JPH11297788A

JPH11297788A - 基板位置検出装置及びこれを備えた基板処理装置

Info

Publication number: JPH11297788A
Application number: JP10600398A
Authority: JP
Inventors: Tsutomu Kamiyama; 勉上山
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-04-16
Filing date: 1998-04-16
Publication date: 1999-10-29
Anticipated expiration: 2018-04-16
Also published as: JP3938247B2

Abstract

(57)【要約】【課題】簡易な構成で面内の中心位置を検出して位置
合わせを行うことができる基板位置検出装置を提供す
る。【解決手段】基台１と、支持アーム９と、進退用モー
タ１ｂと、円形基板Ｗの外形に合わせて円弧状に、か
つ、支持アーム９に支持された円形基板Ｗを搬送して、
その中心位置が搬送先の目標位置に一致する場合の円形
基板Ｗの中心位置に前記円弧の中心が一致するように配
設され、円形基板Ｗの周縁を検出する周縁検出部１７ａ
〜１７ｄとを備え、各周縁検出部１７ａ〜１７ｄが周縁
を検出した時点における駆動距離と、各周縁検出部１７
ａ〜１７ｄの取り付け位置とに基づき円形基板Ｗの中心
位置と基準中心位置からの偏差を求め、この偏差を打ち
消すように進退用モータ１ｂ及び基台１を制御して搬送
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハなど
の平面視円形状に形成されている円形基板の面内におけ
る中心位置を検出する基板位置検出装置及びこれを備え
た基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板位置検出装置（プリ
アライメントステーションとも呼ばれる）では、例え
ば、回転支持部に円形基板を支持させ、この円形基板を
回転させながら周縁部のぶれを一次元イメージセンサで
検出することによって面内における中心位置を求めた
り、撮像デバイスを用いて円形基板の表面全体を撮影
し、画像処理を行って中心位置を求めることが行われて
いる。このようにして求められた中心位置が、そのまま
の状態で円形基板を搬送すれば搬送先の目標位置に一致
する基準中心位置にあればよいが、これらは種々の要因
によってずれている場合がある。この場合には、基板処
理装置などに配備されている基板処理部や基板収納部な
どの搬送先において不都合が生じるので、これを防止す
るために円形基板の中心位置を基準中心位置に整合させ
る位置合わせを行うようになっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、基板を回転させる
機構や、一次元イメージセンサやビデオカメラなどのデ
バイスを必要とするので、装置構成が複雑化するという
欠点がある。

【０００４】また、このような基板位置検出装置を備え
た基板処理装置は、未処理の円形基板や処理済みの円形
基板を収納する基板収納部と、円形基板を回転させつつ
行う塗布処理や現像処理、または加熱処理などを行う複
数個の基板処理部と、基板収納部と基板処理部の間や、
基板処理部の間で円形基板を搬送する基板搬送機構とを
備えているのが一般的である。

【０００５】基板搬送機構は、搬送途中において、一
旦、支持している円形基板を基板位置検出装置に搬送す
る。ここで検出された円形基板の中心位置が基準中心位
置からずれている場合には、回転処理時のぶれや、収納
時に円形基板の周縁部が基板収納部の部材と摺動してパ
ーティクルが生じる不都合を防止するため、円形基板の
中心位置が基準中心位置に一致するように位置合わせを
行った上で基板搬送機構に支持させる。このように円形
基板を処理する際には、搬送途中で位置合わせを行うた
めに必ず基板位置検出装置を経由する必要があるので、
スループットが低下するという問題がある。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、円形基板を移動した際に円弧状の少な
くとも３箇所の位置を検出することにより、簡易な構成
で面内の中心位置を検出して位置合わせを行うことがで
きる基板位置検出装置を提供することを目的とする。

【０００７】また、本発明のもう一つの目的は、位置合
わせのために特定の場所へ円形基板を搬送することなく
搬送時に位置合わせを行うことによってスループットを
向上させることができる基板処理装置を提供することを
目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板位置検出装置は、円形基板の
面内における中心位置を検出する基板位置検出装置であ
って、円形基板の外形に合わせて円弧状に、かつ、円形
基板が目標位置にある場合に円形基板の中心位置に前記
円弧の中心が一致するように配設され、円形基板の周縁
を検出する少なくとも３個の周縁検出手段と、円形基板
が移動した際に、前記各周縁検出手段が円形基板の周縁
を検出した時点における円形基板の移動距離と、前記各
周縁検出手段の取り付け位置とに基づいて円形基板の中
心位置を求めるとともに、前記円弧の中心を基準とした
基準中心位置からの偏差を求める制御手段とを備えてい
ることを特徴とするものである。

