JPH11292989A - セルローストリアセテートフィルムの製造方法及びセルローストリアセテートフィルム - Google Patents
セルローストリアセテートフィルムの製造方法及びセルローストリアセテートフィルムInfo
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Abstract
し、製膜し易く、平面性や機械的物性に優れたセルロー
ストリアセテートフィルムを提供することにある。 【解決手段】平均酢化度が59.0〜62.5%で粘度
平均重合度が150〜550の範囲にある複数のロット
の中から、粘度平均重合度の差が50〜300である二
つのロットを重量割合として20/80〜80/20で
混合したセルローストリアセテートを有機溶媒に溶解し
てドープを調製する工程と溶液流延製膜工程を通して製
造することを特徴とするセルローストリアセテートフィ
ルムの製造方法。
Description
光材料又は液晶画像表示装置に有用なセルローストリア
セテートフィルム及びセルローストリアセテートフィル
ムの製造方法に関する。
その透明性と光学的等方性から、写真材料や光学材料に
有用であり、特にハロゲン化銀写真感光材料用の支持体
や液晶表示装置における偏光板の保護フィルム、カラー
フィルターなどが代表的な用途である。セルローストリ
アセテートフィルムは、従来、溶液流延製膜法により製
造されており、それはセルローストリアセテートを有機
溶媒に溶解させた溶液(以降ドープともいうことがあ
る)を支持体上に流延し、その支持体上で凝固したウエ
ブを支持体から剥離し、有機溶媒を蒸発させて乾燥して
フィルムとする方法である。
ンプで流延用装置に送り、流延装置として例えばダイか
らエンドレスに走行する鏡面化された金属支持体上に流
延し、乾燥させながら、支持体がほぼ1周したところで
ドープ膜(ウェブともいう)を剥離し、乾燥装置(ロー
ル群を通して搬送を行うか、ウェブの両端をクリップで
留めてテンターで搬送するかして)では層しながら乾燥
し、必要に応じて下引装置で下引層や帯電防止層を塗布
し、更に乾燥して巻取り、セルローストリアセテートフ
ィルムを作製する方法であり、当業界では常套手段とし
て用いられている。
トリアセテートフィルム中に残存する溶剤を蒸発させる
ことが必要であるから、高速製膜化するためには、乾燥
速度を速めることが必要であった。このため、従来から
乾燥温度を高くすることにより対応して来たが、乾燥温
度を高くするにも限界があった。即ち、セルローストリ
アセテートフィルムは、乾燥工程で搬送される際、搬送
方向に搬送張力を受けて、幅方向に圧縮力が生じ易く、
高温乾燥によりセルローストリアセテートフィルムの弾
性率は急激に低下し、セルローストリアセテートフィル
ムに座屈変形が起きて平面性が劣化し易くなる。
公報には、高濃度ドープを10℃以下の冷却ドラム上に
流延し、続いてテンターにて幅保持しながら搬送し乾燥
させるという高速製膜化する方法が提案されている。こ
の方法では、高濃度ドープであって、且つ冷却ドラム上
に直ぐにゲル化させるため、ドープ膜の流動性がなく、
後でテンターで幅保持したとしても、流延直後に生じた
平面性の劣化は矯正出来ないという欠点があった。
て、非晶性を高めたセルローストリアセテートを用いる
特開平9−40792号公報の方法が提案されている。
この方法によると、低粘度のセルローストリアセテート
は、低分子量のセルローストリアセテートをケトン類、
酢酸エステル類、セロソルブ類等で洗浄し、結晶化の原
因の低分子量成分を除くことによって、また、セルロー
ストリアセテートの製造段階で硫酸触媒をセルロースに
対して10〜15重量%使用し、酢化度を若干低めるこ
とによって得られるとしている。
めに高濃度のドープや、流延後ゲル化するドープを用い
たりしていたが、これらのドープでは流延直後のレベリ
ングがされにくく仕上がりのフィルムの平面性の優れた
セルローストリアセテートフィルムを得ることが難しか
った。前記の高濃度ドープを使用する方法は、流延直後
に支持体上でドープのレベリングが不充分であったり、
ダイから流延される時メルトフラクチャーが発生してド
ープ膜に鮫肌が発生する場合もある。
低濃度としたドープを用いる方法は、レベリングし易い
代わりに、多量の有機溶媒の蒸発に時間がかかり、ま
た、重合度の低いセルローストリアセテートを使用する
ことも考えられるが、得られるフィルムの機械的強度
(例えば引裂強度など)が著しく低下してしまうという
問題がある。特開平9−40792号公報の低分子量セ
ルローストリアセテートを除去したものを用いる方法で
は、抽出する溶媒、時間、設備等通常のセルローストリ
アセテートよりもコスト高となり、またセルロースに対
して硫酸触媒を10〜15重量%含ませて反応させ、酢
化度を若干低下させる方法とがあるが、前者は処理が煩
雑でしかもコストアップになり兼ねないことと、後者は
酢化度が低下することによる耐水性や機械的強度が低下
する虞があることなどから実際問題として採用しがたい
という問題がある。
ないで粘度を低減し、製膜し易く、平面性や機械的物性
に優れたセルローストリアセテートフィルムを提供する
ことにある。
鋭意検討した結果、比較的低粘度のドープを使用し、従
来欠点とされていた諸問題を解決することに成功した。
即ちドープを低粘度化するために、セルローストリアセ
テートの粘度平均重合度に注目し、粘度平均重合度が低
いものが共存していても、高いセルローストリアセテー
トがある割合以上存在させることによって機械的物性を
高めておくことが出来ることを見いだし、低粘度化を成
功させたのである。
達成された。
で粘度平均重合度が150〜550の範囲にある複数の
ロットの中から、粘度平均重合度の差が50〜300で
ある二つのロットを重量割合として20/80〜80/
20で混合したセルローストリアセテートを有機溶媒に
溶解してドープを調製する工程と溶液流延製膜工程を通
して製造することを特徴とするセルローストリアセテー
トフィルムの製造方法。
トの濃度が、10〜35重量%であることを特徴とする
(1)に記載のセルローストリアセテートフィルムの製
造方法。
アセテートに対して5〜30重量%含有していることを
特徴とする(1)又は(2)に記載のセルローストリア
セテートフィルムの製造方法。
のメチレンクロライドと2〜25重量%の炭素原子数1
〜6のアルコールを含有していることを特徴とする
(1)乃至(3)の何れか1項に記載のセルローストリ
アセテートフィルムの製造方法。
のメチレンクロライドと13〜25重量%の炭素原子数
1〜6のアルコールを含有していることを特徴とする
(4)に記載のセルローストリアセテートフィルムの製
造方法。
アセトン、酢酸メチル、ギ酸エチルから選ばれる少なく
とも1種を含有していることを特徴とする(1)乃至
