JPH11290868A - アルカリ性産業廃棄物のｐＨ低下剤及びそれを用いたｐＨ低下方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アルカリ性産業廃棄物のｐＨ低減処理の際、
カスが発生しにくいｐＨ低下剤及びその処理方法を提供
する。特に、ケイ酸塩のゲル化やポリマーの析出による
カスが発生せず、安定して、確実にｐＨを下げることが
できる感光性平版印刷版の現像処理廃液ｐＨ低下剤、お
よび現像処理廃液のｐＨ低下方法を提供する。 【解決手段】 還元糖類を含有することを特徴とする、
ｐＨが１２．５以上のアルカリ性産業廃棄物のｐＨ低下
剤；アルカリ性産業廃棄物が、感光性平版印刷版を現像
処理した廃液を含むことを特徴とする上記ｐＨ低下剤；
ｐＨが１２．５以上のアルカリ性廃液のｐＨを下げる方
法であって、該廃液に上記ｐＨ低下剤を添加することを
特徴とする方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はアルカリ性産業廃棄
物の廃液処理に関するものであり、特に感光性平版印刷
版の現像廃液の処理に関するものである。

【０００２】

【従来技術】従来より、銀塩感材、感光性平版印刷版、
フォトレジスト等には高ｐＨの現像液が用いられてお
り、ｐＨ１２．５以上の現像廃液が排出されている。こ
の他にも、金属表面処理廃液や繊維工業分野などで高ｐ
Ｈのアルカリ性廃液が排出されている。近年、環境問題
がクローズアップされる中、これら高ｐＨ廃液に関して
も、事業所から廃液回収処理業者に引き渡される前にｐ
Ｈを下げ、安全性を上げることが望まれており、また法
規制も強まってきている。かかるｐＨ低下剤としては、
硫酸、燐酸、塩酸および硝酸等の鉱酸が一般的に用いら
れているが、これら鉱酸も非常に危険な薬品であり、安
全性に問題があった。

【０００３】更に、これら鉱酸を用いた場合、安全性以
外にも種々問題があった。具体例として、感光性平版印
刷版の現像廃液について詳しい説明を加える。従来よ
り、広く使用されているポジ型感光性平版印刷版は支持
体としてのアルミニウム板上にｏ−キノンジアジド化合
物からなる感光層を設けたものである。ｏ−キノンジア
ジド化合物は紫外線露光によりカルボン酸に変化するこ
とが知られており、従って、これをアルカリ水溶液で現
像すると当該感光層の露光部のみが除去されて支持体表
面が露出する。アルミニウム支持体の表面は親水性なの
で現像で支持体の表面が露出された部分（非画像部）は
水を保持して油性インキを反発する。一方、現像によっ
て感光層が除去されなかった領域（画像部）は、親油性
なので水を反発し、インキを受け付ける。かかるポジ型
感光性平版印刷版の現像液として使用されるアルカリ水
溶液は、種々のものが知られているが、最も好ましいの
は珪酸ナトリウム、珪酸カリウム等の珪酸塩水溶液であ
る。その理由は珪酸塩の成分である酸化珪素ＳｉＯ₂ と
アルカリ金属酸化物Ｍ₂ Ｏの比率（一般に［ＳｉＯ₂ ］
／［Ｍ₂ Ｏ］のモル比で表す）と濃度によってある程度
現像性の調節が可能とされるためである。

【０００４】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、感光性平版印刷版用の自動現像
機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に感
光性平版印刷版を搬送する装置と、現像液槽およびスプ
レ−装置からなり、露光済みの感光性平版印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた現像液をスプレ−
ノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、
最近は現像液が満たされた現像処理槽中に液中ガイドロ
−ルなどによって感光性平版印刷版を浸漬搬送させて現
像処理する方法も知られている。かかる自動現像機を用
いて、ポジ型感光性平版印刷版を現像する場合に、現像
液としてＳｉＯ₂ ／Ｎａ₂ Ｏのモル比が１．０〜１．５
（即ち［ＳｉＯ₂ ］／［Ｎａ₂ Ｏ］が１．０〜１．５）
であって、ＳｉＯ₂ の含有量が１〜４重量％のケイ酸ナ
トリウムの水溶液を使用し、しかもポジ型感光性平版印
刷版の処理量に応じて連続的または断続的にＳｉＯ₂ ／
Ｎａ₂ Ｏのモル比が０．５〜１．５（即ち［ＳｉＯ₂ ］
／［Ｎａ₂ Ｏ］が０．５〜１．５）の珪酸ナトリウム水
溶液（補充液）を現像液に加えることによって、長時間
タンク中の現像液を交換する事なく、多量のポジ型感光
性平版印刷版を処理することができる旨、特開昭５４−
６２００４号公報に開示されている。

【０００５】また、特公昭５７−７４２７号公報は、
［ＳｉＯ₂ ］／［Ｍ］が０．５〜０．７５（即ち［Ｓｉ
Ｏ₂ ］／［Ｍ₂ Ｏ］が１．０〜１．５）であって、Ｓｉ
Ｏ₂ の濃度が１〜４重量％であるアルカリ金属珪酸塩の
現像液を用い、補充液として用いるアルカリ金属ケイ酸
塩の［ＳｉＯ₂ ］／［Ｍ］が ０．２５〜０．７５（即
ち［ＳｉＯ₂ ］／［Ｍ₂ Ｏ］が０．５〜１．５）であ
り、かつ該現像液および該補充液のいずれもがその中に
存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少な
くとも２０％のカリウムを含有していることことからな
る現像方法を開示している。

【０００６】一方、これらのケイ酸塩は上述のポジ型感
光性平版印刷版だけでなく、特公昭５６−１４９７０号
公報記載のｏ−キノンジアジド感光層を用いた反転型ネ
ガ型感光性平版印刷版や、アルカリ可溶性ジアゾニウム
塩を感光層に用いたネガ型感光性平版印刷版の現像液お
よびジメチルマレイミド基を側鎖に含む樹脂を光架橋剤
とする感光層を用いたネガ型感光性平版印刷版の現像液
としても好ましく用いられ、特にネガ型・ポジ型感光性
平版印刷版の共通処理用現像液としても用いられてき
た。更に、アルゴンレーザーやＹＡＧレーザーなどの可
視光レーザーで走査露光可能な光重合型感光性平版印刷
版用の現像液としても用いられてきた。近年、レーザー
技術の発展はめざましく、特に近赤外から赤外に発光領
域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小型の
ものが容易に入手できるようになっている。これらはコ
ンピュータなどのデジタルデータから直接製版する際の
露光光源として非常に有用になってきている。これに伴
い、赤外線レーザーにより直接描き込み可能な感光性平
版印刷版（以後これを赤外線感光性平版印刷版と称す）
が用いられるようになってきた。かかる赤外線感光性平
版印刷版用現像液としてもアルカリ性水溶液が一般的に
用いられている。中でも、珪酸アルカリ金属塩が上記の
理由で用いられている。

