JPH11274355A - 放熱板付きプラスチックパッケージ - Google Patents

放熱板付きプラスチックパッケージ

Info

Publication number
JPH11274355A
JPH11274355A JP10069657A JP6965798A JPH11274355A JP H11274355 A JPH11274355 A JP H11274355A JP 10069657 A JP10069657 A JP 10069657A JP 6965798 A JP6965798 A JP 6965798A JP H11274355 A JPH11274355 A JP H11274355A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat sink
plastic package
based metal
heat
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10069657A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Takamichi
博 高道
Akihiro Hidaka
明弘 日高
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Original Assignee
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc filed Critical Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Priority to JP10069657A priority Critical patent/JPH11274355A/ja
Publication of JPH11274355A publication Critical patent/JPH11274355A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/551Materials of bond wires
    • H10W72/552Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
    • H10W72/5522Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/884Die-attach connectors and bond wires

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 放熱板やプラスチック基板31に損傷が生じ
易く、あるいはSiチップ35の表面に割れが発生し易
く、かつ放熱板の放熱性能を確保することが困難であっ
た。 【解決手段】 Siチップ35を収容するキャビティ3
1bが形成されたプラスチック基板31と、プラスチッ
ク基板31に貼り付けられた放熱板13とを備えた放熱
板付きプラスチックパッケージ10において、ヤング率
が15000kg/mm2 以上であり、かつ熱伝導率が
100W/mK以上である材料を用いて放熱板13を形
成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は放熱板付きプラスチ
ックパッケージに関し、より詳細にはキャビティダウン
BGA(Ball Grid Array)タイプの放熱板付きプラスチ
ックパッケージに関する。
【0002】
【従来の技術】キャビティダウンBGAタイプの放熱板
付きプラスチックパッケージには種々のものが開発され
ている。図6は従来のこの種放熱板付きプラスチックパ
ッケージを摸式的に示した断面図であり、図中31はプ
ラスチック基板を示している。プラスチック基板31は
BT(Bismaleimide Triazine)樹脂、ポリイミド樹脂等
を用いて略直方体板形状に形成され、その表面31aに
はCu箔をパターニングして形成されたプリント配線
(共に図示せず)が貼着されている。プラスチック基板
31はスルーホールを設けた多層構造のものでもよい。
このプリント配線の所定箇所には複数個のパッド32a
が形成され、各パッド32aには略球形状の半田ボール
32がそれぞれ取り付けられている。一方、プラスチッ
ク基板31の裏面31cには接着層34aを介して放熱
板33が取り付けられ、放熱板33はヤング率が100
00〜12000kg/mm2 、熱伝導率が250〜3
90W/mKのCu系金属(純Cu、Cu−3%Fe合
金等)を用い、厚さがtの略直方体板形状に成形されて
いる。またプラスチック基板31の略中央部には平面視
