JPH11284162A - 固体撮像素子 - Google Patents
固体撮像素子Info
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- JPH11284162A JPH11284162A JP8424798A JP8424798A JPH11284162A JP H11284162 A JPH11284162 A JP H11284162A JP 8424798 A JP8424798 A JP 8424798A JP 8424798 A JP8424798 A JP 8424798A JP H11284162 A JPH11284162 A JP H11284162A
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- JP
- Japan
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- light
- receiving sensor
- solid
- imaging device
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 固体撮像素子の薄型化を図り、集光率の向上
を図る。 【解決手段】 受光センサ部12上に、受光センサ部1
2に凹部を有する層間膜21を有し、層間膜21上に、
受光センサ12に対向する側が、層間膜の凹部21aを
埋め込んで、凹部21aの曲面により凸部27aが形成
されてなる複数のマイクロレンズ27を有し、マイクロ
レンズの各々が複数種類の色のうち、いずれかの色を有
する有色マイクロレンズであるものとする。
を図る。 【解決手段】 受光センサ部12上に、受光センサ部1
2に凹部を有する層間膜21を有し、層間膜21上に、
受光センサ12に対向する側が、層間膜の凹部21aを
埋め込んで、凹部21aの曲面により凸部27aが形成
されてなる複数のマイクロレンズ27を有し、マイクロ
レンズの各々が複数種類の色のうち、いずれかの色を有
する有色マイクロレンズであるものとする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、固体撮像素子、特
にカラー固体撮像素子に係わる。
にカラー固体撮像素子に係わる。
【0002】
【従来の技術】近年、固体撮像素子においては、その小
型化や画素の高密度化が進み、これに伴って、受光エリ
アが縮小され、感度低下などの特性の劣化を招いてい
る。感度低下の対策としては、マイクロレンズ、例えば
いわゆるオンチップレンズや、層内レンズを設け、受光
センサ部での集光効率を高めるといったことが提案され
ている。以下、従来における固体撮像素子の構造を説明
する。
型化や画素の高密度化が進み、これに伴って、受光エリ
アが縮小され、感度低下などの特性の劣化を招いてい
る。感度低下の対策としては、マイクロレンズ、例えば
いわゆるオンチップレンズや、層内レンズを設け、受光
センサ部での集光効率を高めるといったことが提案され
ている。以下、従来における固体撮像素子の構造を説明
する。
【0003】図6に、従来構造の固体撮像素子100の
要部の概略断面図を示す。図6に示すように、基板10
1上には、光電変換を行う多数の受光センサ部102
が、行および列状に配列形成されている。各共通の列上
の受光センサ部102に対し、電荷転送部104が形成
される。受光センサ部102で光電変換されて得られた
信号電荷は、電荷転送部104に読み出されて、列方向
に転送されるようになされている。
要部の概略断面図を示す。図6に示すように、基板10
1上には、光電変換を行う多数の受光センサ部102
が、行および列状に配列形成されている。各共通の列上
の受光センサ部102に対し、電荷転送部104が形成
される。受光センサ部102で光電変換されて得られた
信号電荷は、電荷転送部104に読み出されて、列方向
に転送されるようになされている。
【0004】基板101上には、絶縁膜(図示せず)が
積層され、この絶縁膜を介して、電荷転送部104のほ
ぼ直上位置に、転送電極107が形成されている。この
転送電極107上には、転送電極を覆った状態で、高融
点金属よりなる遮光膜109が形成されている。
積層され、この絶縁膜を介して、電荷転送部104のほ
ぼ直上位置に、転送電極107が形成されている。この
転送電極107上には、転送電極を覆った状態で、高融
点金属よりなる遮光膜109が形成されている。
【0005】この遮光膜109上を覆って、例えばBP
SG(ボロン・リン・シリケートガラス)よりなる層間
膜111が形成されている。この層間膜111には、リ
フロー処理(熱軟化処理)することにより、転送電極1