【０００９】また、請求項２に記載の基板位置検出装置
は、請求項１に記載の基板位置検出装置において、前記
周縁検出手段を４個備えていることを特徴とするもので
ある。

【００１０】また、請求項３に記載の基板処理装置は、
円形基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であっ
て、水平面内で移動自在に構成された基台と、前記基台
に配設され、円形基板を水平姿勢で支持する支持アーム
と、前記支持アームを進退駆動する進退駆動手段とを有
する基板搬送機構と、円形基板に対して所定の処理を施
す基板処理部と、円形基板の外形に合わせて円弧状に、
かつ、前記支持アームに支持された円形基板が搬送先の
目標位置にある場合に円形基板の中心位置に前記円弧の
中心が一致するように配設され、円形基板の周縁を検出
する少なくとも３個の周縁検出手段と、前記基板搬送機
構の支持アームを進退させた際に、前記各周縁検出手段
が前記支持アームに支持されている円形基板の周縁を検
出した時点における前記進退駆動手段の駆動距離と、前
記各周縁検出手段の取り付け位置とに基づいて前記支持
アームに支持されている円形基板の中心位置を求めると
ともに、前記円弧の中心を基準とした基準中心位置から
の偏差を求め、この偏差を打ち消すように前記基板搬送
機構を制御して前記円形基板を前記基板処理部に搬送さ
せる制御手段とを備えていることを特徴とするものであ
る。

【００１１】また、請求項４に記載の基板処理装置は、
請求項３に記載の基板処理装置において、前記各周縁検
出手段を前記基台に配設したことを特徴とするものであ
る。

【００１２】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。周縁検出手段は、目標位置にある円形基板の外形に
合わせて円弧状に配設され、その個数は少なくとも３個
であるので、これらの位置関係から予め円弧の中心が決
まっている。さらに円弧の中心は、円形基板が目標位置
にある場合の円形基板の中心位置に一致する基準中心位
置となるように設定されている。円形基板が移動する
と、円形基板の周縁が各周縁検出手段によって検出され
る。制御手段は、各周縁検出手段が円形基板の周縁を検
出した時点における円形基板の移動距離と、予め位置が
判っている各周縁検出手段の取り付け位置とに基づいて
円形基板の中心位置を求め、予め判っている基準中心位
置からの偏差を求める。そして、この偏差を打ち消すよ
うに円形基板を搬送すれば、円形基板の中心位置が基準
中心位置に一致した状態で搬送した場合と同じ結果とな
るように搬送することができる。

【００１３】また、請求項２に記載の発明によれば、円
形基板の周縁部には結晶方位などを示すＶの字状の切欠
き（ノッチ）が形成されているため、３個の端縁検出手
段のうちのいずれかが円形基板の周縁を間違って検出す
る場合があるが、４個の周縁検出手段を設けておけば少
なくとも３箇所の周縁位置を正常に検出できる。

【００１４】また、請求項３に記載の発明によれば、円
形基板を支持している基板搬送機構の支持アームが進退
駆動手段によって進退されると、円形基板の周縁が各周
縁検出手段によって検出される。制御手段は、各周縁検
出手段が円形基板の周縁を検出した時点における進退駆
動手段による駆動距離と、各周縁検出手段の取り付け位
置とに基づいて支持アームに支持されている円形基板の
中心位置を求めることができる。そこで、予め判ってい
る基準中心位置からの偏差を求め、この偏差を打ち消す
ように基板搬送機構を制御して円形基板を基板処理部に
搬送することにより、円形基板の中心位置が基準中心位
置に一致した状態で搬送した場合と同じ結果となるよう
に搬送することができる。

【００１５】また、請求項４に記載の発明によれば、支
持アームと共に移動する基台に各周縁検出手段を配設し
たので、水平面内で移動自在の基台がどのような位置に
あっても支持アームを進退すれば中心位置を検出するこ
とができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。＜基板位置検出装置＞図１は本発明に係る基板位置検出
装置の概略構成を示す平面図であり、図２はその側面
図、図３はその正面図である。

