JPH10202296A - 超純水製造装置 - Google Patents

超純水製造装置

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JPH10202296A
JPH10202296A JP9319898A JP31989897A JPH10202296A JP H10202296 A JPH10202296 A JP H10202296A JP 9319898 A JP9319898 A JP 9319898A JP 31989897 A JP31989897 A JP 31989897A JP H10202296 A JPH10202296 A JP H10202296A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体産業におけるシリコンウエハの洗浄等
に用いられる超純水の製造装置において、有機物を含む
被処理水中の有機物除去を行う経路(例えば回収系や二
次純水系)における有機物除去の効率化を図る。 【解決手段】 有機物を含有する被処理水を通水する逆
浸透膜装置42と、逆浸透膜装置42の透過水にアルカ
リ性条件下でオゾンを添加することによりこの透過水中
に含まれる有機物を酸化分解する有機物酸化装置44と
を具備する超純水製造装置とする。有機物酸化装置44
では、気液撹拌混合手段によって被処理水にオゾンを添
加すること、被処理水のpHが9.7以上のアルカリ性
条件下で被処理水にオゾンを添加すること、被処理水に
対するオゾン添加量が3〜40ppmとなるように被処
理水にオゾンを添加することが好ましい。また、逆浸透
膜装置42の上流側又は逆浸透膜装置42と有機物酸化
装置44との間に、あるいは逆浸透膜装置42に代え
て、OH形の陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交換装
置40を設けることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体産業
におけるシリコンウエハの洗浄等に用いられる超純水の
製造装置に関し、さらに詳述すると、有機物を含む被処
理水中の有機物除去を行う経路(例えば回収系や二次純
水系)における有機物除去の効率化を図った超純水製造
装置に関する。なお、本明細書においては、一般には必
ずしも明確に定義分けされていない純水、超純水等の語
で説明される高純度な水を総称して「超純水」という。
【0002】
【従来の技術】シリコンウエハの洗浄等に用いられる超
純水の製造装置は、一般に、図7に示すように、一次純
水系2、二次純水系(サブシステム)4及び排水回収系
の一部をなす純水用排水回収系6を備えている。一次純
水系2は、例えば逆浸透膜装置、真空脱気装置、イオン
交換装置などを備えた経路であり、市水、工業用水等の
原水中に含まれる懸濁物質及び有機物の一部が前処理系
(図示せず)で除去された後、その処理水8が一次純水
系2に供給される。二次純水系4は、例えば紫外線酸化
装置、カートリッジポリッシャ、限外濾過膜装置などを
備えた経路であり、一次純水系2の処理水3(一次純
水)が純水貯槽10を経由して二次純水系4に供給され
る。二次純水系4で得られた超純水12の一部は使用場
所14に送られて使用され、残部は純水貯槽10に循環
される。純水用排水回収系6は、例えば活性炭濾過装
置、イオン交換装置、紫外線酸化装置などを備えた経路
であり、使用場所14で超純水を使用することにより生
じた排水16の処理を行う。純水用排水回収系6の処理
水18は、一次純水系2に戻されて再利用される。
【0003】なお、一般的な超純水製造装置では、使用
場所14から排出された超純水を使用することにより生
じた排水16を処理する排水回収系として、適当な処理
を施してから一次純水系に戻す前記純水用排水回収系6
の外に、排水の清浄度に応じて、何ら処理を施すことな
く直接一次純水系に戻す経路、適当な処理を施してから
雑用水として使用する経路(雑用水用排水回収系)、及
び、適当な処理を施してから放流する経路(廃水処理
系)を備えている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】半導体産業におけるシ
リコンウエハ等の洗浄工程では、イソプロピルアルコー
ル、メタノール、アセトン等の有機系洗浄剤が使用され
るため、使用場所からの超純水の排水中には微量の有機
物が含まれているのが通常であるが、この使用場所から
の排水は、市水、工業用水等に比べて不純物の濃度が極
めて低い。したがって、超純水製造装置の純水用排水回
収系で使用場所からの排水中の有機物濃度をできるだけ
低くし、その処理水を一次純水系に戻せば、純度の高い
超純水を得る点で非常に有利になる。そのため、純水用
排水回収系では、被処理水中から有機物を可能な限り除
去することが望まれている。
【0005】この場合、純水用排水回収系における有機
