一般式(II)で表される化合
物において、上記一般式(II)中、X2、X3である炭素
数2〜6のアルキレン基としては、上記X1について例
示したのと同様のものが挙げられ、解像性、耐メッキ性
の点からエチレン基が好ましい。上記一般式(II)中、
k+mは8〜40であるが、k+mが7以下の場合は、
(A)バインダポリマとの相溶性が低下し、基板に感光
性エレメントをラミネートした際はがれ易い。又はk+
mが41以上の場合、親水性が増加し、現像時にレジス
ト像がはがれやすく、耐メッキ性(特に半田メッキ)も
低下する。
須成分として含まれる上記一般式(II)で表される化合
物において、上記一般式(II)中、X2、X3である炭素
数2〜6のアルキレン基としては、上記X1について例
示したのと同様のものが挙げられ、解像性、耐メッキ性
の点からエチレン基が好ましい。上記一般式(II)中、
k+mは8〜40であるが、k+mが7以下の場合は、
(A)バインダポリマとの相溶性が低下し、基板に感光
性エレメントをラミネートした際はがれ易い。又はk+
mが41以上の場合、親水性が増加し、現像時にレジス
ト像がはがれやすく、耐メッキ性(特に半田メッキ)も
低下する。
【0013】上記一般式(II)で表される化合物として
は、例えば、2,2−ビス〔4−(メタクリロキシペン
タエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−
(アクリロキシペンタエトキシ)フェニル〕プロパン、
2,2−ビス〔4−(メタクリロキシペンタデカエトキ
シ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(アクリ
ロキシペンタデカエトキシ)フェニル〕プロパン、2,
2−ビス〔4−(メタクリロキシジエトキシ)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(アクリロキシジエ
トキシ)フェニル〕プロパン等が挙げられ、市販品とし
ては例えばBPE−500、BPE−1300(いずれ
も新中村化学工業(株)商品名)がある。一般式(II)で
表される化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせ
て使用される。
は、例えば、2,2−ビス〔4−(メタクリロキシペン
タエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−
(アクリロキシペンタエトキシ)フェニル〕プロパン、
2,2−ビス〔4−(メタクリロキシペンタデカエトキ
シ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(アクリ
ロキシペンタデカエトキシ)フェニル〕プロパン、2,
2−ビス〔4−(メタクリロキシジエトキシ)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(アクリロキシジエ
トキシ)フェニル〕プロパン等が挙げられ、市販品とし
ては例えばBPE−500、BPE−1300(いずれ
も新中村化学工業(株)商品名)がある。一般式(II)で
表される化合物は、単独で又は2種類以上を組み合わせ
て使用される。
【0014】また、本発明において(B)成分には、
(B)成分中の必須成分である上記の一般式(I)で表
される化合物及び一般式(II)で表される化合物以外の
化合物を使用でき、そのような化合物としては、例え
ば、多価アルコールにα,β−不飽和カルボン酸を反応
させて得られる化合物(ポリエチレングリコールジアク
リレート(エチレン基の数が2〜14のもの)、トリメ
チロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、テトラメチロールメタントリア
クリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジアクリレート(プロピ
レン基の数が2〜14のもの)、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等)、グリシジル基含有化合物に、α,β
−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物(トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレ
ート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリレ
ート等)、ウレタンアクリレート(β位にOH基を有す
るアクリルモノマ又はメタクリルモノマとイソホロンジ
イソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、
2,4−トルエンジイソシアネート、又は、1,6−メ
キサメチレンジイソシアネートの付加反応物)、ノニル
フェニルジオキシレンアクリレート、γ−クロロ−β−
ヒドロキシプロピル−β′−アクリロイルオキシエチル
−o−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β′−アク
リロイルオキシエチル−o−フタレート、以上に対応す
るメタクリレート、アクリル酸のアルキルエステル(ア
クリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、
アクリル酸ブチルエステル、アクリル酸2−エチルヘキ
シルエステル等)、以上に対応するメタリル酸のアルキ
ルエステル等が挙げられる。
(B)成分中の必須成分である上記の一般式(I)で表
される化合物及び一般式(II)で表される化合物以外の
