JPH11274199A - Bump electrode forming method and device method and device therefor - Google Patents
Bump electrode forming method and device method and device thereforInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に表面実装
されるIC、LSI等のチップ状の半導体素子、半導体
素子がモールドされたBGA、CSP等のパッケージ、
コネクタ等の電子部品や基板自体にバンプ電極を形成す
るバンプ電極形成方法およびその装置に係り、詳しく
は、上記電子部品の電極形成面に良好な密着力でバンプ
電極を形成することができるバンプ電極形成方法および
その装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip-shaped semiconductor element such as an IC or LSI, which is surface-mounted on a substrate, a package such as a BGA or CSP in which the semiconductor element is molded,
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for forming a bump electrode on an electronic component such as a connector or a substrate itself, and more particularly, to a bump electrode capable of forming a bump electrode with good adhesion to an electrode forming surface of the electronic component. The present invention relates to a forming method and an apparatus therefor.
【0002】[0002]
【従来の技術】最近の電子機器のダウンサイジング化お
よび低コスト化に伴い、IC、LSI等のチップ状の半
導体素子、半導体素子がモールドされたBGA、CSP
等のパッケージ、及びコネクタ等の電子部品が、バンプ
電極を介して基板上に表面実装されるようになってき
た。特に、IC、LSI等の半導体素子は、パッケージ
ングせずにフリップチップとして基板上にバンプ電極を
介して表面実装される傾向になってきた。このような電
子部品の基板上への表面実装を行うために、電子部品側
にバンプ電極を形成することが考えられる。2. Description of the Related Art Along with recent downsizing and cost reduction of electronic equipment, chip-shaped semiconductor elements such as ICs and LSIs, BGAs and CSPs in which semiconductor elements are molded.
And electronic components such as connectors have been surface-mounted on substrates via bump electrodes. In particular, semiconductor devices such as ICs and LSIs have been tending to be surface-mounted as flip-chips on substrates via bump electrodes without packaging. In order to perform surface mounting of such an electronic component on a substrate, it is conceivable to form a bump electrode on the electronic component side.
【0003】上記基板上に表面実装される電子部品や基
板自体にバンプ電極を形成する方法として、電子部品の
電極形成面に装着した孔版マスク(印刷マスク)の貫通
孔に、導電性ペースト充填部材としてのスキージを用い
て導電性ペーストを充填した後、該電子部品と該孔版マ
スクとを離すことにより電極を形成する方法が提案され
ている。As a method of forming a bump electrode on an electronic component surface-mounted on the substrate or on the substrate itself, a conductive paste filling member is inserted into a through hole of a stencil mask (print mask) mounted on the electrode forming surface of the electronic component. There has been proposed a method of forming an electrode by filling a conductive paste using a squeegee and separating the electronic component from the stencil mask.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の孔版マスクを用いた電極形成法では、上記貫通孔に
導電性ペーストを充填した後、孔版マスクを電子部品か
ら離す際に貫通孔内の導電性ペーストの一部が孔版マス
クに密着して引きずられ、良好なバンプ電極を形成でき
ない場合があった。なお、このような問題点は、基板上
に表面実装される電子部品に電極を形成する場合だけで
なく、基板自体に電極を形成する場合にも発生し得るも
のである。However, in the above-described electrode forming method using a stencil mask, after the conductive paste is filled in the through-holes, when the stencil mask is separated from the electronic component, the conductive material in the through-holes is removed. In some cases, a portion of the conductive paste was dragged in close contact with the stencil mask, and a good bump electrode could not be formed. Such a problem can occur not only when an electrode is formed on an electronic component surface-mounted on a substrate but also when an electrode is formed on the substrate itself.
