JPH1129502A - 化合物の分離方法 - Google Patents
化合物の分離方法Info
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- JPH1129502A JPH1129502A JP18135897A JP18135897A JPH1129502A JP H1129502 A JPH1129502 A JP H1129502A JP 18135897 A JP18135897 A JP 18135897A JP 18135897 A JP18135897 A JP 18135897A JP H1129502 A JPH1129502 A JP H1129502A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】
【解決手段】溶媒に対する溶解度が相異なる化合物を含
む混合物、例えば、フルギド構造を有する化合物とその
製造工程で生成する副生成物との混合物から特定の化合
物を分離する方法において、例えば、トルエン、アセト
ニトリル、酢酸エチル等の溶媒に該混合物を分散させ、
溶解度の大きい化合物は全部溶解するが、溶解度の小さ
い化合物は一部溶解せずに残存するような４０〜８０℃
の温度に加温し、次いで冷却することにより、溶解度の
小さい化合物の結晶を成長させ、さらに溶解度の小さい
化合物の結晶が溶解しない４０〜８０℃の温度に加温し
た後、溶解度の大きい化合物を溶解した溶液から該結晶
を分離する。
む混合物、例えば、フルギド構造を有する化合物とその
製造工程で生成する副生成物との混合物から特定の化合
物を分離する方法において、例えば、トルエン、アセト
ニトリル、酢酸エチル等の溶媒に該混合物を分散させ、
溶解度の大きい化合物は全部溶解するが、溶解度の小さ
い化合物は一部溶解せずに残存するような４０〜８０℃
の温度に加温し、次いで冷却することにより、溶解度の
小さい化合物の結晶を成長させ、さらに溶解度の小さい
化合物の結晶が溶解しない４０〜８０℃の温度に加温し
た後、溶解度の大きい化合物を溶解した溶液から該結晶
を分離する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は溶媒に対する溶解度
が相異なる化合物を含む混合物から特定の化合物を分離
する分離方法に関する。
が相異なる化合物を含む混合物から特定の化合物を分離
する分離方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、溶媒に対する溶解度の異なる化合
物を含む混合物から特定の化合物を分離する方法は、混
合物に溶媒を加え、加温することによって混合物の大部
分を溶解し、不溶物を濾過した後、濾液を徐冷すること
により化合物を析出させる方法が一般的であった。しか
しながら、濾液を徐冷すると、溶解度の大きい化合物と
溶解度の小さい化合物がほとんど同時に析出し、一方の
化合物のみを選択的に析出させることが困難であった。
このため、目的物を高純度で得られないという問題があ
った。
物を含む混合物から特定の化合物を分離する方法は、混
合物に溶媒を加え、加温することによって混合物の大部
分を溶解し、不溶物を濾過した後、濾液を徐冷すること
により化合物を析出させる方法が一般的であった。しか
しながら、濾液を徐冷すると、溶解度の大きい化合物と
溶解度の小さい化合物がほとんど同時に析出し、一方の
化合物のみを選択的に析出させることが困難であった。
このため、目的物を高純度で得られないという問題があ
った。
【０００３】また、濾液の徐冷により析出した結晶を分
離し、これを別の溶媒に溶解し、この溶液を加温して結
晶を再溶解させ、さらに徐冷して再結晶化することによ
り、目的物の純度を向上させることができる。しかし、
このような再結晶を行うと、目的物の回収率が低下する
という問題が生じた。
離し、これを別の溶媒に溶解し、この溶液を加温して結
晶を再溶解させ、さらに徐冷して再結晶化することによ
り、目的物の純度を向上させることができる。しかし、
このような再結晶を行うと、目的物の回収率が低下する
という問題が生じた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術の欠点
を補う新しい技術の開発が望まれてきた。即ち、簡単な
操作で、目的とする化合物を高純度及び高回収率で分離
する方法が求められていた。
を補う新しい技術の開発が望まれてきた。即ち、簡単な
操作で、目的とする化合物を高純度及び高回収率で分離
する方法が求められていた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、溶媒に対する
溶解度が相異なる化合物を含む混合物の懸濁液を加温
