JPH11280681A - 真空ポンプ - Google Patents
真空ポンプInfo
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- JPH11280681A JPH11280681A JP10087537A JP8753798A JPH11280681A JP H11280681 A JPH11280681 A JP H11280681A JP 10087537 A JP10087537 A JP 10087537A JP 8753798 A JP8753798 A JP 8753798A JP H11280681 A JPH11280681 A JP H11280681A
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- Japan
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- cooling water
- water chamber
- vacuum pump
- main casing
- valve
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C25/00—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
- F04C25/02—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
- F04C28/28—Safety arrangements; Monitoring
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C29/00—Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
- F04C29/04—Heating; Cooling; Heat insulation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C18/08—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing
- F04C18/12—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type
- F04C18/14—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type with toothed rotary pistons
- F04C18/16—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids of intermeshing-engagement type, i.e. with engagement of co-operating members similar to that of toothed gearing of other than internal-axis type with toothed rotary pistons with helical teeth, e.g. chevron-shaped, screw type
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- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
- Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体の製造段階で使用されるドライ真空ポ
ンプは、ハードプロセスで生成物がケーシング内部に堆
積される問題があった。 【解決手段】 主ケーシング１の冷却水室７と吐出側サ
イドケース３の冷却水室１４とを連通する冷却水通路２
６を設け、冷却水室１４に接続する冷却水出口管２７を
三方弁２８の入口２８ａに接続し、冷却水室７に接続す
る管路２９を三方弁２８の切替口２８ｂに接続し、三方
弁２８の出口２８ｃに接続する管路３０を吸入側サイド
ケース２の冷却水室２２に接続し、冷却水室２２に設け
た冷却水排出管３１に、冷却水に背圧を加える絞り弁３
２を設けた。
ンプは、ハードプロセスで生成物がケーシング内部に堆
積される問題があった。 【解決手段】 主ケーシング１の冷却水室７と吐出側サ
イドケース３の冷却水室１４とを連通する冷却水通路２
６を設け、冷却水室１４に接続する冷却水出口管２７を
三方弁２８の入口２８ａに接続し、冷却水室７に接続す
る管路２９を三方弁２８の切替口２８ｂに接続し、三方
弁２８の出口２８ｃに接続する管路３０を吸入側サイド
