JPH11301771A - 透明で防塵性を有する記録媒体収納容器 - Google Patents
透明で防塵性を有する記録媒体収納容器Info
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- JPH11301771A JPH11301771A JP11353098A JP11353098A JPH11301771A JP H11301771 A JPH11301771 A JP H11301771A JP 11353098 A JP11353098 A JP 11353098A JP 11353098 A JP11353098 A JP 11353098A JP H11301771 A JPH11301771 A JP H11301771A
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- polyetherester
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- resin composition
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 塵埃の多い環境で使用しても、塵埃の付着が
少なく、塵埃による記録媒体の汚染、破損がすくなく、
かつ内部に収容する記録媒体を容易に観察しうる、記録
媒体を収納する容器容器を提供する。 【解決手段】 透明で、洗浄や拭き取り等によって帯電
防止機能が低下することのない永久帯電防止機能を有す
る透明制電性のポリカーボネート系樹脂組成物アクリレ
ート系樹脂組成物、ポリスチレン系樹脂組成物により、
記録、再生ディスクを収納する容器を作製する。
少なく、塵埃による記録媒体の汚染、破損がすくなく、
かつ内部に収容する記録媒体を容易に観察しうる、記録
媒体を収納する容器容器を提供する。 【解決手段】 透明で、洗浄や拭き取り等によって帯電
防止機能が低下することのない永久帯電防止機能を有す
る透明制電性のポリカーボネート系樹脂組成物アクリレ
ート系樹脂組成物、ポリスチレン系樹脂組成物により、
記録、再生ディスクを収納する容器を作製する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、塵埃の多い環境で
使用しても、塵埃の付着が少なく、塵埃による記録媒体
の汚染、破損がすくなく、かつ内部に収容する記録媒体
を容易に観察しうる、記録媒体を収納する容器に関す
る。
使用しても、塵埃の付着が少なく、塵埃による記録媒体
の汚染、破損がすくなく、かつ内部に収容する記録媒体
を容易に観察しうる、記録媒体を収納する容器に関す
る。
【0002】
【従来の技術】大量の情報を取り扱うことが可能な記録
/再生媒体は、光ディスク、磁気ディスク、磁気テー
プ、など種々の形態として実用化され、文書ファイル、
画像ファイル、オーディオ用、コンピュータメモリー用
など目的に応じて広く利用されている。
/再生媒体は、光ディスク、磁気ディスク、磁気テー
プ、など種々の形態として実用化され、文書ファイル、
画像ファイル、オーディオ用、コンピュータメモリー用
など目的に応じて広く利用されている。
【0003】このような記録媒体は塵埃の付着防止、あ
るいは取り扱いによるキズ、汚れの付着防止の観点か
ら、通常収納容器(カートリッジ、カセット等と呼ばれ
る場合もある。)に収容される。
るいは取り扱いによるキズ、汚れの付着防止の観点か
ら、通常収納容器(カートリッジ、カセット等と呼ばれ
る場合もある。)に収容される。
【0004】機能的には、記録、再生ディスクを収納し
たままで、記録、再生を行うことができるように構成さ
れた収納容器、あるいは記録、再生ディスクを引き出し
てから、記録、再生を行うように構成された収納容器等
があり、記録、再生処理以外のときは、このような収納
容器に収納された状態で記録、再生ディスクは保管され
る。
たままで、記録、再生を行うことができるように構成さ
れた収納容器、あるいは記録、再生ディスクを引き出し
てから、記録、再生を行うように構成された収納容器等
があり、記録、再生処理以外のときは、このような収納
容器に収納された状態で記録、再生ディスクは保管され
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】これらの記録媒体は保
存用として用いられる場合や不特定多数の人に貸し出さ
れる場合があり、塵埃の多い環境で手から手に渡される
と、記録媒体を収納する容器が摩擦帯電する結果、周囲
の塵埃を吸着してしまう問題がある。
存用として用いられる場合や不特定多数の人に貸し出さ
れる場合があり、塵埃の多い環境で手から手に渡される
と、記録媒体を収納する容器が摩擦帯電する結果、周囲
の塵埃を吸着してしまう問題がある。
【0006】また、従来の不透明な収納容器では、収納
容器の中身が見えないため、中身がすりかわってしまっ
ても気づかないという問題点もある。
容器の中身が見えないため、中身がすりかわってしまっ
ても気づかないという問題点もある。
【0007】一方、従来の帯電防止型の樹脂は、十分な
耐電防止性を与えると透明性が不十分になり、逆に十分
な透明性を与えると十分な帯電防止性を与えることが困
難であった。
耐電防止性を与えると透明性が不十分になり、逆に十分
な透明性を与えると十分な帯電防止性を与えることが困
難であった。
【0008】このため、利用者の便宜を満たすため、上
記の問題のない記録、再生ディスクを収納する容器、す
なわち、透明でかつ帯電防止性の十分な容器が要望され
ている。
記の問題のない記録、再生ディスクを収納する容器、す
なわち、透明でかつ帯電防止性の十分な容器が要望され
ている。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた本発明は、透明で内部の観察が可能であり、
洗浄や拭き取り等によって帯電防止機能が低下すること
のない永久帯電防止機能を有する特定樹脂より成る、記
録、再生ディスクを収納する容器を提供するものであ
る。
になされた本発明は、透明で内部の観察が可能であり、