【００１７】平面視で円形状を呈する円形基板Ｗは、基
台１の上部に配備された屈伸アーム３によって水平姿勢
で支持される。基台１は、旋回用モータ１ａを駆動する
ことにより屈伸アーム３ごと旋回軸Ｐ０周りに旋回可能
に構成されている。屈伸アーム３は、基台１の上部に回
転軸Ｐ１周りで回転自在に取り付けられた第１アーム５
と、この第１アーム５の先端部の回転軸Ｐ２にて回転自
在に取り付けられた第２アーム７と、この第２アーム７
の先端部の回転軸Ｐ３周りに回転自在に取り付けられた
支持アーム９とを備えている。基台１に内蔵された進退
用モータ１ｂを回転駆動することにより、第１アーム５
が回転軸Ｐ１周りに回転し、第２アーム７が回転軸Ｐ２
周りに第１アーム５と反対方向に回転し、支持アーム９
が回転軸Ｐ３周りに第２アーム７と反対方向に回転する
ように、第１アーム５と、第２アーム７と、支持アーム
９にはタイミングベルト（図示省略）が架け渡されてい
る。その結果、支持アーム９が直線的に進退（図中の二
点鎖線）するようになっている。支持アーム９の先端側
には、Ｕの字状の支持部９ａが形成されている。この支
持部９ａの上面には４個の突起９ｂが形成されており、
円形基板Ｗを点接触で当接支持するようになっている。

【００１８】なお、上記の進退用モータ１ｂと、第１ア
ーム５と、第２アーム７とは、本発明の進退駆動手段に
相当するものである。

【００１９】基台１の上面で支持アーム９が進退する方
向には、門型フレーム１１が取り付けられている。この
門型フレーム１１の中央部分は、円形基板Ｗの周縁部分
を覆うように平面視円弧状に形成され、この部分に４個
の投光部１３が下方に向けて光を照射するように埋設さ
れている。また、各投光部１３に対向する位置には、上
方からの照射光を受光する４個の受光部１５が埋設され
ている。対向している投光部１３と受光部１５は、一対
で周縁検出部１７（図１中に示すように上部から第１〜
第４検出部１７ａ〜１７ｄ）を構成し、各周縁検出部１
７は本発明における周縁検出手段に相当する。なお、周
縁検出部１７は、円形基板Ｗの周縁が検出できればよ
く、その構成は、上記の投光部１３と受光部１５とを互
いに逆に取り付けた構成でもよく、また反射型センサで
構成するようにしてもよい。

【００２０】周縁検出部１７の構成について図４を参照
して説明する。投光部１３は、赤外発光ダイオードやレ
ーザーなどの光源部１３ａと、光源部１３ａからの照射
光を収束するレンズ１３ｂとを備えている。また、受光
部１５は、照射光を収束するレンズ１５ａと、収束され
た照射光を受ける２分割センサ１５ｂとを備えている。
この２分割センサ１５ｂは、図５（ａ）に示すように、
その受光部分が第１受光部１５ｂａと第２受光部１５ｂ
ｂの２つに分割されている。

【００２１】各周縁検出部１７（１７ａ〜１７ｄ）は、
図６に示すように制御部２１に接続されており、各受光
部１５の信号が制御部２１に与えられるようになってい
る。この制御部２１には、上述した旋回用モータ１ａ
と、進退用モータ１ｂと、後述する数式や制御プログラ
ムなどを格納したメモリ２３も接続されている。

【００２２】２分割センサ１５ｂの第１受光部１５ｂａ
と、第２受光部１５ｂｂからの信号Ａ，Ｂは、図５
（ｂ）に示すように円形基板Ｗの周縁（二点鎖線で示
す）と２分割センサ１５ｂとの位置関係に応じて変化す
る。

【００２３】すなわち、円形基板Ｗの周縁がｔ１の位置
にある場合には、第１受光部１５ｂａ，第２受光部１５
ｂｂともに全面に投光部１３からの照射光が入射するの
で、図５（ｂ）に示すように第１受光部１５ｂａからの
信号Ａ（図中の実線）も第２受光部１５ｂｂからの信号
Ｂ（図中の点線）とも同じ信号レベルである。円形基板
Ｗの周縁がｔ１からｔ２の位置に移動してくると、第２
受光部１５ｂｂの受光面積が次第に減って遂にはゼロと
なるので、信号Ａは不変であるが信号Ｂが次第に減少し
てゼロとなる。さらに円形基板Ｗの周縁がｔ２からｔ３
の位置にくると、第１受光部１５ｂａの受光面積が次第
になってゼロとなるため、第１受光部１５ｂａからの信
号Ａも次第に減少してゼロとなる。