物の除去方法としては、従来、被処理水(排水)に酸化
剤であるオゾン又は過酸化水素を添加し、さらにオゾン
又は過酸化水素を含有する被処理水に紫外線を照射して
有機物を酸化分解する方法が知られている。
【0006】しかし、この方法においては、有機物の分
解速度が遅いため処理時間が長くかかり、処理効率が悪
いという欠点があった。また、高圧紫外線ランプを使用
するため装置が大型化かつ複雑化する上、ランニングコ
ストが増大し、経済的に不利であった。
【0007】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、被処理水中の有機物除去を行う経路における有機物
除去の効率化を図った超純水製造装置を提供することを
目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、有機物を
含む被処理水のpHをアルカリ側の特定の範囲に調整す
るとともに、このアルカリ性の被処理水にオゾンを添加
した場合、紫外線照射を行うことなく被処理水中の有機
物を効率的に除去できることを知見した。この方法にお
いては、オゾンとアルカリとの反応によって生じるヒド
ロキシラジカルによって有機物が酸化分解されるもので
ある。
【0009】本発明者らは、上述した有機物分解方法に
ついてさらに検討を行い、その結果、被処理水にアルカ
リ性条件下でオゾンを添加して有機物の酸化分解を行う
場合、被処理水中にイオン性不純物、特に塩化物イオ
ン、フッ化物イオン等の陰イオン性不純物が含まれてい
ると有機物の酸化分解反応が阻害され、有機物の除去効
率が低下すること、これに対し被処理水へのオゾン添加
を行う前に被処理水を逆浸透膜装置で処理すると、被処
理水中から有機物の酸化分解反応を阻害する陰イオン性
不純物が除去される上、被処理水中の有機物がかなり除
去されるため、オゾン添加時における有機物の除去効率
が向上することを知見した。
【0010】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
ので、有機物を含有する被処理水を通水する逆浸透膜装
置と、前記逆浸透膜装置の透過水にアルカリ性条件下で
オゾンを添加することにより該透過水中に含まれる有機
物を酸化分解する有機物酸化装置とを具備することを特
徴とする超純水製造装置を提供する。
【0011】本発明の超純水装置は、有機物、特に微量
の有機物を含む被処理水中の有機物除去を行う経路、例
えば排水回収系の純水用排水回収系や二次純水系に、前
述した逆浸透膜装置及び有機物酸化装置を設置したもの
である。この場合、逆浸透膜装置の種類に制限はなく、
各種の逆浸透膜装置が使用可能であり、例えばポリアミ
ド系、アラミド系等の合成複合膜を用いた逆浸透膜装
置、酢酸セルローズ膜等のセルローズ系膜を用いた逆浸
透膜装置などを使用することができるが、有機物の除去
性能に優れている点でポリアミド系複合膜を用いた逆浸
透膜装置が特に好ましい。また、逆浸透膜装置として
は、スパイラル型、中空糸型、管状型等のいかなるタイ
プのものでもよい。
【0012】また、有機物酸化装置の構成に限定はない
が、下記〜の条件の1以上、特に全てを備えたもの
であることが好ましい。 気液撹拌混合手段によって被処理水にオゾンを添加す
ること。 被処理水のpHが9.7以上のアルカリ性条件下で被
処理水にオゾンを添加すること。 被処理水に対するオゾン添加量が3〜40ppmとな
るように被処理水にオゾンを添加すること。
【0013】すなわち、被処理水にオゾンを添加する場
合、オゾンは水に対する溶解性が低いため、散気板を用
いるバブリングでは水に十分に溶解せず、有機物の酸化
分解反応が効率良く行われにくいが、気液撹拌混合手段
を用いれば被処理水にオゾンを十分に溶解させることが
でき、有機物の酸化分解反応が効率的に行われる。した
がって、有機物酸化装置としてはの条件を備えること
が好ましい。
【0014】この場合、気液撹拌混合手段とは、気体と
液体とを撹拌しながら混同して、液体中に気体を溶解さ
せる手段をいう。このような手段を用いたオゾン溶解方
法としては、例えば、回転翼を備えたポンプの吸引側に
被処理水及びオゾンを導入し、回転翼の回転により被処
理水とオゾンを撹拌混合し、この撹拌混合により被処理
水中にオゾンを溶解せしめ、このオゾンを溶解した被処
理水をポンプの吐出側に連結された配管を通して処理系
に送液するという方法(オゾン溶解ポンプ)や、上記ポ
ンプに代えてエゼクター等で加圧水流を供給し、この水
流の動きで被処理水とオゾンとを撹拌混合し、被処理水
中にオゾンを溶解させる方法等がある。また、配管の途
中に密閉容器を形成し、この密閉容器の内部に回転翼を
備えた攪拌機構を有したラインミキサー等も用いること
ができる。
【0015】また、図6は有機物を含む水(TOC濃度
2000ppb)を複数用意し、それぞれにアルカリを
加えて種々の異なったpHに調整するとともに、オゾン
