JPH11297882A - 半導体装置,その製造方法,電子装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置,その製造方法,電子装置およびその製造方法

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JPH11297882A
JPH11297882A JP10100865A JP10086598A JPH11297882A JP H11297882 A JPH11297882 A JP H11297882A JP 10100865 A JP10100865 A JP 10100865A JP 10086598 A JP10086598 A JP 10086598A JP H11297882 A JPH11297882 A JP H11297882A
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substrate
semiconductor device
main surface
wiring
semiconductor chip
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JP10100865A
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Atsushi Furuido
敦 古井戸
Hideyuki Usuha
英幸 薄葉
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Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
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Hitachi Ltd
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • HELECTRICITY
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 実装基板に対する突起電極の電気的接続の良
否を簡単に測定する。半導体チップに熱的損傷を与える
ことなく半導体装置を実装する。 【解決手段】 主面および裏面ならびに主面と裏面に亘
って配線を有する基板と、前記基板の主面に固定される
少なくとも一つの半導体チップまたは少なくとも一つの
半導体チップを含む複数の電子部品と、前記半導体チッ
プの電極と基板の配線を電気的に接続する接続手段と、
前記基板の主面に設けられ前記半導体チップや前記接続
手段を被う封止体と、前記基板の裏面の各配線に固定さ
れた突起電極とを有する半導体装置であって、前記突起
電極が固定される配線には一端が前記基板の主面に対面
する封止体主面に露出する導電性の補助端子が電気的に
固定されている。前記補助端子は熱伝導性が良好な棒状
のピンで形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の製造技
術およびその半導体装置を組み込んだ電子装置の製造技
術に関し、特に基板の主面側に封止体を有し、基板の裏
面側にボール電極やリード等の突起電極を有する半導体
装置における実装後の突起電極の電気的接続の良否測定
技術やリペア技術、さらには実装技術に適用して有効な
技術に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置(半導体集積回路装置)の一
つとして、フェイスダウンボンディング法によって電子
装置の実装基板等に固定するデバイスが知られている。
【0003】このようなフェイスダウンボンディング法
による実装形態をとる半導体装置の一つとして、封止体
(パッケージ)の実装面側にバンプ電極(ボール電極)
をアレイ状に配置したいわゆるボールグリッドアレイ
(BGA)型半導体装置や、リード・ピンを取り付けた
ピングリッドアレイ(PGA)型半導体装置が知られて
いる。
【0004】BGA型半導体装置については、たとえ
ば、工業調査会発行「電子材料」1996年4月号、P90〜
P97に記載されている。この文献には、マイクロプロセ
ッサ向けプラスチックBGA(PBGA)について記載
されている。
【0005】また、PGAについては、日経BP社発行
「日経エレクトロニクス」1993年8月2日号、P109およ
びP110に記載されている。
【0006】一方、特願平6-103737号公報には、偏平な
樹脂封止体の実装面に複数の突起電極を有するととも
に、前記樹脂封止体の周縁には突出した端子が設けられ
た樹脂封止型半導体装置が開示されている。
【0007】この樹脂封止型半導体装置においては、実
装後、検査装置の測定端子を前記端子に接触させること
によって、前記突起電極間の短絡を検査することができ
る。また、同文献には、実装後、電源経路に変更が生じ
た場合、前記端子にジャンパー配線を接続してデバック