07間の受光センサ部102上に、凹部111aが形成
される。これら凹部111aは、所要の曲率を有する凹
面に調整される。
SG(ボロン・リン・シリケートガラス)よりなる層間
膜111が形成されている。この層間膜111には、リ
フロー処理(熱軟化処理)することにより、転送電極1
07間の受光センサ部102上に、凹部111aが形成
される。これら凹部111aは、所要の曲率を有する凹
面に調整される。
【0006】層間膜111上には、層間膜の凹部111
aを、例えば、プラズマ窒化シリコン等の層内レンズ材
で埋め込んで、この凹部111aの曲面によって受光セ
ンサ部102に入射光を集光させるために必要な曲率の
凸部を有する層内レンズ114が形成されている。層内
レンズ114の上面は、公知のいわゆるレジストエッチ
バック法、あるいはCMP法(化学機械研磨法)によっ
て平坦化されている。
aを、例えば、プラズマ窒化シリコン等の層内レンズ材
で埋め込んで、この凹部111aの曲面によって受光セ
ンサ部102に入射光を集光させるために必要な曲率の
凸部を有する層内レンズ114が形成されている。層内
レンズ114の上面は、公知のいわゆるレジストエッチ
バック法、あるいはCMP法(化学機械研磨法)によっ
て平坦化されている。
【0007】平坦化された層内レンズ114の上には、
カラーフィルター層116が形成される。このカラーフ
ィルター層116は、色素が分散された樹脂等により公
知の方法で形成される。
カラーフィルター層116が形成される。このカラーフ
ィルター層116は、色素が分散された樹脂等により公
知の方法で形成される。
【0008】カラーフィルター層116上には、凸レン
ズ状のマイクロレンズ117が形成されている。このマ
イクロレンズ117は、入射光を層内レンズ114を介
して受光センサ部112に集光させるためのものであ
る。よって、この凸型のマイクロレンズ117の曲率
は、図6に示す固体撮像素子100における受光センサ
部102からマイクロレンズ117までの距離に応じて
所望の値に選定する。
ズ状のマイクロレンズ117が形成されている。このマ
イクロレンズ117は、入射光を層内レンズ114を介
して受光センサ部112に集光させるためのものであ
る。よって、この凸型のマイクロレンズ117の曲率
は、図6に示す固体撮像素子100における受光センサ
部102からマイクロレンズ117までの距離に応じて
所望の値に選定する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図6に
おいて示した構造の固体撮像素子100においては、以
下に述べる不都合が生じる。すなわち、図6に示す層内
レンズ114を有する構造の固体撮像素子100におい
ては、層内レンズ114と、カラーフィルター層116
とが、それぞれ設けられるため、受光センサ部102か
らマイクロレンズ117の形成面までの厚さが4〜5μ
m以上程度になり、受光センサ部102からマイクロレ
ンズ117の形成面までの距離が大となる。
おいて示した構造の固体撮像素子100においては、以
下に述べる不都合が生じる。すなわち、図6に示す層内
レンズ114を有する構造の固体撮像素子100におい
ては、層内レンズ114と、カラーフィルター層116
とが、それぞれ設けられるため、受光センサ部102か
らマイクロレンズ117の形成面までの厚さが4〜5μ
m以上程度になり、受光センサ部102からマイクロレ
ンズ117の形成面までの距離が大となる。
【0010】このように、受光センサ部102からマイ
クロレンズ117までの距離が大となると、図7に示す
ように、カメラの撮像レンズの絞りを開いた場合のよう
に、マイクロレンズ117に対して斜めに入射する光が
増加した場合、図7中、破線L’で示すように、角度θ
傾いて入射した光がマイクロレンズ117により集光さ
れると、遮光膜109の開口の中心の集光が低下する。
すなわち、F値依存が悪化して、中心平行光に対する感
度は良好だが、絞り開放側での感度低下が顕著となる。
また、集光された光が、遮光膜109の開口端に近づく
ことにより、隣接の受光センサ部102や電荷転送部に
信号電荷を混入させて、いわゆるスミアを発生させる。
クロレンズ117までの距離が大となると、図7に示す
ように、カメラの撮像レンズの絞りを開いた場合のよう
に、マイクロレンズ117に対して斜めに入射する光が
増加した場合、図7中、破線L’で示すように、角度θ
傾いて入射した光がマイクロレンズ117により集光さ
れると、遮光膜109の開口の中心の集光が低下する。
すなわち、F値依存が悪化して、中心平行光に対する感
度は良好だが、絞り開放側での感度低下が顕著となる。
また、集光された光が、遮光膜109の開口端に近づく
ことにより、隣接の受光センサ部102や電荷転送部に