洗浄や拭き取り等によって帯電防止機能が低下すること
のない永久帯電防止機能を有する特定樹脂より成る、記
録、再生ディスクを収納する容器を提供するものであ
る。
【0010】本発明の趣旨は、記録媒体を収納する容器
であって、該容器が透明で、永久帯電防止機能を有す
る、特定樹脂より成ることを特徴とする。
であって、該容器が透明で、永久帯電防止機能を有す
る、特定樹脂より成ることを特徴とする。
【0011】すなわち本願発明は次のものである。 1. 記録媒体を収容する容器であって、該収容容器
が、ヘーズ値≦40%でかつ表面抵抗=1×1010〜1
×1014Ω/cm2である永久帯電防止機能を有し、透
明で防塵性を有する樹脂より成ることを特徴とする記録
媒体収納用容器。
が、ヘーズ値≦40%でかつ表面抵抗=1×1010〜1
×1014Ω/cm2である永久帯電防止機能を有し、透
明で防塵性を有する樹脂より成ることを特徴とする記録
媒体収納用容器。
【0012】2. 永久帯電防止機能を有し、透明で防
塵性を有する樹脂が、透明制電性ポリカーボネート系樹
脂組成物であることを特徴とする請求項1記載の記録媒
体収納用容器。
塵性を有する樹脂が、透明制電性ポリカーボネート系樹
脂組成物であることを特徴とする請求項1記載の記録媒
体収納用容器。
【0013】3. 永久帯電防止機能を有し、透明で防
塵性を有する樹脂が、透明制電性アクリレート系樹脂組
成物であることを特徴とする請求項1記載の記録媒体収
納用容器。
塵性を有する樹脂が、透明制電性アクリレート系樹脂組
成物であることを特徴とする請求項1記載の記録媒体収
納用容器。
【0014】4. 永久帯電防止機能を有し、透明で防
塵性を有する樹脂が、透明制電性ポリスチレン系樹脂組
成物であることを特徴とする請求項1記載の記録媒体収
納用容器。
塵性を有する樹脂が、透明制電性ポリスチレン系樹脂組
成物であることを特徴とする請求項1記載の記録媒体収
納用容器。
【0015】本発明に使用される樹脂は、ヘーズ≦40
%、表面抵抗=1×1010〜1×1014Ω/cm2の物
性を有する物であり、より具体的には、ア)透明制電性
ポリカーボネート系樹脂組成物、イ)透明制電性アクリ
レート系樹脂組成物、ウ)透明制電性ポリスチレン系樹
脂組成物より選択されるものである。
%、表面抵抗=1×1010〜1×1014Ω/cm2の物
性を有する物であり、より具体的には、ア)透明制電性
ポリカーボネート系樹脂組成物、イ)透明制電性アクリ
レート系樹脂組成物、ウ)透明制電性ポリスチレン系樹
脂組成物より選択されるものである。
【0016】なお、本願明細書において、「透明制電性
ポリカーボネート系樹脂組成物」、「透明制電性アクリ
レート系樹脂組成物」、「透明制電性ポリスチレン系樹
脂組成物」、「ポリカーボネート樹脂(A)」、「芳香
族カルボン酸成分(B1)」、「スルホン酸塩基含有化
合物成分(B2)」、「グリコール成分(B3)」、
「ポリアルキレンオキシド成分(B4)」、「ポリエー
テルエステル系組成物(B)」、「イオン性界面活性剤
(C)」、「アクリル系樹脂(D)」、「芳香族カルボ
ン酸成分(E1)」、「脂肪族カルボン酸成分(E
2)」、「ポリエーテルエステル系組成物(E)」、
「ポリスチレン系樹脂(G)」という場合は、特に断ら
ない限り、同一の意味を有する。
ポリカーボネート系樹脂組成物」、「透明制電性アクリ
レート系樹脂組成物」、「透明制電性ポリスチレン系樹
脂組成物」、「ポリカーボネート樹脂(A)」、「芳香
族カルボン酸成分(B1)」、「スルホン酸塩基含有化
合物成分(B2)」、「グリコール成分(B3)」、
「ポリアルキレンオキシド成分(B4)」、「ポリエー
テルエステル系組成物(B)」、「イオン性界面活性剤
(C)」、「アクリル系樹脂(D)」、「芳香族カルボ
ン酸成分(E1)」、「脂肪族カルボン酸成分(E
2)」、「ポリエーテルエステル系組成物(E)」、
「ポリスチレン系樹脂(G)」という場合は、特に断ら
ない限り、同一の意味を有する。
【0017】ア)透明制電性ポリカーボネート系樹脂組
成物(以下、ポリカーボネート系樹脂組成物ともいう) 本発明の透明で防塵性を有する記録媒体用収納容器は、
以下記述するポリカーボネート系樹脂組成物を成形する
ことにより、好ましく製造することができる。
成物(以下、ポリカーボネート系樹脂組成物ともいう) 本発明の透明で防塵性を有する記録媒体用収納容器は、
以下記述するポリカーボネート系樹脂組成物を成形する
ことにより、好ましく製造することができる。
【0018】本発明で好ましく使用することのできるポ
リカーボネート系樹脂組成物は、 1)ポリカーボネート樹脂(A)100重量部と、 2)主として、スルホン酸塩基を持たない芳香族カルボ
ン酸成分(B1)、下記式(1)[式(1)中、Arは
炭素数6〜20の芳香族基であり、M+は金属イオン、
テトラアルキルホスホニウムイオンまたはテトラアルキ
ルアンモニウムイオンである。]で表されるスルホン酸
塩基含有ジカルボン酸化合物および/またはその誘導体
と
リカーボネート系樹脂組成物は、 1)ポリカーボネート樹脂(A)100重量部と、 2)主として、スルホン酸塩基を持たない芳香族カルボ
ン酸成分(B1)、下記式(1)[式(1)中、Arは
炭素数6〜20の芳香族基であり、M+は金属イオン、
テトラアルキルホスホニウムイオンまたはテトラアルキ
ルアンモニウムイオンである。]で表されるスルホン酸
塩基含有ジカルボン酸化合物および/またはその誘導体
と
【0019】
【化1】
【0020】下記式(2)[式(2)中、R1、R3はそ
れぞれ独立に、炭素数2〜4の二価のアルキレン基であ
り、m、nはそれぞれ独立に0〜19の数であり、Ar
1は炭素数6〜20の芳香族基であり、M+は金属イオ
ン、テトラアルキルホスホニウムイオンまたはテトラア
ルキルアンモニウムイオンである。]であらわされるス
ルホン酸塩基含有グリコールおよび/またはその誘導体
との、二つのスルホン酸塩基含有化合物の群のいずれか
一方またはその両方から選ばれる、少なくとも一種のス
ルホン酸塩基含有化合物成分(B2)
れぞれ独立に、炭素数2〜4の二価のアルキレン基であ