【0005】本発明は以上の問題点に鑑みなされたもの
であり、その目的は、孔版マスクを電子部品から離す際
の導電性ペーストのぬけ性に優れ、良好なバンプ電極を
形成することができるバンプ電極形成方法およびその装
置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to form a good bump electrode by exposing a conductive paste when separating a stencil mask from an electronic component. An object of the present invention is to provide a method and an apparatus for forming a bump electrode.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、バンプ電極形成用の貫通孔が形
成された孔版マスクを通して、電子部品の電極形成面に
導電性ペーストを印刷することにより、該電極形成面に
バンプ電極を形成するバンプ電極形成方法であって、該
電子部品に接触させた孔版マスクの貫通孔に導電性ペー
ストを充填した後、該貫通孔に充填された導電性ペース
ト中の導電性粒子が該電子部品の電極形成面側に遠心力
で移動するように、該電子部品及び該孔版マスクを回転
させることを特徴とするものである。この請求項1のバ
ンプ電極形成方法では、電子部品に接触させた孔版マス
クの貫通孔に導電性ペーストを充填した後、該電子部品
及び該孔版マスクを回転させることにより、該貫通孔に
充填された導電性ペースト中の導電性粒子を該電子部品
の電極形成面側に遠心力で移動させ、該電極形成面に接
する部分の導電性ペースト中の導電性粒子の密度を高め
る。これにより、該電子部品の電極形成面と導電性ペー
ストとの密着力(タッキング力)が強くなるとととも
に、該孔版マスクの貫通孔の内壁と導電性ペーストとの
密着力(ズリ応力)が弱くなる。したがって、該電子部
品から該孔版マスクを離す際に該貫通孔内の導電性ペー
ストの一部が該孔版マスクに密着して引きずられること
なく、良好なバンプ電極を形成することができる。な
お、上記遠心力を作用させるための電子部品及び孔版マ
スクの回転は、該電子部品から孔版マスクを離す版離し
動作中に行ってもいいし、該版離し動作の前に行っても
よい。In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is to provide a stencil mask in which a through hole for forming a bump electrode is formed by applying a conductive paste to an electrode forming surface of an electronic component. A bump electrode forming method of forming a bump electrode on the electrode forming surface by printing, wherein a conductive paste is filled into a through-hole of a stencil mask that has been brought into contact with the electronic component, and then filled in the through-hole. The electronic component and the stencil mask are rotated so that the conductive particles in the conductive paste move to the electrode forming surface side of the electronic component by centrifugal force. In the bump electrode forming method according to the first aspect, the conductive paste is filled in the through-hole of the stencil mask that has been brought into contact with the electronic component, and then the electronic component and the stencil mask are rotated to fill the through-hole. The conductive particles in the conductive paste are moved to the electrode forming surface side of the electronic component by centrifugal force to increase the density of the conductive particles in the conductive paste in a portion in contact with the electrode forming surface. As a result, the adhesion (tacking force) between the electrode forming surface of the electronic component and the conductive paste increases, and the adhesion (shear stress) between the inner wall of the through hole of the stencil mask and the conductive paste decreases. . Therefore, when the stencil mask is separated from the electronic component, a good bump electrode can be formed without a part of the conductive paste in the through-hole being in close contact with the stencil mask and being dragged. Note that the rotation of the electronic component and the stencil mask for applying the centrifugal force may be performed during a plate separating operation for separating the stencil mask from the electronic component, or may be performed before the plate separating operation.