信号電荷を混入させて、いわゆるスミアを発生させる。
【0011】本発明は、上記不都合を解消するため、受
光センサ部102からマイクロレンズ117までの距離
を小さく形成した構造の固体撮像素子を提供するもので
ある。
光センサ部102からマイクロレンズ117までの距離
を小さく形成した構造の固体撮像素子を提供するもので
ある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の固体撮像素子
は、基板上に光電変換を行う受光センサ部を有し、受光
センサ部上に、凹部を有する層間膜を有し、層間膜上
に、上面が凸面とされた複数のマイクロレンズを有し、
このマイクロレンズは、層間膜の凹部を埋め込んで、凹
部の曲面により凸部が形成されて成り、マイクロレンズ
の凸部の曲率は、受光センサ部に入射光を集光させるた
めに必要な曲率を有する凸面とされて成り、マイクロレ
ンズの各々が、複数種類の色のうち、いずれかの色を有
する有色マイクロレンズであるものとする。
は、基板上に光電変換を行う受光センサ部を有し、受光
センサ部上に、凹部を有する層間膜を有し、層間膜上
に、上面が凸面とされた複数のマイクロレンズを有し、
このマイクロレンズは、層間膜の凹部を埋め込んで、凹
部の曲面により凸部が形成されて成り、マイクロレンズ
の凸部の曲率は、受光センサ部に入射光を集光させるた
めに必要な曲率を有する凸面とされて成り、マイクロレ
ンズの各々が、複数種類の色のうち、いずれかの色を有
する有色マイクロレンズであるものとする。
【0013】本発明の固体撮像素子は、従来の固体撮像
素子を構成する層内レンズと、カラーフィルターと、マ
イクロレンズを一体化した有色マイクロレンズを有する
ものである。本発明の固体撮像素子においては、有色マ
イクロレンズが、層内レンズ、カラーフィルター、およ
びマイクロレンズのそれぞれの機能を有する。また、本
発明の固体撮像素子を作製する場合においては、層内レ
ンズと、カラーフィルターと、マイクロレンズが一体化
された有色マイクロレンズを作製するのみで足り、これ
らを個別に作製する必要がなくなる。また、本発明の固
体撮像素子の構造によれば、有色マイクロレンズが、層
内レンズ、カラーフィルター、およびマイクロレンズの
役割を兼ねていることから、これら層内レンズ、カラー
フィルター、およびマイクロレンズを別個に設ける必要
がなくなり、これにより受光センサ部からマイクロレン
ズまでの距離が小さくなる。
素子を構成する層内レンズと、カラーフィルターと、マ
イクロレンズを一体化した有色マイクロレンズを有する
ものである。本発明の固体撮像素子においては、有色マ
イクロレンズが、層内レンズ、カラーフィルター、およ
びマイクロレンズのそれぞれの機能を有する。また、本
発明の固体撮像素子を作製する場合においては、層内レ
ンズと、カラーフィルターと、マイクロレンズが一体化
された有色マイクロレンズを作製するのみで足り、これ
らを個別に作製する必要がなくなる。また、本発明の固
体撮像素子の構造によれば、有色マイクロレンズが、層
内レンズ、カラーフィルター、およびマイクロレンズの
役割を兼ねていることから、これら層内レンズ、カラー
フィルター、およびマイクロレンズを別個に設ける必要
がなくなり、これにより受光センサ部からマイクロレン
ズまでの距離が小さくなる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の固体撮像素子は、基板上
に光電変換を行う受光センサ部を有し、受光センサ部上
に、受光センサ部に凹部を有する層間膜を有し、層間膜
上に複数のマイクロレンズを有し、マイクロレンズの、
受光センサに対向する側が、層間膜の凹部を埋め込ん
で、凹部の曲面により受光センサ部に入射光を集光させ
るために必要な曲率を有する凸部が形成されて成り、マ
イクロレンズの各々が複数種類の色のうち、いずれかの
色を有する有色マイクロレンズであるものとする。
に光電変換を行う受光センサ部を有し、受光センサ部上
に、受光センサ部に凹部を有する層間膜を有し、層間膜
上に複数のマイクロレンズを有し、マイクロレンズの、
受光センサに対向する側が、層間膜の凹部を埋め込ん
で、凹部の曲面により受光センサ部に入射光を集光させ
るために必要な曲率を有する凸部が形成されて成り、マ
イクロレンズの各々が複数種類の色のうち、いずれかの
色を有する有色マイクロレンズであるものとする。
【0015】以下、本発明の固体撮像素子の一例につい
て図を参照して説明するが、本発明は、以下の例に限定
されるものではない。図1に、本発明の固体撮像素子1
0の一例の要部の概略断面図を示す。図1に示すよう
に、例えば、シリコン基板11上には、光電変換を行う
多数の受光センサ部12が、行および列状に配列形成さ
