JPH11286670A - 感圧接着剤及び表面保護材 - Google Patents
感圧接着剤及び表面保護材Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 初期接着力とその維持性及び耐候性とのバラ
ンスに優れて長期接着後も糊残りなく容易に再剥離でき
るポリイソブチレン系の感圧接着剤及びそれを用いた表
面保護材の開発。 【解決手段】 有機溶媒中でラジカル発生剤によりシャ
ク解処理したイソブチレン系ポリマーと、分子量が９０
〜３００で酸素原子含有率が８．５％以上のアルコール
若しくはその誘導体、又は分子量が７０〜４００で酸素
原子含有率が１１％以上のカルボン酸若しくはその誘導
体からなる剥離制御剤とを少なくとも成分とし、その剥
離制御剤を前記イソブチレン系ポリマー１００重量部あ
たり０．００１〜５重量部含有する感圧接着剤、及びそ
れからなる感圧接着層を支持基材上に有する表面保護
材。 【効果】 イソブチレン系感圧接着層の接着界面付近に
剥離制御剤が偏在して凝集力の弱い層が形成され、初期
接着力とその維持性と耐候性とに優れる感圧接着層が得
られる。
ンスに優れて長期接着後も糊残りなく容易に再剥離でき
るポリイソブチレン系の感圧接着剤及びそれを用いた表
面保護材の開発。 【解決手段】 有機溶媒中でラジカル発生剤によりシャ
ク解処理したイソブチレン系ポリマーと、分子量が９０
〜３００で酸素原子含有率が８．５％以上のアルコール
若しくはその誘導体、又は分子量が７０〜４００で酸素
原子含有率が１１％以上のカルボン酸若しくはその誘導
体からなる剥離制御剤とを少なくとも成分とし、その剥
離制御剤を前記イソブチレン系ポリマー１００重量部あ
たり０．００１〜５重量部含有する感圧接着剤、及びそ
れからなる感圧接着層を支持基材上に有する表面保護
材。 【効果】 イソブチレン系感圧接着層の接着界面付近に
剥離制御剤が偏在して凝集力の弱い層が形成され、初期
接着力とその維持性と耐候性とに優れる感圧接着層が得
られる。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、初期接着力とその維持
性、及び耐候性に優れて長期接着後も良好に剥離できる
感圧接着剤及び表面保護材に関する。
性、及び耐候性に優れて長期接着後も良好に剥離できる
感圧接着剤及び表面保護材に関する。
【０００２】
【従来の技術】イソブチレン系ポリマーをベースポリマ
ーとする感圧接着層を支持基材上に設けてなる表面保護
材が知られている。ポリイソブチレン系の感圧接着層
は、アクリル系や天然ゴム系等の他の感圧接着層よりも
日光の暴露下にても接着力が経時上昇しにくく、糊残り
なく容易に再剥離できることから表面保護材の形成に有
利な利点を有する反面、その接着力維持性や耐候性の付
与のために接着力が低下して初期接着力を発現させにく
く、接着力維持性や耐候性と初期接着力をバランスさせ
にくい問題点があった。
ーとする感圧接着層を支持基材上に設けてなる表面保護
材が知られている。ポリイソブチレン系の感圧接着層
は、アクリル系や天然ゴム系等の他の感圧接着層よりも
日光の暴露下にても接着力が経時上昇しにくく、糊残り
なく容易に再剥離できることから表面保護材の形成に有
利な利点を有する反面、その接着力維持性や耐候性の付
与のために接着力が低下して初期接着力を発現させにく
く、接着力維持性や耐候性と初期接着力をバランスさせ
にくい問題点があった。
【０００３】
【発明の技術的課題】本発明は、初期接着力とその維持
性及び耐候性とのバランスに優れて長期接着後も糊残り
なく容易に再剥離できるポリイソブチレン系の感圧接着
剤及びそれを用いた表面保護材の開発を課題とする。
性及び耐候性とのバランスに優れて長期接着後も糊残り
なく容易に再剥離できるポリイソブチレン系の感圧接着
剤及びそれを用いた表面保護材の開発を課題とする。
【０００４】
【課題の解決手段】本発明は、有機溶媒中でラジカル発
生剤によりシャク解処理したイソブチレン系ポリマー
と、分子量が９０〜３００で酸素原子含有率が８．５％
以上のアルコール若しくはその誘導体、又は分子量が７
０〜４００で酸素原子含有率が１１％以上のカルボン酸
若しくはその誘導体からなる剥離制御剤とを少なくとも
成分とし、その剥離制御剤を前記イソブチレン系ポリマ
ー１００重量部あたり０．００１〜５重量部含有するこ
とを特徴とする感圧接着剤、及びそれからなる感圧接着
層を支持基材上に有することを特徴とする表面保護材を
提供するものである。
生剤によりシャク解処理したイソブチレン系ポリマー
と、分子量が９０〜３００で酸素原子含有率が８．５％
以上のアルコール若しくはその誘導体、又は分子量が７
０〜４００で酸素原子含有率が１１％以上のカルボン酸
若しくはその誘導体からなる剥離制御剤とを少なくとも
成分とし、その剥離制御剤を前記イソブチレン系ポリマ
ー１００重量部あたり０．００１〜５重量部含有するこ
とを特徴とする感圧接着剤、及びそれからなる感圧接着
層を支持基材上に有することを特徴とする表面保護材を
提供するものである。
【０００５】
【発明の効果】本発明によれば、有機溶媒中でラジカル
発生剤によりシャク解処理して低分子量化したイソブチ
レン系ポリマーからなる感圧接着層に対し、剥離制御剤
が電気陰性度の大きい酸素原子の含有による高極性に基
づいて界面付近に偏在する特異な相溶状態を形成し、そ
れにより感圧接着層の接着界面付近に凝集力の弱い層が
形成されてその層の作用により、初期接着力に優れ、か
つ耐候性と初期接着力の維持性にも優れてそれらが良好
にバランスした粘着特性を示す感圧接着剤を得ることが
でき、良好な接着力を示してその接着状態を長期に持続
し、剥離時には良好な剥離性を示して糊残りなく容易に
再剥離できる表面保護材を得ることができる。
発生剤によりシャク解処理して低分子量化したイソブチ
レン系ポリマーからなる感圧接着層に対し、剥離制御剤
が電気陰性度の大きい酸素原子の含有による高極性に基
づいて界面付近に偏在する特異な相溶状態を形成し、そ
れにより感圧接着層の接着界面付近に凝集力の弱い層が
形成されてその層の作用により、初期接着力に優れ、か
つ耐候性と初期接着力の維持性にも優れてそれらが良好
にバランスした粘着特性を示す感圧接着剤を得ることが
でき、良好な接着力を示してその接着状態を長期に持続
し、剥離時には良好な剥離性を示して糊残りなく容易に
再剥離できる表面保護材を得ることができる。
【０００６】
【発明の実施形態】本発明による感圧接着剤は、有機溶
媒中でラジカル発生剤によりシャク解処理したイソブチ
レン系ポリマーと、分子量が９０〜３００で酸素原子含
有率が８．５％以上のアルコール若しくはその誘導体、
又は／及び分子量が７０〜４００で酸素原子含有率が１
１％以上のカルボン酸若しくはその誘導体からなる剥離
制御剤とを少なくとも成分とし、その剥離制御剤を前記
イソブチレン系ポリマー１００重量部あたり０．００１
〜５重量部含有するものであり、表面保護材は、その感
圧接着剤からなる感圧接着層を支持基材上に有するもの
からなる。
媒中でラジカル発生剤によりシャク解処理したイソブチ
レン系ポリマーと、分子量が９０〜３００で酸素原子含
有率が８．５％以上のアルコール若しくはその誘導体、
又は／及び分子量が７０〜４００で酸素原子含有率が１
１％以上のカルボン酸若しくはその誘導体からなる剥離
制御剤とを少なくとも成分とし、その剥離制御剤を前記
イソブチレン系ポリマー１００重量部あたり０．００１
〜５重量部含有するものであり、表面保護材は、その感
圧接着剤からなる感圧接着層を支持基材上に有するもの
からなる。
【０００７】感圧接着剤の形成に用いるイソブチレン系