【0007】請求項2の発明は、バンプ電極形成用の貫
通孔が形成された孔版マスクを通して、電子部品の電極
形成面に導電性ペーストを印刷することにより、該電極
形成面にバンプ電極を形成するバンプ電極形成装置であ
って、該貫通孔に導電性ペーストを充填した孔版マスク
及び該孔版マスクに接触した電子部品を保持する保持手
段と、該貫通孔に充填された導電性ペースト中の導電性
粒子が該電子部品の電極形成面側に遠心力で移動する程
度に、該保持手段で保持した該電子部品及び該孔版マス
クを回転させる回転手段とを設けたことを特徴とするも
のである。この請求項2のバンプ電極形成装置では、電
子部品に接触させた孔版マスクの貫通孔に導電性ペース
トを充填した後、保持手段で保持した該電子部品及び該
孔版マスクを所定の回転数で回転させることにより、該
貫通孔に充填された導電性ペースト中の導電性粒子を該
電子部品の電極形成面側に遠心力で移動させ、該電極形
成面に接する部分の導電性ペースト中の導電性粒子の密
度を高める。これにより、該電子部品の電極形成面と導
電性ペーストとの密着力(タッキング力)が強くなると
とともに、該孔版マスクの貫通孔の内壁と導電性ペース
トとの密着力(ズリ応力)が弱くなる。したがって、該
電子部品から該孔版マスクを離す際に該貫通孔内の導電
性ペーストの一部が該孔版マスクに密着して引きずられ
ることなく、良好なバンプ電極を形成することができ
る。According to a second aspect of the present invention, a bump paste is formed on the electrode forming surface by printing a conductive paste on the electrode forming surface of the electronic component through a stencil mask having a through hole for forming a bump electrode. A stencil mask filled with a conductive paste in the through hole, holding means for holding an electronic component in contact with the stencil mask, and a conductive material in the conductive paste filled in the through hole. Rotating means for rotating the electronic component and the stencil mask held by the holding means to such an extent that the conductive particles move to the electrode forming surface side of the electronic component by centrifugal force. . In the bump electrode forming apparatus according to the second aspect, after the conductive paste is filled into the through-holes of the stencil mask in contact with the electronic component, the electronic component and the stencil mask held by the holding means are rotated at a predetermined rotation speed. By doing so, the conductive particles in the conductive paste filled in the through holes are moved by centrifugal force to the electrode forming surface side of the electronic component, and the conductive particles in the conductive paste in a portion in contact with the electrode forming surface are removed. Increase the density of the particles. As a result, the adhesion (tacking force) between the electrode forming surface of the electronic component and the conductive paste increases, and the adhesion (shear stress) between the inner wall of the through hole of the stencil mask and the conductive paste decreases. . Therefore, when the stencil mask is separated from the electronic component, a good bump electrode can be formed without a part of the conductive paste in the through-hole being in close contact with the stencil mask and being dragged.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明を、電子部品として
の半導体素子(半導体チップ)が多数形成されたウェー
ハに導電性ペーストからなるバンプ電極を一括形成する
バンプ電極形成方法に適用した実施形態について説明す
る。図1は、本実施形態に係るバンプ電極形成方法の説
明図である。この方法では、ウェーハ1の導電性パッド
1a上に孔版マスク2の貫通孔2aがくるように孔版マ
スク2を位置決めしてウェーハ1に接触させた状態で、
該貫通孔2aに導電性ペーストとしてのクリームはんだ
3を充填する。その後、ウェーハ1及び孔版マスク2を
図中矢印A方向に回転させることにより、該貫通孔2a
に充填されたクリームはんだ3中の導電性粒子であるは
んだ粒子3aに対して、ウェーハ1の導電性パッド1a
側に移動するような遠心力を作用させる。この回転によ
り、上記導電性パッド1aに接する部分のはんだ粒子3
aの密度を高める。これにより、ウェーハ1の導電性パ
ッド1aとクリームはんだ3との密着力(タッキング
力)が強くなるととともに、孔版マスク2の貫通孔2a
の内壁とクリームはんだ3との密着力(ズリ応力)が弱
くなる。したがって、ウェーハ1から孔版マスク2を離
す際に貫通孔2a内のクリームはんだ3の一部が孔版マ
スク2に密着して引きずられることなく、良好なバンプ
電極を一括形成することができる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment in which the present invention is applied to a bump electrode forming method for collectively forming bump electrodes made of a conductive paste on a wafer on which a large number of semiconductor elements (semiconductor chips) as electronic components are formed. Will be described. FIG. 1 is an explanatory diagram of the bump electrode forming method according to the present embodiment. In this method, the stencil mask 2 is positioned so that the through-hole 2a of the stencil mask 2 is located on the conductive pad 1a of the wafer 1, and the stencil mask 2 is brought into contact with the wafer 1.
The solder paste 3 as a conductive paste is filled in the through holes 2a. Thereafter, by rotating the wafer 1 and the stencil mask 2 in the direction of arrow A in the figure, the through holes 2a
The conductive pads 1a of the wafer 1 correspond to the solder particles 3a, which are conductive particles in the cream solder 3 filled in the solder.
