JPH11274355A - Plastic package with heat sink - Google Patents

Plastic package with heat sink

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JPH11274355A
JPH11274355A JP10069657A JP6965798A JPH11274355A JP H11274355 A JPH11274355 A JP H11274355A JP 10069657 A JP10069657 A JP 10069657A JP 6965798 A JP6965798 A JP 6965798A JP H11274355 A JPH11274355 A JP H11274355A
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JP
Japan
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heat sink
plastic package
based metal
heat
plate
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Application number
JP10069657A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Takamichi
博 高道
Akihiro Hidaka
明弘 日高
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Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Original Assignee
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/551Materials of bond wires
    • H10W72/552Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
    • H10W72/5522Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/884Die-attach connectors and bond wires

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 放熱板やプラスチック基板31に損傷が生じ
易く、あるいはSiチップ35の表面に割れが発生し易
く、かつ放熱板の放熱性能を確保することが困難であっ
た。 【解決手段】 Siチップ35を収容するキャビティ3
1bが形成されたプラスチック基板31と、プラスチッ
ク基板31に貼り付けられた放熱板13とを備えた放熱
板付きプラスチックパッケージ10において、ヤング率
が15000kg/mm2 以上であり、かつ熱伝導率が
100W/mK以上である材料を用いて放熱板13を形
成する。
(57) [Problem] To easily damage a heat radiating plate or a plastic substrate 31, or to easily generate a crack on the surface of a Si chip 35, and it is difficult to secure the heat radiating performance of the heat radiating plate. SOLUTION: A cavity 3 for accommodating a Si chip 35.
In the plastic package 10 with a heat sink provided with the plastic substrate 31 on which the plastic substrate 1b is formed and the heat sink 13 attached to the plastic substrate 31, the Young's modulus is 15000 kg / mm 2 or more and the thermal conductivity is 100 W The heat radiating plate 13 is formed by using a material that is equal to or higher than / mK.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は放熱板付きプラスチ
ックパッケージに関し、より詳細にはキャビティダウン
BGA(Ball Grid Array)タイプの放熱板付きプラスチ
ックパッケージに関する。
The present invention relates to a plastic package with a heat sink, and more particularly to a plastic package with a heat sink of a cavity-down BGA (Ball Grid Array) type.

【0002】[0002]

【従来の技術】キャビティダウンBGAタイプの放熱板
付きプラスチックパッケージには種々のものが開発され
ている。図6は従来のこの種放熱板付きプラスチックパ
ッケージを摸式的に示した断面図であり、図中31はプ
ラスチック基板を示している。プラスチック基板31は
BT(Bismaleimide Triazine)樹脂、ポリイミド樹脂等
を用いて略直方体板形状に形成され、その表面31aに
はCu箔をパターニングして形成されたプリント配線
(共に図示せず)が貼着されている。プラスチック基板
31はスルーホールを設けた多層構造のものでもよい。
このプリント配線の所定箇所には複数個のパッド32a
が形成され、各パッド32aには略球形状の半田ボール
32がそれぞれ取り付けられている。一方、プラスチッ
ク基板31の裏面31cには接着層34aを介して放熱
板33が取り付けられ、放熱板33はヤング率が100
00〜12000kg/mm2 、熱伝導率が250〜3
90W/mKのCu系金属(純Cu、Cu−3%Fe合
金等)を用い、厚さがtの略直方体板形状に成形されて
いる。またプラスチック基板31の略中央部には平面視
略正方形形状のキャビティ31bが形成され、キャビテ
ィ31b内の所定箇所には略正方形板状のシリコン(以
下、Siと記す)チップ35が配設されており、Siチ
ップ35は絶縁層及びAg層とからなる層34bを介し
て放熱板33に貼り付けられている。またSiチップ表
面35bの端子35aとプリント配線の端子31dとは
Auワイヤ36を介して接続され、またキャビティ31
b内にはSiチップ35、Auワイヤ36を覆う態様で
モールド樹脂37が充填されている。これらプラスチッ
ク基板31、キャビティ31b、放熱板33等を含んで
キャビティダウンBGAタイプの放熱板付きプラスチッ
クパッケージ30が構成されている。
2. Description of the Related Art A variety of plastic packages with a cavity-down BGA type heat sink have been developed. FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a conventional plastic package with a heat sink of this type. In the figure, reference numeral 31 denotes a plastic substrate. The plastic substrate 31 is formed in a substantially rectangular parallelepiped plate shape using BT (Bismaleimide Triazine) resin, polyimide resin, or the like, and a printed wiring (both not shown) formed by patterning a Cu foil is adhered to the surface 31a. Have been. The plastic substrate 31 may have a multilayer structure provided with through holes.
A plurality of pads 32a are provided at predetermined positions of the printed wiring.
Are formed, and substantially spherical solder balls 32 are attached to the respective pads 32a. On the other hand, a heat sink 33 is attached to the back surface 31c of the plastic substrate 31 via an adhesive layer 34a, and the heat sink 33 has a Young's modulus of 100.
00 to 12000 kg / mm 2 , thermal conductivity 250 to 3
It is formed in a substantially rectangular parallelepiped plate shape having a thickness of t using a Cu-based metal (pure Cu, Cu-3% Fe alloy or the like) of 90 W / mK. A cavity 31b having a substantially square shape in plan view is formed at a substantially central portion of the plastic substrate 31, and a substantially square plate-like silicon (hereinafter, referred to as Si) chip 35 is provided at a predetermined position in the cavity 31b. The Si chip 35 is attached to the heat sink 33 via a layer 34b including an insulating layer and an Ag layer. The terminal 35a on the surface 35b of the Si chip and the terminal 31d of the printed wiring are connected via an Au wire 36.
B is filled with a mold resin 37 so as to cover the Si chip 35 and the Au wire 36. The plastic package 31, including the plastic substrate 31, the cavity 31b, the heat sink 33, etc., is provided with a cavity-down BGA type heat sink.