ポリマーは、有機溶媒中でラジカル発生剤によりシャク
解処理したものであるが、そのシャク解対象のイソブチ
レン系ポリマーとしては、例えばイソブチレンのホモポ
リマー、レギュラーブチルゴムや塩素、臭素等によるハ
ロゲン化ブチルゴム、部分架橋ブチルゴムの如きイソブ
チレンとイソプレンのランダム共重合体やその加硫物な
いし変性物などがあげられる。
ポリマーは、有機溶媒中でラジカル発生剤によりシャク
解処理したものであるが、そのシャク解対象のイソブチ
レン系ポリマーとしては、例えばイソブチレンのホモポ
リマー、レギュラーブチルゴムや塩素、臭素等によるハ
ロゲン化ブチルゴム、部分架橋ブチルゴムの如きイソブ
チレンとイソプレンのランダム共重合体やその加硫物な
いし変性物などがあげられる。
【０００８】なお前記の変性物としては、ランダム共重
合体に例えば水酸基やカルボキシル基、アミノ基やエポ
キシ基の如き官能基等を導入したものなどがあげられ
る。耐候性等の点より好ましく用いうるイソブチレン系
ポリマーは、イソブチレンのホモポリマーやイソプレン
の含有量が０．５〜３重量％のランダム共重合体、その
加硫物や変性物であり、イソブチレンのホモポリマーが
特に好ましい。
合体に例えば水酸基やカルボキシル基、アミノ基やエポ
キシ基の如き官能基等を導入したものなどがあげられ
る。耐候性等の点より好ましく用いうるイソブチレン系
ポリマーは、イソブチレンのホモポリマーやイソプレン
の含有量が０．５〜３重量％のランダム共重合体、その
加硫物や変性物であり、イソブチレンのホモポリマーが
特に好ましい。
【０００９】初期接着力とその維持性と耐候性のバラン
ス等の点より好ましく用いうるイソブチレン系ポリマー
のシャク解処理体は、その重量平均分子量に基づいてシ
ャク解処理前の９０％以下、就中１０〜８０％に低分子
量化したものであり、特に好ましくは重量平均分子量３
０万〜７０万、又は／及び数平均分子量１０万〜４０万
にシャク解処理したものである。
ス等の点より好ましく用いうるイソブチレン系ポリマー
のシャク解処理体は、その重量平均分子量に基づいてシ
ャク解処理前の９０％以下、就中１０〜８０％に低分子
量化したものであり、特に好ましくは重量平均分子量３
０万〜７０万、又は／及び数平均分子量１０万〜４０万
にシャク解処理したものである。
【００１０】従って、シャク解処理に供するイソブチレ
ン系ポリマーについては、前記に基づいて適宜に決定す
ることができる。一般には有機溶媒による溶解性などの
点より、重量平均分子量が２５０万以下、就中３３万〜
２００万、特に３５万〜１５０万のものが用いられる。
数平均分子量については任意である。イソブチレン系ポ
リマーは、その１種又は平均分子量等の異なる２種以上
を用いうる。なおシャク解処理によるイソブチレン系ポ
リマーの分子量変化は、例えばゲルパーミエーションク
ロマトグラフィなどによる測定で容易に知ることができ
る。
ン系ポリマーについては、前記に基づいて適宜に決定す
ることができる。一般には有機溶媒による溶解性などの
点より、重量平均分子量が２５０万以下、就中３３万〜
２００万、特に３５万〜１５０万のものが用いられる。
数平均分子量については任意である。イソブチレン系ポ
リマーは、その１種又は平均分子量等の異なる２種以上
を用いうる。なおシャク解処理によるイソブチレン系ポ
リマーの分子量変化は、例えばゲルパーミエーションク
ロマトグラフィなどによる測定で容易に知ることができ
る。
【００１１】用いるイソブチレン系ポリマーのシャク解
体は、有機溶媒中でラジカル発生剤によりシャク解処理
したものである。すなわち、イソプレン単位を含有しな
いポリイソブチレン等のイソブチレン系ポリマーにおい
てもシャク解剤に有機過酸化物を用いてそれを固体状の
ゴムに添加し、加圧ニーダやロールやバンバリーミキサ
等で素練りする、天然ゴムやブチルゴムの如きイソプレ
ン単位含有ゴムに準じた素練り方式でシャク解処理する
ことは可能である。しかし素練り方式でシャク解処理し
たイソブチレン系ポリマーでは、分子量分布が相違する
ためか目的とする耐候性と接着力維持性と初期接着力と
のバランスを達成することができない。
体は、有機溶媒中でラジカル発生剤によりシャク解処理
したものである。すなわち、イソプレン単位を含有しな
いポリイソブチレン等のイソブチレン系ポリマーにおい
てもシャク解剤に有機過酸化物を用いてそれを固体状の
ゴムに添加し、加圧ニーダやロールやバンバリーミキサ
等で素練りする、天然ゴムやブチルゴムの如きイソプレ
ン単位含有ゴムに準じた素練り方式でシャク解処理する
ことは可能である。しかし素練り方式でシャク解処理し
たイソブチレン系ポリマーでは、分子量分布が相違する
ためか目的とする耐候性と接着力維持性と初期接着力と
のバランスを達成することができない。
【００１２】上記した有機溶媒中でのラジカル発生剤に
よるシャク解処理において、有機溶媒としてはイソブチ
レン系ポリマーを溶解しうる適宜なものを用いうる。ま
たラジカル発生剤としても、例えば有機過酸化物やアゾ
化合物等のラジカル系重合開始剤、その他、ラジカルを
発生する有機や無機の化合物、有機金属化合物、金属錯
体などの適宜な化合物を用いうる。
よるシャク解処理において、有機溶媒としてはイソブチ
レン系ポリマーを溶解しうる適宜なものを用いうる。ま
たラジカル発生剤としても、例えば有機過酸化物やアゾ
化合物等のラジカル系重合開始剤、その他、ラジカルを
発生する有機や無機の化合物、有機金属化合物、金属錯
体などの適宜な化合物を用いうる。
【００１３】ちなみに一般に用いられる有機溶媒の例と
しては、ｎ−ヘキサンやイソヘキサン、ｎ−ヘプタンや
イソヘプタン、ｎ−オクタンやイソオクタン、シクロヘ
キサンやメチルシクロヘキサン、メチルヘキサンやジメ
チルペンタン、ノナンやデカンの如き炭素数が５〜１５
の脂肪族系炭化水素類、トルエンやキシレン、エチルベ
ンゼンやイソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンやト
リエチルベンゼン、ジイソプロピルベンゼンの如き炭素
数が６〜１２の芳香族系炭化水素類、ガソリンや石油エ
ーテル、石油ベンジンやリグロイン、ミネラルスピリッ
トや灯油の如き炭化水素混合物類、その他、アルコール
類やケトン類やエーテル類などがあげられる。
しては、ｎ−ヘキサンやイソヘキサン、ｎ−ヘプタンや
イソヘプタン、ｎ−オクタンやイソオクタン、シクロヘ
キサンやメチルシクロヘキサン、メチルヘキサンやジメ
チルペンタン、ノナンやデカンの如き炭素数が５〜１５
の脂肪族系炭化水素類、トルエンやキシレン、エチルベ
ンゼンやイソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンやト
リエチルベンゼン、ジイソプロピルベンゼンの如き炭素
数が６〜１２の芳香族系炭化水素類、ガソリンや石油エ
ーテル、石油ベンジンやリグロイン、ミネラルスピリッ
トや灯油の如き炭化水素混合物類、その他、アルコール
類やケトン類やエーテル類などがあげられる。
【００１４】有機溶媒は、１種又は２種以上を用いるこ
とができる。好ましく用いうる有機溶媒は、その成分の
８０重量％以上が脂肪族系炭化水素類からなるものであ
り、特にその脂肪族系炭化水素類が炭素数６〜８のもの
からなる溶媒が好ましい。
とができる。好ましく用いうる有機溶媒は、その成分の
８０重量％以上が脂肪族系炭化水素類からなるものであ
り、特にその脂肪族系炭化水素類が炭素数６〜８のもの
からなる溶媒が好ましい。
【００１５】一方、一般に用いられるラジカル発生剤の
例としては、メチルエチルケトンパーオキシドやアセチ
ルアセトンパーオキシドの如きケトンパーオキシド類、
