JPH11289124A - 自由空間における光通信システムのための量子光学的増幅装置 - Google Patents
自由空間における光通信システムのための量子光学的増幅装置Info
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- JPH11289124A JPH11289124A JP10354187A JP35418798A JPH11289124A JP H11289124 A JPH11289124 A JP H11289124A JP 10354187 A JP10354187 A JP 10354187A JP 35418798 A JP35418798 A JP 35418798A JP H11289124 A JPH11289124 A JP H11289124A
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
- H01S3/2325—Multi-pass amplifiers, e.g. regenerative amplifiers
-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の光増幅装置は、体積および重量が大き
く、構成が複雑で大量の熱を発し、しかも増幅率が悪い
という問題点があった。 【解決手段】 そこで本発明による量子光学的増幅装置
は、自由空間における光通信システムに関する変調光の
量子光学的増幅装置であって、偏光角により選択的に反
射する膜(104),(106)と、これらにより互い
に境界設定される近接の複数の結晶(66),(6
8),および(70)とからなる。光線(4)は、四分
の一波長板(86),(88),(90),(92),
および(94)における結晶の端面領域で繰り返し反射
して、偏向角を90度だけ回転する。この光増幅装置に
よれば、簡単な構成のため、小型にして軽量かつ機械的
に頑健であって、しかも光を結晶内の励起領域中を繰り
返し反射・通過させることにより高い光増幅率が得られ
る。
く、構成が複雑で大量の熱を発し、しかも増幅率が悪い
という問題点があった。 【解決手段】 そこで本発明による量子光学的増幅装置
は、自由空間における光通信システムに関する変調光の
量子光学的増幅装置であって、偏光角により選択的に反
射する膜(104),(106)と、これらにより互い
に境界設定される近接の複数の結晶(66),(6
8),および(70)とからなる。光線(4)は、四分
の一波長板(86),(88),(90),(92),
および(94)における結晶の端面領域で繰り返し反射
して、偏向角を90度だけ回転する。この光増幅装置に
よれば、簡単な構成のため、小型にして軽量かつ機械的
に頑健であって、しかも光を結晶内の励起領域中を繰り
返し反射・通過させることにより高い光増幅率が得られ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、変調光を量子光学
的に増幅する装置に関し、とりわけ光学的な自由空間に
おける通信システムに関する。
的に増幅する装置に関し、とりわけ光学的な自由空間に
おける通信システムに関する。
【0002】
【発明の背景】近未来において、人工衛星間、ならびに
人口衛星および地上ステーション間の自由空間における
光通信システムは、既存のマイクロ波技術の重要な補完
要素となり、しかも人工衛星に搭載する重量を節減す
る。いわゆる光端末は、1つまたはいくつかの望遠鏡か
らなり、この望遠鏡は、相手方ステーションの方向にあ
る光学的レシーバの視野角の範囲領域を限定し、伝播信
号を指向性高く発信する。さらに、光端末は、いくつか
の移動可能な鏡を有し、これにより発信および受信方向
を調整する。光端末にとって、送信プロセスを構成する
相手方ステーションの光送信出力を直接に検出するだけ
でなく、受信した光とローカルな発信レーザの同一周波
数を有する光に、可干渉に重ね合わせることは重要な機
能である。というのも、検出すべき信号に対する高い感
度だけでなく、背景輻射による干渉の強度も重要だから
である。
人口衛星および地上ステーション間の自由空間における
光通信システムは、既存のマイクロ波技術の重要な補完
要素となり、しかも人工衛星に搭載する重量を節減す
る。いわゆる光端末は、1つまたはいくつかの望遠鏡か
らなり、この望遠鏡は、相手方ステーションの方向にあ
る光学的レシーバの視野角の範囲領域を限定し、伝播信
号を指向性高く発信する。さらに、光端末は、いくつか
の移動可能な鏡を有し、これにより発信および受信方向
を調整する。光端末にとって、送信プロセスを構成する
相手方ステーションの光送信出力を直接に検出するだけ
でなく、受信した光とローカルな発信レーザの同一周波
数を有する光に、可干渉に重ね合わせることは重要な機
能である。というのも、検出すべき信号に対する高い感
度だけでなく、背景輻射による干渉の強度も重要だから
である。
【0003】レーザダイオードは、ファイバ光通信で広
範囲に応用されたため、高度に開発が進んでいるが、さ
らに少なくとも、強度変調動作を行う簡単なシステムに
置き換わるものであることを示し、加えて空間および重
量の点で節減する。しかし、これまで行われてきたよう
に、単一の光周波数上でしか動作しないにもかかわら
ず、付属的に取り付けた大きな共鳴装置の複雑な構成に
よらなければ、まだ可干渉性の送信プロセスに適したも
のではない。その理由は、この送信された光周波数のス
ペクトル幅が依然としてあまりにも大きいためである。
ファイバ光学的な可干渉性送信システムによれば、通常
の商業利用できるレーザダイオードで動作するが、案内
される送信方向により、比較的大きな光出力が検出され
る。
範囲に応用されたため、高度に開発が進んでいるが、さ
らに少なくとも、強度変調動作を行う簡単なシステムに
置き換わるものであることを示し、加えて空間および重
量の点で節減する。しかし、これまで行われてきたよう
に、単一の光周波数上でしか動作しないにもかかわら
ず、付属的に取り付けた大きな共鳴装置の複雑な構成に
よらなければ、まだ可干渉性の送信プロセスに適したも
のではない。その理由は、この送信された光周波数のス
ペクトル幅が依然としてあまりにも大きいためである。
ファイバ光学的な可干渉性送信システムによれば、通常
の商業利用できるレーザダイオードで動作するが、案内
される送信方向により、比較的大きな光出力が検出され
る。
【0004】しかし、自由空間送信における干渉的に存
在する背景輻射、これと同様に、極めて弱い受信信号エ
ネルギによれば、未変調信号の光学的バンド幅が変調バ
ンド幅よりも相当に狭いことを要件とする。この要件
は、大きさが小さく重量が軽いレーザダイオードにより
励起される固体レーザを用いると、最も適合する要件で
ある。動作に必要なレーザシステムを、自由空間で光通
信するために端末に統合しようとするこれまでの試みに
ついて、カールソンらの他、マーシャレックらによって
開示されてきた(R.T.カールソンらによる「モノリ
シックなガラスブロックのレーザ通信端末:着想および
試験結果に関するハードウェア的な立証」SPIE23
81号、自由空間レーザ通信技術VII、2月7−8,1
995年、カリフォルニア州サンノゼ、90頁から10
2頁。R.G.マーシャレックらによる「低地球軌道の
人工衛星配列のための軽量・高速データ速度レーザ通信
端末」SPIE2381号、自由空間レーザ通信技術VI
I、2月7−8,1995年、カリフォルニア州サンノ
ゼ、72頁から82頁。)。
在する背景輻射、これと同様に、極めて弱い受信信号エ
ネルギによれば、未変調信号の光学的バンド幅が変調バ
ンド幅よりも相当に狭いことを要件とする。この要件
は、大きさが小さく重量が軽いレーザダイオードにより
励起される固体レーザを用いると、最も適合する要件で
ある。動作に必要なレーザシステムを、自由空間で光通
信するために端末に統合しようとするこれまでの試みに
ついて、カールソンらの他、マーシャレックらによって
開示されてきた(R.T.カールソンらによる「モノリ
シックなガラスブロックのレーザ通信端末:着想および
試験結果に関するハードウェア的な立証」SPIE23
81号、自由空間レーザ通信技術VII、2月7−8,1
995年、カリフォルニア州サンノゼ、90頁から10
2頁。R.G.マーシャレックらによる「低地球軌道の