【０００７】しかしながら、これらのケイ酸塩からなる
現像液は一般にｐＨが１２．５以上の強アルカリであり
その廃液の取り扱いには危険が伴っていた。そのため、
現像後の水洗水を現像廃液に混ぜてアルカリ性を弱めた
り、またリンス液及び不感脂化液などの酸性の廃液を混
合して現像廃液のｐＨを下げるなど公知の方法が知られ
ているが、それによるｐＨの低下は僅かで、尚危険性は
残っていた。 この問題を解決するために現像廃液を硫
酸や塩酸などの鉱酸で中和処理する方法が一部で行われ
ているが、中和処理時に局部的にｐＨが下がると不溶性
のシリカゲルの生成や現像液に溶出した感光層ポリマー
の析出が起こり、その後の廃液処理を難しくしていた。
これを避けるために、現像廃液を水で高希釈したのち、
中和処理する方法が一部で行われているが、廃液容量が
大幅に増え、処理設備も大型になるので、中小の製版・
印刷業者でこのような設備を持つことは難しかった。

【０００８】かかる問題を解決する手段として、特開平
６−２２２５６５号公報には、現像廃液に炭酸ガスを吹
き込む方法、および例えば蓚酸、酒石酸、パラヒドロキ
シ安息香酸、スルファニル酸、硫酸水素ナトリウム等の
炭酸を除く酸又はその塩を用いてｐＨを下げる方法が、
特開平６−２５０３９８号公報には、酸解離定数９〜１
１の有機化合物を、特開平６−２５８８４５号公報に
は、ピロリン酸、ヘキサメタリン酸、亜リン酸、エチレ
ンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）等の酸性酸化
リン化合物を、特開平６−２５８８４６号公報には、炭
酸水素アルカリ金属及びアンモニウム塩、及び炭酸二ア
ンモニウムをｐＨ低下剤として用いる方法が、また、特
開平６−２７３９３８号公報には、感光性平版印刷版の
現像処理廃液に、１．０重量％水溶液のｐＨが６．０〜
１１．５の水素塩を添加する、ｐＨ低下方法が、特開平
７−４９５７４号公報には、平版印刷版のアルカリ性処
理廃液中に少なくとも二酸化炭素を含有する気体を吹き
込む処理方法が、特開平７−２３２１８１号公報には、
炭酸水素塩及び炭酸塩を含有する水溶液を添加する現像
処理廃液のｐＨ低下方法が、更には特開平７−２４６３
９１号公報には、珪酸塩を含む現像廃液を、酸解離定数
ｐＫ値が１１．５以上、ｐＨ値が７．５〜１０．０、現
像廃液１リットル当たりの添加量が１２０ｍｌ以下の条
件を満たすｐＨ低下剤を用いてｐＨ値を１２．５以下に
する方法が開示されている。

【０００９】しかしながら、これらのｐＨ低下剤を用い
た方法においても、シリカゲルの生成やバインダーポリ
マーの析出の危険が高く、例えば固体のｐＨ低下剤を用
いる場合は、現像廃液を高速で撹拌し、廃液中に均一に
溶解する必要があり、液ハネの危険が増し、撹拌装置の
設置や片づけなど煩雑さが増した。また、これらのｐＨ
低下剤を水に溶かして現像廃液に加える場合は、シリカ
ゲルやバインダー析出の危険は和らぐが、廃液量がその
分増えて、処理コストが増した。一方、特開平８−１６
０６３１号公報や特開平８−２３４４４７号公報には非
珪酸塩現像液が開示されている。これらの現像液を用い
ることにより、廃液のｐＨ低下時のシリカゲルによるト
ラブルからは解放される。中でも好ましい例としては、
特開平８−３０５０３９号記載の、非還元糖から選ばれ
る少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種の塩基か
らなる現像液が挙げられる。 しかしながら、これら非
珪酸塩系現像液に代えることによっても尚、バインダー
ポリマーの析出によるヘドロの発生が問題として残っ
た。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、アルカリ性産業廃棄物のｐＨ低減処理の際、カスが
発生しにくいｐＨ低下剤及びその処理方法を提供するこ
とである。特に、本発明の目的はケイ酸塩のゲル化やポ
リマーの析出によるカスが発生せず、安定して、確実に
ｐＨを下げることができる感光性平版印刷版の現像処理
廃液ｐＨ低下剤、およびそれを用いた現像処理廃液のｐ
Ｈ低下方法を提供することである。本発明の他の目的
は、感光性平版印刷版の現像処理廃液の簡便なｐＨ低下
方法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成すべく鋭意検討を重ねた結果、還元糖類が高ｐＨ水溶
液に均一に溶解してから、徐々に分解してｐＨを下げる
ことを見いだし、本発明を成すに至ったものである。
即ち本発明は、下記（１）〜（３）のｐＨ低下剤及びｐ
Ｈ低下方法である。 （１）還元糖類を含有することを特徴とする、ｐＨが１
２．５以上のアルカリ性産業廃棄物のｐＨ低下剤； （２）アルカリ性産業廃棄物が、感光性平版印刷版を現
像処理した廃液を含むことを特徴とする、上記のｐＨ低
下剤； （３）ｐＨが１２．５以上のアルカリ性廃液のｐＨを下
げる方法であって、該廃液に上記のｐＨ低下剤を添加す
る方法。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下に本発明のｐＨ低下剤および
それを用いたｐＨ低下方法について詳しく述べる。 ［ｐＨ低下剤］本発明のｐＨ低下剤は少なくとも一種の
還元糖類を含有する。 ［還元糖類］かかる還元糖類とは、遊離のアルデヒド基
あるいはケトン基をもち還元性を示す糖類であり、グル
コース（ブドウ糖）、フルクトース（果糖）、ガラクト
ース、キシロースおよびマンノースなどの単糖類、マル
トース（麦芽糖）、ラクトース（乳糖）、セロビオー
ス、メリビオース、ゲンチオビオース、ツラノースおよ
びソホロースなどの二糖類、マルトトリオース、セロト
リオース、マンニノトリオースおよびパノースなどの三
糖類が挙げられる。更に、ブドウ糖に異性化酵素を作用
させて得られる異性化糖、および澱粉を酸や酵素で加水
分解して得られる水あめなどの混合物なども挙げられ
る。これらの還元糖類の中で、グルコース、フルクトー
ス、マルトース、ラクトース、異性化糖および水あめが
安価であり好ましい。特に好ましいのは、グルコース、
ラクトースおよび異性化糖である。