を9.6ppm添加して、有機物の酸化分解の程度が初
期pH値によってどのように変わるかをみたものであ
る。グラフの縦軸におけるTOCはオゾン反応10分後
の残留TOCを示す。同図によれば、pH9.7以上、
特にpH9.7〜11.0、中でもpH10.0〜1
0.5の範囲で有機物の分解速度が大きいことがわか
る。したがって、有機物酸化装置としてはの条件を備
えることが好ましい。
【0016】さらに、被処理水に対するオゾン添加量が
3ppm未満では有機物の酸化分解が不十分となり、ま
た40ppmを超えて添加しても有機物の酸化分解はそ
れ以上促進されないばかりか反応に寄与しないオゾンが
増えて処理コスト面から望ましくない。したがって、有
機物酸化装置としてはの条件を備えることが好まし
い。被処理水に対するオゾン添加量のより好ましい範囲
は、7〜30ppmである。
【0017】本発明に用いる有機物酸化装置では、被処
理水のpH調整を行った後に被処理水へのオゾン溶解を
行ってもよく、被処理水へのオゾン溶解を行った後に被
処理水のpH調整を行ってもよく、被処理水のpH調整
と被処理水へのオゾン溶解とを同時に行ってもよい。ま
た、被処理水のpHが元々適当な値であるときには、被
処理水のpH調整を行うことなく被処理水へのオゾン溶
解を行ってもよい。被処理水にアルカリ性条件下でオゾ
ンを添加すると、被処理水中の有機物の酸化分解反応は
直ちに開始するが、被処理水を加熱することにより、有
機物の酸化分解速度を速めることができる。
【0018】本発明の超純水製造装置においては、逆浸
透膜装置の上流側又は逆浸透膜装置と有機物酸化装置と
の間に、OH形の陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交
換装置を設けることができる。これにより、有機物酸化
装置における有機物の酸化分解反応を阻害する陰イオン
性不純物をさらに高度に除去することができ、有機物酸
化装置における有機物の除去効率をさらに高めることが
できる。また、被処理水中にはナトリウムイオン等の陽
イオンが含まれており、被処理水を陰イオン交換装置に
通すと水酸化ナトリウム等が生成するため、該陰イオン
交換装置では出口水がアルカリ性となる。したがって、
後段の有機物酸化装置において、被処理水をアルカリ性
にするためのアルカリ剤の添加を不要としたり、添加量
を低減したりすることが可能となる。
【0019】この場合、陰イオン交換装置の陰イオン交
換樹脂の種類に限定はなく、弱塩基性陰イオン交換樹脂
でも強塩基性陰イオン交換樹脂でも使用できるが、逆浸
透膜装置、有機物酸化装置及び陰イオン交換装置を排水
回収系の純水用排水回収系に設置するときには、弱塩基
性陰イオン交換樹脂が特に好ましい。その理由は、純水
用排水回収系に送られる被処理水中には通常フッ酸等の
酸が含まれているために被処理水は通常酸性であり、し
たがってOH形の弱塩基性陰イオン交換樹脂でフッ化物
イオン等の陰イオンを十分に除去することができ、しか
も弱塩基性陰イオン交換樹脂はイオン交換容量が強塩基
性陰イオン交換樹脂よりも大きいためである。
【0020】また、陰イオン交換装置は上記作用を有す
るため、本発明の超純水製造装置は、逆浸透膜装置に代
えてOH形の陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交換装
置を設け、有機物を含有する被処理水を前記陰イオン交
換装置で処理するとともに、該陰イオン交換装置の処理
水中に含まれる有機物を有機物酸化装置で酸化分解する
ように構成することができる。この構成の装置では、被
処理水中から陰イオン性不純物を除去して有機物酸化装
置における有機物の除去効率を向上させることができ、
しかも被処理水をアルカリ性にするためのアルカリ剤の
添加を不要としたり、添加量を低減したりすることが可
能となる。
【0021】本発明の超純水製造装置では、有機物酸化
装置の下流側に、少なくとも陰イオン交換樹脂を用いた
イオン交換装置を設けることができる。このようにする
と、有機物酸化装置で有機物が二酸化炭素まで分解され
なかったときでも、有機物酸化装置で有機物がイオン性
物質である有機酸にまで分解されていれば、後段のイオ
ン交換装置に用いられている陰イオン交換樹脂で上記イ
オン性物質が除去されるため、全体として有機物が効率
的に除去される。この場合、有機物酸化装置におけるp
Hやオゾン添加量を調整することにより、意図的に有機
物を二酸化炭素まで分解せず、有機酸に分解するように
してもよい。これにより、アルカリ剤の使用量やオゾン
添加量を低減できるため、ランニングコストを低くする
ことができる。イオン交換装置としては、例えば、陰イ
オン交換樹脂のみを用いた陰イオン交換装置や、陰イオ
ン交換樹脂と陽イオン交換樹脂とを組み合わせてなる混
床式純水製造装置、複床式純水製造装置、2床3塔式純
水製造装置等を用いることが可能である。
【0022】本発明の超純水製造装置では、有機物酸化
