JPH11293029A - 脂環式構造含有重合体樹脂成形体の再利用方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明性に優れた成形体、特に黄色度が低く、
光線透過率の高い成形体を与えることができる脂環式構
造含有重合体樹脂成形体の再利用方法を提供すること。 【解決手段】 脂環式構造含有重合体樹脂成形体の再利
用方法であって、水素添加処理する工程を含むことを特
徴とする、脂環式構造含有重合体樹脂成形体の再利用方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、脂環式構造含有重
合体樹脂成形体の再利用方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】脂環式構造含有重合体樹脂成形体、特に
射出成形体を再度溶融成形すると、熱劣化によりゲルや
ヤケ（着色物）を生じ、再度溶融成形体の透明性が低下
するため、透明性が要求される用途には利用できないと
いう問題がある。また、再度溶融成形の際に、外部から
異物が混入して、成形体表面に微細な凹凸を生じるた
め、再度溶融成形体は平滑な表面が必要とされる用途に
は利用できないという問題がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、透明
性に優れた成形体を与えることができる脂環式構造含有
重合体樹脂成形体の再利用方法を提供することである。
本発明の他の目的は、透明性に優れた成形体、特に黄色
度（yellow index) が低く、光線透過率の高い成形体を
与えることができる脂環式構造含有重合体樹脂成形体の
再利用方法を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、脂環式構造含
有重合体樹脂成形体の再利用方法であって、水素添加処
理する工程を含むことを特徴とする、脂環式構造含有重
合体樹脂成形体の再利用方法を提供するものである。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明の再利用方法を適用し得る
脂環式構造含有重合体樹脂成形体を構成する脂環式構造
含有重合体樹脂の例としては、以下のものが挙げられ
る。 1.脂環式構造含有重合体樹脂 脂環式構造含有重合体樹脂は、主鎖及び／または側鎖に
脂環式構造を有するものであり、例えば、再利用に係る
成形品の機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂
環式構造を含有するものが好ましい。重合体の脂環式構
造としては、飽和環状炭化水素（シクロアルカン）構
造、不飽和環状炭化水素（シクロアルケン）構造などが
挙げられるが、機械的強度、耐熱性などの観点から、シ
クロアルカン構造やシクロアルケン構造が好ましく、中
でもシクロアルカン構造を有するものが最も好ましい。
脂環式構造を構成する炭素原子数は、格別な制限はない
が、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ま
しくは５〜１５個の範囲であるときに、例えば、再利用
に係る成形品の機械的強度、耐熱性、及び成形性の特性
が高度にバランスされ好適である。

【０００６】本発明に使用される脂環式構造含有重合体
樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使
用目的に応じて適宜選択されればよいが、通常３０重量
％以上、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７
０重量％以上である。脂環式構造含有重合体樹脂中の脂
環式構造を有する繰り返し単位の割合が過度に少ない
と、例えば、再利用に係る成形品の耐熱性が劣り好まし
くない。脂環式構造含有重合体樹脂中の脂環式構造を有
する繰り返し単位以外の残部は、格別な限定はなく、種
々のものが使用できる。

【０００７】かかる脂環式構造を有する重合体樹脂の具
体例としては、例えば、（１）ノルボルネン系重合体、
（２）単環の環状オレフィン系重合体、（３）環状共役
系ジエン系重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合
体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これら
の中でも、ノルボルネン系重合体及びその水素添加物、
環状共役ジエン系重合体及びその水素添加物などが好ま
しく、ノルボルネン系重合体及びその水素添加物がより
好ましい。

【０００８】（１）ノルボルネン系重合体 ノルボルネン系重合体としては、格別な制限はなく、例
えば、特開平３−１４８８２号公報や特開平３−１２２
１３７号公報などに開示される方法によってノルボルネ
ン系モノマーを重合したものが用いられる。具体的に
は、ノルボルネン系モノマーの開環重合体及びその水素
添加物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボ
ルネン系モノマーとビニル化合物の付加型重合体などが
挙げられる。これらの中でも、例えば、再利用に係る成
形品の耐熱性や誘電特性を高度にバランスさせる上で、
ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素添加物、ノル
ボルネン系モノマーの付加型重合体、ノルボルネン系モ
ノマーと共重合体可能なビニル化合物の付加型重合体な
どが好ましく、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水
素添加物が特に好ましい。

【０００９】ノルボルネン系単量体としては、ビシクロ
［２．２．１］ヘプタ−２−エン（慣用名ノルボルネ
ン）、５−メチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２
−エン、５，５−ジメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタ−２−エン、５−エチル−ビシクロ［２．２．１］
ヘプタ−２−エン、５−ブチル−ビシクロ［２．２．
１］ヘプタ−２−エン、５−ヘキシル−ビシクロ［２．
２．１］ヘプタ−２−エン、５−オクチル−ビシクロ
［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−オクタデシル−
ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−メチリ
デン−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−
エチリデン−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エ
ン、５−ビニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−
エン、５−プロペニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ
−２−エン、５−メトキシ−カルボニル−ビシクロ
［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−シアノ−ビシク
ロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン、５−メチル−５−
メトキシカルボニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−
２−エン；５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン、５−エトキシカルボニルビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチル−５−
メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２
−エン、５−メチル−５−エトキシカルボニルビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン、ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−５−エニル−２−メチルプロピオネイト、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エニル−２−メチ
ルオクタネイト、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン−５，６−ジカルボン酸無水物、５−ヒドロキシメ
チルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６
−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−エン、５−ヒドロキシ−ｉ−プロピルビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキ
シビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シア
ノビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン
酸イミド、トリシクロ［４．３．０．１^2,5 ］デカ−
３，７−ジエン（慣用名ジシクロペンタジエン）、トリ
シクロ［４．３．０．１^2,5 ］デカ−３−エン、トリシ
クロ［４．３．０．１^2,5 ］ウンデカ−３，７−ジエン
若しくはトリシクロ［４．３．０．１^2,5 ］ウンデカ−
３，８−ジエンまたはこれらの部分水素添加物（または
シクロペンタジエンとシクロヘキセンの付加物）である
トリシクロ［４．４．０．１^2,5 ］ウンデカ−３−エ
ン、５−シクロペンチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−エン、５−シクロヘキシル−ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキセニルビシ
クロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェニル−
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、テトラシク
ロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−ドデカ−３−エン
（単にテトラシクロドデセンともいう）、８−メチルテ
トラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−ドデカ−
３−エン、８−エチルテトラシクロ［４．４．０．１
^2,5 ．１^7,10］−ドデカ−３−エン、８−メチリデンテ
トラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−ドデカ−
３−エン、８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．
１^2,5 ．１^7,10］−ドデカ−３−エン、８−ビニルテト
ラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−ドデカ−３
−エン、８−プロペニル−テトラシクロ［４．４．０．
１^2,5 ．１ ^7,10］−ドデカ−３−エン、８−メトキシカ
ルボニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］
−ドデカ−３−エン、８−メチル−８−メトキシカルボ
ニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−ド
デカ−３−エン、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ
［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−ドデカ−３−エン、
８−カルボキシテトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10］−ドデカ−３−エン；８−シクロペンチル−テト
ラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−ドデカ−３
−エン、８−シクロヘキシル−テトラシクロ［４．４．
０．１^2,5 ．１^{7, 10}］−ドデカ−３−エン、８−シクロ
ヘキセニル−テトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１
^7,10］−ドデカ−３−エン、８−フェニル−シクロペン
チル−テトラシクロ［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］−
ドデカ−３−エン；テトラシクロ［７．４．０．１
^10,13 ．０^2,7 ］トリデカ−２，４，６，１１−テトラ
エン（１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒ
ドロフルオレンともいう）、テトラシクロ［８．４．
０．１^11,14 ．０^3,8 ］テトラデカ−３，５，７，１２
−テトラエン（１，４−メタノ−１，４，４ａ，５，１
０，１０ａ−ヘキサヒドロアントラセンともいう）、ペ
ンタシクロ［６．５．１．１^3,6 ．０^2,7 ．０^9,13］ペ
ンタデカ−３，１０−ジエン、ペンタシクロ［７．４．
０．１^3,6 ．１^10,13 ．０^2,7 ］ペンタデカ−４，１１
−ジエン；及びシクロペンタジエンの４量体などのノル
ボルネン系単量体などが挙げられる。これらのノルボル
ネン系単量体は、それぞれ単独であるいは２種以上組合
わせて用いられる。

