JPH11297587A - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置およびデバイス製造方法Info
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- JPH11297587A JPH11297587A JP10095895A JP9589598A JPH11297587A JP H11297587 A JPH11297587 A JP H11297587A JP 10095895 A JP10095895 A JP 10095895A JP 9589598 A JP9589598 A JP 9589598A JP H11297587 A JPH11297587 A JP H11297587A
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- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
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- F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を軽
減し、またステージの加減速に伴う反力が床に及ぼす影
響を小さくすることで同一床に設置されている他の装置
に与える影響を小さくする。 【解決手段】 被露光物を搭載して移動可能なステージ
と、該ステージを支持するステージベース部材と、該ス
テージを駆動した際の反力を受けるための該ステージベ
ース部材とは異なる反力受け構造体とを有し、該反力受
け構造体と床との間で所定周波数以上の振動伝達を遮断
する。反力受け構造体を床もしくはベースフレームに対
して弾性支持する弾性支持体と、前記ステージベース部
材と前記反力受け構造体の間で力を発生するリニアモー
タ等の力アクチュエータを有する。所定周波数は床の固
有振動数以下である。
減し、またステージの加減速に伴う反力が床に及ぼす影
響を小さくすることで同一床に設置されている他の装置
に与える影響を小さくする。 【解決手段】 被露光物を搭載して移動可能なステージ
と、該ステージを支持するステージベース部材と、該ス
テージを駆動した際の反力を受けるための該ステージベ
ース部材とは異なる反力受け構造体とを有し、該反力受
け構造体と床との間で所定周波数以上の振動伝達を遮断
する。反力受け構造体を床もしくはベースフレームに対
して弾性支持する弾性支持体と、前記ステージベース部
材と前記反力受け構造体の間で力を発生するリニアモー
タ等の力アクチュエータを有する。所定周波数は床の固
有振動数以下である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体リソグラフ
ィ工程等で用いる露光装置やこの露光装置に好適なステ
ージ装置、ならびにデバイス生産方法に関するものであ
る。
ィ工程等で用いる露光装置やこの露光装置に好適なステ
ージ装置、ならびにデバイス生産方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体デバイス等の製造に用いら
れる露光装置としては、基板（ウエハやガラス基板）を
ステップ移動させながら基板上の複数の露光領域に原版
（レチクルやマスク）のパターンを投影光学系を介して
順次露光するステップ・アンド・リピート型の露光装置
（ステッパと称することもある）や、ステップ移動と走
査露光とを繰り返すことにより、基板上の複数の領域に
露光転写を繰り返すステップ・アンド・スキャン型の露
光装置（スキャナと称することもある）が代表的であ
る。特にステップ・アンド・スキャン型は、スリットに
より制限して投影光学系の比較的光軸に近い部分のみを
使用しているため、より高精度且つ広画角な微細パター
ンの露光が可能となっており、今後の主流になると見ら
れている。
れる露光装置としては、基板（ウエハやガラス基板）を
ステップ移動させながら基板上の複数の露光領域に原版
（レチクルやマスク）のパターンを投影光学系を介して
順次露光するステップ・アンド・リピート型の露光装置
（ステッパと称することもある）や、ステップ移動と走
査露光とを繰り返すことにより、基板上の複数の領域に
露光転写を繰り返すステップ・アンド・スキャン型の露
光装置（スキャナと称することもある）が代表的であ
る。特にステップ・アンド・スキャン型は、スリットに
より制限して投影光学系の比較的光軸に近い部分のみを
使用しているため、より高精度且つ広画角な微細パター
ンの露光が可能となっており、今後の主流になると見ら
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これら露光装置はウエ
ハやレチクルを高速で移動させて位置決めするステージ
装置（ウエハステージ、レチクルステージ）を有してい
るが、ステージを駆動すると加減速に伴う慣性力の反力
が生じ、これが定盤に伝わると定盤の揺れや振動を引き
起こす原因となる。すると露光装置の機構系の固有振動
が励起されて高周波振動となって高速，高精度な位置決
めを妨げる可能性がある。
ハやレチクルを高速で移動させて位置決めするステージ
装置（ウエハステージ、レチクルステージ）を有してい
るが、ステージを駆動すると加減速に伴う慣性力の反力
が生じ、これが定盤に伝わると定盤の揺れや振動を引き
起こす原因となる。すると露光装置の機構系の固有振動
が励起されて高周波振動となって高速，高精度な位置決
めを妨げる可能性がある。
【０００４】この反力に関する問題を解決するために、
いくつかの提案がなされている。例えば、特開平5-7712
6号公報に記載された装置では、ステージを駆動するた
めのリニアモータの固定子をステージ定盤とは独立して
床で支持することで、反力によるステージ定盤の揺れを
防止するシステムとなっている。また、特開平5-121294
号公報に記載された装置では、ウエハステージ及び投影
レンズを支持するマシンフレームに対して、水平方向に
発生する力アクチュエータによって、ステージの駆動に
伴う反力と同等の補償力を付与することによって、反力
による装置の揺れを軽減するシステムとなっている。
いくつかの提案がなされている。例えば、特開平5-7712
6号公報に記載された装置では、ステージを駆動するた
めのリニアモータの固定子をステージ定盤とは独立して
床で支持することで、反力によるステージ定盤の揺れを
防止するシステムとなっている。また、特開平5-121294
号公報に記載された装置では、ウエハステージ及び投影
レンズを支持するマシンフレームに対して、水平方向に
発生する力アクチュエータによって、ステージの駆動に
伴う反力と同等の補償力を付与することによって、反力
による装置の揺れを軽減するシステムとなっている。
【０００５】しかしながら、上記いずれの従来例におい
ても、ステージ装置自体の揺れは軽減できても、ステー
ジの駆動に伴う反力は、直接床に対してもしくは実質的
に床と一体とみなせる部材を介して床に対して伝達され
る。このため床を加振してしまうことになり、露光装置
の周辺に設置される装置に対して振動を与えて悪影響を
及ぼす可能性がある。通常、露光装置を設置する床は２
０〜４０Ｈｚ程度の固有振動数を持っており、露光装置
の動作に伴って床の固有振動数が励起されると、周辺の
装置への悪影響は大きなものになる。
ても、ステージ装置自体の揺れは軽減できても、ステー
ジの駆動に伴う反力は、直接床に対してもしくは実質的
に床と一体とみなせる部材を介して床に対して伝達され
る。このため床を加振してしまうことになり、露光装置
の周辺に設置される装置に対して振動を与えて悪影響を
及ぼす可能性がある。通常、露光装置を設置する床は２
０〜４０Ｈｚ程度の固有振動数を持っており、露光装置
の動作に伴って床の固有振動数が励起されると、周辺の
装置への悪影響は大きなものになる。
【０００６】昨今、処理速度（スループット）の向上に
伴うステージ加速度は増加の一途であり、例えばステッ
プ・アンド・スキャン型の露光装置では、いまやステー
ジの最大加速度はレチクルステージは４Ｇ、ウエハステ
ージは１Ｇにも達する。さらにレチクルや基板の大型化
に伴ってステージ質量も増大している。このため、＜移
動体の質量＞×＜加速度＞で定義される駆動力は非常に
大きなものとなり、その反力は膨大なものである。その
ため、加速度増加と重量増加による設置床の加振は見過
ごせない問題となってきた。
伴うステージ加速度は増加の一途であり、例えばステッ
プ・アンド・スキャン型の露光装置では、いまやステー
ジの最大加速度はレチクルステージは４Ｇ、ウエハステ
ージは１Ｇにも達する。さらにレチクルや基板の大型化
に伴ってステージ質量も増大している。このため、＜移
動体の質量＞×＜加速度＞で定義される駆動力は非常に
大きなものとなり、その反力は膨大なものである。その
ため、加速度増加と重量増加による設置床の加振は見過
ごせない問題となってきた。
【０００７】また、振動問題ばかりでなく装置の大型化
も著しくなり、数多くの製造装置が設置される製造工場
内での占有設置面積の増大が問題として顕在化しつつあ
る。
も著しくなり、数多くの製造装置が設置される製造工場
内での占有設置面積の増大が問題として顕在化しつつあ
る。
【０００８】本発明は上記課題を解決すべくなされたも
ので、上記従来の装置をより進化させた優れた露光装置
を提供することを目的とする。
ので、上記従来の装置をより進化させた優れた露光装置
を提供することを目的とする。
【０００９】本発明のさらなる目的は、ステージの移動
に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽減することでが
でき従来以上の高精度を達成した露光装置を提供するこ
とである。また本発明のさらなる目的は、ステージの加
減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすることで、
同一床に設置されている他の装置に与える影響を小さく
した露光装置を提供することである。また本発明のさら
なる目的は、床への設置面積の増大を防ぐことができる
露光装置を提供することである。
に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽減することでが
でき従来以上の高精度を達成した露光装置を提供するこ
とである。また本発明のさらなる目的は、ステージの加
減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすることで、
同一床に設置されている他の装置に与える影響を小さく
した露光装置を提供することである。また本発明のさら
なる目的は、床への設置面積の増大を防ぐことができる
露光装置を提供することである。
【００１０】また本発明のさらなる目的は、上記露光装
置を用いた優れた生産性のデバイス生産方法を提供する
ことである。
置を用いた優れた生産性のデバイス生産方法を提供する
ことである。
【００１１】さらなる本発明の課題や目的は、以下の実
施例の記載の中で明らかにされる。
施例の記載の中で明らかにされる。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の露光装置のある形態は、被露光物を搭載して移動可
能なステージと、該ステージを支持するステージベース
部材と、該ステージを駆動した際の反力を受けるための
該ステージベース部材とは異なる反力受け構造体とを有
し、該反力受け構造体と床との間で所定周波数以上の振
動伝達が遮断されていることを特徴とする。これによ
り、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上
に軽減することでができる。
明の露光装置のある形態は、被露光物を搭載して移動可
能なステージと、該ステージを支持するステージベース
部材と、該ステージを駆動した際の反力を受けるための
該ステージベース部材とは異なる反力受け構造体とを有
し、該反力受け構造体と床との間で所定周波数以上の振
動伝達が遮断されていることを特徴とする。これによ
り、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上
に軽減することでができる。
【００１３】また本発明の露光装置のある形態は、被露
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体と、該ステージベース部材と床との間で
の振動伝達を遮断する第１機械的フィルタ手段と、該反
力受け構造体と床との間での振動伝達を遮断する第２機
械的フィルタ手段と、を有することを特徴とする。これ
により、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来
以上に軽減することでができる。
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体と、該ステージベース部材と床との間で
の振動伝達を遮断する第１機械的フィルタ手段と、該反
力受け構造体と床との間での振動伝達を遮断する第２機
械的フィルタ手段と、を有することを特徴とする。これ
により、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来
以上に軽減することでができる。
【００１４】また本発明の露光装置のある形態は、被露
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体と、該反力受け構造体を実質的に床又は
ベースフレームに対して弾性支持する弾性支持体と、該
ステージベース部材と該反力受け構造体の間で鉛直方向
と水平方向の少なくとも一方の方向で力を発生する力ア
クチュエータと、を有することを特徴とする。これによ
り、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上
に軽減することでができる。
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体と、該反力受け構造体を実質的に床又は
ベースフレームに対して弾性支持する弾性支持体と、該
ステージベース部材と該反力受け構造体の間で鉛直方向
と水平方向の少なくとも一方の方向で力を発生する力ア
クチュエータと、を有することを特徴とする。これによ
り、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上
に軽減することでができる。
【００１５】また本発明の露光装置のある形態は、被露
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体と、該反力受け構造体を実質的に床又は
