JPH11297651A - 枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェーハを洗浄する際に、ウェーハ保持具の
回転に伴う乱流の発生を抑制して、ミストや薬品ガス等
のウェーハへの付着を防止することができる枚葉スピン
式ウェーハ洗浄装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 洗浄チャンバ１２内の中央部に外周チャ
ック方式のウェーハ保持具１４が設置され、洗浄の対象
となるウェーハ１６を保持しつつ回転させるようになっ
ている。洗浄チャンバ１２の底部には排出口２０が設け
られている。ウェーハ保持具１４の６本のスポーク部１
４ｂの先端部にはそれぞれ羽根２２が傾倒可能に設置さ
れ、これら６個の羽根２２からファンが構成されてい
る。これらの羽根２２がウェーハ保持具１４と共に回転
することにより、回転しているウェーハ１６の周囲から
下方の排出口２０へ向かう整流された気流が発生して、
ウェーハ保持具１４の回転に伴う乱流の発生が抑制され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置に係り、特に半導体装置の製造プロセスのウ
ェーハ洗浄工程において使用される枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置
を、図８を用いて説明する。この従来の枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置６０においては、洗浄チャンバ６２内の
中央部に、ウェーハ保持具６４が設置されている。この
ウェーハ保持具６４は、モータ（図示せず）に接続さ
れ、図８中の矢印Ｒ１に示す方向に回転すると共に、洗
浄の対象となるウェーハ６６を水平に保持するようにな
っている。なお、このウェーハ保持具６４は、回転する
回転支柱から放射状に延びるスポーク部の先端部の段差
部によってウェーハ６６の周辺部のみを保持し、段差部
の上の突起形状のチャック部によって回転するウェーハ
６６を固定する、いわゆる外周チャック方式となってい
る。このため、ウェーハ６６の裏面が大きく露出し、ウ
ェーハ１４の表裏両面を同時に洗浄することができるよ
うになっている。

【０００３】また、ウェーハ保持具６４の上方には、回
転するウェーハ６６の表面を洗浄するための薬液や純水
等の洗浄液を供給する洗浄液供給口６８が設置されてい
る。また、洗浄チャンバ６２の底部には、洗浄チャンバ
６２内に供給された洗浄液の蒸発ガス（以下、適宜「薬
品ガス」と呼ぶ）等の気体と洗浄液等の液体を外部に排
出するための排出口７０が設けられている。そして、洗
浄チャンバ６２内の気体及び液体がこの排出口７０から
容易に排出されるように、この排出口７０は別置された
排気装置（図示せず）に接続され、洗浄チャンバ６２内
の下部に負圧を導くようになっている。

【０００４】次に、図８に示す従来の枚葉スピン式ウェ
ーハ洗浄装置を用いて例えばウェーハ６６の表面を洗浄
する動作について説明する。先ず、洗浄すべきウェーハ
６６をウェーハ保持具６４上に１枚ずつ水平に搭載す
る。続いて、モータを作動させ、ウェーハ保持具６４を
図８中の矢印Ｒ１に示す方向に回転させる。こうして、
ウェーハ保持具６４上に保持したウェーハ６６を回転さ
せる。また、排気装置を作動させ、排出口７０を介して
洗浄チャンバ６２内の下部に負圧を導く。

【０００５】そして、ウェーハ６６の回転が所定の速度
に達して安定化したところで、洗浄液供給口６８から所
定の薬液や純水等の洗浄液を回転するウェーハ６６の表
面に供給する。こうして、ウェーハ６６の表面を所定の
洗浄液によって洗浄する。このようなウェーハ６６の表
面の洗浄が終了した後、ウェーハ６６の回転を更に高速
化する。そして、この高速回転によって振り切り乾燥を
行い、ウェーハ６６の表面を乾燥させる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置を用いてウェーハ６６を
洗浄する場合、このウェーハ６６を保持したウェーハ保
持具６４が回転するために、洗浄液供給口６８から回転
するウェーハ６６の表面に供給した薬液や純水等の洗浄
液が飛び散り、上記図８中のＢ部に示すウェーハ保持具
６４の外周部近傍にミスト（ｍｉｓｔ；霧状の微小な水
滴）が発生する。

【０００７】また、このＢ部においては、ウェーハ保持
具６４の回転に伴って、乱流も発生する。特に、上記図
８を用いて説明した外周チャック方式の場合、ウェーハ
保持具６４の外周部にウェーハ６６の周辺部を保持・固
定するための段差部及びチャック部が突起状に設けられ
ているため、ウェーハの裏面の中心部を真空吸着する真
空チャック方式と比較すると、図８中の矢印Ｆ８に示さ
れるように、このＢ部にはかなり大きな乱流が発生す
る。そして、このＢ部に発生した乱流は、図８中のＣ部
に示すウェーハ６６の表面近傍に次第に伝搬していく傾
向がある。

【０００８】そして、回転するウェーハ６６の外周部近
傍において発生したミストは、上記図８中のＢ部及びＣ
部、即ちウェーハ６６の外周部近傍及び表面近傍に発生
した乱流によってウェーハ６６の表面に付着する。ま
た、ミストのみならず、洗浄チャンバ６２内の薬品ガス
や浮遊するパーティクル（微粒子）等も、この乱流に巻
き込まれてウェーハ６６の表面に付着する。このように
して、ウェーハ６６の洗浄工程において、そのウェーハ
６６の表面に付着したミストや薬品ガスやパーティクル
等は、半導体装置の製造歩留りを低下させる原因とな
る。

【０００９】そのため、従来の枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置を用いてウェーハ洗浄を行う場合においても、そ
の洗浄工程においてウェーハ表面にミストや薬品ガスや
パーティクル等が付着しないように、種々の工夫がなさ
れている。例えば、ウェーハ６６の表面から薬液や純水
等の洗浄液が飛び散り、それが乱流に巻き込まれないよ
うに、ウェーハ保持具６４の外周部近傍にガイド（図示
せず）を設けている。

【００１０】また、ウェーハ６６の表面にパーティクル
やミストや薬品ガス等が付着することを防止するために
は、周知のように、洗浄チャンバ６２内を流れる気流の
方向やその気体を排出する排気量が重要であることか
ら、洗浄チャンバ６２の内壁の形状を気体がスムーズに
流れるように改良すると共に、洗浄チャンバ６２の排出
口７０を別置された排気装置（図示せず）に接続して、
洗浄チャンバ６２内の下部に負圧を導くようにし、図８
中の矢印Ｆ９に示されるように、ウェーハ６６の上方か
らその外周部近傍に向かう気流が、スムーズにその外周
部近傍を通り抜けて下方の排出口７０に向かうように
し、この気流にパーティクルやミストや薬品ガス等を乗
せて排出口７０から外部に排出しようとしている。

【００１１】しかしながら、洗浄チャンバ６２の内壁の
形状を改良したり、洗浄チャンバ６２内の下部に負圧を
導くようにしたり、更にはこの負圧の強弱を調整したり
しても、前述したように、上記図８中のＢ部及びＣ部、
即ちウェーハ６６の外周部近傍及び表面近傍に乱流が発
生することを防止することは困難であった。

【００１２】また、洗浄チャンバ６２内の下部の負圧を
強くして排出口７０からの排出量を増大させると、洗浄
に使用する薬液の種類によっては、ウェーハの洗浄処理
に悪い影響が出る場合がある。例えば、排気量を増加さ
せると、エッチングレートのウェーハ面内における均一
性の悪化などが発生する場合がある。このため、ウェー
ハ６６の上方からその外周部近傍を通り抜けて下方の排
出口７０に向かう安定した気流を作り出し、ウェーハ保
持具６４の回転に伴う乱流の発生を抑制して、製造歩留
り低下の原因となるウェーハ６６へのパーティクルやミ
ストや薬品ガス等の付着を防止することは、現状の枚葉
スピン式ウェーハ洗浄装置によっては困難であった。

【００１３】そこで本発明は、上記事情を鑑みてなされ
たものであり、ウェーハを洗浄する際に、たとえ外周チ
ャック方式であっても、ウェーハ保持具の回転に伴う乱
流の発生を抑制して、ミストや薬品ガス等のウェーハへ
の付着を防止することができる枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題は、以下の本発
明に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置によって達成さ
れる。即ち、請求項１に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄
装置は、洗浄チャンバと、この洗浄チャンバ内に設置さ
れ、ウェーハを保持しつつ回転するウェーハ保持具と、
洗浄チャンバの下方に設置され、洗浄チャンバ内の気体
又は液体を外部に排出するための排出口とを有する枚葉
スピン式ウェーハ洗浄装置であって、ウェーハ保持具上
に保持されつつ回転するウェーハの周囲から排出口へ向
かう整流された気体の流れ（以下、適宜「気流」とい
う）を発生させるファン（ｆａｎ；送風装置）が洗浄チ
ャンバ内に設置されていることを特徴とする。