【0003】このように構成された放熱板付きプラスチ
ックパッケージ30を製造する場合、プラスチック基板
31の表面31aに貼着したCu箔にフォトレジスト技
術、エッチング技術等を用いてパターニングし、メッキ
技術等を用いてプリント配線を形成した後、プラスチッ
ク基板31の略中央部にキャビティ31bを形成する。
次にプラスチック基板31の裏面31cに接着層34a
を介して放熱板33を貼り付けた後、プリント配線のパ
ッド32aに半田ボール32を取り付ける。次に図7
(a)に示したように、絶縁層(図示せず)上に熱硬化
性のAgペースト34cを塗布し、Siチップ35を仮
付けする。そしてこれらに所定温度Tの加熱処理を施
し、絶縁ペースト34cに硬化反応を起こさせると、放
熱板33上にSiチップ35が貼着させられる(図7
(b))。この後、Auワイヤ36を用いたワイヤボン
ディング技術により端子31d、35a間を接続し、モ
ールド樹脂37を充填すると、放熱板付きプラスチック
パッケージ30にSiチップ35が実装される。
When manufacturing the plastic package 30 with a heat radiating plate configured as described above, the Cu foil adhered to the surface 31a of the plastic substrate 31 is patterned by using a photoresist technique, an etching technique or the like, and a plating technique or the like is applied. After forming the printed wiring by using this, a cavity 31b is formed at a substantially central portion of the plastic substrate 31.
Next, an adhesive layer 34a is formed on the back surface 31c of the plastic substrate 31.
Then, the solder ball 32 is attached to the printed wiring pad 32a. Next, FIG.
As shown in (a), a thermosetting Ag paste 34c is applied on an insulating layer (not shown), and a Si chip 35 is temporarily attached. Then, when a heat treatment is performed on these at a predetermined temperature T to cause a curing reaction in the insulating paste 34c, a Si chip 35 is attached on the heat sink 33 (FIG. 7).
(B)). Thereafter, the terminals 31d and 35a are connected by a wire bonding technique using an Au wire 36, and when the mold resin 37 is filled, the Si chip 35 is mounted on the plastic package 30 with a heat sink.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記した放熱板付きプ
ラスチックパッケージ30においては、Siチップ35
に比べて放熱板33の熱膨張係数が大きいので、加熱処
理を施した後に常温まで冷却する際、放熱板33が比較
的大幅に収縮し、図7(b)に示したようにSiチップ
表面35bに矢印A方向の曲げ応力が生じ、割れ38が
発生し易い(割れ発生率が約3〜5%)という課題があ
った。
In the plastic package 30 with a heat sink described above, the Si chip 35
Since the heat radiating plate 33 has a larger thermal expansion coefficient than that of the heat radiating plate 33, the heat radiating plate 33 contracts relatively significantly when cooled to room temperature after being subjected to the heat treatment, and as shown in FIG. There is a problem that a bending stress in the direction of arrow A is generated at 35b, and a crack 38 is easily generated (a crack occurrence rate is about 3 to 5%).

【0005】また図示しないが、この放熱板がSiチッ
プ35と略同様の熱膨張係数を有する材料を用いて形成
されたものでは、Siチップ表面35bに割れが発生す
るのは防止し得る一方、プラスチック基板31と前記放
熱板との熱膨張係数差が大きく、これらの間に熱応力が
生じ易くなるので、前記放熱板やプラスチック基板31
に損傷が発生するおそれがあるという課題があった。
Although not shown, if the heat radiating plate is formed using a material having a thermal expansion coefficient substantially similar to that of the Si chip 35, it is possible to prevent cracks from being generated on the surface 35b of the Si chip. The difference between the thermal expansion coefficients of the plastic substrate 31 and the heat sink is large, and thermal stress is easily generated between them.
There is a problem that damage may be caused to the device.

【0006】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、放熱板の放熱性能を確保すると共に、放熱板やプラ
スチック基板に損傷が生じるのを抑制することができ、
かつSiチップの表面に割れが発生するのを確実に防止
することができる放熱板付きプラスチックパッケージを
提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is possible to secure the heat radiation performance of a heat radiating plate and to prevent the heat radiating plate and a plastic substrate from being damaged.
It is another object of the present invention to provide a plastic package with a heat sink that can reliably prevent cracks from being generated on the surface of a Si chip.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段及びその効果】図4はAg
ペースト34cを介して放熱板に仮付けされたSiチッ
プ35(共に図7)に所定温度T(T=150℃)の加
熱処理を施した後、常温まで冷却した際、Siチップ3
5にかかる曲げ応力と、前記放熱板のヤング率との関係
をシミュレーションにより調査した結果を示した曲線図
である。図中縦軸はSiチップ35にかかる曲げ応力を
示しており、この曲げ応力は、前記放熱板が純Cu材料
を用いて形成されている場合(B点)を100%として
それぞれ相対的に表示している。図4から明らかなよう
に、ヤング率が15000kg/mm2 以上の材料を用
いた場合、前記放熱板が変形し難くなるので、Siチッ
プ35にかかる曲げ応力を90%以下に減少させ得るこ
ととなる。この結果、Siチップ35における割れ発生
率は従来のものの場合と比較し、50%以上削減するこ
とができる。
FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of the present invention.
After performing a heat treatment at a predetermined temperature T (T = 150 ° C.) on the Si chip 35 (both shown in FIG. 7) temporarily attached to the heat radiating plate via the paste 34c, the Si chip 35 is cooled to room temperature.
FIG. 10 is a curve diagram showing a result of investigation by simulation of a relationship between a bending stress applied to No. 5 and a Young's modulus of the heat sink. In the figure, the vertical axis indicates the bending stress applied to the Si chip 35, and the bending stress is relatively expressed assuming that the heat radiating plate is formed using a pure Cu material (point B) as 100%. doing. As is clear from FIG. 4, when a material having a Young's modulus of 15000 kg / mm 2 or more is used, the heat radiating plate is hardly deformed, so that the bending stress applied to the Si chip 35 can be reduced to 90% or less. Become. As a result, the crack occurrence rate in the Si chip 35 can be reduced by 50% or more as compared with the conventional case.