装置の下流側に、被処理水中のオゾンを分解するオゾン
分解手段を設けることができる。これにより、有機物酸
化装置の処理水中に残存するオゾンが後段のイオン交換
装置等に悪影響を及ぼすことを防止できる。オゾン分解
手段としては、例えば、被処理水を活性炭に通水してオ
ゾンを還元分解する手段、被処理水に還元剤を注入して
オゾンを還元分解する手段等が挙げられる。なお、オゾ
ン分解手段は、有機物酸化装置の直後に設置すること
が、オゾンが後段の装置に悪影響を及ぼすことを防止す
る点で好ましい。
【0023】また、本発明の超純水製造装置では、有機
物酸化装置の下流側に、脱気装置を設けることができ
る。脱気装置は、本来被処理水中の溶存酸素を除去する
装置であるが、溶存酸素が被処理水中から除去される際
に被処理水中に存在する揮発性の有機物も一部除去され
る。したがって、有機物酸化装置の下流側に脱気装置を
設けることにより、有機物濃度がさらに低減した処理水
を得ることができる。脱気装置としては、例えば、真空
脱気装置、膜脱気装置等を用いることができる。膜脱気
装置とは、気体透過膜で仕切られた一方の室に被処理水
を流すとともに、他方の室を減圧することにより、被処
理水中に含まれるガスを気体透過膜を通して他方の室に
移行させて除去する装置である。
【0024】さらに、本発明の超純水製造装置では、逆
浸透膜装置の上流側に前処理用の活性炭濾過装置を設け
たり、有機物酸化装置の下流側にさらに逆浸透膜装置
(第2の逆浸透膜装置)を設けたりすることができる。
上記第2の逆浸透膜装置を設けた場合には、処理水中の
有機物濃度をより低減させることができる。
【0025】本発明の超純水製造装置は、逆浸透膜装置
及び有機物酸化装置を排水回収系の純水用排水回収系に
設置し、逆浸透膜装置の透過水を有機物酸化装置で処理
して一次純水系に導入するとともに、逆浸透膜装置の濃
縮水を前記排水回収系の雑用水用排水回収系又は廃水処
理系に導入することができる。また、廃水処理系を設け
ず、使用場所からの超純水の排水を放流することなく超
純水の原水又は雑用水として再利用するようにしたクロ
ーズドシステムの超純水製造装置では、上記と同様に逆
浸透膜装置及び有機物酸化装置を純水用排水回収系に設
置するとともに、逆浸透膜装置の濃縮水を雑用水用排水
回収系に導入することができる。上記のようにすると、
純水用排水回収系において被処理水中から有機物を高度
に除去することができるため、その処理水を再利用する
ことにより純度の高い超純水を得ることができるととも
に、逆浸透膜装置の濃縮水の有効利用あるいは適切な処
理を図ることができる。
【0026】
【発明の実施の形態】図1は本発明に係る超純水製造装
置の一実施形態例を示す一部省略フロー図である。図1
の装置において、22は前処理系、24は一次純水系、
26は純水用排水回収系を示す。前処理系22には、凝
集濾過装置(F)及び活性炭濾過装置(CF)が設置さ
れている。一次純水系24には、上流側から下流側にか
けて活性炭濾過装置(CF)28、2床3塔式純水製造
装置(2B3T)30、混床式純水製造装置(MBP)
32、真空脱気塔(VD)34及び逆浸透膜装置(R
O)36が順次設置されている。回収系26には、上流
側から下流側にかけて活性炭濾過装置(CF)38、O
H形の弱塩基性陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交換
装置(WA)40、逆浸透膜装置(RO)42、有機物
酸化装置44が順次設置されている。
【0027】本装置において、前処理系22及び純水用
排水回収系26の処理水は、タンク46に貯留された
後、一次純水系24に導入される。一次純水系24の処
理水は二次純水系(図示せず)に送られ、二次純水系で
製造された超純水は使用場所(図示せず)に供給され
る。使用場所で超純水を使用することにより生じた排水
は、純水用排水回収系26で処理された後、タンク46
に送られて超純水製造装置の原水の一部として再利用さ
れる。
【0028】なお、本例の超純水製造装置において、一
次純水系24の活性炭濾過装置28は前述した有機物酸
化装置の下流側のオゾン分解手段に該当し、2床3塔式
純水製造装置30及び混床式純水製造装置32は前述し
た有機物酸化装置の下流側のイオン交換装置に該当し、
真空脱気塔34は前述した有機物酸化装置の下流側の脱
気装置に該当し、逆浸透膜装置36は前述した第2の逆
浸透膜装置に該当する。ただし、これらのオゾン分解手
段、イオン交換装置、脱気装置、第2の逆浸透膜装置
は、純水用排水回収系26に別途設けてもよく、これに
より一次純水系24の装置の負荷を低くすることができ
る。
【0029】本例の超純水製造装置では、使用場所から
の排水は、純水用排水回収系26及び一次純水系24に
おいて下記のように処理される。まず活性炭濾過装置3
8で前処理が行われ、逆浸透膜を劣化させる過酸化水素
等が除去された後、陰イオン交換装置40に通水され、