効率を高める技術についても開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】BGA型半導体装置の
実装基板への実装においては、従来突起電極はリフロー
によって一括して固定されている。また、BGA型半導
体装置の実装評価は、X線等による透視方法が採用され
ている。
【0009】したがって、実装時には、BGA型半導体
装置全体が熱に晒されるため、パッケージ内に封止され
た半導体チップも加熱される。この結果、半導体チップ
に構成されるLSI等の回路(素子)全体が熱ストレス
を受け、素子劣化を引き起こすおそれもある。
【0010】また、突起電極はパッケージの下面の実装
面側にあり、この突起電極はフェイスダウンボンディン
グによって実装基板に固定されるため、前記文献のよう
に特別の測定端子を設けない限り、突起電極の実装基板
との接続の良否の測定は直接行えない不便さがあった。
【0011】また、実装基板に一度実装したBGA型半
導体装置を、実装不良から取り替えるいわゆるリペア作
業におけるBGA型半導体装置の取り外しにおいても、
実装基板とBGA型半導体装置の接続部分全体に加熱気
体を吹き付けて、突起電極部分を溶融し、その後BGA
型半導体装置を実装基板から取り外す等の手段しかな
く、取り外しも時間を要することになる。
【0012】本発明の目的は、実装基板に対する半導体
装置の突起電極の電気的接続の良否が簡単に測定できる
半導体装置および電子装置ならびにそれらの製造方法を
提供することにある。
【0013】本発明の他の目的は、半導体チップに熱的
損傷を与えることなく半導体装置の突起電極の溶融が達
成できる半導体装置および電子装置ならびにそれらの製
造方法を提供することにある。
【0014】本発明の他の目的は、熱放散性の良好な半
導体装置およびその半導体装置を有する電子装置ならび
にそれらの製造方法を提供することにある。本発明の前
記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の
記述および添付図面からあきらかになるであろう。
【0015】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。 (1)主面および裏面ならびに主面と裏面に亘って配線
を有する基板と、前記基板の主面に固定される少なくと
も一つの半導体チップまたは少なくとも一つの半導体チ
ップを含む複数の電子部品と、前記半導体チップの電極
と基板の配線を電気的に接続する接続手段と、前記基板
の主面に設けられ前記半導体チップや前記接続手段を被
う封止体と、前記基板の裏面の各配線に固定された突起
電極とを有する半導体装置であって、前記突起電極が固
定される配線には一端が前記基板の主面に対面する封止
体主面に露出する導電性の補助端子が電気的に固定され
ている。前記補助端子は熱伝導性が良好な材質で形成さ
れている。前記補助端子は棒状のピンからなり、前記封
止体を貫通して前記突起電極が固定される配線に電気的
にかつ機械的に接続されている。
【0016】(2)前記手段(1)の構成において、前
記補助端子の露出側の端面には窪みが設けられている。
【0017】(3)前記手段(1)または(2)の構成
において、前記封止体主面には前記補助端子を被う絶縁
性のテープが張り付けられている。
【0018】(4)前記手段(1)または(2)の構成
において、前記補助端子の露出端は放熱部を構成してい
る。
【0019】このような半導体装置は、以下の方法によ
って製造される。基板の主面に半導体チップまたは半導
体チップを含む電子部品を搭載する工程と、前記半導体
チップの電極と基板主面の配線を電気的に接続する工程
と、前記突起電極が固定される配線の基板主面側に補助
端子を電気的かつ機械的に固定する工程と、前記基板の
主面側を前記補助端子の一端が露出するように封止体で
被う工程と、前記基板裏面の配線に突起電極を接続する
工程とを有する。このような半導体装置は電子装置の実
装基板に実装される。
【0020】このような電子装置の製造においては以下
のように製造が可能になる。前記半導体装置を実装基板
に実装する際、前記実装基板に半導体装置を位置決め載
置した後、前記半導体装置の封止体の表面に露出する各
補助端子の露出端面に温度の高い加熱ブロックを接触さ
せて伝熱によって各補助端子の延長部分に位置する突起
電極を加熱して溶融させて半導体装置の実装を行う。
【0021】前記実装基板に実装された半導体装置の封
止体の表面に露出する各補助端子を測定端子として前記
突起電極の実装基板への電気的接続の良否を測定する。
【0022】半導体装置のリペアにおいては、前記実装
基板に実装された半導体装置の封止体の表面に露出する
各補助端子の露出端面に温度の高い加熱ブロックを接触
させて各補助端子の延長部分に位置する突起電極を伝熱
によって加熱して溶融させ、その後前記半導体装置を前
記実装基板から取り外す。
【0023】前記(1)の手段によれば、(a)封止体