ベースフレームに対して水平方向に弾性支持する弾性支
持体と、を有することを特徴とする。これにより、ステ
ージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽減す
ることでができる。
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体と、該反力受け構造体を実質的に床又は
ベースフレームに対して水平方向に弾性支持する弾性支
持体と、を有することを特徴とする。これにより、ステ
ージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽減す
ることでができる。
【００１６】また本発明の露光装置のある形態は、被露
光物を搭載して水平方向に移動可能なステージと、該ス
テージを支持するステージベース部材と、該ステージを
駆動した際の反力を受けるための該ステージベース部材
とは異なる反力受け構造体と、該ステージベース部材と
該反力受け構造体の間で鉛直方向に力を発生する複数の
力アクチュエータと、を有することを特徴とする。これ
により、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来
以上に軽減することでができる。
光物を搭載して水平方向に移動可能なステージと、該ス
テージを支持するステージベース部材と、該ステージを
駆動した際の反力を受けるための該ステージベース部材
とは異なる反力受け構造体と、該ステージベース部材と
該反力受け構造体の間で鉛直方向に力を発生する複数の
力アクチュエータと、を有することを特徴とする。これ
により、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来
以上に軽減することでができる。
【００１７】また本発明の露光装置のある形態は、水平
方向に被露光物を搭載して移動可能なステージと、該ス
テージを支持するステージベース部材と、該ステージを
駆動した際の反力を受けるための該ステージベース部材
とは異なる反力受け構造体と、該ステージベース部材と
該反力受け構造体の間で水平方向に力を発生する力アク
チュエータとを有し、該ステージの重心高さと該力アク
チュエータの力作用位置の高さとがほぼ等しいことを特
徴とする。これにより、ステージの移動に伴う振動や揺
れの影響を従来以上に軽減することでができる。さらに
反力と同一高さに補償力を与えることができるので効果
的に反力をキャンセルすることができる。
方向に被露光物を搭載して移動可能なステージと、該ス
テージを支持するステージベース部材と、該ステージを
駆動した際の反力を受けるための該ステージベース部材
とは異なる反力受け構造体と、該ステージベース部材と
該反力受け構造体の間で水平方向に力を発生する力アク
チュエータとを有し、該ステージの重心高さと該力アク
チュエータの力作用位置の高さとがほぼ等しいことを特
徴とする。これにより、ステージの移動に伴う振動や揺
れの影響を従来以上に軽減することでができる。さらに
反力と同一高さに補償力を与えることができるので効果
的に反力をキャンセルすることができる。
【００１８】また本発明の露光装置のある形態は、被露
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体と、該ステージベース部材を実質的に床
又はベースフレームに対して鉛直方向に弾性支持するマ
ウントと、該反力受け構造体を実質的に床又はベースフ
レームに対して弾性支持する弾性支持体とを有し、前記
マウントと前記弾性支持体は独立して前記ステージベー
ス部材と前記反力受け構造体を支持することを特徴とす
る。これにより、ステージの移動に伴う振動や揺れの影
響を従来以上に軽減することでができる。
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体と、該ステージベース部材を実質的に床
又はベースフレームに対して鉛直方向に弾性支持するマ
ウントと、該反力受け構造体を実質的に床又はベースフ
レームに対して弾性支持する弾性支持体とを有し、前記
マウントと前記弾性支持体は独立して前記ステージベー
ス部材と前記反力受け構造体を支持することを特徴とす
る。これにより、ステージの移動に伴う振動や揺れの影
響を従来以上に軽減することでができる。
【００１９】また本発明の露光装置のある形態は、被露
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体とを備え、該反力受け構造体は前記ステ
ージベース部材の下方に位置することを特徴とする露光
装置。これにより、ステージの移動に伴う振動や揺れの
影響を従来以上に軽減することでができる。また、反力
受け構造体はステージベース部材の下方に位置している
ため、床への装置の設置占有面積の軽減化を図ることが
できる。
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる
反力受け構造体とを備え、該反力受け構造体は前記ステ
ージベース部材の下方に位置することを特徴とする露光
装置。これにより、ステージの移動に伴う振動や揺れの
影響を従来以上に軽減することでができる。また、反力
受け構造体はステージベース部材の下方に位置している
ため、床への装置の設置占有面積の軽減化を図ることが
できる。
【００２０】また本発明の露光装置のある形態は、ウエ
ハを搭載して移動するウエハ移動可能なウエハステージ
と、該ウエハステージを支持するステージベース部材
と、該ステージベース部材を実質的に床又はベースフレ
ームに鉛直方向に弾性支持する複数の第１マウントと、
レチクルを搭載して前記ウエハステージと同期して移動
するレチクルステージと、投影光学系もしくは該レチク
ルステージを支持する鏡筒定盤と、該鏡筒定盤を実質的
に床又はベースフレームに鉛直方向に弾性支持する複数
の第２マウントとを有し、上方から見たとき、該複数の
第２マウントの内側の領域に前記複数の第１マウントが
配置されることを特徴とする。これにより、ステージの
移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽減すること
でができる。また高速の走査露光に際して装置の不要な
傾きを生じにくい構成となっている。
ハを搭載して移動するウエハ移動可能なウエハステージ
と、該ウエハステージを支持するステージベース部材
と、該ステージベース部材を実質的に床又はベースフレ
ームに鉛直方向に弾性支持する複数の第１マウントと、
レチクルを搭載して前記ウエハステージと同期して移動
するレチクルステージと、投影光学系もしくは該レチク
ルステージを支持する鏡筒定盤と、該鏡筒定盤を実質的
に床又はベースフレームに鉛直方向に弾性支持する複数
の第２マウントとを有し、上方から見たとき、該複数の
第２マウントの内側の領域に前記複数の第１マウントが
配置されることを特徴とする。これにより、ステージの
移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽減すること
でができる。また高速の走査露光に際して装置の不要な
傾きを生じにくい構成となっている。
【００２１】また本発明の露光装置のある形態は、ウエ
ハを搭載して移動するウエハ移動可能なウエハステージ
と、該ウエハステージを支持するステージベース部材
と、該ステージベース部材を実質的に床又はベースフレ
ームに鉛直方向に弾性支持する複数の第１マウントと、
レチクルを搭載して前記ウエハステージと同期して移動
するレチクルステージと、投影光学系もしくは該レチク
ルステージを支持する鏡筒定盤と、該鏡筒定盤を実質的
に床又はベースフレームに鉛直方向に弾性支持する複数
の第２マウントとを有し、上方から見たとき、前記第１
マウントで規定される多角形の重心位置と、前記第２マ
ウントで規定される多角形の重心位置と、前記投影光学
系の光軸のうちのいづれか２つ以上がほぼ一致している
ことを特徴とする。これにより、ステージの移動に伴う
振動や揺れの影響を従来以上に軽減することでができ
る。また高速の走査露光に際して装置の不要な傾きを生
じにくい構成となっている。
ハを搭載して移動するウエハ移動可能なウエハステージ
と、該ウエハステージを支持するステージベース部材
と、該ステージベース部材を実質的に床又はベースフレ
ームに鉛直方向に弾性支持する複数の第１マウントと、
レチクルを搭載して前記ウエハステージと同期して移動
するレチクルステージと、投影光学系もしくは該レチク
ルステージを支持する鏡筒定盤と、該鏡筒定盤を実質的
に床又はベースフレームに鉛直方向に弾性支持する複数
の第２マウントとを有し、上方から見たとき、前記第１
マウントで規定される多角形の重心位置と、前記第２マ
ウントで規定される多角形の重心位置と、前記投影光学
系の光軸のうちのいづれか２つ以上がほぼ一致している
ことを特徴とする。これにより、ステージの移動に伴う
振動や揺れの影響を従来以上に軽減することでができ
る。また高速の走査露光に際して装置の不要な傾きを生
じにくい構成となっている。
【００２２】また本発明の露光装置のある形態は、ウエ
ハを搭載して移動するウエハステージと、該ウエハステ
ージを支持するステージベース部材と、該ウエハステー
ジを駆動した際の反力を受ける第１反力受け構造体と、
レチクルを搭載して該ウエハステージと同期して移動す
るレチクルステージと、該レチクルステージ及び投影光
学系を支持する鏡筒定盤と、該レチクルステージを駆動
した際の反力を受ける前記第１の反力受け構造体とは別
の第２反力受け構造体とを有することを特徴とする。好
ましくは、前記ステージベース部材を実質的に床又はベ
ースフレームに鉛直方向に弾性支持する第１マウント
と、前記鏡筒定盤を実質的に床又はベースフレームに鉛
直方向に弾性支持する第２マウントとを有し、該第１マ
ウントと該第２マウントによって、前記ウエハステージ
と前記レチクルステージとは床に対して独立に支持され
ている。好ましくは、前記ウエハステージの反力に応じ
た力を発生する第１力アクチュエータと、前記レチクル
ステージの反力に相当する力を発生する第２力アクチュ
エータの少なくとも一方を有する。好ましくは、前記第
１反力受け構造体を実質的に床もしくはベースフレーム
に弾性支持する第１弾性支持体と、前記第２反力受け構
造体を実質的に床もしくはベースフレームに弾性支持す
る第２弾性支持体の少なくとも一方を有する。これによ
り、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上
に軽減することでができる。また同期移動するウエハス
テージならびにレチクルステージともに反力受けを行う
ため、極めて振動の少ない優れた走査型の露光装置を提
供することができる。
ハを搭載して移動するウエハステージと、該ウエハステ
ージを支持するステージベース部材と、該ウエハステー
ジを駆動した際の反力を受ける第１反力受け構造体と、
レチクルを搭載して該ウエハステージと同期して移動す
るレチクルステージと、該レチクルステージ及び投影光
学系を支持する鏡筒定盤と、該レチクルステージを駆動
した際の反力を受ける前記第１の反力受け構造体とは別
の第２反力受け構造体とを有することを特徴とする。好
ましくは、前記ステージベース部材を実質的に床又はベ
ースフレームに鉛直方向に弾性支持する第１マウント
と、前記鏡筒定盤を実質的に床又はベースフレームに鉛
直方向に弾性支持する第２マウントとを有し、該第１マ
ウントと該第２マウントによって、前記ウエハステージ
と前記レチクルステージとは床に対して独立に支持され
ている。好ましくは、前記ウエハステージの反力に応じ
た力を発生する第１力アクチュエータと、前記レチクル
ステージの反力に相当する力を発生する第２力アクチュ
エータの少なくとも一方を有する。好ましくは、前記第
１反力受け構造体を実質的に床もしくはベースフレーム
に弾性支持する第１弾性支持体と、前記第２反力受け構
造体を実質的に床もしくはベースフレームに弾性支持す
る第２弾性支持体の少なくとも一方を有する。これによ
り、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上
に軽減することでができる。また同期移動するウエハス
テージならびにレチクルステージともに反力受けを行う
ため、極めて振動の少ない優れた走査型の露光装置を提
供することができる。
【００２３】また本発明の別の形態は、ステージの駆動
に伴う反力を、所定範囲の周波数に関して床からアイソ
レーションされた反力受け構造体に逃がすことを特徴と
するステージ装置の反力受け方法である。これにより、
ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽
減することでができる。
に伴う反力を、所定範囲の周波数に関して床からアイソ
レーションされた反力受け構造体に逃がすことを特徴と
するステージ装置の反力受け方法である。これにより、
ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽
減することでができる。
【００２４】本発明のデバイス製造方法は、上記いずれ
かの露光装置を用意する工程と、該露光装置を用いて露
光を行う工程を含む製造工程によってデバイスを製造す
ることを特徴とするものである。
かの露光装置を用意する工程と、該露光装置を用いて露
光を行う工程を含む製造工程によってデバイスを製造す
ることを特徴とするものである。
【００２５】
【発明の実施の形態】＜露光装置＞以下、図面を用いて
具体的な実施形態を説明していく。図１は実施形態の半
導体デバイス製造用の露光装置の概略図である。図２は
ウエハステージの反力受けシステムの説明図であり、モ
デル的に描いたものであるため図１とは一部部材形状が
異なっている。
具体的な実施形態を説明していく。図１は実施形態の半
導体デバイス製造用の露光装置の概略図である。図２は
ウエハステージの反力受けシステムの説明図であり、モ
デル的に描いたものであるため図１とは一部部材形状が
異なっている。
【００２６】本例では、レチクルとウエハを共に同期走
査しながら露光を行ってウエハの１つのショット領域に
レチクルパターンの露光転写を行い、ウエハをステップ
移動させることで複数のショット領域にパターンを並べ
て転写する、いわゆるステップ・アンド・スキャン型の
走査型露光装置である。なお、本発明はステップ・アン
ド・スキャン型の露光装置への適用が特に効果的である
が、これに限定されるものではなく、ウエハステージが
高速ステップ移動するステップ・アンド・リピート型の
露光装置においても有効である。
査しながら露光を行ってウエハの１つのショット領域に
レチクルパターンの露光転写を行い、ウエハをステップ
移動させることで複数のショット領域にパターンを並べ
て転写する、いわゆるステップ・アンド・スキャン型の