ここでOH形の弱塩基性陰イオン交換樹脂によって陰イ
オン性不純物が除去されるとともに、出口水がアルカリ
性になる。次に、逆浸透膜装置42で有機物の一部及び
陰イオン性不純物が除去された後、有機物酸化装置44
に導入され、ここで有機物の酸化分解が行われる。
【0030】有機物酸化装置44は、具体的には図2に
示す構造を有している。すなわち、図2において50は
純水用排水回収系26の被処理水が流れるラインであ
り、このライン50にはアルカリ注入装置52及びオゾ
ン供給装置54が連結されている。アルカリ注入装置5
2の注入管56とライン50との連結部58のやや後方
にはpH測定部(図示せず)が設置されており、このp
H測定部によって被処理水のpHを測定し、その測定結
果を電気信号としてアルカリ注入装置52に出力し、そ
れに基づき被処理水へのアルカリ注入量を自動的に制御
するようになっている。
【0031】オゾン供給装置54としては、オゾン発生
機構を備えたオゾン発生装置や、オゾン発生装置で製造
されたオゾン含有ガスを充填したオゾンタンクが使用さ
れる。オゾン供給装置54の供給管60には気液撹拌混
合装置62(例えばラインミキサーやオゾン溶解ポン
プ)が連結されているとともに、この気液撹拌混合装置
62はライン50に連結されている。また、気液撹拌混
合装置62の出口側におけるライン50の所定長さ部分
が、有機物の酸化分解反応が行われる反応管部66とし
て構成されている。
【0032】本例の有機物酸化装置44では、まず、ラ
イン50を流れる被処理水にアルカリ注入装置52より
アルカリが注入されて被処理水のpHが9.7以上、好
ましくは9.7〜11.0に調整される。次いで、被処
理水にオゾン供給装置54よりオゾンが供給され、気液
撹拌混合装置62によってオゾンと被処理水とが撹拌混
合され、オゾンの大部分が被処理水中に溶解する。ここ
で、被処理水中へのオゾン添加量は3〜40ppm、好
ましくは7〜30ppmに調整される。被処理水中で
は、反応管部66において速やかに有機物の酸化分解反
応が進行する。酸化分解反応の終了により得られた処理
水は、タンク46を経て前処理系22の処理水と一緒に
一次純水系24に供給される。
【0033】一次純水系24では、被処理水はまず活性
炭濾過装置28に通水され、ここで被処理水中の溶存オ
ゾンの分解が行われた後、有機物酸化装置44で二酸化
炭素までは分解されなかったイオン性物質(有機酸)が
2床3塔式純水製造装置30及び混床式純水製造装置3
2に用いられている陰イオン交換樹脂で除去される。次
に、真空脱気塔34で溶存酸素の除去及び微量の有機物
の除去が行われ、さらに逆浸透膜装置36で残存する不
純物の除去が行われる。なお、有機物酸化装置44の処
理水中にアセトンが残存し、これが純水製造装置30、
32を通過した場合でも、このアセトンは揮発性である
ので真空脱気塔34で除去することができる。
【0034】図3〜図5は、それぞれ本発明に係る超純
水製造装置の一実施形態例を示すフロー図である。図3
〜図5の装置の超純水製造系は、活性炭濾過装置(C
F)、2床3塔式純水製造装置(2B3T)、混床式純
水製造装置(MBP)、真空脱気塔(VD)及び逆浸透
膜装置(RO)を備えた一次純水系と、タンク(T
K)、紫外線殺菌装置(UVst)、混床式カートリッジ
ポリッシャ(CP)及び限外濾過膜装置(UF)を備え
た二次純水系とから構成されている。
【0035】また、図3〜図5の装置では、使用場所で
超純水を使用することにより生じた排水を処理する排水
回収系として、排水の清浄度に応じて、何ら処理を施す
ことなく直接一次純水系に戻す経路、適当な処理を施
してから一次純水系に戻す経路(純水用排水回収
系)、適当な処理を施してから雑用水としてユーティリ
ティ設備に供給する経路(雑用水用排水回収系)、及
び、適当な処理を施してから放流する経路(廃水処理
系)を備えている。なお、使用場所から排出された超純
水の排水を前記経路〜に分別する基準は例えば表1
の通りであり、その分別は分別機構(1)〜(3)によって行
われる。
【0036】
【表1】
【0037】図3及び図4の装置では、純水用排水回収
系に、上流側から下流側にかけて活性炭濾過装置(C
F)、OH形の弱塩基性陰イオン交換樹脂を用いた陰イ
オン交換装置(WA)、逆浸透膜装置(RO)、有機物
酸化装置を順次設置してある。図3及び図4の装置の純
水用排水回収系における排水の処理は図1の装置と同様
であるため、説明を省略する。また、図3の装置では純
水用排水回収系の逆浸透膜装置の濃縮水を雑用水用排水
回収系に導入し、図4の装置では同濃縮水を廃水処理系
に導入するようにしてある。逆浸透膜装置の濃縮水の清
浄度が比較的高いときには該濃縮水を図3の装置のよう
に雑用水用排水回収系に導入して再利用し、逆浸透膜装
置の濃縮水の清浄度が比較的低いときには該濃縮水を図
4の装置のように廃水処理系で処理してから放流すれば
よい。図5の装置は、図3の装置において陰イオン交換