ケース２の冷却水室２２に接続し、冷却水室２２に設け
た冷却水排出管３１に、冷却水に背圧を加える絞り弁３
２を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スクリュウロータ
形式のドライ真空ポンプに関するものであり、例えば、
半導体製造装置等に使用され、プロセスガスの反応から
ポンプ内部に生成物が体積するハードプロセスに対して
好適なドライ真空ポンプに関する。
形式のドライ真空ポンプに関するものであり、例えば、
半導体製造装置等に使用され、プロセスガスの反応から
ポンプ内部に生成物が体積するハードプロセスに対して
好適なドライ真空ポンプに関する。
【０００２】
【従来の技術】図５は真空ポンプの構造を示す縦断面図
であり、ポンプケーシングは、主ケーシング１と、主ケ
ーシング１の右端面に取付られる吸入側サイドケース２
と、主ケーシング１の左端面に取付られる吐出側サイド
ケース３と、吐出側サイドケース３の左側に取付られる
ギヤケース４により構成され、ギヤケース４の左端面に
モータ５が取付られる。
であり、ポンプケーシングは、主ケーシング１と、主ケ
ーシング１の右端面に取付られる吸入側サイドケース２
と、主ケーシング１の左端面に取付られる吐出側サイド
ケース３と、吐出側サイドケース３の左側に取付られる
ギヤケース４により構成され、ギヤケース４の左端面に
モータ５が取付られる。
【０００３】主ケーシング１には、長手方向を貫通する
内筒部１ａと、外部から内筒部１ａの右側に連通する吸
入口６と、主ケーシング１の外壁面を冷却する冷却水室
７が設けられる。内筒部１ａには、相互に噛み合った２
本のスクリューロータ８（図５では１本のみを示す）が
収容される。
内筒部１ａと、外部から内筒部１ａの右側に連通する吸
入口６と、主ケーシング１の外壁面を冷却する冷却水室
７が設けられる。内筒部１ａには、相互に噛み合った２
本のスクリューロータ８（図５では１本のみを示す）が
収容される。
【０００４】吸入側サイドケース２に設けられた２つの
孔にそれぞれ軸受函９（図５では１個のみを示す）が嵌
着され、軸受函９の内部に設けられたベアリング１０
に、２本のスクリューロータ８の右端部の軸部８ａが回
転可能に支承される。吐出側サイドケース３に設けられ
た２つの孔にそれぞれ軸受函１１（図５では１個のみを
示す）が嵌着され、軸受函１１の内部に設けられたベア
リング１２に、２本のスクリューロータ８の左端部の軸
部８ａが回転可能に支承される。
孔にそれぞれ軸受函９（図５では１個のみを示す）が嵌
着され、軸受函９の内部に設けられたベアリング１０
に、２本のスクリューロータ８の右端部の軸部８ａが回
転可能に支承される。吐出側サイドケース３に設けられ
た２つの孔にそれぞれ軸受函１１（図５では１個のみを
示す）が嵌着され、軸受函１１の内部に設けられたベア
リング１２に、２本のスクリューロータ８の左端部の軸
部８ａが回転可能に支承される。
【０００５】２本のスクリューロータ８は、内筒部１ａ
に収容され相互に噛み合う歯形部８ｂを有し、一方のス
クリューロータ８は駆動側のスクリューロータであり、
その左側の軸部８ａの外面にタイミングギヤ２４が嵌着
され、その左側に挿着されたカプリング２５がモータ５
の出力軸５ａに連結される。他方の従動側のスクリュー
ロータ８の左側の軸部８ａには、タイミングギヤ２４に
噛み合うタイミングギヤ（図示しない）が設けられる。
スクリューロータ８が回転すると、吸入口６から吸引し
た流体（ガス）が吐出口１３より送出される。
に収容され相互に噛み合う歯形部８ｂを有し、一方のス
クリューロータ８は駆動側のスクリューロータであり、
その左側の軸部８ａの外面にタイミングギヤ２４が嵌着
され、その左側に挿着されたカプリング２５がモータ５
の出力軸５ａに連結される。他方の従動側のスクリュー
ロータ８の左側の軸部８ａには、タイミングギヤ２４に
噛み合うタイミングギヤ（図示しない）が設けられる。
スクリューロータ８が回転すると、吸入口６から吸引し
た流体（ガス）が吐出口１３より送出される。
【０００６】真空ポンプは運転による発熱のために高温
になり、軸封のオイルシールやリップシール並びにスク
リュウロータの両端部を支承する軸受が高熱のために損
傷したり、熱膨張によりスクリュウロータに焼付きが起
こる等の不具合が生じるので冷却水による水冷が不可欠
である。従って、吐出側サイドケース３には、内筒部１
ａに連通する吐出口１３が設けられ、吐出側サイドケー
ス３の外壁面を冷却する冷却水室１９が設けられる。ギ
ヤケース４は筒状であり、外壁面に冷却水室１４が設け
られ、モータ５の外壁面に冷却水室１５が設けられる。
になり、軸封のオイルシールやリップシール並びにスク
リュウロータの両端部を支承する軸受が高熱のために損