人工衛星配列のための軽量・高速データ速度レーザ通信
端末」SPIE2381号、自由空間レーザ通信技術VI
I、2月7−8,1995年、カリフォルニア州サンノ
ゼ、72頁から82頁。)。
【0005】両方の著者グループは、端末の光学的装置
に機械的に接続し、コリメートされた光線により光学的
装置内に光放射を案内するレーザシステムについて記述
している。しかし、先行技術においてはレーザダイオー
ドが用いられている。
に機械的に接続し、コリメートされた光線により光学的
装置内に光放射を案内するレーザシステムについて記述
している。しかし、先行技術においてはレーザダイオー
ドが用いられている。
【0006】レーザダイオードにより励起される固体レ
ーザは、嵩が大きく、効率が低く、匹敵するレーザダイ
オードよりも大量の不要な熱を発生する。光学システム
の近くで発生する熱量が増大すると、光学装置の安定し
た動作に対する障害となることが立証されている。
ーザは、嵩が大きく、効率が低く、匹敵するレーザダイ
オードよりも大量の不要な熱を発生する。光学システム
の近くで発生する熱量が増大すると、光学装置の安定し
た動作に対する障害となることが立証されている。
【0007】レーザダイオードにより励起される固体レ
ーザの変調能力が不充分ならば、さらなる問題を提起す
ることになる。光増幅媒体は、レーザダイオードと比べ
ると、励起エネルギの供給後も比較的長い間励起状態を
維持する。さらに、このようなレーザの共鳴装置は、レ
ーザダイオードよりも相当に大きい。その結果、例え
ば、約100kHzのカットオフ周波数が増幅変調のた
めには典型的なものとなる。低いカットオフ周波数を有
する電気光学的なモジュレータを使って、高い光出力を
処理しなければならないので、これに要求される外部変
調は実現するのは非常に困難である。
ーザの変調能力が不充分ならば、さらなる問題を提起す
ることになる。光増幅媒体は、レーザダイオードと比べ
ると、励起エネルギの供給後も比較的長い間励起状態を
維持する。さらに、このようなレーザの共鳴装置は、レ
ーザダイオードよりも相当に大きい。その結果、例え
ば、約100kHzのカットオフ周波数が増幅変調のた
めには典型的なものとなる。低いカットオフ周波数を有
する電気光学的なモジュレータを使って、高い光出力を
処理しなければならないので、これに要求される外部変
調は実現するのは非常に困難である。
【0008】レーザ光の外部変調は、高いカットオフ周
波数で、光が導波路内に案内されるモジュレータ内で実
施される。これにより、変調電圧を供給する電極間の相
互微小距離を実現し、よって低い変調電圧を許容する。
光導波路の狭い断面に起因する光学的強度の増大に伴
い、この方法では低い光出力しか得られず、変調された
光信号はさらに増幅する必要がある。このようにするた
めには、例えば、エルビウムがドープされたファイバ増
幅装置を用いて、例えば、変調された光信号をさらに増
幅する手段により、ファイバで案内された光通信で自ら
を立証したプロセスおよび装置を用いることが必要であ
る(T.アラキ、M.ヤジマ、S.ナカモリ、Y.ヒサ
ダによる「中間軌道の高速データ光通信」SPIE23
81号、自由空間レーザ通信技術VII、2月7−8,1
995年、カリフォルニア州サンノゼ、264頁から2
72頁。)。
波数で、光が導波路内に案内されるモジュレータ内で実
施される。これにより、変調電圧を供給する電極間の相
互微小距離を実現し、よって低い変調電圧を許容する。
光導波路の狭い断面に起因する光学的強度の増大に伴
い、この方法では低い光出力しか得られず、変調された
光信号はさらに増幅する必要がある。このようにするた
めには、例えば、エルビウムがドープされたファイバ増
幅装置を用いて、例えば、変調された光信号をさらに増
幅する手段により、ファイバで案内された光通信で自ら
を立証したプロセスおよび装置を用いることが必要であ
る(T.アラキ、M.ヤジマ、S.ナカモリ、Y.ヒサ
ダによる「中間軌道の高速データ光通信」SPIE23
81号、自由空間レーザ通信技術VII、2月7−8,1
995年、カリフォルニア州サンノゼ、264頁から2
72頁。)。
【0009】レーザダイオード励起の固体レーザの代わ
りに、とりわけさらに光を増幅するために、適当な搬送
波増幅装置も利用することができる。スペクトル幅が狭
いために自由空間における光通信にとって極めて有用
な、とりわけレーザダイオード励起のネオジウムYAG
固体レーザに関して、同一技術のレーザ動作装置が利用
できる。増幅すべき光は増幅結晶に案内され、そこで光
線のフォトンは、限定された確率で、物質特有の性質に
依存して長時間に亙って比較的に安定した、光学的に励
起状態にある原子に当たる。この比較的安定した状態
は、原子の励起状態とより低いレーザ準位との間の差異
と同じエネルギを有するフォトンによって妨害され、こ
れにより関連する原子は、同一の波長(つまり同じエネ
ルギ)および位相を有するフォトンを追加的に放出す
る。
りに、とりわけさらに光を増幅するために、適当な搬送
波増幅装置も利用することができる。スペクトル幅が狭
いために自由空間における光通信にとって極めて有用
な、とりわけレーザダイオード励起のネオジウムYAG
固体レーザに関して、同一技術のレーザ動作装置が利用
できる。増幅すべき光は増幅結晶に案内され、そこで光
線のフォトンは、限定された確率で、物質特有の性質に
依存して長時間に亙って比較的に安定した、光学的に励
起状態にある原子に当たる。この比較的安定した状態
は、原子の励起状態とより低いレーザ準位との間の差異
と同じエネルギを有するフォトンによって妨害され、こ
れにより関連する原子は、同一の波長(つまり同じエネ
ルギ)および位相を有するフォトンを追加的に放出す
る。
【0010】原子の励起状態はいわゆる励起光により誘
導され、励起光は、増幅される光よりも一般に短波長を
有し、そのフォトンが有するエネルギに対応して原子を
励起状態に転移させる。このとき原子は、比較的に安定
した状態から、非励起状態のより低いレーザ準位と、増
幅される光のフォトンエネルギに相当するエネルギ差を
有する状態に自発的に変化する。光が増幅媒体中を伝播
する際に、増幅すべき光が数多くの励起原子に出会う
と、光の増幅率が高くなる。したがって、励起原子の体
積密度を相当に高くすることが必要である。しかし、単
位時間当たりの励起原子の特定領域は、その励起状態に
ある平均寿命が限られているため、より低いレーザ準位
に自発的に移行し、この過程で生じるフォトンは、光を
増幅する際に消失していくものなので、増幅すべき光が
存在しなくても、励起原子の体積密度状態を高く維持す
るためには、高い強度を有する光を継続的に媒体に注入
する必要がある。励起光の励起強度が低ければ、このよ
うな装置の増幅率は高くなるが、実効性は極めて小さ
い。一方、増幅すべき光の強度がすでに高い場合、すな
わち、大部分のフォトンが増幅媒体を通過し、励起原子
の密度が小さくなる場合、追加的なフォトンの励起発光
の割合が高くなるので、増幅率は低くなる。
導され、励起光は、増幅される光よりも一般に短波長を
有し、そのフォトンが有するエネルギに対応して原子を
励起状態に転移させる。このとき原子は、比較的に安定
した状態から、非励起状態のより低いレーザ準位と、増
幅される光のフォトンエネルギに相当するエネルギ差を
有する状態に自発的に変化する。光が増幅媒体中を伝播
する際に、増幅すべき光が数多くの励起原子に出会う
と、光の増幅率が高くなる。したがって、励起原子の体
積密度を相当に高くすることが必要である。しかし、単
位時間当たりの励起原子の特定領域は、その励起状態に
ある平均寿命が限られているため、より低いレーザ準位
に自発的に移行し、この過程で生じるフォトンは、光を
増幅する際に消失していくものなので、増幅すべき光が
存在しなくても、励起原子の体積密度状態を高く維持す
るためには、高い強度を有する光を継続的に媒体に注入
する必要がある。励起光の励起強度が低ければ、このよ
うな装置の増幅率は高くなるが、実効性は極めて小さ
い。一方、増幅すべき光の強度がすでに高い場合、すな
わち、大部分のフォトンが増幅媒体を通過し、励起原子
の密度が小さくなる場合、追加的なフォトンの励起発光
の割合が高くなるので、増幅率は低くなる。
【0011】励起光により励起された各原子は、短い平
均時間後、増幅すべき光のフォトンにより誘導されてよ