【００２４】制御部２１は、上記の信号Ａ，Ｂに基づい
て出力信号Ｒ＝（Ａ−Ｂ）／（Ａ＋Ｂ）を求める。この
出力信号Ｒは、図５（ｂ）中に一点鎖線で示した信号
（Ａ−Ｂ）および二点鎖線で示した信号（Ａ＋Ｂ）から
明らかなように、図５（ｃ）のようになる。このように
して２分割センサ１５ｂの第１受光部１５ｂａと第２受
光部１５ｂｂとの信号Ａ，Ｂから求めた出力信号Ｒを監
視し、信号レベルが『１』となった時点で制御部２１は
円形基板Ｗの周縁検出時と判断するようになっている。
このように制御部２１は、２分割センサ１５ｂからの信
号Ａ，Ｂを正規化して周縁検出を判断する出力信号Ｒを
求めているので、経時変化などで投光部１３の光強度が
変動してもその影響を受けることなく正確に周縁を検出
することができる。

【００２５】なお、投光部１３の光強度変化を補償でき
るのであれば、受光部１５の２分割センサ１５ｂに代え
て受光部が１つのものを採用してもよい。

【００２６】図７を参照する。第１周縁検出部１７ａ〜
第４周縁検出部１７ｄは、円形基板Ｗの外形に合わせ
て、半径ｒの円弧状となるように門型フレーム１１に取
り付けられているが、それらの中心位置は、支持アーム
９に支持された円形基板Ｗを搬送した際に、その中心位
置ＣＰが搬送先の目標位置ＣＰ_oに一致する場合におけ
る中心位置ＣＰの軌跡上に位置する基準中心位置ＣＰ
_refとなるように設定されている。なお、第１周縁検出
部１７ａ，第２周縁検出部１７ｂ，第３周縁検出部１７
ｃ，第４周縁検出部１７ｄの各取り付け位置は、Ｌ１
（ｘ１，ｙ１）、Ｌ２（ｘ２，ｙ２）、Ｌ３（ｘ３，ｙ
３）、Ｌ４（ｘ４，ｙ４）であるものとする。

【００２７】上記の基準中心位置ＣＰ_ref（ｘ，ｙ）
は、各周縁検出部１７ａ〜１７ｄの取り付け位置Ｌ１〜
Ｌ４から次のようにして求めることができる。

【００２８】第１周縁検出部１７ａと、第２周縁検出部
１７ｂと、第３周縁検出部１７ｃとを用い、中心位置Ｃ
Ｐ_refから第１周縁検出部１７ａと第２周縁検出部１７
ｂまでのそれぞれの距離が半径ｒに等しく同じ距離であ
るとすると、次の（１）式が成り立つ。（ｘ１−ｘ）²−（ｙ１−ｙ）²＝（ｘ２−ｘ）²−（ｙ２−ｙ）² ……… （１）

【００２９】同様に、中心位置ＣＰ_refから第２周縁検
出部１７ｂと第３周縁検出部１７ｃまでのそれぞれの距
離が半径ｒに等しく同じ距離であるとすると、次の
（２）式が成り立つ。（ｘ２−ｘ）²−（ｙ２−ｙ）²＝（ｘ３−ｘ）²−（ｙ３−ｙ）² ……… （２）

【００３０】さらに、中心位置ＣＰ_refから第１周縁検
出部１７ａと第３周縁検出部１７ｃまでのそれぞれの距
離が半径ｒに等しく同じ距離であるとすると、次の
（３）式が成り立つ。（ｘ１−ｘ）²−（ｙ１−ｙ）²＝（ｘ３−ｘ）²−（ｙ３−ｙ）² ……… （３）

【００３１】上記の（１）〜（３）式の関係から基準中
心位置ＣＰ_refのｘ座標，ｙ座標及びその半径ｒは、次
の式によって求めることができる。

【００３２】

【数１】

【００３３】上記のようにして求められる基準中心位置
ＣＰ_refは、メモリ２３に予め格納されている。また、
メモリ２３には、位置ずれがない状態で円形基板Ｗを搬
送した場合に、各周縁検出部１７によって周縁が同時に
検出されたときの進退用モータ１ｂの駆動量も記憶され
ている。