(3)の何れか1項に記載のセルローストリアセテート
フィルムの製造方法。
の酢酸メチル、ギ酸エチルから選ばれる少なくとも1種
と5〜40重量%のアセトンを含有していることを特徴
とする(6)に記載のセルローストリアセテートフィル
ムの製造方法。
にセルローストリアセテートを添加した混合物を−10
0〜−10℃に冷却する工程と、冷却した混合物を0〜
120℃に加熱してセルローストリアセテートを溶解す
る工程とを有することを特徴とする(1)乃至(7)の
何れか1項に記載のセルローストリアセテートフィルム
の製造方法。
にセルローストリアセテートを添加した混合物を50〜
4000kgf/cm2の圧力下に保持する工程と、続
けて加圧された混合物を0.1〜10kgf/cm2の
圧力下に保持する工程を有することを特徴とする(1)
乃至(7)の何れか1項に記載のセルローストリアセテ
ートフィルムの製造方法。
記載の方法により製造されたセルローストリアセテート
フィルム。
トは59.0〜62.5%の酢化度を有するものであ
る。酢化度はセルロースの水酸基に酢酸が反応した酢酸
(CH3COOH)の重量を%で表したもので、最高に
反応した場合が62.5%である。酢化度の測定はAS
TMのD−817−91のセルロースアセテート等の試
験方法に記載されている方法によって測定できる。
テートの粘度平均重合度は大凡250〜600のもので
ある。セルローストリアセテートから作られるフィル
ム、繊維又は成型品は、機械的強度がタフであることが
要求されるため、機械的強度が安定的に得られる粘度平
均重合度は200以上あることが必要とされており、祖
父江寛、右田伸彦編「セルロースハンドブック」朝倉書
房(1958)や、丸沢廣、宇田和夫編「プラスチック
材料講座17」日刊工業新聞社(1970)に同様なこ
とが記載されている。
ートの粘度平均重合度は150〜550の範囲のもので
ある。低粘度の低重合度のものは、機械的強度が低く一
般的には用いられていないが、本発明ではこの低粘度品
をより高い粘度平均重合度のものに混合する方法であ
り、仮に区分すると、比較的低粘度品を粘度平均重合度
が150〜300程度とし、高粘度品の粘度平均重合度
を250〜550程度とすると、低粘度平均重合度と高
粘度平均重合度との差が50乃至300ある二つのロッ
トを20/80〜80/20の割合で混合使用するにと
によって、機械的強度を落とすことなく、低粘度のドー
プを使用することが出来、合目的のドープ粘度に仕上げ
ることが出来る。混合比はそれぞれのロットの粘度によ
って異なるが、好ましくは高粘度ロット/低粘度ロット
の比は30/70〜70/30であり、更に好ましくは
40/60〜60/40である。
ートが合成されるときのある平均値を有する集合体であ
って、1回の合成で、1ロットの場合もあるし、何ロッ
トも出来る場合もある。また、本発明で使用するロット
数は二つであるが、3ロット以上を混合しても構わない
セルローストリアセテートは、一般に、綿花のリンター
や木材パルプ等のセルロースに、反応剤としてセルロー
スの水酸基に対して過剰量の無水酢酸、反応溶媒として
酢酸やメチレンクロライド、反応触媒として硫酸等を用
いて反応して得られる。この際、加水分解反応も同時に
起こりセルロース分子の主鎖が解裂して重合度が低下し
たり、酢化度が低下する。従ってセルロースの量に対す
る各薬品の量や温度、時間等を調節して反応をコントロ
ールする必要がある。本発明に使用する低粘度のセルロ
ーストリアセテートのロットは上記のようにコントロー
ルして調製したロットを使用するが、たまたま出来てし
まった低粘度品ロットも使用することが出来る。
の点から見て、綿花リンターであっても、木材パルプで
あってもよく、これらを混合して用いてもよい。またリ
ンターから酢化反応して得られたセルローストリアセテ
ートのロットと、木材パルプからのセルローストリアセ
テートのロットを重合度差さえ合えば混合して使用して
もよい。
ートは写真用グレードのものが好ましく、市販の写真用
グレードのものは粘度平均重合度、酢化度等の品質を満
足して入手することができる。写真用グレードのセルロ
ーストリアセテートのメーカーとしては、ダイセル化学
工業(株)、コートルズ社、ヘキスト社、イーストマン
コダック社等があり、何れの写真用グレードのセルロー
ストリアセテートも使用できる。また低粘度品(低粘度
平均重合度品)についても特別にメーカーより購入する
ことが出来る。
セルローストリアセテートを単独で或いは他の溶剤と混
合して溶解できる溶剤であれば特に制限はないが、各有
機溶媒の沸点付近で溶解させるか、ほぼ常圧に近い圧力
下で溶解出来るものとして、例えばメチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどのハロゲン化炭化水素類、
ニトロメタン、ニトロプロパンなどのニトロ化合物、
1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサンなどの4か
ら7員環を有する環状ジエーテル化合物、2,2,2−
トリフルオロエタノール、1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロ−2−プロパノールなどの炭素数2〜10
のフッ化アルコールなどが好ましく用いられる。またセ
ルローストリアセテートを上記の状態で溶解しにくい有
機溶媒は、低温処理をしてから溶解したり、高圧下で処
理をすることによって溶解するものもある。これらに適
する有機溶媒としては、酢酸メチル、ギ酸エチルなどの
エステル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノンなどのケトン類等、であり、本発明において
は、酢酸メチル、ギ酸エチル、アセトンを好ましく用い
ることが出来る。何れの有機溶媒もドープ中の全有機溶
媒に対して60重量%以上用いるのが好ましい。
溶解する場合には、ドープ中の全有機溶媒量に対してメ
チレンクロライドの割合は、75重量%以上98重量%
以下が好ましく、更には、75重量%以上87重量%以
下が好ましい。この場合、溶解性を高めるため、或いは
高速製膜を可能にするための炭素原子数1乃至6のアル
コールを2重量%乃至25重量%共存させるのが好まし
い。特に、該アルコールを13重量%乃至25重量%を
含有させるのが、高速製膜のために好ましい。
かつ沸点が低く乾燥負荷の少ない1,3−ジオキソラ
ン、2,2,2−トリフルオロエタノールを好ましく用
いることが出来る。勿論これらの溶剤はメチレンクロラ
イド、アセトン、酢酸メチル、ギ酸エチル等と混合して
用いてもよい。
解法に用いられる有機溶媒としての酢酸メチルやギ酸エ
チル及びアセトンは、常温では、セルローストリアセテ
ートを溶解せず膨潤するだけであるが、特開平9−95
538号や特開平9−95544号公報に記載されてい