り低いレーザ準位に転移する。励起原子は、比較的に長
い平均寿命を有するので、高い強度における実効性およ
びより低い増幅率が高くなり、その結果、より低いレー
ザ準位への自発的で役に立たない転移が生じる確率は比
較的に小さい。
均時間後、増幅すべき光のフォトンにより誘導されてよ
り低いレーザ準位に転移する。励起原子は、比較的に長
い平均寿命を有するので、高い強度における実効性およ
びより低い増幅率が高くなり、その結果、より低いレー
ザ準位への自発的で役に立たない転移が生じる確率は比
較的に小さい。
【0012】より低いレーザ準位への誘導転移が同時に
起こる確率が高い場合、高い増幅率を得るためには、増
幅媒体中の励起原子密度が低いにもかかわらず、励起原
子がより低いレーザ準位に誘導転移する際に生じる追加
的なフォトンの平均数を大きくする必要がある。これは
主に、増幅すべき光を、励起光を照射した増幅媒体の領
域中の経路をできるだけ何度も通過するように導波する
ことにより実現される。励起原子の体積密度が一定なら
ば、増幅すべき光の各フォトンに対して追加的に誘導発
光するフォトンの発生確率は、増幅媒体中の通過する回
数に乗じて得られる。
起こる確率が高い場合、高い増幅率を得るためには、増
幅媒体中の励起原子密度が低いにもかかわらず、励起原
子がより低いレーザ準位に誘導転移する際に生じる追加
的なフォトンの平均数を大きくする必要がある。これは
主に、増幅すべき光を、励起光を照射した増幅媒体の領
域中の経路をできるだけ何度も通過するように導波する
ことにより実現される。励起原子の体積密度が一定なら
ば、増幅すべき光の各フォトンに対して追加的に誘導発
光するフォトンの発生確率は、増幅媒体中の通過する回
数に乗じて得られる。
【0013】したがって、励起エネルギが小さくとも、
比較的に高い増幅率を得ることが可能となる。しかし、
公知技術による装置によれば、相当の空間および質量を
必要とするいくつかの要素から構成されていたため、空
間伝播通信に特有の要件をあまり満足するものではなか
った。またいくつかの改良品では、機械的な安定性が不
充分であるという問題を残した(T.J.ケイン、E.
A.P.チェン、B.ニューエンによる「ダイオード励
起のネオジウム:52dBゲインYAG増幅装置」SP
IE2381号、自由空間レーザ通信技術VII、2月7
−8,1995年、カリフォルニア州サンノゼ、273
頁から284頁。T.E.オルソン、T.J.ケイン、
W.M.グロスマン、H.プレズマンによる「多数ダイ
オード励起ネオジウム:1.96μmおよび1.32μmYAG
光学装置」光学レター6巻5号1994年5月605頁
から608頁)。
比較的に高い増幅率を得ることが可能となる。しかし、
公知技術による装置によれば、相当の空間および質量を
必要とするいくつかの要素から構成されていたため、空
間伝播通信に特有の要件をあまり満足するものではなか
った。またいくつかの改良品では、機械的な安定性が不
充分であるという問題を残した(T.J.ケイン、E.
A.P.チェン、B.ニューエンによる「ダイオード励
起のネオジウム:52dBゲインYAG増幅装置」SP
IE2381号、自由空間レーザ通信技術VII、2月7
−8,1995年、カリフォルニア州サンノゼ、273
頁から284頁。T.E.オルソン、T.J.ケイン、
W.M.グロスマン、H.プレズマンによる「多数ダイ
オード励起ネオジウム:1.96μmおよび1.32μmYAG
光学装置」光学レター6巻5号1994年5月605頁
から608頁)。
【0014】空間通信技術の応用装置のさらなる問題
は、励起光を形成するのに用いられるダイオードレーザ
が限られた寿命を有することにある。したがって、レー
ザダイオード励起による固体レーザ装置およびレーザ励
起の光学的増幅装置において、故障したレーザダイオー
ドを代替できるようにするため、いくつかのレーザダイ
オードを保有しておく必要がある。
は、励起光を形成するのに用いられるダイオードレーザ
が限られた寿命を有することにある。したがって、レー
ザダイオード励起による固体レーザ装置およびレーザ励
起の光学的増幅装置において、故障したレーザダイオー
ドを代替できるようにするため、いくつかのレーザダイ
オードを保有しておく必要がある。
【0015】しかし、レーザダイオードを余分に保有す
ると、個々のレーザダイオードが発する光を切り換える
光学的装置が必要となる。
ると、個々のレーザダイオードが発する光を切り換える
光学的装置が必要となる。
【0016】
【発明の概要】したがって、以下に詳述する本発明の目
的は、先行技術が有する問題点を回避しつつ、複数経路
を有する固体増幅装置を採用することにより、高い増幅
率および実効性をもって量子光学的に光を増幅すること
にある。
的は、先行技術が有する問題点を回避しつつ、複数経路
を有する固体増幅装置を採用することにより、高い増幅
率および実効性をもって量子光学的に光を増幅すること
にある。
【0017】低い光エネルギで動作する、レーザダイオ
ードにより励起される固体レーザからの光は、光学的な
分離装置を通過すると、一般に、広域帯情報信号で位相
変調するために導波モジュレータに入射する。変調信号
は、その後さらに光学的に増幅されるが、レーザダイオ
ードにより励起される増幅装置、またはドープされた光
学的ファイバにより実現される。本発明のダイオードレ
ーザにより励起される増幅装置の基本部品は、適当な形
状を有するレーザ媒体(以下、結晶という。)からな
り、関連する2つのビームに沿ったレーザダイオードか
らの励起光で励起される。増幅すべき光は、このように
して結晶に入射すると、励起された結晶から出射するま
でに、いくつかの反射膜での反射により、励起光による
励起領域に沿って、結晶内を何度も伝播する。反射膜
は、結晶の側面に直接に固定するか、あるいは結晶面の
ごく近傍に配置した各四分の一波長板上の結晶面と反対
側に配置する。
ードにより励起される固体レーザからの光は、光学的な
分離装置を通過すると、一般に、広域帯情報信号で位相
変調するために導波モジュレータに入射する。変調信号
は、その後さらに光学的に増幅されるが、レーザダイオ
ードにより励起される増幅装置、またはドープされた光
学的ファイバにより実現される。本発明のダイオードレ
ーザにより励起される増幅装置の基本部品は、適当な形
状を有するレーザ媒体(以下、結晶という。)からな
り、関連する2つのビームに沿ったレーザダイオードか
らの励起光で励起される。増幅すべき光は、このように
して結晶に入射すると、励起された結晶から出射するま
でに、いくつかの反射膜での反射により、励起光による
励起領域に沿って、結晶内を何度も伝播する。反射膜
は、結晶の側面に直接に固定するか、あるいは結晶面の
ごく近傍に配置した各四分の一波長板上の結晶面と反対
側に配置する。
【0018】この発想によるさらなる改善点は、偏光角
により選択的に反射する膜により分離される2つの結晶
からなる増幅媒体を有することにあって、増幅すべき光
は、励起光により励起された結晶領域を8回通過し、そ
の他の結晶を2回通過する。この過程では、1つの鏡と
ともに、2つの、結晶面上に鏡と一体となった四分の一
波長板が利用される。
により選択的に反射する膜により分離される2つの結晶
からなる増幅媒体を有することにあって、増幅すべき光
は、励起光により励起された結晶領域を8回通過し、そ
の他の結晶を2回通過する。この過程では、1つの鏡と
ともに、2つの、結晶面上に鏡と一体となった四分の一
波長板が利用される。
【0019】両方の増幅装置には、レーザダイオードに
よる励起光が供給される。励起光を、余分に供給された
いくつかのレーザダイオードから多重モードの光ファイ
バに案内することができ、その出力は、ビーム形成光学
装置を通じて増幅装置の結晶内に案内することができ
る。
よる励起光が供給される。励起光を、余分に供給された
いくつかのレーザダイオードから多重モードの光ファイ
バに案内することができ、その出力は、ビーム形成光学
装置を通じて増幅装置の結晶内に案内することができ
る。
【0020】さらに詳述する改良は、2つの関連して設
けた四分の一波長板を有する追加的な結晶、および関連
する偏光角により選択的に反射する膜を、さらに詳述す
る改良点による量子光学的な増幅装置の結晶間に挿入
し、ここで励起光は四分の一波長板、および波長により