Apply centrifugal force to move to the side. Due to this rotation, the solder particles 3 in the portion in contact with the conductive pad 1a
Increase the density of a. As a result, the adhesion (tacking force) between the conductive pad 1a of the wafer 1 and the cream solder 3 is increased, and the through-hole 2a of the stencil mask 2 is formed.
The adhesion force (shear stress) between the inner wall of the solder and the cream solder 3 is weakened. Therefore, when the stencil mask 2 is separated from the wafer 1, a part of the cream solder 3 in the through-hole 2a does not stick to the stencil mask 2 and is dragged, so that good bump electrodes can be formed at once.
【0009】図2は、本実施形態に係るバンプ電極形成
装置の概略構成図である。このバンプ電極形成装置は、
機密筺体100の内部に、複数(本実施形態では10
組)のバンプ電極形成用のユニットU1〜U10を備え
ている。各ユニットは、主軸10、該主軸10の端部に
取り付けられたプーリー11、該主軸に一方の端部が固
定された1組のアーム部材12、該アーム部材の他端に
回転可能に取り付けられた1組のテーブルホルダー1
3、該テーブルホルダー13の鉛直方向の一端部に固定
されたテーブル14などにより構成されている。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a bump electrode forming apparatus according to the present embodiment. This bump electrode forming apparatus
A plurality (10 in this embodiment)
(Set) U1 to U10 for forming bump electrodes. Each unit includes a main shaft 10, a pulley 11 attached to an end of the main shaft 10, a set of arm members 12 having one end fixed to the main shaft, and a rotatably mounted other end of the arm member. One set of table holder 1
3, a table 14 and the like fixed to one end of the table holder 13 in the vertical direction.
【0010】上記主軸11のプーリー11は、駆動モー
タ15の回転軸15aに取り付けられた駆動プーリー1
6とベルト17で連結され、両プーリー間で回転駆動力
を伝達可能になっている。また、各ユニットの主軸10
は軸受け18で連結されている。The pulley 11 of the main shaft 11 is a drive pulley 1 attached to a rotation shaft 15a of a drive motor 15.
6 and a belt 17 so that the rotational driving force can be transmitted between both pulleys. Also, the main shaft 10 of each unit
Are connected by a bearing 18.
【0011】上記テーブル14及びテーブルホルダー1
3は、ウェーハ1および孔版マスク2を保持する保持手
段としても用いられ、ウェーハ1および孔版マスク2を
図示しないクランプ機構で保持できるようになってい
る。The table 14 and the table holder 1
Numeral 3 is also used as a holding means for holding the wafer 1 and the stencil mask 2, so that the wafer 1 and the stencil mask 2 can be held by a clamp mechanism (not shown).
【0012】上記気密筺体100の内部は、図示しない
温度調整装置によりほぼ一定温度に保持されている。ま
た、この気密筺体100の内部は窒素ガスなどの不活性
ガスで満たされ、バンプ電極形成に用いるクリームはん
だ等が酸化しないようにしている。また、気密筺体10
0の内部には、アルコール等の液体19を収容した容器
20が設置され、該容器20から蒸発した蒸気により気
密筺体100の内部がほぼ飽和蒸気圧の雰囲気になり、
これにより、上記クリームはんだの乾燥を長時間(例え
ば1時間以上)防止できるようになっている。上記容器
20内の液体は、自然蒸発させてもいいし、加熱して強
制的に蒸発させてもよい。また、液体を霧吹きノズルか
らミスト状にして気密筺体100内に放出させることに
より、所定の雰囲気にしてもよい。この気密筺体100
の内部の雰囲気をより正確に調整するために、蒸気圧セ
ンサを設置し、該センサの出力に基づいて上記液体の加
熱や霧吹き動作を制御してもよい。The inside of the hermetic housing 100 is maintained at a substantially constant temperature by a temperature controller (not shown). Further, the inside of the hermetic housing 100 is filled with an inert gas such as a nitrogen gas so that cream solder or the like used for forming bump electrodes is not oxidized. In addition, the airtight housing 10
0, a container 20 accommodating a liquid 19 such as alcohol is installed, and the vapor evaporated from the container 20 causes the inside of the hermetic housing 100 to have an atmosphere of a substantially saturated vapor pressure,
Thereby, drying of the cream solder can be prevented for a long time (for example, 1 hour or more). The liquid in the container 20 may be spontaneously evaporated, or may be heated and forcibly evaporated. Alternatively, a predetermined atmosphere may be obtained by discharging the liquid into the airtight housing 100 in the form of a mist from the spray nozzle. This airtight housing 100
In order to more accurately adjust the atmosphere inside the device, a vapor pressure sensor may be provided, and the heating and spraying of the liquid may be controlled based on the output of the sensor.