し、その後冷却することで、溶解度の小さい化合物の微
細な結晶を成長させてその後の加温によっても溶解し難
い結晶とし、これを熱濾過によって除去し、分離する方
法を見い出し、本発明を完成するに至った。
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、溶媒に対する
溶解度が相異なる化合物を含む混合物の懸濁液を加温
し、その後冷却することで、溶解度の小さい化合物の微
細な結晶を成長させてその後の加温によっても溶解し難
い結晶とし、これを熱濾過によって除去し、分離する方
法を見い出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】即ち、本発明は溶媒に対する溶解度が相異
なる化合物を含む混合物から特定の化合物を分離する方
法において、溶媒に該混合物を分散させ、溶解度の大き
い化合物は全部溶解するが、溶解度の小さい化合物は一
部溶解せずに残存するような温度に加温し、次いで冷却
することにより溶解度の小さい化合物の結晶を成長さ
せ、さらに溶解度の小さい化合物の結晶が溶解しない温
度に加温した後、溶解度の大きい化合物を溶解した溶液
から該結晶を分離することを特徴とする化合物の分離方
法である。
なる化合物を含む混合物から特定の化合物を分離する方
法において、溶媒に該混合物を分散させ、溶解度の大き
い化合物は全部溶解するが、溶解度の小さい化合物は一
部溶解せずに残存するような温度に加温し、次いで冷却
することにより溶解度の小さい化合物の結晶を成長さ
せ、さらに溶解度の小さい化合物の結晶が溶解しない温
度に加温した後、溶解度の大きい化合物を溶解した溶液
から該結晶を分離することを特徴とする化合物の分離方
法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。
する。
【０００８】本発明では溶媒に対する溶解度が相異なる
化合物であれば２種類あるいはそれ以上の化合物を含む
混合物を何ら制限されることなく採用することができ
る。
化合物であれば２種類あるいはそれ以上の化合物を含む
混合物を何ら制限されることなく採用することができ
る。
【０００９】特に好適に用いることができる混合物とし
ては下記一般式（１）で示されるフルギド構造を有する
化合物とその製造工程上生成する副生成物から成る混合
物である。
ては下記一般式（１）で示されるフルギド構造を有する
化合物とその製造工程上生成する副生成物から成る混合
物である。
【００１０】
【化１】
【００１１】（但し、
【００１２】
【化２】
【００１３】は、それぞれ置換基を有してもよい二価の
芳香族炭化水素基または二価の不飽和複素環基であり、
Ｒ1 はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基また
は一価の複素環基であり、
芳香族炭化水素基または二価の不飽和複素環基であり、
Ｒ1 はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基また
は一価の複素環基であり、
【００１４】
【化３】
【００１５】はノルボルニリデン基またはアダマンチリ
デン基であり、Ｘは酸素原子、 基＞Ｎ−Ｒ２ 基＞Ｎ−Ａ１ −Ｂ1 −（Ａ2 ）i −（Ｂ2 ）j −
Ｒ3、 基＞Ｎ−Ａ3 −Ａ4 、または基＞Ｎ−Ａ3 −Ｒ4 であ
り、（ここで、Ｒ2 は水素原子、アルキル基またはアリ
ール基であり、Ｒ3 はアルキル基、ナフチル基またはナ
フチルアルキル基であり、Ｒ4 はハロゲン原子、シアノ
基またはニトロ基でありＡ1 ，Ａ2 およびＡ3 は同一も
しくは異なり、アルキレン基、アルキリデン基、シクロ
アルキレン基またはアルキルシクロアルカン−ジイル基
であり、Ａ4 はナフチル基であり、Ｂ1 およびＢ2 は、
同一もしくは異なる であり、ｉおよびｊは、それぞれ独立して０または１を
示すが、ｉが０の時はｊは０である。） 上記一般式（１）中
デン基であり、Ｘは酸素原子、 基＞Ｎ−Ｒ２ 基＞Ｎ−Ａ１ −Ｂ1 −（Ａ2 ）i −（Ｂ2 ）j −
Ｒ3、 基＞Ｎ−Ａ3 −Ａ4 、または基＞Ｎ−Ａ3 −Ｒ4 であ
り、（ここで、Ｒ2 は水素原子、アルキル基またはアリ
ール基であり、Ｒ3 はアルキル基、ナフチル基またはナ
フチルアルキル基であり、Ｒ4 はハロゲン原子、シアノ
基またはニトロ基でありＡ1 ，Ａ2 およびＡ3 は同一も
しくは異なり、アルキレン基、アルキリデン基、シクロ
アルキレン基またはアルキルシクロアルカン−ジイル基
であり、Ａ4 はナフチル基であり、Ｂ1 およびＢ2 は、
同一もしくは異なる であり、ｉおよびｊは、それぞれ独立して０または１を
示すが、ｉが０の時はｊは０である。） 上記一般式（１）中
【００１６】
【化４】
【００１７】で示される二価の芳香族炭化水素基として