る冷却溶解法、或いは特に本発明者らによって開発され
た高圧溶解法を用いることによって溶解出来る。ところ
が、この方法から得られるセルローストリアセテート溶
液は、粘度が高くなりがちであるが、本発明者らは、酢
酸メチル又はギ酸エチルにアセトンを併用することによ
りセルローストリアセテート溶液粘度を低減することが
出来ることを見い出した。アセトンを併用する割合とし
ては、有機溶媒に対して、酢酸メチル又はギ酸エチルを
全有機溶媒量に対して60〜95重量%、アセトンを5
〜40重量%の割合で併用することが特に好ましい。
スエステルを単独では溶解せず、膨潤するか溶解しない
溶媒)を混合してもよい。例えば上記の炭素原子数1〜
6のアルコールを用いたが、これらは単独ではセルロー
ストリアセテートを溶解する能力はないが、共存させる
ことによって、溶解性を向上させたり、貧溶媒としての
アルコールを多く添加したセルローストリアセテートの
メチレンクロライド溶液は粘度が高めとなるが、低温に
維持された支持体上に流延すると、セルローストリアセ
テート溶液がゲル化し強度が強くなるので、支持体のベ
ルトやドラム上からはぎ取るのが容易となる利点があ
る。しかし本発明のセルローストリアセテートを混合し
て用いることによってドープ粘度を低下させてしかもゲ
ル化させることも出来る。本発明に用いられる貧溶媒と
しては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−
ブタノール、シクロヘキサノールなどの炭素数が1〜6
の低級アルコールの他、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、プロピルアセテート、モノクロルベン
ゼン、ベンゼン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチルセルソルブ、エチレングリコール、モノメチ
ルエーテル、トルエンなどを挙げることができる。中で
もメタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノ
ール、シクロヘキサンが好ましい。これら貧溶媒を添加
する割合としては、セルローストリアセテートの溶解性
を向上させる目的では、2〜12重量%とすることが好
ましい。また、セルローストリアセテート溶液を低温で
ゲル化させる目的のためには、13〜25重量%である
ことが好ましい。
法の使用の有機溶媒の沸点以下で、またほぼ常圧におい
て調製される通常の溶解方法、−10℃以下という低温
で調製する冷却溶解方法、及び高圧下で調製する高圧溶
解方法とがある。
ーストリアセテート及び溶媒を溶解容器に入れ、常温
で、或いは溶媒が沸騰しない温度条件下で攪拌混合する
ことにより得られる。攪拌混合は、容器内部の液膜残り
のないような装置や方式であることが好ましい。また容
器内には窒素ガスなどの不活性ガスで充満させて分解を
抑制してもよい。必要により、加圧容器などを用いて加
圧条件下で攪拌混合してもよい。
は、前述の特開平9−95538号公報などに記載され
ている方法を参考にすることが出来る。この方法は、先
ず有機溶媒中にセルローストリアセテートを撹拌しなが
ら徐々に添加する。この段階では、セルローストリアセ
テートは溶媒中で膨潤している状態の混合物となってい
る。次に、この混合物を冷却する。冷却温度は、溶媒の
凝固点以上の温度であればよく、−100〜−10℃の
温度範囲である。温度が低いほど溶解時間を短縮するこ
とができる。次いで、この冷却物を0〜120℃の温度
に加温すると、セルローストリアセテートが溶媒中に溶
解し均一な溶液が得られる。加温する温度は、高い程溶
解時間を短縮できるが、溶媒が発泡してセルローストリ
アセテート溶液中に気泡が入ってしまう場合がある。こ
の場合は容器内の温度を発泡しない温度まで下げるか、
圧力を高めて発泡を抑えればよい。更に溶解を速めるた
めに、冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が十
分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察する
ことで判断することができる。冷却溶解方法において
は、冷却時の結露による水分の混入を避けるため、密閉
容器を用いることが好ましい。また、冷却操作において
冷却時に加圧し加温時に減圧すると、更に溶解時間を短
縮することができる。加圧及び減圧を実施するために
は、耐圧性容器を用いることが好ましい。
機溶媒とセルローストリアセテートとの混合物を、可能
な限り全方向から圧力を掛けることが出来る容器(例え
ば、袋状のアルミニウム容器)に入れ、高圧力下に保持
し、次いで圧力を解放し混合物を常圧下付近に保持する
ことによってセルローストリアセテート溶液を溶解調製
することが出来、本発明においてはメチレンクロライド
以外の有機溶媒の溶解方法としては好ましく用いること
が出来る。最初に、有機溶媒(アセトン、酢酸メチル、
ギ酸エチル、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサ
ン、シクロヘキサノン等の溶媒)中に、セルローストリ
アセテートを撹拌しながら徐々に添加する。この段階で
はセルローストリアセテートは溶媒中で膨潤している状
態の混合物となっている。次に、この混合物を、高圧力
下に保持する。圧力は、50kgf/cm2以上から効
果が認められ、高い程溶解時間が短縮できるが、あまり
高すぎると設備が大型になりすぎるし、溶解時間の短縮
効果も徐々に飽和してくるので、4000kgf/cm
2以下であれば十分な効果が得られる。次に、圧力を解
放し、この混合物を0.1〜10kgf/cm2の圧力
下に保持することによりセルローストリアセテートが溶
媒中に溶解し均一な溶液が得られる。なお、溶解を速め
るために、加圧、解放の操作を繰り返してもよい。溶解
が十分であるかどうかは、目視により溶液の概観を観察
することで判断することができる。溶解させる容器は特
に限定はなく圧力に耐える強度、構造であれば良い。密
閉容器等を用いてバッチ式に行ってもよいし、一軸や二
軸式の押し出し機や混練機等で連続的に行っても良い。
また、加圧操作において冷却し、解放操作において加温
すると、更に溶解時間を短縮することが出来る。
ートの濃度は、セルローストリアセテートフィルム製膜
時の乾燥効率の点から、なるべく高濃度であることが好
ましいが、あまり高濃度になると溶液の粘度が大きすぎ
て、フィルムにした時の平面性の改良が十分得られない
場合があるので、好ましいドープ濃度は、10〜40重
量%の範囲である。更に15〜35重量%の範囲が好ま
しい。
セテートの濃度を、前記の如く、最初から10〜40重
量%の範囲としてもよいのであるが、最初は低濃度溶液
とし、フィルム製膜時の溶液流延直前に溶媒を蒸発させ