装置(WA)を省いたものである。
【0038】なお、本発明の他の実施形態としては、図
5の装置において逆浸透膜装置(RO)の代わりにOH
形の陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交換装置(W
A)を設け、洗浄排水をCF→WA→有機物酸化装置の
順に処理する構成とすることもできる。
【0039】
【実施例】実施例1 活性炭濾過装置(CF)、陰イオン交換装置(WA)、
第1の逆浸透膜装置(RO)、有機物酸化装置、活性炭
濾過装置(CF)、2床3塔式純水製造装置(2B3
T)、混床式純水製造装置(MBP)、真空脱気塔(V
D)及び第2の逆浸透膜装置(RO)をこの順に接続し
てなる装置に超純水を使用することにより生じた排水を
流して該排水の処理を行った。前記排水としては表2に
示したTOC濃度のものを用いた。この場合、有機物酸
化装置44においては、アルカリ注入装置52から被処
理水に水酸化ナトリウムを添加して被処理水のpHを表
2に示した値に調整した後、気液撹拌混合装置62によ
って被処理水に対するオゾン添加量が表2に示した値と
なるように被処理水にオゾンを添加した。
【0040】なお、気液撹拌混合装置62としてはオゾ
ン溶解ポンプを用いた。また、陰イオン交換装置(W
A)の陰イオン交換樹脂としては弱塩基性陰イオン交換
樹脂であるアンバーライト(登録商標、以下同じ)IR
A−94SのOH形のものを用い、第1及び第2の逆浸
透膜装置(RO)の逆浸透膜としては日東電工社製ポリ
アミド系複合膜ES−10を用い、2床3塔式純水製造
装置(2B3T)の陽イオン交換樹脂としては強酸性陽
イオン交換樹脂であるアンバーライトIR−124のH
形、陰イオン交換樹脂としては強塩基性陰イオン交換樹
脂であるアンバーライトIRA−402BLのOH形を
用い、混床式純水製造装置(MBP)のイオン交換樹脂
としてはH形の強酸性陽イオン交換樹脂とOH形の強塩
基性陰イオン交換樹脂とを混合してなるアンバーライト
ESG4を用いた。真空脱気装置(VD)は真空度22
Torrで運転した。各装置出口水のTOC濃度の測定
結果を表2に示す。
【0041】実施例2 実施例1で用いた装置の純水用排水回収系から第1の逆
浸透膜装置を除いた以外は実施例1で用いたのと同じ装
置を用いて、実施例1と同様にして超純水を使用するこ
とにより生じた排水の処理を行った。結果を表2に示
す。
【0042】比較例 実施例1で用いた装置の純水用排水回収系から陰イオン
交換装置及び第1の逆浸透膜装置を除いた以外は実施例
1で用いたのと同じ装置を用いて、実施例1と同様にし
て超純水を使用することにより生じた排水の処理を行っ
た。結果を表2に示す。
【0043】
【表2】
【0044】表2より、有機物を含有する被処理水を逆
浸透膜装置あるいは陰イオン交換装置で処理した後、逆
浸透膜装置の透過水あるいは陰イオン交換装置の処理水
に有機物酸化装置においてアルカリ性条件下でオゾンを
添加した場合、有機物酸化装置及び後段のイオン交換装
置におけるTOC除去効率が向上することが確認され
た。ただし、有機物酸化装置での処理時に被処理水のオ
ゾン濃度やpHが低い場合(試験NO.5〜7)は、有
機物酸化装置及び後段のイオン交換装置におけるTOC
除去効率が低下していた。後段のイオン交換装置におけ
るTOC除去効率が低下したのは、有機物酸化装置での
有機物の酸化が十分でなく、イオン性物質になっていな
いためであると考えられる。
【0045】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、逆浸透膜装置
において被処理水中から有機物酸化装置での有機物の酸
化分解反応を阻害する陰イオン性不純物が除去される
上、被処理水中の有機物がかなり除去されるため、有機
物酸化装置における有機物の除去効率が向上する。ま
た、逆浸透膜装置で被処理水中の有機物がかなり除去さ
れるため、有機物酸化装置でのオゾン使用量の低減、オ
ゾン発生装置の小型化を図ることができ、しかもそれほ
ど高pHでなくても有機物を酸化分解できるようになる
ので、被処理水に添加するアルカリ剤の消費量を減らす
ことができる。
【0046】請求項2の発明によれば、排水回収系の純
水用排水回収系において被処理水中から有機物を高度に
除去することができるため、その処理水を再利用するこ
とにより純度の高い超純水を得ることができるととも
に、逆浸透膜装置の濃縮水の有効利用あるいは適切な処
理を図ることができる。
【0047】請求項3の発明によれば、有機物酸化装置
における有機物の酸化分解反応を阻害する陰イオン性不
純物をさらに高度に除去することができ、有機物酸化装
置における有機物の除去効率をさらに高めることができ
るとともに、陰イオン交換装置の出口水がアルカリ性と
なるので、被処理水をアルカリ性にするためのアルカリ
剤の添加を不要としたり、添加量を低減したりすること
が可能となる。