【００１０】これらのノルボルネン系モノマーと共重合
可能なビニル化合物としては、例えば、エチレン、プロ
ピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３
−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３
−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、
４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘ
キセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル
−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オク
テン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、
１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン
などの炭素数２〜２０のエチレンまたはα−オレフィ
ン；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、
３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘ
キセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセ
ン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒド
ロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどのシクロオレ
フィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−
ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、
１，７−オクタジエンなどの非共役ジエン、などが挙げ
られる。これらの共重合可能なビニル化合物は、それぞ
れ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用するこ
とができる。

【００１１】さらに、共重合可能なビニル化合物とし
て、環状オレフィンを挙げることができる。そのような
環状オレフィンとしては、シクロブテン、１−メチルシ
クロペンテン、３−メチルシクロブテン、３，４−ジイ
ソプロペニルシクロブテン、シクロペンテン、３−メチ
ルシクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、
１−メチルシクロオクテン、５−メチルシクロオクテ
ン、シクロオクタテトラエン、シクロドデセンなどの単
環シクロオレフィンや前記のノルボルネン環を有するモ
ノマーのうち不飽和結合が一つのものを挙げることがで
きる。

【００１２】ノルボルネン系モノマーまたはノルボルネ
ン系モノマーと共重合可能なビニル系化合物との重合方
法及び水素添加方法は、格別な制限はなく公知の方法に
従って行うことができる。

【００１３】ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合
体は、ノルボルネン系モノマーを、開環重合触媒とし
て、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、
イリジウム、白金などの金属のハロゲン化物、硝酸塩ま
たはアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる触媒
系、あるいは、チタン、バナジウム、ジルコニウム、タ
ングステン、モリブデンなどの金属のハロゲン化物また
はアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物
とからなる触媒系を用いて、溶媒中または無溶媒で、通
常、−５０℃〜１００℃の重合温度、０〜５０ｋｇ／ｃ
ｍ² の重合圧力で開環（共）重合させることにより得る
ことができる。触媒系に、分子状酸素、アルコール、エ
ーテル、過酸化物、カルボン酸、酸無水物、酸クロリ
ド、エステル、ケトン、含窒素化合物、含硫黄化合物、
含ハロゲン化合物、分子状ヨウ素、その他のルイス酸な
どの第三成分を加えて、重合活性や開環重合の選択性を
高めることができる。

【００１４】ノルボルネン系モノマーとビニル系化合物
との付加共重合体は、例えば、モノマー成分を、溶媒中
または無溶媒で、チタン、ジルコニウム、又はバナジウ
ム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる触媒系の
存在下で、通常、−５０℃〜１００℃の重合温度、０〜
５０ｋｇ／ｃｍ² の重合圧力で共重合させる方法により
得ることができる。

【００１５】水素添加ノルボルネン系重合体は、常法に
従って、開環（共）重合体を水素添加触媒の存在下に水
素により水素化する方法により得ることができる。

【００１６】（２）単環の環状オレフィン系重合体 単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、特開
昭６４−６６２１６号公報に開示されているシクロロヘ
キセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどの単環の
環状オレフィン系単量体の付加重合体を用いることがで
きる。

【００１７】（３）環状共役ジエン系重合体 環状共役ジエン系重合体としては、例えば、特開平６−
１３６０５７号公報や特開平７−２５８３１８号公報に
開示されているシクロペンタジエン、シクロヘキサジエ
ンなどの環状共役ジエン系単量体を１，２−または１，
４−付加重合した重合体及びその水素添加物などを用い
ることができる。

【００１８】（４）ビニル脂環式炭化水素系重合体 ビニル脂環式炭化水素系重合体としては、例えば、特開
昭５１−５９９８９号公報に開示されているビニルシク
ロヘキセンやビニルシクロヘキサンなどのビニル脂環式
炭化水素系単量体の重合体及びその水素添加物、特開昭
６３−４３９１０号公報や特開昭６４−１７０６号公報
などに開示されているスチレン、α−メチルスチレンな
どのビニル芳香族系単量体の重合体の芳香環部分の水素
添加物などを用いることができる。

【００１９】（５）脂環式構造含有重合体樹脂の特性 脂環式構造含有重合体樹脂の分子量は、再利用の目的に
応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体
樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミ
エーション・クロマトグラフ法で測定したポリスチレン
換算の数平均分子量で、５，０００以上、好ましくは
５，０００〜５００，０００、より好ましくは８，００
０〜２００，０００、特に好ましくは１０，０００〜１
００，０００の範囲であるときに、例えば再利用に係る
成形品の機械強度等に優れ、好適である。

【００２０】脂環式構造含有重合体樹脂のガラス転移温
度（Ｔｇ）は、再利用の目的に応じて適宜選択されれば
よいが、例えば、再利用に係る成形品の耐熱性が高くな
ることから高い方が好ましく、通常５０〜３００℃、好
ましくは７０〜２５０℃、より好ましくは１００〜２０
０℃である。Ｔｇがこの範囲にあるときに、再成形時の
樹脂の成形性と、再利用に係る成形品の耐熱性が高度に
バランスして好ましい。

【００２１】脂環式構造含有重合体樹脂の５％加熱減量
温度（窒素雰囲気中で、５℃／分の昇温速度で測定）
は、好ましくは３００℃以上、特に好ましくは３５０℃
以上である。５％加熱減量温度が低すぎると、再成形時
において流動性を向上させる目的で、樹脂温度を高温に
すると樹脂の分解が起き、再利用に係る成形品内に分解
による気泡の包含等の成形不良が発生しやすいという問
題がある。５％加熱減量温度が上記範囲にある場合に
は、再成形時において流動性を向上させる目的で、樹脂
温度を高温にしても気泡の含有などの成形不良が発生し
にくく好適である。

【００２２】脂環式構造含有重合体樹脂の温度２６０℃
における溶融粘度は、通常１×１０ ¹ 〜１×１０⁵ ポイ
ズ、好ましくは１×１０² 〜１×１０⁴ ポイズである。
溶融粘度がこの範囲にあるときに、再成形時の樹脂の成
形性と、再利用に係る成形品の機械強度がバランスして
好適である。

【００２３】2.成形体 次に本発明の再利用方法を適用し得る成形体について説
明する。本発明においては、上記の脂環式構造含有重合
体樹脂に、必要に応じて（成形体の使用目的に応じて）
その他のポリマー、配合剤、充填剤を加えたものからな
る成形体を再利用する。

【００２４】成形体の成形において、脂環式構造含有重
合体樹脂と上記のその他の成分を混合する方法は、通常
の熱可塑性樹脂において常用される方法であれば特に限
定されない。例えば、ミキサー、二軸混練機などで樹脂
を溶融状態で混練する方法、適当な溶剤に溶解または分
散させて溶液状態で混合しそのまま使用する方法、溶液
状態から必要に応じて凝固方法または直接乾燥法等によ
り溶剤を除去する方法などがある。または可能であれ
ば、脂環式構造含有重合体樹脂の製造工程において予め
混ぜておく方法もある。必要な成分を配合した脂環式構
造含有重合体樹脂は、通常は、溶融状態で棒状に押し出
し、ストランドカッターで適当な長さに切り、ペレット
として用いられることが多い。