は、ベンゼン環１個またはその２〜３個の縮合環から誘
導される二価の基を挙げることができ、また、二価の不
飽和複素環基としては、酸素原子、窒素原子、またはイ
オウ原子を環構成原子として１〜２個を含む５〜７員
環、または、これとベンゼン環との縮合環から誘導され
る二価の基を挙げることができる。二価の芳香族炭化水
素基を具体的に例示すると、ベンゼン環、ナフタレン
環、フェナントレン環、アントラセン環等から誘導され
る炭素数６〜１４の基を挙げることができ、また、二価
の不飽和複素環基を具体的に例示すると、フラン環、ベ
ンゾフラン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン
環、ピロール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環等
から誘導される炭素数４〜９の基を挙げることができ
る。
は、ベンゼン環１個またはその２〜３個の縮合環から誘
導される二価の基を挙げることができ、また、二価の不
飽和複素環基としては、酸素原子、窒素原子、またはイ
オウ原子を環構成原子として１〜２個を含む５〜７員
環、または、これとベンゼン環との縮合環から誘導され
る二価の基を挙げることができる。二価の芳香族炭化水
素基を具体的に例示すると、ベンゼン環、ナフタレン
環、フェナントレン環、アントラセン環等から誘導され
る炭素数６〜１４の基を挙げることができ、また、二価
の不飽和複素環基を具体的に例示すると、フラン環、ベ
ンゾフラン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン
環、ピロール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環等
から誘導される炭素数４〜９の基を挙げることができ
る。
【００１８】これらの置換基としては、特に制限されな
いが、例えば、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子：
メチル基、エチル基等の炭素数１〜４のアルキル基：メ
トキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ
基：フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数６〜
１０のアリール基：炭素数７〜１４のアルコキシアリー
ル基（炭素数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素数
６〜１０のアリール基）：アミノ基：ニトロ基：シアノ
基等を例示する事ができる。
いが、例えば、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子：
メチル基、エチル基等の炭素数１〜４のアルキル基：メ
トキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ
基：フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数６〜
１０のアリール基：炭素数７〜１４のアルコキシアリー
ル基（炭素数１〜４のアルコキシ基で置換された炭素数
６〜１０のアリール基）：アミノ基：ニトロ基：シアノ
基等を例示する事ができる。
【００１９】上記一般式（１）中、Ｒ1 で示されるアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基及び複素環基
は、上記した炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜１
０のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基及
び酸素原子、窒素原子、または、イオウ原子を環構成原
子として１〜２個含む５〜７員環、または、これとベン
ゼン環との縮合環から誘導される一価の基を挙げる事が
出来る。
キル基、シクロアルキル基、アリール基及び複素環基
は、上記した炭素数１〜４のアルキル基、炭素数３〜１
０のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基及
び酸素原子、窒素原子、または、イオウ原子を環構成原
子として１〜２個含む５〜７員環、または、これとベン
ゼン環との縮合環から誘導される一価の基を挙げる事が
出来る。
【００２０】基Ｘが窒素原子を含む基である場合のＲ2
で示されるアルキル基、アリール基は、Ｒ1 と同様であ
る。Ａ1 ，Ａ2 及びＡ3 で示されるアルキレン基は、メ
チレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基等の炭素数１〜４の基であること