傷したり、熱膨張によりスクリュウロータに焼付きが起
こる等の不具合が生じるので冷却水による水冷が不可欠
である。従って、吐出側サイドケース３には、内筒部１
ａに連通する吐出口１３が設けられ、吐出側サイドケー
ス３の外壁面を冷却する冷却水室１９が設けられる。ギ
ヤケース４は筒状であり、外壁面に冷却水室１４が設け
られ、モータ５の外壁面に冷却水室１５が設けられる。
【０００７】真空ポンプの冷却水の流れは、図６に示す
ように、冷却水供給管１６からモータ５の冷却水室１５
に供給されてモータ５を冷却した後に、接続管１７を経
由してギヤケース４の冷却水室１４に送られてギヤケー
ス４を冷却する。ギヤケース４を冷却した冷却水は、接
続管１８を経由して吐出側サイドケース３の冷却水室１
９に送られ、吐出側サイドケース３を冷却した後に、接
続管２０を経由して主ケーシング１の冷却水室７に送ら
れ、主ケーシング１を冷却した後に、接続管２１を経由
して吸入側サイドケース２の冷却水室２２に送られ、吸
入側サイドケース２を冷却した後に、排出管２３より排
出される。このようにして、運転による発生熱が除去さ
れる。
ように、冷却水供給管１６からモータ５の冷却水室１５
に供給されてモータ５を冷却した後に、接続管１７を経
由してギヤケース４の冷却水室１４に送られてギヤケー
ス４を冷却する。ギヤケース４を冷却した冷却水は、接
続管１８を経由して吐出側サイドケース３の冷却水室１
９に送られ、吐出側サイドケース３を冷却した後に、接
続管２０を経由して主ケーシング１の冷却水室７に送ら
れ、主ケーシング１を冷却した後に、接続管２１を経由
して吸入側サイドケース２の冷却水室２２に送られ、吸
入側サイドケース２を冷却した後に、排出管２３より排
出される。このようにして、運転による発生熱が除去さ
れる。
【０００８】半導体製造プロセスで使用されるドライ真
空ポンプは、一般に、到達真空度が１Ｐａ（１０-3Torr
オーダ）程の真空度が必要とされ、体気圧放出の場合の
圧縮は１０5 オーダの圧縮比を必要とするので、大量の
圧縮熱が発生する。従って、一般の真空ポンプと同様に
冷却水による水冷は不可欠であるが、次のような課題が
残されている。
空ポンプは、一般に、到達真空度が１Ｐａ（１０-3Torr
オーダ）程の真空度が必要とされ、体気圧放出の場合の
圧縮は１０5 オーダの圧縮比を必要とするので、大量の
圧縮熱が発生する。従って、一般の真空ポンプと同様に
冷却水による水冷は不可欠であるが、次のような課題が
残されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ドライ真空ポンプのケ
ーシングを冷却すると、主ケーシング１を内を流れるプ
ロセスガスが簡単に冷却されてしまい、ガス中に含まれ
るＡＬｃＬ，ＮＨ3 ＣＬ等が固化して内筒部１ａやスク
リューロータ８に付着し、スクリューロータ８相互間の
隙間およびスクリューロータ８と内筒部１ａとの隙間が
無くなり、回転不能になる事態が発生する。
ーシングを冷却すると、主ケーシング１を内を流れるプ
ロセスガスが簡単に冷却されてしまい、ガス中に含まれ
るＡＬｃＬ，ＮＨ3 ＣＬ等が固化して内筒部１ａやスク
リューロータ８に付着し、スクリューロータ８相互間の
隙間およびスクリューロータ８と内筒部１ａとの隙間が
無くなり、回転不能になる事態が発生する。
【００１０】真空ポンプは半導体の製造段階で種々の用
途に使用され、例えば、生成物が発生しない一般にクリ
ーンと言われるプロセスを扱うロードロック用，スパッ
タリング用はライトプロセス用と言われており、この場
合には従来技術で何ら問題は発生しないが、ウエハ上に
薄膜を形成するＣＶＤ（Chemical Vapour Deposition）
の中のNitride,Teosといったものや、Etchinｇ工程のＡ
Ｌエッチングでは生成物が発生する。
途に使用され、例えば、生成物が発生しない一般にクリ
ーンと言われるプロセスを扱うロードロック用，スパッ
タリング用はライトプロセス用と言われており、この場
合には従来技術で何ら問題は発生しないが、ウエハ上に
薄膜を形成するＣＶＤ（Chemical Vapour Deposition）
の中のNitride,Teosといったものや、Etchinｇ工程のＡ
Ｌエッチングでは生成物が発生する。
【００１１】例えば、Nitride では ＳｉＨ2 ＣＬ ＋ ＮＨ3 → Ｓｉ3 Ｎ4 ＋ ＮＨ
4 ＣＬ アルミエッチングでは ＡＬ ＋ ＣＬ2 → ＡＬＣＬ2 の反応で出来るＮＨ4 ＣＬ，ＡＬＣＬ2 の固形物が付着
する。ＮＨ4 ＣＬは、大気圧状態で、１８０℃以上にな
ると固体からガスに昇華し、ＮＨ3 ＣＬは３３８℃前後
で昇華する。
4 ＣＬ アルミエッチングでは ＡＬ ＋ ＣＬ2 → ＡＬＣＬ2 の反応で出来るＮＨ4 ＣＬ，ＡＬＣＬ2 の固形物が付着