て、高濃度溶液を調製する方法も好ましい方法として挙
げられる。低濃度溶液中のセルローストリアセテート濃
度は、1〜10重量%、高濃度化した溶液中のセルロー
ストリアセテートは上記の範囲が好ましい。濃縮方法に
ついては、特に限定はなく、例えば、低濃度溶液を、筒
体とその内部の周方向に回転する回転羽根外周の回転軌
跡との間に導くとともに、溶液との間に温度差を与えて
溶媒を蒸発させながら高濃度溶液を得る方法(例えば、
特開平4−259511号公報等)、加熱した低濃度溶
液をノズルから容器内に吹き込み、溶液をノズルから容
器内壁に当たるまでの間で溶媒をフラッシュ蒸発させる
とともに、溶媒蒸気を容器から抜き出し、高濃度溶液を
容器底から抜き出す方法(例えば、USP2,541,
012号、同2,858,229号、同4,414,3
41号、同4,504,355号各明細書等)などに記
載の方法で実施できる。
やゴミ、不純物などの異物を濾過除去するのが非常に容
易であり、濾過効率を向上することが出来る。
ても用途に応じた種々の添加剤を加えることができる。
質の向上或いは耐水性を付与するために可塑剤、ライト
パイピング防止用の着色剤或いは紫外線防止剤が、また
液晶画面表示装置用には耐熱耐湿性を付与する酸化防止
剤などを添加することが好ましい。
ン酸エステル、グリコール酸エステル等が好ましく用い
られる。リン酸エステルの例としては、トリフェニルホ
スフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフ
ェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェー
ト、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチル
ホスフェート、トリブチルホスフェート等があり、カル
ボン酸エステルの例としては、ジメチルフタレート、ジ
エチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフ
タレート、ジエチルヘキシルフタレート、クエン酸アセ
チルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイ
ン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸
ジブチル、トリメリット酸エステル等があり、グリコー
ル酸エステルの例としては、トリアセチン、トリブチリ
ン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリ
ルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレ
ート、ブチルフタリルブチルグリコレート等がある。中
でもトリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェ
ート、クレジルジフェニルホスフェート、トリブチルホ
スフェート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエ
チルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリ
ルエチルグリコレートが好ましい。特にトリフェニルホ
スフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリコレートが好ましい。これらの可塑剤は1種でも
よいし2種以上併用してもよい。可塑剤の添加量はセル
ローストリアセテートに対して5〜30重量%、特に8
〜16重量%が好ましい。これらの化合物は、セルロー
ストリアセテート溶液の調製の際に、セルローストリア
セテートや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や
調製後に添加してもよい。
I)で示される化合物を添加してもよい。
Rは、それぞれ炭素原子数が1以上4以下のアルキル基
である。上記一般式(I)、(II)又は(III)で示さ
れる化合物の例としては、リン酸2,2′−メチレンビ
ス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ナトリウム(ア
デカスタブNA−10、旭電化(株)製)及びビス(p
−エチルベンジリデン)ソルビトール(NC−4、三井
東圧化学(株)製)が含まれる。
表されるものが用いられる。
R2、R3及びXは、それぞれ水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、
アルケノキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、
アルケニルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環オキシ
基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルバモイル基、スルフ
ァモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ア
シル基、アシルオキシ基を表す。mは0〜2の整数を表
す。R2、R3及びXは互いに同一でもよいし異なってい
てもよい。上記アルキル基は、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、シクロヘキ
シル、t−ヘキシル、t−オクチル、ドデシル、ヘキサ
デシル、オクタデシル、ベンジル等の直鎖、分岐、又は
環状のアルキル基を表し、上記アルケニル基は、例え
ば、ビニル、アリル、2−ペンテニル、シクロヘキセニ
ル、ヘキセニル、ドデセニル、オクタデセニル等の直
鎖、分岐、又は環状のアルケニル基を表し、上記アリー
ル基は、例えば、フェニル、ナフチル、アントラニルな
どのベンゼン単環や縮合多環のアリール基を表し、上記
ヘテロ環基は、例えば、フリル、ピロリル、イミダゾリ
ル、ピリジル、プリニル、クロマニル、ピロリジル、モ
ルホリニル等の窒素原子、硫黄原子、酸素原子の少なく
とも一つを含む5〜7員環からなる基を表す。中でもヒ
ンダードフェノール系の化合物が好ましく、2,6−ジ
−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−
テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリ
コール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘ
キサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4
−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ
−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−ト
リアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,
N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−
トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に2,6−ジ
−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−
テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリ
コール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が最も好まし
い。また例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕
ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイトな
どの燐系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物
の添加量は、セルローストリアセテートに対して重量割
合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000p
pmが更に好ましい。
下記一般式(V)、(VI)に示す化合物が挙げられる。
原子、又は、NR23を表す。R1〜R8、R12〜R23は、
それぞれ水素原子、水酸基、脂肪族基、芳香族基、複素
環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、COR9、
COOR9、NR9R10、NR10COR11、NR10SO2
R11、CONR9R10、SO2NR9R10、COR11、S
O2R11、OCOR11、NR9CONR10R11、CONH
SO2R11、又はSO2NHCOR11を表し、R9、R10
はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基を
表し、R11は脂肪族基、芳香族基、又は複素環基を表
す。
1〜20のアルキル基(例えば、メチル、エチル、n−
ブチル、イソプロピル、2−エチルヘキシル、n−デシ
ル、n−オクタデシル)、炭素数1〜20のシクロアル
キル基(例えば、シクロベンジル、シクロヘキシル)又
はアリル基を表し、これらは更に置換基(例えば、ハロ
ゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸
基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数0〜20のア
ミノ基、炭素数1〜20のアミド基、炭素数1〜20の
カルバモイル基、炭素数2〜20のエステル基、炭素数
1〜20のアルコキシ基又はアリーロキシ基、炭素数1
〜20のスルホンアミド基、炭素数0〜20のスルファ
モイル基、5又は6員の複素環を有していてもよい。R
1〜R23で表される芳香族基は炭素数6〜10のフェニ
ル、ナフチルなどのアリール基を表し、前記に挙げた置
換基及び炭素数1〜20のメチル、エチル、n−ブチ
ル、t−ブチル、オクチルなどのアルキル基からなる置
換基を有していてもよい。R1〜R11で表される複素環
基は、5又は6員の複素環を表し、前記の置換基を有し
ていてもよい。以下化4〜化9に一般式(V)及び(V
I)で表される化合物の好ましい例(V−1)〜(V−
25)、及び(VI−1)〜(VI−4)を示す。
ートに対する重量割合で10〜1000ppmが好まし
く、50〜500ppmが更に好ましい。この様に着色
剤を含有させることにより、セルローストリアセテート
フィルムのライトパイピングが減少でき、黄色味を改良
することができる。これらの化合物は、ドープの調製の
際に、セルローストリアセテートや有機溶媒と共に添加
してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
更に種々の添加剤を溶液の調製前から調製後の何れの段
階で添加してもよい。添加剤としては、紫外線吸収剤、
カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微
粒子、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属
の塩などの熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤
等である。
だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物
やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ま
しい。
セテートフィルムの製膜方法について述べる。
ムを製造する設備としては従来セルローストリアセテー
トフィルムの製造に用いられている溶液流延製膜法のも
のが利用できる。その設備と製造方法の概略を述べる
と、前述の調製装置で調製されたドープは、例えば回転
数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポン
プを通して加圧型ダイに送られる。精密ギヤポンプから
加圧ダイに送り込まれたドープは加圧型ダイの口金(ス
リット)からエンドレスに回転している支持体の上に均
一に流延され、支持体がほぼ一周したところで、生乾き
のフィルム(ウェブ)として支持体から、回転している
ロール群に通されながら乾燥され、乾燥されたフィルム
は搬送後巻き取り機で所定の長さに巻き取られる。
れたドープを加圧ダイから支持体上に均一に押し出す方
法、一旦支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚
を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転
するロールで調節するリバースロールコーターによる方
法等の流延装置があるが、加圧ダイによる方法が好まし
い。加圧ダイにはコートハンガータイプやTダイタイプ
等があるが何れも好ましく用いることができる。また、
ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルロース
トリアセテート溶液からセルローストリアセテートを流
延製膜する種々の方法(例えば特開昭61−94724
号、同61−148013号、特開平4−85011
号、同4−286611号、同5−185443号、同
5−185445号、同6−278149号、同8−2