１,１−ビス（ｔ-ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン
や２,２−ビス（ｔ-ブチルパーオキシ）ブタンの如きパ
ーオキシケタール類、ジイソプロピルベンゼンヒドロパ
ーオキシドやクメンヒドロパーオキシドの如きヒドロパ
ーオキシド類、α,α'−ビス（ｔ-ブチルパーオキシ）
ジイソプロピルベンゼンやジクミルパーオキシドの如き
ジアルキルパーオキシド類、２,４−ジクロロベンゾイ
ルパーオキシドや（３，５，５−トリメチルヘキサノイ
ル）パーオキシド、オクタノイルパーオキシドやラウロ
イルパーオキシド、ステアロイルパーオキシドやスクシ
ニックアシッドパーオキシド、ｍ-トルオイルベンゾイ
ルパーオキシドやベンゾイルパーオキシド、ジプロピオ
ニルパーオキシドやジアセチルパーオキシドの如きジア
シルパーオキシド類、ジ（３−メチル−３−メトキシブ
チル）パーオキシジカーボネートやジ−２−メトキシブ
チルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオ
キシジカーボネートやジ−ｎ−プロピルパーオキシジカ
ーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカ
ーボネートの如きパーオキシジカーボネート類、ｔ-ブ
チルパーオキシイソブチレートや１,１,３,３−テトラ
メチルブチルパーオキシ−２−ヘキサネート、ｔ-ブチ
ルパーオキシネオデカノエートやｔ-ブチルパーオキシ
ビバレートの如きパーオキシエステルなどの有機過酸化
物があげられる。
例としては、メチルエチルケトンパーオキシドやアセチ
ルアセトンパーオキシドの如きケトンパーオキシド類、
１,１−ビス（ｔ-ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン
や２,２−ビス（ｔ-ブチルパーオキシ）ブタンの如きパ
ーオキシケタール類、ジイソプロピルベンゼンヒドロパ
ーオキシドやクメンヒドロパーオキシドの如きヒドロパ
ーオキシド類、α,α'−ビス（ｔ-ブチルパーオキシ）
ジイソプロピルベンゼンやジクミルパーオキシドの如き
ジアルキルパーオキシド類、２,４−ジクロロベンゾイ
ルパーオキシドや（３，５，５−トリメチルヘキサノイ
ル）パーオキシド、オクタノイルパーオキシドやラウロ
イルパーオキシド、ステアロイルパーオキシドやスクシ
ニックアシッドパーオキシド、ｍ-トルオイルベンゾイ
ルパーオキシドやベンゾイルパーオキシド、ジプロピオ
ニルパーオキシドやジアセチルパーオキシドの如きジア
シルパーオキシド類、ジ（３−メチル−３−メトキシブ
チル）パーオキシジカーボネートやジ−２−メトキシブ
チルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオ
キシジカーボネートやジ−ｎ−プロピルパーオキシジカ
ーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカ
ーボネートの如きパーオキシジカーボネート類、ｔ-ブ
チルパーオキシイソブチレートや１,１,３,３−テトラ
メチルブチルパーオキシ−２−ヘキサネート、ｔ-ブチ
ルパーオキシネオデカノエートやｔ-ブチルパーオキシ
ビバレートの如きパーオキシエステルなどの有機過酸化
物があげられる。
【００１６】また２,２'−アゾビスイソブチロニトリル
や２,２'−ジクロロ−２,２'−アゾビスプロパン、１,
１'−アゾ(メチルエチル)ジアセテートや２,２'−アゾ
イソブタン、２,２'−アゾビス（２−メチルプロピオン
酸メチル）や２,２'−アゾビス(２−メチルブチロニト
リル)、４,４'−アゾビス（４−シアノ吉草酸）や４,
４'−アゾビス（４−シアノ吉草酸ジメチル）、３,５−
ジヒドロキシメチルフェニルアゾ−２−メチルマロノジ
ニトリルや２,２'−アゾビス（２−メチルバレロニトリ
ル）、２,２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニト
リル）や２,２'−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メ
トキシバレロニトリル）、２,２'−アゾビス（２−ヒド
ロキシメチルプロピオニトリル）や１,１'−アゾビス
（シクロヘキサンニトリル）、１,１'−アゾビス（シク
ロヘキサン−１−カルボニトリル）や２,２'−アゾビス
（２−プロピルブチロニトリル）、１,１'−アゾビス
（１−クロロフェニルエタン）や１,１'−アゾビス（１
−フェニルエタン）、１,１'−アゾビスクメンや４−ニ
トロフェニルアゾベンジルシアノ酢酸エチル、フェニル
アゾジフェニルメタンやフェニルアゾトリフェニルメタ
ン、４−ニトロフェニルアゾトリフェニルメタンや１,
１'−アゾビス（１,２−ジフェニルエタン）、ポリ（テ
トラエチレングリコール−２,２'−アゾビスイソブチレ
ート）やジメチル−２,２'−アゾビス（２−メチルプロ
ピオネート）、２,２'−アゾビス［２−（２−イミダゾ
リン−２−イル）プロパン］の如きアゾ系化合物なども
一般に用いられるラジカル発生剤の例としてあげられ
る。
や２,２'−ジクロロ−２,２'−アゾビスプロパン、１,
１'−アゾ(メチルエチル)ジアセテートや２,２'−アゾ
イソブタン、２,２'−アゾビス（２−メチルプロピオン
酸メチル）や２,２'−アゾビス(２−メチルブチロニト
リル)、４,４'−アゾビス（４−シアノ吉草酸）や４,
４'−アゾビス（４−シアノ吉草酸ジメチル）、３,５−
ジヒドロキシメチルフェニルアゾ−２−メチルマロノジ
ニトリルや２,２'−アゾビス（２−メチルバレロニトリ
ル）、２,２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニト
リル）や２,２'−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メ
トキシバレロニトリル）、２,２'−アゾビス（２−ヒド
ロキシメチルプロピオニトリル）や１,１'−アゾビス
（シクロヘキサンニトリル）、１,１'−アゾビス（シク
ロヘキサン−１−カルボニトリル）や２,２'−アゾビス
（２−プロピルブチロニトリル）、１,１'−アゾビス
（１−クロロフェニルエタン）や１,１'−アゾビス（１
−フェニルエタン）、１,１'−アゾビスクメンや４−ニ
トロフェニルアゾベンジルシアノ酢酸エチル、フェニル
アゾジフェニルメタンやフェニルアゾトリフェニルメタ
ン、４−ニトロフェニルアゾトリフェニルメタンや１,
１'−アゾビス（１,２−ジフェニルエタン）、ポリ（テ
トラエチレングリコール−２,２'−アゾビスイソブチレ
ート）やジメチル−２,２'−アゾビス（２−メチルプロ
ピオネート）、２,２'−アゾビス［２−（２−イミダゾ
リン−２−イル）プロパン］の如きアゾ系化合物なども
一般に用いられるラジカル発生剤の例としてあげられ
る。
【００１７】さらに、１,４−ビス（ペンタメチレン）
−２−テトラゼンや１,４−ジメトキシカルボニル−１,
４−ジフェニル−２−テトラゼン、ベンゼンスルホニル
アジドなどの有機化合物も一般に用いられるラジカル発
生剤の例としてあげられる。
−２−テトラゼンや１,４−ジメトキシカルボニル−１,
４−ジフェニル−２−テトラゼン、ベンゼンスルホニル
アジドなどの有機化合物も一般に用いられるラジカル発
生剤の例としてあげられる。
【００１８】分子量制御等の点より好ましく用いうるラ
ジカル発生剤は、オクタノイルパーオキシドやラウロイ
ルパーオキシド、ステアロイルパーオキシドやスクシニ
ックアシッドパーオキシド、ｍ-トルオイルベンゾイル