【0013】また、上記気密筺体100のドアは、上記
所定の雰囲気を保持するために2重扉構造にするのが好
ましい。Further, it is preferable that the door of the airtight housing 100 has a double door structure in order to maintain the predetermined atmosphere.
【0014】上記構成のバンプ電極形成装置では、図2
のユニットU1に示すように、まずテーブル14上にウ
ェーハ1がセットされ、該ウェーハ1の電極形成面に孔
版マスク2を接触させ、該孔版マスク2の上からスキー
ジ4を用いてクリームはんだ塗り込み、該孔版マスク2
の貫通孔にクリームはんだを充填する。In the bump electrode forming apparatus having the above structure, FIG.
As shown in the unit U1, the wafer 1 is first set on the table 14, the stencil mask 2 is brought into contact with the electrode forming surface of the wafer 1, and cream solder is applied from above the stencil mask 2 using a squeegee 4. , The stencil mask 2
Is filled with cream solder.
【0015】次に、図2のユニットU2に示すように、
上記クリームはんだを充填した後、テーブルホルダー1
3を軸13aの周りに180度回転させ、主軸10側に
孔版マスク2が位置するようにする。そして、駆動モー
タをONして主軸10を回転させ、ウェーハ1および孔
版マスク2を、アーム部材12、テーブルホルダー13
およびテーブル14とともに回転させる。この回転によ
り、孔版マスク2の貫通孔2aに充填されたクリームは
んだ中のはんだ粒子をウェーハ1の電極形成面側に遠心
力で移動させ、該電極形成面に接する部分のクリームは
んだ中の導電性粒子の密度を高める。これにより、ウェ
ーハ1の電極形成面とクリームはんだとの密着力(タッ
キング力)が強くなるととともに、孔版マスク2の貫通
孔2aの内壁とクリームはんだとの密着力(ズリ応力)
が弱くなる。Next, as shown in a unit U2 in FIG.
After filling the cream solder, the table holder 1
3 is rotated by 180 degrees around the axis 13a so that the stencil mask 2 is positioned on the main shaft 10 side. Then, the drive motor is turned on to rotate the main shaft 10, and the wafer 1 and the stencil mask 2 are moved to the arm member 12 and the table holder 13
And with the table 14. By this rotation, the solder particles in the cream solder filled in the through holes 2a of the stencil mask 2 are moved to the electrode forming surface side of the wafer 1 by centrifugal force, and the conductive portion of the cream solder in the portion in contact with the electrode forming surface is contacted. Increase the density of the particles. Thereby, the adhesive force (tacking force) between the electrode forming surface of the wafer 1 and the cream solder is increased, and the adhesive force (shear stress) between the inner wall of the through hole 2a of the stencil mask 2 and the cream solder.
Becomes weaker.
【0016】次に、図2のユニットU3に示すように、
テーブルホルダー13を再び軸13aの周りに180度
回転させて、ウェーハ1及び孔版マスク2を元の位置に
戻す。そして、ウェーハ1及び孔版マスク2を気密筺体
100内に必要に応じて放置し、さらにウェーハ1の電
極形成面とクリームはんだとの密着力(タッキング力)
を強める。Next, as shown in a unit U3 in FIG.
The table holder 13 is again rotated by 180 degrees around the axis 13a to return the wafer 1 and the stencil mask 2 to their original positions. Then, the wafer 1 and the stencil mask 2 are left in the hermetic housing 100 as necessary, and the adhesion (tacking force) between the electrode forming surface of the wafer 1 and the cream solder.
Strengthen.