【0008】図5は熱抵抗Rと熱伝導率λとの関係をシ
ミュレーションにより調査した結果を示した曲線図であ
り、図中Cは前記放熱板が純Cu材料を用いて形成され
ている場合を示し、そのときの熱伝導率λは390W/
mK、熱抵抗Rは14.7℃/Wである。一般的にヤン
グ率が高い材料では熱伝導率λが低くなり、したがって
熱抵抗は増大する。しかし図5から明らかなように、熱
伝導率λが100W/mK以上の材料では熱抵抗Rを1
6.2℃/W(純Cuの場合に比べて約11%アップ程
度)以下に抑え込み得ることとなり、放熱性能を確保し
得ることとなる。
FIG. 5 is a curve diagram showing the result of an investigation of the relationship between the thermal resistance R and the thermal conductivity λ by simulation. In FIG. 5, C shows the case where the heat sink is formed using a pure Cu material. And the thermal conductivity λ at that time is 390 W /
mK and thermal resistance R are 14.7 ° C./W. Generally, a material having a high Young's modulus has a low thermal conductivity λ, and thus has a high thermal resistance. However, as is evident from FIG. 5, a material having a thermal conductivity λ of 100 W / mK or more has a thermal resistance R of 1
6.2 ° C./W (approximately 11% higher than that of pure Cu) or less, and heat radiation performance can be secured.

【0009】本発明者等は、上記したSiチップにかか
る曲げ応力と放熱板のヤング率との関係、熱抵抗率Rと
熱伝導率λとの関係等について研究を行った結果、ヤン
グ率が15000kg/mm2 以上、熱伝導率λが10
0W/mK以上の材料を用いた放熱板では放熱性能を確
保しつつ、Siチップに割れが発生するのを防止し得る
こと、またCu/Ni/Cu系、Cu/Fe/Cu系、
Cu/Mo/Cu系、Ni/Cu/Ni系クラッド材や
ロー付け接合材は前記諸特性(ヤング率、熱伝導率)に
優れていることを知見し、本発明を完成するに至った。
The present inventors have conducted research on the relationship between the bending stress applied to the Si chip and the Young's modulus of the heat sink, the relationship between the thermal resistivity R and the thermal conductivity λ, and the like. 15000 kg / mm 2 or more, thermal conductivity λ is 10
In a heat sink using a material of 0 W / mK or more, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the Si chip while securing heat dissipation performance. Also, it is possible to prevent Cu / Ni / Cu, Cu / Fe / Cu,
The inventors have found that Cu / Mo / Cu-based, Ni / Cu / Ni-based clad materials and brazing materials have excellent properties (Young's modulus and thermal conductivity), and have completed the present invention.

【0010】すなわち、本発明に係る放熱板付きプラス
チックパッケージは、Siチップを収容するキャビティ
が形成されたプラスチック基板と、該プラスチック基板
に貼り付けられた放熱板とを備えた放熱板付きプラスチ
ックパッケージにおいて、ヤング率が15000kg/
mm2 以上であり、かつ熱伝導率が100W/mK以上
である材料を用いて前記放熱板が形成されていることを
特徴としている(1)。
That is, a plastic package with a heat sink according to the present invention is a plastic package with a heat sink provided with a plastic substrate having a cavity for accommodating a Si chip, and a heat sink attached to the plastic substrate. , Young's modulus is 15000kg /
and mm 2 or more, and the thermal conductivity is characterized in that the heat radiating plate using a material is 100W / mK or more is formed (1).

【0011】上記した放熱板付きプラスチックパッケー
ジ(1)によれば、ヤング率が15000kg/mm2
以上である材料を用いて前記放熱板が形成されており、
加熱処理後の冷却工程中においても前記放熱板が変形し
難いので、前記Siチップにかかる曲げ応力を大幅に減
少させることができ、この結果、該Siチップの表面に
割れが発生するのを確実に防止することができる。また
熱伝導率が100W/mK以上である材料を用いて前記
放熱板が形成されているので、熱抵抗Rを低く抑えるこ
とができ、前記放熱板の放熱性能を確実に確保すること
ができる。また前記プラスチック基板を前記放熱板と略
同様の熱膨張係数を有する材料を用いて形成することが
可能であり、熱応力が生じ難いので、前記放熱板や前記
プラスチック基板に損傷が発生するのを阻止することが
できる。
According to the plastic package (1) with a heat sink, the Young's modulus is 15,000 kg / mm 2.
The radiator plate is formed using the above materials,
Even during the cooling step after the heat treatment, the heat radiating plate is hardly deformed, so that the bending stress applied to the Si chip can be greatly reduced. As a result, it is ensured that cracks are generated on the surface of the Si chip. Can be prevented. Further, since the heat radiating plate is formed using a material having a thermal conductivity of 100 W / mK or more, the heat resistance R can be kept low, and the heat radiating performance of the heat radiating plate can be reliably ensured. Further, it is possible to form the plastic substrate using a material having substantially the same thermal expansion coefficient as the heat sink, and it is difficult for thermal stress to occur, so that damage to the heat sink and the plastic substrate can be prevented. Can be blocked.

【0012】また本発明に係る放熱板付きプラスチック
パッケージは、放熱板付きプラスチックパッケージ
(1)において、前記放熱板がCu/Ni/Cu系、C
u/Fe/Cu系、Cu/Mo/Cu系、またはNi/
Cu/Ni系金属板のクラッド材、またはロー付け接合
材からなることを特徴としている(2)。
Further, in the plastic package with a heat sink according to the present invention, in the plastic package with a heat sink (1), the heat sink is made of a Cu / Ni / Cu-based material.
u / Fe / Cu system, Cu / Mo / Cu system, or Ni /
It is characterized by comprising a clad material of a Cu / Ni-based metal plate or a brazing material (2).