【００１５】このように請求項１に係る枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置においては、洗浄チャンバ内にファンが
設置され、ウェーハ保持具上に保持されつつ回転するウ
ェーハの周囲から排出口へ向かう整流された気流を発生
させることにより、ウェーハ保持具の回転に伴ってその
外周部近傍に乱流が発生しようとしても、ファンが作り
出す整流された気流によって乱流の発生が抑制される。
従って、回転するウェーハに供給した薬液や純水等の洗
浄液が飛び散り、その周囲にミストが発生しても、その
ミストはウェーハの周囲から排出口へ向かう整流された
気流に乗って排出口から外部に排出されるため、乱流に
巻き込まれてウェーハに付着することは防止される。ま
た、ミストのみならず、洗浄チャンバ内の薬品ガスや浮
遊するパーティクル等も、同様にファンが作り出す整流
された気流に乗って排出口から外部に排出されるため、
乱流に巻き込まれてウェーハに付着することは防止され
る。

【００１６】また、請求項２に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置は、上記請求項１に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置において、前記ファンが、ウェーハ保持具の
外周部に設置され、このウェーハ保持具と共に同一の速
度で同一の方向に回転する複数個の羽根からなることを
特徴とする。このように請求項２に係る枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置においては、ファンがウェーハ保持具の
外周部に設置された複数個の羽根から構成され、これら
複数個の羽根はウェーハ保持具と共に同一の速度で同一
の方向に回転することにより、ウェーハ保持具の回転に
伴ってその外周部近傍に乱流が発生しようとする一方、
複数個の羽根の回転によってウェーハの周囲から排出口
へ向かう整流された気流を発生させるため、全体として
は乱流の発生が抑制される。従って、洗浄チャンバ内に
発生したミストや薬品ガスや浮遊するパーティクル等
も、ファンを構成する羽根の回転が作り出す整流された
気流に乗って排出口から外部に排出されるため、乱流に
巻き込まれてウェーハに付着することは防止される。

【００１７】また、請求項３に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置は、上記請求項１に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置において、前記ファンが、ウェーハ保持具の
回転と同軸上に回転する支柱から延びているスポークの
先端部に設置され、所定の速度で所定の方向に回転する
複数個の羽根からなることを特徴とする。このように請
求項３に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置において
は、ファンがウェーハ保持具とは別個独立に設置された
複数個の羽根から構成され、これら複数個の羽根はウェ
ーハ保持具の回転と同軸上に回転することにより、ウェ
ーハ保持具の回転に伴ってその外周部近傍に乱流が発生
しようとする一方、複数個の羽根の回転によってウェー
ハの周囲から排出口へ向かう整流された気流が発生する
ため、全体としては乱流の発生が抑制される。従って、
洗浄チャンバ内に発生したミストや薬品ガスや浮遊する
パーティクル等も、ファンを構成する羽根の回転が作り
出す整流された気流に乗って排出口から外部に排出され
るため、乱流に巻き込まれてウェーハに付着することは
防止される。

【００１８】なお、ここでの複数個の羽根はウェーハ保
持具の回転と同軸上に回転するものの、その回転方向に
ついては、ウェーハ保持具の回転と同一方向に回転する
ことも、反対方向に回転することも可能である。また、
その回転速度についても、ウェーハ保持具の回転と同一
の速度で回転することも、より低速で回転することも、
より高速で回転することも可能である。更に、洗浄工程
の途中において、回転方向や回転速度を変更することも
可能である。実際の場合には、乱流の発生を抑制してウ
ェーハの周囲から排出口へ向かう整流された気流を発生
させるに適した回転方向や回転速度は、洗浄チャンバの
内壁の形状やウェーハ保持具の回転速度等、個々の枚葉
スピン式ウェーハ洗浄装置特有の条件や洗浄の際の条件
等によって左右されるため、個々の装置及び洗浄の際の
条件等に対応する最適条件に調整することが可能とな
る。

【００１９】また、請求項４に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置は、上記請求項１に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置において、前記ファンが、ウェーハ保持具の
回転と同軸上に回転する洗浄チャンバの内壁に設置さ
れ、この洗浄チャンバと共に所定の速度で所定の方向に
回転する複数個の羽根からなることを特徴とする。この
ように請求項４に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置に
おいては、ファンが回転可能な洗浄チャンバの内壁に設
置された複数個の羽根から構成され、これら複数個の羽
根は洗浄チャンバと共にウェーハ保持具の回転と同軸上
に回転することにより、ウェーハ保持具の回転に伴って
その外周部近傍に乱流が発生しようとする一方、複数個
の羽根の回転によってウェーハの周囲から排出口へ向か
う整流された気流を発生させるため、全体としては乱流
の発生が抑制される。従って、洗浄チャンバ内に発生し
たミストや薬品ガスや浮遊するパーティクル等も、ファ
ンを構成する羽根の回転が作り出す整流された気流に乗
って排出口から外部に排出されるため、乱流に巻き込ま
れてウェーハに付着することは防止される。

【００２０】なお、ここでの複数個の羽根も、上記請求
項３に係る場合と同様に、ウェーハ保持具の回転と同軸
上に回転するものの、ウェーハ保持具の回転と同一方向
に回転することも、反対方向に回転することも可能であ
り、また、ウェーハ保持具の回転と同一の速度で回転す
ることも、より低速で回転することも、より高速で回転
することも可能である。更に、洗浄工程の途中におい
て、回転方向や回転速度を変更することも可能である。
従って、実際の場合には、個々の枚葉スピン式ウェーハ
洗浄装置及び洗浄の際の条件等に対応する最適条件に調
整することが可能になる。

【００２１】また、請求項５に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置は、上記請求項１に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置において、前記ファンが、ウェーハ保持具の
外周部と洗浄チャンバの内壁との間に設置され、所定の
速度で所定の方向に回転する複数個の羽根車からなるこ
とを特徴とする。ここで、「羽根車」とは、複数の羽根
が例えば扇風機や飛行機のプロペラのように同一円周上
に配置された回転体をいう。このように請求項５に係る
枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置においては、ファンがウ
ェーハ保持具や洗浄チャンバとは別個独立に設置された
複数個の羽根車から構成され、これら複数個の羽根車は
所定の速度で所定の方向に回転することにより、ウェー
ハ保持具の回転に伴ってその外周部近傍に乱流が発生し
ようする一方、複数個の羽根車の回転によってウェーハ
の周囲から排出口へ向かう整流された気流を発生させる
ため、全体としては乱流の発生が抑制される。従って、
洗浄チャンバ内に発生したミストや薬品ガスや浮遊する
パーティクル等も、ファンを構成する羽根の回転が作り
出す整流された気流に乗って排出口から外部に排出され
るため、乱流に巻き込まれてウェーハに付着することは
防止される。

【００２２】なお、ここでの複数個の羽根車は、ウェー
ハ保持具の回転とは全く別に回転するものであるため、
乱流の発生を抑制してウェーハの周囲から排出口へ向か
う整流された気流を発生させるに適した回転方向や回転
速度は、個々の枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置特有の条
件や洗浄の際の条件等に対応する最適条件に調整するこ
とが可能になる。

【００２３】また、請求項６に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置は、上記請求項２〜４に係る枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置において、前記羽根が、ウェーハ保持具
の外周部近傍の同一円周上に略等間隔をおいて配置され
ている構成とすることにより、この羽根の回転によって
発生する気流が洗浄チャンバ内において均一に整流され
た気流となるため、乱流の発生がより効果的に抑制され
る。

【００２４】また、請求項７に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置は、上記請求項５に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置において、前記羽根車が、ウェーハ保持具の
外周部近傍の同一円周上に略等間隔をおいて配置されて
いる構成とすることにより、この羽根車の回転によって
発生する気流が洗浄チャンバ内において均一に整流され
た気流となるため、乱流の発生がより効果的に抑制され
る。

【００２５】また、請求項８に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置は、上記請求項２〜４に係る枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置において、前記羽根が傾倒可能に設置さ
れている構成とすることにより、羽根の傾きと方向が自
由に調整される。なお、ここで、「傾倒可能に設置」と
は、羽根を固定して取り付けるのではなく、羽根の傾き
と方向を調節することができるように取り付けることを
意味する。実際の場合には、乱流の発生を抑制してウェ
ーハの周囲から排出口へ向かう整流された気流を発生さ
せるに適した羽根の傾きと方向は、洗浄チャンバの内壁
の形状やウェーハ保持具の回転速度等、個々の枚葉スピ
ン式ウェーハ洗浄装置特有の条件や洗浄の際の条件等に
よって左右されるため、個々の装置及び洗浄の際の条件
等に対応して羽根の傾きと方向を最適なものに調整する
ことが可能になる。また、使用する洗浄液の種類によっ
てウェーハ保持具の回転速度が変わったり、洗浄方法に
規定されてウェーハ保持具の回転速度が段階的に変化し
たりする場合においても、それに対応して羽根の傾きと
方向を適宜変化させることが可能になる。

【００２６】また、請求項９に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置は、上記請求項２〜４に係る枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置において、前記羽根の断面が航空機の翼
の断面と略同一の形状となっている構成とすることによ
り、この航空機の翼の断面形状と同一の断面形状をもつ
羽根の回転によって整流された気流が安定的に発生す
る。このため、乱流の発生が効果的に抑制される。な
お、羽根の形状は、航空機の翼の形状に限られるもので
はなく、扇風機の羽根の形状や航空機のプロペラの形状
等であってもよいし、シロッコバキュームファンのよう
な形状であってもよい。即ち、回転によって整流された
気流が発生する形状であれば、どのような形状であって
もよい。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら、
本発明の実施の形態を説明する。 （第１の実施形態）本発明の第１の実施形態に係る枚葉
スピン式ウェーハ洗浄装置は、洗浄対象のウェーハを保
持しつつ回転するウェーハ保持具の外周部に設置された
複数の羽根から構成されるファンを具備している点に特
徴がある。