主面に補助端子の一端が露出していることから、半導体
装置を実装基板に実装した後においては、前記補助端子
を測定端子として使用して前記突起電極の接続の良否を
測定することができ、高精度な突起電極の電気的接続の
良否検査が迅速に行える。
【0024】(b)封止体主面に熱伝導性が良好な補助
端子の一端が露出していることから、前記補助端子の露
出部分に温度の高い加熱ブロックまたは温度の低い冷却
ブロックを接触させることによって、伝熱によって突起
電極の加熱または冷却が行える。したがって、半導体装
置を実装基板に実装する際、前記各補助端子の一端に加
熱ブロックを接触させて加熱することによって各突起電
極を溶融でき、確実な突起電極の接合が可能になる。
【0025】(c)前記(b)により、実装基板に実装
された半導体装置のリペアにおいて、前記半導体装置の
封止体主面に露出する各補助端子の一端に加熱ブロック
を接触させて加熱することによって各突起電極を溶融で
き、確実な突起電極の接合が可能になる。
【0026】前記(2)の手段によれば、前記手段
(1)の構成による効果に加えて、前記補助端子の露出
側の端面には窪みが設けられていることから、測定針の
先端が前記窪みに入って位置決めされることから、測定
精度および測定作業性が向上する。
【0027】前記(3)の手段によれば、前記手段
(1)および手段(2)の構成による効果に加えて、半
導体装置の実装後に前記封止体主面を絶縁性のテープで
被うことができ、補助端子間のショートを防止できる。
【0028】前記(4)の手段によれば、前記手段
(1)および手段(2)の構成による効果に加えて、前
記補助端子の露出端は放熱部を構成していることから、
半導体装置の半導体チップで発生した熱が封止体の外に
効率的に放散でき、電子装置の安定動作が達成できる。
【0029】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を
説明するための全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【0030】(実施形態1)図1乃至図9は本発明の一
実施形態(実施形態1)である半導体装置に係わる図で
ある。本実施形態1では、BGA型の半導体装置1に本
発明を適用した例について説明する。
【0031】図1はBGA型半導体装置の断面図、図2
はBGA型半導体装置の平面図である。
【0032】BGA型半導体装置1は、図1および図2
に示すように、基板2の主面(図1で上面)の中央には
ダイパッド3を介して半導体チップ4が固定されてい
る。
【0033】前記基板2は、ガラスエポキシ樹脂等から
なるプリント基板、またはセラミック基板からなる配線
基板であり、基板2の主面および裏面ならびに主面と裏
面に亘って配線5が形成されている。
【0034】配線5は、基板2の主面に延在する配線5
a、基板2の裏面に延在する配線5b、基板2を貫通す
るように設けられたスルーホールに充填され基板2の主
面の配線5aと基板2の裏面の配線5bを電気的に接続
する配線5cがある。
【0035】前記配線5bには半田からなるボール電極
(突起電極)6が接続されている。基板2の裏面は、B
GA型半導体装置1を実装基板に実装(固定)する際の
実装側の面、すなわち実装面となる。
【0036】前記配線5cは半導体チップ4が固定され
る領域から外れた領域に設けられている。したがって、
このBGA型半導体装置1は、いわゆるファンアウト型
となる。
【0037】前記半導体チップ4の図示しない電極と、
半導体チップ4の周囲にその先端を延在させる配線5a
は、導電性のワイヤ7で電気的に接続されている。半導
体チップ4の電極と配線5aとの接続は他の接続手段で
もよい。
【0038】また、前記各突起電極6を固定した配線5
bの真上に位置する基板2の主面側の配線5a上には、
導電性接着材10を介して棒状のピンからなる補助端子
11が立った状態で固定されている。この補助端子11
は、導電性でかつ熱伝導性が良好な金属、たとえば銅等
によって形成されている。これら補助端子11の上端面
は一定の高さになり、同一平面上に位置している。
【0039】また、前記基板2の主面側には、前記補助
端子11の上端(一端)を突出させるようにして、絶縁
性の樹脂からなる封止体12が設けられている。この封
止体12は基板2の主面の略全域を被い、半導体チップ
4,ワイヤ7,配線5a等を被っている。なお、前記基
板2の主面に対面する封止体12の表面は、平坦にな
り、前記基板2の主面に対して平行になっていることか
ら、この面を封止体主面とも呼称する。
【0040】また、図2に示すように、特に限定はされ
ないが、矩形のBGA型半導体装置1の方向識別のため
に、矩形の封止体12の辺に対して、たとえば45度の
傾きをもつ識別面13が設けられている。
【0041】さらに、図1に示すように、基板2のボー
ル電極6が取り付けられない表面は絶縁性のソルダーレ
ジスト14で被われている。
【0042】このようなBGA型半導体装置1では、補