走査型露光装置である。なお、本発明はステップ・アン
ド・スキャン型の露光装置への適用が特に効果的である
が、これに限定されるものではなく、ウエハステージが
高速ステップ移動するステップ・アンド・リピート型の
露光装置においても有効である。
【００２７】図１において、本装置は大きくは、露光装
置本体の基礎となるベースフレーム２、被露光物である
レチクル４を搭載して移動可能なレチクルステージ５、
被露光物であるウエハ６（又はガラス基板）を搭載して
移動可能なウエハステージ７、レチクル４を照明光で照
明する照明光学系８、レチクル４のパターンをウエハ６
に所定の倍率（例えば４：１）で縮小投影する投影光学
系９、投影光学系９を保持する鏡筒定盤１０、温度調節
されたクリーンな空気を供給する空調機械室１１を備え
ている。
置本体の基礎となるベースフレーム２、被露光物である
レチクル４を搭載して移動可能なレチクルステージ５、
被露光物であるウエハ６（又はガラス基板）を搭載して
移動可能なウエハステージ７、レチクル４を照明光で照
明する照明光学系８、レチクル４のパターンをウエハ６
に所定の倍率（例えば４：１）で縮小投影する投影光学
系９、投影光学系９を保持する鏡筒定盤１０、温度調節
されたクリーンな空気を供給する空調機械室１１を備え
ている。
【００２８】照明光学系８は光源（超高圧水銀ランプな
どの放電灯）を内蔵するか、あるいは露光装置とは別に
床に置かれた不図示の光源装置（エキシマレーザ装置）
からビームラインを経て照明光を導入する。そして各種
レンズや絞りによってスリット光を生成して、レチクル
ステージ５に保持された原版であるレチクル４を上方か
らスリット照明する。
どの放電灯）を内蔵するか、あるいは露光装置とは別に
床に置かれた不図示の光源装置（エキシマレーザ装置）
からビームラインを経て照明光を導入する。そして各種
レンズや絞りによってスリット光を生成して、レチクル
ステージ５に保持された原版であるレチクル４を上方か
らスリット照明する。
【００２９】ベースフレーム２は半導体製造工場のクリ
ーンルームの設置床の上に設置している。ベースフレー
ム２は床１に対して高い剛性で固定されており、実質的
に床１と一体もしくは床１の延長と見なすことができ
る。ベースフレーム２は、３本あるいは４本の高剛性の
支柱３を含み、各々の支柱３の上部でアクティブマウン
ト１２（３つ又は４つ）を介して鏡筒定盤１０を鉛直方
向に支えている。アクティブマウント１２は空気ばねと
ダンパとアクチュエータを内蔵し、床１からの高周波振
動が鏡筒定盤１０に伝わらないようにすると共に、鏡筒
定盤１０の傾きや揺れをアクティブに補償するものであ
る。
ーンルームの設置床の上に設置している。ベースフレー
ム２は床１に対して高い剛性で固定されており、実質的
に床１と一体もしくは床１の延長と見なすことができ
る。ベースフレーム２は、３本あるいは４本の高剛性の
支柱３を含み、各々の支柱３の上部でアクティブマウン
ト１２（３つ又は４つ）を介して鏡筒定盤１０を鉛直方
向に支えている。アクティブマウント１２は空気ばねと
ダンパとアクチュエータを内蔵し、床１からの高周波振
動が鏡筒定盤１０に伝わらないようにすると共に、鏡筒
定盤１０の傾きや揺れをアクティブに補償するものであ
る。
【００３０】投影光学系９を保持する鏡筒定盤１０はさ
らにレチクル支持フレーム１３を介してレチクルステー
ジ定盤１４も支持している。また、鏡筒定盤１０にはレ
チクル４とウエハ６のアライメント状態を検出するため
のアライメント検出器１５を取付けて、鏡筒定盤１０を
基準にしてアライメントを行う。さらに、鏡筒定盤１０
を基準にしてウエハステージ７の位置を検出するため
に、レーザ干渉計の干渉計も鏡筒定盤１０に取付けてい
る。これはＺ方向のウエハステージ７位置を計測するＺ
干渉計１６と、ＸＹ方向のウエハステージ７位置を計測
するＸＹ干渉計１７を有する。干渉計の参照ミラーはＺ
干渉計ミラー１８はステージ定盤に、ＸＹ干渉計ミラー
１９はウエハステージ７に固定している。ここで、Ｚ干
渉計ミラー１８をステージベース部材ではなくステージ
定盤に取付けた理由は、ステージ定盤が最終位置決めす
べきステージに近く、またステージベース部材は力アク
チュエータを作動させた際にわずかに変形する可能性が
あるが、ステージ定盤はその影響が小さいから正確な測
定ができるためである。
らにレチクル支持フレーム１３を介してレチクルステー
ジ定盤１４も支持している。また、鏡筒定盤１０にはレ
チクル４とウエハ６のアライメント状態を検出するため
のアライメント検出器１５を取付けて、鏡筒定盤１０を
基準にしてアライメントを行う。さらに、鏡筒定盤１０
を基準にしてウエハステージ７の位置を検出するため
に、レーザ干渉計の干渉計も鏡筒定盤１０に取付けてい
る。これはＺ方向のウエハステージ７位置を計測するＺ
干渉計１６と、ＸＹ方向のウエハステージ７位置を計測
するＸＹ干渉計１７を有する。干渉計の参照ミラーはＺ
干渉計ミラー１８はステージ定盤に、ＸＹ干渉計ミラー
１９はウエハステージ７に固定している。ここで、Ｚ干
渉計ミラー１８をステージベース部材ではなくステージ
定盤に取付けた理由は、ステージ定盤が最終位置決めす
べきステージに近く、またステージベース部材は力アク
チュエータを作動させた際にわずかに変形する可能性が
あるが、ステージ定盤はその影響が小さいから正確な測
定ができるためである。
【００３１】レチクルステージ５はレチクルステージ定
盤の上に設置しており、駆動源２０（リニアモータ）及
び静圧軸受けを含む駆動機構によって、走査露光時には
図中左右方向（Ｙ方向）に加速、一定速、減速の順で移
動する。また後述するように、レチクルステージ５の駆
動源２０（リニアモータ）の固定子は、走査方向に沿っ
て、連結部材２１及び力アクチュエータ２２（リニアモ
ータ）を介してレチクルステージ用の反力受け構造体で
ある空調機械室１１に接続している。力アクチュエータ
２２が発生する可変の推力を駆動源２０と空調機械室１
１の両者の間で伝達することができる。
盤の上に設置しており、駆動源２０（リニアモータ）及
び静圧軸受けを含む駆動機構によって、走査露光時には
図中左右方向（Ｙ方向）に加速、一定速、減速の順で移
動する。また後述するように、レチクルステージ５の駆
動源２０（リニアモータ）の固定子は、走査方向に沿っ
て、連結部材２１及び力アクチュエータ２２（リニアモ
ータ）を介してレチクルステージ用の反力受け構造体で
ある空調機械室１１に接続している。力アクチュエータ
２２が発生する可変の推力を駆動源２０と空調機械室１
１の両者の間で伝達することができる。
【００３２】次に、本実施例の大きな特徴であるウエハ
ステージ周辺について説明する。ウエハステージ７はそ
の上に基板であるウエハ６を搭載し、搭載するウエハ６
を水平面（ＸＹ方向）、鉛直方向（Ｚ方向）への移動
と、各方向周りの回転（ωｘ、ωｙ、ωｚ）の計６軸方
向に位置決めすることができる。位置決めのための駆動
源としてはリニアモータを採用している。基本的にはＸ
方向に直進移動するＸステージとＸリニアモータ、Ｘ方
向と直交するＹ方向に移動するＹステージとＹリニアモ
ータによる二次元ステージを有し、この上にＺ方向、チ
ルト（ωｘ、ωｙ）方向、回転方向に移動可能なステー
ジが載っている構造となっている。各方向のガイドには
静圧軸受けを用いている。なお、ウエハステージ７のさ
らに詳細な構成については、例えば特開平1-188241号公
報、特開平3-245932号公報、特開平6-267823号公報など
を参照されたい。
ステージ周辺について説明する。ウエハステージ７はそ
の上に基板であるウエハ６を搭載し、搭載するウエハ６
を水平面（ＸＹ方向）、鉛直方向（Ｚ方向）への移動
と、各方向周りの回転（ωｘ、ωｙ、ωｚ）の計６軸方
向に位置決めすることができる。位置決めのための駆動
源としてはリニアモータを採用している。基本的にはＸ
方向に直進移動するＸステージとＸリニアモータ、Ｘ方
向と直交するＹ方向に移動するＹステージとＹリニアモ
ータによる二次元ステージを有し、この上にＺ方向、チ
ルト（ωｘ、ωｙ）方向、回転方向に移動可能なステー
ジが載っている構造となっている。各方向のガイドには
静圧軸受けを用いている。なお、ウエハステージ７のさ
らに詳細な構成については、例えば特開平1-188241号公
報、特開平3-245932号公報、特開平6-267823号公報など
を参照されたい。
【００３３】ウエハステージ７はウエハステージ定盤３
１によって支えており、ウエハステージ定盤３１が有す
るＸＹ水平案内面（ガイド面）上を移動する。ウエハス
テージ定盤３１は３本（又は４本）の支持足３２によっ
てステージベース部材３３上に支持している。この支持
足３２は高剛性でありダンピング作用は持っていない。
ステージベース部材３３は３つのマウント３４を介して
３ヶ所でベースフレーム２によって鉛直方向に支持して
いる。ステージベース部材３３及びそのに搭載された部
材の荷重は、基本的には３つのマウント３４で大半を支
えており、マウント３４で受けた荷重は床１と実質一体
のベースフレーム２で受けているため、実質的にはウエ
ハステージ７の基本的な荷重は床１で支えているのに等
しい。マウント３４には大きな荷重を支えることができ
る空気ばねを用いている。
１によって支えており、ウエハステージ定盤３１が有す
るＸＹ水平案内面（ガイド面）上を移動する。ウエハス
テージ定盤３１は３本（又は４本）の支持足３２によっ
てステージベース部材３３上に支持している。この支持
足３２は高剛性でありダンピング作用は持っていない。
ステージベース部材３３は３つのマウント３４を介して
３ヶ所でベースフレーム２によって鉛直方向に支持して
いる。ステージベース部材３３及びそのに搭載された部
材の荷重は、基本的には３つのマウント３４で大半を支
えており、マウント３４で受けた荷重は床１と実質一体
のベースフレーム２で受けているため、実質的にはウエ
ハステージ７の基本的な荷重は床１で支えているのに等
しい。マウント３４には大きな荷重を支えることができ
る空気ばねを用いている。
【００３４】一方、ステージベース部材３３の真下に
は、大きな質量の反力受け構造体３５（反力受けパレッ
ト）が位置している。反力受け構造体３５はステージベ
ース部材３３の下方に位置しているため、床１への装置
の設置占有面積の小さくすることができる。
は、大きな質量の反力受け構造体３５（反力受けパレッ
ト）が位置している。反力受け構造体３５はステージベ
ース部材３３の下方に位置しているため、床１への装置
の設置占有面積の小さくすることができる。
【００３５】反力受け構造体３５の支持は、鉛直方向に
関しては床１に対して４つの鉛直弾性支持体３６で行っ
ている。また、水平方向に関してはステージベース部材
３３の支柱３の側面（もしくは床１に固定した部材の側
面）に対して、ＸＹの２方向に対応してそれぞれ設けた
水平弾性支持体３７で支持している（図１、図２ではＹ
方向の水平弾性支持体３７のみを図示している）。これ
ら鉛直弾性支持体３６や水平弾性支持体３７は、ともに
ばね要素とダンパ要素を有しており、たとえば防振ゴ
ム、空気ばね、あるいはばね要素としてスプリングや板
ばね、ダンパ要素としてオイル粘性や電磁流体などが好
適である。ばね要素とダンピング要素を有しているとい
うことは、見方を変えれば、所定の周波数範囲の振動伝
達を遮断する機械的フィルタ機能を有しているというこ
とである。本実施例では、少なくとも床の固有振動数お
よび装置の固有振動数を含む高周波振動の伝達を遮断す
る。なお、図１では水平弾性支持体３７は反力受け構造
体３５とベースフレーム２の支柱３との間に設けている
が、図２に示すように、床１に固定した固定部材４１と
反力受け構造体３５との間に設けるようにしても良い。
関しては床１に対して４つの鉛直弾性支持体３６で行っ
ている。また、水平方向に関してはステージベース部材
３３の支柱３の側面（もしくは床１に固定した部材の側
面）に対して、ＸＹの２方向に対応してそれぞれ設けた
水平弾性支持体３７で支持している（図１、図２ではＹ
方向の水平弾性支持体３７のみを図示している）。これ
ら鉛直弾性支持体３６や水平弾性支持体３７は、ともに
ばね要素とダンパ要素を有しており、たとえば防振ゴ
ム、空気ばね、あるいはばね要素としてスプリングや板
ばね、ダンパ要素としてオイル粘性や電磁流体などが好
適である。ばね要素とダンピング要素を有しているとい
うことは、見方を変えれば、所定の周波数範囲の振動伝
達を遮断する機械的フィルタ機能を有しているというこ
とである。本実施例では、少なくとも床の固有振動数お
よび装置の固有振動数を含む高周波振動の伝達を遮断す
る。なお、図１では水平弾性支持体３７は反力受け構造
体３５とベースフレーム２の支柱３との間に設けている
が、図２に示すように、床１に固定した固定部材４１と
反力受け構造体３５との間に設けるようにしても良い。
【００３６】また、ステージベース部材３３と反力受け
構造体３５の間には、鉛直及び水平方向のそれぞれの方
向に推力を発生する力アクチュエータが介在している。
鉛直方向に関しては複数（４つ）の鉛直力アクチュエー
タ３８を有し、水平方向に関しては走査露光の方向（Ｙ
方向）およびこれと直交する方向（Ｘ方向）に対応して
それぞれ複数（２つ）設けている。上方から見たとき、
４つの鉛直力アクチュエータ３８は４つの鉛直弾性支持
体３６とにほぼ同位置に設けている（図３又は図４参
照）。これら力アクチュエータが発生する可変の推力に
よって両者の間での力伝達を制御可能となっている。こ
こで、ウエハステージ７の重心高さ（図１の重心記号で
示す）と水平力アクチュエータ３９の力作用位置の高さ
とはほぼ等しくなっている。このため、反力と同一高さ
に補償力を与えることができるので効果的に反力をキャ
ンセルすることができる。
構造体３５の間には、鉛直及び水平方向のそれぞれの方
向に推力を発生する力アクチュエータが介在している。
鉛直方向に関しては複数（４つ）の鉛直力アクチュエー
タ３８を有し、水平方向に関しては走査露光の方向（Ｙ
方向）およびこれと直交する方向（Ｘ方向）に対応して
それぞれ複数（２つ）設けている。上方から見たとき、
４つの鉛直力アクチュエータ３８は４つの鉛直弾性支持
体３６とにほぼ同位置に設けている（図３又は図４参
照）。これら力アクチュエータが発生する可変の推力に
よって両者の間での力伝達を制御可能となっている。こ
こで、ウエハステージ７の重心高さ（図１の重心記号で
示す）と水平力アクチュエータ３９の力作用位置の高さ
とはほぼ等しくなっている。このため、反力と同一高さ
に補償力を与えることができるので効果的に反力をキャ
ンセルすることができる。
【００３７】さらに、ステージベース部材３３の上には
加速度センサ４０を取付け、鉛直ならびに水平（Ｙ方
向）の加速度を測定することができる。なお、加速度セ
ンサ４０はウエハステージ定盤３１上に取付けてもよ
い。