【0048】請求項4の発明によれば、被処理水中から
陰イオン性不純物を除去して有機物酸化装置における有
機物の除去効率を向上させることができ、しかも被処理
水をアルカリ性にするためのアルカリ剤の添加を不要と
したり、添加量を低減したりすることが可能となる。
【0049】請求項5の発明によれば、有機物酸化装置
で有機物が二酸化炭素まで分解されなかったときでも、
有機物酸化装置で有機物が有機酸等のイオン性物質にま
で分解されていれば、後段のイオン交換装置で上記イオ
ン性物質が除去されるため、全体として有機物が効率的
に除去される。
【0050】請求項6の発明によれば、有機物酸化装置
の処理水中に残存する溶存オゾンが後段の装置、例えば
イオン交換装置のイオン交換樹脂等に悪影響を及ぼすこ
とを防止できる。
【0051】請求項7の発明によれば、脱気装置で溶存
ガスが被処理水中から除去される際に被処理水中に存在
する揮発性の有機物も除去されるので、有機物濃度がさ
らに低減した処理水を得ることができる。
【0052】請求項8〜10の発明によれば、有機物酸
化装置における有機物の酸化分解を効率的に行うことが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る超純水製造装置の一実施形態例を
示す一部省略フロー図である。
【図2】図1に示した超純水製造装置の有機物酸化装置
を示すフロー図である。
【図3】本発明に係る超純水製造装置の一実施形態例を
示すフロー図である。
【図4】本発明に係る超純水製造装置の一実施形態例を
示すフロー図である。
【図5】本発明に係る超純水製造装置の一実施形態例を
示すフロー図である。
【図6】被処理水のpHと有機物の酸化分解速度との関
係を示すグラフである。
【図7】従来の超純水製造装置の一例を示すフロー図で
ある。
【符号の説明】
22 前処理系 24 一次純水系 26 純水用排水回収系 28 活性炭濾過装置 30 2床3塔式純水製造装置 32 混床式純水製造装置 34 真空脱気塔 36 逆浸透膜装置 38 活性炭濾過装置 40 陰イオン交換装置 42 逆浸透膜装置 44 有機物酸化装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C02F 1/20 C02F 1/20 A 1/42 1/42 A 1/44 1/44 J 1/58 1/58 H 1/78 1/78

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有機物を含有する被処理水を通水する逆
    浸透膜装置と、前記逆浸透膜装置の透過水にアルカリ性
    条件下でオゾンを添加することにより該透過水中に含ま
    れる有機物を酸化分解する有機物酸化装置とを具備する
    ことを特徴とする超純水製造装置。
  2. 【請求項2】 超純水製造装置が、原水を処理して一次
    純水を製造する一次純水系と、一次純水を処理して超純
    水を製造する二次純水系と、該二次純水系で製造した超
    純水を使用場所で使用することによって発生した排水を
    処理して一次純水系に返送する排水回収系とを備えてな
    り、 逆浸透膜装置及び有機物酸化装置を前記排水回収系の純
    水用排水回収系に設置し、逆浸透膜装置の透過水を有機
    物酸化装置で処理して一次純水系に導入するとともに、
    逆浸透膜装置の濃縮水を前記排水回収系の雑用水用排水
    回収系又は廃水処理系に導入する請求項1に記載の超純
    水製造装置。
  3. 【請求項3】 逆浸透膜装置の上流側又は逆浸透膜装置
    と有機物酸化装置との間にOH形の陰イオン交換樹脂を
    用いた陰イオン交換装置を設けた請求項1又は2に記載
    の超純水製造装置。
  4. 【請求項4】 逆浸透膜装置に代えてOH形の陰イオン
    交換樹脂を用いた陰イオン交換装置を設け、有機物を含
    有する被処理水を前記陰イオン交換装置で処理するとと
    もに、該陰イオン交換装置の処理水中に含まれる有機物
    を有機物酸化装置で酸化分解する請求項1に記載の超純
    水製造装置。
  5. 【請求項5】 有機物酸化装置の下流側に少なくとも陰
    イオン交換樹脂を用いたイオン交換装置を設けた請求項
    1〜4のいずれか1項に記載の超純水製造装置。
  6. 【請求項6】 有機物酸化装置の下流側に被処理水中の
    オゾンを分解するオゾン分解手段を設けた請求項1〜5
    のいずれか1項に記載の超純水製造装置。
  7. 【請求項7】 有機物酸化装置の下流側に脱気装置を設
    けた請求項1〜6のいずれか1項に記載の超純水製造装
    置。
  8. 【請求項8】 有機物酸化装置が、気液撹拌混合手段に
    よって被処理水にオゾンを添加するものである請求項1
    〜7のいずれか1項に記載の超純水製造装置。
  9. 【請求項9】 有機物酸化装置が、被処理水のpHが