【0013】上記した放熱板付きプラスチックパッケー
ジ(2)によれば、前記放熱板がCu/Ni/Cu系、
Cu/Fe/Cu系、Cu/Mo/Cu系、またはNi
/Cu/Ni系金属板のクラッド材、またはロー付け接
合材からなっており、熱伝導率が比較的に大きいCu系
金属板と、ヤング率が比較的に大きいNi系、Fe系、
またはMo系金属板とが交互に積層・接合されているの
で、これらの金属板の厚さ、積層数、圧延率等を調整す
ることにより、前記放熱板のヤング率を15000kg
/mm2 以上、かつ熱伝導率を100W/mK以上に確
実に設定することができる。また前記放熱板がNi/C
u/Ni系金属板のクラッド材からなる場合には、前記
放熱板の外表面にNiメッキを施す必要がなくなり、メ
ッキ処理の手間を省くことができる。またロー付け接合
材の場合、前記各金属板がロー付けにより貼り合わせら
れており、前記クラッド材に比べて各層の厚さが均一で
あるので、貼り合わせた後の曲げ歪みを一層少なくする
ことができる。
According to the plastic package (2) with a heat sink described above, the heat sink is made of a Cu / Ni / Cu system.
Cu / Fe / Cu system, Cu / Mo / Cu system, or Ni
/ Cu / Ni-based metal plate clad material or brazing joining material, and has a relatively large thermal conductivity Cu-based metal plate and a relatively large Young's modulus Ni-based, Fe-based,
Alternatively, since the Mo-based metal plates are alternately laminated and joined, the Young's modulus of the heat sink is adjusted to 15,000 kg by adjusting the thickness, the number of layers, the rolling ratio, and the like of these metal plates.
/ Mm 2 or more, and the thermal conductivity can be reliably set to 100 W / mK or more. Also, the heat radiating plate is Ni / C
In the case of using a u / Ni-based metal plate clad material, it is not necessary to apply Ni plating to the outer surface of the heat radiating plate, and it is possible to save time and labor for plating. In the case of a brazing material, the metal plates are bonded by brazing, and the thickness of each layer is more uniform than that of the clad material, so that bending distortion after bonding is further reduced. Can be.

【0014】また本発明に係る放熱板付きプラスチック
パッケージは、放熱板付きプラスチックパッケージ
(2)において、前記クラッド材が、長軸方向に圧延さ
れた複数個の第1のCu系金属板と複数個のNi、Fe
またはMo系金属板とを交互に積層・圧着した後、前記
長軸方向に沿ってスライスしてスライス体を形成する工
程と、該スライス体のスライス面に第2のCu系金属板
を貼り付けてCu貼りパック材を形成する工程と、該C
u貼りパック材を前記スライス面に沿って前記長軸方向
に圧延し、該長軸と直交する方向に切断して定尺パック
材を形成する工程と、該定尺パック材を交互に直交する
ように積層した後に所定方向に圧延する工程とを含んで
製造されたものであることを特徴としている(3)。
In the plastic package with a heat sink according to the present invention, in the plastic package with a heat sink (2), the clad material may include a plurality of first Cu-based metal plates rolled in a longitudinal direction. Ni, Fe
Alternatively, after alternately laminating and crimping the Mo-based metal plate, slicing along the long axis direction to form a sliced body, and attaching a second Cu-based metal plate to a slice surface of the sliced body. Forming a Cu paste pack material by using
rolling the u-packed pack material in the long-axis direction along the slice plane, cutting in a direction orthogonal to the long axis to form a fixed-size pack material, and alternately orthogonally intersect the fixed-size pack material. And rolling in a predetermined direction after lamination as described above (3).

