JPH1129588A - ジフェニルホスホリルアジドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 工業的に簡便かつ経済的に有利にジフェニル
ホスホリルアジドを製造する方法を提供する。 【解決手段】 ジフェニルホスホリルクロリドと無機ア
ジ化塩の水溶液とを、アニオン移動に有用な相間移動触
媒の存在下で、非水混和性の不活性な溶媒中で反応させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ジフェニルホスホ
リルクロリドを原料とする、ジフェニルホスホリルアジ
ドの新規な製造方法に関する。ジフェニルホスホリルア
ジドは、医薬品等の製造の際に有用な脱水縮合剤であ
り、又、アミノ化剤等としても有用である。

【０００２】

【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来、ジ
フェニルホスホリルアジドを合成する方法は、アセトン
溶媒またはアセトン−水の混合溶媒、無触媒下で、ジフ
ェニルホスホリルクロリドとアジ化ナトリウムとを反応
させる方法のみが知られている。

【０００３】例えば、特開昭４８−８０５４５号公報に
おいては、アセトンを反応溶媒に用い、アジ化ナトリウ
ムとジフェニルホスホリルクロリドを室温下で反応さ
せ、収率９２％を得ている。また、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，５７（１９９２年）２３，６２９４−６３００に
おいては、アセトン−水の混合溶媒系でジフェニルホス
ホリルクロリドとアジ化ナトリウムとを反応させ、収率
９０％を得ている。

【０００４】しかしながら、これらの方法は以下のよう
な問題点があり、工業的に製造するには適した方法とは
言い難い。 (１) 同一条件で合成を行っても、反応が速やかに完結
するものと途中で全く転換反応が進まなくなるものがあ
り、反応の定量的安定性がない。 (２) 反応完結にはアセトンに不溶の過剰のアジ化ナト
リウムを必要とし、例えば、上述の特開昭４８―８０５
４５号公報記載の実施例１を追試したところ、反応完結
までに、ジフェニルホスホリルクロリドに対して理論上
１当量であるところが、５当量のアジ化ナトリウムを数
回に分けて加えなければならなかった。さらに、この過
剰分のアジ化ナトリウムで汚染された塩化ナトリウムケ
ーキは後処理をしなければならない。 (３) 着色と純度に於いて、ロット間の品質が安定しな
い。

【０００５】本発明は、上述したような問題点を解決
し、高品質のジフェニルホスホリルアジドを、容易かつ
安全にしかも定量的安定性に優れた製造方法を提供する
ものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述の目
的を達成するために工業的に有利な方法を鋭意研究した
ところ、ジフェニルホスホリルクロリドを非水混和性の
不活性な溶媒に溶解し、アニオン移動相間移動触媒の存
在下で、水溶液化したアジ化ナトリウムとの反応によっ
てアジドに転換する方法を見い出し、本発明を完成する
に至った。

【０００７】すなわち、本発明は、式（１）のジフェニ
ルホスホリルクロリドと一般式（２）で表させる無機ア
ジ化塩の水溶液とを、アニオン移動に有用な相間移動触
媒の存在下、非水混和性の不活性な溶媒中で反応させる
ことを特徴とする式（３）で表されるジフェニルホスホ
リルアジドの製造方法である。

【化３】 (１) Ｍ(Ｎ₃)ｎ (２) （式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
り、ｎは１または２である。）

【化４】 (３)

【０００８】相間移動触媒を用いたこの新規な方法は、
反応の定量的安定性に優れたジフェニルホスホリルアジ
ドの合成方法である。

【０００９】さらに、２分子反応の推進力が相移動反応
により与えられるので、従来よりははるかに少ない量の
アジ化ナトリウムで反応が完結する。従って、反応時間
は従来の方法で必要とするよりも顕著に短縮され、しか
も、工程上の操作性も改善される。

【００１０】また、従来の方法は、水性溶媒であるアセ
トンを使用しているために、生成したジフェニルホスホ
リルアジド中に含まれる加水分解物等の不純物を水洗浄
で除去しようとすれば、ジフェニルホスホリルアジド自
体が加水分解を受け、有効な洗浄方法が見い出せていな
い。本発明は、生成したジフェニルホスホリルアジドが
非水混和性溶媒層にあるため、水による洗浄工程を行う
ことができるので、加水分解物の除去並びに着色原因の
物質が除去される。従って、高純度で無色液体の一定し
た高品質品が得られる。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明において、原料となるジフ
ェニルホスホリルクロリドは、どのような方法で製造さ
れたものであってもよく、また、市販品を使用してもよ
い。

【００１２】一般式（２）で表される無機アジ化塩とし
ては、具体的には、ナトリウム、カリウム、リチウム、
カルシウム、マグネシウム等のアルカリ金属またはアル
カリ土類金属のアジ化物が挙げられるが、アジ化ナトリ
ウムが工業的に好適である。

【００１３】無機アジ化塩の使用量は、ジフェニルホス
ホリルクロリド１モルに対し、アジ化水素換算で通常
１.０〜３.０モルの範囲、好ましくは１.０〜１.１モル
である。

【００１４】本発明で使用するアニオン移動に有用な相
間移動触媒としては、テトラ-ｎ-ブチルアンモニウムブ
ロミド、テトラ-ｎ-ブチルアンモニウムクロリド、トリ
オクチルメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド等の第４級アンモニウム塩が
挙げられるが、これらに限定されるわけではない。