パーオキシドやベンゾイルパーオキシド等のジアシルパ
ーオキシド類の如く、ベンゼン中における１０時間半減
期温度が６０℃以上のもの、特に７０℃以上のものであ
り、就中ベンゾイルパーオキシドが好ましい。
ジカル発生剤は、オクタノイルパーオキシドやラウロイ
ルパーオキシド、ステアロイルパーオキシドやスクシニ
ックアシッドパーオキシド、ｍ-トルオイルベンゾイル
パーオキシドやベンゾイルパーオキシド等のジアシルパ
ーオキシド類の如く、ベンゼン中における１０時間半減
期温度が６０℃以上のもの、特に７０℃以上のものであ
り、就中ベンゾイルパーオキシドが好ましい。
【００１９】ラジカル発生剤による有機溶媒中でのシャ
ク解処理は、液相反応であることより固体状ゴムの素練
り方式による固相反応に比べて、シャク解剤の配合など
の処理作業が容易で、処理に要するエネルギーも少な
く、低分量化が緩慢に進行して平均分子量の制御も容易
である。またシャク解処理液をそのまま感圧接着剤の調
製に供しうる利点なども有している。
ク解処理は、液相反応であることより固体状ゴムの素練
り方式による固相反応に比べて、シャク解剤の配合など
の処理作業が容易で、処理に要するエネルギーも少な
く、低分量化が緩慢に進行して平均分子量の制御も容易
である。またシャク解処理液をそのまま感圧接着剤の調
製に供しうる利点なども有している。
【００２０】シャク解処理は、ラジカル重合によるポリ
マーの合成に準じて、ラジカル発生剤が分解する温度で
溶液を撹拌する方式などにより行うことができる。処理
溶液の濃度は、溶液粘度等に応じて適宜に決定しうる
が、一般には５〜７０重量％、就中１０〜５０重量％、
特に１５〜４０重量％のイソブチレン系ポリマー濃度と
される。
マーの合成に準じて、ラジカル発生剤が分解する温度で
溶液を撹拌する方式などにより行うことができる。処理
溶液の濃度は、溶液粘度等に応じて適宜に決定しうる
が、一般には５〜７０重量％、就中１０〜５０重量％、
特に１５〜４０重量％のイソブチレン系ポリマー濃度と
される。
【００２１】またラジカル発生剤の使用量は、シャク解
処理速度等に応じて適宜に決定しうるが、一般にはイソ
ブチレン系ポリマー１００重量部あたり、０．０１〜２
０重量部、就中０．０５〜１０重量部、特に０．１〜５
重量部の使用量とされる。ラジカル発生剤の種類や使用
量、シャク解処理の温度や時間などを制御することによ
り、得られるイソブチレン系ポリマーシャク解体の平均
分子量を調節することができる。
処理速度等に応じて適宜に決定しうるが、一般にはイソ
ブチレン系ポリマー１００重量部あたり、０．０１〜２
０重量部、就中０．０５〜１０重量部、特に０．１〜５
重量部の使用量とされる。ラジカル発生剤の種類や使用
量、シャク解処理の温度や時間などを制御することによ
り、得られるイソブチレン系ポリマーシャク解体の平均
分子量を調節することができる。
【００２２】イソブチレン系ポリマーの平均分子量は、
接着性や耐熱性、耐候性などと関係し、従って本発明に
おいては目的とする特性に応じて平均分子量を適宜に調
節することができる。シャク解処理時における処理容器
中の雰囲気は、窒素ガス等の不活性ガスや空気などによ
る適宜な雰囲気とすることができる。
接着性や耐熱性、耐候性などと関係し、従って本発明に
おいては目的とする特性に応じて平均分子量を適宜に調
節することができる。シャク解処理時における処理容器
中の雰囲気は、窒素ガス等の不活性ガスや空気などによ
る適宜な雰囲気とすることができる。
【００２３】シャク解処理に際しては、ラジカル発生剤
の分解速度制御剤等を添加することもできる。ちなみに
分解速度の促進には、各種の還元剤やアミン化合物、例
えばＮ，Ｎ−ジメチルアニリンやトリエチルアミン、ト
リブチルアミンなどの添加が有効である。
の分解速度制御剤等を添加することもできる。ちなみに
分解速度の促進には、各種の還元剤やアミン化合物、例
えばＮ，Ｎ−ジメチルアニリンやトリエチルアミン、ト
リブチルアミンなどの添加が有効である。
【００２４】本発明による感圧接着剤には、上記した特
異な相溶状態を形成するために剥離制御剤が配合され
る。その剥離制御剤としては、分子量が９０〜３００で
酸素原子含有率が８．５％以上のアルコール若しくはそ
の誘導体、又は分子量が７０〜４００で酸素原子含有率
が１１％以上のカルボン酸若しくはその誘導体が１種又
は２種以上用いられる。かかる電気陰性度の大きい酸素
原子の含有による高極性の剥離制御剤を用いることによ
り、イソブチレン系ポリマーに対する相溶性と、感圧接
着層とした場合にその界面付近に剥離制御剤が偏在する
特異な相溶状態を形成することができる。
異な相溶状態を形成するために剥離制御剤が配合され
る。その剥離制御剤としては、分子量が９０〜３００で
酸素原子含有率が８．５％以上のアルコール若しくはそ
の誘導体、又は分子量が７０〜４００で酸素原子含有率
が１１％以上のカルボン酸若しくはその誘導体が１種又
は２種以上用いられる。かかる電気陰性度の大きい酸素
原子の含有による高極性の剥離制御剤を用いることによ
り、イソブチレン系ポリマーに対する相溶性と、感圧接
着層とした場合にその界面付近に剥離制御剤が偏在する
特異な相溶状態を形成することができる。
【００２５】相溶性、従ってブリード等の抑制による感
圧接着層内での長期残留性や前記特異な相溶状態の形成
性、接着力の向上性などの点より、ひいては粘着特性の
長期持続性などの点より好ましい剥離制御剤は、分子量
が１００以上、就中１１０以上、特に１２０以上のアル
コール又はその誘導体、分子量が８０以上、就中９０以
上、特に１００以上のカルボン酸又はその誘導体であ
る。
圧接着層内での長期残留性や前記特異な相溶状態の形成
性、接着力の向上性などの点より、ひいては粘着特性の
長期持続性などの点より好ましい剥離制御剤は、分子量
が１００以上、就中１１０以上、特に１２０以上のアル
コール又はその誘導体、分子量が８０以上、就中９０以
上、特に１００以上のカルボン酸又はその誘導体であ
る。
【００２６】分子量が９０未満のアルコール又はその誘
導体、あるいは分子量が７０未満のカルボン酸又はその
誘導体からなる剥離制御剤では、揮発などにより感圧接
着層残留性に乏しく、感圧接着層とした場合にその界面
付近に偏在する剥離制御剤の量が少なくなって接着力維
持性が低下し再剥離性に乏しくなる。一方、分子量が３
００を超えるアルコール又はその誘導体、あるいは分子
量が４００を超えるカルボン酸又はその誘導体からなる
剥離制御剤では、感圧接着層の界面付近に偏在した場合
に形成される層の凝集力が強すぎて再剥離性に乏しくな
る。
導体、あるいは分子量が７０未満のカルボン酸又はその
誘導体からなる剥離制御剤では、揮発などにより感圧接
着層残留性に乏しく、感圧接着層とした場合にその界面
付近に偏在する剥離制御剤の量が少なくなって接着力維
持性が低下し再剥離性に乏しくなる。一方、分子量が３
００を超えるアルコール又はその誘導体、あるいは分子
量が４００を超えるカルボン酸又はその誘導体からなる
剥離制御剤では、感圧接着層の界面付近に偏在した場合
に形成される層の凝集力が強すぎて再剥離性に乏しくな
る。
【００２７】また酸素原子含有率が８．５％未満のアル
コール又はその誘導体、あるいは酸素原子含有率が１１
％未満のカルボン酸又はその誘導体からなる剥離制御剤
では、極性が低すぎてイソブチレン系ポリマーとの極性
の相違が小さく、感圧接着層の界面付近に剥離制御剤が
偏在する特異な相溶状態が形成されにくく、本発明の目
的が達成されない。
コール又はその誘導体、あるいは酸素原子含有率が１１
％未満のカルボン酸又はその誘導体からなる剥離制御剤