【００１３】本発明のｐＨ低下剤には、場合により、更
に公知のｐＨ低下剤に用いられている酸性化合物を助剤
として併用することができる。かかる酸性化合物として
は、特開平６−２２２５６５号公報記載の例えば蓚酸、
酒石酸、パラヒドロキシ安息香酸、スルファニル酸、硫
酸水素ナトリウム等の炭酸を除く酸又はその塩、特開平
６−２５０３９８号公報記載の、酸解離定数９〜１１の
有機化合物、特開平６−２５８８４５号公報記載の、ピ
ロリン酸、ヘキサメタリン酸、亜リン酸、エチレンジア
ミンテトラ（メチレンホスホン酸）等の酸性酸化リン化
合物、特開平６−２５８８４６号公報記載の、炭酸水素
アルカリ金属及びアンモニウム塩、及び炭酸二アンモニ
ウム、また、特開平６−２７３９３８号公報記載の１．
０重量％水溶液のｐＨが６．０〜１１．５の水素塩、特
開平７−２３２１８１号公報記載の炭酸水素塩及び炭酸
塩が挙げられる。本発明のｐＨ低下剤中に占める還元糖
類の割合は、ｐＨ低下剤全固形分に対して５０重量％以
上であり、より好ましくは８０重量％以上である。

【００１４】本発明のｐＨ低下剤は固形または水溶液で
アルカリ性産業廃棄物に加えることができる。本発明の
ｐＨ低下剤は固形で加えても前記ケイ酸ゲルやポリマー
の析出が発生しない特徴を有するので、粉末、顆粒、ペ
レットおよび錠剤の様な固形物で用いることができる。
顆粒、ペレット、錠剤に成型する方法は常法に従って実
施することができる。例えば、複数個の穴（臼）を有す
る回転盤と各穴に対応した下杵及び上杵を備えた錠剤成
型器を用い、還元糖及び任意の添加剤からなる混合粉末
を供給し、上下の杵で圧縮することにより錠剤が得られ
る。

【００１５】アルカリ性産業廃棄物のｐＨを１２．５以
下に下げるのに必要な本発明のｐＨ低下剤の添加量は、
アルカリの強さによって決まるので一概に規定できない
が、本発明では、還元糖が徐々に分解してｐＨを下げる
ので、添加直後にｐＨが１２．５以下にならなくてもよ
い。ｐＨを下げるのに数日から１ケ月を要するので、予
め、廃液を回収するタンクに本発明のｐＨ低下剤を入れ
ておくのが本発明の好ましい態様である。以下に、感光
性平版印刷版の現像廃液の場合を例にとって本発明を詳
しく説明する。

【００１６】本発明が対象とするアルカリ性産業廃棄物
あるいはアルカリ性廃液の代表例としては、感光性平版
印刷版を手現像および自動現像機を用いて感光性平版印
刷版を現像した際に排出される現像廃液、および該現像
廃液と後処理廃液（水洗廃液やフィニッシング廃液）と
の混合廃液が挙げられる。自動現像機を用いる現像処理
方法においては現像液の活性度の低下を現像補充液で補
償する方法が一般的であり、補充方式としては例えば、
特開昭５５−１１５０３９号公報記載のＰＳ版の処理お
よび経時による現像性の劣化を連続または間欠的に補充
する方法、特開昭５８−９５３４９号公報記載の現像ゾ
ーンの途中で感光層の溶出度をセンサーで検出し、溶出
度の低下に応じて補充液を補充する方法、特開平１−２
１４５１号、特開平１−１８０５４８号公報記載の測定
した現像液のインピーダンス値をコンピューター処理
し、検出された現像液の劣化に応じて補充する方法など
が挙げられる。この際、補充量に応じてオーバーフロー
廃液が排出される。補充は現像液だけでなく、その後の
水洗やフィニッシング工程においても感光性平版印刷版
の処理量に対応して補充がなされ、それに応じて廃液が
排出される。このように排出される現像廃液や後処理廃
液（水洗廃液やフィニッシング廃液）は、パイプ等を通
して廃液タンクに貯留される。

【００１７】本発明のｐＨ低下剤は、現像廃液に直接加
えられるが、より好ましい形態は現像廃液と後処理廃液
の混合廃液に本発明のｐＨ低下剤を加えることである。
これは、現像廃液のみのｐＨを下げる場合よりも少量の
ｐＨ低下剤で効率よくｐＨを下げることができるからで
ある。本発明のｐＨ低下剤は廃液タンクが満杯になって
から投入添加しても良いが、最も好ましい形態は、予め
ｐＨ低下剤を廃液タンクに入れておくことである。本発
明のｐＨ低下剤は、アルカリ中で徐々に分解してｐＨを
下げるので、予め入れておくことにより、満杯になった
時点で所望のｐＨに下げることができるからである。

【００１８】［現像廃液］本発明のｐＨ低下剤及びｐＨ
低下方法が適用される現像廃液あるいは後処理廃液の組
成は、特に限定されるものではない。例えば、感光性平
版印刷版用現像液および現像補充液には珪酸アルカリ金
属塩を主成分とするものと、非珪酸塩現像液とがある
が、双方とも本発明のｐＨ低下剤が好ましく適用でき
る。以下、現像液について触れる。

【００１９】［珪酸アルカリ金属塩現像液の主成分］か
かる珪酸アルカリ金属塩を主成分とする現像液および補
充液は例えば、特開昭５４−６２００４号公報や特公昭
５７−７４２７号公報に開示されている。珪酸アルカリ
金属塩としては珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リ
チウムがあり、それらを単独または組み合わせて用いる
ことができる。珪酸アルカリ金属塩のＳｉＯ₂ ／Ｍ₂ Ｏ
モル比（Ｍはアルカリ金属を示す）は０．３〜２．０が
好ましく、０．６〜１．５の範囲が特に好ましい。上記
のモル比が大きくなると現像性（特にネガ型ＰＳ版の現
像性）が低下する傾向にあり、モル比２．０以上は好ま
しくない。また、モル比が小さくなるにつれてアルカリ
強度が高まり、ＰＳ版の支持体として汎用されているア
ルミニウム板などの金属が侵される。モル比０．３以下
では特にその傾向が著しい。現像液中の珪酸アルカリ金
属塩の濃度は１〜１０重量％が好ましく、１．５〜５重
量％が特に好ましい。１０重量％より高くなると沈澱や
結晶が生成しやすくなり、また、廃液時の中和に際して
多量のシリカゲルが生ずるので廃液処理がしにくくなり
好ましくない。また、１重量％より低くなると現像力、
処理能力が低くなる。