加速度センサ４０を取付け、鉛直ならびに水平（Ｙ方
向）の加速度を測定することができる。なお、加速度セ
ンサ４０はウエハステージ定盤３１上に取付けてもよ
い。
【００３８】本実施例では、力アクチュエータとしては
リニアモータを採用している。リニアモータを使うこと
の意義は以下の通りである。すなわち、リニアモータは
制御応答性が高く発生力を高速に制御することができ
る。加えてリニアモータは固定子と可動子が非接触であ
り、両者の間はローレンツ力によって力が働く。このた
め、ローレンツ力によって非接触を保ちながらステージ
の駆動反力をステージベース部材３３から反力受け構造
体３５へ伝達することができる一方、非接触であるため
振動伝達を遮断する機械的フィルタ機能も備えている。
つまり、リニアモータは非接触型アクチュエータとして
の機能と機械的フィルタとしての機能を兼ね備え、本シ
ステムに非常に適している。なお、力アクチュエータと
しては、ローレンツ力を利用したリニアモータの代わり
に、電磁マグネット力を利用した電磁アクチュエータ、
空気圧や油圧等の流体圧による流体アクチュエータ、あ
るいはピエゾ素子を用いた機械的アクチュエータなどを
用いることもできる。
リニアモータを採用している。リニアモータを使うこと
の意義は以下の通りである。すなわち、リニアモータは
制御応答性が高く発生力を高速に制御することができ
る。加えてリニアモータは固定子と可動子が非接触であ
り、両者の間はローレンツ力によって力が働く。このた
め、ローレンツ力によって非接触を保ちながらステージ
の駆動反力をステージベース部材３３から反力受け構造
体３５へ伝達することができる一方、非接触であるため
振動伝達を遮断する機械的フィルタ機能も備えている。
つまり、リニアモータは非接触型アクチュエータとして
の機能と機械的フィルタとしての機能を兼ね備え、本シ
ステムに非常に適している。なお、力アクチュエータと
しては、ローレンツ力を利用したリニアモータの代わり
に、電磁マグネット力を利用した電磁アクチュエータ、
空気圧や油圧等の流体圧による流体アクチュエータ、あ
るいはピエゾ素子を用いた機械的アクチュエータなどを
用いることもできる。
【００３９】本システムにおいては、鏡筒定盤１０で実
質一体化されたレチクルステージ５と投影光学系９は、
アクティブマウント１２によってベースフレーム２の支
柱３を介して実質的に床１に対して鉛直方向に支持して
いる。一方、ウエハステージ７及びステージベース部材
３３はマウント３４によってベースフレームを介して実
質的に床１に対して鉛直方向に支持している。このマウ
ント３４を第１マウント、アクティブマウント１２を第
２マウントと考えると、第１マウントと第２マウントに
よって、ウエハステージとレチクルステージとは床に対
して互いに独立に支持された構成となっており、振動や
揺れに対して相互干渉が起きないような系になってい
る。
質一体化されたレチクルステージ５と投影光学系９は、
アクティブマウント１２によってベースフレーム２の支
柱３を介して実質的に床１に対して鉛直方向に支持して
いる。一方、ウエハステージ７及びステージベース部材
３３はマウント３４によってベースフレームを介して実
質的に床１に対して鉛直方向に支持している。このマウ
ント３４を第１マウント、アクティブマウント１２を第
２マウントと考えると、第１マウントと第２マウントに
よって、ウエハステージとレチクルステージとは床に対
して互いに独立に支持された構成となっており、振動や
揺れに対して相互干渉が起きないような系になってい
る。
【００４０】また、ステージベース部材３３はマウント
３４で鉛直方向に床に対して鉛直方向に支持し、反力受
け構造体３５は弾性鉛直支持体３６にとって実質的に床
に対して鉛直方向に支持しており、両者は力アクチュエ
ータ（３８、３９）を除けば独立して床に支持された構
成となっている。
３４で鉛直方向に床に対して鉛直方向に支持し、反力受
け構造体３５は弾性鉛直支持体３６にとって実質的に床
に対して鉛直方向に支持しており、両者は力アクチュエ
ータ（３８、３９）を除けば独立して床に支持された構
成となっている。
【００４１】図３および図４は、反力受けシステムの構
成部材を上方から見た図である。図３はベースフレーム
２の支柱３（アクティブマウント１２）の数が３つの場
合を示す。上方から見たとき、３つのマウント３４の各
代表点（重心位置）を結んだ三角形と、３つのアクティ
ブマウント１２の各代表点（重心位置）を結んだ三角形
がいずれもほぼ二等辺三角形を形成している。そして、
各二等辺三角形の重心位置同士がほぼ一致している。さ
らに投影光学系９の光軸（重心位置）もこれら三角形の
重心位置とほぼ一致している。
成部材を上方から見た図である。図３はベースフレーム
２の支柱３（アクティブマウント１２）の数が３つの場
合を示す。上方から見たとき、３つのマウント３４の各
代表点（重心位置）を結んだ三角形と、３つのアクティ
ブマウント１２の各代表点（重心位置）を結んだ三角形
がいずれもほぼ二等辺三角形を形成している。そして、
各二等辺三角形の重心位置同士がほぼ一致している。さ
らに投影光学系９の光軸（重心位置）もこれら三角形の
重心位置とほぼ一致している。
【００４２】図４は支柱３（アクティブマウント１２）
の数が４つの場合を示す。上方から見たとき、３つのマ
ウント３４の各代表点（重心位置）を結んだ三角形と、
４つのアクティブマウント１２の各代表点（重心位置）
を結んだ四角形（長方形）の重心位置とがほぼ一致して
いる。さらに投影光学系９の光軸（重心位置）もこれら
重心位置とほぼ一致している。
の数が４つの場合を示す。上方から見たとき、３つのマ
ウント３４の各代表点（重心位置）を結んだ三角形と、
４つのアクティブマウント１２の各代表点（重心位置）
を結んだ四角形（長方形）の重心位置とがほぼ一致して
いる。さらに投影光学系９の光軸（重心位置）もこれら
重心位置とほぼ一致している。
【００４３】ここで、マウント３４を第１マウントと
し、アクティブマウント１２を第２マウントとしたと
き、上方から見たとき、複数の第２マウントの内側の領
域に複数の第１マウントが配置された位置関係になって
いる。さらに、ウエハステージ定盤３１はステージベー
ス部材３３上に３つの支持足３２で支持されているが、
上方から見たとき、複数の第１マウントの内側の領域に
３つの支持足３２が配置された位置関係となっている。
また、上方から見たときに、レチクルステージ５は上記
一致している重心位置を通って移動するようになってい
る。これにより、高速の走査露光に際して装置の不要な
傾きを生じにくい系となっている。
し、アクティブマウント１２を第２マウントとしたと
き、上方から見たとき、複数の第２マウントの内側の領
域に複数の第１マウントが配置された位置関係になって
いる。さらに、ウエハステージ定盤３１はステージベー
ス部材３３上に３つの支持足３２で支持されているが、
上方から見たとき、複数の第１マウントの内側の領域に
３つの支持足３２が配置された位置関係となっている。
また、上方から見たときに、レチクルステージ５は上記
一致している重心位置を通って移動するようになってい
る。これにより、高速の走査露光に際して装置の不要な
傾きを生じにくい系となっている。
【００４４】図１、図２に戻って、レチクルステージの
反力受け構造体である空調機械室１１は、ダンピング作
用を持った弾性支持体２３を介して床１の上に支持して
いる。弾性支持体２３は機械的フィルタとして捉えるこ
ともでき、少なくとも床の固有振動数（例えば２０〜４
０Ｈｚ）及び露光装置の固有振動数（例えば１０〜３０
Ｈｚ）を含む高周波振動の伝達を遮断する。
反力受け構造体である空調機械室１１は、ダンピング作
用を持った弾性支持体２３を介して床１の上に支持して
いる。弾性支持体２３は機械的フィルタとして捉えるこ
ともでき、少なくとも床の固有振動数（例えば２０〜４
０Ｈｚ）及び露光装置の固有振動数（例えば１０〜３０
Ｈｚ）を含む高周波振動の伝達を遮断する。
【００４５】空調機械室１１内には送風ファン、温調装
置（加熱器や冷凍器）、ケミカルフィルタなどを内蔵し
ており、露光装置チャンバ内に温度調節された気体を循
環させる。基本的には上方からダウンフローによって温
調気体を供給するが、投影光学系９ならびにウエハステ
ージ７（特にレーザ干渉計光路付近）に向けても局所的
に温調気体を吹出す。このための吹出口を設けて、吹出
口には気体中の微粒子をトラップする気体フィルタを取
付けている。図２に示すように、吹出口５０には空調機
械室１１からダクト５１を経てを温調気体を供給してい
る。吹出口５０は反力受け構造体３５に取付けた支持体
５２によって支えている。気体フィルタは気体の流れに
とっては抵抗となるため動作中は吹出口がかなり振動す
る。そこで本実施例では気体フィルタを取付けた吹出口
５０を振動に対する許容度が大きい反力受け構造体３５
で支持している。すなわち、気体フィルタを取付けた吹
出口５０を振動に対する許容度が大きい反力受け構造体
で支持することで、吹出口５０の振動がウエハステージ
７の位置決め精度に与える悪影響を軽減することができ
る。
置（加熱器や冷凍器）、ケミカルフィルタなどを内蔵し
ており、露光装置チャンバ内に温度調節された気体を循
環させる。基本的には上方からダウンフローによって温
調気体を供給するが、投影光学系９ならびにウエハステ
ージ７（特にレーザ干渉計光路付近）に向けても局所的
に温調気体を吹出す。このための吹出口を設けて、吹出
口には気体中の微粒子をトラップする気体フィルタを取
付けている。図２に示すように、吹出口５０には空調機
械室１１からダクト５１を経てを温調気体を供給してい
る。吹出口５０は反力受け構造体３５に取付けた支持体
５２によって支えている。気体フィルタは気体の流れに
とっては抵抗となるため動作中は吹出口がかなり振動す
る。そこで本実施例では気体フィルタを取付けた吹出口
５０を振動に対する許容度が大きい反力受け構造体３５
で支持している。すなわち、気体フィルタを取付けた吹
出口５０を振動に対する許容度が大きい反力受け構造体
で支持することで、吹出口５０の振動がウエハステージ
７の位置決め精度に与える悪影響を軽減することができ
る。
【００４６】空調機械室１１内の下方の空間には露光装
置の制御装置３０を内蔵している。制御装置３０は露光
装置の動作シーケンス制御、力アクチュエータの駆動制
御、アクティブマウントの駆動制御などを行う。
置の制御装置３０を内蔵している。制御装置３０は露光
装置の動作シーケンス制御、力アクチュエータの駆動制
御、アクティブマウントの駆動制御などを行う。
【００４７】次に、上記構成の装置の動作について説明
する。ステップ・アンド・スキャンの基本的な動作シー
ケンスは、ウエハステージをＸ方向もしくはＹ方向にス
テップ移動させて転写すべきショット領域を位置決めす
るステップ動作と、レチクルステージとウエハステージ
をＹ方向に同期移動させながら走査露光を行うスキャン
動作とを繰り返すものである。スキャン動作において
は、スリット形状の照明光に対して、レチクルステージ
５とウエハステージ７を共に同期的に所定の速度比（本
実施例では４：１）で定速で移動させることによって、
レチクル４のパターン全体をウエハ６の１つのショット
領域に走査露光転写する。
する。ステップ・アンド・スキャンの基本的な動作シー
ケンスは、ウエハステージをＸ方向もしくはＹ方向にス
テップ移動させて転写すべきショット領域を位置決めす
るステップ動作と、レチクルステージとウエハステージ
をＹ方向に同期移動させながら走査露光を行うスキャン
動作とを繰り返すものである。スキャン動作において
は、スリット形状の照明光に対して、レチクルステージ
５とウエハステージ７を共に同期的に所定の速度比（本
実施例では４：１）で定速で移動させることによって、
レチクル４のパターン全体をウエハ６の１つのショット
領域に走査露光転写する。
【００４８】レチクルステージ５ならびにウエハステー
ジ７の駆動に際しては、走査開始時には加速、終了時に
は減速によってそれぞれ加速度が生じ、ステージを移動
させる駆動源であるリニアモータは、＜ステージ移動体
の質量＞×＜加速度＞だけの駆動力を発生する必要があ
る。そして、この駆動力の反力がリニアモータ固定子に
水平方向に作用し、固定子からこれを支持するステージ
定盤を介してステージベース部材３３に伝わる。反力は
本来は水平方向（Ｙ方向）にのみ生ずるが、ステージの
駆動源とステージベース部材３３の重心位置高さが異な
ることでモーメントを生じ、これによりステージベース
部材３３には水平方向のみならず鉛直方向にも反力の影
響が作用する。この反力によって露光装置の機構系の固
有振動が励起されると大きな振動となる。
ジ７の駆動に際しては、走査開始時には加速、終了時に
は減速によってそれぞれ加速度が生じ、ステージを移動
させる駆動源であるリニアモータは、＜ステージ移動体
の質量＞×＜加速度＞だけの駆動力を発生する必要があ
る。そして、この駆動力の反力がリニアモータ固定子に
水平方向に作用し、固定子からこれを支持するステージ
定盤を介してステージベース部材３３に伝わる。反力は
本来は水平方向（Ｙ方向）にのみ生ずるが、ステージの
駆動源とステージベース部材３３の重心位置高さが異な
ることでモーメントを生じ、これによりステージベース
部材３３には水平方向のみならず鉛直方向にも反力の影
響が作用する。この反力によって露光装置の機構系の固
有振動が励起されると大きな振動となる。
【００４９】この反力の影響による振動や揺れを軽減す
るための反力受けシステムの基本的な技術思想は、ステ
ージの駆動に伴う反力を、所定範囲の振動周波数に関し
て床からアイソレーションされた反力受け構造体に逃が
すというものである。この所定範囲の振動周波数とは，
少なくとも床の固有振動数である２０〜４０Ｈｚをカバ
ーする、例えば１０Ｈｚ以上の高周波振動である。つま
り、床の加振を軽減するために反力受け構造体それ自体
は振動しても構わないという考え方をとっている。な
お、上記所定範囲の下限値は１０Ｈｚに限らず、１０〜
４０Ｈｚ程度の範囲で、床の固有振動数以下であれば良
い。
るための反力受けシステムの基本的な技術思想は、ステ
ージの駆動に伴う反力を、所定範囲の振動周波数に関し
て床からアイソレーションされた反力受け構造体に逃が
すというものである。この所定範囲の振動周波数とは，
少なくとも床の固有振動数である２０〜４０Ｈｚをカバ
ーする、例えば１０Ｈｚ以上の高周波振動である。つま
り、床の加振を軽減するために反力受け構造体それ自体
は振動しても構わないという考え方をとっている。な
お、上記所定範囲の下限値は１０Ｈｚに限らず、１０〜
４０Ｈｚ程度の範囲で、床の固有振動数以下であれば良
い。
【００５０】これを実現するために本実施例では、被露
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受ける前記ステージベース部材とは異なる反力