では、極性が低すぎてイソブチレン系ポリマーとの極性
の相違が小さく、感圧接着層の界面付近に剥離制御剤が
偏在する特異な相溶状態が形成されにくく、本発明の目
的が達成されない。
【００２８】なお前記の酸素原子含有率は、次式にて計
算した値である。 酸素原子含有率（％）＝（１６Ａ／Ｍｗ）×１００ （ただし、Ａはアルコール又はその誘導体、あるいはカ
ルボン酸又はその誘導体の１分子中に含まれる酸素原子
数、Ｍｗはアルコール又はその誘導体、あるいはカルボ
ン酸又はその誘導体の分子量である。）
算した値である。 酸素原子含有率（％）＝（１６Ａ／Ｍｗ）×１００ （ただし、Ａはアルコール又はその誘導体、あるいはカ
ルボン酸又はその誘導体の１分子中に含まれる酸素原子
数、Ｍｗはアルコール又はその誘導体、あるいはカルボ
ン酸又はその誘導体の分子量である。）
【００２９】前記の剥離制御剤における分子量が９０〜
３００で酸素原子含有率が８．５％以上のアルコールと
しては、例えば１，１−シクロヘキサンジオールや３，
３，５−トリメチル−１，１−シクロヘキサンジオー
ル、２−メチル−２−ペンタノールや２−（４−イソプ
ロピルフェニル）−２−プロパノール、２−ヘキシル−
２−プロパノールや２−フェニル−２−プロパノールな
どがあげられる。またアルコールの誘導体としては、前
記アルコールを成分とするエステルなどがあげられる。
３００で酸素原子含有率が８．５％以上のアルコールと
しては、例えば１，１−シクロヘキサンジオールや３，
３，５−トリメチル−１，１−シクロヘキサンジオー
ル、２−メチル−２−ペンタノールや２−（４−イソプ
ロピルフェニル）−２−プロパノール、２−ヘキシル−
２−プロパノールや２−フェニル−２−プロパノールな
どがあげられる。またアルコールの誘導体としては、前
記アルコールを成分とするエステルなどがあげられる。
【００３０】一方、分子量が７０〜４００で酸素原子含
有率が１１％以上のカルボン酸としては、例えばイソ酪
酸やｎ-カプリル酸、コハク酸や安息香酸、トルイル酸
やイソフタル酸などがあげられる。就中、配合性などの
点より安息香酸が好ましく用いうる。またカルボン酸の
誘導体としては、例えばトリエチルアンモニウムベンゾ
エートの如き前記したカルボン酸の塩やエステルなどが
あげられる。
有率が１１％以上のカルボン酸としては、例えばイソ酪
酸やｎ-カプリル酸、コハク酸や安息香酸、トルイル酸
やイソフタル酸などがあげられる。就中、配合性などの
点より安息香酸が好ましく用いうる。またカルボン酸の
誘導体としては、例えばトリエチルアンモニウムベンゾ
エートの如き前記したカルボン酸の塩やエステルなどが
あげられる。
【００３１】上記したように剥離制御剤としてのアルコ
ールやカルボン酸又はそれらの誘導体は、１種又は２種
以上を用いることができ、アルコール又は／及びその誘
導体とカルボン酸又は／及びその誘導体を併用すること
もできる。剥離制御剤の配合量は、シャク解処理したイ
ソブチレン系ポリマー１００重量部あたり０．００１〜
５重量部とされる。
ールやカルボン酸又はそれらの誘導体は、１種又は２種
以上を用いることができ、アルコール又は／及びその誘
導体とカルボン酸又は／及びその誘導体を併用すること
もできる。剥離制御剤の配合量は、シャク解処理したイ
ソブチレン系ポリマー１００重量部あたり０．００１〜
５重量部とされる。
【００３２】剥離制御剤の当該配合量が０．００１重量
部未満では、配合による効果の発現性に乏しくて接着力
の維持性が低下し再剥離性に乏しくなる。一方、剥離制
御剤の当該配合量が５重量部を超えると、初期接着力が
低下して、被着体に接着しにくくなる。
部未満では、配合による効果の発現性に乏しくて接着力
の維持性が低下し再剥離性に乏しくなる。一方、剥離制
御剤の当該配合量が５重量部を超えると、初期接着力が
低下して、被着体に接着しにくくなる。
【００３３】耐候性と接着力維持性と初期接着力の良好
なバランス性などの点より剥離制御剤の好ましい配合量
は、４．５重量部以下、就中４重量部以下、特に０．０
０２〜２重量部である。このように剥離制御剤は、比較
的少量の配合量にて目的とする効果が有利に発揮されや
すい。
なバランス性などの点より剥離制御剤の好ましい配合量
は、４．５重量部以下、就中４重量部以下、特に０．０
０２〜２重量部である。このように剥離制御剤は、比較
的少量の配合量にて目的とする効果が有利に発揮されや
すい。
【００３４】感圧接着剤の調製は、例えばイソブチレン
系ポリマーのシャク解体をベースポリマーに用いて、そ
のイソブチレン系ポリマーと剥離制御剤をトルエンやヘ
キサン、シクロヘキサンやヘプタン等の適宜な溶剤を用
いて混合する方式などの適宜な方式で配合成分を混合す
ることにより得ることができる。
系ポリマーのシャク解体をベースポリマーに用いて、そ
のイソブチレン系ポリマーと剥離制御剤をトルエンやヘ
キサン、シクロヘキサンやヘプタン等の適宜な溶剤を用
いて混合する方式などの適宜な方式で配合成分を混合す
ることにより得ることができる。
【００３５】前記の調製に際しては、必要に応じて例え
ば平均分子量の調節等による粘着特性の制御などを目的
に上記したイソブチレン系ポリマーの未シャク解物など
を併用することができる。その場合、耐候性等の点より
はイソブチレンホモポリマーの併用が特に好ましい。
ば平均分子量の調節等による粘着特性の制御などを目的
に上記したイソブチレン系ポリマーの未シャク解物など
を併用することができる。その場合、耐候性等の点より
はイソブチレンホモポリマーの併用が特に好ましい。
【００３６】なお感圧接着剤の調製に際しては、必要に
応じて例えば顔料や充填剤、老化防止剤や紫外線吸収剤
などの、感圧接着剤に配合されることのある種々の配合
剤も上記した特異な相溶状態や粘着特性等を維持しうる
範囲で適宜に用いることができる。
応じて例えば顔料や充填剤、老化防止剤や紫外線吸収剤
などの、感圧接着剤に配合されることのある種々の配合
剤も上記した特異な相溶状態や粘着特性等を維持しうる
範囲で適宜に用いることができる。
【００３７】本発明による表面保護材は、上記した感圧
接着剤からなる感圧接着層を支持基材上に設けたもので
あるが、その形成は例えば感圧接着剤の溶液又は加熱溶
融液等を支持基材に塗布する方法や、それに準じセパレ
ータ上に形成した感圧接着層を支持基材上に移着する方
法などの公知の接着シートの形成方法に準じて行うこと
ができる。
接着剤からなる感圧接着層を支持基材上に設けたもので
あるが、その形成は例えば感圧接着剤の溶液又は加熱溶
融液等を支持基材に塗布する方法や、それに準じセパレ
ータ上に形成した感圧接着層を支持基材上に移着する方
法などの公知の接着シートの形成方法に準じて行うこと
ができる。
【００３８】前記の支持基材としては、適宜なものを用
いてよい。一般には、ポリプロピレン系やポリエチレン
系、それらのブレンド系の如きポリオレフィン系、ポリ
塩化ビニル系やポリエステル系等のプラスチックからな
るフィルムや、通気性等を有する多孔質フィルム、紙や
不織布、織布や金属箔、発泡シートなどが用いられる。
就中、ポリオレフィン系フィルムが好ましい。
いてよい。一般には、ポリプロピレン系やポリエチレン
系、それらのブレンド系の如きポリオレフィン系、ポリ
塩化ビニル系やポリエステル系等のプラスチックからな
るフィルムや、通気性等を有する多孔質フィルム、紙や
不織布、織布や金属箔、発泡シートなどが用いられる。
就中、ポリオレフィン系フィルムが好ましい。
【００３９】支持基材の感圧接着層を設ける面には、密
着力の向上などを目的に必要に応じて例えばコロナ処理
や下塗り処理等の適宜な表面処理を施すこともできる。