【００２０】本発明が対象とする現像液および補充液に
は珪酸アルカリ金属塩以外のアルカリ剤を併用すること
ができる。その例として、第３リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、重炭酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同
アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同ア
ンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウ
ムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられ
る。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。こ
れらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせ
て併用できる。

【００２１】［非珪酸塩現像液の主成分］本発明の処理
方法が対象とする非珪酸塩現像液としては、特開平８−
１６０６３１号公報や特開平８−２３４４４７号公報記
載の現像液である。中でも好ましい例としては、特開平
８−３０５０３９号記載の現像液が挙げられる。好まし
い現像液を具体的に説明すると、非還元糖から選ばれる
少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種の塩基から
なり、ｐＨが９. ０〜１３. ８の範囲である現像液であ
る。かかる非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン
基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士
の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖
類が結合した配糖体および糖類に水素添加して還元した
糖アルコールに分類され、何れも本発明に好適に用いら
れる。トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレ
ハロースがあり、配糖体としては、アルキル配糖体、フ
ェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。ま
た糖アルコールとしてはＤ，Ｌ−アラビット、リビッ
ト、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニ
ット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシッ
トおよびアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖類
のマルトースに水素添加したマルチトールおよびオリゴ
糖の水素添加で得られる還元体（還元水あめ）が好適に
用いられる。これらの中で本発明に好ましい非還元糖は
糖アルコールとトレハロース型少糖類であり、中でもＤ
−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なｐＨ
領域に緩衝作用があることと、低価格であることで好ま
しい。

【００２２】これらの非還元糖は、単独もしくは二種以
上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める
割合は０. １〜３０重量％が好ましく、更に好ましく
は、１〜２０重量％である。この範囲以下では十分な緩
衝作用が得られず、またこの範囲以上の濃度では、高濃
縮化し難く、また原価アップの問題が出てくる。非還元
糖に組み合わせる塩基としては従来より知られているア
ルカリ剤が使用できる。例えば、水酸化ナトリウム、同
カリウム、同リチウム、燐酸三ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、燐酸二ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム
などの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチル
アミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイ
ソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプ
ロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ
イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、
エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有
機アルカリ剤も用いられる。

【００２３】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいの
は水酸化ナトリウム、同カリウムである。その理由は、
非還元糖に対するこれらの量を調整することにより広い
ｐＨ領域でｐＨ調整が可能となるためである。また、燐
酸三ナトリウム、同カリウム、炭酸ナトリウム、同カリ
ウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。こ
れらのアルカリ剤は該現像液組成物のｐＨを９. ０〜１
３. ８の範囲になるように添加され、その添加量は所望
のｐＨ、非還元糖の種類と添加量によって決められる
が、より好ましいｐＨ範囲は１０. ０〜１３. ２であ
る。尚、本発明が対象とする現像液には、非還元糖とア
ルカリ剤の組み合わせに代えて、非還元糖のアルカリ金
属塩を主成分として用いることもできる。該非還元糖塩
は非還元糖とアルカリ金属水酸化物とを混合し該非還元
糖の融点以上に加熱し、脱水すること、或いは非還元糖
とアルカリ金属水酸化物の混合水溶液を乾燥することに
よって得られる。現像液には更に、特開平８−１６０６
３１号公報や特開平８−１３４４４７号公報記載の、糖
類以外の弱酸と強塩基からなるアルカリ性緩衝液が併用
できる。上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合わせ
によりｐＨを好ましい範囲内に調整して使用される。

【００２４】［界面活性剤］本発明が対象とする現像液
には、現像性の促進や現像カスの分散および印刷版画像
部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活
性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤とし
ては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性
界面活性剤が挙げられる。界面活性剤の好ましい例とし
ては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオ
キシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシ
エチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシ
エチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グ
リセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル
類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ
糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタ
ン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビト
ール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂
肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル
類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチ
レングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノ
ールアミド類、

【００２５】Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルア
ミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタ
ノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキ
シドなどの非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエ
チン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アル
カンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル
塩類、αオレフィンスルホン酸塩類、直鎖アルキルベン
ゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン
酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル
フェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩
類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテ
ル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム
塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム
塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキ
ルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステ
ル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エス
テル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸
化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類な
どのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラ
ブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩
類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチ
レンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カ
ルボキシベタイン類、アルキルアミノカルボン酸類、ス
ルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン
類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面
活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオ
キシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチ
レンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもで
き、それらの界面活性剤もまた包含される。

【００２６】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは２種以上を組み合わせて使
用することができ、現像液中に０．００１〜１０重量
％、より好ましくは０．０１〜５重量％の範囲で添加さ
れる。

【００２７】［現像安定化剤］本発明が対象とする現像
液には、種々現像安定化剤が用いられる。それらの好ま
しい例として、特開平６−２８２０７９号公報記載の糖
アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブ
チルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルア
ンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドな
どのホスホニウム塩およびジフェニルヨードニウムクロ
ライドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げら
れる。更には、特開昭５０−５１３２４号公報記載のア
ニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特開昭５
５−９５９４６号公報記載の水溶性カチオニックポリマ
ー、特開昭５６−１４２５２８号公報に記載されている
水溶性の両性高分子電解質がある。更に、特開昭５９−
８４２４１号公報のアルキレングリコールが付加された
有機ホウ素化合物、特開昭６０−１１１２４６号公報記
載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロッ
ク重合型の水溶性界面活性剤、特開昭６０−１２９７５
０号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン
を置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭６１−２
１５５５４号公報記載の重量平均分子量３００以上のポ
リエチレングリコール、特開昭６３−１７５８５８号公
報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平
２−３９１５７号公報の酸またはアルコールに４モル以
上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレ
ンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物
などが挙げられる。