する。ＮＨ4 ＣＬは、大気圧状態で、１８０℃以上にな
ると固体からガスに昇華し、ＮＨ3 ＣＬは３３８℃前後
で昇華する。
【００１２】真空状態ではガスが希薄であり、生成物が
発生しないので、Ｎ2 を真空度を破壊しない吐出側のス
クリューロータにパージして生成物の発生を防止する方
法も採られているが充分ではない。又、ライトプロセス
とハードプロセスとを同じ半導体プロセスを扱う場所
で、種類の異なる真空ポンプを準備し、必要に応じて切
り換えて扱うことは管理上からも大変である。
発生しないので、Ｎ2 を真空度を破壊しない吐出側のス
クリューロータにパージして生成物の発生を防止する方
法も採られているが充分ではない。又、ライトプロセス
とハードプロセスとを同じ半導体プロセスを扱う場所
で、種類の異なる真空ポンプを準備し、必要に応じて切
り換えて扱うことは管理上からも大変である。
【００１３】本発明は、Ｎ2 のパージ方法に加熱する方
法を併用するもので、加熱方法も、従来からある電気ヒ
ータ等で加熱するのではなく、真空ポンプ運転時の圧縮
熱を制御して生成物の発生を抑制するものであり、且
つ、１台の真空ポンプをワンタッチでライトプロセス
用，ハードプロセス用に使い分けられる便利なドライ真
空ポンプを提供するものである。
法を併用するもので、加熱方法も、従来からある電気ヒ
ータ等で加熱するのではなく、真空ポンプ運転時の圧縮
熱を制御して生成物の発生を抑制するものであり、且
つ、１台の真空ポンプをワンタッチでライトプロセス
用，ハードプロセス用に使い分けられる便利なドライ真
空ポンプを提供するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、相互に噛み合うスクリューロータを収容
する内筒部と、該内筒部の一側および他側に連通する吸
入口及び吐出口とを有し、外壁面に冷却水室が設けられ
る主ケーシングと、該主ケーシングの一側に取付られ、
外壁面に冷却水室が設けられる吸入側サイドケースと、
上記主ケーシングの他側に取付られ、外壁面に冷却水室
が設けられる吐出側サイドケースとを有する真空ポンプ
において、該吐出側サイドケースの冷却水室と上記主ケ
ースの冷却水室とを連通する冷却水通路を設け、上記吐
出側サイドケースの冷却水室の冷却水出口管を三方弁の
入口に接続し、該三方弁の切替口を上記主ケースの冷却
水室に接続し、上記三方弁の出口を上記吸入側サイドケ
ースの冷却水室に接続し、吸入側サイドケースの冷却水
室に接続する冷却水排出管に弁を設けた。
に、本発明は、相互に噛み合うスクリューロータを収容
する内筒部と、該内筒部の一側および他側に連通する吸
入口及び吐出口とを有し、外壁面に冷却水室が設けられ
る主ケーシングと、該主ケーシングの一側に取付られ、
外壁面に冷却水室が設けられる吸入側サイドケースと、
上記主ケーシングの他側に取付られ、外壁面に冷却水室
が設けられる吐出側サイドケースとを有する真空ポンプ
において、該吐出側サイドケースの冷却水室と上記主ケ
ースの冷却水室とを連通する冷却水通路を設け、上記吐
出側サイドケースの冷却水室の冷却水出口管を三方弁の
入口に接続し、該三方弁の切替口を上記主ケースの冷却
水室に接続し、上記三方弁の出口を上記吸入側サイドケ
ースの冷却水室に接続し、吸入側サイドケースの冷却水
室に接続する冷却水排出管に弁を設けた。
【００１５】上記冷却水排出管に設けられる弁は絞り弁
とするとよい。上記主ケーシングの温度が所定温度以上
に上昇したことを検知する温度センサと、該温度センサ
の検知信号により、上記絞り弁の絞り操作を警告する警
報装置を設けることができる。或いは、上記主ケーシン
グの温度が所定温度以上に上昇したことを検知する温度
センサと、該温度センサの検知信号により、上記絞り弁
の絞りを自動的に行う制御装置を設けることができる。
とするとよい。上記主ケーシングの温度が所定温度以上
に上昇したことを検知する温度センサと、該温度センサ
の検知信号により、上記絞り弁の絞り操作を警告する警
報装置を設けることができる。或いは、上記主ケーシン
グの温度が所定温度以上に上昇したことを検知する温度
センサと、該温度センサの検知信号により、上記絞り弁
の絞りを自動的に行う制御装置を設けることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】発明の実施の形態の具体例を図面
を参照して説明する。図１は本発明のドライ真空ポンプ
の正面図、図２は図１の横断面図、図３は図１のＸ−Ｘ
断面図、図４は冷却水の配管を説明する図面である。ド
ライ真空ポンプの構造は従来例と同様であるので、主要
部品には従来例と同一符号を付してその詳細説明を省略
し、従来例との相違点のみを説明する。
を参照して説明する。図１は本発明のドライ真空ポンプ