【００１５】触媒の使用量は、ジフェニルホスホリルク
ロリド１重量に対し、通常０.０１〜０.０５重量の範
囲、好ましくは ０.０２〜０.０３重量の範囲である。

【００１６】非水混和性の不活性な溶媒としては、ヘキ
サン、シクロヘキサン等の炭化水素類、エチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル等のエーテル類、塩化メチレ
ン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素類、トルエ
ン、ベンゼン、キシレン、ジクロロベンゼン等の芳香族
炭化水素類が挙げられ、好ましくはシクロヘキサン、ト
ルエン、ベンゼン、イソプロピルエーテルであり、特に
好ましくはシクロヘキサンであるが、これらに限定され
るわけではない。

【００１７】上述溶媒の使用量は、ジフェニルホスホリ
ルクロリド１容量に対し、通常１〜５容量の範囲、好ま
しくは２〜３容量の範囲である。

【００１８】無機アジ化塩を水溶液化する水の使用量
は、ジフェニルホスホリルクロリド１容量に対し、通常
０.５〜２容量の範囲、好ましくは１.０〜１.５容量の
範囲である。

【００１９】反応温度は、温度が高くなると、原料のジ
フェニルホスホリルクロリドおよび生成したジフェニル
ホスホリルアジドの加水分解が促進されることから、通
常０〜２５℃の範囲、好ましくは０〜２０℃の範囲であ
る。

【００２０】反応時間は、時間が長くなると、原料のジ
フェニルホスホリルクロリドおよび生成したジフェニル
ホスホリルアジドの加水分解が促進されることから、１
〜５時間の範囲、好ましくは１〜２時間の範囲である。

【００２１】反応後の分液で、原料のジフェニルホスホ
リルクロリドと生成したジフェニルホスホリルアジドの
加水分解物および副生の塩化ナトリウムは、水に溶解し
ているので簡単に水層として除去される。又、有機層中
の相間移動触媒は、有機層を２回水洗浄することで有機
層中から除去される。従って、得られたジフェニルホス
ホリルアジドは不純物が少なく、高品質のものである。

【００２２】ジフェニルホスホリルアジドを含む有機層
は無水硫酸マグネシウムで簡単に乾燥でき、硫酸マグネ
シウムを濾別後溶媒を留去することで、ジフェニルホス
ホリルアジドが単離できる。

【００２３】

【実施例】以下に、実施例により本発明をさらに具体的
に説明するが。本発明はこれらの実施例に何等限定され
るものではない。

【００２４】実施例１ メカニカルオーバーヘッド撹拌機を備え付けた５Ｌ四つ
口丸底フラスコに、水１０００ｇに溶解したアジ化ナト
リウム２４２ｇ（３．７２モル）、テトラ-ｎ-ブチルア
ンモニウムブロミド２０ｇとシクロヘキサン２０００ｍ
ｌを仕込み、冷水浴で温度を２５℃以下に保ちながら、
撹拌下、ジフェニルホスホリルクロリド１０００ｇ（７
７５ｍｌ、３．７２モル）を滴下した。さらに２０℃で
約１時間撹拌し、反応を終了した。２相混合物を分液し
た後、シクロヘキサン層を水６００ｍｌで２回洗浄し、
無水硫酸マグネシウム１００ｇで乾燥した。乾燥剤を濾
別後、このケーキをシクロヘキサン２００ｍｌで洗浄し
た。乾燥後のシクロヘキサン溶液を、油浴温度４０℃以
下でエバポレーターを用い減圧濃縮し、無色液体のジフ
ェニルホスホリルアジド９６２ｇを得た。ジフェニルホ
スホリルクロリドに対する収率は９４％であった。純度
９８．７％、比重１．２９。

【００２５】実施例２ シクロヘキサンの代わりにトルエンを用いた以外は、実
施例１と同様の操作により、無色液体のジフェニルホス
ホリルアジド９５２ｇを得た。ジフェニルホスホリルク
ロリドに対する収率は９３％であった。純度９９．４
％、比重１．２９。

【００２６】

【発明の効果】本発明は、医薬品等の製造の際に有用な
脱水縮合剤等に用いられるジフェニルホスホリルアジド
の新規な製造方法を提供するものである。本発明を採用
すると、安全でしかも安定した高い収率を得ながら、高
品質のジフェニルホスホリルアジドを製造することがで
きる。従って、経済的、工業的価値が極めて大きい。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 光井 順 兵庫県高砂市曽根町2900番地 東洋化成工 業株式会社化成品研究所内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式(１)のジフェニルホスホリルクロリド
   と一般式(２)で表される無機アジ化塩の水溶液とを、ア
   ニオン移動に有用な相間移動触媒の存在下で、非水混和
   性の不活性な溶媒中に於いて反応させることを特徴とす
   る式(３)で表されるジフェニルホスホリルアジドの製造
   方法。 【化１】 (１) Ｍ(Ｎ₃)ｎ (２) （式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
   り、ｎは１または２である。） 【化２】 (３)
2. 【請求項２】 無機アジ化塩がアジ化ナトリウムである
   ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】 アニオン移動に有用な相間移動触媒が、
   第４級アンモニウム塩であることを特徴とする請求項１
   または請求項２に記載の方法。
4. 【請求項４】 第４級アンモニウム塩が、トリ-ｎ-アル
   キルメチルアンモニウムクロリドまたはトリ−ｎ−アル
   キルメチルアンモニウムブロミドであることを特徴とす
   る請求項３に記載の製造方法。（アルキルは炭素数が１
   〜１０である。）
5. 【請求項５】 非水混和性の不活性な溶媒が、シクロヘ
   キサン、トルエン、ベンゼン、イソプロピルエーテルか
   らなる群より選ばれることを特徴とする請求項１〜４の
   いずれか１項に記載の製造方法。