【００３４】詳細は後述するが、制御部２１は、上記の
ように取り付けられている第１周縁検出部１７ａ〜第４
周縁検出部１７ｄの４個の周縁検出部１７の位置関係Ｌ
１〜Ｌ４と、それらが円形基板Ｗの周縁を検出した時点
における進退用モータ１ｂの駆動量の各々と、上記の数
式とに基づいて、支持アーム９に支持されている円形基
板Ｗの中心位置（ＣＰ’）を求めることができる。そこ
で、予め判っている基準中心位置ＣＰ_refからの偏差
（ΔＣＰ）を求め、この偏差（ΔＣＰ）を打ち消すよう
に基台１と進退用モータ１ｂを制御することにより、円
形基板Ｗを進出させた際にその中心位置（ＣＰ’）が基
準中心位置ＣＰ_refとずれた状態であったとしても、そ
れらが一致した状態の円形基板Ｗを搬送した場合と同じ
結果にすることができる。

【００３５】次に、図８のフローチャートを参照して、
上記のように構成された基板位置検出装置の動作につい
て説明する。

【００３６】なお、円形基板Ｗは、図９に示すように支
持アーム９に支持されているが、その中心位置ＣＰ’
は、搬送した際に目標位置ＣＰ_Oに一致する中心位置
（ＣＰ）とＸ，Ｙのそれぞれの方向にある距離だけずれ
ているものとし、このずれがΔＣＰであるとする。

【００３７】ステップＳ１（周縁検出）制御部２１は、第１周縁検出部１７ａ〜第４周縁検出部
１７ｄの全ての周縁検出部１７が円形基板Ｗの周縁を検
出するまで、進退用モータ１ｂを駆動して円形基板Ｗを
門型フレーム１１側に進出させる。上述したように円形
基板Ｗが支持部９ａに位置ずれした状態で支持されてい
るため、この例では、まず第１周縁検出部１７ａが周縁
を検出し（図９に示した状態）、次いで第２周縁検出部
１７ｂ、第３周縁検出部１７ｃ、第４周縁検出部１７ｄ
の順に周縁を検出してゆくことになる。

【００３８】ステップＳ２（中心位置と半径を求める）第１周縁検出部１７ａが周縁を検出した時点の進退用モ
ータ１ｂの駆動量と、メモリ２３に格納されている位置
ずれが無い場合の駆動量との差分を求め、同様に第２周
縁検出部１７ｂ、第３周縁検出部１７ｃ、第４周縁検出
部１７ｄについても駆動量の差分を求める。これらのＹ
座標の差分を、上述した基準中心位置ＣＰ_refを求める
数式の各周縁検出部１７のＹ座標（ｙ１〜ｙ４）から差
し引いた新たな座標値を用いて中心位置ＣＰ’のｘ，ｙ
座標と半径ｒを求める。周縁検出部１７が４個配設され
ているため、中心を求めるのに必要な３個の組み合わせ
は４通りである。そこで、中心位置および半径を上述し
た数式に基づく４通りの式から求めておく。

【００３９】ステップＳ３（半径が誤差範囲を越える
？）円形基板Ｗの周縁にはノッチが形成されている場合があ
るが、この部分に周縁検出部１７が位置すると、正確に
中心を求めることができない。そこで、ノッチの影響を
除去するために、求めた４つの半径ｒを比較する。そし
て、求めた半径ｒが誤差範囲を越えている場合にはステ
ップＳ４に処理を移行し、それとともに求めた中心位置
を後の処理から除外する。

【００４０】ステップＳ５（偏差を求める）ステップＳ３から処理が移行してきた場合には４個の中
心位置ＣＰ’、ステップＳ４から処理が移行したきた場
合には３個の中心位置ＣＰ’のうちのいずれかを用いて
基準中心位置ＣＰ_refとの偏差ΔＣＰを求める。

【００４１】ステップＳ６（偏差を打ち消すように搬送
する）制御部２１は、上記のようにして求めた偏差ΔＣＰを打
ち消すように旋回用モータ１ａと進退用モータ１ｂとを
制御し、位置ずれした状態で支持アーム９に支持されて
いる円形基板Ｗを搬送する（図１０参照）。具体的に
は、図９に示すように位置ずれした状態における目標位
置ＣＰ_Oと回転軸Ｐ０との角度偏差がΔθであるので、
この角度偏差Δθを打ち消すように制御部２１が旋回用
モータ１ａを駆動する。次いで、偏差ΔＣＰに応じて進
退用アーム１ｂの進出距離を制御することにより、円形
基板Ｗの中心位置ＣＰ’が目標位置ＣＰ_Oに一致するよ
うに搬送することができる。