が好ましく、アルキリデン基は、エチリデン基、プロピ
リデン基、イソプロピリデン基等の炭素数２〜４の基で
あることが好ましく、また、シクロアルキレン基は、シ
クロヘキシレン基が好ましく、さらに、アルキルシクロ
アルカン−ジイル基は、ジメチルシクロヘキサン−ジイ
ル基が好ましい。更に、Ｒ3 で示されるアルキル基は前
記Ｒ1 と同様であり、ナフチルアルキル基は、ナフチル
メチル基、ナフチルエチル基等の炭素数１１〜１４の基
であることが好ましい。
で示されるアルキル基、アリール基は、Ｒ1 と同様であ
る。Ａ1 ，Ａ2 及びＡ3 で示されるアルキレン基は、メ
チレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基等の炭素数１〜４の基であること
が好ましく、アルキリデン基は、エチリデン基、プロピ
リデン基、イソプロピリデン基等の炭素数２〜４の基で
あることが好ましく、また、シクロアルキレン基は、シ
クロヘキシレン基が好ましく、さらに、アルキルシクロ
アルカン−ジイル基は、ジメチルシクロヘキサン−ジイ
ル基が好ましい。更に、Ｒ3 で示されるアルキル基は前
記Ｒ1 と同様であり、ナフチルアルキル基は、ナフチル
メチル基、ナフチルエチル基等の炭素数１１〜１４の基
であることが好ましい。
【００２１】本発明において好適に使用できる化合物と
しては、次のような化合物を例示することができる。
しては、次のような化合物を例示することができる。
【００２２】１）Ｎ−シアノメチル−６，７−ジヒドリ
ド−４−メチル−２−フェニルスピロ（５，６−ベンゾ
〔ｂ〕チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−トリ
シクロ〔３．３．１．１3.7〕デカン） ２）Ｎ−シアノメチル−６，７−ジヒドリド−２−（ｐ
−メトキシフェニル）−４−メチルスピロ（５，６−ベ
ンゾ〔ｂ〕チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−
トリシクロ〔３．３．１．１3.7 〕デカン） ３）Ｎ−シアノメチル−６，７−ジヒドリド−４−メチ
ルスピロ（５，６−ベンゾ〔ｂ〕チオフェンジカルボキ
シイミド−７，２′−トリシクロ〔３．３．１．
１3.7 〕デカン） ４）６，７−ジヒドリド−Ｎ−メトキシカルボニルメチ
ル−４−メチル−２−フェニルスピロ（５，６−ベンゾ
〔ｂ〕チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−トリ
シクロ〔３．３．１．１3.7 〕デカン） ５）６，７−ジヒドリド−４−メチル−２−（ｐ−メチ
ルフェニル）−Ｎ−ニトロメチルスピロ（５，６−ベン
ゾ〔ｂ〕チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−ト
リシクロ〔３．３．１．１3.7 〕デカン） ６）Ｎ−シアノメチル−６，７−ジヒドリド−４−シク
ロプロピル−３−メチルスピロ（５，６−ベンゾ〔ｂ〕
チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−トリシクロ
〔３．３．１．１3.7 〕デカン） ７）Ｎ−シアノメチル−６，７−ジヒドリド−４−シク
ロプロピル−スピロ（５，６−ベンゾ〔ｂ〕チオフェン
ジカルボキシイミド−７，２′−トリシクロ〔３．３．
１．１3.7 〕デカン） などを挙げることができる。
ド−４−メチル−２−フェニルスピロ（５，６−ベンゾ
〔ｂ〕チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−トリ
シクロ〔３．３．１．１3.7〕デカン） ２）Ｎ−シアノメチル−６，７−ジヒドリド−２−（ｐ
−メトキシフェニル）−４−メチルスピロ（５，６−ベ
ンゾ〔ｂ〕チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−
トリシクロ〔３．３．１．１3.7 〕デカン） ３）Ｎ−シアノメチル−６，７−ジヒドリド−４−メチ
ルスピロ（５，６−ベンゾ〔ｂ〕チオフェンジカルボキ
シイミド−７，２′−トリシクロ〔３．３．１．
１3.7 〕デカン） ４）６，７−ジヒドリド−Ｎ−メトキシカルボニルメチ
ル−４−メチル−２−フェニルスピロ（５，６−ベンゾ
〔ｂ〕チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−トリ
シクロ〔３．３．１．１3.7 〕デカン） ５）６，７−ジヒドリド−４−メチル−２−（ｐ−メチ
ルフェニル）−Ｎ−ニトロメチルスピロ（５，６−ベン
ゾ〔ｂ〕チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−ト