【００２８】［有機溶剤］現像液には更に必要により有
機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対
する溶解度が約１０重量％以下のものが適しており、好
ましくは５重量％以下のものから選ばれる。例えば、１
−フェニルエタノール、２−フェニルエタノール、３−
フェニル−１−プロパノール、４−フェニル−１−ブタ
ノール、４−フェニル−２−ブタノール、２−フェニル
−１−ブタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベ
ンジルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコ
ール、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシ
ベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキ
サノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチル
シクロヘキサノールおよび４−メチルシクロヘキサノー
ル、Ｎ−フェニルエタノールアミンおよびＮ−フェニル
ジエタノールアミンなどを挙げることができる。有機溶
剤の含有量は使用液の総重量に対して０．１〜５重量％
である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係
があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は
増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少
なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶
解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくな
るからである。

【００２９】［還元剤］本発明が対象とする現像液には
更に還元剤が加えられる。これは印刷版の汚れを防止す
るものである。好ましい有機還元剤としては、チオサリ
チル酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、
レゾルシン、２−メチルレゾルシンなどのフェノール化
合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどの
アミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤
としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸
水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン
酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニ
ウム塩などを挙げることができる。これらの還元剤のう
ち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。
これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、
０．０５〜５重量％の範囲で含有される。

【００３０】［有機カルボン酸］現像液には更に有機カ
ルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン
酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン酸および芳香
族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例と
しては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウ
リン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン
酸などがあり、特に好ましいのは炭素数８〜１２のアル
カン酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和
脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香
族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アン
トラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物
で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、ｐ−クロロ安息
香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香
酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、２，４
−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香
酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、２，３−ジヒドロ
キシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、没食子
酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ
−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、
１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸などがあるがヒドロキ
シナフトエ酸は特に有効である。上記脂肪族および芳香
族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカ
リウム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好まし
い。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は
格別な制限はないが、０．１重量％より低いと効果が十
分でなく、また１０重量％以上ではそれ以上の効果の改
善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解
を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時
の現像液に対して０．１〜１０重量％であり、より好ま
しくは０．５〜４重量％である。

【００３１】［その他］本発明が対象とする現像液に
は、更に必要に応じて、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡
剤および硬水軟化剤などを含有させることもできる。硬
水軟化剤としては例えば、ポリ燐酸およびそのナトリウ
ム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、エチレンジア
ミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、ト
リエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエ
チレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１，２−
ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸および１，３−ジア
ミノ−２−プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカ
ルボン酸およびそれらのナトリウム塩、カリウム塩およ
びアンモニウム塩、アミノトリ（メチレンホスホン
酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン
酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチレンホスホ
ン酸）、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ（メチ
レンホスホン酸）および１−ヒドロキシエタン−１，１
−ジホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩お
よびアンモニウム塩を挙げることができる。

【００３２】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０１〜
０．５重量％の範囲である。この範囲より少ない添加量
では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲
より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでて
くる。 本発明が対象とする現像液および補充液の残余
の成分は水であるが、更に必要に応じて当業界で知られ
た種々の添加剤を含有させることができる。例えば、特
開昭５８−７５１５２号公報記載のＮａＣｌ、ＫＣｌ、
ＫＢｒなどの中性塩、特開昭５８−１２１３３６号公報
記載の〔Ｃｏ（ＮＨ₃ ）₆ 〕Ｃｌ₃ などの錯体、特開昭
５５−２５１００号公報記載の周期律表第IIａ族、第II
I ａ族またはIII ｂ族の元素のイオン化可能な化合物、
米国特許４，３７４，９２０号公報記載のテトラメチル
デシンジオール、特開昭６０−２１３９４３号公報記載
の非イオン性界面活性剤、特開昭５５−９５９４６号公
報記載のｐ−ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチ
ルクロライド４級化合物などのカチオニックポリマー、
特開昭５６−１４２５２８号公報記載のビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロライドとアクリル酸ソーダ
の共重合体などの両性高分子電解質、特開昭５７−１９
２９５２号公報記載のチオサリチル酸、システィン、チ
オジグリコール酸などのアルカリ可溶性メルカプト化合
物またはチオエーテル化合物、特開昭５８−５９４４４
号公報記載の塩化リチウムなどの無機リチウム化合物、
特公昭５０−３４４４２号公報記載の安息香酸リチウム
などの有機リチウム化合物、特開昭５９−７５２５５号
公報記載のＳｉ，Ｔｉなどを含む有機金属界面活性剤、
特開昭５９−８４２４１号公報記載の有機ほう素化合
物、ヨーロッパ特許１０１０１０号公報記載のテトラア
ルキルアンモニウムオキサイドなどの４級アンモニウム
塩、特開昭６３−２２６６５７号公報記載のデヒドロ酢
酸ナトリウムなどの殺菌剤などが挙げられる。

【００３３】現像液の残余の成分は水である。本発明が
対象とする現像液は使用時よりも水の含有量を少なくし
た濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにして
おくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は各成
分が分離や析出を起こさない程度が適当である。また、
スプレードライ法等で水分を除去するか、或いは固形原
料を混合した固形化現像剤も好ましい態様である。

【００３４】本発明のｐＨ低下剤やｐＨ低下方法が適用
される現像廃液が排出されてくる過程で処理される感光
性平版印刷版について、以下に記載する。感光性平版印
刷版は特に限定されるものではなく、従来のポジ型・ネ
ガ型感光性平版印刷版、光重合型感光性平版印刷版、ポ
ジ型・ネガ型赤外線感光性平版印刷版等があげられる。
以下、感光性平版印刷版及び現像液について述べる。

【ポジ型感光性平版印刷版】ポジ型感光性平版印刷版と
しては高分子バインダーとｏ- キノンジアジド化合物を
主成分とする感光層を有するものが挙げられるが、特に
好ましい例としては特開平９−１３４００２号公報に記
載のポジ型感光性平版印刷版が用いられる。

【００３５】

【ネガ型感光性平版印刷版】ネガ型感光性平版印刷版と
しては、感光性ジアゾ化合物を含む感光層、光架橋性感
光層などを有するものが挙げられるが、特に好ましい例
としては特開平６−２８２０７９号公報に詳しく記載さ
れているネガ型感光層を有する感光性平版印刷版を挙げ
ることができる。

【光重合型感光性平版印刷版】光重合型感光性平版印刷
版としては、特開平８−２２０７５８号公報に詳しく記
載されている光重合性組成物を用いた平版印刷版を挙げ
ることができる。

【００３６】

【赤外線感光性平版印刷版】赤外線感光性平版印刷版に
は、以下に示したようなネガ型赤外線感光性平版印刷版
およびポジ型赤外線感光性平版印刷版が好適に用いられ
るが、これらに限定されるものではない。