また支持基材には必要に応じスリップ剤や帯電防止剤、
酸化防止剤などを配合することもできる。
着力の向上などを目的に必要に応じて例えばコロナ処理
や下塗り処理等の適宜な表面処理を施すこともできる。
また支持基材には必要に応じスリップ剤や帯電防止剤、
酸化防止剤などを配合することもできる。
【００４０】表面保護材は、厚さ５〜３００μm、就中
２００μm以下、特に１０〜１００μmの支持基材に、厚
さ２００μm以下、就中１００μm以下、特に１〜５０μ
mの感圧接着層を設けたものが一般的であるが、これに
限定されない。
２００μm以下、特に１０〜１００μmの支持基材に、厚
さ２００μm以下、就中１００μm以下、特に１〜５０μ
mの感圧接着層を設けたものが一般的であるが、これに
限定されない。
【００４１】なお感圧接着層が表面に露出する場合には
必要に応じて、実用に供されるまでの間、セパレータな
どを仮着して保護することもできるし、表面保護材を巻
回体としてセパレータによる仮着を省略することもでき
る。セパレータや巻回体とする場合の支持基材は、必要
に応じシリコーン系やフッ素系、長鎖アクリル系などの
適宜な剥離剤で表面処理することにより得ることができ
る。なお巻回体の場合には、感圧接着層が接着されるこ
ととなる支持基材の背面が剥離剤等で表面処理される。
必要に応じて、実用に供されるまでの間、セパレータな
どを仮着して保護することもできるし、表面保護材を巻
回体としてセパレータによる仮着を省略することもでき
る。セパレータや巻回体とする場合の支持基材は、必要
に応じシリコーン系やフッ素系、長鎖アクリル系などの
適宜な剥離剤で表面処理することにより得ることができ
る。なお巻回体の場合には、感圧接着層が接着されるこ
ととなる支持基材の背面が剥離剤等で表面処理される。
【００４２】本発明による感圧接着剤ないし表面保護材
は、例えば塗装板や金属板、樹脂板や化粧板、自動車の
ボディーや部品などの各種の被着体への接着に好ましく
用いうる。特に、接着力に優れること、接着力が経時変
化しにくいこと、糊残りなく容易に再剥離できること、
耐候性に優れて日光の暴露下にても劣化しにくく、例え
ば運搬時や施工時等に屋外暴露されても粘着特性が低下
しにくくて、再剥離の際に糊残りによる汚染なく剥離で
きることなどが要求される用途に好ましく用いることが
できる。
は、例えば塗装板や金属板、樹脂板や化粧板、自動車の
ボディーや部品などの各種の被着体への接着に好ましく
用いうる。特に、接着力に優れること、接着力が経時変
化しにくいこと、糊残りなく容易に再剥離できること、
耐候性に優れて日光の暴露下にても劣化しにくく、例え
ば運搬時や施工時等に屋外暴露されても粘着特性が低下
しにくくて、再剥離の際に糊残りによる汚染なく剥離で
きることなどが要求される用途に好ましく用いることが
できる。
【００４３】
実施例１ ゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチ
レン換算の重量平均分子量（以下同じ）が８０万のポリ
イソブチレン１００部（重量部、以下同じ）をｎ−ヘプ
タン４００部と共に反応釜に入れて撹拌下、８５℃の内
浴温度で溶液としたのち、その内浴温度の維持下に１気
圧の空気雰囲気中でベンゾイルパーオキシド５０重量％
・ジオクチルフタレート５０重量％の混合物（日本油脂
社製、ナイパーＢＯ）１．８部を添加し、１５時間撹拌
してシャク解処理し、重量平均分子量５０万、数平均分
子量３０万のポリイソブチレンシャク解物を含有する溶
液を得、その溶液に２−フェニル−２−プロパノール
（分子量１３６、酸素原子含有率１１．８％）２部を配
合して感圧接着剤を調製し、それをポリプロピレン／ポ
リエチレン（重量比：１／９）からなる厚さ４０μmの
フィルム上に塗布し、８０℃で３分間乾燥処理して厚さ
１０μmの感圧接着層を有する表面保護材を得た。
レン換算の重量平均分子量（以下同じ）が８０万のポリ
イソブチレン１００部（重量部、以下同じ）をｎ−ヘプ
タン４００部と共に反応釜に入れて撹拌下、８５℃の内
浴温度で溶液としたのち、その内浴温度の維持下に１気
圧の空気雰囲気中でベンゾイルパーオキシド５０重量％
・ジオクチルフタレート５０重量％の混合物（日本油脂
社製、ナイパーＢＯ）１．８部を添加し、１５時間撹拌
してシャク解処理し、重量平均分子量５０万、数平均分
子量３０万のポリイソブチレンシャク解物を含有する溶
液を得、その溶液に２−フェニル−２−プロパノール
（分子量１３６、酸素原子含有率１１．８％）２部を配
合して感圧接着剤を調製し、それをポリプロピレン／ポ
リエチレン（重量比：１／９）からなる厚さ４０μmの
フィルム上に塗布し、８０℃で３分間乾燥処理して厚さ
１０μmの感圧接着層を有する表面保護材を得た。
【００４４】なお前記のゲルパーミエーションクロマト
グラフィは、４本のカラム（東ソ社製、ＴＳＫ ｇｅｌ
Ｇ２０００Ｈ ＨＲ、Ｇ３０００Ｈ ＨＲ、Ｇ４０００
ＨＨＲ、及びＧＭＨ−Ｈ ＨＲ）を直列に接続して使用
し、溶離液にテトラヒドロフランを用いて流速１ml／
分、温度４０℃、サンプル濃度０．１重量％テトラヒド
ロフラン溶液、サンプル注入量５００μlの条件で行
い、検出器には示差屈折計を用いた。
グラフィは、４本のカラム（東ソ社製、ＴＳＫ ｇｅｌ
Ｇ２０００Ｈ ＨＲ、Ｇ３０００Ｈ ＨＲ、Ｇ４０００
ＨＨＲ、及びＧＭＨ−Ｈ ＨＲ）を直列に接続して使用
し、溶離液にテトラヒドロフランを用いて流速１ml／
分、温度４０℃、サンプル濃度０．１重量％テトラヒド
ロフラン溶液、サンプル注入量５００μlの条件で行
い、検出器には示差屈折計を用いた。
【００４５】実施例２ ２−フェニル−２−プロパノールに代えて、安息香酸
（分子量１２２、酸素原子含有率２６．２％）０．００
２部を用いたほかは実施例１に準じ感圧接着剤を得、そ
れを用いて表面保護材を得た。
（分子量１２２、酸素原子含有率２６．２％）０．００
２部を用いたほかは実施例１に準じ感圧接着剤を得、そ
れを用いて表面保護材を得た。
【００４６】実施例３ 重量平均分子量が８０万のポリイソブチレン６０部と重
量平均分子量が６５万のポリイソブチレン４０部をｎ−
ヘプタン３００部とｎ−オクタン２００部と共に反応釜
に入れて撹拌下、８０℃の内浴温度で溶液とした後、そ
の内浴温度の維持下に１気圧の窒素雰囲気中でｍ−トル
オイルベンゾイルパーオキシド４０重量％・トルエン６
０重量％の混合物（日本油脂社製、ナイパーＢＭＴ−Ｔ
４０）４．０部を添加して１５時間撹拌してシャク解処
理し、重量平均分子量３８万、数平均分子量２３万のポ
リイソブチレンシャク解物を含有する溶液を得、この溶
液に１，１−シクロヘキサンジオール（分子量１１６、
酸素原子含有率２７．６％）１部を配合して感圧接着剤
を調製し、それを用いて実施例１に準じ表面保護材を得
た。
量平均分子量が６５万のポリイソブチレン４０部をｎ−
ヘプタン３００部とｎ−オクタン２００部と共に反応釜
に入れて撹拌下、８０℃の内浴温度で溶液とした後、そ
の内浴温度の維持下に１気圧の窒素雰囲気中でｍ−トル
オイルベンゾイルパーオキシド４０重量％・トルエン６
０重量％の混合物（日本油脂社製、ナイパーＢＭＴ−Ｔ
４０）４．０部を添加して１５時間撹拌してシャク解処
理し、重量平均分子量３８万、数平均分子量２３万のポ
リイソブチレンシャク解物を含有する溶液を得、この溶
液に１，１−シクロヘキサンジオール（分子量１１６、
酸素原子含有率２７．６％）１部を配合して感圧接着剤
を調製し、それを用いて実施例１に準じ表面保護材を得
た。
【００４７】実施例４ １，１−シクロヘキサンジオールに代えて、コハク酸
（分子量１１８、酸素原子含有率５４．２％）０．０１