の正面図、図２は図１の横断面図、図３は図１のＸ−Ｘ
断面図、図４は冷却水の配管を説明する図面である。ド
ライ真空ポンプの構造は従来例と同様であるので、主要
部品には従来例と同一符号を付してその詳細説明を省略
し、従来例との相違点のみを説明する。
【００１７】吐出側サイドケース３の冷却水室１４と主
ケーシング１の冷却水室７とを連通する冷却水通路２６
を設け、吐出側サイドケース３の冷却水室１４に接続し
た冷却水出口管２７を三方弁２８の入口２８ａに接続す
る。三方弁２８の切替口２８ｂに接続した管路２９の端
部を主ケーシング１の冷却水室７に接続し、三方弁２８
の出口２８ｃに接続した管路３０を吸入側サイドケース
２の冷却水室２２に接続し、冷却水室２２に接続する冷
却水排出管３１に、冷却水の背圧を調整する絞り弁３２
を設ける。
ケーシング１の冷却水室７とを連通する冷却水通路２６
を設け、吐出側サイドケース３の冷却水室１４に接続し
た冷却水出口管２７を三方弁２８の入口２８ａに接続す
る。三方弁２８の切替口２８ｂに接続した管路２９の端
部を主ケーシング１の冷却水室７に接続し、三方弁２８
の出口２８ｃに接続した管路３０を吸入側サイドケース
２の冷却水室２２に接続し、冷却水室２２に接続する冷
却水排出管３１に、冷却水の背圧を調整する絞り弁３２
を設ける。
【００１８】三方弁２８の切替，絞り弁３２の操作を手
動で行う場合には、主ケーシング１の温度が所定温度以
上に上昇したことを温度センサ（図示しない）が検知し
たときに、警報を発する警報装置（図示しない）を設け
る。三方弁２８の切替，絞り弁３２の操作を自動で行う
場合には、温度センサの検知信号により、三方弁２８の
切替と絞り弁３２の制御を行う制御装置を設ける。
動で行う場合には、主ケーシング１の温度が所定温度以
上に上昇したことを温度センサ（図示しない）が検知し
たときに、警報を発する警報装置（図示しない）を設け
る。三方弁２８の切替，絞り弁３２の操作を自動で行う
場合には、温度センサの検知信号により、三方弁２８の
切替と絞り弁３２の制御を行う制御装置を設ける。
【００１９】以上のように構成されたドライ真空ポンプ
の作用を、ライトプロセス使用時とハードプロセス使用
時の順に説明する。ライトプロセスの場合には、三方弁
２８の切替口２８ｂを開き、入口２８ａを閉鎖した状態
である。このときの冷却水の流れは、冷却水供給管１
６，モータ５の冷却水室１５，接続管１７，ギヤケース
４の冷却水室１４，接続管１８，吐出側サイドケース３
の冷却室１９の順に流れ、更に、冷却水通路２６を通っ
て主ケーシング１の冷却水室７に流れる。
の作用を、ライトプロセス使用時とハードプロセス使用
時の順に説明する。ライトプロセスの場合には、三方弁
２８の切替口２８ｂを開き、入口２８ａを閉鎖した状態
である。このときの冷却水の流れは、冷却水供給管１
６，モータ５の冷却水室１５，接続管１７，ギヤケース
４の冷却水室１４，接続管１８，吐出側サイドケース３
の冷却室１９の順に流れ、更に、冷却水通路２６を通っ
て主ケーシング１の冷却水室７に流れる。
【００２０】従って、主ケーシング１が冷却され、主ケ
ーシング１を流れるガス温度は１５０℃前後になる。冷
却水室７を通過した冷却水は、管路２９内を矢印Ｆ方向
に流れ、三方弁２８の切替口２８ｂを経由して矢印Ｇで
示すように管路３０に流れ、管路３０より吸入側サイド
ケース２の冷却水室２２を通過し、冷却水排出管３１よ
り排出される。
ーシング１を流れるガス温度は１５０℃前後になる。冷
却水室７を通過した冷却水は、管路２９内を矢印Ｆ方向
に流れ、三方弁２８の切替口２８ｂを経由して矢印Ｇで
示すように管路３０に流れ、管路３０より吸入側サイド
ケース２の冷却水室２２を通過し、冷却水排出管３１よ
り排出される。
【００２１】ハードプロセスを行うときには、三方弁２
８の切替口２８ｂを閉じ、入口２８ａを開く。これによ
って、冷却水は 吐出側サイドケース３の冷却室１９か
ら冷却水出口管２７を通過し、矢印Ｈで示すように三方
弁２８の入口２８ａを経由して管路３０に流れる。主ケ
ーシング１の冷却水室７内に停滞している水は、内筒部
１ａ内のガスの圧縮熱によって１００℃に上昇すると、
蒸発が始まって冷却水室７内の圧力が上昇し、上昇圧分
だけ冷却水通路２６（図３参照）を通過して吐出側サイ
ドケース３の冷却室１９に浸入し、吐出側サイドケース
３内の冷却水に混入する。
８の切替口２８ｂを閉じ、入口２８ａを開く。これによ
って、冷却水は 吐出側サイドケース３の冷却室１９か
ら冷却水出口管２７を通過し、矢印Ｈで示すように三方
弁２８の入口２８ａを経由して管路３０に流れる。主ケ
ーシング１の冷却水室７内に停滞している水は、内筒部
１ａ内のガスの圧縮熱によって１００℃に上昇すると、
蒸発が始まって冷却水室７内の圧力が上昇し、上昇圧分