化合物を使用でき、そのような化合物としては、例え
ば、多価アルコールにα,β−不飽和カルボン酸を反応
させて得られる化合物(ポリエチレングリコールジアク
リレート(エチレン基の数が2〜14のもの)、トリメ
チロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、テトラメチロールメタントリア
クリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジアクリレート(プロピ
レン基の数が2〜14のもの)、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等)、グリシジル基含有化合物に、α,β
−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物(トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリレ
ート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリレ
ート等)、ウレタンアクリレート(β位にOH基を有す
るアクリルモノマ又はメタクリルモノマとイソホロンジ
イソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、
2,4−トルエンジイソシアネート、又は、1,6−メ
キサメチレンジイソシアネートの付加反応物)、ノニル
フェニルジオキシレンアクリレート、γ−クロロ−β−
ヒドロキシプロピル−β′−アクリロイルオキシエチル
−o−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β′−アク
リロイルオキシエチル−o−フタレート、以上に対応す
るメタクリレート、アクリル酸のアルキルエステル(ア
クリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、
アクリル酸ブチルエステル、アクリル酸2−エチルヘキ
シルエステル等)、以上に対応するメタリル酸のアルキ
ルエステル等が挙げられる。
【0015】本発明における(C)光重合開始剤として
は、例えば、芳香族ケトン(ベンゾフェノン、4,4′
−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−メトキシ
−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−エチルア
ントラキノン、フェナントレンキノン等)、ベンゾイン
(ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテ
ル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等)、ベンジ
ル誘導体(ベンジルジメチルケタール等)、2,4,5
−トリアリールイミダゾール二量体(2−o−クロロフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2
−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシ
フェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2
−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,
5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ジ(p−
メトキシフェニル)−5−フェニルイミダゾール二量
体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール二量体、2−(p−メチルメルカ
プトフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量
体等)、アクリジン誘導体(9−フェニルアクリジン、
1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタン等)
などが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組
み合わせて使用される。
は、例えば、芳香族ケトン(ベンゾフェノン、4,4′
−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−
ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−メトキシ
−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−エチルア
ントラキノン、フェナントレンキノン等)、ベンゾイン
(ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテ
ル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等)、ベンジ
ル誘導体(ベンジルジメチルケタール等)、2,4,5
−トリアリールイミダゾール二量体(2−o−クロロフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2
−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシ
フェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2
−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,