【0017】次に、図2のユニットU10に示すよう
に、ウェーハ1から孔版マスク2を離すと、ウェーハ2
の各半導体素子上にバンプ電極が一括形成される。Next, as shown in a unit U10 in FIG. 2, when the stencil mask 2 is separated from the wafer 1,
Bump electrodes are collectively formed on each of the semiconductor elements.
【0018】以上、本実施形態によれば、ウェーハ1か
ら孔版マスク2を離す際に貫通孔2a内のクリームはん
だの一部が該孔版マスク2に密着して引きずられること
なく、該ウェーハ1の電極形成面に良好なバンプ電極を
一括形成することができる。As described above, according to the present embodiment, when the stencil mask 2 is separated from the wafer 1, a part of the cream solder in the through-hole 2a does not stick to the stencil mask 2 and is dragged. Good bump electrodes can be collectively formed on the electrode formation surface.
【0019】また、複数のウェーハを上記気密筺体10
0内にセットし、クリームはんだの酸化や乾燥を防止し
ながら、複数のウェーハ1及び孔版マスク2を回転させ
たり長時間かけて孔版マスク2を離したりすることによ
り、ウェーハ1の電極形成面とクリームはんだとの密着
力(タッキング力)を強めた状態で版離し動作を行うこ
とができるので、良好なバンプ電極が形成されたウェー
ハ1の生産性を高めることができる。In addition, a plurality of wafers are placed in the hermetic housing 10.
0, and rotating the plurality of wafers 1 and the stencil mask 2 or separating the stencil mask 2 over a long period of time while preventing the oxidation and drying of the cream solder, thereby making the electrode forming surface of the wafer 1 Since the plate separating operation can be performed in a state in which the adhesive force (tacking force) with the cream solder is strengthened, the productivity of the wafer 1 on which good bump electrodes are formed can be increased.
【0020】なお、上記実施形態において、上記ユニッ
トの回転で発生した気流が隣のユニットに及ばないよう
に、各ユニットの間に仕切り壁を設けても良い。また、
上記実施形態では、10組のユニットを設けた場合につ
いて説明したが、本発明は、ユニットの数に限定される
ことなくて適用できるものである。In the above embodiment, a partition wall may be provided between each unit so that the airflow generated by the rotation of the unit does not reach the adjacent unit. Also,
In the above embodiment, the case where ten sets of units are provided has been described, but the present invention can be applied without being limited to the number of units.
【0021】また、上記実施形態においては、導電性ペ
ーストとしてクリームはんだを充填する場合について説
明したが、本発明は、このクリームはんだに限らす他の
導電性ペーストを充填する場合にも適用できるものであ
る。In the above embodiment, the case where cream solder is filled as the conductive paste has been described. However, the present invention can be applied to the case where other conductive paste limited to this cream solder is filled. It is.
【0022】また、上記実施形態においては、基板に表
面実装される半導体素子が複数形成されているウェーハ
1上にバンプ電極を一括形成する場合について説明した
が、本発明は、半導体チップがモールドされたBGA、
CSPタイプのパッケージや、基板に表面実装されるコ
ネクタ類にバンプ電極を形成する場合にも適用すること
ができ、同様な効果が得られるものである。In the above embodiment, the case where bump electrodes are collectively formed on the wafer 1 on which a plurality of semiconductor elements surface-mounted on a substrate are formed has been described. BGA,
The present invention can also be applied to a case where bump electrodes are formed on a CSP type package or connectors mounted on a surface of a substrate, and the same effect can be obtained.
【0023】また、パッケージやコネクタ等の電子部品
にバンプ電極を形成する場合、バンプ電極形成面が同一
の仮想平面上に位置するように複数の電子部品を並べ、
該複数の電子部品のバンプ電極形成面にバンプ電極を一
括形成するようにしてもよい。When bump electrodes are formed on an electronic component such as a package or a connector, a plurality of electronic components are arranged so that the bump electrode formation surface is located on the same virtual plane.
The bump electrodes may be collectively formed on the bump electrode formation surfaces of the plurality of electronic components.