部を用いたほかは実施例３に準じ感圧接着剤を得、それ
を用いて表面保護材を得た。
（分子量１１８、酸素原子含有率５４．２％）０．０１
部を用いたほかは実施例３に準じ感圧接着剤を得、それ
を用いて表面保護材を得た。
【００４８】比較例１ ２−フェニル−２−プロパノールを配合しない感圧接着
剤を用いたほかは実施例１に準じて表面保護材を得た。
剤を用いたほかは実施例１に準じて表面保護材を得た。
【００４９】比較例２ ２−フェニル−２−プロパノールの配合量を１０部とし
たほかは実施例１に準じ感圧接着剤を得、それを用いて
表面保護材を得た。
たほかは実施例１に準じ感圧接着剤を得、それを用いて
表面保護材を得た。
【００５０】比較例３ １，１−シクロヘキサンジオールを配合しない感圧接着
剤を用いたほかは実施例３に準じて表面保護材を得た。
剤を用いたほかは実施例３に準じて表面保護材を得た。
【００５１】評価試験 接着力（初期、暴露） 実施例、比較例で得た表面保護材をラミネータを介しア
ルキド・メラミン樹脂塗料（関西ペイント社製、アミラ
ックＬＩＳ No.３００黒）にて塗装した板に２３℃、６
５％ＲＨの雰囲気下、７０Ｎ／cmの圧力、かつ５ｍ／分
の速度にて圧着し、３０分経過後における接着力（１８
０度ピール、剥離速度３００mm／分）を調べてそれを初
期値とすると共に、前記の接着体をＪＩＳ Ｄ０２０５
に準拠してサンシャイン・カーボン・ウエザメータ（ス
ガ試験機社製）に２００時間投入後、２３℃、６５％Ｒ
Ｈの雰囲気下に３時間放置し、前記に準じその接着力を
調べてそれを暴露後の接着力とした。
ルキド・メラミン樹脂塗料（関西ペイント社製、アミラ
ックＬＩＳ No.３００黒）にて塗装した板に２３℃、６
５％ＲＨの雰囲気下、７０Ｎ／cmの圧力、かつ５ｍ／分
の速度にて圧着し、３０分経過後における接着力（１８
０度ピール、剥離速度３００mm／分）を調べてそれを初
期値とすると共に、前記の接着体をＪＩＳ Ｄ０２０５
に準拠してサンシャイン・カーボン・ウエザメータ（ス
ガ試験機社製）に２００時間投入後、２３℃、６５％Ｒ
Ｈの雰囲気下に３時間放置し、前記に準じその接着力を
調べてそれを暴露後の接着力とした。
【００５２】耐候性 前記の接着力試験に準じて作製した接着体を屋外の暴露
台に固定し、１８０日経過後に表面保護材を塗装板より
剥離し、糊残りとその他の汚染の有無を調べ、塗装板に
糊残り及びその他の汚染が殆ど認められない場合を良
好、糊残り又はその他の汚染が明らかに認められた場合
を不良として評価した。
台に固定し、１８０日経過後に表面保護材を塗装板より
剥離し、糊残りとその他の汚染の有無を調べ、塗装板に
糊残り及びその他の汚染が殆ど認められない場合を良
好、糊残り又はその他の汚染が明らかに認められた場合
を不良として評価した。
【００５３】総合評価 前記の試験結果を総合評価して、（１）初期及び暴露後
の接着力が２．２〜６．５Ｎ／20mmの範囲にあり、かつ
（２）１８０日経過後の耐候性において塗装板に糊残り
及びその他の汚染が全く認められないことの両方を満足
した場合を合格、それ以外の場合を不合格として判定し
た。
の接着力が２．２〜６．５Ｎ／20mmの範囲にあり、かつ
（２）１８０日経過後の耐候性において塗装板に糊残り
及びその他の汚染が全く認められないことの両方を満足
した場合を合格、それ以外の場合を不合格として判定し
た。
【００５４】前記の結果を次表に示した。
【００５５】表より実施例にてはいずれの場合にも、良
好な初期接着力を有すると共に、接着力の経時上昇が少
なく、かつ耐候性にも優れているが、比較例１，３では
接着力の経時上昇が大きくて耐候性にも劣り、比較例２
では初期接着力が低いことがわかる。以上の結果、実施
例と比較例の対比より、シャク解処理したイソブチレン
系ポリマーに電気陰性度の高い酸素原子の含有により高
極性の剥離制御剤を少量配合した組成とすることによ
り、初期接着力とその維持性、及び耐候性が良好にバラ
ンスした感圧接着層を得られることがわかる。
好な初期接着力を有すると共に、接着力の経時上昇が少
なく、かつ耐候性にも優れているが、比較例１，３では
接着力の経時上昇が大きくて耐候性にも劣り、比較例２
では初期接着力が低いことがわかる。以上の結果、実施
例と比較例の対比より、シャク解処理したイソブチレン
系ポリマーに電気陰性度の高い酸素原子の含有により高
極性の剥離制御剤を少量配合した組成とすることによ
り、初期接着力とその維持性、及び耐候性が良好にバラ
ンスした感圧接着層を得られることがわかる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 満田 秀樹 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 田口 朗 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 佐野 建志 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 松井 駒治 神奈川県平塚市東八幡４丁目17番１号 関 西ペイント株式会社内 (72)発明者 江田 猛 兵庫県尼崎市神崎町33番１号 関西ペイン ト株式会社内 (72)発明者 上田 博 兵庫県尼崎市神崎町33番１号 関西ペイン ト株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 有機溶媒中でラジカル発生剤によりシャ
ク解処理したイソブチレン系ポリマーと、分子量が９０
〜３００で酸素原子含有率が８．５％以上のアルコール
又はその誘導体からなる剥離制御剤とを少なくとも成分
とし、その剥離制御剤を前記イソブチレン系ポリマー１
００重量部あたり０．００１〜５重量部含有することを
特徴とする感圧接着剤。 - 【請求項２】 有機溶媒中でラジカル発生剤によりシャ
ク解処理したイソブチレン系ポリマーと、分子量が７０
〜４００で酸素原子含有率が１１％以上のカルボン酸又
はその誘導体からなる剥離制御剤とを少なくとも成分と
し、その剥離制御剤を前記イソブチレン系ポリマー１０
０重量部あたり０．００１〜５重量部含有することを特
徴とする感圧接着剤。 - 【請求項３】 請求項２においてカルボン酸が安息香酸
である感圧接着剤。 - 【請求項４】 請求項１〜３において、イソブチレン系
ポリマーがシャク解処理前の９０％以下の重量平均分子
量を有するものである感圧接着剤。 - 【請求項５】 請求項１〜４において、シャク解処理し
たイソブチレン系ポリマーの重量平均分子量が３０万〜
７０万、又は数平均分子量が１０万〜４０万である感圧
接着剤。 - 【請求項６】 請求項１〜５において、イソブチレン系
ポリマーがベンゼン中における１０時間半減期温度が６
０℃以上のラジカル発生剤を用いてシャク解処理したも
のである感圧接着剤。 - 【請求項７】 請求項６において、ラジカル発生剤にベ
ンゾイルパーオキシドを用いたものである感圧接着剤。 - 【請求項８】 請求項１〜７に記載の感圧接着剤からな
る感圧接着層を支持基材上に有することを特徴とする表
面保護材。
Priority Applications (9)
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|---|---|---|---|
| JP10547698A JP4396999B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 感圧接着剤及び表面保護材 |
| US09/280,676 US6329049B1 (en) | 1998-03-31 | 1999-03-29 | Pressure-sensitive adhesive and surface protecting material |