略正方形形状のキャビティ31bが形成され、キャビテ
ィ31b内の所定箇所には略正方形板状のシリコン(以
下、Siと記す)チップ35が配設されており、Siチ
ップ35は絶縁層及びAg層とからなる層34bを介し
て放熱板33に貼り付けられている。またSiチップ表
面35bの端子35aとプリント配線の端子31dとは
Auワイヤ36を介して接続され、またキャビティ31
b内にはSiチップ35、Auワイヤ36を覆う態様で
モールド樹脂37が充填されている。これらプラスチッ
ク基板31、キャビティ31b、放熱板33等を含んで
キャビティダウンBGAタイプの放熱板付きプラスチッ
クパッケージ30が構成されている。
【0003】このように構成された放熱板付きプラスチ
ックパッケージ30を製造する場合、プラスチック基板
31の表面31aに貼着したCu箔にフォトレジスト技
術、エッチング技術等を用いてパターニングし、メッキ
技術等を用いてプリント配線を形成した後、プラスチッ
ク基板31の略中央部にキャビティ31bを形成する。
次にプラスチック基板31の裏面31cに接着層34a
を介して放熱板33を貼り付けた後、プリント配線のパ
ッド32aに半田ボール32を取り付ける。次に図7
(a)に示したように、絶縁層(図示せず)上に熱硬化
性のAgペースト34cを塗布し、Siチップ35を仮
付けする。そしてこれらに所定温度Tの加熱処理を施
し、絶縁ペースト34cに硬化反応を起こさせると、放
熱板33上にSiチップ35が貼着させられる(図7
(b))。この後、Auワイヤ36を用いたワイヤボン
ディング技術により端子31d、35a間を接続し、モ
ールド樹脂37を充填すると、放熱板付きプラスチック
パッケージ30にSiチップ35が実装される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記した放熱板付きプ
ラスチックパッケージ30においては、Siチップ35
に比べて放熱板33の熱膨張係数が大きいので、加熱処
理を施した後に常温まで冷却する際、放熱板33が比較
的大幅に収縮し、図7(b)に示したようにSiチップ
表面35bに矢印A方向の曲げ応力が生じ、割れ38が
発生し易い(割れ発生率が約3〜5%)という課題があ
った。
【0005】また図示しないが、この放熱板がSiチッ
プ35と略同様の熱膨張係数を有する材料を用いて形成
されたものでは、Siチップ表面35bに割れが発生す
るのは防止し得る一方、プラスチック基板31と前記放
熱板との熱膨張係数差が大きく、これらの間に熱応力が
生じ易くなるので、前記放熱板やプラスチック基板31
に損傷が発生するおそれがあるという課題があった。
【0006】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、放熱板の放熱性能を確保すると共に、放熱板やプラ
スチック基板に損傷が生じるのを抑制することができ、
かつSiチップの表面に割れが発生するのを確実に防止
することができる放熱板付きプラスチックパッケージを
提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段及びその効果】図4はAg
ペースト34cを介して放熱板に仮付けされたSiチッ
プ35(共に図7)に所定温度T(T=150℃)の加
熱処理を施した後、常温まで冷却した際、Siチップ3
5にかかる曲げ応力と、前記放熱板のヤング率との関係
をシミュレーションにより調査した結果を示した曲線図
である。図中縦軸はSiチップ35にかかる曲げ応力を
示しており、この曲げ応力は、前記放熱板が純Cu材料
を用いて形成されている場合(B点)を100%として
それぞれ相対的に表示している。図4から明らかなよう
に、ヤング率が15000kg/mm2 以上の材料を用
いた場合、前記放熱板が変形し難くなるので、Siチッ
プ35にかかる曲げ応力を90%以下に減少させ得るこ
ととなる。この結果、Siチップ35における割れ発生
率は従来のものの場合と比較し、50%以上削減するこ
とができる。
【0008】図5は熱抵抗Rと熱伝導率λとの関係をシ
ミュレーションにより調査した結果を示した曲線図であ
り、図中Cは前記放熱板が純Cu材料を用いて形成され
ている場合を示し、そのときの熱伝導率λは390W/
mK、熱抵抗Rは14.7℃/Wである。一般的にヤン
グ率が高い材料では熱伝導率λが低くなり、したがって
熱抵抗は増大する。しかし図5から明らかなように、熱
伝導率λが100W/mK以上の材料では熱抵抗Rを1
6.2℃/W(純Cuの場合に比べて約11%アップ程
度)以下に抑え込み得ることとなり、放熱性能を確保し
得ることとなる。
【0009】本発明者等は、上記したSiチップにかか