助端子11とボール電極6は、配線5b,配線5c,配
線5a,導電性接着材10を介して電気的に接続される
構造になる。
【0043】また、前記ボール電極6は、配線5bの一
部,配線5c,配線5aの一部,導電性接着材10,補
助端子11と直線的に重なる構造になり、ボール電極6
と補助端子11の封止体主面に露出する一端面とは最短
距離になる。したがって、前記封止体主面の露出する補
助端子11の端面に高い温度の加熱ブロックを接触させ
ることによって、効率的に伝熱でき、ボール電極6を溶
融させることができる。
【0044】この溶融は、半田で形成したボール電極の
場合は勿論のこと、内部が金属等からなり表面が半田と
なるコアボールの場合でも容易に溶融が行える。
【0045】なお、前記補助端子11の露出側の端面に
温度の低い冷却ブロックを接触させることによって、効
率的な吸熱によってボール電極6を冷却させることがで
きる。
【0046】つぎに本実施形態1のBGA型半導体装置
1の製造方法について説明する。図3に示すように、最
初に基板2を用意する。この基板2は、ガラスエポキシ
樹脂等からなるプリント基板、またはセラミック基板か
らなる配線基板であり、基板2の主面および裏面ならび
に主面と裏面に亘って配線5が形成されている。また、
基板2の主面にはダイパッド3が設けられている。この
ダイパッド3は前記配線5の形成時に同時に形成され
る。
【0047】配線5は、基板2の主面に延在する配線5
a、基板2の裏面に延在する配線5b、基板2を貫通す
るように設けられたスルーホールに充填され基板2の主
面の配線5aと基板2の裏面の配線5bを電気的に接続
する配線5cがある。基板2の配線5bを除く裏面は絶
縁性のソルダーレジスト14で被われている。
【0048】つぎに、常用のチップボンディング装置に
よって、図3に示すように、前記基板2の主面のダイパ
ッド3上に半導体チップ4が図示しない接着剤等を用い
て固定される。
【0049】つぎに、図3に示すように、常用のワイヤ
ボンディング装置によって、前記半導体チップ4の図示
しない電極と、基板2の主面の前記半導体チップ4の周
囲に先端を臨ませる配線5aは、導電性のワイヤ7で電
気的に接続される。この接続手段は他の構成でもよい。
【0050】つぎに、図4に示すように、基板2の主面
の配線5a上に棒状の金属ピンからなる補助端子11が
立てた状態で接続される。前記補助端子11は、熱伝導
性が良好な金属、たとえば銅やアルミニウム等からなっ
ている。また、補助端子11は導電性接着材10で配線
5aに接続される。
【0051】前記スルーホール部分の配線5c真上およ
び真下には配線5aおよび配線5bの一部が位置してい
る。前記補助端子11は、配線5cの真上に位置してい
る。これは、補助端子11と配線5bに接続される突起
電極との間の熱の伝達経路を直線的にし、補助端子11
と突起電極との間での熱の授受を最も効率的に行うため
である。
【0052】つぎに、図5に示すように、矩形枠からな
る封止用枠20が基板2の主面側に取り付けられる。こ
の封止用枠20の下面は一段窪み、この窪み部分21が
基板2の主面周縁に嵌合するようになる。これによって
封止用枠20は基板2に対してずれなくなる。
【0053】前記封止用枠20内には、絶縁性の樹脂が
注入され、かつキュアされ、半導体チップ4,ワイヤ
7,配線5a等を被う封止体12が形成される。この樹
脂の注入において、封止体12の上面、すなわち封止体
主面22から前記補助端子11の先端がわずかに突出す
るように樹脂の注入量が調整される。
【0054】つぎに、前記封止用枠20を基板2から引
き抜いた後、図6に示すように、基板2を裏返しにし、
かつ基板2の裏面の配線5bに半田ボール等を溶着し
て、ボール電極(突起電極)6を形成する。
【0055】以上の作業工程によって、図1および図2
に示すBGA型半導体装置1が製造される。
【0056】つぎに、本実施形態1のBGA型半導体装
置1を実装基板に実装して電子装置を製造する方法につ
いて、図7乃至図9を参照しながら説明する。
【0057】図7はBGA型半導体装置を電子装置の実
装基板に実装する状態を示す断面図、図8はBGA型半
導体装置の実装におけるボール電極の接続の良否を測定
する状態を示す断面図、図9はリペア作業においてBG
A型半導体装置を実装基板から取り外す状態を示す断面
図である。
【0058】図7に示すように、最初に電子装置に組み
込まれる実装基板25が用意される。実装基板25の主
面(上面)には前記BGA型半導体装置1を実装するた
めのランド26が設けられている。このランド26は、
たとえばその表面に半田メッキが施されている。
【0059】つぎに、前記実装基板25の主面上にBG
A型半導体装置1を位置決めして載置する。これによっ
て各ランド26上にBGA型半導体装置1のボール電極
6が正確に載るようになる。
【0060】つぎに、図7に示すように、支持アーム2
7を操作して支持アーム27の下端に固定された加熱ブ
ロック28をBGA型半導体装置1の封止体12から突