【００２５】上記の成形材料からなる成形体を本発明で
は用いるが、成形体を得る方法は特に限定されない。公
知の溶融成形方法や溶液成形法の何れであっても良い。
溶融成形方法の具体的方法としては、射出成形、押出成
形、押出ブロー成形、射出ブロー成形、多層ブロー成
形、コネクションブロー成形、二重壁ブロー成形、延伸
ブロー成形、真空成形、回転成形などが挙げられる。溶
融成形法の場合、成形体の成形時の樹脂の溶融温度は多
環式重合体等の種類によっても異なるが通常２００〜３
６０℃で行われる。

【００２６】溶液成形法としては、脂環式構造含有重合
体樹脂と必要に応じて配合剤等を該樹脂の良溶媒に溶解
した溶液を溶液キャスト法等によりフィルム状とし、必
要に応じて溶媒を乾燥する方法を挙げることができる。
そのような溶液は、上記の成形材料を改めて良溶媒に溶
解して得てもよく、または該樹脂の製造工程で得られる
溶液等をそのまま用いても良い。

【００２７】再利用に供する成形体としては、レンズ、
プリズム、光学フィルム、光学シート、光ディスク基
板、導光板、ライトガイド、光ファイバー、ミラー等の
光学用途の成形体；ディスポーザブルシリンジ、薬液バ
イヤル、薬品包装用フィルム、検査セル、検査容器、輸
液バッグ、シリンジ用ロッド等の医療用の成形体；電線
被覆、ウェハーシッパー、コンデンサーフィルム、回路
基板、コネクターなどのシート、フィルム、板材、容
器、絶縁材等の電気又は電子用途の成形体；板材、パイ
プ、丸棒、ボトル、建材、文具等が挙げられる。

【００２８】また、上記の成形体を射出成形法で得る場
合に廃材として発生する成形体であるスプルーやランナ
ー、押出成形や溶液流延成形後に所望の形状を切り取っ
たあとの廃材として発生する成形体等も本発明の再利用
方法において好ましく使用することができる。

【００２９】上記の成形体は、無色透明なものであるこ
とが好ましい。再利用において無色透明な成形体にも、
適当な配合剤等により有色または不透明な成形体にもす
ることが可能だからである。

【００３０】本発明の再利用方法においては、上記の脂
環式構造含有重合体樹脂からなる成形体は、さらに他の
ポリマー、各種配合剤、充填剤（以上をまとめて配合剤
等という）を単独で、あるいは２種以上含有したもので
あっても良い。

【００３１】その他のポリマー その他のポリマーとしては、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ（４ーメチルー１ーペンテン）などのポリオ
レフィン；ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン
／ブタジエン／スチレンのブロック共重合体（ＳＢ
Ｓ）、スチレン／イソプレン／スチレンのブロック共重
合体（ＳＩＳ）、ＳＢＳの水素添加物（ＳＥＢＳ）、Ｓ
ＩＳの水素添加物（ＳＥＰＳ）などのゴム；ポリスチレ
ン、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポ
リエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリイミド、
ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイドなどの樹
脂；などを挙げることができる。また、これらのその他
のポリマーはそれぞれ単独で、あるいは２種以上混合し
て用いたものであっても良い。また、その割合は、成形
体の使用の目的の範囲で適宜選択されるのであって、本
発明の方法では特に限定されない。

【００３２】配合剤 配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられてい
るものであれば格別な制限はなく、例えば、酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光安定剤、近赤外線吸収剤、染料や
顔料などの着色剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、蛍光増
白剤などの配合剤が挙げられる。但し、染料や顔料など
の着色剤を含まないもの、又はその含有量が低いものが
好ましい。

【００３３】老化防止剤としては、フェノール系酸化防
止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤などが挙
げられるが、これらの中でも、フェノール系酸化防止剤
が好ましく、アルキル置換フェノール系酸化防止剤が特
に好ましく用いらる。

【００３４】フェノール系酸化防止剤としては、従来公
知の各種の物が使用されていてもよく、例えば、２−ｔ
−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５
−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレー
ト、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−（１−（３，５−ジ
−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェ
ニルアクリレートなどの特開昭６３−１７９９５３号公
報や特開平１−１６８６４３号公報に記載されるアクリ
レート系化合物；オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、
２，２' −メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４
−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テ
トラキス（メチレン−３−（３' ，５' −ジ−ｔ−ブチ
ル−４' −ヒドロキシフェニルプロピオネート）メタン
［すなわち、ペンタエリスリメチル−テトラキス（３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオネート）］、トリエチレングリコール ビス（３
−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）プロピオネート）などのアルキル置換フェノール
系化合物；６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブ
チルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，
５−トリアジン、４−ビスオクチルチオ−１，３，５−
トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，
５−トリアジンなどのトリアジン基含有フェノール系化
合物；などが挙げられる。

【００３５】リン系酸化防止剤としては、一般の樹脂工
業で通常使用される各種の物が使用されていてもよく、
例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデ
シルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイ
ト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス
（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，
１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナン
トレン−１０−オキサイドなどのモノホスファイト系化
合物；４，４' −ブチリデン−ビス（３−メチル−６−
ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、
４，４' イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アル
キル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）などのジホスフ
ァイト系化合物などが挙げられる。これらの中でも、モ
ノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフ
ェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホ
スファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ホスファイトなどが特に好ましく用いられている。

【００３６】イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジ
ラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル
３，３' −チオジプロピピオネート、ジステアリル３，
３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３
−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テト
ラキス−（β−ラウリル−チオ−プロピオネート、３，
９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１
０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙
げられる。

【００３７】これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、
あるいは２種以上を組み合わせて用いられていても良
い。酸化防止剤の配合量は、特に限定されないが、ポリ
マー成分１００重量部に対して通常０．００１〜５重量
部、好ましくは０．０１〜１重量部の範囲で使用され
る。

【００３８】紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２
−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキ
シフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフ
ェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−
ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾ
トリアゾールなどのベンゾトリアゾール系紫外線吸収
剤；４−ｔ−ブチルフェニル−２−ヒドロキシベンゾエ
ート、フェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−
（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル
−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタリミジルメ
チル）フェノール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オ
クチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−４−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾールなどのベゾエート系紫外線吸収剤；
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸３水和物、２
−ヒドロキシ−４−オクチロキシベンゾフェノン、４−
ドデカロキシ−２−ホドロキシベンゾフェノン、４−ベ
ンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，
２' ，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
２，２' −ジヒドロキシ−４，４' −ジメトキシベンゾ
フェノンなどのベンゾフェノン系紫外線吸収剤；エチル
−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２'
−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルア
クリレートなどのアクリレート系紫外線吸収剤；［２，
２'−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）］−
２−エチルヘキシルアミンニッケルなどの金属錯体系紫
外線吸収剤などが挙げられる。

【００３９】光安定剤としては、例えば、２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、
４−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオニルオキシ）−１−（２−（３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ）エチル）−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジンなどのヒンダードアミン系光安定剤
を挙げることができる。