る曲げ応力と放熱板のヤング率との関係、熱抵抗率Rと
熱伝導率λとの関係等について研究を行った結果、ヤン
グ率が15000kg/mm2 以上、熱伝導率λが10
0W/mK以上の材料を用いた放熱板では放熱性能を確
保しつつ、Siチップに割れが発生するのを防止し得る
こと、またCu/Ni/Cu系、Cu/Fe/Cu系、
Cu/Mo/Cu系、Ni/Cu/Ni系クラッド材や
ロー付け接合材は前記諸特性(ヤング率、熱伝導率)に
優れていることを知見し、本発明を完成するに至った。
【0010】すなわち、本発明に係る放熱板付きプラス
チックパッケージは、Siチップを収容するキャビティ
が形成されたプラスチック基板と、該プラスチック基板
に貼り付けられた放熱板とを備えた放熱板付きプラスチ
ックパッケージにおいて、ヤング率が15000kg/
mm2 以上であり、かつ熱伝導率が100W/mK以上
である材料を用いて前記放熱板が形成されていることを
特徴としている(1)。
【0011】上記した放熱板付きプラスチックパッケー
ジ(1)によれば、ヤング率が15000kg/mm2
以上である材料を用いて前記放熱板が形成されており、
加熱処理後の冷却工程中においても前記放熱板が変形し
難いので、前記Siチップにかかる曲げ応力を大幅に減
少させることができ、この結果、該Siチップの表面に
割れが発生するのを確実に防止することができる。また
熱伝導率が100W/mK以上である材料を用いて前記
放熱板が形成されているので、熱抵抗Rを低く抑えるこ
とができ、前記放熱板の放熱性能を確実に確保すること
ができる。また前記プラスチック基板を前記放熱板と略
同様の熱膨張係数を有する材料を用いて形成することが
可能であり、熱応力が生じ難いので、前記放熱板や前記
プラスチック基板に損傷が発生するのを阻止することが
できる。
【0012】また本発明に係る放熱板付きプラスチック
パッケージは、放熱板付きプラスチックパッケージ
(1)において、前記放熱板がCu/Ni/Cu系、C
u/Fe/Cu系、Cu/Mo/Cu系、またはNi/
Cu/Ni系金属板のクラッド材、またはロー付け接合
材からなることを特徴としている(2)。
【0013】上記した放熱板付きプラスチックパッケー
ジ(2)によれば、前記放熱板がCu/Ni/Cu系、
Cu/Fe/Cu系、Cu/Mo/Cu系、またはNi
/Cu/Ni系金属板のクラッド材、またはロー付け接
合材からなっており、熱伝導率が比較的に大きいCu系
金属板と、ヤング率が比較的に大きいNi系、Fe系、
またはMo系金属板とが交互に積層・接合されているの
で、これらの金属板の厚さ、積層数、圧延率等を調整す
ることにより、前記放熱板のヤング率を15000kg
/mm2 以上、かつ熱伝導率を100W/mK以上に確
実に設定することができる。また前記放熱板がNi/C
u/Ni系金属板のクラッド材からなる場合には、前記
放熱板の外表面にNiメッキを施す必要がなくなり、メ
ッキ処理の手間を省くことができる。またロー付け接合
材の場合、前記各金属板がロー付けにより貼り合わせら
れており、前記クラッド材に比べて各層の厚さが均一で
あるので、貼り合わせた後の曲げ歪みを一層少なくする
ことができる。
【0014】また本発明に係る放熱板付きプラスチック
パッケージは、放熱板付きプラスチックパッケージ
(2)において、前記クラッド材が、長軸方向に圧延さ
れた複数個の第1のCu系金属板と複数個のNi、Fe
またはMo系金属板とを交互に積層・圧着した後、前記
長軸方向に沿ってスライスしてスライス体を形成する工
程と、該スライス体のスライス面に第2のCu系金属板
を貼り付けてCu貼りパック材を形成する工程と、該C
u貼りパック材を前記スライス面に沿って前記長軸方向
に圧延し、該長軸と直交する方向に切断して定尺パック
材を形成する工程と、該定尺パック材を交互に直交する
ように積層した後に所定方向に圧延する工程とを含んで
製造されたものであることを特徴としている(3)。
【0015】上記した放熱板付きプラスチックパッケー
ジ(3)によれば、前記クラッド材が、長軸方向に圧延
された複数個の第1のCu系金属板と複数個のNi、F
eまたはMo系金属板とを交互に積層・圧着した後、前
記長軸方向に沿ってスライスしてスライス体を形成する
工程と、該スライス体のスライス面に第2のCu系金属
板を貼り付けてCu貼りパック材を形成する工程と、該
Cu貼りパック材を前記スライス面に沿って前記長軸方
向に圧延し、該長軸と直交する方向に切断して定尺パッ
ク材を形成する工程と、該定尺パック材を交互に直交す
るように積層した後に所定方向に圧延する工程とを含ん
で製造されたものであり、前記第1のCu系金属板は前
記第2のCu系金属板を介して連続的に接続されるの