出する補助端子11の露出端面上に接触させる。
【0061】加熱ブロック28にはカートリッジヒータ
が内蔵され、300〜400℃程度の温度を維持してい
る。
【0062】補助端子11に加熱ブロック28が接触す
ることによって、加熱ブロック28の熱が補助端子1
1,導電性接着材10,配線5a,配線5c,配線5b
と順次伝わってボール電極6に到達し、半田からなるボ
ール電極6が溶融し、加熱ブロック28による加圧とも
相俟って配線5bとランド26はボール電極6によって
電気的に接続されることになる。
【0063】前記加熱ブロック28を上昇させて補助端
子11から加熱ブロック28を離すことによって、溶け
たボール電極6は再硬化し、配線5bとランド26が固
定されることになる。これにより、BGA型半導体装置
1の実装が終了する。
【0064】なお、図示はしないが前記実装基板25に
は各種の電子部品が搭載されて電子装置の回路システム
が構成される。
【0065】つぎに、図8に示すように、実装基板25
に実装されたBGA型半導体装置1の各ボール電極6の
電気的接続状態の良否の測定検査が行われる。この測定
においては、下面に複数の測定針(プローブ)30を有
するプローブ板31が用意される。
【0066】プローブ板31は、図示しない測定装置本
体から突出するアームの先端に取り付けられた支持軸3
2の下端に固定され、前記アームの3次元的移動によっ
て移動する。
【0067】前記プローブ30は、BGA型半導体装置
1の各補助端子11の露出端面に接触する半導体装置電
極用端子30aと、実装基板25の配線29に接触する
実装基板用端子30bとからなっている。そして、一対
の半導体装置電極用端子30aと実装基板用端子30b
との間の導通の有無によって、ボール電極6による実装
基板25のランド26に対する電気的接続の良否が判定
できることになる。
【0068】この電気的接続の良否の判定は、前記プロ
ーブ板31にケーブル33を介して接続されるテスタ3
4によって行われる。また、測定結果は前記テスタ34
内の記憶部に記憶されるとともに、必要に応じて図示し
ないプリンタ等の出力機器から出力される。
【0069】実装したBGA型半導体装置1の電極の接
続に異常がなければ、たとえば実装基板25は電子装置
に組み込まれる。
【0070】実装したBGA型半導体装置1の電極の接
続に異常がある場合、半導体装置の交換、すなわちリペ
アが行われる。
【0071】このリペア作業においては、実装基板25
に実装されたBGA型半導体装置1の補助端子11の露
出端面に加熱ブロック28を接触させ、前記実装の場合
と同様にに配線5bとランド26を固定するボール電極
6を溶融させる。その後、加熱ブロック28を上昇させ
るとともに、BGA型半導体装置1を実装基板25から
取り外す(図9参照)。
【0072】また、BGA型半導体装置1を取り外した
実装基板25には、新たなBGA型半導体装置1を固定
する。
【0073】一方、リペアを行うことなく、電極の接続
異常のあるBGA型半導体装置1に対して、加熱ブロッ
ク28を用いて再度実装を行うようにしてもよい。すな
わち、本発明においては、実装時BGA型半導体装置1
の全体を加熱することなく、補助端子11,配線5を通
してボール電極6を加熱することから、半導体チップ4
には熱ストレスが加わらない利点がある。そこで、ボー
ル電極6の接続不良がある場合には、再度全体的に補助
端子11を加熱したり、あるいは接続不良と判定された
補助端子11を加熱するようにしてもよい。
【0074】本実施形態1のBGA型半導体装置1およ
び前記BGA型半導体装置1を組み込んだ電子装置の製
造においては、以下の効果を奏する。
【0075】(1)BGA型半導体装置1の封止体主面
22に補助端子11の一端が露出していることから、B
GA型半導体装置1を実装基板25に実装した後におい
ては、前記補助端子11を測定端子として使用して前記
突起電極(ボール電極)6の接続の良否を測定すること
ができ、高精度な突起電極6の電気的接続の良否検査が
迅速に行える。
【0076】(2)封止体主面22に熱伝導性が良好な
補助端子11の一端が露出していることから、前記補助
端子11の露出部分に温度の高い加熱ブロックまたは温
度の低い冷却ブロックを接触させることによって、伝熱
によって突起電極6の加熱または冷却が行える。したが
って、BGA型半導体装置1を実装基板25に実装する
際、前記各補助端子11の一端に加熱ブロック28を接
触させて加熱することによって各突起電極6を溶融で
き、確実な突起電極6の接合が可能になる。
【0077】(3)前記(2)により、実装基板25に
実装されたBGA型半導体装置1のリペアにおいて、前
記BGA型半導体装置1の封止体主面22に露出する各
補助端子11の一端に加熱ブロック28を接触させて加
熱することによって各突起電極6を溶融でき、確実な突
起電極6の接合が可能になる。
【0078】(実施形態2)図10は本発明の他の実施