5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4−ジ(p−
メトキシフェニル)−5−フェニルイミダゾール二量
体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジ
フェニルイミダゾール二量体、2−(p−メチルメルカ
プトフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量
体等)、アクリジン誘導体(9−フェニルアクリジン、
1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタン等)
などが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組
み合わせて使用される。
【0016】本発明における(A)成分の配合量は、
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、40〜80重量部とすることが好ましい。この配合
量が、40重量部未満では、光硬化物が脆くなり易く、
感光性エレメントとして用いた場合に、塗膜性が劣る傾
向があり、80重量部を超えると、感度が不充分となる
傾向がある。
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、40〜80重量部とすることが好ましい。この配合
量が、40重量部未満では、光硬化物が脆くなり易く、
感光性エレメントとして用いた場合に、塗膜性が劣る傾
向があり、80重量部を超えると、感度が不充分となる
傾向がある。
【0017】本発明における(B)成分の配合量は、
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、20〜60重量部とすることが好ましい。この配合
量が、20重量部未満では、感度が不充分となる傾向が
あり、60重量部を超えると、光硬化物が脆くなる傾向
がある。
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、20〜60重量部とすることが好ましい。この配合
量が、20重量部未満では、感度が不充分となる傾向が
あり、60重量部を超えると、光硬化物が脆くなる傾向
がある。
【0018】また、本発明における(B)成分中の必須
成分である一般式(I)で表される化合物の配合量は、
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、3〜50重量部であることが好ましく、5〜40重
量部であることがより好ましい。この配合量が、3重量
部未満では、感度、密着性、耐メッキ性等が劣る傾向が
あり、50重量部を超えると、レジストの剥離時間が長
くなりすぎる傾向がある。
成分である一般式(I)で表される化合物の配合量は、
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、3〜50重量部であることが好ましく、5〜40重
量部であることがより好ましい。この配合量が、3重量
部未満では、感度、密着性、耐メッキ性等が劣る傾向が
あり、50重量部を超えると、レジストの剥離時間が長
くなりすぎる傾向がある。
【0019】また、本発明における(B)成分中の必須
成分である一般式(II)で表される化合物の配合量は
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、3〜50重量部であることが好ましく、5〜40重
量部であることが好ましい。この配合量が、3重量部未
満では解像性が劣る傾向があり、50重量部を超える
と、レジストの剥離時間が長くなりすぎる傾向がある。
成分である一般式(II)で表される化合物の配合量は
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、3〜50重量部であることが好ましく、5〜40重
量部であることが好ましい。この配合量が、3重量部未
満では解像性が劣る傾向があり、50重量部を超える
と、レジストの剥離時間が長くなりすぎる傾向がある。
【0020】本発明における(C)成分の配合量は、
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、0.1〜20重量部であることが好ましい。この配
合量が、0.1重量部未満では、感度が不充分となる傾
向があり、20重量部を超えると、露光の際に組成物の
表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となる傾
向がある。
(A)成分及び(B)成分の総量100重量部に対し
て、0.1〜20重量部であることが好ましい。この配
合量が、0.1重量部未満では、感度が不充分となる傾
向があり、20重量部を超えると、露光の際に組成物の
表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となる傾
向がある。
【0021】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じて、マラカイトグリーン等の染料、ロイコクリスタル
バイオレット等の発色剤、p−トルエンスルホン酸等の
可塑剤、顔料、難燃剤、熱重合禁止剤、密着性付与剤等
を添加することができる。
じて、マラカイトグリーン等の染料、ロイコクリスタル
バイオレット等の発色剤、p−トルエンスルホン酸等の
可塑剤、顔料、難燃剤、熱重合禁止剤、密着性付与剤等
を添加することができる。