    9.7以上のアルカリ性条件下で被処理水にオゾンを添
    加するものである請求項1〜8のいずれか1項に記載の
    超純水製造装置。
  10. 【請求項10】 有機物酸化装置が、被処理水に対する
    オゾン添加量が3〜40ppmとなるように被処理水に
    オゾンを添加するものである請求項1〜9のいずれか1
    項に記載の超純水製造装置。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001205297A (ja) * 2000-01-21 2001-07-31 Japan Organo Co Ltd 純水製造装置
JP2004057935A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造システム
JP2006239617A (ja) * 2005-03-04 2006-09-14 Kurita Water Ind Ltd 水処理方法及び水処理装置
JP2007098240A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Kurita Water Ind Ltd 非イオン性界面活性剤含有水の処理方法及び処理装置
JP2011088070A (ja) * 2009-10-22 2011-05-06 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂精製装置用の超純水製造方法及び製造装置
JP2013535322A (ja) * 2010-07-26 2013-09-12 ビーダブリューティー アクティエンゲゼルシャフト 水を処理するための方法及びシステム
JP2014042896A (ja) * 2012-08-28 2014-03-13 Kurita Water Ind Ltd ホルムアルデヒド含有排水の処理方法および装置
WO2020226094A1 (ja) * 2019-05-08 2020-11-12 株式会社キッツ 洗浄水処理装置と除菌・浄水処理装置並びに洗浄水処理方法
WO2025088888A1 (ja) * 2023-10-23 2025-05-01 オルガノ株式会社 超純水製造装置及びその運用方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001205297A (ja) * 2000-01-21 2001-07-31 Japan Organo Co Ltd 純水製造装置
JP2004057935A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造システム
JP2006239617A (ja) * 2005-03-04 2006-09-14 Kurita Water Ind Ltd 水処理方法及び水処理装置
JP2007098240A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Kurita Water Ind Ltd 非イオン性界面活性剤含有水の処理方法及び処理装置
JP2011088070A (ja) * 2009-10-22 2011-05-06 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂精製装置用の超純水製造方法及び製造装置
JP2013535322A (ja) * 2010-07-26 2013-09-12 ビーダブリューティー アクティエンゲゼルシャフト 水を処理するための方法及びシステム
JP2014042896A (ja) * 2012-08-28 2014-03-13 Kurita Water Ind Ltd ホルムアルデヒド含有排水の処理方法および装置
WO2020226094A1 (ja) * 2019-05-08 2020-11-12 株式会社キッツ 洗浄水処理装置と除菌・浄水処理装置並びに洗浄水処理方法
JPWO2020226094A1 (ja) * 2019-05-08 2020-11-12
US12139430B2 (en) 2019-05-08 2024-11-12 Kitz Corporation Wash water processing apparatus and sterilization and water-purification apparatus, and wash water processing method
WO2025088888A1 (ja) * 2023-10-23 2025-05-01 オルガノ株式会社 超純水製造装置及びその運用方法
JP2025075106A (ja) * 2023-10-23 2025-05-15 オルガノ株式会社 超純水製造装置及びその運用方法

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