【００４０】近赤外線吸収剤としては、例えば、シアニ
ン系近赤外線吸収剤；ピリリウム系赤外線吸収剤；スク
ワリリウム系近赤外線吸収剤；クロコニウム系赤外線吸
収剤；アズレニウム系近赤外線吸収剤；フタロシアニン
系近赤外線吸収剤；ジチオール金属錯体系近赤外線吸収
剤；ナフトキノン系近赤外線吸収剤；アントラキノン系
近赤外線吸収剤；インドフェノール系近赤外線吸収剤；
アジ系近赤外線吸収剤；等が挙げられる。また、市販品
の近赤外線吸収剤ＳＩＲ−１０３，ＳＩＲ−１１４，Ｓ
ＩＲ−１２８，ＳＩＲ−１３０，ＳＩＲ−１３２，ＳＩ
Ｒ−１５２，ＳＩＲ−１５９，ＳＩＲ−１６２（以上、
三井東圧染料製）、ＫａｙａｓｏｒｂＩＲ−７５０，Ｋ
ａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−００２，Ｋａｙａｓｏｒｂ
ＩＲＧ−００３，ＩＲ−８２０Ｂ，Ｋａｙａｓｏｒｂ
ＩＲＧ−０２２，Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−０２３，
Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−２，Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ
−４，Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−９（以上、日本化薬
製）等を挙げることができる。

【００４１】染料としては、脂環式構造含有重合体樹脂
に均一に分散・溶解するものであれば特に限定されない
が、相溶性に優れるので油溶性染料（各種Ｃ．Ｉ．ソル
ベント染料）が広く用いられている。油溶性染料の具体
例としては、Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｉｙｅ
ｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ社刊ＣｏｌｏｒＩｎ
ｄｅｘ ｖｏｌ．３に記載される各種のＣ．Ｉ．ソルベ
ント染料が挙げられる。

【００４２】顔料としては、例えば、ピグメントレッド
３８等のジアリリド系顔料；ピグメントレッド４８：
２、ピグメントレッド５３、ピグメントレッド５７：１
等のアゾレーキ系顔料；ピグメントレッド１４４、ピグ
メントレッド１６６、ピグメントレッド２２０、ピグメ
ントレッド２２１、ピグメントレッド２４８等の縮合ア
ゾ系顔料；ピグメントレッド１７１、ピグメントレッド
１７５、ピグメントレッド１７６、ピグメントレッド１
８５、ピグメントレッド２０８等のペンズイミダゾロン
系顔料；ピグメントレッド１２２等のキナクリドン系顔
料；ピグメントレッド１４９、ピグメントレッド１７
８、ピグメントレッド１７９等のペリレン系顔料；ピグ
メントレッド１７７等のアントラキノン系顔料が挙げら
れる。

【００４３】滑剤としては、脂肪族アルコールのエステ
ル、多価アルコールのエステルあるいは部分エステル等
の有機化合物や無機微粒子等を用いたものであっても良
い。有機化合物としては、例えば、グリセリンモノステ
アレート、グリセリンモノラウレート、グリセリンジス
テアレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、
ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリ
トールトリステアレート等が挙げられる。

【００４４】他の滑剤として無機粒子を用いたものであ
っても良い。ここで無機微粒子としては、周期律表の１
族、２族、４族、６〜１４族元素の酸化物、硫化物、水
酸化物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、硫酸塩、酢
酸塩、燐酸塩、亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩、
チタン酸塩、硼酸塩およびそれらの含水化物、それらを
中心とする複合化合物、天然化合物などの粒子が挙げら
れる。

【００４５】可塑剤としては、例えば、トリクレジルフ
ォスフェート、トリキシリルフォスフェート、トリフェ
ニルフォスフェート、トリエチルフェニルフォスフェー
ト、ジフェニルクレジルフォスフェート、モノフェニル
ジクレジルフォスフェート、ジフェニルモノキシレニル
フォスフェート、モノフェニルジキシレニルフォスフェ
ート、トリブチルフォスフェート、トリエチルフォスフ
ェートなどの燐酸トリエステル系可塑剤；フタル酸ジメ
チル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル
酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシ
ル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸オクチルデシル、
フタル酸ブチルベンジル等のフタル酸エステル系可塑
剤；オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エス
テルなどの脂肪酸一塩基酸エステル系可塑剤；二価アル
コールエステル系可塑剤；オキシ酸エステル系可塑剤；
などが挙げられるが、これらの中でも燐酸トリエステル
系可塑剤が好ましく、トリクレジルフォスフェート、ト
リキシリルフォスフェートが特に好ましく用いられる。

【００４６】さらに、他の若しくは併用する柔軟化剤な
いし可塑剤として、主骨格が主にＣ−ＣまたはＣ＝Ｃ構
造である常温で液状の炭化水素ポリマーを用いていても
良い。液状炭化水素ポリマーの中でも、主鎖の中に炭化
水素環を持たない直鎖状または分岐鎖状の液状炭化水素
ポリマーが好ましい例として挙げられる。また、再利用
に係る成形品の耐候性に優れることから、Ｃ＝Ｃ構造を
実質的に持たないものが好ましい。この液状炭化水素ポ
リマーの重量平均分子量は、好ましくは１０，０００以
下、より好ましくは２００〜８，０００、特に好ましく
は３００〜４，０００の範囲である。液状炭化水素ポリ
マーの具体例としては、スクアラン（Ｃ３０Ｈ６２、Ｍ
ｗ＝４２２．８）、流動パラフィン（ホワイトオイル、
ＪＩＳＫ２２３１に規定されるＩＳＯ ＶＧ１０、ＩＳ
Ｏ ＶＧ１５、ＩＳＯ ＶＧ３２、ＩＳＯ ＶＧ６８、
ＩＳＯ ＶＧ１００、ＶＧ８およびＶＧ２１など）、ポ
リイソブテン、水添ポリブタジエン、水添ポリイソプレ
ン等が挙げられる。これらの中でもスクアラン、流動パ
ラフィンおよびポリイソブテンが好ましい。

【００４７】帯電防止剤としては、ステアリルアルコー
ル、ベヘニルアルコールなどの長鎖アルキルアルコー
ル、グリセリンモノステアレート、ペンタエリスリトー
ルモノステアレートなどの多価アルコールの脂肪酸エス
テルなどが挙げられるが、ステアリルアルコール、ベヘ
ニルアルコールが特に好ましい。

【００４８】これらの配合剤は単独、または２種以上混
合して用いたものであっても良く、その割合は、成形体
の目的によって範囲で適宜選択されたものであり、本発
明では特に限定されない。配合量は、ポリマー成分１０
０重量部に対して通常０．００１〜５重量部、好ましく
は０．０１〜１重量部の範囲である。

【００４９】充填剤 有機または無機の充填剤としては、例えば、シリカ、ケ
イ藻土、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、軽
石粉、軽石バルーン、塩基性炭酸マグネシウム、ドワマ
イト、酸化カルシウム、炭酸カルシウム、硫酸カルシウ
ム、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウ
ム、タルク、クレー、マイカ、アスベストなどの鉱物；
ガラス繊維、ボロン繊維、炭化ケイ素繊維、ポリエチレ
ン繊維、ポリプロピレン繊維、ポリエステル繊維、ポリ
アミド繊維などの繊維；ガラスフレーク、ガラスビー
ズ、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、ベントナイ
ト、グラファイト、アルミニウム粉、硫化モリブデン、
などを例示できる。

【００５０】これらの充填剤は、それぞれ単独で、ある
いは２種以上を組み合わせて用いたものであっても良
い。充填剤の配合割合は、成形体の目的によって範囲で
適宜選択されたものであり、本発明では特に限定されな
い。

【００５１】以上の配合剤等の内、脂環式構造含有重合
体樹脂と相溶性があって、微分散状態となりうるもの、
または相溶するものが好ましい。特に、再利用により無
色透明な成形体であれ、有色または不透明の成形体であ
れ任意のものとすることができることから、成形体は無
色透明なものであることが好ましい。