【００４２】なお、上記の実施例では、基台１を旋回用
モータ１ａにより旋回するように構成したが、水平方向
（左右／前後）に移動自在に構成してもよい。この場合
には、偏差ΔＣＰに応じて基台１を左右に移動するとと
もに偏差ΔＣＰに応じて支持アーム９を進出させればよ
い。また、上記のような屈伸アーム３に代えて屈伸する
ことなく直線的に進退する支持アーム９で構成してもよ
い。

【００４３】また、上記の説明では、円形基板Ｗを目標
位置ＣＰ_Oに進出させる際に中心位置ＣＰ’を検出する
ようにしているが、円形基板Ｗを目標位置ＣＰ_Oから退
出させる際に中心位置ＣＰ’を検出し、次なる目標位置
ＣＰ_Oに円形基板Ｗを進出させる際に位置調整をするよ
うにしてもよい。

【００４４】また、基板１と、周縁検出部１７を備えた
門型フレーム１１とを別体にして基板位置検出装置を構
成するようにしてもよい。

【００４５】＜基板処理装置＞上記のような基板位置検
出装置を備えた基板処理装置について図１１を参照して
説明する。なお、この図は基板処理装置の概略構成を示
す平面図である。

【００４６】この基板処理装置１００は、上述した基板
位置検出装置を備えた基板搬送機構１１０を中央部に有
し、その周囲に、未処理あるいは処理済みの円形基板Ｗ
を積層収納する基板収納部１３０と、回転塗布処理や回
転現像処理などを行う基板処理部１５０を配備して構成
されている。

【００４７】このように構成されている基板処理装置１
００では、円形基板Ｗを基板搬送機構１１０が搬送する
際に、円形基板Ｗが必ず周縁検出部１７を備えた門型フ
レーム１１の下方を通過するので、この時に上述したよ
うにして円形基板Ｗの中心位置ＣＰ’を求め、偏差ΔＣ
Ｐを求める。そして、その偏差ΔＣＰを打ち消すように
搬送することによって、搬送途中で位置検出をしながら
位置ずれを補正して搬送することができ、円形基板Ｗの
中心位置ＣＰ’と目標中心位置ＣＰ_Oとを一致させるこ
とができる。したがって、基板搬送機構１１０が基板処
理装置１００のどの位置にあっても円形基板Ｗの位置検
出が可能であり、従来装置のように位置検出を行うため
に特定の位置（アライメントユニット）に移動する必要
がなく、スループットを向上させることができる。

【００４８】なお、上記装置では、基板搬送機構１１０
が基板位置検出装置と一体となっているが、これらが図
１２に示す基板処理装置２００のように別体で構成され
てもよい。

【００４９】すなわち、基板搬送機構２１０と、基板収
納部２３０と、基板処理部２５０とを備え、周縁検出部
１７を備えた門型フレーム１１を基板収納部２３０と、
基板処理部２５０の搬送経路上に配備して構成する。こ
のように構成した装置では、例えば、基板搬送機構２１
０が円形基板Ｗを基板収納装置２３０から搬出して、そ
の円形基板Ｗを基板処理部２５０に搬入する際に、偏差
ΔＣＰに応じて基台１および支持アーム９を制御すれば
よい。

【００５０】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の基板位置検出装置によれば、円形基板を移動
した際に円弧状の少なくとも３箇所の位置を検出するよ
うに構成したので、簡易な構成で面内の中心位置を検出
することができる。したがって、円形基板を搬送して中
心位置が目標位置に一致する場合の基準中心位置と中心
位置との偏差を求め、この偏差を打ち消すように円形基
板を搬送することによって円形基板の中心位置が目標位
置に一致するように位置合わせを行うことができる。

【００５１】また、請求項２に記載の基板位置検出装置
によれば、４個の周縁検出手段を設けておけばノッチが
あっても少なくとも３箇所の周縁位置を正常に検出でき
るので、正常に円形基板の中心位置を検出することがで
きる。したがって、ノッチに起因する不都合を回避でき
る。