選択的に通過させる鏡を通過する。このとき、増幅すべ
き光が通過する光学的励起領域の通過回数は、各々2回
づつ増加する。
けた四分の一波長板を有する追加的な結晶、および関連
する偏光角により選択的に反射する膜を、さらに詳述す
る改良点による量子光学的な増幅装置の結晶間に挿入
し、ここで励起光は四分の一波長板、および波長により
選択的に通過させる鏡を通過する。このとき、増幅すべ
き光が通過する光学的励起領域の通過回数は、各々2回
づつ増加する。
【0021】この装置によれば、増幅すべき光が光学的
励起領域を通過する回数を多くすることができるので、
高い増幅率が得られるという利点を有する。加えて、量
子光学的な増幅装置によるこうした構造は、とりわけ機
械的に頑健であり、質量および空間の増加分は比較的に
小さい。量子光学的な増幅装置の4準位システムに関す
るさらなる利点は、1つの光学的な励起領域において光
励起エネルギが損失または低減しても、増幅すべき光の
媒体は光を吸収しないということにある。したがって、
1つの光励起領域に関する異なる励起光源を検出するた
めの、特有の機械的に動作する光学的なスイッチング装
置を利用しなくて済むので、光励起領域を形成するため
に、余分に設けた励起光源を異なる位置に配置すること
ができる。
励起領域を通過する回数を多くすることができるので、
高い増幅率が得られるという利点を有する。加えて、量
子光学的な増幅装置によるこうした構造は、とりわけ機
械的に頑健であり、質量および空間の増加分は比較的に
小さい。量子光学的な増幅装置の4準位システムに関す
るさらなる利点は、1つの光学的な励起領域において光
励起エネルギが損失または低減しても、増幅すべき光の
媒体は光を吸収しないということにある。したがって、
1つの光励起領域に関する異なる励起光源を検出するた
めの、特有の機械的に動作する光学的なスイッチング装
置を利用しなくて済むので、光励起領域を形成するため
に、余分に設けた励起光源を異なる位置に配置すること
ができる。
【0022】本発明の細部、特性、および利点は、クレ
ームおよびクレームを組み合わせることにより得られる
特性のみならず、好適な実施例に関する以下の説明から
も享受できる。
ームおよびクレームを組み合わせることにより得られる
特性のみならず、好適な実施例に関する以下の説明から
も享受できる。
【0023】
【発明の実施の形態】図1は、単一結晶2の形態で実施
された量子光学的な増幅装置を示す。光線4は偏光ビー
ムスプリッタ6に入射する。そして入射光がファラデ回
転子8を通過すると、光線4の偏向角が45度回転する
ようにしてある。符号12で示すように、図面平面に平
行な偏光角を有する光線4は、レンズ10を通過して、
結晶2の偏光角により選択的に反射する膜14における
ポイント16に導かれる。このような状況に調整するた
めには、結晶2の膜14および偏光ビームスプリッタ6
に関し、偏光ビームスプリッタ6が図面平面に対して偏
向角を45度だけ回転するように設定する必要がある。
光線4は、ポイント16を通過すると、ライン26に沿
って四分の一波長板18の方向に、媒体であるより光屈
折率の大きい結晶2を通過して伝播する。四分の一波長
板18は、結晶2の適当な表面に直接に固定される。光
線4が反対方向にできるだけ完全に反射するように、結
晶面上に四分の一波長板18は被膜処理される。他方、
注入光線24は、できるだけ損失を少なくして四分の一
波長板18を通過する。注入光線24は、結晶2の一部
領域を光学的に励起することにより、光線4とできるだ
け重なり合う光線4を光学的に増幅する。
された量子光学的な増幅装置を示す。光線4は偏光ビー
ムスプリッタ6に入射する。そして入射光がファラデ回
転子8を通過すると、光線4の偏向角が45度回転する
ようにしてある。符号12で示すように、図面平面に平
行な偏光角を有する光線4は、レンズ10を通過して、
結晶2の偏光角により選択的に反射する膜14における
ポイント16に導かれる。このような状況に調整するた
めには、結晶2の膜14および偏光ビームスプリッタ6
に関し、偏光ビームスプリッタ6が図面平面に対して偏
向角を45度だけ回転するように設定する必要がある。
光線4は、ポイント16を通過すると、ライン26に沿
って四分の一波長板18の方向に、媒体であるより光屈
折率の大きい結晶2を通過して伝播する。四分の一波長
板18は、結晶2の適当な表面に直接に固定される。光
線4が反対方向にできるだけ完全に反射するように、結
晶面上に四分の一波長板18は被膜処理される。他方、
注入光線24は、できるだけ損失を少なくして四分の一
波長板18を通過する。注入光線24は、結晶2の一部
領域を光学的に励起することにより、光線4とできるだ
け重なり合う光線4を光学的に増幅する。
【0024】四分の一波長板を経由する2つの経路によ
り、結晶2内の戻り光線4の偏光角は、結晶4の表面1
4のポイント16で四分の一波長板18の方へ屈折する
光線4の偏光角と直交関係にある。光線4は、結晶2内
のライン26に沿って、表面14に向かって伝播し、偏
光角により選択的に反射し、その結果、鏡20の方向に
向かいポイント16で反射する。鏡20は、鏡に向かっ
て伝播してきた光線4のできるだけ多くの部分を、ライ
ン28に沿って反対方向に反射する。そして結晶2をラ
イン28に沿って光学的に励起するために、さらに励起
光源22のできるだけ多くの部分が、波長選択的なもの
として構成される鏡20を通過して結晶内に導かれる。
あるいは、鏡20を結晶面上に直接に被膜してもよい。
鏡20での反射の後、光線4は、偏光角がそのままで、
ライン28に沿ってポイント16の方向に伝播し、表面
14上で2回目に反射し、ライン26に沿って四分の一
波長板18の方向に伝播する。このときの光線の偏光角
は、ポイント16で結晶内に屈折する光線4の偏向角と
は直交する。光線4は、再度、結晶2上の四分の一波長
板18および通過経路上で反射すると、再びポイント1
6の方向に伝播し、偏光角は最初に結晶に入射した光線
4の偏向角と比して平行となる。こういう理由で、光線
は、ポイント16において反射せず、レンズ10の方向
に屈折する。ファラデ回転子を通過する光線は、光線4
の反射光とともに、入射光と比して直交方向に偏光さ
れ、偏光ビームスプリッタ6でライン30の方向に伝播
する。光線4は、結晶2の光学的に励起された領域を合
計6回通過する。光線4は、ライン26に沿って関連す
る光学的励起領域を合計4回通過する。このとき各伝播
方向、およびこれに関連して互いに直交する2つの偏向
角が、利用される。光放射は、ライン28に沿って関連
する光学的励起領域を、同一の直線偏光を有する2つの
反対の伝播方向に通過する。
り、結晶2内の戻り光線4の偏光角は、結晶4の表面1
4のポイント16で四分の一波長板18の方へ屈折する
光線4の偏光角と直交関係にある。光線4は、結晶2内
のライン26に沿って、表面14に向かって伝播し、偏
光角により選択的に反射し、その結果、鏡20の方向に
向かいポイント16で反射する。鏡20は、鏡に向かっ
て伝播してきた光線4のできるだけ多くの部分を、ライ
ン28に沿って反対方向に反射する。そして結晶2をラ
イン28に沿って光学的に励起するために、さらに励起
光源22のできるだけ多くの部分が、波長選択的なもの
として構成される鏡20を通過して結晶内に導かれる。
あるいは、鏡20を結晶面上に直接に被膜してもよい。
鏡20での反射の後、光線4は、偏光角がそのままで、
ライン28に沿ってポイント16の方向に伝播し、表面
14上で2回目に反射し、ライン26に沿って四分の一
波長板18の方向に伝播する。このときの光線の偏光角
は、ポイント16で結晶内に屈折する光線4の偏向角と
は直交する。光線4は、再度、結晶2上の四分の一波長
板18および通過経路上で反射すると、再びポイント1
6の方向に伝播し、偏光角は最初に結晶に入射した光線
4の偏向角と比して平行となる。こういう理由で、光線
は、ポイント16において反射せず、レンズ10の方向
に屈折する。ファラデ回転子を通過する光線は、光線4
の反射光とともに、入射光と比して直交方向に偏光さ
れ、偏光ビームスプリッタ6でライン30の方向に伝播
する。光線4は、結晶2の光学的に励起された領域を合
計6回通過する。光線4は、ライン26に沿って関連す
る光学的励起領域を合計4回通過する。このとき各伝播
方向、およびこれに関連して互いに直交する2つの偏向