れている。各共通の列上の受光センサ部12に対し、そ
の一方の側には、電荷転送部14が形成される。受光セ
ンサ部12で光電変換されて得られた信号電荷は、上記
一方の電荷転送部14に読み出されて、列方向の転送さ
れるようになされる。
て図を参照して説明するが、本発明は、以下の例に限定
されるものではない。図1に、本発明の固体撮像素子1
0の一例の要部の概略断面図を示す。図1に示すよう
に、例えば、シリコン基板11上には、光電変換を行う
多数の受光センサ部12が、行および列状に配列形成さ
れている。各共通の列上の受光センサ部12に対し、そ
の一方の側には、電荷転送部14が形成される。受光セ
ンサ部12で光電変換されて得られた信号電荷は、上記
一方の電荷転送部14に読み出されて、列方向の転送さ
れるようになされる。
【0016】電荷転送部14のほぼ直上位置に、例えば
ポリシリコンからなる転送電極17が形成されており、
さらに転送電極17とは一部が重なり合う状態で他の転
送電極が形成される。
ポリシリコンからなる転送電極17が形成されており、
さらに転送電極17とは一部が重なり合う状態で他の転
送電極が形成される。
【0017】この転送電極17上には、転送電極を覆
い、受光センサ部12上に、受光窓12aが穿設された
高融点金属よりなる遮光膜19が形成される。
い、受光センサ部12上に、受光窓12aが穿設された
高融点金属よりなる遮光膜19が形成される。
【0018】遮光膜19上を覆って、全面的に例えばB
PSG(ボロン・リン・シリケートガラス)よりなる層
間膜21が形成される。この層間膜21は、リフロー処
理(熱軟化処理)を施すことにより、転送電極17間の
受光センサ部12上に凹部21aが形成される。この凹
部21aは、所要の曲率に調整される。
PSG(ボロン・リン・シリケートガラス)よりなる層
間膜21が形成される。この層間膜21は、リフロー処
理(熱軟化処理)を施すことにより、転送電極17間の
受光センサ部12上に凹部21aが形成される。この凹
部21aは、所要の曲率に調整される。
【0019】層間膜21上には、例えば、プラズマ窒化
シリコン等により、パッシベーション膜22が形成され
る。
シリコン等により、パッシベーション膜22が形成され
る。
【0020】このパッシベーション膜22上には、マイ
クロレンズ27が形成されている。このマイクロレンズ
27は、受光センサ12に対向する側が、層間膜21の
凹部21aを埋め込んで、この凹部21aの曲面により
凸部27aが形成されて成る。このマイクロレンズ27
の凸部27aは、入射光を受光センサ部12に集光させ
るために必要な曲率を有する凸面とされて成る。また、
マイクロレンズ27の各々が、複数種類の色のうち、い
ずれかの色を有する有色マイクロレンズとされる。
クロレンズ27が形成されている。このマイクロレンズ
27は、受光センサ12に対向する側が、層間膜21の
凹部21aを埋め込んで、この凹部21aの曲面により
凸部27aが形成されて成る。このマイクロレンズ27
の凸部27aは、入射光を受光センサ部12に集光させ
るために必要な曲率を有する凸面とされて成る。また、
マイクロレンズ27の各々が、複数種類の色のうち、い
ずれかの色を有する有色マイクロレンズとされる。
【0021】このマイクロレンズ27の表面には、低反
射膜28がコーティングされる。この低反射膜28によ
り、マイクロレンズ27表面での入射光の反射が低減さ
れ、入射光を効率良く素子の中に取り込むことができる
ようになされる。
射膜28がコーティングされる。この低反射膜28によ
り、マイクロレンズ27表面での入射光の反射が低減さ
れ、入射光を効率良く素子の中に取り込むことができる
ようになされる。
【0022】図1に示した本発明の一例の固体撮像素子
は、以下のようにして作製することができる。すなわ
ち、先ず、従来公知の方法により、シリコン基板11上
に、受光センサ部12、電荷転送部14、転送電極17
をそれぞれ形成し、次に、転送電極17を覆って層間絶
縁膜(図示せず)を形成し、その後、例えばタングステ
ン(W)等の高融点金属を被着させて遮光膜19を形成
する。この遮光膜19には、受光センサ部12上に、受
光窓12aを穿設する。
は、以下のようにして作製することができる。すなわ
ち、先ず、従来公知の方法により、シリコン基板11上
に、受光センサ部12、電荷転送部14、転送電極17
をそれぞれ形成し、次に、転送電極17を覆って層間絶
縁膜(図示せず)を形成し、その後、例えばタングステ
ン(W)等の高融点金属を被着させて遮光膜19を形成
する。この遮光膜19には、受光センサ部12上に、受
光窓12aを穿設する。
【0023】次に、例えばBPSGを用いて、これを例
えばCVD(Chemical Vapor Depo