で、前記Siチップより発生した熱を一層確実に外方へ
放散させることができる。またヤング率が高く、かつ圧
延方向の異なる前記Ni、FeまたはMo系金属板によ
り前記第1及び第2のCu系金属板が挟まれ・補強され
ているので、前記放熱板の剛性を一層高めることができ
る。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る放熱板付きプ
ラスチックパッケージの実施の形態を図面に基づいて説
明する。なお、従来例と同一機能を有する構成部品には
同一の符号を付すこととする。図1は実施の形態(1)
に係る放熱板付きプラスチックパッケージを摸式的に示
した断面図であり、図2は実施の形態(1)に係る放熱
板付きプラスチックパッケージの主要部を概略的に示し
た斜視図である。図6に示したものと同様、プラスチッ
ク基板31はBT樹脂、ポリイミド樹脂等を用いて略直
方体板形状に形成されると共に、その表面31aにはC
u箔をパターニングして形成されたプリント配線(共に
図示せず)が貼着されている。このプリント配線の所定
箇所には複数個のパッド32aが形成され、各パッド3
2aには略球形状の半田ボール32がそれぞれ取り付け
られている。一方、プラスチック基板31の裏面31c
には接着層34aを介して放熱板13が取り付けられて
おり、放熱板13は略直方体板形状に形成され、1辺の
長さがLに設定されている。この放熱板13は厚さがt
1 のNi系金属板13a、厚さがt2 のCu系金属板1
3b、厚さがt3 のNi系金属板13cが積層・圧着さ
れたクラッド材を用いて形成されており、このクラッド
材のヤング率は15000kg/mm2 以上、熱伝導率
は100W/mK以上に設定されている。またプラスチ
ック基板31の略中央部には平面視略正方形形状のキャ
ビティ31bが形成され、キャビティ31b内の所定箇
所には略正方形板状のSiチップ35が配設されてお
り、Siチップ35は放熱板13の表面に形成された絶
縁層とAgペースト層とからなる接着層34bを介して
放熱板13に貼り付けられている。Siチップ表面35
bの端子35aとプリント配線の端子31dとはAu等
のワイヤ36を介して接続され、またキャビティ31b
内にはSiチップ35、ワイヤ36を覆う態様でモール
ド樹脂37が充填されている。これら放熱板13、プラ
スチック基板31、キャビティ31b等を含んでキャビ
ティダウンBGAタイプの放熱板付きプラスチックパッ
ケージ10が構成されている。
【0017】このように構成された放熱板付きプラスチ
ックパッケージ10を製造する場合、プラスチック基板
31の表面31aに貼着したCu箔にフォトレジスト技
術、エッチング技術等を用いてパターニングし、メッキ
技術等を用いてプリント配線を形成した後、プラスチッ
ク基板31の略中央部にキャビティ31bを形成する。
次にプラスチック基板31の裏面31cに接着層34a
を介して放熱板13を貼り付けた後、このプリント配線
のパッド32aに半田ボール32を取り付ける。また図
2に示したように、前記絶縁層に熱硬化性のAgペース
ト34cを塗布し、Siチップ35を仮付けする。次に
これらに所定温度Tの加熱処理を施し、Agペースト3
4cに硬化反応を起こさせ、放熱板13上にSiチップ
35を貼着する。この後、Au等のワイヤ36を用いた
ワイヤボンディング技術により端子31d、35a間を
接続し、モールド樹脂37を充填すると、放熱板付きプ
ラスチックパッケージ10にSiチップ35が実装され
る。
【0018】上記説明から明らかなように、実施の形態
(1)に係る放熱板付きプラスチックパッケージ10で
は、ヤング率が15000kg/mm2 以上である材料
を用いて放熱板13が形成されており、加熱処理後の冷
却工程中に放熱板13が変形し難くなるので、Siチッ
プ35にかかる曲げ応力を大幅に減少させることがで
き、この結果、Siチップ35の表面35bに割れが発
生するのを確実に防止することができる。また熱伝導率
が100W/mK以上である材料を用いて放熱板13が
形成されているので、熱抵抗Rを低く抑えることがで
き、放熱板の放熱性能を確保することができる。またプ
ラスチック基板31は放熱板13と略同様の熱膨張係数
を有する材料を用いて形成することが可能であり、熱応
力が生じ難いので、放熱板13やプラスチック基板31
に損傷が発生するのを阻止することができる。
【0019】また、放熱板13がNi系金属板13a/
Cu系金属板13b/Ni系金属板13cのクラッド材
からなっており、熱伝導率が比較的に大きいCu系金属
板13bと、ヤング率が比較的に大きいNi系金属板1
3a、13cとが交互に積層・圧着されているので、N
i系金属板13a、13cの厚さt1 、t3 やCu系金