形態(実施形態2)であるBGA型半導体装置における
ボール電極の接続の良否を測定する状態を示す一部の断
面図である。
【0079】本実施形態2では、BGA型半導体装置1
の補助端子11の露出側の端面には窪み40が設けられ
ている。
【0080】本実施形態2では、補助端子11の露出側
の端面には窪み40が設けられていることから、測定針
(プローブ)30の先端が前記窪み40に入って位置決
めされることから、測定精度および測定作業性が向上す
る。また、本実施形態2は前記実施形態1と同様の効果
を奏する。
【0081】(実施形態3)図11は本発明の他の実施
形態(実施形態3)であるBGA型半導体装置の断面図
である。
【0082】本実施形態1のBGA型半導体装置1にお
いては、封止体12の封止体主面22側に露出する補助
端子11の露出部45は太くなり、プローブ30を接触
させ易くなっている。また、本実施形態3は前記実施形
態1と同様の効果を奏する。
【0083】(実施形態4)図12は本発明の他の実施
形態(実施形態4)であるBGA型半導体装置の断面図
である。
【0084】本実施形態4のBGA型半導体装置1は、
封止体主面22に前記補助端子11を被う絶縁性のテー
プ50が張り付けられている。なお、本実施形態4では
補助端子11は封止体主面22よりも引っ込んだ構造に
なっている。
【0085】これにより、BGA型半導体装置1を実装
基板25に実装し、かつ突起電極6の接合の良否の検査
が終了した後、封止体12の封止体主面22に前記テー
プ50を張り付けることによって、補助端子11間のシ
ョートを防止することができる。また、本実施形態4は
前記実施形態1と同様の効果を奏する。
【0086】(実施形態5)図13は本発明の他の実施
形態(実施形態5)であるBGA型半導体装置の断面図
である。
【0087】本実施形態5のBGA型半導体装置1で
は、封止体12の封止体主面22から突出する補助端子
11の露出端は、フィン状の放熱部51になっている。
【0088】したがって、本実施形態5のBGA型半導
体装置1においては、BGA型半導体装置1の封止体1
2内の半導体チップ4で発生した熱が、補助端子11の
放熱部51から大気中に効率的に放散されるため、電子
装置の安定動作が達成できる。
【0089】また、本実施形態5は前記実施形態1と同
様の効果を奏する。
【0090】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。たとえ
ば、基板の裏面にリード・ピンを固定したPGA型半導
体装置にも適用できる。
【0091】また、封止体は樹脂以外のものであっても
同様に適用でき、前記各実施形態と同様の効果を奏する
ことになる。
【0092】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。 (1)半導体装置の封止体主面から突出する補助端子
を、突起電極の実装基板への電気的接続の良否の測定用
の端子として用いることによって高精度な突起電極の電
気的接続の良否検査が迅速に行える。 (2)半導体装置の封止体主面から突出する補助端子に
熱を加えることによって、補助端子の延長上に位置する
突起電極を溶融することができるため、実装時またはリ
ペア時の半導体装置の取り外し時に、補助端子を介して
突起電極を溶融することができる。また、補助端子の一
端を冷却することによって突起電極を冷却することもで
きる。 (3)前記補助端子の露出側の端面には窪みを設けるこ
とによって、測定針の位置決めおよび接触が正確にな
り、測定精度および測定作業性が向上する。 (4)封止体主面に絶縁性のテープを張りつける構造の
半導体装置では、補助端子間のショートを防止できる。 (5)補助端子の露出部分が放熱部になる半導体装置で
は、封止体内部で発生した熱を封止体の外に効率的に放
散でき、電子装置の安定動作が達成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態(実施形態1)であるBG
A型半導体装置の断面図である。
【図2】本実施形態1BGA型半導体装置の平面図であ
る。
【図3】本実施形態1のBGA型半導体装置の製造にお
いて、基板主面に半導体チップを搭載した状態を示す断
面図である。
【図4】本実施形態1のBGA型半導体装置の製造にお
いて、基板主面側に測定端子を取り付けた状態を示す断
面図である。
【図5】本実施形態1のBGA型半導体装置の製造にお
いて、基板主面側を封止体で被った状態を示す断面図で
ある。
【図6】本実施形態1のBGA型半導体装置の製造にお
いて、基板裏面側にボール電極を固定した状態を示す断
面図である。
【図7】本実施形態1のBGA型半導体装置を電子装置
の実装基板に実装する状態を示す断面図である。
【図8】本実施形態1のBGA型半導体装置の実装にお
けるボール電極の接続の良否を測定する状態を示す断面
図である。
【図9】本実施形態1のBGA型半導体装置を実装基板
から取り外す状態を示す断面図である。
【図10】本発明の他の実施形態(実施形態2)である