り、m、nはそれぞれ独立に0〜19の数であり、Ar
1は炭素数6〜20の芳香族基であり、M+は金属イオ
ン、テトラアルキルホスホニウムイオンまたはテトラア
ルキルアンモニウムイオンである。]であらわされるス
ルホン酸塩基含有グリコールおよび/またはその誘導体
との、二つのスルホン酸塩基含有化合物の群のいずれか
一方またはその両方から選ばれる、少なくとも一種のス
ルホン酸塩基含有化合物成分(B2)
【0021】
【化2】
【0022】炭素数2〜10のグリコール成分(B
3)、および数平均分子量200〜50,000のポリ
(アルキレンオキシド)グリコール成分、ポリ(アルキ
レンオキシド)グリコールビス(カルボキシメチル)エ
ーテル成分およびポリオキシアルキレングリコール−モ
ノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル成分より成
る群から選ばれる少なくとも一種のポリアルキレンオキ
シド成分(B4)、から作製され、そして上記ポリカー
ボネート樹脂(A)と実質的に混和しない組成物(以
下、この、主として芳香族カルボン酸成分(B1)、ス
ルホン酸塩基含有化合物成分(B2)、グリコール成分
(B3)およびB4から作製される組成物をポリエーテ
ルエステル系組成物(B)と呼ぶ)5〜40重量部およ
び 3)イオン性界面活性剤(C)0.5〜10重量部から
実質的に成り、そしてポリカーボネート樹脂(A)の屈
折率と、ポリエーテルエステル系組成物(B)とイオン
性界面活性剤(C)との上記配合量において示される屈
折率との差が、高々0.04でありかつヘーズ値が40
%以下でありしかも表面固有抵抗率が1×1010〜1×
1014Ω/cm2の間にあることを特徴とする透明性と
帯電防止性に優れたポリカーボネート系樹脂組成物によ
って達成される。
3)、および数平均分子量200〜50,000のポリ
(アルキレンオキシド)グリコール成分、ポリ(アルキ
レンオキシド)グリコールビス(カルボキシメチル)エ
ーテル成分およびポリオキシアルキレングリコール−モ
ノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル成分より成
る群から選ばれる少なくとも一種のポリアルキレンオキ
シド成分(B4)、から作製され、そして上記ポリカー
ボネート樹脂(A)と実質的に混和しない組成物(以
下、この、主として芳香族カルボン酸成分(B1)、ス
ルホン酸塩基含有化合物成分(B2)、グリコール成分
(B3)およびB4から作製される組成物をポリエーテ
ルエステル系組成物(B)と呼ぶ)5〜40重量部およ
び 3)イオン性界面活性剤(C)0.5〜10重量部から
実質的に成り、そしてポリカーボネート樹脂(A)の屈
折率と、ポリエーテルエステル系組成物(B)とイオン
性界面活性剤(C)との上記配合量において示される屈
折率との差が、高々0.04でありかつヘーズ値が40
%以下でありしかも表面固有抵抗率が1×1010〜1×
1014Ω/cm2の間にあることを特徴とする透明性と
帯電防止性に優れたポリカーボネート系樹脂組成物によ
って達成される。
【0023】屈折率差が0.04以内となるのは全可視
光領域にわたることが好ましい。実用的には少なくとも
フラウンホーファー線のD線(波長589nm)におけ
る屈折率差が0.04以内であることが必要である。
光領域にわたることが好ましい。実用的には少なくとも
フラウンホーファー線のD線(波長589nm)におけ
る屈折率差が0.04以内であることが必要である。
【0024】屈折率差が0.04より大きいと、ポリカ
ーボネート系樹脂組成物中のポリカーボネート樹脂
(A)とポリエーテルエステル系組成物(B)の境界領
域において光の散乱が生じ、成形物の濁りを生じること
になる。
ーボネート系樹脂組成物中のポリカーボネート樹脂
(A)とポリエーテルエステル系組成物(B)の境界領
域において光の散乱が生じ、成形物の濁りを生じること
になる。
【0025】屈折率差は透明性の面でより少ないほうが
好ましく0.03以内とすることがより好ましい。
好ましく0.03以内とすることがより好ましい。
【0026】ポリカーボネート樹脂(A)は下記式
(3)
(3)
【0027】
【化3】
【0028】[ここでR4、R5は互いに独立に、水素原
子、炭素数1〜5のアルキル基または、炭素数5〜6の
シクロアルキル基であるか、あるいはR4とR5は、互い
に結合して、それらが結合している炭素原子といっしょ
になってシクロアルキリデン基を形成していてもよく、
R6とR7は、互いに独立に、炭素数1〜5のアルキル
基、ハロゲン原子またはフェニル基であり、そしてpと
qはそれぞれ0,1または2である。なお、p、qが0
であるとは、(R6)p、(R7)qがそれぞれ水素基であ
ることを意味する。]であらわされる繰り返し単位から
主として成るポリカーボネートが好ましい。
子、炭素数1〜5のアルキル基または、炭素数5〜6の
シクロアルキル基であるか、あるいはR4とR5は、互い
に結合して、それらが結合している炭素原子といっしょ
になってシクロアルキリデン基を形成していてもよく、
R6とR7は、互いに独立に、炭素数1〜5のアルキル
基、ハロゲン原子またはフェニル基であり、そしてpと
qはそれぞれ0,1または2である。なお、p、qが0
であるとは、(R6)p、(R7)qがそれぞれ水素基であ
ることを意味する。]であらわされる繰り返し単位から
主として成るポリカーボネートが好ましい。
【0029】これらの繰り返し単位はポリカーボネート
の分子鎖中で単独にあるいは2種以上で存在することが
できる。
の分子鎖中で単独にあるいは2種以上で存在することが
できる。
【0030】上記式(3)中、R4、R5における炭素数
1〜5のアルキル基は直鎖状であっても、分岐状であっ
てもよく、例えばメチル、エチル、n−プロピル、is
o−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−
ブチル、t−ブチル、n−ペンチル等を挙げることがで
きる。
1〜5のアルキル基は直鎖状であっても、分岐状であっ
てもよく、例えばメチル、エチル、n−プロピル、is