【００５２】3.水素添加処理 本発明は、水素添加処理する工程を含むことを特徴とす
る。本発明で再利用する成形体は、元々不飽和結合を実
質的に含まない脂環式構造含有重合体樹脂からなるもの
であったり、または（例えばノルボルネン類の開環重合
体水素添加物からなる成形体では）既に水素添加工程を
経てきた脂環式構造含有重合体樹脂からなるものであっ
たりするから、本来、再利用に際して水素添加処理をす
る必要は無い。ところが、本発明者らは、再利用に際し
て水素添加処理工程を含めることにより、再利用にかか
る成形体等の無色透明性を格段に改善できることを見い
だし、本発明を完成するに至った。なぜこの様な効果が
生じるのかは不明であるが、水素添加反応に相当する条
件（触媒、温度、水素圧、撹拌などの各条件）で処理を
行うことにより本発明の効果が得られる。ここでいう水
素添加処理は、実際に水素添加反応が起きているか（水
素の消費があるか）どうかには関係なく、それに相当す
る条件の処理という意味である。

【００５３】水素添加処理するためには成形体を好まし
くは溶液状態にし、公知の例えばノルボルネン類の開環
重合体水素添加物の製造工程において公知の条件で水素
添加処理を行うことが好ましい。

【００５４】溶液化 成形体をそのまま、または適当な大きさに粉砕して良溶
媒と混合し溶解し溶液とする。成形体が塊状である場合
には、溶解のし易さから厚み（粒子の最も短い辺の長
さ）は、好ましくは５０mm以下、さらに好ましくは２０
mm以下、特に好ましくは１０mm以下に粉砕することが好
ましい。良溶媒は、脂環式構造含有重合体樹脂の種類、
構造により変わり、水素添加処理工程での取り扱いのし
易さやその後の乾燥のし易さから適当なものが選択され
る。具体的には、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤；
クロロホルム、トリクレン、クロロベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素系溶剤；シクロヘキサン、メチルシクロヘ
キサン、デカリン、ジシクロペンタジエンの水素添加物
等の脂環族炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン等の環
状エーテル溶剤などを挙げることができる。これらの中
で、水素添加処理の効率から、不飽和結合を有さない溶
媒が好ましい。水素添加処理の際の固形分の濃度は、通
常１〜４０重量％、好ましくは５〜３５重量％、より好
ましくは１０〜３０重量％である。溶液の濃度が過度に
低いと大量の溶液を処理する必要があり、逆に、過度に
溶液濃度が高いと水素添加処理効果が低下する。

【００５５】水素添加処理は水素添加触媒の存在下に樹
脂を、好ましくは水素と接触させて行う。好ましくは、
溶媒中で水素添加する。水素添加触媒は、（ｃ）遷移金
属化合物と（ｄ）還元性金属化合物から成る均一系触媒
でも、触媒金属を担体に担持させた不均一系触媒であっ
てもよい。均一系触媒は、水素添加処理液中で分散しや
すいので添加量が少なくてよく、また高温高圧にしなく
ても活性を有するので処理設備が簡易で、低コストであ
る。不均一系触媒は高温高圧にすることで高活性とな
り、短時間で水素添加でき、さらに除去が容易である等
の生産効率に優れる。本発明においては不均一系触媒が
好ましい。

【００５６】均一系触媒は、特開昭５８−４３４１２号
公報、特開昭６０−２６０２４号公報、特開昭６４−２
４８２６号公報、特開平１−１３８２５７号公報等で公
知のものである。（ｃ）遷移金属化合物としては、デミ
ングの周期律表の第Ｉ族、または第ＩＶ族から第ＶＩＩ
Ｉ族のいずれかに属する遷移金属の化合物、例えば、Ｃ
ｒ、Ｍｏ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｕ等の遷
移金属のハロゲン化物、アルコキシド、アセチルアセト
ネート、スルファネート、カルボキシレート、ナフテネ
ート、トリフルオロアセテート、ステアレート等が挙げ
られ、具体的な化合物としては、マンガン（ＩＩＩ）ア
セチルアセトネート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセ
トネート、ビス−（トリフェニルホスフィン）−コバル
トジクロリド、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトネー
ト、ビス−（トリブチルホスフィン）−パラジウム等が
挙げられる。

【００５７】また、（ｄ）還元性金属化合物としては、
デミングの周期律表第ＩＡ、ＩＩＡ、ＩＩＢ、ＩＩＩ
Ａ、またはＩＶＡ族金属の化合物であって、少なくとも
一つの金属元素−炭素結合、または金属元素−水素結合
を有するものであり、例えば、Ａｌ化合物、Ｌｉ化合
物、Ｚｎ化合物、Ｍｇ化合物等が挙げられ、具体的に
は、トリメチルアルミニウム、トリフェニルアルミニウ
ム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウ
ムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ｎ
−プロピルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｐ−ト
リルリチウムなどが挙げられる。（ｃ）成分と（ｄ）成
分の組み合わせとして具体的には、（ｃ）成分としてＭ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、またはＮｉの有機金属化合物、ハロゲ
ン化物、アルコキシド、アセチルアセトネート、スルフ
ォネート、またはナフテネート、（ｄ）成分としてＡ
ｌ、Ｌｉ、Ｚｎ、Ｍｇ等の有機化合物、または水素化物
を組み合わせた触媒が高活性であり、また不純物による
反応阻害・活性低下の影響が小さいので好ましく、
（ｃ）成分としてＴｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、またはＮｉの有機
金属化合物、ハロゲン化物、アルコキシド、またはアセ
チルアセトネート、（ｄ）成分として、アルキルアルミ
ニウム、またはアルキルリチウムを組み合わせた触媒が
特に高活性であり、また不純物による反応阻害・活性低
下の影響が特に小さいので、より好ましい。これらの成
分の量的関係は、各成分の種類にもよるが、一般に
（ｃ）成分の金属元素１モルに対し（ｄ）成分の金属元
素が０．５モル以上、好ましくは１モル以上、５０モル
以下、好ましくは８モル以下である。多すぎても少なす
ぎても水素添加処理の活性は不十分である。特に多すぎ
る場合は、ゲル化や副反応が起こることもある。

【００５８】また、不均一系触媒も公知のものであり、
例えば、Ｎｉ、Ｐｄ等の水素添加触媒金属を担体に担持
させたものが挙げられる。特に、不純物等の混入が少な
いほど好ましい場合は、担体として、アルミナやケイソ
ウ土等の吸着剤を用いることが好ましく、また、細孔容
積０．５ｃｍ³ ／ｇ以上、好ましくは０．６ｃｍ³ ／ｇ
以上、より好ましくは０．７ｃｍ³ ／ｇ以上、比表面積
５０ｃｍ² ／ｇ以上、好ましくは１００ｃｍ² ／ｇ以
上、より好ましくは２００ｃｍ² ／ｇ以上のアルミナ類
を用いるのが好ましい。このような担体を用いると重合
に用いた触媒に由来する等の遷移金属原子等を吸着させ
ることができ、不純物の少ない水素添加物を得ることが
できる。

【００５９】水素添加処理に用いる水素添加触媒の量
は、均一系触媒の場合、各成分の種類、組み合わせによ
って異なるが、通常、開環重合体１００ｇに対して、
（ｃ）成分の遷移金属化合物が０．００１ミリモル以
上、好ましくは０．１ミリモル以上、１０００ミリモル
以下、好ましくは１００ミリモル以下である。また、不
均一系触媒の場合も、水素添加処理に用いる水素添加触
媒の量は、触媒金属の種類や担体への担持の状態等によ
って異なるが、通常、開環重合体１００ｇに対して、触
媒金属量が０．１ｇ以上、好ましくは１．０ｇ以上、２
０ｇ以下、好ましくは１５ｇ以下である。水素添加触媒
を水素添加処理液に過剰に添加するとコストがかかる
上、水素添加触媒の除去等の後処理が困難であり、少な
すぎると反応効率が悪くなる。