【0015】上記した放熱板付きプラスチックパッケー
ジ(3)によれば、前記クラッド材が、長軸方向に圧延
された複数個の第1のCu系金属板と複数個のNi、F
eまたはMo系金属板とを交互に積層・圧着した後、前
記長軸方向に沿ってスライスしてスライス体を形成する
工程と、該スライス体のスライス面に第2のCu系金属
板を貼り付けてCu貼りパック材を形成する工程と、該
Cu貼りパック材を前記スライス面に沿って前記長軸方
向に圧延し、該長軸と直交する方向に切断して定尺パッ
ク材を形成する工程と、該定尺パック材を交互に直交す
るように積層した後に所定方向に圧延する工程とを含ん
で製造されたものであり、前記第1のCu系金属板は前
記第2のCu系金属板を介して連続的に接続されるの
で、前記Siチップより発生した熱を一層確実に外方へ
放散させることができる。またヤング率が高く、かつ圧
延方向の異なる前記Ni、FeまたはMo系金属板によ
り前記第1及び第2のCu系金属板が挟まれ・補強され
ているので、前記放熱板の剛性を一層高めることができ
る。
According to the plastic package with heat sink (3), the clad material is composed of a plurality of first Cu-based metal plates rolled in the longitudinal direction and a plurality of Ni, F.
e and Mo-based metal plates are alternately laminated and pressed, and then sliced along the long axis direction to form a sliced body, and a second Cu-based metal plate is attached to a slice surface of the sliced body. And forming a Cu-coated pack material by rolling the Cu-coated pack material in the long-axis direction along the slice surface, and cutting in a direction orthogonal to the long axis to form a fixed-size pack material. And a step of rolling the fixed-size pack materials alternately orthogonally and then rolling in a predetermined direction, wherein the first Cu-based metal plate is formed of the second Cu-based metal plate. Since the connection is continuously made via the metal plate, the heat generated from the Si chip can be more reliably dissipated to the outside. Further, since the first and second Cu-based metal plates are sandwiched and reinforced by the Ni, Fe or Mo-based metal plates having high Young's modulus and different rolling directions, the rigidity of the radiator plate is further increased. be able to.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る放熱板付きプ
ラスチックパッケージの実施の形態を図面に基づいて説
明する。なお、従来例と同一機能を有する構成部品には
同一の符号を付すこととする。図1は実施の形態(1)
に係る放熱板付きプラスチックパッケージを摸式的に示
した断面図であり、図2は実施の形態(1)に係る放熱
板付きプラスチックパッケージの主要部を概略的に示し
た斜視図である。図6に示したものと同様、プラスチッ
ク基板31はBT樹脂、ポリイミド樹脂等を用いて略直
方体板形状に形成されると共に、その表面31aにはC
u箔をパターニングして形成されたプリント配線(共に
図示せず)が貼着されている。このプリント配線の所定
箇所には複数個のパッド32aが形成され、各パッド3
2aには略球形状の半田ボール32がそれぞれ取り付け
られている。一方、プラスチック基板31の裏面31c
には接着層34aを介して放熱板13が取り付けられて
おり、放熱板13は略直方体板形状に形成され、1辺の
長さがLに設定されている。この放熱板13は厚さがt
1 のNi系金属板13a、厚さがt2 のCu系金属板1
3b、厚さがt3 のNi系金属板13cが積層・圧着さ
れたクラッド材を用いて形成されており、このクラッド
材のヤング率は15000kg/mm2 以上、熱伝導率
は100W/mK以上に設定されている。またプラスチ
ック基板31の略中央部には平面視略正方形形状のキャ
ビティ31bが形成され、キャビティ31b内の所定箇
所には略正方形板状のSiチップ35が配設されてお
り、Siチップ35は放熱板13の表面に形成された絶
縁層とAgペースト層とからなる接着層34bを介して
放熱板13に貼り付けられている。Siチップ表面35
bの端子35aとプリント配線の端子31dとはAu等
のワイヤ36を介して接続され、またキャビティ31b
内にはSiチップ35、ワイヤ36を覆う態様でモール
ド樹脂37が充填されている。これら放熱板13、プラ
スチック基板31、キャビティ31b等を含んでキャビ
ティダウンBGAタイプの放熱板付きプラスチックパッ
ケージ10が構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a plastic package with a heat sink according to the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that components having the same functions as those of the conventional example are denoted by the same reference numerals. FIG. 1 shows an embodiment (1).
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the plastic package with a heat sink according to the present invention, and FIG. 2 is a perspective view schematically showing a main part of the plastic package with a heat sink according to the embodiment (1). Similar to the one shown in FIG. 6, the plastic substrate 31 is formed in a substantially rectangular parallelepiped plate shape using BT resin, polyimide resin, or the like, and the surface 31a has C
A printed wiring (both not shown) formed by patterning the u foil is adhered. A plurality of pads 32a are formed at predetermined positions of the printed wiring.
A substantially spherical solder ball 32 is attached to 2a. On the other hand, the back surface 31c of the plastic substrate 31
The heat radiating plate 13 is attached via a bonding layer 34a, and the heat radiating plate 13 is formed in a substantially rectangular parallelepiped plate shape, and the length of one side is set to L. This heat sink 13 has a thickness t.
1 of Ni-based metal plate 13a, the thickness t 2 Cu-based metal plate 1
3b, a Ni-based metal plate 13c having a thickness of t 3 is formed using a clad material laminated and pressed, the Young's modulus of the clad material is 15000 kg / mm 2 or more, and the thermal conductivity is 100 W / mK or more. Is set to A cavity 31b having a substantially square shape in a plan view is formed at a substantially central portion of the plastic substrate 31, and a substantially square plate-shaped Si chip 35 is provided at a predetermined position in the cavity 31b. It is attached to the heat radiating plate 13 via an adhesive layer 34b formed of an insulating layer and an Ag paste layer formed on the surface of the plate 13. Si chip surface 35
b terminal 35a and the printed wiring terminal 31d are connected via a wire 36 of Au or the like.
The inside is filled with a mold resin 37 so as to cover the Si chip 35 and the wires 36. A cavity-down BGA type plastic package 10 with a heat radiating plate is configured to include the heat radiating plate 13, the plastic substrate 31, the cavity 31b, and the like.

【0017】このように構成された放熱板付きプラスチ
ックパッケージ10を製造する場合、プラスチック基板
31の表面31aに貼着したCu箔にフォトレジスト技
術、エッチング技術等を用いてパターニングし、メッキ
技術等を用いてプリント配線を形成した後、プラスチッ
ク基板31の略中央部にキャビティ31bを形成する。
次にプラスチック基板31の裏面31cに接着層34a
を介して放熱板13を貼り付けた後、このプリント配線
のパッド32aに半田ボール32を取り付ける。また図
2に示したように、前記絶縁層に熱硬化性のAgペース
ト34cを塗布し、Siチップ35を仮付けする。次に
これらに所定温度Tの加熱処理を施し、Agペースト3
4cに硬化反応を起こさせ、放熱板13上にSiチップ
35を貼着する。この後、Au等のワイヤ36を用いた
ワイヤボンディング技術により端子31d、35a間を
接続し、モールド樹脂37を充填すると、放熱板付きプ
ラスチックパッケージ10にSiチップ35が実装され
る。
In the case of manufacturing the plastic package 10 with a heat radiating plate configured as described above, the Cu foil adhered to the surface 31a of the plastic substrate 31 is patterned by using a photoresist technique, an etching technique or the like, and a plating technique or the like is applied. After forming the printed wiring by using this, a cavity 31b is formed at a substantially central portion of the plastic substrate 31.
Next, an adhesive layer 34a is formed on the back surface 31c of the plastic substrate 31.
Then, the solder ball 32 is attached to the pad 32a of the printed wiring. Further, as shown in FIG. 2, a thermosetting Ag paste 34c is applied to the insulating layer, and a Si chip 35 is temporarily attached. Next, these are subjected to a heat treatment at a predetermined temperature T, so that the Ag paste 3
A curing reaction is caused in 4c, and a Si chip 35 is stuck on the heat sink 13. Thereafter, the terminals 31d and 35a are connected by a wire bonding technique using a wire 36 of Au or the like, and when the mold resin 37 is filled, the Si chip 35 is mounted on the plastic package 10 with a heat sink.