BGA型半導体装置におけるボール電極の接続の良否を
測定する状態を示す一部の断面図である。
【図11】本発明の他の実施形態(実施形態3)である
BGA型半導体装置の断面図である。
【図12】本発明の他の実施形態(実施形態4)である
BGA型半導体装置の断面図である。
【図13】本発明の他の実施形態(実施形態5)である
BGA型半導体装置の断面図である。
【符号の説明】
1…半導体装置(BGA型半導体装置)、2…基板、3
…ダイパッド、4…半導体チップ、5,5a,5b,5
c…配線、6…突起電極(ボール電極)、7…ワイヤ、
10…導電性接着材、11…補助端子、12…封止体、
13…識別面、14…ソルダーレジスト、20…封止用
枠、21…窪み部分、22…封止体主面、25…実装基
板、26…ランド、27…支持アーム、28…加熱ブロ
ック、29…配線、30…測定針(プローブ)、31…
プローブ板、32…支持軸、33…ケーブル、34…テ
スタ、40…窪み、45…露出部、50…テープ、51
…放熱部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 薄葉 英幸 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主面および裏面ならびに主面と裏面に亘
    って配線を有する基板と、前記基板の主面に固定される
    少なくとも一つの半導体チップまたは少なくとも一つの
    半導体チップを含む複数の電子部品と、前記半導体チッ
    プの電極と基板の配線を電気的に接続する接続手段と、
    前記基板の主面に設けられ前記半導体チップや前記接続
    手段を被う封止体と、前記基板の裏面の各配線に固定さ
    れた突起電極とを有する半導体装置であって、前記突起
    電極が固定される配線には一端が前記基板の主面に対面
    する封止体主面に露出する導電性の補助端子が電気的に
    固定されていることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記補助端子は熱伝導性が良好な材質で
    形成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導
    体装置。
  3. 【請求項3】 前記補助端子は棒状のピンからなり、前
    記封止体を貫通して前記突起電極が固定される配線に電
    気的にかつ機械的に接続されていることを特徴とする請
    求項1または請求項2に記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記補助端子の露出側の端面には窪みが
    設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項3
    のいずれか1項に記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記封止体主面には前記補助端子を被う
    絶縁性のテープが張り付けられていることを特徴とする
    請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の半導体装
    置。
  6. 【請求項6】 前記補助端子の露出端は放熱部を構成し
    ていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれ
    か1項に記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 前記請求項1乃至請求項4および請求項
    6のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法であっ
    て、基板の主面に半導体チップまたは半導体チップを含
    む電子部品を搭載する工程と、前記半導体チップの電極
    と基板主面の配線を電気的に接続する工程と、前記突起
    電極が固定される配線の基板主面側に補助端子を電気的
    かつ機械的に固定する工程と、前記基板の主面側を前記
    補助端子の一端が露出するように封止体で被う工程と、
    前記基板裏面の配線に突起電極を接続する工程とを有す
    ることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 主面および裏面ならびに主面と裏面に亘
    って配線を有する基板と、前記基板の主面に固定される
    少なくとも一つの半導体チップまたは少なくとも一つの
    半導体チップを含む複数の電子部品と、前記半導体チッ
    プの電極と基板の配線を電気的に接続する接続手段と、
    前記基板の主面に設けられ前記半導体チップや前記接続
    手段を被う封止体と、前記基板の裏面の各配線に固定さ
    れた突起電極とを有する半導体装置を実装基板に固定し
    てなる電子装置であって、前記半導体装置は前記請求項