【ネガ型赤外線感光性平版印刷版】ネガ型赤外線感光性
平版印刷版の感光性組成物層は（Ａ）光又は熱により分
解して酸を発生する化合物、（Ｂ）酸により架橋する架
橋剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の少なくとも１種、
（Ｄ）赤外線吸収剤、（Ｅ）その他添加物を含有する。
ネガ型赤外線感光性平版印刷版においては、赤外線を放
射する固体レーザ及び半導体レーザにより付与されたエ
ネルギーが、（Ｄ）赤外線吸収剤によって熱エネルギー
に変換され、それによって（Ａ）光又は熱により分解し
て酸を発生する化合物が分解して酸を発生し、この酸
が、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤と（Ｃ）アルカリ可
溶性樹脂との架橋反応を促進することにより画像形成が
行われるものである。

【００３７】

【ポジ型赤外線感光性平版印刷版】次にポジ型赤外線感
光性平版印刷版について述べる。従来公知のポジ型赤外
線感光性平版印刷版材料としては、例えば特開平７−２
８５２７５号公報記載の、ノボラック樹脂等のフェノー
ル性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂に、光を吸収し
熱を発生する物質と、種々のオニウム塩、キノンジアジ
ド化合物類等を添加した画像記録材料が挙げられる。他
方、光を吸収し熱を発生する物質と、フェノール性水酸
基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂、および下記
（ａ）から（ｃ）のうち少なくとも一つを共重合成分と
して１０モル％以上含む共重合体とからなるポジ型赤外
線感光性平版印刷版を提示している。この系では、二種
の樹脂の強い相互作用によりアルカリ水溶液に不溶化す
るが、加熱された場合には、熱によりその相互作用が弱
まりアルカリ水溶液に可溶化するものと推定される。 （ａ）１分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基を有するモノマー （ｂ）１分子中に、活性イミノ基を有するモノマー （ｃ）それぞれフェノール性水酸基を有するアクリルア
ミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、またはヒドロキシスチレン。本発明に
おいては、これらのポジ型赤外線感光性平版印刷版が好
適に用いられる。

【００３８】

【共通処理】ポジ型・ネガ型感光性平版印刷版、光重合
型感光性平版印刷版、およびネガ型およびポジ型赤外線
感光性平版印刷版を同一の自動現像機で、同一の処理液
を用いて共通処理することが可能である。

【００３９】

【露光・現像・後処理】赤外線感光性平版印刷版は、近
赤外から赤外領域に発光波長を持つレーザーを搭載した
プレートセッターなどにより露光される。かかるレーザ
ーとしては波長７６０nmから１２００nmの赤外線を放射
する固体レーザ及び半導体レーザが好ましい。レーザ照
射後すぐに現像処理を行っても良いが、レーザ照射工程
と現像工程の間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱
処理の条件は、８０℃〜１５０℃の範囲内で１０秒〜５
分間行うことが好ましい。この加熱処理により、レーザ
照射時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させるこ
とができる。必要に応じて加熱処理を行った後、現像、
不感脂化又はリンス処理される。また、紫外・可視光線
感光性平版印刷版は透明原画を通して、例えば、水銀
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル
ランプ、タングステンランプ、カーボンアーク灯等によ
り露光された後、現像、不感脂化又はリンス処理され
る。また光重合型感光性平版印刷版はアルゴンレーザ
ー、ＹＡＧレーザーで走査露光された後、必要により加
熱処理を行って現像、不感脂化又はリンス処理される。

【００４０】

【発明の効果】本発明のｐＨ低下剤によれば、アルカリ
性産業廃棄物のｐＨを低下する際にカスが発生しにく
く、とりわけ感光性平版印刷版の現像処理廃液をｐＨ低
下する際に、ケイ酸塩のゲル化やポリマーの析出による
カスが発生せず、安定して、確実にｐＨを下げることが
できる。また、本発明のｐＨ低下方法によれば、簡便に
安全にアルカリ性廃液のｐＨを下げることができる。

【００４１】

【実施例】以下実施例をもって本発明を詳細に説明す
る。

【実施例１】厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板をナイ
ロンブラシと４００メッシュのパミストンの水懸濁液を
用いその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１
０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッ
チングした後、流水で水洗後２０％ＨＮＯ₃ で中和洗
浄、水洗した。これをＶA ＝１２．７Ｖの条件下で正弦
波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で１６０ク
ーロン／ｄｍ² の陽極時電気量で電解粗面化処理を行っ
た。その表面粗さを測定したところ０．６μ（Ｒａ表
示）であった。ひきつづいて３０％のＨ₂ ＳＯ₄ 水溶液
中に浸漬し５５℃で２分間デスマットした後、２０％Ｈ
₂ ＳＯ₄ 水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置し
て、電流密度２Ａ／ｄｍ² において厚さが２．７ｇ／ｍ
² になるように陽極酸化し、基板を作製した。尚、この
時の裏面の陽極酸化皮膜はアルミニウム板の中央部で約
０．２ｇ／ｍ² 、端部で約０．５ｇ／ｍ² であった。
続いて、上記の基板の表面に下記感光液を塗布し、乾燥
後の塗布重量が２．５ｇ／ｍ² となるように感光層を設
けた。

【００４２】 感光液 １，２−ジアゾナフトキノン −５−スルホニルクロリドとピロ ガロール−アセトン樹脂とのエス テル化物（米国特許第3,635,709 号 明細書の実施例１に記載されているもの） ４５重量部 クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂 １１０重量部 ２−（ｐ−メトキシフェニル）− ４，６−ビス（トリクロロメチル） −ｓ−トリアジン ２重量部 オイルブルー＃６０３ （オリエント化学工業 製） １重量部 メガファック Ｆ−１７７（大日本インキ化学工業 製フッ素系界面活性剤） ０．４重量部 メチルエチルケトン １０００重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル １０００重量部