受け構造体とを有し、該反力受け構造体と床との間で所
定周波数以上の振動伝達が遮断されている。
光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支
持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際
の反力を受ける前記ステージベース部材とは異なる反力
受け構造体とを有し、該反力受け構造体と床との間で所
定周波数以上の振動伝達が遮断されている。
【００５１】ここで、制御手段３０は、ステージの駆動
に応じてフィードフォワード制御（予測制御）によって
前記力アクチュエータの駆動を制御する。これには以下
の２種類がある。
に応じてフィードフォワード制御（予測制御）によって
前記力アクチュエータの駆動を制御する。これには以下
の２種類がある。
【００５２】第１に、ステージの加速又は減速に対応し
て力アクチュエータをフィードフォワード制御して、加
減速時の反力によるステージベース部材３３の振動や揺
れを軽減する。具体的には、反力によって各アクチュエ
ータに作用する力に相当する力を予測して、各力アクチ
ュエータで同等の力を発生することで、反力をキャンセ
ルする。力アクチュエータ発生した力はステージベース
部材３３と共に反力受け構造体３５にも作用するが、反
力受け構造体３５は弾性支持体３６、３７（機械的フィ
ルタ手段に相当）で床１又はベースフレーム２に支持さ
れているため、床１への高周波振動伝達がフィルタリン
グされる。
て力アクチュエータをフィードフォワード制御して、加
減速時の反力によるステージベース部材３３の振動や揺
れを軽減する。具体的には、反力によって各アクチュエ
ータに作用する力に相当する力を予測して、各力アクチ
ュエータで同等の力を発生することで、反力をキャンセ
ルする。力アクチュエータ発生した力はステージベース
部材３３と共に反力受け構造体３５にも作用するが、反
力受け構造体３５は弾性支持体３６、３７（機械的フィ
ルタ手段に相当）で床１又はベースフレーム２に支持さ
れているため、床１への高周波振動伝達がフィルタリン
グされる。
【００５３】第２に、ステージの移動に伴う荷重移動に
対応して力アクチュエータをフィードフォワード制御す
る。これはステージの移動に伴ってステージの重心位置
が水平方向で変化するために、ステージベース部材３３
が傾く力がステージからステージベース部材３３に作用
する。これを軽減するためにステージの移動に伴って偏
荷重を予測して、複数の鉛直力アクチュエータ３８の発
生力を個別に変化させる。ステージベース部材３３なら
びにその上の移動部材の荷重は基本的には３つのマウン
ト３４で支えているが、移動に伴う荷重の変化分だけを
力アクチュエータによってアクティブに補償している。
対応して力アクチュエータをフィードフォワード制御す
る。これはステージの移動に伴ってステージの重心位置
が水平方向で変化するために、ステージベース部材３３
が傾く力がステージからステージベース部材３３に作用
する。これを軽減するためにステージの移動に伴って偏
荷重を予測して、複数の鉛直力アクチュエータ３８の発
生力を個別に変化させる。ステージベース部材３３なら
びにその上の移動部材の荷重は基本的には３つのマウン
ト３４で支えているが、移動に伴う荷重の変化分だけを
力アクチュエータによってアクティブに補償している。
【００５４】また、制御手段３０はフィードフォワード
制御だけでなく、フィードバック制御も行っている。こ
れはステージベース部材３３上に取付けた加速度センサ
４０の検出加速度（鉛直方向、水平方向）を、鉛直力ア
クチュエータ３８ならびに水平力アクチュエータ３９の
制御にフィードバックすることで、予期しない外乱振動
の影響を軽減しウエハステージ７の揺れをより小さくす
るものである。
制御だけでなく、フィードバック制御も行っている。こ
れはステージベース部材３３上に取付けた加速度センサ
４０の検出加速度（鉛直方向、水平方向）を、鉛直力ア
クチュエータ３８ならびに水平力アクチュエータ３９の
制御にフィードバックすることで、予期しない外乱振動
の影響を軽減しウエハステージ７の揺れをより小さくす
るものである。
【００５５】ところで、マウント３４はステージベース
部材３３を実質的に床１又はベースフレーム２に弾性支
持するものであるが、マウント３４は一種の機械的フィ
ルタ手段となっており、床１からの振動がステージベー
ス部材３３に伝わらないようになっている。これにより
本実施例の装置は、（１）ステージの駆動反力による振
動を床に伝えない、（２）床の振動をステージに伝えな
い、の両方を満たす優れたものとなっている。
部材３３を実質的に床１又はベースフレーム２に弾性支
持するものであるが、マウント３４は一種の機械的フィ
ルタ手段となっており、床１からの振動がステージベー
ス部材３３に伝わらないようになっている。これにより
本実施例の装置は、（１）ステージの駆動反力による振
動を床に伝えない、（２）床の振動をステージに伝えな
い、の両方を満たす優れたものとなっている。
【００５６】なお、以上はウエハステージ側の反力受け
システムについて詳細に説明してきたが、レチクルステ
ージ側も同様の思想の反力受けシステムとなっている。
すなわち、レチクルステージ５を支持する鏡筒定盤１０
と、鏡筒定盤１０を実質的に床１又はベースフレーム２
に鉛直方向に弾性支持するマウント（アクティブマウン
ト１２）と、該レチクルステージ５を駆動した際の反力
を受ける力アクチュエータ２２を含む反力受け構造体
（空調機械室１１）と、反力受け構造体を実質的に床１
もしくはベースフレーム２に弾性支持する弾性支持体２
３とを備えた構成になっており、制御手段３０は力アク
チュエータ２２をフィードフォワード制御することによ
って、レチクルステージ５の移動に伴う反力の影響を補
償している。これにより、同期移動するウエハステージ
ならびにレチクルステージをともに反力受けを行なうた
め、床の加振が極めて小さい優れたステップ・アンド・
スキャン型の露光装置を提供することができる。
システムについて詳細に説明してきたが、レチクルステ
ージ側も同様の思想の反力受けシステムとなっている。
すなわち、レチクルステージ５を支持する鏡筒定盤１０
と、鏡筒定盤１０を実質的に床１又はベースフレーム２
に鉛直方向に弾性支持するマウント（アクティブマウン
ト１２）と、該レチクルステージ５を駆動した際の反力
を受ける力アクチュエータ２２を含む反力受け構造体
（空調機械室１１）と、反力受け構造体を実質的に床１
もしくはベースフレーム２に弾性支持する弾性支持体２
３とを備えた構成になっており、制御手段３０は力アク
チュエータ２２をフィードフォワード制御することによ
って、レチクルステージ５の移動に伴う反力の影響を補
償している。これにより、同期移動するウエハステージ
ならびにレチクルステージをともに反力受けを行なうた
め、床の加振が極めて小さい優れたステップ・アンド・
スキャン型の露光装置を提供することができる。
【００５７】＜デバイス製造方法＞次に上記説明したい
ずれかの露光装置を利用したデバイス製造方法の例を説
明する。図５は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体
チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイク
ロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路
設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ステップ
２（レチクル製作）では設計したパターンを形成したレ
チクルを製作する。一方、ステップ３（基板製造）では
シリコンやガラス等の材料を用いて基板を製造する。ス
テップ４（基板プロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意
したレチクルと基板を用いて、リソグラフィ技術によっ
て基板上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組
み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製さ
れた基板を用いて半導体チップ化する工程であり、アッ
センブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケー
ジング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６
（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの
動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こう
した工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷
（ステップ７）される。
ずれかの露光装置を利用したデバイス製造方法の例を説
明する。図５は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体
チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイク
ロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路
設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ステップ
２（レチクル製作）では設計したパターンを形成したレ
チクルを製作する。一方、ステップ３（基板製造）では
シリコンやガラス等の材料を用いて基板を製造する。ス
テップ４（基板プロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意
したレチクルと基板を用いて、リソグラフィ技術によっ
て基板上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組
み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製さ
れた基板を用いて半導体チップ化する工程であり、アッ
センブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケー
ジング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６
（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの
動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こう
した工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷
（ステップ７）される。
【００５８】図６は上記基板プロセスの詳細なフローを
示す。ステップ１１（酸化）では基板の表面を酸化させ
る。ステップ１２（ＣＶＤ）では基板表面に絶縁膜を形
成する。ステップ１３（電極形成）では基板上に電極を
蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）
では基板にイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト
処理）では基板にレジストを塗布する。ステップ１６
（露光）では上記説明した露光装置によってレチクルの
回路パターンを基板の複数のショット領域に並べて焼付
露光する。ステップ１７（現像）では露光した基板を現
像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジ
スト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト
剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを
取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによ
って、基板上に多重に回路パターンが形成される。本実
施例の生産方法を用いれば、従来は製造が難しかった高
精度デバイスを高い生産性すなわち低コストで製造する
ことができる。
示す。ステップ１１（酸化）では基板の表面を酸化させ
る。ステップ１２（ＣＶＤ）では基板表面に絶縁膜を形
成する。ステップ１３（電極形成）では基板上に電極を
蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）
では基板にイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト
処理）では基板にレジストを塗布する。ステップ１６
（露光）では上記説明した露光装置によってレチクルの
回路パターンを基板の複数のショット領域に並べて焼付
露光する。ステップ１７（現像）では露光した基板を現
像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジ
スト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト
剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを
取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによ
って、基板上に多重に回路パターンが形成される。本実
施例の生産方法を用いれば、従来は製造が難しかった高
精度デバイスを高い生産性すなわち低コストで製造する
ことができる。
【００５９】
【発明の効果】以上の本発明の露光装置によれば、ステ
ージの移動に伴う振動や揺れの影響を軽減することで従
来以上の高精度を達成することができる。またステージ
の加減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすること
で、同一床に設置されている他の装置に与える影響を小
さくすることができる。また、床への設置面積の増大を
防ぐことができる露光装置を提供することができる。ま
た本発明の露光装置を用いれば優れた生産性のデバイス
生産方法を提供することができる。
ージの移動に伴う振動や揺れの影響を軽減することで従
来以上の高精度を達成することができる。またステージ
の加減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすること
で、同一床に設置されている他の装置に与える影響を小
さくすることができる。また、床への設置面積の増大を
防ぐことができる露光装置を提供することができる。ま