だけ冷却水通路２６（図３参照）を通過して吐出側サイ
ドケース３の冷却室１９に浸入し、吐出側サイドケース
３内の冷却水に混入する。
【００２２】このとき、絞り弁３２を閉めて圧損を加え
ると、冷却水室７内の蒸気圧温度は１００℃より更に高
温になるので、主ケーシング１の温度を上昇させること
ができる。主ケーシング１の温度を１００〜１２０度に
加熱することにより、主ケーシング１内の吐出ガス温度
を３５０℃付近にコントロールすることができる。ガス
内に含まれるＮＨ4 ＣＬ，ＡＬＣＬ2 等の昇華温度は３
５０℃以下（７６０Torrにおいて）であるので、生成物
が主ケーシング１内部で固化することはなく、従って、
生成物の堆積によって運転が停止する問題は生じない。
ると、冷却水室７内の蒸気圧温度は１００℃より更に高
温になるので、主ケーシング１の温度を上昇させること
ができる。主ケーシング１の温度を１００〜１２０度に
加熱することにより、主ケーシング１内の吐出ガス温度
を３５０℃付近にコントロールすることができる。ガス
内に含まれるＮＨ4 ＣＬ，ＡＬＣＬ2 等の昇華温度は３
５０℃以下（７６０Torrにおいて）であるので、生成物
が主ケーシング１内部で固化することはなく、従って、
生成物の堆積によって運転が停止する問題は生じない。
【００２３】又、絞り弁３２の調整により主ケーシング
１の温度を必要以上に上昇させることを防止できるの
で、過度の加熱により真空ポンプの寿命を縮めたり、火
傷をする危険性を防止することができる。
１の温度を必要以上に上昇させることを防止できるの
で、過度の加熱により真空ポンプの寿命を縮めたり、火
傷をする危険性を防止することができる。
【００２４】主ケーシング１の冷却水室７内に、冷却水
室７の内部温度が所定温度以上になったことを検知する
温度センサ（図示しない）を設け、この温度センサの検
知信号で警報を発する警報装置を設けておけば、警報を
受けた運転員が絞り弁３２を操作することにより、主ケ
ーシング１内の吐出ガス温度を３５０℃付近にコントロ
ールすることができる。センサの検知信号を受けて絞り
弁の開閉機構を自動的に制御する制御装置を設けらる
と、この運転員の手動絞り弁操作を自動化することがで
きる。
室７の内部温度が所定温度以上になったことを検知する
温度センサ（図示しない）を設け、この温度センサの検
知信号で警報を発する警報装置を設けておけば、警報を
受けた運転員が絞り弁３２を操作することにより、主ケ
ーシング１内の吐出ガス温度を３５０℃付近にコントロ
ールすることができる。センサの検知信号を受けて絞り
弁の開閉機構を自動的に制御する制御装置を設けらる
と、この運転員の手動絞り弁操作を自動化することがで
きる。
【００２５】
【発明の効果】本発明は、以上述べたように構成されて
いるので、以下に記載されるような効果を奏する。 (1) 本発明のドライ真空ポンプは、三方弁を切り換える
ことにより、ライトプロセス用とハードプロセス用に兼
用することができる。 (2) ハードプロセスと使用する場合には、絞り弁の開度
を調整して冷却水の背圧を調節し、ケーシング温度をコ
ントロールすることができる。ケーシング温度を適正温
度にコントロールすることにより、生成物の堆積を防止
することが可能になると共に、真空ポンプの過度の温度
上昇を防止することができる。
いるので、以下に記載されるような効果を奏する。 (1) 本発明のドライ真空ポンプは、三方弁を切り換える
ことにより、ライトプロセス用とハードプロセス用に兼
用することができる。 (2) ハードプロセスと使用する場合には、絞り弁の開度
を調整して冷却水の背圧を調節し、ケーシング温度をコ
ントロールすることができる。ケーシング温度を適正温
度にコントロールすることにより、生成物の堆積を防止
することが可能になると共に、真空ポンプの過度の温度
上昇を防止することができる。
【図１】本発明のドライ真空ポンプの正面図である。
【図２】図１の横断面図である。
【図３】図１のＸ−Ｘ断面図である。
【図４】冷却水の配管を説明する図面である。
【図５】真空ポンプの内部構造を示す横断面図である。
【図６】従来の真空ポンプの冷却水の配管を説明する図
面である。
面である。
１ 主ケーシング １ａ 内筒部 ３ 吐出側サイドケース ６ 吸入口 ７ 冷却水室 ８ スクリューロータ １４，１５， 冷却水室 １６ 冷却水供給管 １７，１８ 接続管 １９，２２ 冷却水室 ２０，２１ 接続管 ２６ 冷却水通路 ２７ 冷却水出口管 ２８ 三方弁 ３０ 管路 ３１ 冷却水排出管 ３２ 絞り弁
Claims (4)
- 【請求項１】 相互に噛み合うスクリューロータを収容
する内筒部と、該内筒部の一側および他側に連通する吸
入口及び吐出口とを有し、外壁面に冷却水室が設けられ
る主ケーシングと、該主ケーシングの一側に取付られ、