07210号公報などに記載の方法)を好ましく用いる
ことができ、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条
件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と
同様の効果が得られる。
ムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する支持
体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げさ
れたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステン
レスベルト(バンドといってもよい)が用いられる。
ムの製造に用いられる加圧ダイの支持体上への配置は1
基或いは2基以上の設置でもよい。好ましくは1基又は
2基である。2基以上設置する場合には流延するドープ
量をそれぞれのダイスに種々な割合にわけてもよく、複
数の精密定量ギヤポンプからそれぞれの割合でダイにド
ープを相液する。
ムの製造に係わる支持体上におけるドープの乾燥は、一
般的にはドラム或いはベルトの表面側、つまり支持体上
にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム或い
はベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロー
ルした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側の
裏面から接触させて、伝熱によりドラム或いはベルトを
加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などが
あるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。
に用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよ
い。しかし乾燥を促進するためには、また支持体上での
流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も
沸点の低い溶媒の沸点より1から10℃低い温度に設定
することが好ましい。
する速度はベルトの長さ、乾燥方法、ドープ溶媒組成等
によっても変化するが、ウェブをベルトから剥離する時
点での残留溶媒の量によって殆ど決まってしまう。つま
り、ドープ膜の厚み方向でのベルト表面付近での溶媒濃
度が高すぎる場合には、剥離した時、ベルトにドープが
残ってしまい、次の流延に支障を来すため、剥離残りは
絶対あってはならないし、更に剥離する力に耐えるだけ
のウェブ強度が必要であるからである。剥離時点での残
留溶媒量は、ベルトやドラム上での乾燥方法によっても
異なり、ドープ表面から風を当てて乾燥する方法より
は、ベルト或いはドラム裏面から伝熱する方法のほうが
効果的に残留溶媒量を低減することができるのである。
ムの製造に係わるウェブ(ここで、ウェブとは剥離され
たドープ膜から乾燥されてフィルムに至るまでをウェブ
と呼ぶことにするが、それらの境界は定かではない)乾
燥方法について述べる。支持体が1周する直前の剥離位
置で剥離されたウェブは、千鳥状に配置されたロール群
に交互に通して搬送する方法や剥離されたウェブの両端
をクリップで把持させて非接触的に搬送する方法などに
より搬送しつつ、搬送中のウェブ両面に所定の温度の風
を当てる方法やマイクロウェーブなどの加熱手段などを
用いる方法によって乾燥が行われる。急速な乾燥はウェ
ブの平面性を損なう虞があるので、乾燥の初期段階で
は、溶媒が発泡しない程度の温度で乾燥し、乾燥が進ん
でから高温で乾燥を行うのが好ましい。
蒸発によってウェブは幅方向に収縮しようとする。高温
度で乾燥するほど収縮が大きくなる。この収縮は可能な
限り抑制しながら乾燥することが、出来上がったフィル
ムの平面性を良好にする上で好ましい。この点から、例
えば、特開昭62−46625号公報に示されているよ
うな乾燥全工程或いは一部の工程を幅方向にクリップで
ウェブの幅両端を幅保持しつつ乾燥させる方法(テンタ
ー方式)が好ましい。
あり、本発明では、例えば、特開昭62−115035
号、特開平4−152125号、同4−284211
号、同4−298310号等の公報に記載の延伸方法も
使用し得る。
ムの乾燥工程における乾燥温度は40から250℃、特
に70から180℃が好ましい。使用する溶媒によって
乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使用溶媒の
種類、組合せに応じて適宜選べばよい。最終仕上がりフ
ィルムの残留溶媒量は2重量%以下、更に0.4重量%
以下であることが、寸度安定性が良好なフィルムを得る
上で好ましい。
雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下
でもよい。
ムの製造に係わる巻き取り機は一般的に使用されている
ものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテ
ンション法、内部応力一定のプログラムテンションコン
トロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができ
る。
ストリアセテートフィルムの厚さは、使用目的によって
異なるが、通常5〜500μmの範囲であり、更に40
〜250μmの範囲が好ましく、特に60〜125μm
の範囲が最も好ましい。フィルム厚さの調整は、所望の
厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダ
イの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、支
持体速度等を調節すればよい。
方法について述べる。
(%) 酢化度は、ASTMD817−91に準じて行い、ケン
化法によって測定するものとする。乾燥したセルロース
トリアセテートを精秤し、アセトンとジメチルスルホキ
シドとの混合溶媒(容量比4:1)に溶解した後、所定
の1N水酸化ナトリウム水溶液を添加し、25℃で2時
間ケン化する。フェノールフタレインを指示薬として添
加し、1N硫酸(濃度ファクター;F)で過剰の水酸化
ナトリウムを滴定する。また、上記と同様な方法によ
り、ブランクテストを行う。そして、下記に従って酢化
度(%)を算出する。
はブランクテストに要する1N硫酸量(ml)、Fは1
N硫酸のファクター、Wは試料重量を示す。
重合度(DP) 絶乾したセルローストリアセテート約0.2gを精秤
し、メチレンクロライドとエタノールの混合溶媒(重量
比9:1)100mlに溶解する。これをオストワルド