た本発明の露光装置を用いれば優れた生産性のデバイス
生産方法を提供することができる。
【図１】本発明の露光装置の実施形態の概略図
【図２】ウエハステージの反力受けシステムの説明図
【図３】反力受けシステムの一形態のを上方から見た図
【図４】反力受けシステムの別の形態を上方から見た図
【図５】半導体デバイスの製造フローを示す図
【図６】基板プロセスの詳細なフローを示す図
１ 製造工場の設置床 ２ ベースフレーム ３ 支柱 ４ レチクル ５ レチクルステージ ６ ウエハ ７ ウエハステージ ８ 照明光学系 ９ 投影光学系 １０ 鏡筒定盤 １１ 空調機械室 １２ アクティブマウント １３ レチクルステージ支持フレーム １４ レチクルステージ定盤 １５ アライメント検出器 １６ Ｚ干渉計 １７ ＸＹ干渉計 １８ Ｚ干渉計ミラー １９ ＸＹ干渉計ミラー ２０ レチクルステージ駆動源（リニアモータ） ２１ 連結部材 ２２ 力アクチュエータ（リニアモータ） ２３ 弾性支持体 ３０ 制御装置 ３１ ウエハステージ定盤 ３２ 支持足 ３３ ステージベース部材 ３４ マウント ３５ 反力受け構造体 ３６ 鉛直弾性支持体 ３７ 水平弾性支持体 ３８ 鉛直力アクチュエータ ３９ 水平力アクチュエータ ４０ 加速度センサ ４１ 固定部材 ５０ 温調気体の吹出口（フィルタ） ５１ ダクト ５２ 支持体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 出口 信吉 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 鵜澤 繁行 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内
Claims (51)
- 【請求項１】 被露光物を搭載して移動可能なステージ
と、該ステージを支持するステージベース部材と、該ス
テージを駆動した際の反力を受けるための該ステージベ
ースとは異なる反力受け構造体とを有し、該反力受け構
造体と床との間で所定周波数以上の振動伝達が遮断され
ていることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記反力受け構造体を床もしくはベース
フレームに対して弾性支持する弾性支持体を有し、該弾
性支持体によって振動伝達が遮断されることを特徴とす
る請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 前記ステージベース部材と前記反力受け
構造体の間で力を発生する力アクチュエータを有するこ
とを特徴とする請求項１又は２記載の装置。 - 【請求項４】 前記弾性支持体もしくは前記力アクチュ
エータは鉛直方向と水平方向の少なくとも一方の方向に
対応して設けられていることを特徴とする請求項２又は
３記載の装置。 - 【請求項５】 前記力アクチュエータはリニアモータで
あることを特徴とする請求項３記載の装置。 - 【請求項６】 前記ステージの重心高さと前記力アクチ
ュエータの力作用位置の高さとがほぼ等しいことを特徴
とする請求項３乃至５のいずれか記載の装置。 - 【請求項７】 前記ステージベース部材を実質的に床又
はベースフレームに弾性支持するマウントをさらに有す
ることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか記載の装
置。 - 【請求項８】 前記反力受け構造体は前記ステージベー
ス部材の下方に位置することを特徴とする請求項１乃至
７のいずれか記載の露光装置。 - 【請求項９】 前記所定周波数は床の固有振動数以下で
あることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか記載の
装置。 - 【請求項１０】 前記所定周波数は１０Ｈｚよりも大き
いことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか記載の装
置。 - 【請求項１１】 被露光物を搭載して移動可能なステー
ジと、該ステージを支持するステージベース部材と、該
ステージを駆動した際の反力を受けるための該ステージ
ベース部材とは異なる反力受け構造体と、該ステージベ
ース部材と床との間での振動伝達を遮断する第１機械的
フィルタ手段と、該反力受け構造体と床との間での振動
伝達を遮断する第２機械的フィルタ手段と、を有するこ
とを特徴とする露光装置。 - 【請求項１２】 前記第２機械的フィルタ手段は１０Ｈ
ｚよりも大きい周波数以上の所定範囲の振動を遮断する
ことを特徴とする請求項１１記載の装置。 - 【請求項１３】 前記第２機械的フィルタ手段は、前記
第１機械的フィルタ手段よりも遮断する振動周波数が高
いことを特徴とする請求項１１又は１２記載の装置。 - 【請求項１４】 被露光物を搭載して移動可能なステー
ジと、該ステージを支持するステージベース部材と、該
ステージを駆動した際の反力を受けるための該ステージ
ベース部材とは異なる反力受け構造体と、該反力受け構
造体を実質的に床又はベースフレームに対して弾性支持
する弾性支持体と、該ステージベース部材と該反力受け
構造体の間で鉛直方向と水平方向の少なくとも一方の方
向で力を発生する力アクチュエータと、を有することを
特徴とする露光装置。 - 【請求項１５】 被露光物を搭載して移動可能なステー
ジと、該ステージを支持するステージベース部材と、該
ステージを駆動した際の反力を受けるための該ステージ
ベース部材とは異なる反力受け構造体と、該反力受け構
造体を実質的に床又はベースフレームに対して水平方向
に弾性支持する弾性支持体と、を有することを特徴とす
る露光装置。 - 【請求項１６】 被露光物を搭載して水平方向に移動可
能なステージと、該ステージを支持するステージベース
部材と、該ステージを駆動した際の反力を受けるための
該ステージベース部材とは異なる反力受け構造体と、該
ステージベース部材と該反力受け構造体の間で鉛直方向
に力を発生する複数の力アクチュエータと、を有するこ
とを特徴とする露光装置。 - 【請求項１７】 水平方向に被露光物を搭載して移動可
能なステージと、該ステージを支持するステージベース
部材と、該ステージを駆動した際の反力を受けるための
該ステージベース部材とは異なる反力受け構造体と、該
ステージベース部材と該反力受け構造体の間で水平方向
に力を発生する力アクチュエータとを有し、該ステージ
の重心高さと該力アクチュエータの力作用位置の高さと
がほぼ等しいことを特徴とする露光装置。 - 【請求項１８】 被露光物を搭載して移動可能なステー
ジと、該ステージを支持するステージベース部材と、該
ステージを駆動した際の反力を受けるための該ステージ
ベース部材とは異なる反力受け構造体と、該ステージベ
ース部材を実質的に床又はベースフレームに対して鉛直
方向に弾性支持するマウントと、該反力受け構造体を実
質的に床又はベースフレームに対して弾性支持する弾性
支持体とを有し、前記マウントと前記弾性支持体は独立
して前記ステージベース部材と前記反力受け構造体を支
持することを特徴とする露光装置。 - 【請求項１９】 被露光物を搭載して移動可能なステー
ジと、該ステージを支持するステージベース部材と、該
ステージを駆動した際の反力を受けるための該ステージ
ベース部材とは異なる反力受け構造体とを備え、該反力
受け構造体は前記ステージベース部材の下方に位置する
ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２０】 該ステージベース部材を実質的に床又
はベースフレームに鉛直方向に弾性支持するマウントを
有することを特徴とする請求項１４乃至１９のいずれか
記載の装置。 - 【請求項２１】 前記マウントは空気ばねを有すること
を特徴とする請求項２０記載の装置。 - 【請求項２２】 前記力アクチュエータはリニアモータ
を有することを特徴とする請求項１４乃至２１のいずれ
か記載の装置。 - 【請求項２３】 前記ステージベース上に複数箇所支持
され前記ステージの移動基準面を持った定盤と、該ステ
ージの鉛直方向の位置情報を計測する干渉計を有し、該
干渉計の参照ミラーは該定盤に取付けられていることを
特徴とする請求項１乃至２２のいずれか記載の装置。 - 【請求項２４】 前記干渉計の計測に基づいて、前記ス
テージの駆動源もしくは前記力アクチュエータを制御す
る手段を有することを特徴とする請求項２３記載の露光
装置。 - 【請求項２５】 前記ステージに向けて温調気体を吹出
す吹出口を有し、該吹出口が前記反力受け構造体で支持
されていることを特徴とする請求項１乃至２４のいずれ
か記載の露光装置。 - 【請求項２６】 吹出口には気体フィルタが取付けられ
ていることを特徴とする請求項２５記載の装置。 - 【請求項２７】 前記ステージはＸＹ水平面内で２次元
方向に移動可能であり、Ｘ方向に力を発生する力アクチ
ュエータ及びＹ方向に力を発生する力アクチュエータを
有することを特徴とする請求項１乃至乃至２６のいずれ
か記載の装置。 - 【請求項２８】 前記ベースフレームは床に設置され、
該ベースフレームの上にマウントを介して、投影光学系
を保持する鏡筒定盤が支持されている請求項１乃至２７
のいずれか記載の装置。 - 【請求項２９】 前記鏡筒定盤によってレチクルステー
ジもしくは照明光学系が支持されていることを特徴とす
る請求項２８記載の装置。 - 【請求項３０】 ステージがステップ動作とスキャン動
作を繰り返すステップ・アンド・スキャン型の露光装置
であることを特徴とする請求項１乃至２９のいずれか記
載の装置。 - 【請求項３１】 ウエハを搭載して移動するウエハ移動
可能なウエハステージと、該ウエハステージを支持する
ステージベース部材と、該ステージベース部材を実質的
に床又はベースフレームに鉛直方向に弾性支持する複数
の第１マウントと、レチクルを搭載して前記ウエハステ
ージと同期して移動するレチクルステージと、投影光学
系もしくは該レチクルステージを支持する鏡筒定盤と、
該鏡筒定盤を実質的に床又はベースフレームに鉛直方向
に弾性支持する複数の第２マウントとを有し、上方から
見たとき、該複数の第２マウントの内側の領域に前記複
数の第１マウントが配置されることを特徴とする露光装
置。 - 【請求項３２】 前記ステージは前記ステージベース部
材上に３つの支持足で支持され、上方から見たとき、前
記複数の第１マウントの内側の領域に該３つの支持足が
配置されることを特徴とする請求項１または３１記載の
装置。 - 【請求項３３】 前記第１マウントは３ヶ所又は４ヶ所
に配置され、前記第２マウントは３ヶ所または４ヶ所に
配置されることを特徴とする請求項３１又は３２記載の
装置。 - 【請求項３４】 前記第１マウント又は前記第２マウン
トが３ヶ所に配置され、３ヶ所の各代表点を結んで定義
される三角形がほぼ二等辺三角形を形成することを特徴
とする請求項３１乃至３３のいずれか記載の記載の装
置。 - 【請求項３５】 ウエハを搭載して移動するウエハ移動
可能なウエハステージと、該ウエハステージを支持する
ステージベース部材と、該ステージベース部材を実質的
に床又はベースフレームに鉛直方向に弾性支持する複数
の第１マウントと、レチクルを搭載して前記ウエハステ
ージと同期して移動するレチクルステージと、投影光学
系もしくは該レチクルステージを支持する鏡筒定盤と、
該鏡筒定盤を実質的に床又はベースフレームに鉛直方向
に弾性支持する複数の第２マウントとを有し、上方から
見たとき、前記第１マウントで規定される多角形の重心
位置と、前記第２マウントで規定される多角形の重心位
置と、前記投影光学系の光軸のうちのいづれか２つ以上
がほぼ一致していることを特徴とする露光装置。 - 【請求項３６】 上方から見たときに、前記レチクルス
テージは前記一致している重心位置を通って移動するこ
とを特徴とする請求項３５記載の装置。 - 【請求項３７】 ウエハを搭載して移動するウエハステ
ージと、該ウエハステージを支持するステージベース部
材と、該ウエハステージを駆動した際の反力を受ける第
１反力受け構造体と、レチクルを搭載して該ウエハステ
ージと同期して移動するレチクルステージと、該レチク
ルステージ及び投影光学系を支持する鏡筒定盤と、該レ
チクルステージを駆動した際の反力を受ける前記第１の
反力受け構造体とは別の第２反力受け構造体と、を有す
ることを特徴とする露光装置。 - 【請求項３８】 前記ステージベース部材を実質的に床
又はベースフレームに鉛直方向に弾性支持する第１マウ
ントと、前記鏡筒定盤を実質的に床又はベースフレーム
に鉛直方向に弾性支持する第２マウントとを有し、該第
１マウントと該第２マウントによって、前記ウエハステ
ージと前記レチクルステージとは床に対して独立に支持
されていることを特徴とする請求項３７記載の装置。 - 【請求項３９】 前記ウエハステージの反力に応じた力
を発生する第１力アクチュエータと、前記レチクルステ
ージの反力に相当する力を発生する第２力アクチュエー
タの少なくとも一方を有することを特徴とする請求項３
７記載の装置。 - 【請求項４０】 前記第１反力受け構造体を実質的に床
もしくはベースフレームに弾性支持する第１弾性支持体
と、前記第２反力受け構造体を実質的に床もしくはベー
スフレームに弾性支持する第２弾性支持体の少なくとも
一方を有することを特徴とする請求項３７記載の装置。 - 【請求項４１】 前記ウエハステージをステップ移動さ
せて転写すべきショット領域を位置決めするステップ動
作と、前記レチクルステージと前記ウエハステージを同
期移動させながら走査露光を行うスキャン動作とを繰り
返すことを特徴とする請求項３５乃至４０のいずれか記
載の装置。 - 【請求項４２】 前記ステージの位置情報を計測する計
測手段を有し、該計測に基づいて前記ステージの駆動源
もしくは前記力アクチュエータを制御することを特徴と
する請求項１乃至４１のいずれか記載の装置。 - 【請求項４３】 前記ステージの駆動に応じて前記力ア
クチュエータの駆動を制御する制御手段を有することを
特徴とする請求項４２記載の装置。 - 【請求項４４】 ステージの加速又は減速に対応して前
記力アクチュエータをフィードフォワード制御すること
を特徴とする請求項４３記載の装置。 - 【請求項４５】 ステージの移動に伴う荷重移動に対応
して前記力アクチュエータをフィードフォワード制御す
ることを特徴とする請求項４３又は４４記載の装置。 - 【請求項４６】 前記ステージベース部材の加速度情報
を検出するセンサを有し、前記制御手段は該センサの出
力をフィードバックして制御を行うことを特徴とする請
求項４３記載の装置。 - 【請求項４７】 請求項１乃至４６のいずれか記載の露
光装置を用意する工程と、該露光装置を用いて基板に露
光を行う工程を含む製造工程によってデバイスを製造す
ることを特徴とするデバイス製造方法。 - 【請求項４８】 露光前に基板にレジストを塗布する工