【００６０】水素添加処理は、樹脂の溶液を攪拌する
か、水素を水素添加処理液中に導入することによって行
われ、例えば、撹拌下にて導入された水素を十分に樹脂
と接触させる方法が好ましい。水素圧力は、通常、０．
１ｋｇｆ／ｃｍ² 以上、好ましくは２ｋｇｆ／ｃｍ² 以
上、１００ｋｇｆ／ｃｍ² 以下、好ましくは５０ｋｇｆ
／ｃｍ² 以下の範囲で反応させる。水素圧力が低すぎる
と水素添加処理が進行せず、高すぎると水素使用量が多
くなり経済性が劣る。

【００６１】水素添加処理は、通常、０℃〜２５０℃、
好ましくは２０℃〜２００℃、さらに好ましくは５０℃
〜１８０℃で、０．１〜１０時間、好ましくは０．５〜
５時間、さらに好ましくは１〜２時間、攪拌することに
より進行する。また、均一系触媒を用いる場合は、好ま
しくは２０℃〜２００℃、０．５〜５時間、攪拌するこ
とにより、不均一系触媒を用いる場合は、好ましくは５
０℃以上、より好ましくは１００℃〜２００℃、最も好
ましくは１２０℃〜１８０℃で、０．５〜１０時間、攪
拌することにより実施される。温度が低すぎると処理効
果が低く、高すぎるとエネルギーコストが高くなる。本
発明においては、実際の水素添加率が上がる必要は無
い。脂環式構造含有重合体樹脂には、元々不飽和結合を
有さないものもあり、水素添加率自体が定義できないも
のもある。

【００６２】水素添加処理後に、不均一系触媒の場合
は、少量の水、アルコールなどの不活性化剤を添加し
て、必要に応じてシリカ、アルミナなどの無機物吸着剤
を加えて不均一化処理し、均一系触媒の場合はそのまま
で濾過し、成形体中に入っていた微粒子状配合剤等とあ
わせて除く。触媒等の除去は、予め遠心分離工程で処理
してから、フィルターで濾過処理することも可能で、フ
ィルターの目詰まりを防止することができる。遠心方法
や濾過方法は用いた触媒が除去できる条件であれば、特
に限定されない。濾過による除去は簡便かつ効率的であ
るので好ましい。濾過する場合、加圧濾過しても吸引濾
過してもよく、また、効率の点から、ケイソウ土、パー
ライトなどの濾過助剤を用いることが好ましい。

【００６３】電荷的捕捉機能を有するフィルターは、電
気的に荷電異物を捕捉除去するもので、通常は、濾材に
電荷を付与したものが用いられる。一般的にはゼータ電
位を制御したゼータ電位濾過フィルターが用いられる。
ゼータ電位濾過フィルターとしては、一般的には、例え
ば、特表平４−５０４３７９号公報などに記載されてい
るセルロース繊維／シリカ／陽電荷変性剤（ポリアミン
エピクロロヒドリン樹脂、脂肪族ポリアミンなど）のよ
うな、濾材に陽電荷変性剤を付与したフィルターなどが
用いられる。

【００６４】その他の濾材としては、例えば、ポリプロ
ピレン製、ポリエチレン製、ＰＴＦＥ製などの繊維製ま
たはメンブランフィルター、セルロース製の繊維製フィ
ルター、ガラス繊維製フィルター、珪藻土などの無機物
製フィルター、金属繊維製フィルターなどが挙げられ
る。その他の陽電荷変性剤としては、例えば、メラミン
ホルムアルデヒド陽イオンコロイド、無機陽イオンコロ
イドシリカ、などが挙げられる。市場では、陽電荷変性
濾過フィルターが、キュノ社によって商標「ゼータプラ
ス」で販売されている。

【００６５】電荷的捕捉機能を有する濾過フィルターで
の濾過は、処理能力が必ずしも高くないので、通常は、
機械的濾過フィルターと組み合わせて行われる。組み合
わせる順番は、格別制限はないが、通常、機械的濾過フ
ィルター、次いで電荷的捕捉機能フィルターの順で使用
される。

【００６６】機械的濾過フィルターとしては、溶媒によ
って悪影響を受けないものであれば特に限定はされず、
例えば、ポリプロピレン製、ポリエチレン製、ＰＴＦＥ
製などの繊維製またはメンブランフィルター、セルロー
ス製の繊維製フィルター、ガラス繊維製フィルター、珪
藻土などの無機物製フィルター、金属繊維製フィルター
などが挙げられる。機械的濾過フィルターの孔径は、格
別制限はないが、通常５０μｍ以下、好ましくは１μｍ
以下、より好ましくは０．３μｍ以下である。これらの
機械的濾過フィルターは、それぞれ単独で、あるいは２
種以上を組み合わせて用いることができる。電荷的捕捉
機能を有するフィルターを用いない場合には、機械的濾
過フィルターの孔径が０．５μｍ以下、好ましくは０．
３μｍ以下のものを用いて２回以上濾過操作を繰り返す
ことも好ましい。

【００６７】乾燥 濾過後または濾過していない溶液は、そのまま再利用す
ることもできるが、例えば、外部環境から異物が混入し
ないように密閉系で、揮発成分の除去を行い、クリーン
ルーム内等のクリーン度の高い環境下、クリーン度をク
ラス１０００以下、好ましくはクラス１００以下に厳重
に管理した環境でペレット化して用いることができる。

【００６８】溶媒その他の揮発成分の除去方法として
は、凝固法や直接乾燥法など公知の方法を採用すること
ができる。

【００６９】凝固法は溶液を、脂環族含有重合体樹脂の
貧溶媒と混合することにより、樹脂成分を析出させる方
法であり、貧溶媒の種類は脂環式構造含有重合体樹脂の
種類により変化するが、例えば、エチルアルコール、ｎ
−プロピルアルコール若しくはｉ−プロピルアルコール
等のアルコール類、アセトン若しくはＭＥＫ等のケトン
類、酢酸エチル若しくは酢酸ブチル等のエステル類など
の極性溶剤を挙げることができる。凝固して得られた粉
末状の樹脂を含む成分は、例えば真空中または窒素中若
しくは空気中で加熱して乾燥し、さらに必要に応じて溶
融押出機から押し出してペレット状にして用いることが
好ましい。

【００７０】直接乾燥法は、例えば特開平４−１７０４
２５号公報等に開示されている方法であり、溶液を減圧
下加熱して溶媒を除去する方法である。この方法には遠
心薄膜連続蒸発乾燥機、掻面熱交換型連続反応器型乾燥
機、高粘度リアクタ装置等公知の装置を用いて行うこと
ができる。真空度や温度はその装置によって適宜選択さ
れ、限定されない。

【００７１】4.配合剤等の添加 上記の方法で水添処理した脂環式構造含有重合体樹脂を
再利用する方法は特に限定されない。水添処理した脂環
式構造含有重合体樹脂には、必要に応じて上記の配合剤
等を、混合して使用することもできる。

【００７２】配合剤等を混合する方法は特に限定されな
い。上記の成分を一旦乾燥後ペレット状にしておいて、
溶融混練して必要な配合剤等を添加することができる
し、溶液状態のまま添加してから必要に応じて溶媒を乾
燥しても良い。

【００７３】溶融混練する方法としては、例えば、ミキ
サー、二軸混練機などで樹脂を溶融状態で混練する方法
などがあり、均質な材料を得ることができることから、
溶融混練法が好ましい。