外壁面に冷却水室が設けられる吸入側サイドケースと、
上記主ケーシングの他側に取付られ、外壁面に冷却水室
が設けられる吐出側サイドケースとを有する真空ポンプ
において、 該吐出側サイドケースの冷却水室と上記主ケースの冷却
水室とを連通する冷却水通路を設け、上記吐出側サイド
ケースの冷却水室の冷却水出口管を三方弁の入口に接続
し、該三方弁の切替口を上記主ケースの冷却水室に接続
し、上記三方弁の出口を上記吸入側サイドケースの冷却
水室に接続し、吸入側サイドケースの冷却水室に接続す
る冷却水排出管に弁を設けたことを特徴とする真空ポン
プ。 - 【請求項２】 上記冷却水排出管に設けられる弁は絞り
弁であることを特徴とする請求項１記載の真空ポンプ。 - 【請求項３】 上記主ケーシングの温度が所定温度以上
に上昇したことを検知する温度センサと、該温度センサ
の検知信号により、上記絞り弁の絞り操作を警告する警
報装置を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の
真空ポンプ。 - 【請求項４】 上記主ケーシングの温度が所定温度以上
に上昇したことを検知する温度センサと、該温度センサ
の検知信号により、上記絞り弁の絞りを自動的に行う制
御装置を設けたことを特徴とする請求項１又は２記載の
真空ポンプ。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08753798A JP3831113B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 真空ポンプ |
| US09/647,251 US6315535B1 (en) | 1998-03-31 | 1998-04-30 | Screw vacuum pump having valve controlled cooling chambers |
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| TW087109061A TW362137B (en) | 1998-03-31 | 1998-06-08 | Vacuum pump |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08753798A JP3831113B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 真空ポンプ |
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|---|---|---|---|
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| KR100424795B1 (ko) * | 2001-08-09 | 2004-03-30 | 코웰정밀주식회사 | 자체순환 냉각시스템 진공펌프 |
| DE10156179A1 (de) * | 2001-11-15 | 2003-05-28 | Leybold Vakuum Gmbh | Kühlung einer Schraubenvakuumpumpe |
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| DE102008049238A1 (de) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | Wabco Gmbh | Vorrichtung zum Betreiben eines Hilfsaggregates eines Fahrzeuges, insbesondere Nutzfahrzeuges |
| KR101173168B1 (ko) * | 2010-11-17 | 2012-08-16 | 데이비드 김 | 다단형 건식 진공펌프 |
| KR101333056B1 (ko) | 2012-01-20 | 2013-11-26 | 주식회사 코디박 | 냉각 기능을 갖는 모터 내장형 스크루 로터 타입 진공펌프 |
| EP3263903B1 (en) * | 2015-02-25 | 2020-11-04 | Hitachi Industrial Equipment Systems Co., Ltd. | Oilless compressor |
| KR101712962B1 (ko) | 2015-09-24 | 2017-03-07 | 이인철 | 냉각장치를 갖춘 진공펌프 |
| DE102018130472A1 (de) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | Nidec Gpm Gmbh | Schraubenspindelpumpe |