リシクロ〔３．３．１．１3.7 〕デカン） ６）Ｎ−シアノメチル−６，７−ジヒドリド−４−シク
ロプロピル−３−メチルスピロ（５，６−ベンゾ〔ｂ〕
チオフェンジカルボキシイミド−７，２′−トリシクロ
〔３．３．１．１3.7 〕デカン） ７）Ｎ−シアノメチル−６，７−ジヒドリド−４−シク
ロプロピル−スピロ（５，６−ベンゾ〔ｂ〕チオフェン
ジカルボキシイミド−７，２′−トリシクロ〔３．３．
１．１3.7 〕デカン） などを挙げることができる。
【００２３】又、上記したフルギド構造を有する化合物
の製造工程上、生成する副生成物としては、質量分析及
び核磁気共鳴分析の結果から、前記した
の製造工程上、生成する副生成物としては、質量分析及
び核磁気共鳴分析の結果から、前記した
【００２４】
【化５】
【００２５】で示されるノルボルニリデン基またはアダ
マンチリデン基の骨格が一部変化した化合物であると推
定される。
マンチリデン基の骨格が一部変化した化合物であると推
定される。
【００２６】本発明においては、混合物には溶媒に対す
る溶解度の異なる化合物２種以上が含まれていてよい
が、特に目的物が９０重量％以上、不純物が１０重量％
以下である混合物から目的物を分離する場合に、目的物
を高純度で、例えば、９９重量％以上で分離できるため
に好適である。
る溶解度の異なる化合物２種以上が含まれていてよい
が、特に目的物が９０重量％以上、不純物が１０重量％
以下である混合物から目的物を分離する場合に、目的物
を高純度で、例えば、９９重量％以上で分離できるため
に好適である。
【００２７】本発明において、溶媒に対する溶解度の異
なる化合物を含む混合物は溶媒に分散される。分散に用
いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノール等の炭素数１
〜４のアルコール類：メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン類：エチレングリコールジメチ
ルエーテル等のエーテル類：酢酸エチル、酢酸ノルマル
プロピル等のエステル類：アセトニトリル等のニトリル
類：トルエン等の芳香族炭化水素類を挙げることがで
き、その他公知の溶媒も使用できる。これらの溶媒は単
独で、或いは２種以上の混合溶媒として用いることもで
きる。
なる化合物を含む混合物は溶媒に分散される。分散に用
いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノール等の炭素数１
〜４のアルコール類：メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン類：エチレングリコールジメチ
ルエーテル等のエーテル類：酢酸エチル、酢酸ノルマル
プロピル等のエステル類：アセトニトリル等のニトリル
類：トルエン等の芳香族炭化水素類を挙げることがで
き、その他公知の溶媒も使用できる。これらの溶媒は単
独で、或いは２種以上の混合溶媒として用いることもで
きる。
【００２８】混合物として上記したフルギド構造を有す
る化合物とその副生成物を用いた場合は、溶媒としてケ
トン類、エーテル類、エステル類、ニトリル類、芳香族
炭化水素類を好適に使用することができる。
る化合物とその副生成物を用いた場合は、溶媒としてケ
トン類、エーテル類、エステル類、ニトリル類、芳香族
炭化水素類を好適に使用することができる。
【００２９】溶媒中の前記混合物の濃度は５〜２０重量
％の範囲で分散させるのが好ましい。該溶媒に分散させ
た懸濁液を加温することにより溶解度の大きい化合物を
全部と、溶解度の小さい化合物を一部溶解させずに残存
させる必要がある。溶解度の小さい化合物までも全部溶
解させると、後の冷却において、溶解度の小さい化合物
の微細な結晶が核として成長しないために好ましくな
い。加温する温度は分離しようとする混合物や溶媒の種
類にもよるが、混合物として前記したフルギド構造を有
する化合物とその製造工程上副生する副生成物の混合物
を用いる場合は、４０〜８０℃、好ましくは５０〜７０
℃の範囲であることが望ましい。
％の範囲で分散させるのが好ましい。該溶媒に分散させ
た懸濁液を加温することにより溶解度の大きい化合物を
全部と、溶解度の小さい化合物を一部溶解させずに残存
させる必要がある。溶解度の小さい化合物までも全部溶
解させると、後の冷却において、溶解度の小さい化合物
の微細な結晶が核として成長しないために好ましくな
い。加温する温度は分離しようとする混合物や溶媒の種
類にもよるが、混合物として前記したフルギド構造を有
する化合物とその製造工程上副生する副生成物の混合物
を用いる場合は、４０〜８０℃、好ましくは５０〜７０
℃の範囲であることが望ましい。
【００３０】上記の温度範囲まで加温後、冷却すること
により溶解度の小さい化合物の微細な結晶が核となり結