角が、利用される。光放射は、ライン28に沿って関連
する光学的励起領域を、同一の直線偏光を有する2つの
反対の伝播方向に通過する。
【0025】光線4は、図2の装置内の光学的励起領域
を通過する。図1の装置のように、光線4はまず、偏光
ビームスプリッタ6、ファラデ回転子8、そしてレンズ
10を通過して、符号12で示す偏光角で第1の結晶3
2に入射する。光線は、ライン38に沿って伝播する
と、偏光角により選択的に反射する膜36を通過して第
2の結晶34に達し、ライン40に沿って四分の一波長
板42の方向に伝播する。この四分の一波長板42は、
図1の四分の一波長板18と設計上同等のものである。
励起光源44の実施例は同様に、図1の励起光源24の
実施例と同等のものである。ライン38および40に沿
って第1の四分の一波長板42の方向に向かって伝播し
てきた光線4は、この四分の一波長板42で反射する
と、偏向角が90度回転し、ライン40に沿って反対方
向に伝播し、偏光角により選択的に反射する膜36で反
射して、第2の四分の一波長板48の方向に伝播する。
この四分の一波長板48の実施例は、図1の四分の一波
長板18と同等のものである。励起光源50は、上述の
励起光源すべての実施例と同等のものである。光線4
は、四分の一波長板48で反射した後、偏向角を再び9
0度回転して、ライン46に沿って四分の一波長板48
から、偏光角により選択的に反射する膜36に向かって
伝播し、そして第1の結晶32を通過してライン52に
沿って鏡54の方向に伝播する。この実施例における鏡
54は、図1の鏡20と同等のものであり、励起光源5
6は、これまでの実施例のものと同等のものである。光
線4は、鏡54で反射した後、膜36で反射することな
く、再び反対方向に向かって結晶32および34を通過
する。さらに光線4は、四分の一波長板48で反射する
と、偏向角が90度回転するので、膜36で反射し、ラ
イン46および40に沿って四分の一波長板42の方向
に向かって伝播する。光線4は、次に四分の一波長板4
2で反射した後は、偏向角が再び90度回転しているの
で、膜36で反射することなく、ライン40および38
に沿って結晶34および32を通過する。結晶32から
出射する光線4は、図1で説明した手法で分離される。
この実施例では、光線4は、光学的励起領域を合計10
回通過する。2つの伝播方向および偏向角を有する光線
は、結晶34内のライン40に沿って4回通過し、同様
にライン46に沿っても4回通過する。2つの伝播方向
および符号12で示す偏向角を有する光線は、結晶32
内のライン40に沿って2回通過する。
を通過する。図1の装置のように、光線4はまず、偏光
ビームスプリッタ6、ファラデ回転子8、そしてレンズ
10を通過して、符号12で示す偏光角で第1の結晶3
2に入射する。光線は、ライン38に沿って伝播する
と、偏光角により選択的に反射する膜36を通過して第
2の結晶34に達し、ライン40に沿って四分の一波長
板42の方向に伝播する。この四分の一波長板42は、
図1の四分の一波長板18と設計上同等のものである。
励起光源44の実施例は同様に、図1の励起光源24の
実施例と同等のものである。ライン38および40に沿
って第1の四分の一波長板42の方向に向かって伝播し
てきた光線4は、この四分の一波長板42で反射する
と、偏向角が90度回転し、ライン40に沿って反対方
向に伝播し、偏光角により選択的に反射する膜36で反
射して、第2の四分の一波長板48の方向に伝播する。
この四分の一波長板48の実施例は、図1の四分の一波
長板18と同等のものである。励起光源50は、上述の
励起光源すべての実施例と同等のものである。光線4
は、四分の一波長板48で反射した後、偏向角を再び9
0度回転して、ライン46に沿って四分の一波長板48
から、偏光角により選択的に反射する膜36に向かって
伝播し、そして第1の結晶32を通過してライン52に
沿って鏡54の方向に伝播する。この実施例における鏡
54は、図1の鏡20と同等のものであり、励起光源5
6は、これまでの実施例のものと同等のものである。光
線4は、鏡54で反射した後、膜36で反射することな
く、再び反対方向に向かって結晶32および34を通過
する。さらに光線4は、四分の一波長板48で反射する
と、偏向角が90度回転するので、膜36で反射し、ラ
イン46および40に沿って四分の一波長板42の方向
に向かって伝播する。光線4は、次に四分の一波長板4
2で反射した後は、偏向角が再び90度回転しているの
で、膜36で反射することなく、ライン40および38
に沿って結晶34および32を通過する。結晶32から
出射する光線4は、図1で説明した手法で分離される。
この実施例では、光線4は、光学的励起領域を合計10
回通過する。2つの伝播方向および偏向角を有する光線
は、結晶34内のライン40に沿って4回通過し、同様
にライン46に沿っても4回通過する。2つの伝播方向
および符号12で示す偏向角を有する光線は、結晶32
内のライン40に沿って2回通過する。
【0026】図2の鏡54と第3の四分の一波長板64
で置き換えると、この装置に入射する光線と出射ビーム
とを分離するための光学的分離装置が必要なくなり、装
置の質量および体積を相当に低減することができる。
で置き換えると、この装置に入射する光線と出射ビーム
とを分離するための光学的分離装置が必要なくなり、装
置の質量および体積を相当に低減することができる。
【0027】図3で示す実施例では、光線4は、偏光ビ
ームスプリッタを通過して符号58で示す偏向角で放射
し、レンズ10を通過し、偏光角により選択的に反射す
る膜36で反射することなく、ライン38および40に
沿って結晶32および34を通過する。光線は、四分の
一波長板42で反射すると、偏向角が90度回転して、
ライン40に沿って反対方向に伝播するので、偏光角に
より選択的に反射する膜36で反射して、四分の一波長
板48の方向に伝播する。光線は、ライン46に沿って
伝播して四分の一波長板48で反射すると、偏向角が9
0度回転してライン46に沿って反対方向に伝播する。
光線は、膜36で反射することなく結晶32に入射し、
ライン52に沿って四分の一波長板64の方向に伝播す
る。この四分の一波長板64は、四分の一波長板42お
よび48の実施例と同等のものである。光線4は、四分
の一波長板64で反射すると、偏向角が90度回転し
て、ライン52に沿って反対方向に伝播するので、偏光
角により選択的に反射する膜36で反射して、ライン3
8の方向に伝播して、結晶32から、レンズ10を通過
して、偏光ビームスプリッタによりライン30の方向に
出射する。結晶32から出射した光線4は、符号60で
示す偏向角を有する。この実施例では、光線4は、結晶
32および34の光学的励起領域を6回通過する。ライ
ン40、46、および50に沿って四分の一波長板4
2、48、および64に入射する側に配置される光学的
励起領域は、互いに直交する各々の偏向角を有する伝播
方向に光を通過させる。
ームスプリッタを通過して符号58で示す偏向角で放射
し、レンズ10を通過し、偏光角により選択的に反射す
る膜36で反射することなく、ライン38および40に
沿って結晶32および34を通過する。光線は、四分の
一波長板42で反射すると、偏向角が90度回転して、
ライン40に沿って反対方向に伝播するので、偏光角に
より選択的に反射する膜36で反射して、四分の一波長
板48の方向に伝播する。光線は、ライン46に沿って
伝播して四分の一波長板48で反射すると、偏向角が9
0度回転してライン46に沿って反対方向に伝播する。
光線は、膜36で反射することなく結晶32に入射し、
ライン52に沿って四分の一波長板64の方向に伝播す
る。この四分の一波長板64は、四分の一波長板42お
よび48の実施例と同等のものである。光線4は、四分
の一波長板64で反射すると、偏向角が90度回転し
て、ライン52に沿って反対方向に伝播するので、偏光
角により選択的に反射する膜36で反射して、ライン3
8の方向に伝播して、結晶32から、レンズ10を通過
して、偏光ビームスプリッタによりライン30の方向に
出射する。結晶32から出射した光線4は、符号60で
示す偏向角を有する。この実施例では、光線4は、結晶
32および34の光学的励起領域を6回通過する。ライ
ン40、46、および50に沿って四分の一波長板4