【００２８】本実施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置を、図１〜図４を用いて説明する。ここで、図１
は本実施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置の主
要部を示す概略断面図、図２は図１の枚葉スピン式ウェ
ーハ洗浄装置のウェーハ保持具及びファンを示す上面
図、図３は図２のＡ部のウェーハ保持具及びファンの部
分拡大側面図、図４は図３の右面図である。但し、図２
においては、ウェーハの図示を省略している。

【００２９】本実施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置１０においては、洗浄チャンバ１２内の中央部
に、ウェーハ保持具１４が設置されている。このウェー
ハ保持具１４は、モータ（図示せず）に接続されて回転
可能な回転支柱１４ａと、この回転支柱１４ａから放射
状に延びる６本のスポーク部１４ｂと、これらのスポー
ク部１４ｂの先端部にそれぞれ設けられ、ウェーハ１６
を水平に搭載する段差部１４ｃと、これらの段差部１４
ｃ上にそれぞれ突起状に設けられ、回転するウェーハ１
６を固定してその飛び出しを防止するためのチャック部
１４ｄとから構成される。

【００３０】即ち、このウェーハ保持具１４は、洗浄の
対象となるウェーハ１６を水平に保持しつつ回転するよ
うになっているが、その際に、ウェーハ１６の周辺部の
みを段差部１４ｃに接触させて保持すると共に、チャッ
ク部１４ｄによって回転するウェーハ１６を固定する、
いわゆる外周チャック方式となっている。このために、
ウェーハ１６の裏面が大きく露出していると共に、ウェ
ーハ１６と回転支柱１４ａ及びスポーク部１４ｂとの間
にも空隙があり、ウェーハ１６の表面のみならずその裏
面をも同時に洗浄することができるようになっている。

【００３１】また、ウェーハ保持具１４の上方には、回
転するウェーハ１６の表面を洗浄するための薬液や純水
等の洗浄液を供給する洗浄液供給口１８が設置されてい
る。また、図示はしないが、回転するウェーハ１６の裏
面を洗浄する場合、又はウェーハ１６の表面及び裏面を
同時に洗浄する場合には、ウェーハ保持具１４の上方の
洗浄液供給口１８とは別の洗浄液供給口がウェーハ保持
具１４の下方に設置されている。

【００３２】また、洗浄チャンバ１２の底部には、洗浄
チャンバ１２内に供給された薬品ガス等の気体と洗浄液
等の液体を外部に排出するための排出口２０が設けられ
ている。そして、洗浄チャンバ１２内の気体及び液体が
排出口２０から容易に排出されるように、この排出口２
０は別置された排気装置（図示せず）に接続され、洗浄
チャンバ１２内の下部に負圧を導くようになっている。

【００３３】また、ウェーハ保持具１４の６本のスポー
ク部１４ｂの先端部には、それぞれ羽根２２が傾倒可能
に設置されている。即ち、ウェーハ保持具１４に保持さ
れたウェーハ１６の外周部近傍に、６個の羽根２２が同
一円周上に等間隔をおいて配置されており、これら６個
の羽根２２からファンが構成されている点に本実施形態
の特徴がある。また、これら６個の羽根２２の断面は、
航空機の翼の断面とほぼ同様の形状となっている。

【００３４】次に、本実施形態に係る枚葉スピン式ウェ
ーハ洗浄装置１０を用いてウェーハ１６の表面を洗浄す
る動作について説明する。先ず、洗浄すべきウェーハ１
６をウェーハ保持具１４の６本のスポーク部１４ｂの先
端部の段差部１４ｃ上に１枚ずつ水平に搭載する。次い
で、モータを作動させ、ウェーハ保持具１４の回転支柱
１４ａの図１中の矢印Ｒ１に示す方向に回転させる。こ
うして、ウェーハ保持具１４の段差部１４ｃ上に保持し
たウェーハ１６を回転させる。また、排気装置を作動さ
せ、排出口２０を介して洗浄チャンバ１２内の下部に負
圧を導く。

【００３５】そして、ウェーハ保持具１４の回転が所定
の速度に達して安定化したところで、洗浄液供給口１８
から回転するウェーハ１６の表面に所定の薬液を供給す
る。こうして、ウェーハ１６の表面を所定の洗浄液によ
って洗浄する。続いて、このウェーハ１６の表面の洗浄
が終了した後、ウェーハ保持具１４の回転を所定の速度
に変化させ、その回転速度の変化に対応して、傾倒可能
に設置されている羽根２２の傾きを変更した後、洗浄液
供給口１８から回転するウェーハ１６の表面に純水を供
給して、ウェーハ１６の表面を純水によってリンスす
る。

【００３６】次いで、このウェーハ１６の表面のリンス
が終了した後、ウェーハ１６の回転を更に高速化する。
そして、この高速回転によって振り切り乾燥を行い、ウ
ェーハ１６の表面を乾燥させる。このときも、このウェ
ーハ１６の回転の高速化に対応して、傾倒可能に設置さ
れている羽根２２の傾きを変更する。このような一連の
洗浄工程において、ウェーハ１６の表面の洗浄、リン
ス、及び振り切り乾燥を行う際に、回転しているウェー
ハ１６の表面に供給した薬液や純水が飛び散り、図１中
のＢ部に示すウェーハ１６の外周部近傍にミストが発生
する。

【００３７】また、突起状のチャック部１４ｄを有する
ウェーハ保持具１４が回転しているため、通常の場合、
同じＢ部においてかなり大きな乱流が発生する。しか
し、本実施形態の場合は、ウェーハ１６の外周部近傍
に、航空機の翼の断面とほぼ同様の断面形状をもつ６個
の羽根２２が同一円周上に等間隔をおいて配置されてお
り、ウェーハ保持具１４と共に同一の速度で同一の方向
に回転しているため、回転しているウェーハ１６の周囲
から下方の排出口２０へ向かう整流された気流が発生し
て、羽根２２が設置されていない通常の場合に発生する
乱流を抑制してしまう。

【００３８】このようにして、ウェーハ保持具１４と共
に羽根２２が回転することにより、ウェーハ保持具１４
の回転に伴う乱流の発生を抑制するために、排気装置
（図示せず）に接続された排出口２０を介して洗浄チャ
ンバ１２内の下部に負圧を導いていることと相まって、
図１中の矢印Ｆ１に示されるように、ウェーハ１６の上
方からその外周部近傍に向かう気流は、乱流に巻き込ま
れることなく、ウェーハ１６の外周部近傍を通り抜け、
更に矢印Ｆ２に示されるように、羽根２２から下方の排
出口２０に向かう安定した気流が作り出される。

【００３９】このため、図１中のＢ部に示すウェーハ保
持具１４のチャック部１４ｄの外周部近傍にミストが発
生しても、そのミストはウェーハ１６の周囲から回転す
る羽根２２によって作り出された整流された気流に乗っ
て排出口２０から外部に排出される。また、洗浄チャン
バ１２内の薬品ガスや浮遊するパーティクル等も、ミス
トと同様に回転する羽根２２によって作り出された整流
された気流に乗って排出口２０から外部に排出される。
このようにして、ミストや薬品ガスやパーティクル等が
乱流に巻き込まれてウェーハ１６の表面に付着すること
はなくなる。

【００４０】このように本実施形態によれば、洗浄の対
象となるウェーハ１６を保持しつつ回転するウェーハ保
持具１４がその外周部に段差部１４ｃ及びチャック部１
４ｄを突起状に有する外周チャック方式であって、通常
はその回転によって外周部近傍にかなり大きな乱流が発
生する場合であっても、ウェーハ保持具１４の６本のス
ポーク部１４ｂの先端部にそれぞれ羽根２２が設置さ
れ、これらの羽根２２がウェーハ保持具１４と共に同一
の速度で同一の方向に回転することにより、ウェーハ１
６の周囲から下方の排出口２０へ向かう整流された気流
が発生して、羽根２２が設置されていない通常の場合に
発生する乱流を抑制することができる。

【００４１】このため、回転するウェーハ１４に供給し
た薬液や純水等の洗浄液が飛び散ってその周囲に発生し
たミストや、洗浄チャンバ１２内の薬品ガスや浮遊する
パーティクル等は、回転する羽根２２が作り出すウェー
ハ１４の周囲から排出口２０へ向かう整流された気流に
乗って排出口２０から外部に排出される。従って、乱流
に巻き込まれてウェーハに付着することが防止され、洗
浄工程におけるウェーハ１４へのミストや薬品ガスやパ
ーティクル等の付着に起因する製造歩留まりの低下を防
止することができる。