晶が成長する。冷却速度は結晶核を成長させる理由から
徐冷が望ましく、通常、０．２〜０．５℃／分で冷却す
ることが好ましい。冷却による到達温度は２０〜３０℃
であれば十分である。一般には２０〜３００分かけて上
記到達温度まで冷却することが好ましい。この冷却によ
り、溶解度の小さい化合物の結晶を成長させる。このと
き、溶解度の大きい化合物が析出しても問題ない。冷却
到達温度では、通常、３０分〜１０時間程度保持し、溶
解度の小さい化合物の結晶核を十分に成長させることが
好ましい。
により溶解度の小さい化合物の微細な結晶が核となり結
晶が成長する。冷却速度は結晶核を成長させる理由から
徐冷が望ましく、通常、０．２〜０．５℃／分で冷却す
ることが好ましい。冷却による到達温度は２０〜３０℃
であれば十分である。一般には２０〜３００分かけて上
記到達温度まで冷却することが好ましい。この冷却によ
り、溶解度の小さい化合物の結晶を成長させる。このと
き、溶解度の大きい化合物が析出しても問題ない。冷却
到達温度では、通常、３０分〜１０時間程度保持し、溶
解度の小さい化合物の結晶核を十分に成長させることが
好ましい。
【００３１】上記の加温、冷却は何度繰り返しても良
い。繰り返し回数が多くなると、溶解度の小さい化合物
の結晶が大きく成長し、溶媒への溶解度が小さくなるた
めに好ましい。通常は、溶解度の小さい化合物の結晶核
の成長による溶媒への不溶解性と、操作の手間を考慮す
ると２〜５回の繰り返しが望ましい。
い。繰り返し回数が多くなると、溶解度の小さい化合物
の結晶が大きく成長し、溶媒への溶解度が小さくなるた
めに好ましい。通常は、溶解度の小さい化合物の結晶核
の成長による溶媒への不溶解性と、操作の手間を考慮す
ると２〜５回の繰り返しが望ましい。
【００３２】前記した懸濁液について加温、冷却を繰り
返した後、溶解度の大きい化合物は溶解するが、結晶核
が成長した溶解度の小さい化合物が残存する温度に加温
し、熱濾過することで溶解度の小さい化合物を除去する
ことができる。又、熱濾過時の溶解度の小さい化合物の
結晶径は０．１〜５００μｍの範囲であることが、溶媒
への溶解量を低減させることができるために好ましい。
特に加温による溶解防止及び操作上の濾過性を考慮する
と１０μｍ以上が好ましい。
返した後、溶解度の大きい化合物は溶解するが、結晶核
が成長した溶解度の小さい化合物が残存する温度に加温
し、熱濾過することで溶解度の小さい化合物を除去する
ことができる。又、熱濾過時の溶解度の小さい化合物の
結晶径は０．１〜５００μｍの範囲であることが、溶媒
への溶解量を低減させることができるために好ましい。
特に加温による溶解防止及び操作上の濾過性を考慮する
と１０μｍ以上が好ましい。
【００３３】熱濾過時の温度はあまり低い温度では、溶
解度の大きい化合物が十分溶解しないため、溶解度の大
きい化合物を目的物として回収する場合は回収率が悪く
なる。またあまり高い温度では結晶核が成長した溶解度
の小さい化合物が再溶解し、溶解度の大きい化合物を目
的物とする場合は、溶解度の小さい化合物の混入による
純度低下につながる。このため、熱濾過の温度は、４０
〜８０℃の範囲が好ましく、さらに５０〜７０℃の範囲
がより好ましい。
解度の大きい化合物が十分溶解しないため、溶解度の大
きい化合物を目的物として回収する場合は回収率が悪く
なる。またあまり高い温度では結晶核が成長した溶解度
の小さい化合物が再溶解し、溶解度の大きい化合物を目
的物とする場合は、溶解度の小さい化合物の混入による
純度低下につながる。このため、熱濾過の温度は、４０
〜８０℃の範囲が好ましく、さらに５０〜７０℃の範囲
がより好ましい。
【００３４】又、熱濾過で使用する濾過器は特に限定さ
れないが、熱濾過時の安全性を考慮すると、加圧濾過
器、フィルタープレス機及びカートリッジフィルター等
の密閉型濾過器が好ましい。
れないが、熱濾過時の安全性を考慮すると、加圧濾過
器、フィルタープレス機及びカートリッジフィルター等
の密閉型濾過器が好ましい。
【００３５】熱濾過で結晶核が成長した溶解度の小さい
化合物を除去した濾液は、公知の方法により徐冷するこ
とで溶解度の大きい化合物を析出させ、濾過等の方法で
分離することができる。
化合物を除去した濾液は、公知の方法により徐冷するこ
とで溶解度の大きい化合物を析出させ、濾過等の方法で
分離することができる。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば溶媒に対する溶解度の大
きい化合物と溶解度の小さい化合物から成る混合物を加
温、冷却を繰り返すことにより、溶解度の小さい化合物
の微細な結晶を成長させることで加温状態でも再溶解を
防ぎ、この結晶を熱濾過で除去することで目的とする化
合物を高純度及び高回収率で分離することができる。