【0022】本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分
を、これらを溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチル
ケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロ
ホルム、塩化メチレン、メタノール、エタノール等に溶
解、混合させることにより、均一な溶液とすることがで
きる。
を、これらを溶解する溶剤、例えば、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチル
ケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロ
ホルム、塩化メチレン、メタノール、エタノール等に溶
解、混合させることにより、均一な溶液とすることがで
きる。
【0023】本発明の感光性エレメントは、前記本発明
の感光性樹脂組成物を、支持体上に塗布、乾燥し、支持
体上に厚さ5〜100μm程度の感光層を形成すること
により作製できる。上記塗布は、公知の方法で行える
が、例えば、ロールコータ、コンマコータ、グラビアコ
ータ、エアーナイフコータ、ダイコータ、バーコータ等
により行える。乾燥は、80〜150℃、5〜30分程
度とされる。
の感光性樹脂組成物を、支持体上に塗布、乾燥し、支持
体上に厚さ5〜100μm程度の感光層を形成すること
により作製できる。上記塗布は、公知の方法で行える
が、例えば、ロールコータ、コンマコータ、グラビアコ
ータ、エアーナイフコータ、ダイコータ、バーコータ等
により行える。乾燥は、80〜150℃、5〜30分程
度とされる。
【0024】支持体としては、厚さ5〜100μm、好
ましくは10〜30μm程度の重合体フィルム、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポ
リエチレン等からなるフィルムが挙げられ、なかでも、
ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。ま
た、これらの重合体フィルムは、感光層の保護フィルム
として感光層の上に積層することができる。
ましくは10〜30μm程度の重合体フィルム、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポ
リエチレン等からなるフィルムが挙げられ、なかでも、
ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。ま
た、これらの重合体フィルムは、感光層の保護フィルム
として感光層の上に積層することができる。
【0025】本発明の感光性エレメントを用いてフォト
レジスト画像を製造する方法としては、前記の保護フィ
ルムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、
感光層を加熱しながら基板に圧着させることにより積層
する方法等が挙げられる。積層される表面は、通常、金
属面であるが、特に制限はない。
レジスト画像を製造する方法としては、前記の保護フィ
ルムが存在している場合には、保護フィルムを除去後、
感光層を加熱しながら基板に圧着させることにより積層
する方法等が挙げられる。積層される表面は、通常、金
属面であるが、特に制限はない。
【0026】感光層の加熱温度は、特に制限はなく、9
0〜130℃とすることが好ましい。また、感光層の圧
着圧力は、特に制限はなく、1〜10kgf/cm2とするこ
とが好ましい。なお、感光層を前記のように加熱すれ
ば、予め基板を予熱処理することは必要ではないが、積
層性をさらに向上させるために、基板の予熱処理を行う
こともできる。
0〜130℃とすることが好ましい。また、感光層の圧
着圧力は、特に制限はなく、1〜10kgf/cm2とするこ
とが好ましい。なお、感光層を前記のように加熱すれ
ば、予め基板を予熱処理することは必要ではないが、積
層性をさらに向上させるために、基板の予熱処理を行う
こともできる。
【0027】このようにして積層が完了した感光層は、
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて、活性
光に画像的に露光される。この際、感光層上に存在する
支持体が透明の場合には、そのまま露光してもよく、ま
た、不透明の場合には、当然除去する必要がある。
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて、活性
光に画像的に露光される。この際、感光層上に存在する
支持体が透明の場合には、そのまま露光してもよく、ま
た、不透明の場合には、当然除去する必要がある。
【0028】感光層の保護という点からは、支持体は透
明で、この支持体を残存させたまま、それを通して露光
することが好ましい。
明で、この支持体を残存させたまま、それを通して露光
することが好ましい。
【0029】活性光は、公知の活性光源、例えば、カー
ボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク、写真用
フラッド電球、太陽ランプ等から発生する光が用いられ
る。
ボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク、写真用
フラッド電球、太陽ランプ等から発生する光が用いられ
る。
【0030】次いで、露光後、感光層上に重合体フィル
ム等が存在している場合には、これを除去した後、アル
カリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッピング等の公知方法により未露光