o−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−
ブチル、t−ブチル、n−ペンチル等を挙げることがで
きる。
【0031】また、R4、R5における炭素数5〜6のシ
クロアルキル基としては、例えばシクロペンチル、シク
ロヘキシルを挙げることができる。またアルキリデン基
としてはたとえばシクロペンチリデン、シクロヘキシリ
デンを挙げることができる。
クロアルキル基としては、例えばシクロペンチル、シク
ロヘキシルを挙げることができる。またアルキリデン基
としてはたとえばシクロペンチリデン、シクロヘキシリ
デンを挙げることができる。
【0032】更にR6とR7におけるハロゲン原子として
は、たとえばクロル、ブロム、ヨウド等を挙げることが
できる。
は、たとえばクロル、ブロム、ヨウド等を挙げることが
できる。
【0033】上記式(3)で表される繰り返し単位とし
ては、R4、R5がいずれもメチル基であり、p、qのい
ずれもが0であること、すなわち、(R6)p、(R7)q
がともに水素基であることが好ましい。
ては、R4、R5がいずれもメチル基であり、p、qのい
ずれもが0であること、すなわち、(R6)p、(R7)q
がともに水素基であることが好ましい。
【0034】ポリカーボネート樹脂(A)は好ましくは
上記式(3)で表される繰り返し単位を80〜100モ
ル%で含有するが、繰り返し単位の20モル%以下は例
えば下記式(4)
上記式(3)で表される繰り返し単位を80〜100モ
ル%で含有するが、繰り返し単位の20モル%以下は例
えば下記式(4)
【0035】
【化4】
【0036】[ここでR8は炭素数2〜4のアルキレン
基であり、rは20〜3000の数である。]で表され
る繰り返し単位であることができる。
基であり、rは20〜3000の数である。]で表され
る繰り返し単位であることができる。
【0037】式(4)中、R8における炭素数2〜4の
アルキレン基は直鎖状であっても、分岐状であってもよ
く、たとえば、エチレン、1,2−プロピレン、1,3
−トリメチレン、1,4−テトラメチレン基等を挙げる
ことができる。
アルキレン基は直鎖状であっても、分岐状であってもよ
く、たとえば、エチレン、1,2−プロピレン、1,3
−トリメチレン、1,4−テトラメチレン基等を挙げる
ことができる。
【0038】またポリカーボネート樹脂(A)は粘度平
均分子量15,000〜40,000を有するのが好ま
しい。かかるポリカーボネート樹脂(A)は界面重縮
合、溶融重合法および溶液重合法等のいずれかの方法で
製造したものでもよい。
均分子量15,000〜40,000を有するのが好ま
しい。かかるポリカーボネート樹脂(A)は界面重縮
合、溶融重合法および溶液重合法等のいずれかの方法で
製造したものでもよい。
【0039】ポリカーボネート樹脂(A)の屈折率は、
好ましくは1.54〜1.60であり、より好ましくは
1.55〜1.60であり、さらに好ましくは1.56
〜1.60である。
好ましくは1.54〜1.60であり、より好ましくは
1.55〜1.60であり、さらに好ましくは1.56
〜1.60である。
【0040】また、ポリカーボネート樹脂(A)のヘー
ズ値は、好ましくは40%以下であり、より好ましくは
30%以下であり、さらに好ましくは20%以下であ
る。
ズ値は、好ましくは40%以下であり、より好ましくは
30%以下であり、さらに好ましくは20%以下であ
る。
【0041】スルホン酸塩基を持たない芳香族カルボン
酸成分(B1)とは、炭素数4〜20の芳香族ジカルボ
ン酸、オキシカルボン酸および/またはそれらの誘導体
を意味し、芳香族ジカルボン酸としては、たとえば、テ
レフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸や
ビフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸または
その誘導体を挙げることができる。
酸成分(B1)とは、炭素数4〜20の芳香族ジカルボ
ン酸、オキシカルボン酸および/またはそれらの誘導体
を意味し、芳香族ジカルボン酸としては、たとえば、テ
レフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸や
ビフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸または
その誘導体を挙げることができる。
【0042】ナフタレンジカルボン酸またはその誘導体
としては、例えば2,6−ナフタレンジカルボン酸、
2,7−ナフタレンジカルボン酸、これらのアルカリも
しくはハロゲン置換体を好ましいものとして挙げること
ができる。これらは1種または2種以上一緒に用いるこ
とができる。
としては、例えば2,6−ナフタレンジカルボン酸、
2,7−ナフタレンジカルボン酸、これらのアルカリも
しくはハロゲン置換体を好ましいものとして挙げること
ができる。これらは1種または2種以上一緒に用いるこ
とができる。
【0043】ビフェニルジカルボン酸またはその誘導体
としては、例えば4,4’−ビフェニルジカルボン酸、
3,3’−ビフェニルジカルボン酸、2,4’−ビフェ
ニルジカルボン酸、これらのアルキルもしくはハロゲン
置換体を好ましいものとして挙げることができる。
としては、例えば4,4’−ビフェニルジカルボン酸、
3,3’−ビフェニルジカルボン酸、2,4’−ビフェ
ニルジカルボン酸、これらのアルキルもしくはハロゲン
置換体を好ましいものとして挙げることができる。
【0044】オキシカルボン酸および/またはその誘導
体としては、たとえば、p−オキシ安息香酸、2−ヒド
ロキシ−6−ナフタレンジカルボン酸、2−ヒドロキシ
−7−ナフタレンカルボン酸、m−オキシ安息香酸メチ
ル、p−オキシ安息香酸エチル、2−ヒドロキシ−6−
ナフタレンカルボン酸メチル、等を挙げることができ
る。これらは芳香族環にアルキル基、ハロゲン等の置換
基を有していてもよい。
体としては、たとえば、p−オキシ安息香酸、2−ヒド
ロキシ−6−ナフタレンジカルボン酸、2−ヒドロキシ