きい化合物と溶解度の小さい化合物から成る混合物を加
温、冷却を繰り返すことにより、溶解度の小さい化合物
の微細な結晶を成長させることで加温状態でも再溶解を
防ぎ、この結晶を熱濾過で除去することで目的とする化
合物を高純度及び高回収率で分離することができる。
【００３７】
【実施例】以下、本発明を具体的に説明するため代表的
な実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。尚、加温と冷却の繰り返し回数、熱濾
過、粒度分布及び純度分析は下記の方法によって実施し
た。
な実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。尚、加温と冷却の繰り返し回数、熱濾
過、粒度分布及び純度分析は下記の方法によって実施し
た。
【００３８】（１）繰り返し回数：溶媒に分散させた懸
濁液を加温した後、徐冷し、結晶を析出させるまでの工
程サイクルを１回とした。
濁液を加温した後、徐冷し、結晶を析出させるまでの工
程サイクルを１回とした。
【００３９】（２）熱濾過：下記の加圧濾過器を用いて
窒素（0.1MPa）で加圧濾過した。
窒素（0.1MPa）で加圧濾過した。
【００４０】加圧濾過器：万能型タンク付ホルダーKST-
142-UH（ADVANTEC製） フィルター：定量濾紙No.5C（ADVANTEC製） （３）粒度分布計：マスターサイザーMS-20（MALVERN社
製）を用いて粒度を測定した。
142-UH（ADVANTEC製） フィルター：定量濾紙No.5C（ADVANTEC製） （３）粒度分布計：マスターサイザーMS-20（MALVERN社
製）を用いて粒度を測定した。
【００４１】（４）純度分析：高速液体クロマトグラフ
ィーPU-980,UV-970（日本分光株式会社製）を用いて測
定した。
ィーPU-980,UV-970（日本分光株式会社製）を用いて測
定した。
【００４２】カラム：Wakosil 5c18 φ4.6mm×150mm
（和光純薬工業株式会社製） 移動相：アセトニトリル／水＝90/10(V/V)（アセトニト
リルは和光純薬工業株式会社製を用いた。） 分析条件：UV 254nm 試料0.1g／クロロホルム10ml 注
入量 1μl また、以下の実施例では、次の表１に示した混合物を用
いた。ここで、フルギド構造を有する化合物（目的物）
は溶解度の大きい化合物であり、副生成物（不純物）は
溶解度の小さい化合物である。
（和光純薬工業株式会社製） 移動相：アセトニトリル／水＝90/10(V/V)（アセトニト
リルは和光純薬工業株式会社製を用いた。） 分析条件：UV 254nm 試料0.1g／クロロホルム10ml 注
入量 1μl また、以下の実施例では、次の表１に示した混合物を用
いた。ここで、フルギド構造を有する化合物（目的物）
は溶解度の大きい化合物であり、副生成物（不純物）は
溶解度の小さい化合物である。
【００４３】
【表１】
【００４４】実施例１ 表１に示したＮｏ．１〜３の３種類の混合物について、
溶媒中に溶解または分散して存在する混合物の濃度が１
０重量％になるように、表２に示した各種有機溶媒にそ
れぞれ分散させた。これを６５℃に加温した。このと
き、溶解度の大きい化合物（目的物）はすべて溶解し、
溶解度の小さい化合物（不純物）は溶解せずに固体状を
保持していることを目視で確認した。その後、０．５℃
／分の速度で２０℃まで徐冷し、２０℃で１時間保持し
た。この加温と冷却の操作を表２に示した回数だけ繰り
返した。その後、６０℃に加温し、その温度で熱濾過
し、加温と冷却の繰り返しによる結晶核の成長度合いを
濾過物（溶解度の小さい化合物）の結晶径で評価した。
結果を表２に示した。
溶媒中に溶解または分散して存在する混合物の濃度が１
０重量％になるように、表２に示した各種有機溶媒にそ
れぞれ分散させた。これを６５℃に加温した。このと
き、溶解度の大きい化合物（目的物）はすべて溶解し、
溶解度の小さい化合物（不純物）は溶解せずに固体状を
保持していることを目視で確認した。その後、０．５℃
／分の速度で２０℃まで徐冷し、２０℃で１時間保持し
た。この加温と冷却の操作を表２に示した回数だけ繰り
返した。その後、６０℃に加温し、その温度で熱濾過
し、加温と冷却の繰り返しによる結晶核の成長度合いを
濾過物（溶解度の小さい化合物）の結晶径で評価した。
結果を表２に示した。
【００４５】
【表２】
【００４６】
【表３】
【００４７】実施例２ 表１に示したＮｏ．４〜７の４種類の混合物について、
溶媒中に溶解または分散して存在する混合物の濃度が１
０重量％になる様にトルエンに分散させた。その後、６
５℃から２０℃への冷却時間を表３に示した値とし、加
温と冷却を２回繰り返したこと以外は、実施例１と同様
に行った。結果を表３に示した。