部を除去して現像する。アルカリ性水溶液の塩基として
は、水酸化アルカリ(リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの水酸化物等)、炭酸アルカリ(リチウム、ナトリウ
ム若しくはカリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等)、アルカ
リ金属リン酸塩(リン酸カリウム、リン酸ナトリウム
等)、アルカリ金属ピロリン酸塩(ピロリン酸ナトリウ
ム、ピロリン酸カリウム等)などが挙げられ、炭酸ナト
リウムの水溶液が好ましい。現像に用いるアルカリ水溶
液のpHは、9〜11の範囲とすることが好ましく、その
温度は、感光層の現像性に合わせて調節される。また、
アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促
進させるための少量の有機溶剤等を混入させることもで
きる。現像性の点等から、0.1〜5重量%の炭酸ナト
リウム水溶液が好ましい。
ム等が存在している場合には、これを除去した後、アル
カリ水溶液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッピング等の公知方法により未露光
部を除去して現像する。アルカリ性水溶液の塩基として
は、水酸化アルカリ(リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの水酸化物等)、炭酸アルカリ(リチウム、ナトリウ
ム若しくはカリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等)、アルカ
リ金属リン酸塩(リン酸カリウム、リン酸ナトリウム
等)、アルカリ金属ピロリン酸塩(ピロリン酸ナトリウ
ム、ピロリン酸カリウム等)などが挙げられ、炭酸ナト
リウムの水溶液が好ましい。現像に用いるアルカリ水溶
液のpHは、9〜11の範囲とすることが好ましく、その
温度は、感光層の現像性に合わせて調節される。また、
アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促
進させるための少量の有機溶剤等を混入させることもで
きる。現像性の点等から、0.1〜5重量%の炭酸ナト
リウム水溶液が好ましい。
【0031】さらに、印刷配線板を製造する方法として
は、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして基板
の表面を、エッチング、メッキ等の公知方法で処理する
方法等が挙げられる。次いで、フォトレジスト画像は、
通常、現像に用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカ
リ性の水溶液で剥離することができる。この強アルカリ
性の水溶液としては、例えば、1〜5重量%の水酸化ナ
トリウム水溶液等が用いられる。
は、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして基板
の表面を、エッチング、メッキ等の公知方法で処理する
方法等が挙げられる。次いで、フォトレジスト画像は、
通常、現像に用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカ
リ性の水溶液で剥離することができる。この強アルカリ
性の水溶液としては、例えば、1〜5重量%の水酸化ナ
トリウム水溶液等が用いられる。
【0032】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。 実施例1〜4及び比較例1〜3 表1及び表2に示す材料を配合し、溶液を得た。
【0033】
【表1】
【0034】
【表2】
【0035】得られた溶液に、表3に示す(B)成分を
溶解させて、感光性樹脂組成物の溶液を得た。
溶解させて、感光性樹脂組成物の溶液を得た。
【0036】
【表3】
【0037】なお、表3中、使用した化合物を下記に示
す。 *1:一般式(I)で、R1が−C6H12−、R3が−C
H3、X1が−CH2CH2−、nが4(平均値)の化合
物、新中村化学工業(株)製 *2:一般式(II)で、R4及びR5が−CH3、X2及びX
3が−CH2CH2−、k+m=10(平均値)の化合
物、新中村化学工業(株)製 *3:一般式(II)で、R4及びR5が−CH3、X2及びX
3が−CH2CH2−、k+m=30(平均値)の化合
物、新中村化学工業(株)製 *4:ポリプロピレングリコールジアクリレート(新中村
化学工業(株)製) *5:γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−メタ
クリロイルオキシエチル−o−フタレート
す。 *1:一般式(I)で、R1が−C6H12−、R3が−C
H3、X1が−CH2CH2−、nが4(平均値)の化合
物、新中村化学工業(株)製 *2:一般式(II)で、R4及びR5が−CH3、X2及びX
3が−CH2CH2−、k+m=10(平均値)の化合
物、新中村化学工業(株)製 *3:一般式(II)で、R4及びR5が−CH3、X2及びX
3が−CH2CH2−、k+m=30(平均値)の化合
物、新中村化学工業(株)製 *4:ポリプロピレングリコールジアクリレート(新中村
化学工業(株)製) *5:γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−メタ
クリロイルオキシエチル−o−フタレート
【0038】次いで、得られた感光性樹脂組成物の溶液
を、25μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に均一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で約1