【００４２】また、このウェーハ１６の周囲から下方の
排出口２０へ向かう整流された気流が発生することによ
り、洗浄チャンバ１２内の下部の負圧を必要以上に強く
して排出口２０からの排出量を増大させなくともよくな
るため、例えばエッチングレートのウェーハ面内におけ
る均一性が悪化するなどのウェーハ１６の洗浄処理に悪
い影響が出ることを防止することができる。このとき、
ウェーハ保持具１４の６本のスポーク部１４ｂの先端部
にそれぞれ設置された６個の羽根２２は、ウェーハ１６
の外周部近傍に同一円周上に等間隔をおいて配置されて
いることにより、これら６個の羽根２２の回転によって
発生する気流は洗浄チャンバ１２内において均一に整流
された気流となるため、ウェーハ保持具１４の回転に伴
う乱流の発生をより効果的に抑制することが可能にな
り、ミストや薬品ガスや浮遊するパーティクル等のウェ
ーハへの付着を防止して、更なる製造歩留まりの向上に
寄与することができる。

【００４３】また、これら６個の羽根２２は傾倒可能に
設置されていることにより、ウェーハ１６の洗浄工程に
おける所定の洗浄液による洗浄、純水によるリンス、振
り切り乾燥の各段階においてウェーハ保持具１４の回転
速度が変化する際、その変化に対応して６個の羽根２２
の傾きを変更して、最適な傾きに調整することが可能に
なるため、ウェーハ保持具１４の回転に伴う乱流の発生
をより効果的に抑制し、ミストや薬品ガスや浮遊するパ
ーティクル等のウェーハへの付着を防止して、更なる製
造歩留まりの向上に寄与することができる。

【００４４】また、これら６個の羽根２２の断面は、航
空機の翼の断面と同様の形状となっていることにより、
このような断面形状をもつ羽根２２の回転によって整流
された気流を安定的に発生させることが可能になるた
め、乱流の発生をより効果的に抑制してミストや薬品ガ
スや浮遊するパーティクル等のウェーハへの付着を防止
し、更なる製造歩留まりの向上に寄与することができ
る。

【００４５】なお、上記第１の実施形態においては、６
個の羽根２２が具備されているが、羽根２２の数は６個
に限定されるものではない。乱流の発生を抑制する整流
された気流を発生させる観点から、必要に応じて増減す
ることが可能である。羽根２２の数を増加する場合に
は、ウェーハ保持具１４の回転支柱１４ａから放射状に
延びるスポーク部１４ｂの数を増加して、それらのスポ
ーク部１４ｂの先端部にそれぞれ羽根２２を設置すれば
よい。

【００４６】また、上記第１の実施形態においては、ウ
ェーハ保持具１４の６本のスポーク部１４ｂの先端部に
それぞれ羽根２２を設置しているが、スポーク部１４ｂ
の先端部の形状自体を羽根の形状に加工しても、同様の
作用・効果を奏することが可能である。但し、この場合
は、スポーク部１４ｂの先端部に羽根２２を固定して設
置した場合と同様となるため、傾倒可能に設置する場合
と異なり、ウェーハ保持具１４の回転速度の変化に対応
して羽根２２の傾きを変更する等の調整はできない。

【００４７】（第２の実施形態）本発明の第２の実施形
態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置は、上記第１の
実施形態におけるファン、即ちウェーハ保持具１４の外
周部に設置された６個の羽根２２から構成されるファン
の代わりに、ウェーハ保持具とは別個に設置され、ウェ
ーハ保持具の回転と同軸上に回転する複数個の羽根から
構成されるファンを具備している点に特徴がある。

【００４８】本実施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置を、図５を用いて説明する。ここで、図５は本実
施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置の主要部を
示す概略断面図である。なお、上記第１の実施形態にお
ける図１〜図４に示す枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置の
構成要素と同一の要素には同一の符号を付して説明を省
略する。

【００４９】本実施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置３０においては、上記第１の実施形態の場合と同
様に、洗浄チャンバ１２内の中央部に、外周チャック方
式のウェーハ保持具１４が設置されている。即ち、この
ウェーハ保持具１４は、モータ（図示せず）に接続され
て回転可能な回転支柱と、この回転支柱から放射状に延
びる６本のスポーク部と、これらのスポーク部の先端に
それぞれ設けられ、ウェーハ１６を水平に保持する段差
部と、これらの段差部上にそれぞれ突起状に設けられ、
回転するウェーハ１６を固定してその飛び出しを防止す
るためのチャック部とから構成される。

【００５０】また、ウェーハ保持具１４の上方には、回
転するウェーハ１６の表面を洗浄するための洗浄液を供
給する洗浄液供給口１８が設置されている。また、洗浄
チャンバ１２の底部には、洗浄チャンバ１２内に供給さ
れた洗浄液等の液体と薬品ガス等の気体を外部に排出す
るための排出口２０が設けられ、別置された排気装置
（図示せず）に接続されている。

【００５１】また、ウェーハ保持具１４の回転支柱の周
囲に、このウェーハ保持具１４の回転支柱の回転と同軸
上に回転する円筒状の回転支柱３２が設置され、この円
筒状の回転支柱３２から複数本のスポーク部３４が放射
状に延び、この複数本のスポーク部３４の先端部にそれ
ぞれ羽根３６が傾倒可能に設置されている。即ち、ウェ
ーハ保持具１４に保持されたウェーハ１６の外周部近傍
に、複数個の羽根３６が同一円周上に等間隔をおいて配
置されており、これら複数個の羽根３６からファンが構
成されている点に本実施形態の特徴がある。また、これ
ら複数個の羽根３６の断面は、上記第１の実施形態にお
ける羽根２２の場合と同様に、航空機の翼の断面と同様
の形状となっている。

【００５２】次に、本実施形態に係る枚葉スピン式ウェ
ーハ洗浄装置３０を用いてウェーハ１６の表面を洗浄す
る動作について説明する。上記第１の実施形態の場合と
同様にして、先ず、洗浄すべきウェーハ１６をウェーハ
保持具１４上に１枚ずつ水平に保持した後、モータを作
動させてウェーハ保持具１４を図５中の矢印Ｒ１に示す
方向に回転させ、ウェーハ保持具１４に保持したウェー
ハ１６を回転させる。また、円筒状の回転支柱３２を図
５中の矢印Ｒ２に示す方向に回転させ、複数個の羽根３
６をウェーハ保持具１４の回転と同一の方向に回転させ
る。更に、排気装置を作動させ、排出口２０を介して洗
浄チャンバ１２内の下部に負圧を導く。

【００５３】その後、洗浄液供給口１８から回転するウ
ェーハ１６の表面に所定の薬液を供給して、ウェーハ１
６の表面を所定の洗浄液によって洗浄する。続いて、こ
の洗浄の終了後、ウェーハ保持具１４の回転を所定の速
度に変化させ、その回転速度の変化に対応して、複数個
の羽根３６の回転速度を変化させると共に、傾倒可能に
設置されている羽根３６の傾きを変更した後、洗浄液供
給口１８から回転するウェーハ１６の表面に純水を供給
して、ウェーハ１６の表面を純水によってリンスする。

【００５４】次いで、このリンスの終了後、ウェーハ１
６の回転を更に高速化し、この高速回転によって振り切
り乾燥を行い、ウェーハ１６の表面を乾燥させる。この
ときも、このウェーハ１６の回転の高速化に対応して、
複数個の羽根３６の回転速度を変化させると共に、傾倒
可能に設置されている羽根３６の傾きを変更する。

【００５５】このような一連の洗浄工程において、ウェ
ーハ１６の表面の洗浄、リンス、及び振り切り乾燥を行
う際に、回転しているウェーハ１６の表面に供給した薬
液や純水が飛び散り、ウェーハ１６の外周部近傍にミス
トが発生する。

【００５６】また、突起状のチャック部を有するウェー
ハ保持具１４が回転しているため、通常の場合、同じ場
所にかなり大きな乱流が発生する。しかし、本実施形態
の場合は、ウェーハ１６の外周部近傍に、航空機の翼の
断面と同様の断面形状をもつ羽根３６がの同一円周上に
等間隔をおいて配置されており、ウェーハ保持具１４の
回転と同軸上で同一の方向に所定の速度で回転している
ため、ウェーハ１６の周囲から下方の排出口２０へ向か
う整流された気流が発生し、羽根３６が設置されていな
い通常の場合に発生する乱流を抑制してしまう。

【００５７】このようにして、ウェーハ保持具１４の回
転とは別個であるが、同軸上、同一の方向に所定の速度
で羽根３６が回転することにより、ウェーハ保持具１４
の回転に伴う乱流の発生を抑制するため、排気装置（図
示せず）に接続された排出口２０を介して洗浄チャンバ
１２内の下部に負圧を導いていることと相まって、図５
中の矢印Ｆ３に示されるように、ウェーハ１６の上方か
らその外周部近傍に向かう気流は、乱流に巻き込まれる
ことなくウェーハ１６の外周部近傍を通り抜け、矢印Ｆ
４に示されるように、羽根３６から下方の排出口２０に
向かう安定した気流が作り出される。