程と、露光後に現像を行う工程をさらに有することを特
徴とする請求項４７記載のデバイス製造方法。 - 【請求項４９】 ステージの駆動に伴う反力を、所定範
囲の振動周波数に関して床からアイソレーションされた
反力受け構造体に逃がすことを特徴とするステージ装置
の反力受け方法。 - 【請求項５０】 前記所定範囲は床の固有振動数を含む
範囲であることを特徴とする請求項４９記載の方法。 - 【請求項５１】 前記所定範囲の下限は１０Ｈｚよりも
大きいことを特徴とする請求項４９又は５０記載の方
法。
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|---|---|
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Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004177468A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2005527392A (ja) * | 2002-05-24 | 2005-09-15 | コルモーゲン コーポレイション | 反力移動システム |
| JP2006344685A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Canon Inc | 露光装置 |
| US7463334B2 (en) | 2006-10-10 | 2008-12-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
| JP2010016369A (ja) * | 2008-06-18 | 2010-01-21 | Asml Netherlands Bv | メトロロジーフレーム用のフィードフォワード圧力パルス補償を有するリソグラフィ装置 |
| KR100986165B1 (ko) | 2007-10-05 | 2010-10-07 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광 장치 및 디바이스 제조방법 |
| JP2012142542A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-26 | Canon Inc | リソグラフィーシステム、及びそれを用いた物品の製造方法 |
| CN103472678A (zh) * | 2012-06-08 | 2013-12-25 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻机及应用于光刻机中的工件台系统 |
| CN103809384A (zh) * | 2012-11-12 | 2014-05-21 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机 |
| US8780329B2 (en) | 2007-12-28 | 2014-07-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method having filling member formed by hardening liquid to support setting leg |
| JP2015518947A (ja) * | 2012-06-08 | 2015-07-06 | テクニカル・マニュファクチャリング・コーポレイションＴｅｃｈｎｉｃａｌ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 能動的除振システム |
| WO2016107507A1 (zh) * | 2014-12-30 | 2016-07-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种硅片边缘保护装置 |
| JP2018124464A (ja) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置 |
| US10808790B2 (en) | 2014-09-30 | 2020-10-20 | Technical Manufacturing Corporation | Vibration isolation system |
| US11512757B2 (en) | 2017-08-15 | 2022-11-29 | Technical Manufacturing Coporation | Precision vibration-isolation system with floor feedforward assistance |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU6365499A (en) | 1998-10-28 | 2000-05-15 | Nikon Corporation | Stage device, exposure system, method of device manufacture, and device |
| US6686991B1 (en) | 2000-11-06 | 2004-02-03 | Nikon Corporation | Wafer stage assembly, servo control system, and method for operating the same |
| US6885430B2 (en) * | 2000-11-16 | 2005-04-26 | Nikon Corporation | System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly |
| US6958808B2 (en) * | 2000-11-16 | 2005-10-25 | Nikon Corporation | System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly |
| US6987558B2 (en) * | 2001-01-16 | 2006-01-17 | Nikon Corporation | Reaction mass for a stage device |
| US6538720B2 (en) * | 2001-02-28 | 2003-03-25 | Silicon Valley Group, Inc. | Lithographic tool with dual isolation system and method for configuring the same |
| US6784978B2 (en) * | 2002-03-12 | 2004-08-31 | Asml Holding N.V. | Method, system, and apparatus for management of reaction loads in a lithography system |
| US6724466B2 (en) * | 2002-03-26 | 2004-04-20 | Nikon Corporation | Stage assembly including a damping assembly |
| US7061577B2 (en) | 2002-03-26 | 2006-06-13 | Nikon Corporation | Image adjustor including damping assembly |
| US6757110B2 (en) * | 2002-05-29 | 2004-06-29 | Asml Holding N.V. | Catadioptric lithography system and method with reticle stage orthogonal to wafer stage |
| JP3977214B2 (ja) * | 2002-09-17 | 2007-09-19 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| JP3984898B2 (ja) * | 2002-09-18 | 2007-10-03 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| US20040119964A1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-06-24 | Nikon Corporation | Double isolation fine stage |
| JP4458322B2 (ja) * | 2003-01-14 | 2010-04-28 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| KR101162527B1 (ko) * | 2003-09-03 | 2012-07-09 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
| US7119884B2 (en) * | 2003-12-24 | 2006-10-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2005224532A (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置の防振構造 |
| JP2005227717A (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置の固定構造 |
| US7224432B2 (en) * | 2004-05-14 | 2007-05-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage device, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US7126674B2 (en) * | 2004-06-14 | 2006-10-24 | Asml Netherlands B.V. | Positioning device and device manufacturing method |
| JP4440031B2 (ja) * | 2004-07-29 | 2010-03-24 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| US7256866B2 (en) * | 2004-10-12 | 2007-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| WO2006046101A1 (en) * | 2004-10-27 | 2006-05-04 | Carl Zeiss Smt Ag | A six degree of freedom (dof) actuator reaction mass |
| US7227614B2 (en) * | 2004-11-12 | 2007-06-05 | Asml Netherlands B.V. | Measurement method, device manufacturing method and lithographic apparatus |
| US7180571B2 (en) * | 2004-12-08 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and actuator |
| WO2006133800A1 (en) | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same |
| JP4130837B2 (ja) * | 2006-06-16 | 2008-08-06 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ用反力処理装置 |
| KR100876912B1 (ko) * | 2006-07-13 | 2009-01-08 | 부산대학교 산학협력단 | 변위증폭측정 메카니즘을 구비한 스테이지 |
| US7587946B2 (en) * | 2006-08-31 | 2009-09-15 | Tunney Timothy T | Method and apparatus for testing roof edge components |
| JP2008256155A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Canon Inc | 除振装置、演算装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| CN104111589A (zh) | 2007-07-18 | 2014-10-22 | 株式会社尼康 | 测量方法、载台装置、及曝光装置 |
| JP4485550B2 (ja) * | 2007-07-30 | 2010-06-23 | 住友重機械工業株式会社 | 反力処理装置 |
| JP5350139B2 (ja) * | 2008-10-01 | 2013-11-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置、及びデバイスの製造方法 |
| US8235351B1 (en) * | 2009-08-27 | 2012-08-07 | Lockheed Martin Corporation | Shock load isolation mounting |
| JP5641878B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | 振動制御装置、リソグラフィー装置、および、物品の製造方法 |
| EP3363085B1 (en) * | 2015-10-16 | 2023-05-10 | Thorlabs, Inc. | Linear motor for fast tuning of a laser cavity |
| DE102017201598B4 (de) | 2017-02-01 | 2019-02-14 | Hiwin Mikrosystem Corp. | Reaktionskraftentgegenwirkungsvorrichtung für ein metrologisches Werkzeug |