0分間乾燥して、感光性エレメントを得た。感光性樹脂
組成物層の乾燥後の膜厚は、50μmであった。
を、25μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に均一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で約1
0分間乾燥して、感光性エレメントを得た。感光性樹脂
組成物層の乾燥後の膜厚は、50μmであった。
【0039】一方、銅箔(厚さ35μm)を両面に積層
したガラスエポキシ材である銅張り積層板(日立化成工
業(株)製、商品名MCL−E−61)の銅表面を、#6
00相当のブラシを持つ研磨機(三啓(株)製)を用いて
研磨し、水洗後、空気流で乾燥し、得られた銅張り積層
板を80℃に加温し、その銅表面上に前記感光性樹脂組
成物層を120℃に加熱しながらラミネートした。
したガラスエポキシ材である銅張り積層板(日立化成工
業(株)製、商品名MCL−E−61)の銅表面を、#6
00相当のブラシを持つ研磨機(三啓(株)製)を用いて
研磨し、水洗後、空気流で乾燥し、得られた銅張り積層
板を80℃に加温し、その銅表面上に前記感光性樹脂組
成物層を120℃に加熱しながらラミネートした。
【0040】次に、高圧水銀灯ランプを有する露光機
(オーク(株)製)HMW−201Bを用いて、ネガとし
てストーファー21段ステップタブレットを試験片の上
に置いて、60mJ/cm2で露光した。次に、ポリエチレン
テレフタレートフィルムを剥離し、30℃で1重量%炭
酸ナトリウム水溶液を60秒間スプレーし、未露光部分
を除去した後、銅張り積層板上に形成された光硬化膜の
ステップタブレットの段数を測定することにより、感光
性樹脂組成物の光感度を評価し、その結果を表4に示し
た。光感度は、ステップタブレットの段数で示され、こ
のステップタブレットの段数が高いほど、光感度が高い
ことを示す。
(オーク(株)製)HMW−201Bを用いて、ネガとし
てストーファー21段ステップタブレットを試験片の上
に置いて、60mJ/cm2で露光した。次に、ポリエチレン
テレフタレートフィルムを剥離し、30℃で1重量%炭
酸ナトリウム水溶液を60秒間スプレーし、未露光部分
を除去した後、銅張り積層板上に形成された光硬化膜の
ステップタブレットの段数を測定することにより、感光
性樹脂組成物の光感度を評価し、その結果を表4に示し
た。光感度は、ステップタブレットの段数で示され、こ
のステップタブレットの段数が高いほど、光感度が高い
ことを示す。
【0041】また、解像性は、ライン/スペース=1で
段階的にライン幅が狭くなるネガを用い、21段ステッ
プタブレットで8段を示す露光量で露光し、上記条件で
現像後、ラインのかぶり(ラインとラインのつながり)
がない部分の線幅を測定し、その結果を表4に示した。
この解像性の数字が小さい程、細いラインを解像できる
ことを示し、解像性が高いことを示す。
段階的にライン幅が狭くなるネガを用い、21段ステッ
プタブレットで8段を示す露光量で露光し、上記条件で
現像後、ラインのかぶり(ラインとラインのつながり)
がない部分の線幅を測定し、その結果を表4に示した。
この解像性の数字が小さい程、細いラインを解像できる
ことを示し、解像性が高いことを示す。
【0042】耐メッキ性は、上記のようにラミネート
し、所定の露光量により露光を行い、次いで、上記現像
液により現像後、脱脂(PC−455(メルテックス社
製)25重量%)5分浸漬→水洗→ソフトエッチ(過硫
酸アンモニウム150g/リットル)2分浸漬→水洗→
10重量%硫酸1分浸漬の順に前処理を行い、硫酸銅メ
ッキ浴(硫酸銅75g/リットル、硫酸190g/リッ
トル、塩素イオン50ppm、カパーグリームPCM(メ
ルテックス社製)5ml/リットル)に入れ、硫酸銅メッ
キを室温下、3A/dm2で40分間行った。その後、水洗
して、10重量%ホウフッ化水素酸に1分浸漬し、ハン
ダメッキ浴(45重量%ホウフッ化スズ64ml/リット
ル、45重量%ホウフッ化鉛22ml/リットル、42重
量%ホウフッ化水素酸200ml/リットル、プルティン
LAコンダクティビティーソルト(メルテックス社製)
20g/リットル、プルティンLAスターター(メルテ
ックス社製)41ml/リットル)に入れ、半田メッキを
室温下、1.5A/dm2で15分間行った。
し、所定の露光量により露光を行い、次いで、上記現像
液により現像後、脱脂(PC−455(メルテックス社
製)25重量%)5分浸漬→水洗→ソフトエッチ(過硫
酸アンモニウム150g/リットル)2分浸漬→水洗→
10重量%硫酸1分浸漬の順に前処理を行い、硫酸銅メ
ッキ浴(硫酸銅75g/リットル、硫酸190g/リッ
トル、塩素イオン50ppm、カパーグリームPCM(メ
ルテックス社製)5ml/リットル)に入れ、硫酸銅メッ
キを室温下、3A/dm2で40分間行った。その後、水洗
して、10重量%ホウフッ化水素酸に1分浸漬し、ハン
ダメッキ浴(45重量%ホウフッ化スズ64ml/リット
ル、45重量%ホウフッ化鉛22ml/リットル、42重
量%ホウフッ化水素酸200ml/リットル、プルティン
LAコンダクティビティーソルト(メルテックス社製)
20g/リットル、プルティンLAスターター(メルテ
ックス社製)41ml/リットル)に入れ、半田メッキを
室温下、1.5A/dm2で15分間行った。
【0043】水洗、乾燥後耐メッキ性を調べるために、
直ちにセロテープを貼り、これを垂直方向に引き剥がし
て(90°ピールオーフ試験)、レジストの剥がれの有