−7−ナフタレンカルボン酸、m−オキシ安息香酸メチ
ル、p−オキシ安息香酸エチル、2−ヒドロキシ−6−
ナフタレンカルボン酸メチル、等を挙げることができ
る。これらは芳香族環にアルキル基、ハロゲン等の置換
基を有していてもよい。
【0045】これらの内で、取り扱い性の点からは、テ
レフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、テレフ
タル酸ジメチル、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チルが特に好ましい。またテレフタル酸成分に比べ2,
6−ナフタレンジカルボン酸成分は全体の屈折率を高く
する傾向にある。
レフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、テレフ
タル酸ジメチル、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チルが特に好ましい。またテレフタル酸成分に比べ2,
6−ナフタレンジカルボン酸成分は全体の屈折率を高く
する傾向にある。
【0046】上記式(1)において、炭素数6〜20の
芳香族(Ar)としては、例えばベンゼン環、ナフタレ
ン環、ビフェニル環、あるいはこれらの環がアルキル、
フェニル、ハロゲン、アルコキシでいくつか置換された
ものを好ましいものとして挙げることができる。
芳香族(Ar)としては、例えばベンゼン環、ナフタレ
ン環、ビフェニル環、あるいはこれらの環がアルキル、
フェニル、ハロゲン、アルコキシでいくつか置換された
ものを好ましいものとして挙げることができる。
【0047】上記式(1)において、金属イオンとして
は、例えばナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウ
ムイオン等のアルカリ金属イオン、カルシウムイオン、
マグネシウムイオンなどのアルカリ土類金属イオン、亜
鉛イオン等を好ましいものとして挙げることができる。
なお、カルシウムイオン等の場合のようにイオンの価数
+2以上になる場合には、SO3 -と当量分のイオンを使
用する。従って、M+の「+」記号はMで表わされた金
属イオンの価数を表わすものではない。
は、例えばナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウ
ムイオン等のアルカリ金属イオン、カルシウムイオン、
マグネシウムイオンなどのアルカリ土類金属イオン、亜
鉛イオン等を好ましいものとして挙げることができる。
なお、カルシウムイオン等の場合のようにイオンの価数
+2以上になる場合には、SO3 -と当量分のイオンを使
用する。従って、M+の「+」記号はMで表わされた金
属イオンの価数を表わすものではない。
【0048】上記式(1)において、テトラアルキルホ
スホニウムイオンとしては、例えばテトラブチルホスホ
ニウムイオン、テトラメチルホスホニウムイオンを、テ
トラアルキルアンモニウムイオンとしては例えばテトラ
ブチルアンモニウムイオン、テトラメチルアンモニウム
イオンを、好ましいものとして挙げることができる。
スホニウムイオンとしては、例えばテトラブチルホスホ
ニウムイオン、テトラメチルホスホニウムイオンを、テ
トラアルキルアンモニウムイオンとしては例えばテトラ
ブチルアンモニウムイオン、テトラメチルアンモニウム
イオンを、好ましいものとして挙げることができる。
【0049】これらのイオンの中で金属イオンが好まし
く、アルカリ金属イオン、亜鉛イオンがより好ましい。
く、アルカリ金属イオン、亜鉛イオンがより好ましい。
【0050】上記式(1)において、スルホン酸塩基を
有する芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば4−ナ
トリウムスルホ−イソフタル酸、5−ナトリウムスルホ
−イソフタル酸、4−カリウムスルホ−イソフタル酸、
5−カリウムスルホ−イソフタル酸、2−ナトリウムス
ルホ−イソフタル酸、2−カリウムスルホ−テレフタル
酸、4−スルホ−イソフタル酸亜鉛、5−スルホ−イソ
フタル酸亜鉛、2−スルホ−テレフタル酸亜鉛、4−ス
ルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニウム塩、5
−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニウム
塩、4−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルアンモニ
ウム塩、5−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルアン
モニウム塩、2−スルホ−テレフタル酸テトラアルキル
ホスホニウム塩、2−スルホ−テレフタル酸テトラアル
キルアンモニウム塩、4−ナトリウムスルホ−2,6−
ナフタレンジカルボン酸、4−ナトリウムスルホ−2,
7−ナフタレンジカルボン酸、4−カリウムスルホ−
2,6−ナフタレンジカルボン酸、4−カリウムスルホ
−2,7−ナフタレンジカルボン酸、4−スルホ−2,
6−ナフタレンジカルボン酸亜鉛塩、4−スルホ−2,
7−ナフタレンジカルボン酸亜鉛塩を具体例として挙げ
ることができる。
有する芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば4−ナ
トリウムスルホ−イソフタル酸、5−ナトリウムスルホ
−イソフタル酸、4−カリウムスルホ−イソフタル酸、
5−カリウムスルホ−イソフタル酸、2−ナトリウムス
ルホ−イソフタル酸、2−カリウムスルホ−テレフタル
酸、4−スルホ−イソフタル酸亜鉛、5−スルホ−イソ
フタル酸亜鉛、2−スルホ−テレフタル酸亜鉛、4−ス
ルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニウム塩、5
−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルホスホニウム
塩、4−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルアンモニ
ウム塩、5−スルホ−イソフタル酸テトラアルキルアン
モニウム塩、2−スルホ−テレフタル酸テトラアルキル
ホスホニウム塩、2−スルホ−テレフタル酸テトラアル
キルアンモニウム塩、4−ナトリウムスルホ−2,6−
ナフタレンジカルボン酸、4−ナトリウムスルホ−2,
7−ナフタレンジカルボン酸、4−カリウムスルホ−
2,6−ナフタレンジカルボン酸、4−カリウムスルホ
−2,7−ナフタレンジカルボン酸、4−スルホ−2,
6−ナフタレンジカルボン酸亜鉛塩、4−スルホ−2,
7−ナフタレンジカルボン酸亜鉛塩を具体例として挙げ
ることができる。
【0051】これらの中で上記式(1)において、Ar
が式(1)中に示された三つの結合手のほかには置換基
を有さず、M+がナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属イオンであるものは、重合性に優れ、且つ本発明のポ
リカーボネート系樹脂組成物に優れた静電性、機械特
性、色調等を与えるので特に好ましい。
が式(1)中に示された三つの結合手のほかには置換基
を有さず、M+がナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属イオンであるものは、重合性に優れ、且つ本発明のポ
リカーボネート系樹脂組成物に優れた静電性、機械特
性、色調等を与えるので特に好ましい。
【0052】式(2)において、Ar1は炭素数6〜2
0の芳香族を表わし、M+は金属イオン、テトラアルキ
ルホスホニウムイオンまたはテトラアルキルアンモニウ
ムイオンを表わし、R1およびR3は互いに独立に炭素数
2〜4の2価のアルキレン基であり、mおよびnは0〜
19の数である。
0の芳香族を表わし、M+は金属イオン、テトラアルキ
ルホスホニウムイオンまたはテトラアルキルアンモニウ
ムイオンを表わし、R1およびR3は互いに独立に炭素数
2〜4の2価のアルキレン基であり、mおよびnは0〜
19の数である。
【0053】式(2)において、炭素数6〜20の芳香
族基および金属イオン、テトラアルキルホスホニウムイ
オン、テトラアルキルアンモニウムイオンとしては、式
(1)について上記したものと同じ具体例および好まし
い具体例を挙げることができる。
族基および金属イオン、テトラアルキルホスホニウムイ
オン、テトラアルキルアンモニウムイオンとしては、式
(1)について上記したものと同じ具体例および好まし
い具体例を挙げることができる。
【0054】式(2)において、炭素数2〜4の2価の
アルキレン基としては、例えばエチレン、1,2−プロ
ピレン、トリメチレン、テトラメチレン等を挙げること
ができる。これらのうち、エチレン、1,2−プロピレ
ンが好ましい。
アルキレン基としては、例えばエチレン、1,2−プロ
ピレン、トリメチレン、テトラメチレン等を挙げること
ができる。これらのうち、エチレン、1,2−プロピレ
ンが好ましい。
【0055】式(2)において、mおよびnはそれぞれ
0〜19の数であり、好ましくは0〜9、より好ましく
は0〜4、特に好ましくは0〜2である。
0〜19の数であり、好ましくは0〜9、より好ましく
は0〜4、特に好ましくは0〜2である。
【0056】式(2)で表わされる化合物成分の具体例
としては、下式(2)−1〜24を挙げることができ
る。
としては、下式(2)−1〜24を挙げることができ
る。
【0057】
【化5】
【0058】
【化6】
【0059】
【化7】
【0060】
【化8】
【0061】
【化9】
【0062】
【化10】
【0063】なお、上記式(2)−1〜24中、Phは
ベンゼン環を表わし、Npはナフタレン環を表わし、B
pはビフェニル環を表わしている。
ベンゼン環を表わし、Npはナフタレン環を表わし、B
pはビフェニル環を表わしている。
【0064】上記式(2)−1〜(2)−24のうち、
(2)−1、(2)−3、(2)−5、(2)−13、
(2)−15、(2)−17で示される化合物成分を用
いるのが好ましく、(2)−1、(2)−13で示され
る化合物成分がさらに好ましい。
(2)−1、(2)−3、(2)−5、(2)−13、
(2)−15、(2)−17で示される化合物成分を用
いるのが好ましく、(2)−1、(2)−13で示され
る化合物成分がさらに好ましい。
【0065】また、ポリエーテルエステル系組成物
(B)を構成する炭素数2〜10のグリコール成分(B
3)としては、例えばエチレングリコール、1,4−ブ
タンジオール、プロピレングリコール、1,6−ヘキサ
ンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオールの
如き直鎖状または分岐鎖状のグリコール、ジエチレング
リコールあるいはチオジエタノールの如き酸素原子ある
いは硫黄原子で中断されたグリコールを挙げることがで
きる。
(B)を構成する炭素数2〜10のグリコール成分(B
3)としては、例えばエチレングリコール、1,4−ブ
タンジオール、プロピレングリコール、1,6−ヘキサ
ンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオールの
如き直鎖状または分岐鎖状のグリコール、ジエチレング
リコールあるいはチオジエタノールの如き酸素原子ある
いは硫黄原子で中断されたグリコールを挙げることがで
きる。
【0066】かかるグリコール成分は単独で用いてよ
く、2種以上併用してもよい。この中で1,6−ヘキサ
ンジオール、ジエチレングリコールを用いたポリエーテ
ルエステル系組成物(B)は、本発明のポリカーボネー
ト系樹脂組成物の帯電防止効果を向上させる点で好まし
い。
く、2種以上併用してもよい。この中で1,6−ヘキサ
ンジオール、ジエチレングリコールを用いたポリエーテ
ルエステル系組成物(B)は、本発明のポリカーボネー
ト系樹脂組成物の帯電防止効果を向上させる点で好まし
い。
【0067】さらに、ポリエーテルエステル系組成物
(B)を構成するポリアルキレンオキシド成分(B4)
は、数平均分子量200〜50,000を有し、そして
ポリ(アルキレンオキシド)グリコール成分、ポリ(ア