| CA002267130A CA2267130C (en) | 1998-03-31 | 1999-03-29 | Pressure-sensitive adhesive and surface protecting material |
| KR10-1999-0010941A KR100404271B1 (ko) | 1998-03-31 | 1999-03-30 | 감압 접착제 및 표면 보호재 |
| DE69914819T DE69914819T2 (de) | 1998-03-31 | 1999-03-30 | Verfahren zur Verbesserung der Trenneigenschaften von Polyisobutylen Klebstoff |
| EP99106557A EP0947553B1 (en) | 1998-03-31 | 1999-03-30 | Process to improve release properties of polyisobutylen adhesives |
| EP03017955A EP1362902B1 (en) | 1998-03-31 | 1999-03-30 | Pressure-sensitive adhesive and surface protecting material |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10547698A JP4396999B2 (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 感圧接着剤及び表面保護材 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| DE102005056393A1 (de) * | 2005-11-24 | 2007-05-31 | Grünenthal GmbH | Multicyclische Verbindungen in druckempfindlichen Klebstoffen |
| JP2009215489A (ja) * | 2008-03-12 | 2009-09-24 | Nitto Denko Corp | 縁止めテープおよびその利用 |
| JP5606725B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2014-10-15 | 日東電工株式会社 | 塗膜保護シート |
| JP5748952B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2015-07-15 | 日東電工株式会社 | 塗膜保護シート |
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|---|---|---|---|---|
| US2463452A (en) | 1943-08-07 | 1949-03-01 | Du Pont | Adhesive compositions and adhesive sheets |
| NL301721A (ja) * | 1962-12-21 | 1900-01-01 | ||
| DE1569269A1 (de) | 1963-12-21 | 1971-01-14 | Pirelli | Antiklebmittel fuer Roh-Butylkautschuk und fuer dessen Mischungen |
| US3503911A (en) * | 1966-11-23 | 1970-03-31 | Neuman Goldemberg | Adhesive for polyethylene and process for its preparation and application |
| JPS57117534A (en) * | 1981-01-13 | 1982-07-22 | Sugawara Kogyo Kk | Crosslinking type pressure-sensitive adhesive |
| US5095068A (en) * | 1983-04-05 | 1992-03-10 | Ashland Oil, Inc. | Adhesive of butyl rubber, curing agent, c-black and tackifier |
| US5434221A (en) | 1990-08-23 | 1995-07-18 | Exxon Chemical Patents Inc. | Low molecular weight isoolefin polymer |
| US5262489A (en) * | 1990-08-23 | 1993-11-16 | White Donald A | Process for producing low molecular weight isoolefin polymers |
| JP2832565B2 (ja) | 1991-06-19 | 1998-12-09 | 関西ペイント株式会社 | 自動車塗膜保護用シート |
| JP2886446B2 (ja) | 1994-03-03 | 1999-04-26 | 関西ペイント株式会社 | 塗膜保護用シート |
| DE69520638T2 (de) | 1994-10-11 | 2001-08-02 | Kansai Paint Co., Ltd. | Schutzfolie für Anstrichfilm |
| US5810960A (en) | 1995-03-08 | 1998-09-22 | Nitto Denko Corporation | Paint film-protective sheet |
| JPH10176152A (ja) | 1996-10-14 | 1998-06-30 | Nitto Denko Corp | 塗膜保護用シート |
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- 1998-03-31 JP JP10547698A patent/JP4396999B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-03-29 US US09/280,676 patent/US6329049B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-29 CA CA002267130A patent/CA2267130C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-30 KR KR10-1999-0010941A patent/KR100404271B1/ko not_active Expired - Fee Related
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-
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- 2003-04-25 KR KR10-2003-0026372A patent/KR100404269B1/ko not_active Expired - Fee Related
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