無を観察し、結果を表4に示した。また、レジスト剥離
後、上方から光学顕微鏡で、半田メッキのもぐりの有無
を観察し、結果を表4に示した。半田メッキのもぐりを
生じた場合、透明なレジストを介して、その下部にメッ
キにより析出した半田が観察される。
直ちにセロテープを貼り、これを垂直方向に引き剥がし
て(90°ピールオーフ試験)、レジストの剥がれの有
無を観察し、結果を表4に示した。また、レジスト剥離
後、上方から光学顕微鏡で、半田メッキのもぐりの有無
を観察し、結果を表4に示した。半田メッキのもぐりを
生じた場合、透明なレジストを介して、その下部にメッ
キにより析出した半田が観察される。
【0044】また、別の試験片を、ストーファー21段
ステップタブレットで8段を示す露光量で、露光、現像
後、クロスカット試験(JIS−K−5400)を行
い、結果を表4に示した。
ステップタブレットで8段を示す露光量で、露光、現像
後、クロスカット試験(JIS−K−5400)を行
い、結果を表4に示した。
【0045】
【表4】
【0046】表4から明らかなように、本発明の範囲内
の実施例1〜4は、耐メッキ性が良好であり、解像性及
びクロスカット性も優れている。
の実施例1〜4は、耐メッキ性が良好であり、解像性及
びクロスカット性も優れている。
【0047】
【発明の効果】請求項1、2及び3記載の感光性樹脂組
成物は、光感度、解像性、耐薬品性(耐メッキ性)、密
着性、機械強度、柔軟性等に優れたものである。請求項
4記載の感光性エレメントは、光感度、解像性、耐薬品
性(耐メッキ性)、密着性、機械強度、柔軟性、環境
性、作業性等に優れたものである。
成物は、光感度、解像性、耐薬品性(耐メッキ性)、密
着性、機械強度、柔軟性等に優れたものである。請求項
4記載の感光性エレメントは、光感度、解像性、耐薬品
性(耐メッキ性)、密着性、機械強度、柔軟性、環境
性、作業性等に優れたものである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/004 512 G03F 7/004 512 7/028 7/028 7/033 7/033 // C09D 4/06 C09D 4/06 171/00 171/00 B H05K 3/06 H05K 3/06 H 3/18 3/18 D
Claims (4)
- 【請求項1】 (A)バインダーポリマ、(B)分子内
に重合可能なエチレン性不飽和基を有する化合物及び
(C)光重合開始剤を含み、前記(B)成分が一般式
(I) 【化1】 (式中、R1は炭素数1〜10のアルキレン基を示し、
3個のR1は同一であっても相異してもよく、R2は次の
一般式 【化2】 (式中、R3は水素原子又はメチル基を示し、X1は炭素
数2〜6のアルキレン基を示し、nは1〜14の整数で
ある)で表される基を示し、3個のR2は同一であって
も相異してもよい)で示される化合物及び一般式(II) 【化3】 (式中R4及びR5は各々独立して水素原子又はメチル基
を示し、X2及びX3は各々独立して炭素数2〜6のアル
キレン基を示し、k及びmはk+m=8〜40となるよ
うに選ばれる正の整数である)で表される化合物を必須
成分として含む感光性樹脂組成物。 - 【請求項2】 (A)バインダーポリマが、酸価が10
0〜500であり、重量平均分子量が20,000〜3
00,000である請求項1記載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項3】 (A)成分、(B)成分及び(C)成分
の使用割合が、(A)成分及び(B)成分の総量100
重量部に対し、(A)成分が40〜80重量部、(B)
成分が20〜60重量部及び(C)成分が0.1〜20
重量部であり、(B)成分中の上記一般式(I)で表さ
れる化合物及び一般式(II)で表される化合物が各々3
〜50重量部以上含まれる請求項1又は2記載の感光性
樹脂組成物。 - 【請求項4】 請求項1、2又は3記載の感光性樹脂組
成物を支持体上に塗布、乾燥してなる感光性エレメン
ト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7637798A JPH11271966A (ja) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7637798A JPH11271966A (ja) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11271966A true JPH11271966A (ja) | 1999-10-08 |
Family
ID=13603658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7637798A Pending JPH11271966A (ja) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11271966A (ja) |
-
1998
- 1998-03-25 JP JP7637798A patent/JPH11271966A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Effective date: 20050323 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070615 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070621 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071105 |