【００５８】このため、ウェーハ保持具１４の外周部近
傍にミストが発生しても、そのミストはウェーハ１６の
周囲から回転する羽根３６によって作り出された整流さ
れた気流に乗って排出口２０から外部に排出される。ま
た、洗浄チャンバ１２内の薬品ガスや浮遊するパーティ
クル等も、同様に回転する羽根３６によって作り出され
た整流された気流に乗って排出口２０から外部に排出さ
れる。このようにして、ミストや薬品ガスやパーティク
ル等が乱流に巻き込まれてウェーハ１６の表面に付着す
ることはなくなる。

【００５９】このように本実施形態によれば、洗浄の対
象となるウェーハ１６を保持しつつ回転させるウェーハ
保持具１４が外周チャック方式であって、通常はその回
転によって外周部近傍にかなり大きな乱流が発生する場
合であっても、ウェーハ保持具１４の回転と同軸上に回
転する円筒状の回転支柱３２から放射状に延びた複数本
のスポーク部３４の先端部にそれぞれ羽根３６が設置さ
れ、これら複数の羽根３６がウェーハ保持具１４の回転
と同軸上に、同一の方向に、所定の速度で回転すること
により、ウェーハ１６の周囲から下方の排出口２０へ向
かう整流された気流が発生して、羽根３６が設置されて
いない通常の場合に発生する乱流を抑制することができ
る。

【００６０】このため、上記第１の実施形態の場合と同
様にして、回転するウェーハ１４の周囲に発生するミス
トや洗浄チャンバ内の薬品ガスや浮遊するパーティクル
等は複数の羽根３６の回転が作り出す整流された気流に
乗って排出口２０から外部に排出され、乱流に巻き込ま
れてウェーハに付着することが防止されるため、洗浄工
程におけるウェーハ１４へのミストや薬品ガスやパーテ
ィクル等の付着に起因する製造歩留まりの低下を防止す
ることができる。

【００６１】また、このウェーハ１６の周囲から下方の
排出口２０へ向かう整流された気流が発生することによ
り、洗浄チャンバ１２内の下部の負圧を必要以上に強く
して排出口２０からの排出量を増大させなくともよくな
るため、ウェーハ１６の洗浄処理に悪い影響が出ること
を防止することができる。このとき、円筒状の回転支柱
３２から放射状に延びた複数本のスポーク部３４の先端
部にそれぞれ設置された複数個の羽根３６は、ウェーハ
１６の外周部近傍に同一円周上に等間隔をおいて配置さ
れていることにより、上記第１の実施形態の場合と同様
に、これら複数個の羽根３６の回転によって発生する気
流は洗浄チャンバ１２内において均一に整流された気流
となるため、乱流の発生をより効果的に抑制して、ミス
トや薬品ガスや浮遊するパーティクル等のウェーハへの
付着を防止し、更なる製造歩留まりの向上に寄与するこ
とができる。

【００６２】また、これら複数個の羽根３６は傾倒可能
に設置されていることにより、上記第１の実施形態の場
合と同様に、例えばウェーハ保持具１４の回転速度の変
化に対応して複数個の羽根３６の傾きを変更して、最適
な傾きに調整することが可能になるため、乱流の発生を
より効果的に抑制して、ミストや薬品ガスや浮遊するパ
ーティクル等のウェーハへの付着を防止し、更なる製造
歩留まりの向上に寄与することができる。

【００６３】また、これら複数個の羽根３６の断面は、
航空機の翼の断面と同様の形状となっていることによ
り、上記第１の実施形態の場合と同様に、整流された気
流を安定的に発生させることが可能になるため、乱流の
発生をより効果的に抑制してミストや薬品ガスや浮遊す
るパーティクル等のウェーハへの付着を防止し、更なる
製造歩留まりの向上に寄与することができる。

【００６４】更に、本実施形態においては、複数の羽根
３６がウェーハ保持具１４と同一の方向に回転する場合
について述べたが、これら複数の羽根３６はウェーハ保
持具１４と別個独立に設置されているため、ウェーハ保
持具１４の回転と反対方向に回転することも可能であ
る。また、これら複数の羽根３６の回転速度について
も、ウェーハ保持具１４の回転と同一の速度で回転する
ことも、より低速で回転することも、より高速で回転す
ることも可能である。このため、ウェーハ１６の洗浄工
程における所定の洗浄液による洗浄、純水によるリン
ス、振り切り乾燥の各段階においてウェーハ保持具１４
の回転速度が変化する際、その変化に対応して複数個の
羽根３６の回転速度の変化させて、最適な回転速度に調
整することが可能になる。従って、上記第１の実施形態
における羽根２２がウェーハ保持具１４と共に同一の速
度で同一の方向に回転する場合と比較すると、羽根３６
の回転方向及び回転速度についての選択の幅が広くな
り、その分だけ洗浄条件の変化等に対応して乱流の発生
をより効果的に抑制することが可能になり、ミストや薬
品ガスや浮遊するパーティクル等のウェーハへの付着を
防止して、更なる製造歩留まりの向上に寄与することが
できる。

【００６５】（第３の実施形態）本発明の第３の実施形
態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置は、上記第１の
実施形態におけるファン、即ちウェーハ保持具１４の外
周部に設置された６個の羽根２２から構成されるファン
の代わりに、ウェーハ保持具の回転と同軸上に回転する
洗浄チャンバの内壁に設置され、この洗浄チャンバと共
に回転する複数個の羽根から構成されるファンを具備し
ている点に特徴がある。

【００６６】本実施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置を、図６を用いて説明する。ここで、図６は本実
施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置の主要部を
示す概略断面図である。なお、上記第１の実施形態にお
ける図１〜図４に示す枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置の
構成要素と同一の要素には同一の符号を付して説明を省
略する。

【００６７】本実施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置４０においては、洗浄チャンバ４２内の中央部
に、外周チャック方式のウェーハ保持具１４が設置され
ているが、この洗浄チャンバ４２は上下２つに分割され
ており、下のチャンバ４２ａは通常のように固定されて
いるものの、上のチャンバ４２ｂは、ウェーハ保持具１
４の回転支柱の回転と同軸上に回転できるようになって
いる。

【００６８】また、ウェーハ保持具１４は、モータ（図
示せず）に接続されて回転可能な回転支柱と、この回転
支柱から放射状に延びる６本のスポーク部と、これらの
スポーク部の先端にそれぞれ設けられ、ウェーハ１６を
水平に保持する段差部と、これらの段差部上にそれぞれ
突起状に設けられ、回転するウェーハ１６を固定してそ
の飛び出しを防止するためのチャック部とから構成され
る。

【００６９】また、ウェーハ保持具１４の上方には、回
転するウェーハ１６の表面を洗浄するための洗浄液を供
給する洗浄液供給口１８が設置されている。また、洗浄
チャンバ４２の底部には、洗浄チャンバ４２内に供給さ
れた洗浄液等の液体と薬品ガス等の気体を外部に排出す
るための排出口２０が設けられ、別置された排気装置
（図示せず）に接続されている。

【００７０】また、洗浄チャンバ４２の回転可能な上の
チャンバ４２ｂの内壁には、複数個の羽根４４が等間隔
をおいて傾倒可能に設置されている。即ち、ウェーハ保
持具１４に保持されるウェーハ１６の外周部近傍に、複
数個の羽根４４が同一円周上に等間隔をおいて配置され
ており、これら複数個の羽根４４からファンが構成され
ている点に本実施形態の特徴がある。また、これら複数
個の羽根４４の断面は、上記第１の実施形態における羽
根２２の場合と同様に、航空機の翼の断面と同様の形状
となっている。

【００７１】次に、本実施形態に係る枚葉スピン式ウェ
ーハ洗浄装置４０を用いてウェーハ１６の表面を洗浄す
る動作について説明する。上記第１の実施形態の場合と
同様にして、先ず、洗浄すべきウェーハ１６をウェーハ
保持具１４上に１枚ずつ水平に保持した後、モータを作
動させてウェーハ保持具１４を図６中の矢印Ｒ１に示す
方向に回転させ、ウェーハ保持具１４に保持したウェー
ハ１６を回転させる。また、洗浄チャンバ４２の上のチ
ャンバ４２ｂを図６中の矢印Ｒ３に示す方向に回転さ
せ、ウェーハ１６の外周部近傍に同一円周上に等間隔を
おいて配置されている複数個の羽根４４をウェーハ保持
具１４の回転と同一の方向に回転させる。更に、排気装
置を作動させ、排出口２０を介して洗浄チャンバ４２内
の下部に負圧を導く。

【００７２】その後、洗浄液供給口１８から回転するウ
ェーハ１６の表面に所定の薬液を供給して、ウェーハ１
６の表面を所定の洗浄液によって洗浄する。続いて、こ
の洗浄の終了後、ウェーハ保持具１４の回転を所定の速
度に変化させ、その回転速度の変化に対応して、洗浄チ
ャンバ４２の上のチャンバ４２ｂの回転速度、即ち複数
個の羽根４４の回転速度を変化させると共に、傾倒可能
に設置されている羽根４４の傾きを変更した後、洗浄液
供給口１８から回転するウェーハ１６の表面に純水を供
給して、ウェーハ１６の表面を純水によってリンスす
る。