属板13cの厚さt2 、あるいはこれらの積層数、圧延
率等を調整することにより、放熱板13のヤング率を1
5000kg/mm2 以上、かつ熱伝導率を100W/
mK以上に確実に設定することができる。また放熱板1
3の外表面がNi系金属板13aにより構成されている
ので、従来防食のために施していたNiメッキ処理を省
略することができる。
【0020】なお、実施の形態(1)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージ10では、放熱板13がNi系
金属板13a/Cu系金属板13b/Ni系金属板13
cのクラッド材からなる場合について説明したが、別の
実施の形態のものでは、放熱板がCu/Ni/Cu系、
Cu/Fe/Cu系、またはCu/Mo/Cu系金属板
のクラッド材からなっていてもよく、いずれのものであ
っても図1、図2に示した場合と略同様の効果を得るこ
とができる。
【0021】また、実施の形態(1)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージ10では、放熱板13がNi系
金属板13a/Cu系金属板13b/Ni系金属板13
cのクラッド材からなる場合について説明したが、別の
実施の形態のものでは、Ni系金属板13a、Cu系金
属板13b、Ni系金属板13cがAgロー材料を用い
て接合されたロー付け接合材であってもよい。この場
合、クラッド材に比べて各層の厚さが均一であるので、
貼り合わせた後の曲げ歪みを一層少なくすることができ
る。
【0022】図3は実施の形態(2)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージの放熱板を概略的に示した部分
断面斜視図であり、図中22は第1のCu系金属板、2
3は例えばNi系金属板をそれぞれ示している。長軸D
方向に圧延された複数個の第1のCu系金属板22及び
Ni系金属板23は交互に積層・圧着された後、長軸D
方向に沿ってスライスされてスライス体24が形成さ
れ、このスライス体24のスライス面24aに第2のC
u系金属板25が貼り付けられてCu貼りパック材26
が形成されている。さらにこのCu貼りパック材26は
スライス面24aに沿って長軸D方向に圧延され、この
長軸Dと直交する方向に切断されて定尺パック材27が
形成され、この定尺パック材27が交互に直交するよう
に積層されると共に、この最外層にCu系金属板28が
積層されて所定方向に圧延されている。これら第1、第
2のCu系金属板22、25、Ni系金属板23等を含
んで放熱板21が構成されている。その他の構成は図
1、図2に示したものと略同様であるので、ここではそ
の構成の詳細な説明は省略することとする。これら放熱
板21等を含んで、実施の形態(2)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージが構成されている。
【0023】上記説明から明らかなように、実施の形態
(2)に係る放熱板付きプラスチックパッケージでは、
放熱板21を形成するクラッド材が、長軸D方向に圧延
された複数個の第1のCu系金属板22と複数個のNi
系金属板23とを交互に積層・圧着した後、長軸D方向
に沿ってスライスしてスライス体24を形成する工程
と、スライス体24のスライス面24aに第2のCu系
金属板25を貼り付けてCu貼りパック材26を形成す
る工程と、Cu貼りパック材26をスライス面24aに
沿って長軸D方向に圧延し、長軸Dと直交する方向に切
断して定尺パック材27を形成する工程と、定尺パック
材27を交互に直交するように積層した後に所定方向に
圧延する工程とを含んで製造されたものであり、第1の
Cu系金属板22は第2のCu系金属板25を介して連
続的に接続されるので、Siチップ35(図1)より発
生した熱を一層確実に外方へ放散させることができる。
またヤング率が高く、圧延方向の異なるNi系金属板2
3により第1及び第2のCu系金属板22、25が挟ま
れて補強されているので、放熱板21の剛性を一層高め
ることができる。
【0024】なお、実施の形態(2)に係る放熱板付き
プラスチックパッケージでは、放熱板21が第1、第2
のCu系金属板22、25とNi系金属板23とを含ん
で構成されている場合について説明したが、別の実施の
形態のものでは、放熱板が第1、第2のCu系金属板2
2、25とFe系またはMo系金属板とを含んで構成さ
れたものであってもよい。
【0025】また、実施の形態(1)、(2)に係る放
熱板付きプラスチックパッケージでは、いずれも放熱板
13、21の外形寸法がプラスチック基板31と同様で
ある場合について説明したが、別の実施の形態のもので