| US12338817B2 (en) * | 2020-09-02 | 2025-06-24 | Eaton Intelligent Power Limited | Rear drive EGR pump |
| JP7555870B2 (ja) | 2021-03-29 | 2024-09-25 | 株式会社荏原製作所 | 真空ポンプ装置 |
| FR3128745B1 (fr) * | 2021-10-29 | 2025-07-11 | Pfeiffer Vacuum | Pompe à vide sèche |
| CN116428157B (zh) * | 2023-04-13 | 2024-08-30 | 北京通嘉宏瑞科技有限公司 | 气体加热控制系统及气体加热控制方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61152992A (ja) | 1984-12-26 | 1986-07-11 | Hitachi Ltd | スクリユ−流体機械 |
| ES2028944T3 (es) * | 1988-06-01 | 1992-07-16 | Leybold Aktiengesellschaft | Procedimiento para la vigilancia de una bomba de vacio lubrificada con aceite. |
| JPH02149795A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-08 | Hitachi Ltd | 無給油式スクリュー圧縮機 |
| JPH0440186U (ja) * | 1990-03-17 | 1992-04-06 | ||
| JPH0419385A (ja) * | 1990-05-14 | 1992-01-23 | Anlet Co Ltd | 圧縮ガス流配管内蔵型まゆ型２軸多段式真空ポンプの冷却装置 |
| JPH0440186A (ja) | 1990-06-06 | 1992-02-10 | Fujitsu Ltd | 静止画像伝送方法 |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP08753798A patent/JP3831113B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-30 WO PCT/JP1998/001981 patent/WO1999050561A1/ja not_active Ceased
- 1998-04-30 KR KR20007010837A patent/KR100347228B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-30 DE DE19882987T patent/DE19882987C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-30 US US09/647,251 patent/US6315535B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-06-08 TW TW087109061A patent/TW362137B/zh not_active IP Right Cessation
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|---|---|---|---|---|
| WO2001096744A1 (fr) * | 2000-06-15 | 2001-12-20 | Alcatel | Regulation thermique a debit et temperature de refroidissement constants pour dispositif de generation de vide |
| FR2810375A1 (fr) * | 2000-06-15 | 2001-12-21 | Cit Alcatel | Regulation thermique a debit et temperature de refroidissement constants pour dispositif de generation de vide |
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| DE19882987T1 (de) | 2001-04-12 |
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