【0018】上記説明から明らかなように、実施の形態
(1)に係る放熱板付きプラスチックパッケージ10で
は、ヤング率が15000kg/mm2 以上である材料
を用いて放熱板13が形成されており、加熱処理後の冷
却工程中に放熱板13が変形し難くなるので、Siチッ
プ35にかかる曲げ応力を大幅に減少させることがで
き、この結果、Siチップ35の表面35bに割れが発
生するのを確実に防止することができる。また熱伝導率
が100W/mK以上である材料を用いて放熱板13が
形成されているので、熱抵抗Rを低く抑えることがで
き、放熱板の放熱性能を確保することができる。またプ
ラスチック基板31は放熱板13と略同様の熱膨張係数
を有する材料を用いて形成することが可能であり、熱応
力が生じ難いので、放熱板13やプラスチック基板31
に損傷が発生するのを阻止することができる。
As is apparent from the above description, in the plastic package 10 with a heat sink according to the embodiment (1), the heat sink 13 is formed using a material having a Young's modulus of 15000 kg / mm 2 or more. Since the heat radiating plate 13 is less likely to be deformed during the cooling step after the heat treatment, the bending stress applied to the Si chip 35 can be significantly reduced. As a result, the occurrence of cracks on the surface 35b of the Si chip 35 can be reduced. It can be reliably prevented. Further, since the heat radiating plate 13 is formed using a material having a thermal conductivity of 100 W / mK or more, the heat resistance R can be suppressed low, and the heat radiating performance of the heat radiating plate can be secured. Further, the plastic substrate 31 can be formed using a material having substantially the same thermal expansion coefficient as that of the heat radiator plate 13 and is less likely to generate thermal stress.
Can be prevented from being damaged.

【0019】また、放熱板13がNi系金属板13a/
Cu系金属板13b/Ni系金属板13cのクラッド材
からなっており、熱伝導率が比較的に大きいCu系金属
板13bと、ヤング率が比較的に大きいNi系金属板1
3a、13cとが交互に積層・圧着されているので、N
i系金属板13a、13cの厚さt1 、t3 やCu系金
属板13cの厚さt2 、あるいはこれらの積層数、圧延
率等を調整することにより、放熱板13のヤング率を1
5000kg/mm2 以上、かつ熱伝導率を100W/
mK以上に確実に設定することができる。また放熱板1
3の外表面がNi系金属板13aにより構成されている
ので、従来防食のために施していたNiメッキ処理を省
略することができる。
The heat radiating plate 13 is made of a Ni-based metal plate 13a /
Cu-based metal plate 13b made of a clad material of Cu-based metal plate 13b / Ni-based metal plate 13c and having relatively high thermal conductivity, and Ni-based metal plate 1 having relatively high Young's modulus
3a and 13c are alternately laminated and crimped.
By adjusting the thicknesses t 1 and t 3 of the i-based metal plates 13a and 13c, the thickness t 2 of the Cu-based metal plate 13c, the number of stacked layers, and the rolling ratio, the Young's modulus of the heat radiating plate 13 is reduced to 1
5000 kg / mm 2 or more and thermal conductivity of 100 W /
mK or more can be reliably set. Heat sink 1
Since the outer surface of No. 3 is formed of the Ni-based metal plate 13a, the Ni plating treatment conventionally performed for anticorrosion can be omitted.

【0020】なお、実施の形態(1)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージ10では、放熱板13がNi系
金属板13a/Cu系金属板13b/Ni系金属板13
cのクラッド材からなる場合について説明したが、別の
実施の形態のものでは、放熱板がCu/Ni/Cu系、
Cu/Fe/Cu系、またはCu/Mo/Cu系金属板
のクラッド材からなっていてもよく、いずれのものであ
っても図1、図2に示した場合と略同様の効果を得るこ
とができる。
In the plastic package 10 with a heat sink according to the embodiment (1), the heat sink 13 is composed of a Ni-based metal plate 13a / Cu-based metal plate 13b / Ni-based metal plate 13a.
Although the description has been given of the case where the heat radiating plate is made of a Cu / Ni / Cu-based material,
It may be made of a clad material of a Cu / Fe / Cu-based or Cu / Mo / Cu-based metal plate, and in any case, the same effect as that shown in FIGS. 1 and 2 can be obtained. Can be.

【0021】また、実施の形態(1)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージ10では、放熱板13がNi系
金属板13a/Cu系金属板13b/Ni系金属板13
cのクラッド材からなる場合について説明したが、別の
実施の形態のものでは、Ni系金属板13a、Cu系金
属板13b、Ni系金属板13cがAgロー材料を用い
て接合されたロー付け接合材であってもよい。この場
合、クラッド材に比べて各層の厚さが均一であるので、
貼り合わせた後の曲げ歪みを一層少なくすることができ
る。
In the plastic package 10 with a heat radiating plate according to the embodiment (1), the heat radiating plate 13 is made of a Ni-based metal plate 13a / Cu-based metal plate 13b / Ni-based metal plate 13b.
Although the description has been made of the case where the clad material is made of the clad material c, in another embodiment, the brazing is performed by joining the Ni-based metal plate 13a, the Cu-based metal plate 13b, and the Ni-based metal plate 13c using an Ag brazing material. It may be a joining material. In this case, since the thickness of each layer is uniform compared to the clad material,
The bending distortion after bonding can be further reduced.

【0022】図3は実施の形態(2)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージの放熱板を概略的に示した部分
断面斜視図であり、図中22は第1のCu系金属板、2
3は例えばNi系金属板をそれぞれ示している。長軸D
方向に圧延された複数個の第1のCu系金属板22及び
Ni系金属板23は交互に積層・圧着された後、長軸D
方向に沿ってスライスされてスライス体24が形成さ
れ、このスライス体24のスライス面24aに第2のC
u系金属板25が貼り付けられてCu貼りパック材26
が形成されている。さらにこのCu貼りパック材26は
スライス面24aに沿って長軸D方向に圧延され、この
長軸Dと直交する方向に切断されて定尺パック材27が
形成され、この定尺パック材27が交互に直交するよう
に積層されると共に、この最外層にCu系金属板28が
積層されて所定方向に圧延されている。これら第1、第
2のCu系金属板22、25、Ni系金属板23等を含
んで放熱板21が構成されている。その他の構成は図
1、図2に示したものと略同様であるので、ここではそ
の構成の詳細な説明は省略することとする。これら放熱
板21等を含んで、実施の形態(2)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージが構成されている。
FIG. 3 is a partial cross-sectional perspective view schematically showing a heat radiator of the plastic package with a heat radiator according to the embodiment (2).
Reference numeral 3 denotes, for example, Ni-based metal plates. Long axis D
The plurality of first Cu-based metal plates 22 and Ni-based metal plates 23 rolled in the direction are alternately laminated and pressed, and then the long axis D
The sliced body 24 is sliced along the direction to form the sliced body 24, and the second C
The u-based metal plate 25 is attached and the Cu-attached pack material 26
Are formed. Further, the Cu-attached pack material 26 is rolled in the direction of the long axis D along the slice surface 24a, and cut in a direction orthogonal to the long axis D to form a fixed-size pack material 27. The Cu-based metal plates 28 are stacked on the outermost layer and rolled in a predetermined direction. The heat radiating plate 21 includes the first and second Cu-based metal plates 22 and 25, the Ni-based metal plate 23, and the like. Other configurations are substantially the same as those shown in FIGS. 1 and 2, and therefore, detailed description of the configuration is omitted here. The plastic package with a heat radiating plate according to the embodiment (2) includes the heat radiating plate 21 and the like.