粘度計にて、25℃で落下秒数を測定し、重合度を以下
の式によって求める。
るが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
た。
はウェブの重量(W)を精秤し、次に前記フィルム或い
はウェブを150℃で3時間加熱した後、水分を吸わな
いように室温まで冷却し秤量する。絶乾フィルム或いは
絶乾ウェブの重量(D)として、 残留溶媒量(%)={(W−D)/D}×100 で求めた。
性、ヘイズ、引裂強度、引張強度、弾性率、耐折度の各
測定及び評価方法は以下の方法で行った。なお、ここで
フィルムとはセルローストリアセテートフィルム製造工
程の最終段階の巻き取り工程で巻き取り後切り出した乾
燥されたフィルムをいう。
メック社製)により溶液温度を30℃に保持しながら測
定した。
上に大きさ100cm×40cmの試料フィルムを置
き、斜め上方に配置した3本の蛍光灯をフィルムに映し
て蛍光灯の曲がり具合で平面性を評価し、次の基準でラ
ンク付けした。
て、ヘイズメーター(1001DP型、日本電色工業
(株)製)を用いて測定した。
湿度55%RHに調湿された部屋で4時間調湿した後、
試料寸法50mm×64mmに切り出し、ISO 63
83/2−1983に従い測定して求めた。
℃、相対湿度55%RHに調湿された部屋で4時間調湿
した後、試料幅10mm、長さ200mmに切断し、チ
ャック間距離100mmにして引っ張り速度100mm
/分で引っ張り試験を行い求めた。
度55%RHに調湿された部屋で4時間調湿した後、試
料長さ120mmに切り出し、ISO 8776/2−
1988に従い、折り曲げによって切断するまでの折り
曲げ回数を測定した。
ーストリアセテート50重量部、酢化度が61.0%で
粘度平均重合度が350のセルローストリアセテート5
0重量部及びトリフェニルフォスフェート(可塑剤)1
0重量部を、メチレンクロライド376重量部とエタノ
ール24重量部の混合有機溶媒に溶解し、セルロースト
リアセテート溶液を調製した。ドープを30℃で一晩静
置し、脱泡操作を施した後、ドープを安積濾紙(株)製
の安積濾紙No.244を使用して濾過し製膜に供し
た。
送液し、回転しているステンレスベルトに乾燥後の膜厚
が120μmとなるように流延した。裏面から30℃の
温水を接触させて温度制御されたベルト上で前半の乾燥
を行い、後半は40℃の乾燥風を当ててウェブを乾燥さ
せた。ベルトが1周するところでベルトからウェブを剥
離し、ウェブの両端をクリップで把持しながら100℃
で5分間、続いてロールで搬送しつつ120℃で20分
間乾燥させ最終的に膜厚120μmのセルローストリア
セテートフィルムを得た。フィルムの残留溶媒量は0.
9%であった。
20重量部に、また粘度平均重合度が350のセルロー
ストリアセテートを80重量部に変更した以外は実施例
1と同様にして、膜厚120μmのセルローストリアセ
テートフィルムを得た。フィルムの残留溶媒量は0.9
%であった。
80重量部に、また粘度平均重合度が350のセルロー
ストリアセテートを20重量部に変更した以外は実施例
1と同様にして、膜厚120μmのセルローストリアセ
テートフィルムを得た。フィルムの残留溶媒量は0.9
%であった。
粘度平均重合度を280に、また粘度平均重合度の35
0のセルローストリアセテートの粘度平均重合度を33
0に変更した以外は実施例1と同様にして、膜厚120
μmのセルローストリアセテートフィルムを得た。フィ
ルムの残留溶媒量は0.9%であった。
粘度平均重合度を150に、また酢化度が61.0%で
粘度平均重合度が350のセルローストリアセテート
を、酢化度が59.5%に、また粘度平均重合度を40
0に変更した以外は実施例1と同様にして、膜厚120
μmのセルローストリアセテートフィルムを得た。フィ
ルムの残留溶媒量は0.9%であった。
ーストリアセテートの粘度平均重合度を300に、また
その50重量部を100重量部に一ロットに変更した以
外は実施例1と同様にして、膜厚120μmのセルロー
ストリアセテートフィルムを得た。フィルムの残留溶媒
量は0.9%であった。
タノール24重量部を60重量部に、更にそれに1−ブ
タノール20重量部を加えた混合有機溶媒に変更した以
外は実施例1と同様にして、膜厚120μmのセルロー
ストリアセテートフィルムを得た。フィルムの残留溶媒
量は0.9%であった。
ーストリアセテートの50重量部を100重量部に一ロ
ットに変更し、またメチレンクロライドの368重量部
を320重量部に、エタノールの24重量部を60重量
部に、更に1−ブタノール20重量部を加えた混合有機
溶媒に変更した以外は実施例1と同様にして、膜厚12
0μmのセルローストリアセテートフィルムを得た。フ
ィルムの残留溶媒量は0.9%であった 実施例7 酢化度が60.0%で粘度平均重合度の200のセルロ
ーストリアセテートを50重量部、酢化度が60.0%
で粘度平均重合度の350のセルローストリアセテート
を50重量部及びトリフェニルフォスフェート10重量
部を、酢酸メチル637重量部とエタノール33重量部
の混合有機溶媒に混合し混合物とした。室温でセルロー
ストリアセテートは膨潤状態となっていた。次に二重構
造の容器に入れ、混合物をゆっくり撹拌しながら外側の
ジャケットに冷媒として−75℃にコントロールしたH
FE−7100(住友スリーエム(株)製)を導入し
た。これにより内側容器内の混合物を−70℃まで冷却
した。混合物が均一に冷却されるまで30分間冷却を続
けて混合物を溶解し、次いで、容器の外側のジャケット
内の冷媒を排出し、代わりに温水をジャケットに導入し
た。続いては内容物を撹拌し、40分かけて30℃まで
昇温し、更に20分間撹拌を続けた。この一連の冷却と
加温の操作を3回繰り返して透明なドープを得た。ドー
プを30℃で一晩静置し、脱泡操作を施した後、ドープ
を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して
濾過し製膜に供した。
に送液し、回転しているステンレスベルトに乾燥後の膜
厚が120μmとなるように流延した。裏面から50℃
の温水を接触させて温度制御されたベルト上で前半の乾
燥を行い、後半は90℃の乾燥風を当ててウェブを乾燥
させた。ベルトが1周するところでベルトからウェブを
剥離し、ウェブの両端をクリップで把持しながら120
℃で5分間、続いてロールで搬送しつつ140℃で20
分間乾燥させ最終的に膜厚120μmのセルローストリ
アセテートフィルムを得た。各水準ともフィルムの残留
溶媒量は0.8%であった。
0重量部を、粘度平均重合度を300に、また50重量
部を100重量部にロットを一つに変更した以外は実施
例7と同様にして、膜厚120μmのセルローストリア
セテートフィルムを得た。フィルムの残留溶媒量は0.