【００７４】溶融混練する場合には、樹脂温度が（該樹
脂のガラス転移温度より７０℃以上高い温度）から３３
０℃以下、より好ましくは３００℃以下、特に好ましく
は２８０℃以下の温度とすることが適当であり、十分に
シェアをかけることにより好ましい均一な混合状態とす
ることができる。樹脂温度が低すぎると粘度が高くなり
混練が困難であり、高すぎると脂環式構造含有重合体樹
脂やその他のポリマー成分等が劣化し、粘度や融点の差
により両者がうまく混練できない。スクリュー形状等、
混練の条件は混練機の種類、形状等によりそれぞれ適切
な条件とすべきである。溶融混練後は、溶融状態で棒状
に押し出し、ストランドカッターで適当な長さに切り、
ペレット状成形体とすることが好ましい。ペレット状成
形体は、その後に射出成形や押出成形をするための材料
として取り扱いやすく好ましい。

【００７５】5.再利用する方法 必要に応じて配合剤を加えた上記の成分を再利用する方
法は特に限定されない。適当な大きさの例えばペレット
状にしたものを溶融成形しても良いし、ペレットを溶液
にして使用して溶液成形しても良いし、溶液として得ら
れた上記の成分を溶液法で成形しても良いし、またはこ
れらの溶液をそののまま使用することもできる。

【００７６】5.1.溶融成形法 溶融成形法としては、その具体的方法としては、射出成
形、押出成形、押出ブロー成形、射出ブロー成形、多層
ブロー成形、コネクションブロー成形、二重壁ブロー成
形、インフレーション成形、延伸ブロー成形、真空成
形、回転成形などが挙げられる。成形時の溶融温度は脂
環式構造含有重合体樹脂の種類によっても異なるが好ま
しくは（該樹脂のガラス転移温度より７０℃以上高い温
度）から３３０℃以下、より好ましくは２４０℃から３
２０℃、特に好ましくは２６０℃から３１０℃の範囲で
ある。この範囲にある時に精密成形性、耐熱劣化性に優
れ好適である。

【００７７】溶融成形時には、樹脂滞留時間が好ましく
は６０分以内、より好ましくは３０分以内、特に好まし
くは２０分以内であることが好ましい。この範囲にある
時に、着色が小さく、機械強度等の特性の優れた再利用
にかかる成形体を得ることができる。

【００７８】溶融成形時には、脂環式構造含有重合体樹
脂はできるだけ、空気（または酸素）に触れないまた
は、酸素濃度の低い状態で溶融することが好ましい。該
樹脂の溶融する部分（例えば溶融成形機にスクリュー
部）での酸素濃度は好ましくは１０容積％以下、より好
ましくは５容積％以下、特に好ましくは２容積％以下で
ある。得られる再利用にかかる成形品の着色が少なく、
機械的強度などの特性に優れるからである。そのために
は、具体的には溶融成形機の樹脂投入部（ホッパーと呼
ぶことが多い）に、窒素等の不活性ガスを流したり、ホ
ッパー部を密閉構造として真空に引いたりすることによ
って上記の好ましい酸素濃度を実現することができる。

【００７９】5.2.溶液成形法 溶液成形法は脂環構造含有重合体樹脂を含む成分をその
良溶媒に溶解し、必要に応じて配合剤等を加えて、所望
の形状にした後、必要に応じて乾燥することにより成形
体を得る方法である。溶剤を乾燥する効率に優れること
から、フィルムまたはシート状成形体を得られるキャス
ト製膜法が一般的であるが、本発明の再利用方法はこれ
に限られず、物品に塗布することにより、脂環式構造含
有重合体樹脂で被覆した物品を得る方法、微細に噴霧す
ることにより脂環式構造含有重合体樹脂の粉体を得る方
法等も挙げられる。

【００８０】良溶媒は、脂環式構造含有重合体樹脂の種
類、構造により変わり、塗工のし易さや乾燥のし易さか
ら適当なものが選択される。具体的には、トルエン、キ
シレン等の芳香族溶剤；クロロホルム、トリクレン、ク
ロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶剤；シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、デカリン、ジシクロペ
ンタジエンの水素添加物等の脂環族炭化水素系溶剤；テ
トラヒドロフラン等の環状エーテル溶剤などを挙げるこ
とができる。

【００８１】5.3.溶液流延法 上記脂環式構造含有重合体樹脂を溶液流延するために
は、該樹脂を溶媒に溶解する。使用する溶媒は、沸点が
１００℃以上のものが好ましく、１２０℃以上のものが
より好ましい。特に、２５℃において固形分濃度１０重
量％以上としても、樹脂を均一に溶解できる溶媒が好ま
しい。

【００８２】このような溶媒としては、例えば、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クロロベンゼン、トリ
メチルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソプロピルベン
ゼン、クロロベンゼン等が挙げられ、その中でもキシレ
ン、エチルベンゼン、クロロベンゼンが好ましい。

【００８３】また、脂環式構造含有重合体樹脂を溶解す
る限りにおいて、これらの溶媒に、シクロヘキサン、ク
ロロホルム、ベンゼン、テトラヒドロフランやジオキサ
ン等の環状エーテル、あるいはｎ−ヘキサンやｎ−オク
タン等の直鎖の炭化水素等を含有させてもよい。

【００８４】これらの条件を良好に満たすものとして
は、沸点が１００℃以上のキシレン、エチルベンゼン等
の芳香族系溶剤を５０％以上含有するものがある。

【００８５】流延に用いる溶液中の樹脂濃度は、通常５
〜６０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、より好ま
しくは２０〜４５重量％である。樹脂の濃度が低すぎる
と粘度が低いためシートの厚さの調整が困難であり、濃
度が高すぎると粘度が高いため製膜性が悪く、また、外
観性のよいフィルムが得られない。

【００８６】樹脂溶液を流延する方法は、特に限定され
ず、一般の溶液流延法を用いることができる。具体的に
は、樹脂溶液をバーコーター、Ｔダイ、バー付きＴダ
イ、ドクターナイフ、メイア・バー、ロール・コート、
ダイ・コートなどを用いて、ポリエチレンテレフタレー
トなどの耐熱材料、スチールベルト、金属箔などの平板
またはロール上に流延する方法を挙げることができる。

【００８７】溶液流延法により作成したシートは、乾燥
して、残留溶媒濃度２重量％以下とする。残留溶媒濃度
が高すぎると耐熱性が悪く、また、高温環境下での使用
において、残留していた溶媒が蒸発し、周囲に悪影響を
与えたり、変形の原因となったりする。

【００８８】シートは、通常、２段階に分けて乾燥する
ことが好ましい。まず、第１段階の乾燥として、平板ま
たはロール上のシートを３０〜１００℃、好ましくは４
０〜８０℃の温度範囲で残留溶媒濃度が１０重量％以
下、好ましくは５重量％以下になるまで乾燥する。この
場合、乾燥温度が高すぎると、溶媒の揮発に際し、シー
トが発泡する。

【００８９】次いで、平板またはロールからシートを剥
離し、第２段階の乾燥として、室温から６０℃以上、好
ましくは７０℃から樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）まで
の温度範囲に昇温させ、残留溶媒濃度が２重量％以下、
好ましくは１重量％以下、より好ましくは０．５重量％
以下になるまで乾燥する。

【００９０】乾燥温度が低すぎると乾燥が進まず、温度
が高すぎると、発泡する。第１段階の乾燥を行ない、乾
燥終了後にシートを平板またはロールから剥離し、第２
段階の乾燥を行なっても、あるいは第１段階の乾燥後、
一旦冷却してシートを平板またはロールから剥離し、第
２段階の乾燥を行なってもよい。