溶媒中に溶解または分散して存在する混合物の濃度が１
０重量％になる様にトルエンに分散させた。その後、６
５℃から２０℃への冷却時間を表３に示した値とし、加
温と冷却を２回繰り返したこと以外は、実施例１と同様
に行った。結果を表３に示した。
【００４８】
【表４】
【００４９】実施例３ 表１に示したＮｏ．１〜７の７種類の混合物について、
溶媒の種類及び濃度を表４に示したように変え、また加
温と冷却を３回繰り返したこと以外は、実施例１と同様
に行なった。その後、６０℃に加温し、その温度で熱濾
過し、得られた濾過物と濾液の組成を表４に示した。濾
過物は５０℃で５時間減圧乾燥した後、重量測定した。
次に、濾液を２０℃まで２℃／分の速度で冷却し、２時
間保持した後、析出した目的物を濾過して単離した。目
的物の回収量は５０℃で５時間減圧乾燥した後、重量測
定した。結果を表４に示した。
溶媒の種類及び濃度を表４に示したように変え、また加
温と冷却を３回繰り返したこと以外は、実施例１と同様
に行なった。その後、６０℃に加温し、その温度で熱濾
過し、得られた濾過物と濾液の組成を表４に示した。濾
過物は５０℃で５時間減圧乾燥した後、重量測定した。
次に、濾液を２０℃まで２℃／分の速度で冷却し、２時
間保持した後、析出した目的物を濾過して単離した。目
的物の回収量は５０℃で５時間減圧乾燥した後、重量測
定した。結果を表４に示した。
【００５０】
【表５】
【００５１】
【表６】
【００５２】
【表７】
【００５３】
【表８】
【００５４】
【表９】
【００５５】比較例１ 表１のＮｏ４の混合物に表４に示した溶媒を加え、６５
℃に加温することによって混合物の大部分を溶解した。
不溶物を濾別した後、濾液を０．５℃／分の速度で２０
℃まで徐冷することにより、目的物を結晶として析出さ
せ濾別した。その結果を表４に示した。
℃に加温することによって混合物の大部分を溶解した。
不溶物を濾別した後、濾液を０．５℃／分の速度で２０
℃まで徐冷することにより、目的物を結晶として析出さ
せ濾別した。その結果を表４に示した。
【００５６】比較例２ 比較例１で濾別した目的物の各結晶に表４に示した溶媒
を加え、７５℃に加温することによって結晶をすべて溶
解した。この溶液を０．５℃／分の速度で２０℃まで徐
冷することにより、目的物を再結晶させ、これを濾別し
た。その結果を表４に併せて示した。
を加え、７５℃に加温することによって結晶をすべて溶
解した。この溶液を０．５℃／分の速度で２０℃まで徐
冷することにより、目的物を再結晶させ、これを濾別し
た。その結果を表４に併せて示した。
Claims (1)
- 【請求項１】溶媒に対する溶解度が相異なる化合物を含
む混合物から特定の化合物を分離する方法において、溶
媒に該混合物を分散させ、溶解度の大きい化合物は全部
溶解するが、溶解度の小さい化合物は一部溶解せずに残
存するような温度に加温し、次いで冷却することにより
溶解度の小さい化合物の結晶を成長させ、さらに溶解度
の小さい化合物の結晶が溶解しない温度に加温した後、
溶解度の大きい化合物を溶解した溶液から該結晶を分離
することを特徴とする化合物の分離方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18135897A JPH1129502A (ja) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | 化合物の分離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18135897A JPH1129502A (ja) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | 化合物の分離方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1129502A true JPH1129502A (ja) | 1999-02-02 |
Family
ID=16099333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18135897A Withdrawn JPH1129502A (ja) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | 化合物の分離方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1129502A (ja) |
-
1997
- 1997-07-07 JP JP18135897A patent/JPH1129502A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040303 |