sition)法により、遮光膜19を覆って全面的に
層間膜21を形成する。次に、この層間膜21を所定の
条件、例えば700℃〜800℃程度に熱軟化処理(リ
フロー処理)して、層間膜21の凹部21aを形成する
が、この凹部21aの中心は、遮光膜19の開口部にあ
る受光センサ部12の中心と一致するように形成する。
また、この凹部21a上には、最終的に有色のマイクロ
レンズ27が形成されるが、このマイクロレンズは、凹
部21aを埋め込んでこの凹部21aの曲面により凸部
を形成するようにするものであり、このマイクロレンズ
27が、従来の固体撮像素子の層内レンズとしての役割
も兼ねるようにすることから、層間膜21の凹部21a
の曲率は、入射光を受光素子に集光するために必要な曲
率を有するように形成する。
えばCVD(Chemical Vapor Depo
sition)法により、遮光膜19を覆って全面的に
層間膜21を形成する。次に、この層間膜21を所定の
条件、例えば700℃〜800℃程度に熱軟化処理(リ
フロー処理)して、層間膜21の凹部21aを形成する
が、この凹部21aの中心は、遮光膜19の開口部にあ
る受光センサ部12の中心と一致するように形成する。
また、この凹部21a上には、最終的に有色のマイクロ
レンズ27が形成されるが、このマイクロレンズは、凹
部21aを埋め込んでこの凹部21aの曲面により凸部
を形成するようにするものであり、このマイクロレンズ
27が、従来の固体撮像素子の層内レンズとしての役割
も兼ねるようにすることから、層間膜21の凹部21a
の曲率は、入射光を受光素子に集光するために必要な曲
率を有するように形成する。
【0024】層間膜21上には、例えばSiN膜やSi
ON膜によるパッシベーション膜22を、例えばプラズ
マCVD法により成膜する。このパッシベーション膜2
2は、下層の層間膜21に上層からイオンが混入するこ
とを防止する役割を有する。
ON膜によるパッシベーション膜22を、例えばプラズ
マCVD法により成膜する。このパッシベーション膜2
2は、下層の層間膜21に上層からイオンが混入するこ
とを防止する役割を有する。
【0025】次に、図2に示すように、例えば、ポリビ
ニルアルコールに合成染料を含有させた材料や、顔料を
分散させた材料により、パッシベーション22上に、例
えばレッド、グリーン、ブルーの三原色のカラーフィル
ター層30を形成する。
ニルアルコールに合成染料を含有させた材料や、顔料を
分散させた材料により、パッシベーション22上に、例
えばレッド、グリーン、ブルーの三原色のカラーフィル
ター層30を形成する。
【0026】その後、このカラーフィルター層30上
に、フォトレジストを塗布し、その表面を平坦化させて
フォトレジスト層31を形成する。
に、フォトレジストを塗布し、その表面を平坦化させて
フォトレジスト層31を形成する。
【0027】次に、図3に示すように、フォトレジスト
層31を露光し、その後現像処理することにより所要の
パターンに形成する。すなわち、フォトレジスト層31
の内、遮光膜19の開口部分にあるものを残したパター
ンに形成する。
層31を露光し、その後現像処理することにより所要の
パターンに形成する。すなわち、フォトレジスト層31
の内、遮光膜19の開口部分にあるものを残したパター
ンに形成する。
【0028】次に、図4に示すように、フォトレジスト
層31を熱軟化処理(リフロー処理)することにより、
その表面を所要の曲率を有する球面にし、レンズ型形成
層31aを形成する。このため、予めフォトレジスト層
31の材料の融点が、カラーフィルター層30の材料の
融点よりも低い材料を選定するものとし、フォトレジス
ト層31をカラーフィルター層30の材料の融点よりも
低い温度で加熱処理する。溶融したフォトレジスト層3
1は表面張力によりその表面が球状になり、レンズ型形
成層31aを得ることができる。
層31を熱軟化処理(リフロー処理)することにより、
その表面を所要の曲率を有する球面にし、レンズ型形成
層31aを形成する。このため、予めフォトレジスト層
31の材料の融点が、カラーフィルター層30の材料の
融点よりも低い材料を選定するものとし、フォトレジス
ト層31をカラーフィルター層30の材料の融点よりも
低い温度で加熱処理する。溶融したフォトレジスト層3
1は表面張力によりその表面が球状になり、レンズ型形
成層31aを得ることができる。
【0029】次に、表面が球状のレンズ型形成層31a
をマスクとして、RIE(Reactive Ion
Etching)等の等方性エッチングを行い、レンズ
型形成層31a、カラーフィルター層30をエッチング
して、図1に示すように、各カラーフィルターを凸レン
ズ状に成形する。そして、この凸レンズ状のカラーフィ