【００７３】次いで、このリンスの終了後、ウェーハ１
６の回転を更に高速化し、この高速回転によって振り切
り乾燥を行い、ウェーハ１６の表面を乾燥させる。この
ときも、このウェーハ１６の回転の高速化に対応して、
洗浄チャンバ４２の上のチャンバ４２ｂの回転速度、即
ち複数個の羽根４４の回転速度を変化させると共に、傾
倒可能に設置されている羽根４４の傾きを変更する。

【００７４】このような一連の洗浄工程において、ウェ
ーハ１６の表面の洗浄、リンス、及び振り切り乾燥を行
う際に、回転しているウェーハ１６の表面に供給した薬
液や純水が飛び散り、ウェーハ１６の外周部近傍にミス
トが発生する。また、突起状のチャック部を有するウェ
ーハ保持具１４が回転しているため、通常の場合、同じ
場所にかなり大きな乱流が発生する。しかし、本実施形
態の場合は、ウェーハ１６の外周部近傍に、航空機の翼
の断面と同様の断面形状をもつ羽根４４が同一円周上に
等間隔をおいて配置されており、洗浄チャンバ４２の上
のチャンバ４２ｂの回転に伴って、ウェーハ保持具１４
の回転と同軸上で同一の方向に所定の速度で回転してい
るため、ウェーハ１６の周囲から下方の排出口２０へ向
かう整流された気流が発生し、羽根４４が設置されてい
ない通常の場合に発生する乱流を抑制してしまう。

【００７５】このようにして、ウェーハ保持具１４の回
転とは別個であるが、同軸上、同一の方向に、所定の速
度で羽根４４が回転することにより、ウェーハ保持具１
４の回転に伴う乱流の発生を抑制するため、排気装置
（図示せず）に接続された排出口２０を介して洗浄チャ
ンバ４２内の下部に負圧を導いていることと相まって、
図６中の矢印Ｆ５に示されるように、ウェーハ１６の上
方からその外周部近傍に向かう気流は、乱流に巻き込ま
れることなくウェーハ１６の外周部近傍を通り抜け、矢
印Ｆ６に示されるように、羽根４４から下方の排出口２
０に向かう安定した気流が作り出される。

【００７６】このため、ウェーハ保持具１４の外周部近
傍にミストが発生しても、そのミストはウェーハ１６の
周囲から回転する羽根４４によって作り出された整流さ
れた気流に乗って排出口２０から外部に排出される。ま
た、洗浄チャンバ４２内の薬品ガスや浮遊するパーティ
クル等も、同様に回転する羽根４４によって作り出され
た整流された気流に乗って排出口２０から外部に排出さ
れる。このようにして、ミストや薬品ガスやパーティク
ル等が乱流に巻き込まれてウェーハ１６の表面に付着す
ることはなくなる。

【００７７】このように本実施形態によれば、洗浄の対
象となるウェーハ１６を保持しつつ回転させるウェーハ
保持具１４が外周チャック方式であって、通常はその回
転によって外周部近傍にかなり大きな乱流が発生する場
合であっても、ウェーハ保持具１４の回転と同軸上に回
転する洗浄チャンバ４２の上のチャンバ４２ｂの内壁に
複数個の羽根４４が設置され、これら複数個の羽根４４
がウェーハ保持具１４の回転と同軸上に、同一の方向
に、所定の速度で回転することにより、ウェーハ１６の
周囲から下方の排出口２０へ向かう整流された気流が発
生して、羽根４４が設置されていない通常の場合に発生
する乱流を抑制することができる。

【００７８】このため、上記第１の実施形態の場合と同
様にして、回転するウェーハ１４の周囲に発生するミス
トや洗浄チャンバ内の薬品ガスや浮遊するパーティクル
等は複数の羽根４４の回転が作り出す整流された気流に
乗って排出口２０から外部に排出され、乱流に巻き込ま
れてウェーハに付着することが防止されるため、洗浄工
程におけるウェーハ１４へのミストや薬品ガスやパーテ
ィクル等の付着に起因する製造歩留まりの低下を防止す
ることができる。

【００７９】また、このウェーハ１６の周囲から下方の
排出口２０へ向かう整流された気流が発生することによ
り、洗浄チャンバ１２内の下部の負圧を必要以上に強く
して排出口２０からの排出量を増大させなくともよくな
るため、ウェーハ１６の洗浄処理に悪い影響が出ること
を防止することができる。このとき、洗浄チャンバ４２
の回転可能な上のチャンバ４２ｂの内壁に設置された複
数個の羽根４４は、ウェーハ１６の外周部近傍に同一円
周上に等間隔をおいて配置されていることにより、上記
第１の実施形態の場合と同様に、これら複数個の羽根４
４の回転によって発生する気流は洗浄チャンバ１２内に
おいて均一に整流された気流となるため、乱流の発生を
より効果的に抑制して、ミストや薬品ガスや浮遊するパ
ーティクル等のウェーハへの付着を防止し、更なる製造
歩留まりの向上に寄与することができる。

【００８０】また、これら複数個の羽根４４は傾倒可能
に設置されていることにより、上記第１の実施形態の場
合と同様に、ウェーハ保持具１４の回転速度の変化に対
応して複数個の羽根４４の傾きを変更して、最適な傾き
に調整することが可能になるため、乱流の発生をより効
果的に抑制して、ミストや薬品ガスや浮遊するパーティ
クル等のウェーハへの付着を防止し、更なる製造歩留ま
りの向上に寄与することができる。

【００８１】また、これら複数個の羽根４４の断面は、
航空機の翼の断面と同様の形状となっていることによ
り、上記第１の実施形態の場合と同様に、整流された気
流を安定的に発生させることが可能になるため、乱流の
発生をより効果的に抑制してミストや薬品ガスや浮遊す
るパーティクル等のウェーハへの付着を防止し、更なる
製造歩留まりの向上に寄与することができる。

【００８２】更に、これら複数の羽根４４はウェーハ保
持具１４と別個独立に設置されているため、上記第２の
実施形態の場合と同様に、複数の羽根４４の回転方向及
び回転速度についても、ウェーハ保持具１４の回転と同
一又は反対のいずれの方向にも回転することも可能であ
り、ウェーハ保持具１４の回転と同一の速度、より低速
度、より高速度のいずれの速度で回転することも可能で
あるため、上記第１の実施形態の場合と比較すると、羽
根４４の回転方向及び回転速度についての選択の幅が広
くなり、その分だけ洗浄条件の変化等に対応して乱流の
発生をより効果的に抑制することが可能になり、ミスト
や薬品ガスや浮遊するパーティクル等のウェーハへの付
着を防止して、更なる製造歩留まりの向上に寄与するこ
とができる。

【００８３】（第４の実施形態）本発明の第４の実施形
態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置は、上記第１の
実施形態におけるファン、即ちウェーハ保持具１４の外
周部に設置された６個の羽根２２から構成されるファン
の代わりに、ウェーハ保持具の外周部と洗浄チャンバの
内壁との間に設置され、所定の速度で所定の方向に回転
する複数個の羽根車から構成されるファンを具備してい
る点に特徴がある。

【００８４】本実施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置を、図７を用いて説明する。ここで、図７は本実
施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置の主要部を
示す概略断面図である。なお、上記第１の実施形態にお
ける図１〜図４に示す枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置の
構成要素と同一の要素には同一の符号を付して説明を省
略する。

【００８５】本実施形態に係る枚葉スピン式ウェーハ洗
浄装置５０においては、上記第１の実施形態の場合と同
様に、洗浄チャンバ１２内の中央部に、外周チャック方
式のウェーハ保持具１４が設置されている。即ち、この
ウェーハ保持具１４は、モータ（図示せず）に接続され
て回転可能な回転支柱と、この回転支柱から放射状に延
びる６本のスポーク部と、これらのスポーク部の先端に
それぞれ設けられ、ウェーハ１６を水平に保持する段差
部と、これらの段差部上にそれぞれ突起状に設けられ、
回転するウェーハ１６を固定してその飛び出しを防止す
るためのチャック部とから構成される。

【００８６】また、ウェーハ保持具１４の上方には、回
転するウェーハ１６の表面を洗浄するための洗浄液を供
給する洗浄液供給口１８が設置されている。また、洗浄
チャンバ１２の底部には、洗浄チャンバ１２内に供給さ
れた洗浄液等の液体と薬品ガス等の気体を外部に排出す
るための排出口２０が設けられ、別置された排気装置
（図示せず）に接続されている。

【００８７】また、ウェーハ保持具１２の外周部と洗浄
チャンバ１２の内壁との間には、複数個の羽根車５２が
等間隔をおいて設置されている。即ち、ウェーハ保持具
１４に保持されるウェーハ１６の外周部近傍に、複数個
の羽根車５２が同一円周上に等間隔をおいて配置されて
いる。この羽根車５２は、複数個の羽根５４と、これら
複数個の羽根５４を回転させるための小型モータ５６を
有し、これら複数個の羽根５４の回転により、図７中の
矢印Ｆ５に示されるように、下方に流れる気流を発生す
るようになっている。そして、これら複数個の羽根車５
２からファンが構成されている点に本実施形態の特徴が
ある。