    1乃至請求項6のいずれか1項に記載の半導体装置であ
    ることを特徴とする電子装置。
  9. 【請求項9】 主面および裏面ならびに主面と裏面に亘
    って配線を有する基板と、前記基板の主面に固定される
    少なくとも一つの半導体チップまたは少なくとも一つの
    半導体チップを含む複数の電子部品と、前記半導体チッ
    プの電極と基板の配線を電気的に接続する接続手段と、
    前記基板の主面に設けられ前記半導体チップや前記接続
    手段を被う封止体と、前記基板の裏面の各配線に固定さ
    れた突起電極とを有する半導体装置を実装基板に固定し
    てなる電子装置の製造方法であって、前記半導体装置は
    前記請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の半導
    体装置であり、前記半導体装置を実装基板に実装する
    際、前記実装基板に半導体装置を位置決め載置した後、
    前記半導体装置の封止体の表面に露出する各補助端子の
    露出端面に温度の高い加熱ブロックを接触させて伝熱に
    よって各補助端子の延長部分に位置する突起電極を加熱
    して溶融させて半導体装置の実装を行うことを特徴とす
    る電子装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 主面および裏面ならびに主面と裏面に
    亘って配線を有する基板と、前記基板の主面に固定され
    る少なくとも一つの半導体チップまたは少なくとも一つ
    の半導体チップを含む複数の電子部品と、前記半導体チ
    ップの電極と基板の配線を電気的に接続する接続手段
    と、前記基板の主面に設けられ前記半導体チップや前記
    接続手段を被う封止体と、前記基板の裏面の各配線に固
    定された突起電極とを有する半導体装置を実装基板に固
    定してなる電子装置の製造方法であって、前記半導体装
    置は前記請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の
    半導体装置であり、前記実装基板に実装された半導体装
    置の封止体の表面に露出する各補助端子を測定端子とし
    て前記突起電極の実装基板への電気的接続の良否を測定
    することを特徴とする電子装置の製造方法。
  11. 【請求項11】 主面および裏面ならびに主面と裏面に
    亘って配線を有する基板と、前記基板の主面に固定され
    る少なくとも一つの半導体チップまたは少なくとも一つ
    の半導体チップを含む複数の電子部品と、前記半導体チ
    ップの電極と基板の配線を電気的に接続する接続手段
    と、前記基板の主面に設けられ前記半導体チップや前記
    接続手段を被う封止体と、前記基板の裏面の各配線に固
    定された突起電極とを有する半導体装置を実装基板に固
    定してなる電子装置の製造方法であって、前記半導体装
    置は前記請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の
    半導体装置であり、前記実装基板に実装された半導体装
    置の封止体の表面に露出する各補助端子の露出端面に温
    度の高い加熱ブロックを接触させて各補助端子の延長部
    分に位置する突起電極を伝熱によって加熱して溶融さ
    せ、その後前記半導体装置を前記実装基板から取り外す
    ことを特徴とする電子装置の製造方法。
JP10100865A 1998-04-13 1998-04-13 半導体装置,その製造方法,電子装置およびその製造方法 Withdrawn JPH11297882A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008075401A1 (ja) * 2006-12-18 2008-06-26 Panasonic Corporation 基板構造、回路基板の製造方法、回路基板の検査方法および電子機器
JP2009135317A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Jatco Ltd 電気的解析の可能な制御基板ユニット
KR101060120B1 (ko) 2009-12-30 2011-08-29 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 칩 스케일 반도체 패키지 및 그 제조 방법
CN102931172A (zh) * 2012-11-20 2013-02-13 上海宏力半导体制造有限公司 测试器件及其制作方法、半导体器件及其制作方法
JP2014197597A (ja) * 2013-03-29 2014-10-16 ローム株式会社 半導体装置

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