【0023】上記説明から明らかなように、実施の形態
(2)に係る放熱板付きプラスチックパッケージでは、
放熱板21を形成するクラッド材が、長軸D方向に圧延
された複数個の第1のCu系金属板22と複数個のNi
系金属板23とを交互に積層・圧着した後、長軸D方向
に沿ってスライスしてスライス体24を形成する工程
と、スライス体24のスライス面24aに第2のCu系
金属板25を貼り付けてCu貼りパック材26を形成す
る工程と、Cu貼りパック材26をスライス面24aに
沿って長軸D方向に圧延し、長軸Dと直交する方向に切
断して定尺パック材27を形成する工程と、定尺パック
材27を交互に直交するように積層した後に所定方向に
圧延する工程とを含んで製造されたものであり、第1の
Cu系金属板22は第2のCu系金属板25を介して連
続的に接続されるので、Siチップ35(図1)より発
生した熱を一層確実に外方へ放散させることができる。
またヤング率が高く、圧延方向の異なるNi系金属板2
3により第1及び第2のCu系金属板22、25が挟ま
れて補強されているので、放熱板21の剛性を一層高め
ることができる。
As is clear from the above description, in the plastic package with a heat sink according to the embodiment (2),
The cladding material forming the heat radiating plate 21 is composed of a plurality of first Cu-based metal plates 22 rolled in the major axis D direction and a plurality of Ni
After alternately laminating and crimping the base metal plate 23, and slicing along the major axis D direction to form a sliced body 24, and placing the second Cu-based metal plate 25 on the slice surface 24a of the sliced body 24. A step of pasting to form a Cu-pasted pack material 26, and rolling the Cu-pasted pack material 26 in the direction of the long axis D along the slice surface 24a, and cutting it in a direction perpendicular to the long axis D, And a step of rolling the predetermined-size pack materials 27 alternately orthogonally and then rolling in a predetermined direction, and the first Cu-based metal plate 22 is Since the connection is continuously made via the Cu-based metal plate 25, the heat generated from the Si chip 35 (FIG. 1) can be more reliably dissipated to the outside.
Ni-based metal plate 2 having a high Young's modulus and a different rolling direction.
Since the first and second Cu-based metal plates 22 and 25 are sandwiched and reinforced by 3, the rigidity of the radiator plate 21 can be further increased.

【0024】なお、実施の形態(2)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージでは、放熱板21が第1、第2
のCu系金属板22、25とNi系金属板23とを含ん
で構成されている場合について説明したが、別の実施の
形態のものでは、放熱板が第1、第2のCu系金属板2
2、25とFe系またはMo系金属板とを含んで構成さ
れたものであってもよい。
In the plastic package with a heat radiating plate according to the embodiment (2), the heat radiating plate 21 is composed of the first and second heat radiating plates.
Although the description has been given of the case where the first and second Cu-based metal plates are configured to include the Cu-based metal plates 22 and 25 and the Ni-based metal plate 23 in another embodiment, 2
It may be configured to include 2, 25 and an Fe-based or Mo-based metal plate.

【0025】また、実施の形態(1)、(2)に係る放
熱板付きプラスチックパッケージでは、いずれも放熱板
13、21の外形寸法がプラスチック基板31と同様で
ある場合について説明したが、別の実施の形態のもので
はプラスチック基板31よりも小さくてもよい。
In the plastic packages with heat sinks according to the embodiments (1) and (2), the case where the outer dimensions of the heat sinks 13 and 21 are the same as that of the plastic substrate 31 has been described. In the embodiment, it may be smaller than the plastic substrate 31.

【0026】[0026]

【実施例及び比較例】以下、実施例に係る放熱板付きプ
ラスチックパッケージに関し、チップ割れの発生率及び
放熱性能を調査した結果について説明する。実施例に係
る放熱板付きプラスチックパッケージとしては、図1に
示したものを用い、Ni系金属板13a、13cの厚さ
1 、t3 は共に約63μm、Cu系金属板13bの厚
さは約127μm、一辺の長さLは約35mmに設定さ
れたものを使用した。この放熱板13におけるヤング率
は約16000kg/mm2、また熱伝導率は約240
W/mKであった。なお比較例としては、図6に示した
ものを用い、放熱板33は材料が純Cuであり、厚さt
が約254μmに設定されたもので実施した。
EXAMPLES AND COMPARATIVE EXAMPLES The results of investigations on the incidence of chip cracks and the heat dissipation performance of the plastic package with a heat sink according to the examples will be described below. As the plastic package with a heat sink according to the embodiment, the one shown in FIG. 1 is used. The thicknesses t 1 and t 3 of the Ni-based metal plates 13a and 13c are both about 63 μm, and the thickness of the Cu-based metal plate 13b is The one set to about 127 μm and the length L of one side to about 35 mm was used. The heat sink 13 has a Young's modulus of about 16000 kg / mm 2 and a thermal conductivity of about 240
W / mK. As a comparative example, the one shown in FIG. 6 was used, and the radiator plate 33 was made of pure Cu and had a thickness t.
Was set to about 254 μm.