ルターは、最終的に得られる固体撮像素子10における
マイクロレンズ27を構成する。
をマスクとして、RIE(Reactive Ion
Etching)等の等方性エッチングを行い、レンズ
型形成層31a、カラーフィルター層30をエッチング
して、図1に示すように、各カラーフィルターを凸レン
ズ状に成形する。そして、この凸レンズ状のカラーフィ
ルターは、最終的に得られる固体撮像素子10における
マイクロレンズ27を構成する。
【0030】次に、マイクロレンズ27の表面に、マイ
クロレンズ27表面での入射光の反射を低減することの
できる低反射膜28をコーティングし、最終的に目的と
する固体撮像素子10を作製することができる。
クロレンズ27表面での入射光の反射を低減することの
できる低反射膜28をコーティングし、最終的に目的と
する固体撮像素子10を作製することができる。
【0031】このようにして得られた固体撮像素子10
にあっては、マイクロレンズ27の上部の凸面で集光さ
れ、さらにマイクロレンズ27の下部、すなわち、受光
センサ部12に対向する側の凸部27aで再度集光され
た光が、遮光膜19の開口部内に入射し、受光センサ部
12に至り、ここで光電変換がなされる。
にあっては、マイクロレンズ27の上部の凸面で集光さ
れ、さらにマイクロレンズ27の下部、すなわち、受光
センサ部12に対向する側の凸部27aで再度集光され
た光が、遮光膜19の開口部内に入射し、受光センサ部
12に至り、ここで光電変換がなされる。
【0032】本発明の固体撮像素子によれば、有色マイ
クロレンズ27が、図6を参照して説明した従来構造の
固体撮像素子100の層内レンズ114とカラーフィル
ター116と、マイクロレンズ117の機能を有する。
クロレンズ27が、図6を参照して説明した従来構造の
固体撮像素子100の層内レンズ114とカラーフィル
ター116と、マイクロレンズ117の機能を有する。
【0033】本発明の固体撮像素子は、層内レンズとカ
ラーフィルターと、マイクロレンズをそれぞれ別個に形
成することなく、有色マイクロレンズを形成するのみで
足りるため、受光センサ部から、マイクロレンズの底面
までの距離を小さく形成することができる。また、この
ように受光センサ部から、マイクロレンズまでの距離を
小さく形成したことにより、図5に示すように、カメラ
の撮像レンズの絞りを開いた場合のように、マイクロレ
ンズ27に対して斜めに入射する光が増加しても、図5
中の破線で示すように、マイクロレンズ27により集光
された光は、遮光膜19の開口の中心からずれた場合に
おいても、受光センサ部12へ集光し、従来構造の固体
撮像素子に比べて集光率が向上が図られる。すなわち、
絞り開放側においても感度の低下を低減することができ
る。また、集光されて光が、隣接の受光センサ部12や
電荷転送領域(図示せず)に信号電荷を混入させること
を回避することができるため、いわゆるスミアの発生を
防止することができる。
ラーフィルターと、マイクロレンズをそれぞれ別個に形
成することなく、有色マイクロレンズを形成するのみで
足りるため、受光センサ部から、マイクロレンズの底面
までの距離を小さく形成することができる。また、この
ように受光センサ部から、マイクロレンズまでの距離を
小さく形成したことにより、図5に示すように、カメラ
の撮像レンズの絞りを開いた場合のように、マイクロレ
ンズ27に対して斜めに入射する光が増加しても、図5
中の破線で示すように、マイクロレンズ27により集光
された光は、遮光膜19の開口の中心からずれた場合に
おいても、受光センサ部12へ集光し、従来構造の固体
撮像素子に比べて集光率が向上が図られる。すなわち、
絞り開放側においても感度の低下を低減することができ
る。また、集光されて光が、隣接の受光センサ部12や
電荷転送領域(図示せず)に信号電荷を混入させること
を回避することができるため、いわゆるスミアの発生を
防止することができる。
【0034】上述した実施例においては、カラーフィル
ター層30上に形成したフォトレジスト層31を加熱処
理することによりその表面を球状形状を形成したが、本
発明はこの例に限定されるものではない。すなわち、フ
ォトレジスト層30を溶液によって部分的に溶解し、そ
の表面に球状形状を形成する、いわゆる化学的処理を行
う場合についても同様に適用することができる。
ター層30上に形成したフォトレジスト層31を加熱処
理することによりその表面を球状形状を形成したが、本
発明はこの例に限定されるものではない。すなわち、フ
ォトレジスト層30を溶液によって部分的に溶解し、そ
の表面に球状形状を形成する、いわゆる化学的処理を行
う場合についても同様に適用することができる。
【0035】また、上述した実施例においては、層間膜
21をBPSGにより形成するものとしたが、本発明は