【００８８】次に、本実施形態に係る枚葉スピン式ウェ
ーハ洗浄装置５０を用いてウェーハ１６の表面を洗浄す
る動作について説明する。上記第１の実施形態の場合と
同様にして、先ず、洗浄すべきウェーハ１６をウェーハ
保持具１４上に１枚ずつ水平に保持した後、モータを作
動させてウェーハ保持具１４を図７中の矢印Ｒ１に示す
方向に回転させ、ウェーハ保持具１４に保持したウェー
ハ１６を回転させる。また、小型モータ５６を作動させ
て、ウェーハ１６の外周部近傍に同一円周上に等間隔を
おいて配置されている複数個の羽根車５２の各羽根５４
を回転させる。更に、排気装置を作動させ、排出口２０
を介して洗浄チャンバ１２内の下部に負圧を導く。

【００８９】その後、洗浄液供給口１８から回転するウ
ェーハ１６の表面に所定の薬液を供給して、ウェーハ１
６の表面を所定の洗浄液によって洗浄する。続いて、こ
の洗浄の終了後、ウェーハ保持具１４の回転を所定の速
度に変化させ、その回転速度の変化に対応して、複数個
の羽根車５２の各羽根５４の回転速度の変化させた後、
洗浄液供給口１８から回転するウェーハ１６の表面に純
水を供給して、ウェーハ１６の表面を純水によってリン
スする。

【００９０】次いで、このリンスの終了後、ウェーハ１
６の回転を更に高速化し、この高速回転によって振り切
り乾燥を行い、ウェーハ１６の表面を乾燥させる。この
ときも、このウェーハ１６の回転の高速化に対応して、
複数個の羽根車５２の各羽根５４の回転速度を変化させ
る。

【００９１】このような一連の洗浄工程において、ウェ
ーハ１６の表面の洗浄、リンス、及び振り切り乾燥を行
う際に、回転しているウェーハ１６の表面に供給した薬
液や純水が飛び散り、ウェーハ１６の外周部近傍にミス
トが発生する。また、突起状のチャック部を有するウェ
ーハ保持具１４が回転しているため、通常の場合、同じ
場所にかなり大きな乱流が発生する。しかし、本実施形
態の場合は、ウェーハ１６の外周部近傍に、複数個の羽
根車５２が同一円周上に等間隔をおいて配置されてお
り、洗浄チャンバ１２の上のチャンバ１２ｂの回転に伴
って所定の速度で回転しているため、ウェーハ１６の周
囲から下方の排出口２０へ向かう整流された気流が発生
し、羽根車５２が設置されていない通常の場合に発生す
る乱流を抑制してしまう。

【００９２】このようにして、ウェーハ保持具１４の回
転とは別個であるが、所定の速度で羽根車５２の各羽根
５４が回転することにより、ウェーハ保持具１４の回転
に伴う乱流の発生を抑制するため、排気装置（図示せ
ず）に接続された排出口２０を介して洗浄チャンバ１２
内の下部に負圧を導いていることと相まって、図７中の
矢印Ｆ７に示されるように、ウェーハ１６の上方からそ
の外周部近傍に向かう気流は、乱流に巻き込まれること
なくウェーハ１６の外周部近傍を通り抜け、矢印Ｆ８に
示されるように、羽根車５２の各羽根５４から下方の排
出口２０に向かう安定した気流が作り出される。

【００９３】このため、ウェーハ保持具１４の外周部近
傍にミストが発生しても、そのミストはウェーハ１６の
周囲から回転する羽根車５２の各羽根５４によって作り
出された整流された気流に乗って排出口２０から外部に
排出される。また、洗浄チャンバ１２内の薬品ガスや浮
遊するパーティクル等も、同様に回転する羽根車５２の
各羽根５４によって作り出された整流された気流に乗っ
て排出口２０から外部に排出される。このようにして、
ミストや薬品ガスやパーティクル等が乱流に巻き込まれ
てウェーハ１６の表面に付着することはなくなる。

【００９４】このように本実施形態によれば、洗浄の対
象となるウェーハ１６を保持しつつ回転させるウェーハ
保持具１４が外周チャック方式であって、通常はその回
転によって外周部近傍にかなり大きな乱流が発生する場
合であっても、ウェーハ保持具１２の外周部と洗浄チャ
ンバ１２の内壁との間に複数個の羽根車５２が設置さ
れ、これら複数個の羽根車５２が所定の速度で所定の方
向に回転することにより、ウェーハ１６の周囲から下方
の排出口２０へ向かう整流された気流が発生して、羽根
４４が設置されていない通常の場合に発生する乱流を抑
制することができる。

【００９５】このため、上記第１の実施形態の場合と同
様にして、回転するウェーハ１４の周囲に発生するミス
トや洗浄チャンバ内の薬品ガスや浮遊するパーティクル
等は複数の羽根車５２の回転が作り出す整流された気流
に乗って排出口２０から外部に排出され、乱流に巻き込
まれてウェーハに付着することが防止されるため、洗浄
工程におけるウェーハ１４へのミストや薬品ガスやパー
ティクル等の付着に起因する製造歩留まりの低下を防止
することができる。

【００９６】また、このウェーハ１６の周囲から下方の
排出口２０へ向かう整流された気流が発生することによ
り、洗浄チャンバ１２内の下部の負圧を必要以上に強く
して排出口２０からの排出量を増大させなくともよくな
るため、ウェーハ１６の洗浄処理に悪い影響が出ること
を防止することができる。このとき、ウェーハ保持具１
２の外周部と洗浄チャンバ１２の内壁との間に設置され
た複数個の羽根車５２は、ウェーハ１６の外周部近傍に
同一円周上に等間隔をおいて配置されていることによ
り、上記第１の実施形態の場合と同様に、これら複数個
の羽根車５２の回転によって発生する気流は洗浄チャン
バ１２内において均一に整流された気流となるため、乱
流の発生をより効果的に抑制して、ミストや薬品ガスや
浮遊するパーティクル等のウェーハへの付着を防止し、
更なる製造歩留まりの向上に寄与することができる。

【００９７】更に、これら複数の羽根車５２はウェーハ
保持具１４と別個独立に設置されているため、上記第２
の実施形態の場合と同様に、複数の羽根車５２の回転方
向及び回転速度についても、ウェーハ保持具１４の回転
と同一又は反対のいずれの方向にも回転することも可能
であり、ウェーハ保持具１４の回転と同一の速度、より
低速度、より高速度のいずれの速度で回転することも可
能であるため、上記第１の実施形態の場合と比較する
と、羽根車５２の回転方向及び回転速度についての選択
の幅が広くなり、その分だけ洗浄条件の変化等に対応し
て乱流の発生をより効果的に抑制することが可能にな
り、ミストや薬品ガスや浮遊するパーティクル等のウェ
ーハへの付着を防止して、更なる製造歩留まりの向上に
寄与することができる。

【００９８】なお、上記第１〜３の実施形態において
は、羽根２２、３６、４４の形状として、航空機の翼の
断面と同様の断面形状となっている場合について述べた
が、これら羽根２２、３６、４４の形状は、こうした航
空機の翼の形状に限られるものではない。例えば扇風機
の羽根の形状や航空機のプロペラの形状等であってもよ
いし、シロッコバキュームファンのような形状であって
もよい。即ち、その回転によって整流された気流が発生
する形状であれば、どのような形状であってもよい。

【００９９】また、上記第１〜３の実施形態における羽
根２２、３６、４４又は上記第４の実施形態における羽
根車５２の回転によって発生する整流された気流は、い
ずれも下方に向かう場合について述べているが、例えば
羽根２２、３６、４４等の傾きを変えて例えば斜め下方
に向かうようにしてもよい。この場合は、上記上記第１
〜４の実施形態において洗浄チャンバ１２、４２の底部
に設けている排出口２０を洗浄チャンバ１２、４２の側
面に設けて、羽根２２、３６、４４又は羽根車５２から
斜め下方に向かう整流された気流が洗浄チャンバ１２、
４２の側面の排出口２０に達するようにすることが望ま
しい。

【０１００】

【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明に係
る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置によれば、次のような
効果を奏することができる。即ち、請求項１に係る枚葉
スピン式ウェーハ洗浄装置によれば、洗浄チャンバ内に
ファンが設置され、ウェーハ保持具上に保持されつつ回
転するウェーハの周囲から排出口へ向かう整流された気
流を発生させることにより、ウェーハ保持具の回転に伴
ってその外周部近傍に乱流が発生しようとしても、ファ
ンが作り出す整流された気流によって乱流の発生を抑制
することができる。従って、回転するウェーハに供給し
た薬液や純水等の洗浄液が飛び散ってその周囲に発生し
たミストや、洗浄チャンバ内の薬品ガスや浮遊するパー
ティクル等が、ファンが作り出す整流された気流に乗っ
て排出口から外部に排出され、乱流に巻き込まれてウェ
ーハに付着することが防止されるため、洗浄工程におけ
るウェーハへのミストや薬品ガスやパーティクル等の付
着に起因する製造歩留まりの低下を防止することができ
る。