はプラスチック基板31よりも小さくてもよい。
【0026】
【実施例及び比較例】以下、実施例に係る放熱板付きプ
ラスチックパッケージに関し、チップ割れの発生率及び
放熱性能を調査した結果について説明する。実施例に係
る放熱板付きプラスチックパッケージとしては、図1に
示したものを用い、Ni系金属板13a、13cの厚さ
1 、t3 は共に約63μm、Cu系金属板13bの厚
さは約127μm、一辺の長さLは約35mmに設定さ
れたものを使用した。この放熱板13におけるヤング率
は約16000kg/mm2、また熱伝導率は約240
W/mKであった。なお比較例としては、図6に示した
ものを用い、放熱板33は材料が純Cuであり、厚さt
が約254μmに設定されたもので実施した。
【0027】サンプル50個について調査した結果、比
較例のものでは50個中2個にチップ割れが発生した
が、実施例に係るものではチップ割れをゼロにすること
ができ、かつ放熱性能を比較例のものと略同程度に確保
することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る放熱板付きプラスチックパッケー
ジの実施の形態(1)を摸式的に示した断面図である。
【図2】実施の形態(1)に係る放熱板付きプラスチッ
クパッケージの主要部を概略的に示した斜視図である。
【図3】実施の形態(2)に係る放熱板付きプラスチッ
クパッケージの放熱板を概略的に示した部分断面斜視図
である。
【図4】絶縁ペーストを介してSiチップを放熱板に仮
付けし、所定温度Tが150℃の加熱処理を施して常温
まで冷却した際、Siチップにかかる曲げ応力と、放熱
板のヤング率との関係をシミュレーションにより調査し
た結果を示した曲線図であり、Siチップにかかる曲げ
応力は、放熱板が純Cu材料を用いて形成されている場
合(B点)を100%としてそれぞれ相対的に表示して
いる。
【図5】熱抵抗Rと熱伝導率λとの関係をシミュレーシ
ョンにより調査した結果を示した曲線図であり、図中C
は前記放熱板が純Cu材料を用いて形成されている場合
を示している。
【図6】従来の放熱板付きプラスチックパッケージを摸
式的に示した断面図である。
【図7】従来の放熱板上にSiチップを貼り付ける工程
を概略的に示した断面図であり、(a)は加熱処理を施
す前の状態、(b)は加熱処理を施した後における冷却
中の状態を示している。
【符号の説明】
10 放熱板付きプラスチックパッケージ 13 放熱板 31 プラスチック基板 31b キャビティ 35 Siチップ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シリコンチップを収容するキャビティが
    形成されたプラスチック基板と、該プラスチック基板に
    貼り付けられた放熱板とを備えた放熱板付きプラスチッ
    クパッケージにおいて、ヤング率が15000kg/m
    2 以上であり、かつ熱伝導率が100W/mK以上で
    ある材料を用いて前記放熱板が形成されていることを特
    徴とする放熱板付きプラスチックパッケージ。
  2. 【請求項2】 前記放熱板がCu/Ni/Cu系、Cu
    /Fe/Cu系、Cu/Mo/Cu系、またはNi/C
    u/Ni系金属板のクラッド材、またはロー付け接合材
    からなることを特徴とする請求項1記載の放熱板付きプ
    ラスチックパッケージ。
  3. 【請求項3】 前記クラッド材が、長軸方向に圧延され
    た複数個の第1のCu系金属板と複数個のNi、Feま
    たはMo系金属板とを交互に積層・圧着した後、前記長
    軸方向に沿ってスライスしてスライス体を形成する工程
    と、該スライス体のスライス面に第2のCu系金属板を
    貼り付けてCu貼りパック材を形成する工程と、該Cu
    貼りパック材を前記スライス面に沿って前記長軸方向に
    圧延し、該長軸と直交する方向に切断して定尺パック材
    を形成する工程と、該定尺パック材を交互に直交するよ
    うに積層した後に所定方向に圧延する工程とを含んで製
    造されたものであることを特徴とする請求項2記載の放
    熱板付きプラスチックパッケージ。
JP10069657A 1998-03-19 1998-03-19 放熱板付きプラスチックパッケージ Pending JPH11274355A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10069657A JPH11274355A (ja) 1998-03-19 1998-03-19 放熱板付きプラスチックパッケージ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10069657A JPH11274355A (ja) 1998-03-19 1998-03-19 放熱板付きプラスチックパッケージ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11274355A true JPH11274355A (ja) 1999-10-08