ルキレンオキシドグリコール)ビス(カルボキシメチ
ル)エーテル成分およびポリオキシアルキレングリコー
ル−モノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル成分
の群の中から選ばれる。これらは1種または2種以上組
み合せて使用することができる。
(B)を構成するポリアルキレンオキシド成分(B4)
は、数平均分子量200〜50,000を有し、そして
ポリ(アルキレンオキシド)グリコール成分、ポリ(ア
ルキレンオキシドグリコール)ビス(カルボキシメチ
ル)エーテル成分およびポリオキシアルキレングリコー
ル−モノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル成分
の群の中から選ばれる。これらは1種または2種以上組
み合せて使用することができる。
【0068】ポリ(アルキレンオキシド)グリコールと
しては、例えばポリ(炭素数2〜4のアルキレンオキシ
ド)グリコールが好ましく、ポリ(エチレンオキシド)
グリコール、コポリ(エチレンオキシド/プロピレンオ
キシド)グリコールが特に好ましい。
しては、例えばポリ(炭素数2〜4のアルキレンオキシ
ド)グリコールが好ましく、ポリ(エチレンオキシド)
グリコール、コポリ(エチレンオキシド/プロピレンオ
キシド)グリコールが特に好ましい。
【0069】ポリ(アルキレンオキシドグリコール)ビ
ス(カルボキシメチル)エーテルとしては、例えば下記
式(5)
ス(カルボキシメチル)エーテルとしては、例えば下記
式(5)
【0070】
【化11】
【0071】[ここで、R9は炭素数2〜4のアルキレ
ン基であり、Sは分子量が200〜50,000となる
数である]で表わされるものが好ましい。これらのう
ち、R9がエチレン基であるものあるいはエチレン基と
プロピレン基との組合せであるものが特に好ましい。
ン基であり、Sは分子量が200〜50,000となる
数である]で表わされるものが好ましい。これらのう
ち、R9がエチレン基であるものあるいはエチレン基と
プロピレン基との組合せであるものが特に好ましい。
【0072】また、ポリオキシアルキレングリコール−
モノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテルとして
は、下記式(6)
モノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテルとして
は、下記式(6)
【0073】
【化12】
【0074】[ここでR10は炭素数2〜4のアルキレン
基であり、R11は炭素数1〜12の炭化水素基であり、
そしてxは分子量が200〜50,000となる数であ
る]で表わされるものが好ましい。式(6)中、R11の
炭素数1〜12の炭化水素基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、フェニル、あるいは置換基
としてアルキル、フェニル、ハロゲン、アルコキシを持
つフェニル等を挙げることができる。
基であり、R11は炭素数1〜12の炭化水素基であり、
そしてxは分子量が200〜50,000となる数であ
る]で表わされるものが好ましい。式(6)中、R11の
炭素数1〜12の炭化水素基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、フェニル、あるいは置換基
としてアルキル、フェニル、ハロゲン、アルコキシを持
つフェニル等を挙げることができる。
【0075】ポリオキシアルキレングリコール−モノ−
2,3−ジヒドロキシプロピルエーテルとしては、例え
ばポリオキシエチレングリコール−モノメチル−モノ−
2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル、ポリオキシエ
チレングリコール−モノエチル−モノ−2,3−ジヒド
ロキシプロピルエーテル、ポリオキシエチレングリコー
ル−モノイソプロピル−モノ−2,3−ジヒドロキシプ
ロピルエーテル、ポリオキシエチレングリコール−モノ
セチル−モノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテ
ル、ポリオキシエチレングリコール−モノフェニル−モ
ノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル、ポリオキ
シエチレングリコール−モノ−4−ビフェニル−モノ−
2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル、ポリオキシプ
ロピレングリコールモノメチル−モノ−2,3−ジヒド
ロキシプロピルエーテル、ポリオキシプロピレングリコ
ール−モノ−4,4’−ビフェニル−モノ−2,3−ジ
ヒドロキシプロピルエーテル、ポリオキシエチレングリ
コール/ポリオキシプロピレングリコール共重合体のモ
ノメチル−モノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテ
ルを挙げることができる。
2,3−ジヒドロキシプロピルエーテルとしては、例え
ばポリオキシエチレングリコール−モノメチル−モノ−
2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル、ポリオキシエ
チレングリコール−モノエチル−モノ−2,3−ジヒド
ロキシプロピルエーテル、ポリオキシエチレングリコー
ル−モノイソプロピル−モノ−2,3−ジヒドロキシプ
ロピルエーテル、ポリオキシエチレングリコール−モノ
セチル−モノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテ
ル、ポリオキシエチレングリコール−モノフェニル−モ
ノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル、ポリオキ
シエチレングリコール−モノ−4−ビフェニル−モノ−
2,3−ジヒドロキシプロピルエーテル、ポリオキシプ
ロピレングリコールモノメチル−モノ−2,3−ジヒド
ロキシプロピルエーテル、ポリオキシプロピレングリコ