この例に限定されるものではなく、PSG等、層間膜2
1を熱軟化処理(リフロー処理)することによって、所
要の曲率を有する凹部21aを形成することができる材
料であれば、従来公知の材料を適用することができる。
21をBPSGにより形成するものとしたが、本発明は
この例に限定されるものではなく、PSG等、層間膜2
1を熱軟化処理(リフロー処理)することによって、所
要の曲率を有する凹部21aを形成することができる材
料であれば、従来公知の材料を適用することができる。
【0036】
【発明の効果】本発明の固体撮像素子によれば、層内レ
ンズと、カラーフィルターと、マイクロレンズの機能を
有し、これらが一体化された有色マイクロレンズを形成
した構造としたため、受光センサ部からマイクロレンズ
までの距離を小さくすることができた。これにより、カ
メラの撮像レンズの絞りを開いた状態のように、マイク
ロレンズに対して斜めに入射する光が増加した場合にお
いても、マイクロレンズにより集光された光は、遮光膜
の開口の中心からずれることがなく、集光率の低下を効
果的に回避することができた。
ンズと、カラーフィルターと、マイクロレンズの機能を
有し、これらが一体化された有色マイクロレンズを形成
した構造としたため、受光センサ部からマイクロレンズ
までの距離を小さくすることができた。これにより、カ
メラの撮像レンズの絞りを開いた状態のように、マイク
ロレンズに対して斜めに入射する光が増加した場合にお
いても、マイクロレンズにより集光された光は、遮光膜
の開口の中心からずれることがなく、集光率の低下を効
果的に回避することができた。
【0037】また、本発明の固体撮像素子は、層内レン
ズと、カラーフィルターと、マイクロレンズが一体化さ
れた有色マイクロレンズを形成するのみで、これら層内
レンズと、カラーフィルターと、マイクロレンズを別個
に形成しないものとしたため、固体撮像素子の製造工程
を簡略化することができた。
ズと、カラーフィルターと、マイクロレンズが一体化さ
れた有色マイクロレンズを形成するのみで、これら層内
レンズと、カラーフィルターと、マイクロレンズを別個
に形成しないものとしたため、固体撮像素子の製造工程
を簡略化することができた。
【図1】本発明の固体撮像素子の概略断面図を示す。
【図2】本発明の固体撮像素子の作製工程図を示す。
【図3】本発明の固体撮像素子の作製工程図を示す。
【図4】本発明の固体撮像素子の作製工程図を示す。
【図5】本発明の固体撮像素子によるレンズの入射光の
集光を状態を示す図である。
集光を状態を示す図である。
【図6】従来の固体撮像素子の概略断面図を示す。
【図7】従来の構造の固体撮像素子における入射光の集
光の状態を示す。
光の状態を示す。
10,100…固体撮像素子、11,101…基板、1
2,102…受光センサ部、12a…受光窓、14,1
04…電荷転送部、17,107…転送電極、19,1
09…遮光膜、21,111…層間膜、21a,111
a…凹部、22…パッシベーション膜、114…層内レ
ンズ、116…カラーフィルター層、27,117…マ
イクロレンズ、27a…凸部、28…低反射膜、30…
カラーフィルター層、31…フォトレジスト層、31a
…レンズ型形成層
2,102…受光センサ部、12a…受光窓、14,1
04…電荷転送部、17,107…転送電極、19,1
09…遮光膜、21,111…層間膜、21a,111
a…凹部、22…パッシベーション膜、114…層内レ
ンズ、116…カラーフィルター層、27,117…マ
イクロレンズ、27a…凸部、28…低反射膜、30…
カラーフィルター層、31…フォトレジスト層、31a
…レンズ型形成層
Claims (2)
- 【請求項1】 基板上に、光電変換を行う受光センサ部
を有する固体撮像素子であって、 上記受光センサ部上に、凹部を有する層間膜を有し、 上記層間膜上に上面が凸面とされた複数のマイクロレン
ズを有し、 上記マイクロレンズの、受光センサに対向する側が、上
記層間膜の凹部を埋め込んで、該凹部の曲面により、上
記受光センサ部に入射光を集光させるために必要な曲率
を有する凸面とされ、 上記マイクロレンズの各々が複数種類の色のうち、いず
れかの色を有する有色マイクロレンズであることを特徴
とする固体撮像素子。 - 【請求項2】 上記マイクロレンズに低反射膜がコーテ
ィングされていることを特徴とする請求項1に記載の固