| US11094499B1 (en) * | 2020-10-04 | 2021-08-17 | Borries Pte. Ltd. | Apparatus of charged-particle beam such as electron microscope comprising sliding specimen table within objective lens |
| IL295833B2 (en) * | 2022-08-22 | 2023-09-01 | Elbit Systems Electro Optics Elop Ltd | A passive stabilization system with a linear copy subsystem to maintain cargo orientation |
Family Cites Families (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4473292A (en) * | 1982-02-09 | 1984-09-25 | Censor Patent-Und Versuchsanstalt | Dampening system |
| US4927119A (en) * | 1986-02-24 | 1990-05-22 | Kimball Industries, Inc. | Reversible flow valve for air isolated bases |
| JPH01188241A (ja) | 1988-01-22 | 1989-07-27 | Canon Inc | 移動案内装置 |
| JPH01284793A (ja) | 1988-05-11 | 1989-11-16 | Canon Inc | 基板支持装置 |
| DE3917408A1 (de) * | 1988-06-06 | 1989-12-07 | Takenaka Corp | Daempfungssockel |
| JP2728898B2 (ja) | 1988-10-05 | 1998-03-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| JP3031940B2 (ja) | 1990-02-21 | 2000-04-10 | キヤノン株式会社 | 移動案内装置 |
| US5187519A (en) | 1990-10-05 | 1993-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus having mount means to suppress vibrations |
| NL9100407A (nl) | 1991-03-07 | 1992-10-01 | Philips Nv | Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel. |
| JP2714502B2 (ja) | 1991-09-18 | 1998-02-16 | キヤノン株式会社 | 移動ステージ装置 |
| JP3245932B2 (ja) | 1992-02-06 | 2002-01-15 | キヤノン株式会社 | 光半導体装置、その駆動方法及びそれを用いた光伝送方式 |
| US5549269A (en) * | 1992-03-27 | 1996-08-27 | Gertel; Maurice | Gas spring assembly |
| JPH06188181A (ja) * | 1992-12-21 | 1994-07-08 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP3277581B2 (ja) * | 1993-02-01 | 2002-04-22 | 株式会社ニコン | ステージ装置および露光装置 |
| JP2974535B2 (ja) | 1993-03-11 | 1999-11-10 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置 |
| US5356110A (en) * | 1993-06-08 | 1994-10-18 | Newport Corporation | Pneumatic isolation systems for damping vertical, horizontal and rotational vibrations |
| JP3226704B2 (ja) * | 1994-03-15 | 2001-11-05 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| US5874820A (en) * | 1995-04-04 | 1999-02-23 | Nikon Corporation | Window frame-guided stage mechanism |
| JPH08111371A (ja) | 1994-10-06 | 1996-04-30 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| KR100399812B1 (ko) * | 1994-10-11 | 2003-12-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 스테이지용진동방지장치 |
| JP3500737B2 (ja) * | 1994-10-21 | 2004-02-23 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置 |
| JP3193586B2 (ja) * | 1995-04-21 | 2001-07-30 | キヤノン株式会社 | 半導体露光装置 |
| EP0767320B1 (en) * | 1995-10-04 | 2004-01-21 | Ebara Corporation | Vibration damping apparatus |
| US5931441A (en) * | 1996-02-29 | 1999-08-03 | Nikon Corporation | Method of isolating vibration in exposure apparatus |
| US6002987A (en) * | 1996-03-26 | 1999-12-14 | Nikon Corporation | Methods to control the environment and exposure apparatus |
| JP3337906B2 (ja) * | 1996-04-02 | 2002-10-28 | キヤノン株式会社 | 空圧式振動絶縁除去装置、投影露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法 |
| JPH09289155A (ja) * | 1996-04-19 | 1997-11-04 | Nikon Corp | 走査型露光装置 |
| JP3659529B2 (ja) * | 1996-06-06 | 2005-06-15 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| KR100483982B1 (ko) * | 1996-06-07 | 2005-08-10 | 가부시키가이샤 니콘 | 진동절연장치및노광장치 |
| KR980006398A (ko) * | 1996-06-21 | 1998-03-30 | 마에다 시게루 | 진동 감쇄장치 |
| JP3266515B2 (ja) * | 1996-08-02 | 2002-03-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置 |
| JPH1089403A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-04-07 | Nikon Corp | 防振装置 |
| US6222614B1 (en) * | 1996-12-06 | 2001-04-24 | Nikon Corporation | Exposure elements with a cable-relaying support |
| JP3825869B2 (ja) * | 1997-03-19 | 2006-09-27 | キヤノン株式会社 | 能動除振装置 |
| US5959427A (en) * | 1998-03-04 | 1999-09-28 | Nikon Corporation | Method and apparatus for compensating for reaction forces in a stage assembly |
-
1998
- 1998-04-08 JP JP09589598A patent/JP3554186B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-04-06 US US09/286,447 patent/US6493062B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-08 KR KR1019990012420A patent/KR19990083062A/ko not_active Ceased
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005527392A (ja) * | 2002-05-24 | 2005-09-15 | コルモーゲン コーポレイション | 反力移動システム |
| JP2004177468A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2006344685A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Canon Inc | 露光装置 |
| US7463334B2 (en) | 2006-10-10 | 2008-12-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
| US8009273B2 (en) | 2007-10-05 | 2011-08-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
| KR100986165B1 (ko) | 2007-10-05 | 2010-10-07 | 캐논 가부시끼가이샤 | 노광 장치 및 디바이스 제조방법 |
| US8780329B2 (en) | 2007-12-28 | 2014-07-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus, structure, method for setting up apparatus, and device manufacturing method having filling member formed by hardening liquid to support setting leg |
| JP2010016369A (ja) * | 2008-06-18 | 2010-01-21 | Asml Netherlands Bv | メトロロジーフレーム用のフィードフォワード圧力パルス補償を有するリソグラフィ装置 |
| JP2012142542A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-26 | Canon Inc | リソグラフィーシステム、及びそれを用いた物品の製造方法 |
| CN103472678A (zh) * | 2012-06-08 | 2013-12-25 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻机及应用于光刻机中的工件台系统 |
| JP2015518947A (ja) * | 2012-06-08 | 2015-07-06 | テクニカル・マニュファクチャリング・コーポレイションＴｅｃｈｎｉｃａｌ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 能動的除振システム |
| CN103809384A (zh) * | 2012-11-12 | 2014-05-21 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机 |
| US10808790B2 (en) | 2014-09-30 | 2020-10-20 | Technical Manufacturing Corporation | Vibration isolation system |
| CN105807575A (zh) * | 2014-12-30 | 2016-07-27 | 上海微电子装备有限公司 | 一种硅片边缘保护装置 |
| US9964864B2 (en) | 2014-12-30 | 2018-05-08 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Silicon wafer edge protection device |
| WO2016107507A1 (zh) * | 2014-12-30 | 2016-07-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种硅片边缘保护装置 |
| JP2018124464A (ja) * | 2017-02-02 | 2018-08-09 | ウシオ電機株式会社 | 露光装置 |
| US11512757B2 (en) | 2017-08-15 | 2022-11-29 | Technical Manufacturing Coporation | Precision vibration-isolation system with floor feedforward assistance |
| US11873880B2 (en) | 2017-08-15 | 2024-01-16 | Technical Manufacturing Corporation | Precision vibration-isolation system with floor feedforward assistance |
| US12140196B2 (en) | 2017-08-15 | 2024-11-12 | Technical Manufacturing Corporation | Precision vibration-isolation system with floor feedforward assistance |
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