Family

ID=13409138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10069657A Pending JPH11274355A (ja) 1998-03-19 1998-03-19 放熱板付きプラスチックパッケージ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11274355A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100432715B1 (ko) * 2001-07-18 2004-05-24 엘지전자 주식회사 방열부재를 갖는 인쇄회로기판 및 그 제조방법
KR100437478B1 (ko) * 2000-08-22 2004-06-23 삼성에스디아이 주식회사 개선된 방열 구조물이 있는 유기 전기 발광 소자

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100437478B1 (ko) * 2000-08-22 2004-06-23 삼성에스디아이 주식회사 개선된 방열 구조물이 있는 유기 전기 발광 소자
KR100432715B1 (ko) * 2001-07-18 2004-05-24 엘지전자 주식회사 방열부재를 갖는 인쇄회로기판 및 그 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3879033B2 (ja) 積層型半導体パッケージ及びその製造方法
US6032362A (en) Method for producing a heat spreader and semiconductor device with a heat spreader
US7745928B2 (en) Heat dissipation plate and semiconductor device
WO2001018864A1 (en) Semiconductor device, method of manufacture thereof, circuit board, and electronic device
JPH03501311A (ja) テープ自動結合に使用される熱放散相互接続テープ
JP2003152144A (ja) 複合材及びその製造方法
JPH09312361A (ja) 電子部品用複合材料およびその製造方法
US20190088578A1 (en) Substrate for semiconductor elements and semiconductor device
US6339875B1 (en) Method for removing heat from an integrated circuit
JP5003812B2 (ja) プリント配線板及びプリント配線板の製造方法
JP2958692B2 (ja) ボールグリッドアレイ半導体パッケージ用部材、その製造方法、及びボールグリッドアレイ半導体パッケージの製造方法
JP2992822B2 (ja) 半導体チップ及び半導体チップモジュールの製造方法
JP5919692B2 (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP2019110223A (ja) パワーモジュール用基板及びその製造方法
JP3040979B1 (ja) 配線基板及び補強板
CN120356878A (zh) 夹子
JPH11274355A (ja) 放熱板付きプラスチックパッケージ
JPH0831990A (ja) 放熱フィン
JPH0780272B2 (ja) 熱伝導複合材料
JP7067114B2 (ja) 絶縁回路基板及びその製造方法
JP2602161B2 (ja) 高放熱性集積回路パッケージ
JP2002270711A (ja) 半導体装置用配線基板およびその製造方法
JP2001110477A (ja) 異方導電性フィルム付き半導体ウエハ及びその製造方法
JP2011029518A (ja) フレキシブルプリント配線板、半導体装置及びその製造方法
JPH10223811A (ja) ヒートスプレッダおよびこれを用いた半導体装置ならびにヒートスプレッダの製造方法