2、48、および64に入射する側に配置される光学的
励起領域は、互いに直交する各々の偏向角を有する伝播
方向に光を通過させる。
【0028】図4で示す装置によると、光線4が光学的
励起領域を通過する回数をもっと増やすことができる。
光線4は、偏光ビームスプリッタ6、ファラデ回転子
8、およびレンズ10を通過すると、符号12で示す偏
向角を有し、まずライン72、74、および76に沿っ
て結晶66、68、および70を通過し、第1および第
2の偏光角により選択的に反射する膜102および10
4で反射することはない。光線4は、四分の一波長板8
6で反射すると、偏向角が90度回転して、ライン76
に沿って反対方向に伝播し、偏光角により選択的に反射
する膜104でライン78の方向に反射する。さらに光
線4は、四分の一波長板88で反射すると、再び偏向角
が90度回転して、ライン78および80に沿って反対
方向に伝播し、結晶70から68に入射する際には反射
しない。光線4は、四分の一波長板90で反射すると、
偏向角が90度回転して、ライン80に沿って反対方向
に伝播し、偏光角により選択的に反射する膜104で反
射して、ライン74で示す経路上に伝播する。そして光
線4は、偏光角により選択的に反射する膜106でライ
ン82の方向に反射し、四分の一波長板94で反射する
と、再び偏向角が90度回転して、反対方向に伝播す
る。光線4は、ライン82および84に沿って鏡92の
方向に伝播し、この鏡で偏向角をそのままにして反対方
向に伝播する。光線4が再度、偏光角により選択的に反
射する膜106で反射せずに、通過すると、再び四分の
一波長板94で反射して、偏向角が90度回転し、ライ
ン82に沿って偏光角により選択的に反射する膜106
の方向に伝播して反射し、ライン74に沿って伝播し
て、別の偏光角により選択的に反射する膜104で反射
することにより、ライン80に沿って四分の一波長板9
0の方向に伝播する。このとき光線4の偏向角が90度
回転しているので、光線4は、偏光角により選択的に反
射する膜104では反射することなく、ライン80およ
び78に沿って通過する。光線4は、四分の一波長板8
8で反射すると、ライン78に沿って偏光角により選択
的に反射する膜104の方向に伝播し、ライン76に沿
って四分の一波長板86の方向に反射する。光線4は、
四分の一波長板86で反射すると、偏向角が90度回転
する。したがって光線4は、反射することなく、偏光角
により選択的に反射する膜104および106を通過
し、ライン76、74、および72に沿って通過し、レ
ンズ10を通過した後、ファラデ回転子8および偏光ビ
ームスプリッタ6により分割される。この実施例では、
光線4は、光学的励起領域を合計18回通過する。この
通過回数は、光線4が四分の一波長板86、88、9
0、および94の入射側に配置された光学的励起領域を
各々4回づつ通過し、鏡92の入射側に配置された光学
的励起領域を2回通過したことを合算した回数である。
励起領域を通過する回数をもっと増やすことができる。
光線4は、偏光ビームスプリッタ6、ファラデ回転子
8、およびレンズ10を通過すると、符号12で示す偏
向角を有し、まずライン72、74、および76に沿っ
て結晶66、68、および70を通過し、第1および第
2の偏光角により選択的に反射する膜102および10
4で反射することはない。光線4は、四分の一波長板8
6で反射すると、偏向角が90度回転して、ライン76
に沿って反対方向に伝播し、偏光角により選択的に反射
する膜104でライン78の方向に反射する。さらに光
線4は、四分の一波長板88で反射すると、再び偏向角
が90度回転して、ライン78および80に沿って反対
方向に伝播し、結晶70から68に入射する際には反射
しない。光線4は、四分の一波長板90で反射すると、
偏向角が90度回転して、ライン80に沿って反対方向
に伝播し、偏光角により選択的に反射する膜104で反
射して、ライン74で示す経路上に伝播する。そして光
線4は、偏光角により選択的に反射する膜106でライ
ン82の方向に反射し、四分の一波長板94で反射する
と、再び偏向角が90度回転して、反対方向に伝播す
る。光線4は、ライン82および84に沿って鏡92の
方向に伝播し、この鏡で偏向角をそのままにして反対方
向に伝播する。光線4が再度、偏光角により選択的に反
射する膜106で反射せずに、通過すると、再び四分の
一波長板94で反射して、偏向角が90度回転し、ライ
ン82に沿って偏光角により選択的に反射する膜106
の方向に伝播して反射し、ライン74に沿って伝播し
て、別の偏光角により選択的に反射する膜104で反射
することにより、ライン80に沿って四分の一波長板9
0の方向に伝播する。このとき光線4の偏向角が90度
回転しているので、光線4は、偏光角により選択的に反
射する膜104では反射することなく、ライン80およ
び78に沿って通過する。光線4は、四分の一波長板8
8で反射すると、ライン78に沿って偏光角により選択
的に反射する膜104の方向に伝播し、ライン76に沿
って四分の一波長板86の方向に反射する。光線4は、
四分の一波長板86で反射すると、偏向角が90度回転
する。したがって光線4は、反射することなく、偏光角
により選択的に反射する膜104および106を通過
し、ライン76、74、および72に沿って通過し、レ
ンズ10を通過した後、ファラデ回転子8および偏光ビ
ームスプリッタ6により分割される。この実施例では、
光線4は、光学的励起領域を合計18回通過する。この
通過回数は、光線4が四分の一波長板86、88、9
0、および94の入射側に配置された光学的励起領域を
各々4回づつ通過し、鏡92の入射側に配置された光学
的励起領域を2回通過したことを合算した回数である。
【0029】図5は、この装置の別の実施例を示し、図
4の基本的機能を示し、質量および体積の大きいファラ
デ回転子を省略したものである。符号58で示す偏向角
を有する光線4は、偏光ビームスプリッタ62およびレ
ンズ10を通過すると、まずライン72、74、および
76に沿って結晶66、68、および70を通過して、
偏光角により選択的に反射する膜106および104で
反射することはない。光線4は、四分の一波長板86で
反射すると、偏向角が90度回転し、らいん76に沿っ
て反対方向に伝播し、偏光角により選択的に反射する膜
104でライン78の方向に反射する。光線4は、四分
の一波長板88で反射すると、反対方向に伝播し、再び
偏向角が90度回転し、ライン78および80の方向に
伝播する。光線4は、結晶70から結晶68に入射する
際、反射することはない。光線4は、四分の一波長板9
0で反射すると、偏向角が90度回転し、ライン80の
方向に伝播し、四分の一波長板104でライン74で示
す伝播経路に反射する。さらに光線4は、偏光角により
選択的に反射する膜106でライン82の方向に反射
し、四分の一波長板94で反対方向に反射し、偏向角は
90度回転する。光線4は、ライン82および84に沿
って四分の一波長板110の方向に伝播する。ここで光
線4は、偏向角が90度回転して、ライン84に沿って
反対方向に伝播し、偏光角により選択的に反射する膜1
06でライン72の方向に反射する。光線4は、結晶6
6から出射すると、レンズ10を通過し、符号60で示
す偏向角が結晶66に入射する光線4と比して直交して
いるので、偏光ビームスプリッタ62でライン30の方
向に反射する。図5で示す装置では、光線4は、結晶6
6、68、および70の光学的励起領域を合計10回通
過する。この通過回数は、光線4が四分の一波長板8
6、88、90、および94と、鏡110の入射側に配
置された光学的励起領域を各々2回づつ通過したことを
合算した回数である。各通過時において、光線4は両方
向に互いに直交する偏向角を有する。
4の基本的機能を示し、質量および体積の大きいファラ
デ回転子を省略したものである。符号58で示す偏向角
を有する光線4は、偏光ビームスプリッタ62およびレ
ンズ10を通過すると、まずライン72、74、および
76に沿って結晶66、68、および70を通過して、
偏光角により選択的に反射する膜106および104で
反射することはない。光線4は、四分の一波長板86で
反射すると、偏向角が90度回転し、らいん76に沿っ
て反対方向に伝播し、偏光角により選択的に反射する膜
104でライン78の方向に反射する。光線4は、四分