8%であった。
ール33重量部をアセトン150重量部に変更した以外
は実施例7と同様にして、膜厚120μmのセルロース
トリアセテートフィルムを得た。得られたセルロースト
リアセテートフィルムの残留溶媒量は0.8重量%であ
った。
ーストリアセテート50重量部を、粘度平均重合度30
0に、また50重量部を100重量部にロットを一つに
変更した以外は実施例7と同様にして、膜厚120μm
のセルローストリアセテートフィルムを得た。フィルム
の残留溶媒量は0.8%であった。
ーストリアセテート50重量部と、酢化度が60.0%
で粘度平均重合度の350のセルローストリアセテート
50重量部及び可塑剤としてトリフェニルフォスフェー
ト10重量部をアセトン670重量部とを混合し混合物
とした。室温でセルローストリアセテートは膨潤状態と
なっていた。混合物を、加圧可能な密閉容器に移し、徐
々に加圧し最終的に圧力を500kgf/cm2にし
た。そのまま30分間保持した後、圧力を解放し、常圧
下で更に30分保持した。その後30分間撹拌を行い透
明なドープを得た。ドープを30℃で一晩静置し、脱泡
操作を施した後、ドープを安積濾紙(株)製の安積濾紙
No.244を使用して濾過し製膜に供した。
に送液し、回転しているステンレスベルトに乾燥後の膜
厚が120μmとなるように流延した。裏面から50℃
の温水を接触させて温度制御されたベルト上で前半の乾
燥を行い、後半は90℃の乾燥風を当ててウェブを乾燥
させた。ベルトが1周するところでベルトからウェブを
剥離し、ウェブの両端をクリップで把持しながら120
℃で5分間、続いてロールで搬送しつつ140℃で20
分間乾燥させ最終的に膜厚120μmのセルローストリ
アセテートフィルムを得た。各水準ともフィルムの残留
溶媒量は0.8%であった。
0重量部を、粘度平均重合度を300に、また50重量
部を100重量部にロットを一つに変更した以外は実施
例9と同様にして、膜厚120μmのセルローストリア
セテートフィルムを得た。フィルムの残留溶媒量は0.
8%であった。
製されたセルローストリアセテート溶液は、比較例によ
り調製された溶液と比較して、溶液の粘度が低減され、
得られたフィルムの平面性が向上している。また、本発
明で得られたセルローストリアセテートフィルムは、機
械的強度、ヘイズ、引裂強度、引張強度、弾性率、耐折
度も比較同等以上の品質を備えていることが分かる。
プ)の粘度を、低粘度のセルローストリアセテートと高
粘度のセルローストリアセテートと混合して使用するこ
とによって、平面性、透明性、機械的強度に優れたセル
ローストリアセテートフィルムの製造方法を提供出来
る。
セテートフィルムは、上記の特性からハロゲン化銀写真
感光材料又は液晶画像表示装置に有用である。
Claims (10)
- 【請求項1】 平均酢化度が59.0〜62.5%で粘
度平均重合度が150〜550の範囲にある複数のロッ
トの中から、粘度平均重合度の差が50〜300である
二つのロットを重量割合として20/80〜80/20
で混合したセルローストリアセテートを有機溶媒に溶解
してドープを調製する工程と溶液流延製膜工程を通して
製造することを特徴とするセルローストリアセテートフ
ィルムの製造方法。 - 【請求項2】 ドープ中のセルローストリアセテートの
濃度が、10〜35重量%であることを特徴とする請求
項1に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造
方法。 - 【請求項3】 ドープが、可塑剤をセルローストリアセ
テートに対して5〜30重量%含有していることを特徴
とする請求項1又は2に記載のセルローストリアセテー
トフィルムの製造方法。 - 【請求項4】 前記有機溶媒が、75〜98重量%のメ
チレンクロライドと2〜25重量%の炭素原子数1〜6
のアルコールを含有していることを特徴とする請求項1
乃至3の何れか1項に記載のセルローストリアセテート
フィルムの製造方法。 - 【請求項5】 前記有機溶媒が、75〜87重量%のメ
チレンクロライドと13〜25重量%の炭素原子数1〜
6のアルコールを含有していることを特徴とする請求項
4に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方
法。 - 【請求項6】 前記有機溶媒が、60重量%以上のアセ
トン、酢酸メチル、ギ酸エチルから選ばれる少なくとも
1種を含有していることを特徴とする請求項1乃至3の
何れか1項に記載のセルローストリアセテートフィルム
の製造方法。 - 【請求項7】 前記有機溶媒が、60〜95重量%の酢
酸メチル、ギ酸エチルから選ばれる少なくとも1種と5
〜40重量%のアセトンを含有していることを特徴とす
る請求項6に記載のセルローストリアセテートフィルム
の製造方法。 - 【請求項8】 ドープを調製する工程が、有機溶媒にセ
ルローストリアセテートを添加した混合物を−100〜
−10℃に冷却する工程と、冷却した混合物を0〜12
0℃に加熱してセルローストリアセテートを溶解する工
程とを有することを特徴とする請求項1乃至7の何れか
1項に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造
方法。 - 【請求項9】 ドープを調製する工程が、有機溶媒にセ
ルローストリアセテートを添加した混合物を50〜40
00kgf/cm2の圧力下に保持する工程と、続けて
加圧された混合物を0.1〜10kgf/cm2の圧力
下に保持する工程を有することを特徴とする請求項1乃
至7の何れか1項に記載のセルローストリアセテートフ
ィルムの製造方法。 - 【請求項10】 請求項1乃至9の何れか1項に記載の
方法により製造されたセルローストリアセテートフィル
ム。
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