【００９１】6.再利用に係る成形体等 本発明の再利用法により、レンズ、プリズム、偏向フィ
ルム、導光板、光ディスク基板等の光学用途の成形体；
プレススルーパッケージ、ディスポーザブルシリンジ、
薬液バイヤル、輸液バッグ等の医療用途の成形体；電線
被覆、ウェハーシッパー、ハードディスク基板等の電気
又は電子材料用途の成形体；カーポート、グレージング
等の建材；ルームミラー、インナーレンズ、ランプリフ
レクタ等の自動車部品；ラップフィルム、ストレッチフ
ィルム、シュリンクフィルム、ブリスターパック等の包
装フィルム；ボールペン芯等の文具等を好適に得ること
ができる。

【００９２】特に配合剤等を選ぶことにより透明な成形
体も可能であることから、レンズ、プリズム、偏向フィ
ルム等の光学用途の成形体を好適に得ることができる。

【００９３】［実施例］以下実施例により本発明をさら
に詳細に説明する。他に明記しない限り「部」は「重量
部」である。以下の実施例及び比較例に使用したポリマ
ー及びディスク基板の製造法を以下に示す。

【００９４】［ポリマー１］８−メチルテトラシクロ
［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］ドデカ−３−エン（慣
用名：メチルテトラシクロドデセン（ＭＴＤ））８０
部、トリシクロ［４．３．０．１^2,5 ］デカ−３，７−
ジエン２０部（慣用名：ジシクロペンタジエン（ＤＣ
Ｐ））の開環重合体水素化物 Ｍｗ：５３，０００（ＧＰＣ分析によるポリイソプレン
換算値；溶媒：シクロヘキサン） Ｔｇ：１４０℃ 水素化率：９9.８％以上（ ¹Ｈ−ＮＭＲで水素化前後で
比較して測定）

【００９５】［ポリマー２］８−エチルテトラシクロ
［４．４．０．１^2,5 ．１^7,10］ドデカ−３−エン（慣
用名：エチルテトラシクロドデセン（ＥＴＤ））の開環
重合体水素化物 Ｍｗ：４９，０００（ＧＰＣ分析によるポリイソプレン
換算値；溶媒：シクロヘキサン） Ｔｇ：１４０℃ 水素化率：９9.８％以上（ ¹Ｈ−ＮＭＲで水素化前後で
比較して測定）

【００９６】［成形例１］下記の条件で光ディスク基板
を製造した。 材料： ポリマー１ 射出成形品： 光ディスク基板，直径：１３０mm，厚み：1.２mm 成形機： 住友重機械工業製；ＤＩＳＣ−５ ホッパー部に窒素を５００cc／min で供給 成形条件： 樹脂温度：３２０℃，金型温度：１１０℃，成形サイクルタイム ：１５sec

【００９７】［成形例２］材料として、ポリマー１の代
わりにポリマー２を使用した他は、成形例１と全く同様
にして、光ディスク基板を製造した。

【００９８】実施例１ 成形例１の光ディスク基板１００部を約５mm角にクラッ
シャーで破砕した。破砕物をシクロヘキサン４００部に
溶解した。珪藻土担持ニッケル触媒（日揮化学製、N11
3) ２部を添加し、１９０℃で、水素により４０kg／cm
² に加圧し、２時間攪拌処理した。７０℃まで冷却した
後、脱圧し、得られた溶液を珪藻土（昭和化学社製、ラ
ジオライト＃５００）を濾過助剤として加圧濾過機（フ
ンダフィルター、石川島播磨重工社製）で圧力2.５kg／
cm² で濾過し、ニッケル触媒を除去した。溶液から、揮
発成分であるシクロヘキサンを円筒型薄膜濃縮乾燥機
（日立製作所製、コントロ）によつて、運転条件を第１
ステップ：温度２７０℃、圧力１００Torr、第２ステッ
プ：温度２７０℃、圧力５Torrとして除去した。シクロ
ヘキサンを除去して得られた溶融状態のポリマーを２７
０℃でポリマーフィルター（富士フィルター製）を通し
て、クラス１０００のクリーンルーム内でダイからスト
ランド状に溶融押出し、ペレタイザーでカッティングし
て再生ペレット９３部を得た。

【００９９】実施例２ 成形例１の光ディスク基板の代わりに成形例２の光ディ
スク基板を使用した他は実施例１と同様に処理して、再
生ペレット９４部を得た。

【０１００】実施例３ 成形例１の光ディスク基板の代わりに成形例２の光ディ
スク基板を使用し、珪藻土担持ニッケル触媒の代わりに
アルミナ担持ニッケル触媒（日揮化学製、N163A)２部を
使用し、２１０℃で処理した他は実施例１と同様に処理
して、再生ペレット９３部を得た。

【０１０１】実施例４ アルミナ担持ニッケル触媒の代わりにアルミナ担持パラ
ジウム触媒（エヌ・イー・ケムキャット社製、５％Ｐｄ
アルミナ粉末）１部を使用し、１４０℃で処理した他は
実施例１と同様に処理して、再生ペレット９５部を得
た。

【０１０２】比較例１ 成形例１の光ディスク基板１００部を実施例１と同様に
クラッシャーで破砕した。一軸押出機（田辺プラスチッ
ク機械社製、ＶＳ−４０）により、シリンダー温度２５
０℃で、破砕物をダイからストランド状に溶融押出し、
ペレタイザーでカッティングして再生ペレット９８部を
得た。

【０１０３】比較例２：成形例２の光ディスク基板を使
用し、比較例１と同様に処理して、再生ペレット９８部
を得た。

【０１０４】再生したポリマーの特性値を表１に示す。 分子量：ＧＰＣ分析（溶媒：シクロヘキサン）によりポ
リイソプレン換算値として求めた。 Ｔｇ：ＤＳＣ分析による。 ΔＹＩ：トルエン溶液（濃度：１３重量％）として測
定。 異物含有量：トルエン溶液（濃度：２重量％）として、
光散乱式微粒子検出器（リオン社製、ＫＳ−５８）によ
り測定。

【０１０５】

【表１】

【０１０６】［成形例３］下記の条件で導光板を製造し
た。 材料： ポリマー２ 射出成形品： 導光板，厚み：３mm×幅：１００mm×長
さ：１５０mm 成形機： 住友重機械工業製；ＤＩＳＣ−５ 成形条件： 樹脂温度：３００℃，金型温度：１１０
℃，成形サイクルタイム：６０sec

【０１０７】実施例５ 成形例３において、ポリマー２の代わりに、実施例３で
得た再生ペレットを使用した他は全く同様にして、導光
板を製造した。

【０１０８】比較例３ 成形例３において、ポリマー２の代わりに、比較例２で
得た再生ペレットを使用した他は全く同様にして、導光
板を製造した。

【０１０９】得られた導光板の特性値（光線透過率及び
曲げ強度）を表２に示す。 光線透過率：導光板を５０mm×５０mmに切り出し、分光
光度計（日本分光社製、Ubest V-570)にて、波長４５０
nmで測定。 曲げ強度: 導光板を２０mm×１５０mmに切り出し、オー
トグラフ（島津製作所社製、AG-250kN) により測定。

【０１１０】

【表２】 成形材料 光線透過率 曲げ強度 （％） (kg/cm²) 成形例３ ポリマー２ 91 630 実施例５ 実施例３のペレット 91 630 比較例３ 比較例２のペレット 84 630

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 23:00

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 脂環式構造含有重合体樹脂成形体の再利
   用方法であって、水素添加処理する工程を含むことを特
   徴とする、脂環式構造含有重合体樹脂成形体の再利用方
   法。