【００４３】このようにして作製した感光層の表面に下
記の様にしてマット層形成用樹脂液を吹き付けてマット
層を設けたＰＳ版を得た。マット層形成用樹脂液として
メチルメタクリレート／エチルアクリレート／アクリル
酸（仕込重量比 ６５：２０：１５）共重合体の一部を
ナトリウム塩とした１２％水溶液を準備し、回転霧化静
電塗装機で霧化頭回転数２５，０００ｒｐｍ、樹脂液の
送液量は４０ｍｌ／分、霧化頭への印加電圧は−９０ｋ
ｖ、塗布時の周囲温度は２５℃、相対湿度は５０％と
し、塗布後２．５秒で塗布面に蒸気を吹き付けて湿潤さ
せ、ついで湿潤した３秒後に温度６０℃、湿度１０％の
温風を５秒間吹き付けて乾燥させた。マットの高さは平
均約６μｍ、大きさは平均約３０μｍ、塗布量は１５０
ｍｇ／ｍ² であった。このようにして得られたＰＳ版を
１，００３ｍｍ×８００ｍｍの大きさに裁断したものを
多数枚用意し、これらに原稿フィルムを通して１ｍの距
離から３ｋｗのメタルハライドランプを用いて、６０秒
間露光した。続いて浸漬型現像槽を有する市販の自動現
像機ＰＳ−９００Ｄ（富士写真フイルム 製）の現像槽
に、現像液ＤＰ−４（富士写真フイルム 製、主成分珪
酸アルカリ金属塩）を水道水で９倍に希釈した現像液を
２２リットル仕込んだ。別に、現像補充液原液供給タン
クには現像補充液ＤＰ−４Ｒ（富士写真フイルム 製、
主成分珪酸アルカリ金属塩）５リットルを入れた。また
第２浴には水洗水を８リットル、第３浴にはリンス液Ｆ
Ｒ−３（富士写真フイルム 製）の８倍希釈液８リット
ルを仕込んだ。

【００４４】この様な条件の元で、前述の露光済みのＰ
Ｓ版を、１日当り１７０版づつ処理した。尚、この間、
ＰＳ版の処理および空気中の炭酸ガスによる現像液活性
度の低下を現像補充液ＤＰ−４Ｒ原液１に対して水５の
比率で現像補充液を補充することにより現像液の活性度
を一定に保った。活性度チェックはステップタブレット
（１段の光学濃度差が０．１５で１５段のもの）を用い
て段階的に光量を変化させて前記ＰＳ版に焼き付けたも
のを現像し、その版上の光量に対応して残った画像の段
数を読み取り、処理開始時の段数と比較することによっ
て行った。更に第２浴には水洗水を４０ｍｌ／ｍ² 、第
３浴にはリンス液ＦＲ−３原液１に対して水２６の比率
で希釈したリンス液を４０ｍｌ／ｍ² の割合で補充し
た。現像液の補充により現像槽から排出されたオーバー
フロー廃液のｐＨは１３．０２であった。同様に水洗廃
液とリンス廃液のｐＨは１２．２および９．０であっ
た。これらのオーバーフロー廃液を２０リットルのポリ
タンクに集めたところ一日の処理で約１４．５リットル
になり、そのｐＨは１２．８であった。このオーバーフ
ロー廃液タンクに、ラクトース粉体１００ｇを加えた。
ラクトースは徐々に溶解し、３日後ｐＨは１２．３まで
下がり、廃液の安全性が向上した。またこの廃液処理に
よって廃液タンク中にカスやヘドロが発生することはな
かった。

【００４５】

【実施例２】実施例１のｐＨ低下剤ラクトースの代わり
に同量のグルコースを用いた他は全て実施例１と同様の
処理を行った。オーバーフロー廃液タンク中の混合廃液
のｐＨは３日後に１２．２５まで下がった。また、廃液
タンク中にカスやヘドロが発生することはなかった。

【００４６】

【実施例３】実施例１でｐＨ低下剤ラクトース１００ｇ
を後から加えるのではなく、予め廃液タンクに入れてお
いた他は全て実施例１と同様の処理を行った。オーバー
フロー廃液タンク中の混合廃液のｐＨは３日後に１２．
３０まで下がった。また、この方法によっても廃液タン
ク中にカスやヘドロが発生することはなかった。

【００４７】

【比較例１】実施例２の操作において、グルコースの代
わりに非還元糖Ｄ−ソルビットを用いた他は全て実施例
２と同様の処理を行ったところ、Ｄ−ソルビットは徐々
に溶解したがｐＨは１２．７５と僅かに下がっただけで
あった。

【比較例２】実施例１のｐＨ低下剤ラクトースの代わり
に１Ｎ硫酸６００ｃｃを加えたところ、混合廃液が局所
的に中和されたためか、不溶性のシリカゲルのカスが多
量に発生し、その後の廃液処理に支障を来した。

【００４８】

【比較例３】実施例１のｐＨ低下剤ラクトースの代わり
に粉体の炭酸水素ナトリウム１００ｇを用いたところ、
粉体の極く周辺で廃液が局所的に中和されたためか、不
溶性のシリカゲルのカスが多量に発生した。そして、そ
のカスが炭酸水素ナトリウム粉末を取り囲んだため、そ
れ以上溶解せず、廃液のｐＨを下げることができなかっ
た。

【比較例４】実施例１のラクトースの代わりに、７０ｇ
の炭酸水素ナトリウムを１．２リットルの水に溶解した
水溶液を加えたところ、ｐＨは１２．２５まで下がり、
廃液の安全性が向上した。またこの廃液処理によってカ
スやヘドロが発生することはなかった。しかしながら、
廃液の量が増え、その後の廃液処理の負荷が増した。

【００４９】

【実施例４】（基板の作成）厚さ０．２４mmのＪＩＳ
Ａ１０５０アルミニウム板の表面をナイロンブラシと４
００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い砂目立てし
た後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウム水溶
液に７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水
で水洗後、２０％ＨＮＯ₃ で中和洗浄、水洗した。これ
をＶA ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を
用いて１％硝酸水溶液中で２６０クーロン／dm² の陽極
時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測
定したところ０．６μｍ（Ｒａ表示）であった。ひきつ
づいて３０％のＨ₂ ＳＯ₄ 水溶液中に浸漬し、５５℃で
２分間デスマットした後、２０％Ｈ₂ ＳＯ₄ 水溶液中で
電流密度１４Ａ／dm² 、陽極酸化皮膜量が２．５ｇ／ｍ
² 相当になるように陽極酸化し、水洗後、珪酸ナトリウ
ム２．５重量％水溶液で３０℃で１０秒処理し、水洗し
て基板を作成した。この様にして処理された基板の表面
に下記に示す高分子化合物［ａ］を塗布し、９０℃で１
０秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は、１０mg／ｍ² であ
った。 高分子化合物［ａ］（下記式参照） ０．２ｇ メタノール １００ｇ 水 １ｇ