【００５２】また、請求項３に記載の基板処理装置によ
れば、円形基板を搬送して中心位置が搬送先の目標位置
に一致する場合の基準中心位置との偏差を求め、この偏
差を打ち消すように基板処理部に円形基板を搬送するこ
とによって円形基板の中心位置が目標位置に一致するよ
うに位置合わせを行うことができる。したがって、位置
合わせのために一旦、特定の場所にまで円形基板を搬送
する必要がなく、スループットを向上させることができ
る。

【００５３】また、請求項４に記載の基板処理装置によ
れば、基台がどのような位置にあっても支持アームを進
退すれば円形基板の中心位置を検出することができ、素
早く中心位置を求めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板位置検出装置の概略構成を示
す平面図である。

【図２】基板位置検出装置の側面図である。

【図３】基板位置検出装置の正面図である。

【図４】周縁検出部の概略構成を示す図である。

【図５】２分割センサと円形基板の位置関係による出力
変化を説明する図である。

【図６】制御系の概略構成を示すブロック図である。

【図７】各周縁検出部の配置を説明する図である。

【図８】動作を示すフローチャートである。

【図９】円形基板が位置ずれした状態を説明する図であ
る。

【図１０】搬送の説明に供する図である。

【図１１】本発明に係る基板処理装置の概略構成を示す
平面図である。

【図１２】基板処理装置の変形例を示す平面図である。

【符号の説明】

Ｗ … 円形基板１ … 基台１ｂ … 進退用モータ（進退駆動手段）５ … 第１アーム（進退駆動手段）７ … 第２アーム（進退駆動手段）９ … 支持アーム１１ … 門型フレーム１３ … 投光部１５ … 受光部１７ … 周縁検出部（周縁検出手段）１７ａ … 第１周縁検出部１７ｂ … 第２周縁検出部１７ｃ … 第３周縁検出部１７ｄ … 第４周縁検出部２１ … 制御部（制御手段）２３ … メモリＣＰ … 中心位置ＣＰ_ref … 基準中心位置ＣＰ_O … 目標位置１００，２００ … 基板処理装置１１０，２１０ … 基板搬送機構１３０，２３０ … 基板収納部１５０，２５０ … 基板処理部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円形基板の面内における中心位置を検出
する基板位置検出装置であって、円形基板の外形に合わせて円弧状に、かつ、円形基板が
目標位置にある場合に円形基板の中心位置に前記円弧の
中心が一致するように配設され、円形基板の周縁を検出
する少なくとも３個の周縁検出手段と、円形基板が移動した際に、前記各周縁検出手段が円形基
板の周縁を検出した時点における円形基板の移動距離
と、前記各周縁検出手段の取り付け位置とに基づいて円
形基板の中心位置を求めるとともに、前記円弧の中心を
基準とした基準中心位置からの偏差を求める制御手段と
を備えていることを特徴とする基板位置検出装置。
【請求項２】請求項１に記載の基板位置検出装置にお
いて、前記周縁検出手段を４個備えていることを特徴と
する基板位置検出装置。
【請求項３】円形基板に対して所定の処理を施す基板
処理装置であって、水平面内で移動自在に構成された基台と、前記基台に配
設され、円形基板を水平姿勢で支持する支持アームと、
前記支持アームを進退駆動する進退駆動手段とを有する
基板搬送機構と、円形基板に対して所定の処理を施す基板処理部と、円形基板の外形に合わせて円弧状に、かつ、前記支持ア
ームに支持された円形基板が搬送先の目標位置にある場
合に円形基板の中心位置に前記円弧の中心が一致するよ
うに配設され、円形基板の周縁を検出する少なくとも３
個の周縁検出手段と、前記基板搬送機構の支持アームを進退させた際に、前記
各周縁検出手段が前記支持アームに支持されている円形
基板の周縁を検出した時点における前記進退駆動手段の
駆動距離と、前記各周縁検出手段の取り付け位置とに基
づいて前記支持アームに支持されている円形基板の中心
位置を求めるとともに、前記円弧の中心を基準とした基
準中心位置からの偏差を求め、この偏差を打ち消すよう
に前記基板搬送機構を制御して前記円形基板を前記基板
処理部に搬送させる制御手段とを備えていることを特徴
とする基板処理装置。
【請求項４】請求項３に記載の基板処理装置におい
て、前記各周縁検出手段を前記基台に配設したことを特
徴とする基板処理装置。