【0024】[0024]
【発明の効果】請求項1及び2の発明によれば、電子部
品から孔版マスクを離す際に貫通孔内の導電性ペースト
の一部が該孔版マスクに密着して引きずられることな
く、該電子部品の電極形成面に良好なバンプ電極を形成
することができるという効果がある。According to the first and second aspects of the present invention, when the stencil mask is separated from the electronic component, a part of the conductive paste in the through-hole does not adhere to the stencil mask and is not dragged. There is an effect that a good bump electrode can be formed on the electrode forming surface of the component.
【図1】本発明の実施形態に係るバンプ電極形成方法の
説明図。FIG. 1 is an explanatory view of a bump electrode forming method according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施形態に係るバンプ電極形成装置の
概略構成図。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a bump electrode forming apparatus according to an embodiment of the present invention.
1 ウェーハ 1a 導電性パッド 2 孔版マスク 2a 貫通孔 3 クリームはんだ 3a はんだ粒子 4 スキージ 10 主軸 11 プーリー 12 アーム部材 13 テーブルホルダー 14 テーブル 15 駆動モータ 16 駆動プーリー 17 ベルト 18 軸受け 19 飽和蒸気圧維持用の液体 20 容器 100 気密筐体 U1〜U10 バンプ電極形成用のユニット Reference Signs List 1 wafer 1a conductive pad 2 stencil mask 2a through hole 3 cream solder 3a solder particle 4 squeegee 10 main shaft 11 pulley 12 arm member 13 table holder 14 table 15 drive motor 16 drive pulley 17 belt 18 bearing 19 bearing liquid for maintaining saturated vapor pressure Reference Signs 20 container 100 hermetic housing U1 to U10 unit for forming bump electrode
Claims (2)
版マスクを通して、電子部品の電極形成面に導電性ペー
ストを印刷することにより、該電極形成面にバンプ電極
を形成するバンプ電極形成方法であって、 該電子部品に接触させた孔版マスクの貫通孔に導電性ペ
ーストを充填した後、該貫通孔に充填された導電性ペー
スト中の導電性粒子が該電子部品の電極形成面側に遠心
力で移動するように、該電子部品及び該孔版マスクを回
転させることを特徴とするバンプ電極形成方法。A method of forming a bump electrode on a surface of an electronic component by printing a conductive paste through a stencil mask in which a through hole for forming a bump electrode is formed. After filling the through-hole of the stencil mask contacted with the electronic component with the conductive paste, the conductive particles in the conductive paste filled in the through-hole are on the electrode forming surface side of the electronic component. A method of forming a bump electrode, comprising rotating the electronic component and the stencil mask so as to move by centrifugal force.
版マスクを通して、電子部品の電極形成面に導電性ペー
ストを印刷することにより、該電極形成面にバンプ電極
を形成するバンプ電極形成装置であって、 該貫通孔に導電性ペーストを充填した孔版マスク及び該
孔版マスクに接触した電子部品を保持する保持手段と、 該貫通孔に充填された導電性ペースト中の導電性粒子が
該電子部品の電極形成面側に遠心力で移動する程度に、
該保持手段で保持した該電子部品及び該孔版マスクを回
転させる回転手段とを設けたことを特徴とするバンプ電
極形成装置。2. A bump electrode forming apparatus for forming a bump electrode on an electrode forming surface by printing a conductive paste on an electrode forming surface of an electronic component through a stencil mask having a through hole for forming a bump electrode. A stencil mask in which the conductive paste is filled in the through-hole and holding means for holding an electronic component in contact with the stencil mask; and the conductive particles in the conductive paste filled in the through-hole are charged with the electron. To the extent that it moves to the electrode forming side of the part by centrifugal force,
A rotating means for rotating the electronic component and the stencil mask held by the holding means;
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9231498A JPH11274199A (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Bump electrode forming method and device method and device therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9231498A JPH11274199A (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Bump electrode forming method and device method and device therefor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11274199A true JPH11274199A (en) | 1999-10-08 |
Family
ID=14050949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9231498A Withdrawn JPH11274199A (en) | 1998-03-19 | 1998-03-19 | Bump electrode forming method and device method and device therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11274199A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1998
- 1998-03-19 JP JP9231498A patent/JPH11274199A/en not_active Withdrawn
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