【００５０】

【化１】

【００５１】このようにして基板［Ａ］を作成した。こ
の基板［Ａ］上に下記感光液［Ａ］を塗布することによ
り感光層を設けた。乾燥後の感光層塗膜量は１．８ｇ／
ｍ² であった。 感光液［Ａ］ １，２−ジアゾナフトキノン−５−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物（米国特 許第3,635,709 号明細書の実施例１に記載されているもの） ０．８ｇ バインダー ノボラックＩ（下記式参照） １．５ｇ ノボラックII（下記式参照） ０．２ｇ ノボラック以外の樹脂III （下記式参照） ０．４ｇ ｐ−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 （米国特許第4,123,279 号明細書に記載されているもの） ０．０２ｇ ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸クロライド ０．０１ｇ テトラヒドロ無水フタル酸 ０．０２ｇ 安息香酸 ０．０２ｇ ピロガロール ０．０５ｇ ４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル） アミノフェニル〕−２，６−ビス（トリクロロメチル） −Ｓ−トリアジン ０．０７ｇ ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学（株）製の 対アニオンを１−ナフタレンスルホン酸に変えた染料） ０．０４５ｇ Ｆ１７６ＰＦ（フッ素系界面活性剤） （大日本インキ化学工業（株）製） ０．０１ｇ メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール １０ｇ

【００５２】

【化２】

【００５３】更に、真空密着時間を短縮させるため、以
下の方法でマット層を形成した。マット層形成用樹脂液
としてメチルメタクリレート／エチルアクリレート／ア
クリル酸（仕込み重量比６５：２０：１５）共重合体の
一部をナトリウム塩とした１２％水溶液を準備し、回転
霧化静電塗布機で霧化頭回転数２５．０００ｒｐｍ、樹
脂液の送液量は４０ｍｌ／分、霧化頭への印加電圧は−
９０ｋＶ、塗布時の周囲温度は２５℃、相対湿度は５０
％とし、塗布後２．５秒で塗布面に蒸気を吹き付けて湿
潤させ、ついで湿潤した３秒後に温度６０℃、湿度１０
％の温風を５秒間吹き付けて乾燥させた。マットの高さ
は約６μｍ、大きさは約３０μｍ、個数は１５０個／mm
² であった。このようにしてポジ型感光性平版印刷版を
作成した。

【００５４】このように作成した感光性平版印刷版を１
００３ｍｍ×８００ｍｍに裁断、多数枚用意した。１ｍ
の距離から３ｋＷのメタルハライドランプにより１分間
画像露光した後、現像処理浴の後に第１の不感脂化処理
浴と第２の不感脂化処理浴を有し、現像浴および第２の
不感脂化処理浴に補充液を補充する機構をもち、第２の
不感脂化処理浴のオーバーフロー液を第１の不感脂化処
理浴に排出する機構を持った自動現像機で処理した。そ
の際、現像浴には次に示す現像液［Ａ］を２０Ｌ仕込
み、３０℃で１２秒間現像処理し、第１の不感脂化処理
浴には下記の不感脂化液［Ａ］を４Ｌ仕込み、また第２
の不感脂化処理浴にも不感脂化液［Ａ］を４Ｌ仕込んで
開始した。

【００５５】 現像液［Ａ］ Ｄ−ソルビット ２７．０ ｇ 水酸化カリウム １２．６ ｇ トリエタノールアミンのエチレンオキシド３０モル付加物 ０．１６ｇ ＤＥＱＵＥＳＴ ２０６６（米国モンサント社製キレート剤） ０．３４ｇ 水 ７０．８ ｇ

【００５６】 不感脂化液［Ａ］ アラビアガム １６．８ ｇ ヒドロキシプロピル化酵素変性馬鈴薯澱粉 ９２．６ ｇ 燐酸化ワキシ−玉蜀黍澱粉 ８．４ ｇ ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩（80％水溶液）１．４ｇ クエン酸 ０．５ ｇ アジピン酸 １．１ ｇ ＥＤＴＡ−四ナトリウム塩 １．０ ｇ エチレングリコール ８．４ ｇ ベンジルアルコール ９．３ ｇ ドデシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸二ナトリウム塩 （47％水溶液） ３．８ ｇ 燐酸二水素アンモニウム ０．８ ｇ デヒドロ酢酸ナトリウム １．０ ｇ エマルジョン型シリコン消泡剤 ０．１６ｇ 水 ９００．０ｇ

【００５７】処理は一日あたり１５０版、３ヶ月間連続
して行った。現像浴へは下記の現像補充液［Ａ］を１m²
あたり３０cc補充した。不感脂化浴へは上記不感脂化液
［Ａ］を１m²あたり２０cc補充した。 現像補充液［Ａ］ Ｄ−ソルビット ５８．３ ｇ 水酸化カリウム ２５．９ ｇ トリエタノールアミンのエチレンオキシド３０モル付加物 ０．２４ｇ ＤＥＱＵＥＳＴ ２０６６（米国、モンサント社製キレート剤）１．２ ｇ 水 ６１．３６ｇ これらの補充によって、現像浴から排出した現像廃液の
ｐＨは１３．０５であった。この現像廃液と第１の不感
脂化処理浴の廃液をそれぞれ塩ビホースによって一つの
廃液タンクに導いた。尚、この廃液タンクには予め粉体
グルコース１００ｇを入れておいた。廃液タンクは３日
間の処理で満杯になり、その時点で混合廃液のｐＨを測
定したところ１２．４０であり、アルカリ度の低減が図
れた。また、廃液タンク中にカスやヘドロは発生してな
かった。

【００５８】

【実施例５】実施例４で、一日あたりの処理量を１５
版、現像浴へは現像補充液［Ａ］を１m²あたり８０cc補
充とした他は全て実施例４と同様の処理を行った。この
補充によって、現像浴から排出した現像廃液のｐＨは１
３．０５であった。２０リットルの廃液タンクが満杯に
なるのに３週間を要した。その間廃液タンク中の混合廃
液のｐＨは徐々に低下し、満杯になった時点でのｐＨは
１２．４と、アルカリ度の低減が図れた。

【００５９】

【比較例５】実施例４で廃液タンクに粉体グルコースを
入れておかなかった場合の混合廃液のｐＨは、廃液タン
クが満杯になった時点で、１２．６２であった。

【比較例６】実施例５で廃液タンクに粉体グルコースを
入れておかなかった場合の混合廃液のｐＨは、廃液タン
クが満杯になった時点で、１２．７８であった。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 還元糖類を含有することを特徴とする、
   ｐＨが１２．５以上のアルカリ性産業廃棄物のｐＨ低下
   剤。
2. 【請求項２】 アルカリ性産業廃棄物が、感光性平版印
   刷版を現像処理した廃液を含むことを特徴とする、請求
   項１のｐＨ低下剤。
3. 【請求項３】 ｐＨが１２．５以上のアルカリ性廃液の
   ｐＨを下げる方法であって、該廃液に請求項１記載のｐ
   Ｈ低下剤を添加することを特徴とする方法。