【０１０１】また、請求項２に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置によれば、ファンがウェーハ保持具の外周部
に設置された複数個の羽根から構成され、これら複数個
の羽根はウェーハ保持具と共に同一の速度で同一の方向
に回転することにより、これら複数個の羽根の回転がウ
ェーハの周囲から排出口へ向かう整流された気流を作り
出すため、ウェーハ保持具の回転に伴ってその外周部近
傍に発生しようとする乱流を抑制することができる。従
って、洗浄チャンバ内に発生したミストや薬品ガスや浮
遊するパーティクル等も、ファンを構成する複数個の羽
根の回転が作り出す整流された気流に乗って排出口から
外部に排出され、乱流に巻き込まれてウェーハに付着す
ることを防止することができ、製造歩留まりの向上に寄
与することができる。

【０１０２】また、請求項３に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置によれば、ファンがウェーハ保持具とは別個
に設置された複数個の羽根から構成され、これら複数個
の羽根はウェーハ保持具の回転と同軸上に回転すること
により、これら複数個の羽根の回転がウェーハの周囲か
ら排出口へ向かう整流された気流を作り出すため、ウェ
ーハ保持具の回転に伴ってその外周部近傍に発生しよう
する乱流を抑制することができる。従って、洗浄チャン
バ内に発生したミストや薬品ガスや浮遊するパーティク
ル等も、ファンを構成する複数個の羽根の回転が作り出
す整流された気流に乗って排出口から外部に排出され、
乱流に巻き込まれてウェーハに付着することを防止する
ことができ、製造歩留まりの向上に寄与することができ
る。

【０１０３】また、請求項４に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置によれば、ファンが洗浄チャンバの内壁に設
置された複数個の羽根から構成され、これら複数個の羽
根は洗浄チャンバと共にウェーハ保持具の回転と同軸上
に回転することにより、これら複数個の羽根の回転がウ
ェーハの周囲から排出口へ向かう整流された気流を作り
出すため、ウェーハ保持具の回転に伴ってその外周部近
傍に発生しようする乱流を抑制することができる。従っ
て、洗浄チャンバ内に発生したミストや薬品ガスや浮遊
するパーティクル等も、ファンを構成する複数個の羽根
の回転が作り出す整流された気流に乗って排出口から外
部に排出され、乱流に巻き込まれてウェーハに付着する
ことを防止することができ、製造歩留まりの向上に寄与
することができる。

【０１０４】また、請求項５に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置によれば、ファンがウェーハ保持具や洗浄チ
ャンバとは別個に設置された複数個の羽根車から構成さ
れ、これら複数個の羽根車は所定の速度で所定の方向に
回転することにより、これら複数個の羽根車の回転がウ
ェーハの周囲から排出口へ向かう整流された気流を作り
出すため、ウェーハ保持具の回転に伴ってその外周部近
傍に発生しようとする乱流を抑制することができる。従
って、洗浄チャンバ内に発生したミストや薬品ガスや浮
遊するパーティクル等も、ファンを構成する複数個の羽
根車の回転が作り出す整流された気流に乗って排出口か
ら外部に排出され、乱流に巻き込まれてウェーハに付着
することを防止することができ、製造歩留まりの向上に
寄与することができる。

【０１０５】また、請求項６に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置によれば、ファンを構成する羽根が、ウェー
ハ保持具の外周部近傍の同一円周上に略等間隔をおいて
配置されていることにより、この羽根の回転が作り出す
気流が洗浄チャンバ内において均一に整流された気流と
なるため、乱流の発生をより効果的に抑制してミストや
薬品ガスや浮遊するパーティクル等のウェーハへの付着
を防止し、更なる製造歩留まりの向上に寄与することが
できる。

【０１０６】また、請求項７に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置によれば、ファンを構成する羽根車が、ウェ
ーハ保持具の外周部近傍の同一円周上に略等間隔をおい
て配置されていることにより、この羽根車の回転が作り
出す気流が洗浄チャンバ内において均一に整流された気
流となるため、乱流の発生をより効果的に抑制してミス
トや薬品ガスや浮遊するパーティクル等のウェーハへの
付着を防止し、更なる製造歩留まりの向上に寄与するこ
とができる。

【０１０７】また、請求項８に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置によれば、ファンを構成する羽根が傾倒可能
に設置され、羽根の傾きと方向を自由に調整することが
可能になることにより、個々の装置及び洗浄の際の条件
等に対応して羽根の傾きと方向を最適なものに調整する
ことが可能になるため、乱流の発生をより効果的に抑制
してミストや薬品ガスや浮遊するパーティクル等のウェ
ーハへの付着を防止し、更なる製造歩留まりの向上に寄
与することができる。

【０１０８】また、請求項９に係る枚葉スピン式ウェー
ハ洗浄装置によれば、ファンを構成する羽根の断面が航
空機の翼の断面と略同一の形状となっていることによ
り、こうした断面形状をもつ羽根の回転が整流された気
流が安定的に作り出すため、乱流の発生をより効果的に
抑制して、ミストや薬品ガスや浮遊するパーティクル等
のウェーハへの付着を防止し、更なる製造歩留まりの向
上に寄与することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態に係る枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置の主要部を示す概略断面図である。

【図２】図１の枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置のウェー
ハ保持具及びファンを示す上面図である。

【図３】図２のＡ部のウェーハ保持具及びファンの部分
拡大側面図である。

【図４】図３の右面図である。

【図５】本発明の第２の実施形態に係る枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置の主要部を示す概略断面図である。

【図６】本発明の第３の実施形態に係る枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置の主要部を示す概略断面図である。

【図７】本発明の第４の実施形態に係る枚葉スピン式ウ
ェーハ洗浄装置の主要部を示す概略断面図である。

【図８】従来の枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置の主要部
を示す概略断面図である。

【符号の説明】

１０…枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置、１２…洗浄チャ
ンバ、１４…ウェーハ保持具、１４ａ…回転支柱、１４
ｂ…スポーク部、１４ｃ…段差部、１４ｄ…チャック
部、１６…ウェーハ、１８…洗浄液供給口、２０…排出
口、２２…羽根、３０…枚葉スピン式ウェーハ洗浄装
置、３２…円筒状の回転支柱、３４…スポーク部、３６
…羽根、４０…枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置、４２…
洗浄チャンバ、４２ａ…下のチャンバ、４２ｂ…上のチ
ャンバ、４４…羽根、５０…枚葉スピン式ウェーハ洗浄
装置、５２…羽根車、５４…羽根、５６…モータ。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄チャンバと、前記洗浄チャンバ内に
   設置され、ウェーハを保持しつつ回転するウェーハ保持
   具と、前記洗浄チャンバの下方に設置され、前記洗浄チ
   ャンバ内の気体又は液体を外部に排出するための排出口
   と、を有する枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置であって、 前記ウェーハ保持具上に保持されつつ回転する前記ウェ
   ーハの周囲から前記排出口へ向かう整流された気体の流
   れを発生させるファンが、前記洗浄チャンバ内に設置さ
   れていることを特徴とする枚葉スピン式ウェーハ洗浄装
   置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の枚葉スピン式ウェーハ洗
   浄装置において、 前記ファンが、前記ウェーハ保持具の外周部に設置さ
   れ、前記ウェーハ保持具と共に同一の速度で同一の方向
   に回転する複数個の羽根からなることを特徴とする枚葉
   スピン式ウェーハ洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項１記載の枚葉スピン式ウェーハ洗
   浄装置において、 前記ファンが、前記ウェーハ保持具の回転と同軸上に回
   転する支柱から延びているスポークの先端部に設置さ
   れ、所定の速度で所定の方向に回転する複数個の羽根か
   らなることを特徴とする枚葉スピン式ウェーハ洗浄装
   置。
4. 【請求項４】 請求項１記載の枚葉スピン式ウェーハ洗
   浄装置において、 前記ファンが、前記ウェーハ保持具の回転と同軸上に回
   転する前記洗浄チャンバの内壁に設置され、前記洗浄チ
   ャンバと共に所定の速度で所定の方向に回転する複数個
   の羽根からなることを特徴とする枚葉スピン式ウェーハ
   洗浄装置。
5. 【請求項５】 請求項１記載の枚葉スピン式ウェーハ洗
   浄装置において、 前記ファンが、前記ウェーハ保持具の外周部と前記洗浄
   チャンバの内壁との間に設置され、所定の速度で所定の
   方向に回転する複数個の羽根車からなることを特徴とす
   る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置。
6. 【請求項６】 請求項２乃至４のいずれかに記載の枚葉
   スピン式ウェーハ洗浄装置において、 前記羽根が、前記ウェーハ保持具の外周部近傍の同一円
   周上に略等間隔をおいて配置されていることを特徴とす
   る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置。
7. 【請求項７】 請求項５記載の枚葉スピン式ウェーハ洗
   浄装置において、 前記羽根車が、前記ウェーハ保持具の外周部近傍の同一
   円周上に略等間隔をおいて配置されていることを特徴と
   する枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置。
8. 【請求項８】 請求項２乃至４のいずれかに記載の枚葉
   スピン式ウェーハ洗浄装置において、 前記羽根が、傾倒可能に設置されていることを特徴とす
   る枚葉スピン式ウェーハ洗浄装置。
9. 【請求項９】 請求項２乃至４のいずれかに記載の枚葉
   スピン式ウェーハ洗浄装置において、 前記羽根の断面が、航空機の翼の断面と略同一の形状と
   なっていることを特徴とする枚葉スピン式ウェーハ洗浄
   装置。