の一波長板88で反射すると、反対方向に伝播し、再び
偏向角が90度回転し、ライン78および80の方向に
伝播する。光線4は、結晶70から結晶68に入射する
際、反射することはない。光線4は、四分の一波長板9
0で反射すると、偏向角が90度回転し、ライン80の
方向に伝播し、四分の一波長板104でライン74で示
す伝播経路に反射する。さらに光線4は、偏光角により
選択的に反射する膜106でライン82の方向に反射
し、四分の一波長板94で反対方向に反射し、偏向角は
90度回転する。光線4は、ライン82および84に沿
って四分の一波長板110の方向に伝播する。ここで光
線4は、偏向角が90度回転して、ライン84に沿って
反対方向に伝播し、偏光角により選択的に反射する膜1
06でライン72の方向に反射する。光線4は、結晶6
6から出射すると、レンズ10を通過し、符号60で示
す偏向角が結晶66に入射する光線4と比して直交して
いるので、偏光ビームスプリッタ62でライン30の方
向に反射する。図5で示す装置では、光線4は、結晶6
6、68、および70の光学的励起領域を合計10回通
過する。この通過回数は、光線4が四分の一波長板8
6、88、90、および94と、鏡110の入射側に配
置された光学的励起領域を各々2回づつ通過したことを
合算した回数である。各通過時において、光線4は両方
向に互いに直交する偏向角を有する。
【0030】図4および5で示す装置は、結晶68、偏
光角により選択的に反射する膜104、四分の一波長板
90,94、および励起光源98,102を追加した量
子光学的増幅装置とすることにより、光線4を任意の通
過回数だけ光学的励起領域に通過させることができる。
光角により選択的に反射する膜104、四分の一波長板
90,94、および励起光源98,102を追加した量
子光学的増幅装置とすることにより、光線4を任意の通
過回数だけ光学的励起領域に通過させることができる。
【0031】上記説明上の実施例で記述した結晶2、3
2、34、66、68、および70が、その材料を任意
に選択できるが、例えばバナジウム酸ネオジウム−イッ
トリウムのような光学的に等方性でなく光学的に単軸材
料であるならば、増幅すべき光線に対して、結晶の光軸
を垂直方向に調整する必要がある。結晶がそのように切
断された場合、グラン・フーコのプリズムの原理によ
り、図2ないし6の装置で光線を増幅するのに必要であ
った、偏光角による選択的な反射を実現することがで
き、これは単純で光学的に等方性空間による手段でもあ
る。加えて、隣接する結晶の異なる光軸方向によるグラ
ン・テーラのプリズムを実施することも可能である。
2、34、66、68、および70が、その材料を任意
に選択できるが、例えばバナジウム酸ネオジウム−イッ
トリウムのような光学的に等方性でなく光学的に単軸材
料であるならば、増幅すべき光線に対して、結晶の光軸
を垂直方向に調整する必要がある。結晶がそのように切
断された場合、グラン・フーコのプリズムの原理によ
り、図2ないし6の装置で光線を増幅するのに必要であ
った、偏光角による選択的な反射を実現することがで
き、これは単純で光学的に等方性空間による手段でもあ
る。加えて、隣接する結晶の異なる光軸方向によるグラ
ン・テーラのプリズムを実施することも可能である。
【0032】図2ないし5で示す結晶32、43、6
6、68、および70の外形形状は、ここに示す形状に
限定されるものではない。例えば、図6は、図3を45
度偏向ビームスプリッタキューブで構成した変形物であ
る。光学的同一軸結晶を採用する場合、ここでもこの実
施例を用いて、偏光角により選択的に反射する膜36を
グラン・フーコのプリズムまたはグラン・テーラのプリ
ズムのように光学的等方性空間として構成することがで
きる。四分の一波長板64はさらに、鏡で置換して、図
2で示す装置から類推される構成を実現することができ
る。加えて、図4および5の装置から類推される構成
も、結晶160および161と、偏光角により選択的に
反射する膜36とからなるキューブを数珠繋ぎにするこ
とで実現できる。
6、68、および70の外形形状は、ここに示す形状に
限定されるものではない。例えば、図6は、図3を45
度偏向ビームスプリッタキューブで構成した変形物であ
る。光学的同一軸結晶を採用する場合、ここでもこの実
施例を用いて、偏光角により選択的に反射する膜36を
グラン・フーコのプリズムまたはグラン・テーラのプリ
ズムのように光学的等方性空間として構成することがで
きる。四分の一波長板64はさらに、鏡で置換して、図
2で示す装置から類推される構成を実現することができ
る。加えて、図4および5の装置から類推される構成
も、結晶160および161と、偏光角により選択的に
反射する膜36とからなるキューブを数珠繋ぎにするこ
とで実現できる。
【図1】 図1は、単一の結晶からなる量子光学的な増
幅装置を示す。
幅装置を示す。
【図2】 図2は、2つの結晶からなる量子光学的な増
幅装置を示す。
幅装置を示す。
【図3】 図3は、ファラデ回転子を有さない2つの結
晶からなる量子光学的な増幅装置を示す。
晶からなる量子光学的な増幅装置を示す。
【図4】 図4は、3つの結晶からなる量子光学的な増
幅装置を示す。
幅装置を示す。
【図5】 図5は、ファラデー回転子を有さない2つの
結晶からなる量子光学的な増幅装置を示す。
結晶からなる量子光学的な増幅装置を示す。
【図6】 図6は、2つの結晶からなる別の量子光学的
な増幅装置の変化物を示す。
な増幅装置の変化物を示す。
4…光線、6…偏光ビームスプリッタ、8…ファラデ回
転子、10…レンズ、2,32,34,66,68,7
0,160,161…結晶、14,36,104,10
6…偏光角により選択的に反射する膜、24,42,4
4,48,50,64,86,88,98,102,1
10…四分の一波長板、22,56,64,100…鏡
転子、10…レンズ、2,32,34,66,68,7
0,160,161…結晶、14,36,104,10
6…偏光角により選択的に反射する膜、24,42,4
4,48,50,64,86,88,98,102,1
10…四分の一波長板、22,56,64,100…鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス・グラフ スイス、ツェーハー−3012ベルン、アーホ ルンヴェーク9番 (72)発明者 ジャン−ミシェル・マヨール スイス、ツェーハー−1400イヴェルドン− レ−バン、リュ・ビュレ6番
Claims (8)
- 【請求項1】 自由空間通信システムにおける変調光の
量子光学的増幅装置であって、 結晶(2)と、四分の一波長板(24)と、鏡(20)
と、からなり、 励起光が四分の一波長板(24)および鏡(20)を介
して結晶(2)に案内されることを特徴とする量子光学
的増幅装置。 - 【請求項2】 変調光の量子光学的増幅装置であって、 結晶(32)と、四分の一波長板(42)および(4
8)と、鏡(54)と、偏光角により選択的に反射する
膜(36)と、からなり、 偏光角により選択的に反射する膜(36)が、結晶(3
2)および(34)の間においてその後の光進行を決定
することを特徴とする量子光学的増幅装置。 - 【請求項3】 鏡(54)を四分の一波長板(64)で
置換することを特徴とする請求項2の量子光学的増幅装
置。 - 【請求項4】 四分の一波長板(90)および(94)
が固定された別の結晶(69)を2つの結晶(66)お
よび(70)の間に挿入し、2つの結晶(66)および
(70)に対する2つの出射光の進行が、偏光角により
選択的に反射する膜(104)および(106)により
決定されることを特徴とする請求項2または4の量子光
学的増幅装置。 - 【請求項5】 結晶(68)のほかに、同一種類の別の
結晶が結晶(66)および(70)により挟み込み、偏
光角により選択的に反射する膜(104)および(10
6)で互いに境界を定めることを特徴とする請求項4の
量子光学的増幅装置。 - 【請求項6】 光軸が、増幅すべき光すべての領域と垂
直または平行になるように切断した光学的同軸結晶を備
えたことを特徴とする上記請求項のいずれかの量子光学
的増幅装置。 - 【請求項7】 光学的同軸結晶(32,34)または
(160,161)と協働して、グラン・フーコのプリ
ズムまたはグラン・テーラのプリズムのように光が偏光