【0027】サンプル50個について調査した結果、比
較例のものでは50個中2個にチップ割れが発生した
が、実施例に係るものではチップ割れをゼロにすること
ができ、かつ放熱性能を比較例のものと略同程度に確保
することができた。
As a result of investigating 50 samples, chip cracks occurred in 2 out of 50 samples in the comparative example, but in the example according to the present invention, the chip cracks could be made zero and the heat radiation performance was compared. It was able to secure almost the same as the example.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る放熱板付きプラスチックパッケー
ジの実施の形態(1)を摸式的に示した断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an embodiment (1) of a plastic package with a heat sink according to the present invention.

【図2】実施の形態(1)に係る放熱板付きプラスチッ
クパッケージの主要部を概略的に示した斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view schematically showing a main part of a plastic package with a heat sink according to Embodiment (1).

【図3】実施の形態(2)に係る放熱板付きプラスチッ
クパッケージの放熱板を概略的に示した部分断面斜視図
である。
FIG. 3 is a partial cross-sectional perspective view schematically showing a heat sink of the plastic package with a heat sink according to Embodiment (2).

【図4】絶縁ペーストを介してSiチップを放熱板に仮
付けし、所定温度Tが150℃の加熱処理を施して常温
まで冷却した際、Siチップにかかる曲げ応力と、放熱
板のヤング率との関係をシミュレーションにより調査し
た結果を示した曲線図であり、Siチップにかかる曲げ
応力は、放熱板が純Cu材料を用いて形成されている場
合(B点)を100%としてそれぞれ相対的に表示して
いる。
FIG. 4 is a graph showing a bending stress applied to a Si chip and a Young's modulus of the radiator plate when a Si chip is temporarily attached to a heat sink via an insulating paste, and is heated to a predetermined temperature T of 150 ° C. and cooled to room temperature. FIG. 4 is a curve diagram showing the result of an investigation by simulation of the relationship between the heat sink and the bending stress applied to the Si chip, where the heat sink is formed using a pure Cu material (point B) as 100%; Is displayed.

【図5】熱抵抗Rと熱伝導率λとの関係をシミュレーシ
ョンにより調査した結果を示した曲線図であり、図中C
は前記放熱板が純Cu材料を用いて形成されている場合
を示している。
FIG. 5 is a curve diagram showing a result obtained by investigating a relationship between a thermal resistance R and a thermal conductivity λ by simulation;
Indicates a case where the heat radiating plate is formed using a pure Cu material.

【図6】従来の放熱板付きプラスチックパッケージを摸
式的に示した断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a conventional plastic package with a heat sink.

【図7】従来の放熱板上にSiチップを貼り付ける工程
を概略的に示した断面図であり、(a)は加熱処理を施
す前の状態、(b)は加熱処理を施した後における冷却
中の状態を示している。
7A and 7B are cross-sectional views schematically showing a conventional process of attaching a Si chip on a heat sink, wherein FIG. 7A is a state before heat treatment is performed, and FIG. 7B is a state after heat treatment is performed. This shows a state during cooling.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 放熱板付きプラスチックパッケージ 13 放熱板 31 プラスチック基板 31b キャビティ 35 Siチップ Reference Signs List 10 plastic package with heat sink 13 heat sink 31 plastic substrate 31b cavity 35 Si chip

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シリコンチップを収容するキャビティが
形成されたプラスチック基板と、該プラスチック基板に
貼り付けられた放熱板とを備えた放熱板付きプラスチッ
クパッケージにおいて、ヤング率が15000kg/m
2 以上であり、かつ熱伝導率が100W/mK以上で
ある材料を用いて前記放熱板が形成されていることを特
徴とする放熱板付きプラスチックパッケージ。
A plastic package with a heat sink provided with a plastic substrate having a cavity for accommodating a silicon chip and a heat sink attached to the plastic substrate, has a Young's modulus of 15,000 kg / m.
m is 2 or more, and the heat radiating plate with plastic package thermal conductivity, wherein the heat radiating plate using a material is 100W / mK or higher is formed.
【請求項2】 前記放熱板がCu/Ni/Cu系、Cu
/Fe/Cu系、Cu/Mo/Cu系、またはNi/C
u/Ni系金属板のクラッド材、またはロー付け接合材
からなることを特徴とする請求項1記載の放熱板付きプ
ラスチックパッケージ。
2. The heat radiation plate is made of Cu / Ni / Cu,
/ Fe / Cu system, Cu / Mo / Cu system, or Ni / C
The plastic package with a heat sink according to claim 1, wherein the plastic package is made of a clad material of a u / Ni-based metal plate or a brazing material.
【請求項3】 前記クラッド材が、長軸方向に圧延され
た複数個の第1のCu系金属板と複数個のNi、Feま
たはMo系金属板とを交互に積層・圧着した後、前記長
軸方向に沿ってスライスしてスライス体を形成する工程
と、該スライス体のスライス面に第2のCu系金属板を
貼り付けてCu貼りパック材を形成する工程と、該Cu
貼りパック材を前記スライス面に沿って前記長軸方向に
圧延し、該長軸と直交する方向に切断して定尺パック材
を形成する工程と、該定尺パック材を交互に直交するよ
うに積層した後に所定方向に圧延する工程とを含んで製
造されたものであることを特徴とする請求項2記載の放
熱板付きプラスチックパッケージ。
3. The method according to claim 3, wherein the clad material is formed by alternately laminating and pressing a plurality of first Cu-based metal plates rolled in a longitudinal direction and a plurality of Ni, Fe or Mo-based metal plates. Forming a sliced body by slicing along the major axis direction, bonding a second Cu-based metal plate to a sliced surface of the sliced body to form a Cu-bonded pack material,
Rolling the pasted pack material in the long axis direction along the slice plane, and cutting it in a direction perpendicular to the long axis to form a fixed length pack material; 3. The plastic package with a radiator plate according to claim 2, wherein the plastic package is manufactured by including a step of rolling in a predetermined direction after laminating the plastic package.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100432715B1 (en) * 2001-07-18 2004-05-24 엘지전자 주식회사 Manufacturing method of PCB, PCB and package thereby
KR100437478B1 (en) * 2000-08-22 2004-06-23 삼성에스디아이 주식회사 Organic Electroluminescence Device with an Improved Heat Radiation Structure

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