体撮像素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8424798A JPH11284162A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 固体撮像素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8424798A JPH11284162A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 固体撮像素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11284162A true JPH11284162A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=13825142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8424798A Pending JPH11284162A (ja) | 1998-03-30 | 1998-03-30 | 固体撮像素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11284162A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003332547A (ja) * | 2002-05-16 | 2003-11-21 | Fuji Film Microdevices Co Ltd | 固体撮像素子及びその製造方法 |
| JP2005216897A (ja) * | 2004-01-27 | 2005-08-11 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子とその製造方法 |
| JP2009063777A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Sharp Corp | 着色マイクロレンズアレイおよびその製造方法、カラー固体撮像素子およびその製造方法、カラー表示装置およびその製造方法、電子情報機器 |
| JP2014021492A (ja) * | 2012-07-12 | 2014-02-03 | Schott Ag | ロッドレンズおよびその製造法 |
| US10270413B2 (en) | 2013-04-08 | 2019-04-23 | Soitec | Advanced thermally compensated surface acoustic wave device and fabrication |
-
1998
- 1998-03-30 JP JP8424798A patent/JPH11284162A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003332547A (ja) * | 2002-05-16 | 2003-11-21 | Fuji Film Microdevices Co Ltd | 固体撮像素子及びその製造方法 |
| JP2005216897A (ja) * | 2004-01-27 | 2005-08-11 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子とその製造方法 |
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| US8274031B2 (en) | 2007-09-05 | 2012-09-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Colored microlens array and manufacturing method for colored microlens array, color solid-state image capturing device and manufacturing method for color solid-state image capturing device, color display apparatus and manufacturing method for color display apparatus, and electronic information device |
| JP2014021492A (ja) * | 2012-07-12 | 2014-02-03 | Schott Ag | ロッドレンズおよびその製造法 |
| US10270413B2 (en) | 2013-04-08 | 2019-04-23 | Soitec | Advanced thermally compensated surface acoustic wave device and fabrication |
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