角により選択されることを特徴とする上記請求項のいず
れかの量子光学的増幅装置。 - 【請求項8】 量子光学的増幅装置が、組み合わせると
立方体形状要素を有する結晶(160,161)で構成
されていることを特徴とする上記請求項のいずれかの量
子光学的増幅装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH49898 | 1998-03-03 | ||
| CH19980498/98 | 1998-03-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11289124A true JPH11289124A (ja) | 1999-10-19 |
Family
ID=4188385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10354187A Pending JPH11289124A (ja) | 1998-03-03 | 1998-12-14 | 自由空間における光通信システムのための量子光学的増幅装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6278543B1 (ja) |
| EP (1) | EP0889563B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11289124A (ja) |
| CA (1) | CA2252066A1 (ja) |
| DE (1) | DE59812374D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014521218A (ja) * | 2011-07-11 | 2014-08-25 | エコール ポリテクニク | 複数の光学増幅器のコヒーレント結合用受動装置および方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7291805B2 (en) * | 2003-10-30 | 2007-11-06 | The Regents Of The University Of California | Target isolation system, high power laser and laser peening method and system using same |
| US7110171B2 (en) * | 2003-10-30 | 2006-09-19 | Metal Improvement Company, Llc | Relay telescope including baffle, and high power laser amplifier utilizing the same |
| US7209500B2 (en) * | 2003-10-30 | 2007-04-24 | Metal Improvement Company, Llc | Stimulated Brillouin scattering mirror system, high power laser and laser peening method and system using same |
| CN107863677B (zh) * | 2017-10-18 | 2019-09-27 | 哈尔滨工业大学 | 一种多路末端泵浦薄片固体激光器 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2041458A5 (ja) * | 1969-04-24 | 1971-01-29 | Comp Generale Electricite | |
| FR2405569A1 (fr) * | 1977-10-04 | 1979-05-04 | Quantel Sa | Oscillateur laser limite par la diffraction a haut rendement |
| US4918395A (en) * | 1988-11-21 | 1990-04-17 | Spectra-Physics | Multipass laser amplifier with at least one expanded pass |
| JPH02139526A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光増幅装置 |
| JPH07117668B2 (ja) * | 1988-12-28 | 1995-12-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 光増幅装置 |
| FR2648282B1 (fr) * | 1989-06-13 | 1991-08-30 | Thomson Csf | Laser mopa impulsionnel de puissance a structure mopa avec milieu non lineaire de transfert |
| US5249196A (en) * | 1992-05-21 | 1993-09-28 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Internally folded scalable laser |
| US5268787A (en) * | 1993-02-17 | 1993-12-07 | Energy Compression Research Corp. | Multiple-pass method and apparatus for laser amplification |
| WO1997006587A1 (de) * | 1995-08-08 | 1997-02-20 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Festkörperlaseranordnung |
| JP3588195B2 (ja) * | 1996-07-18 | 2004-11-10 | 浜松ホトニクス株式会社 | 固体レーザ増幅器 |
| EP0849894B1 (de) | 1996-12-20 | 2003-05-21 | Contraves Space AG | Verfahren und Anordnung zum Betreiben eines Laser-Systems für optische Freiraum-Kommunikation |
-
1998
- 1998-09-17 DE DE59812374T patent/DE59812374D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-09-17 EP EP98117659A patent/EP0889563B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-24 CA CA002252066A patent/CA2252066A1/en not_active Abandoned
- 1998-12-14 JP JP10354187A patent/JPH11289124A/ja active Pending
- 1998-12-15 US US09/213,091 patent/US6278543B1/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014521218A (ja) * | 2011-07-11 | 2014-08-25 | エコール ポリテクニク | 複数の光学増幅器のコヒーレント結合用受動装置および方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2252066A1 (en) | 1999-09-03 |
| DE59812374D1 (de) | 2005-01-20 |
| US6278543B1 (en) | 2001-08-21 |
| EP0889563B1 (de) | 2004-12-15 |
| EP0889563A1 (de) | 1999-01-07 |
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