ール−モノ−4,4’−ビフェニル−モノ−2,3−ジ
ヒドロキシプロピルエーテル、ポリオキシエチレングリ
コール/ポリオキシプロピレングリコール共重合体のモ
ノメチル−モノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテ
ルを挙げることができる。
【0076】これらの中でポリオキシエチレングリコー
ル−モノメチル−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテ
ル、ポリオキシエチレングリコール−モノフェニル−モ
ノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテルが好まし
い。
ル−モノメチル−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテ
ル、ポリオキシエチレングリコール−モノフェニル−モ
ノ−2,3−ジヒドロキシプロピルエーテルが好まし
い。
【0077】上記のうち、ポリアルキレンオキシド成分
(B4)のアルキレンオキシド部分がエチレンオキシド
であることが特に好ましい。
(B4)のアルキレンオキシド部分がエチレンオキシド
であることが特に好ましい。
【0078】上記の如きポリアルキレンオキシド成分
(B4)は単独であるいは組合せて用いることができ
る。ポリアルキレンオキシド成分(B4)は数平均分子
量200〜50,000、好ましくは500〜30,0
00、より好ましくは1,000〜20,000であ
る。
(B4)は単独であるいは組合せて用いることができ
る。ポリアルキレンオキシド成分(B4)は数平均分子
量200〜50,000、好ましくは500〜30,0
00、より好ましくは1,000〜20,000であ
る。
【0079】ポリアルキレンオキシド成分(B4)は、
ポリエーテルエステル系組成物(B)の全体量に対し、
好ましくは10〜40重量%、より好ましくは12〜3
5重量%、特に好ましくは15〜35重量%を占める。
ポリエーテルエステル系組成物(B)の全体量に対し、
好ましくは10〜40重量%、より好ましくは12〜3
5重量%、特に好ましくは15〜35重量%を占める。
【0080】10重量%より少ないと帯電防止効果が小
さくなる傾向が見られ、40重量%より多いとポリエー
テルエステル系組成物(B)の屈折率が低下して光線透
過率の高い透明性に優れたポリカーボネート系樹脂組成
物が得難くなる。
さくなる傾向が見られ、40重量%より多いとポリエー
テルエステル系組成物(B)の屈折率が低下して光線透
過率の高い透明性に優れたポリカーボネート系樹脂組成
物が得難くなる。
【0081】ポリエーテルエステル系組成物(B)は上
記ポリカーボネート樹脂(A)と実質的に混和しない。
すなわち、両者は分子レベルで混和することはなく、本
発明に係るポリカーボネート系樹脂組成物中ではポリエ
ーテルエステル系組成物(B)はポリカーボネート樹脂
(A)の中に連続した層または筋として分散した不連続
相を形成している。
記ポリカーボネート樹脂(A)と実質的に混和しない。
すなわち、両者は分子レベルで混和することはなく、本
発明に係るポリカーボネート系樹脂組成物中ではポリエ
ーテルエステル系組成物(B)はポリカーボネート樹脂
(A)の中に連続した層または筋として分散した不連続
相を形成している。
【0082】ポリエーテルエステル系組成物(B)は、
本発明において、スルホン酸塩基を持たない芳香族カル
ボン酸成分(B1)、スルホン酸塩基含有化合物成分
(B2)、グリコール成分(B3)およびポリアルキレ
ンオキシド成分(B4)を共重合させた共重合体である
ことができ、あるいは、スルホン酸塩基を持たない芳香
族カルボン酸成分(B1)、スルホン酸塩基含有化合物
成分(B2)および炭素数2〜10のグリコール成分
(B3)を共重合させた共重合体と、芳香族カルボン酸
成分(B1)、グリコール成分(B3)およびポリアル
キレンオキシド成分(B4)を共重合させた共重合体と
の組合せからブレンドによって造ることもでき、さら
に、これらまたはこれらのブレンド物にポリアルキレン
オキシド成分(B4)をブレンドすることによって造る
等さまざまな方法によって造ることができる。
本発明において、スルホン酸塩基を持たない芳香族カル
ボン酸成分(B1)、スルホン酸塩基含有化合物成分
(B2)、グリコール成分(B3)およびポリアルキレ
ンオキシド成分(B4)を共重合させた共重合体である
ことができ、あるいは、スルホン酸塩基を持たない芳香
族カルボン酸成分(B1)、スルホン酸塩基含有化合物
成分(B2)および炭素数2〜10のグリコール成分
(B3)を共重合させた共重合体と、芳香族カルボン酸
成分(B1)、グリコール成分(B3)およびポリアル
キレンオキシド成分(B4)を共重合させた共重合体と
の組合せからブレンドによって造ることもでき、さら
に、これらまたはこれらのブレンド物にポリアルキレン
オキシド成分(B4)をブレンドすることによって造る
等さまざまな方法によって造ることができる。
【0083】得られたポリエーテルエステル系組成物
(B)は常法により水中カッター、ホットメルトカッタ
ーあるいは、機構の簡単なペレタイザーによリチツプ化
することができる。
(B)は常法により水中カッター、ホットメルトカッタ
ーあるいは、機構の簡単なペレタイザーによリチツプ化
することができる。
【0084】ポリエーテルエステル系組成物(B)は、
ポリカーボネート樹脂(A)100重量部に対し、5〜
40重量部の割合で含有される。かかるポリエーテルエ
ステル系組成物(B)が5重量部未満であると、得られ
るポリカーボネート系樹脂組成物の耐電性効果が不十分
になる。また、40重量部を超えると、得られるポリカ
ーボネート系樹脂組成物の物性が大きく低下する。好ま
しい割合は、ポリエーテルエステル系組成物(B)5〜
30重量部、より好ましくは7〜25重量部であり、さ
らに好ましくは10〜20重量部である。
ポリカーボネート樹脂(A)100重量部に対し、5〜
40重量部の割合で含有される。かかるポリエーテルエ
ステル系組成物(B)が5重量部未満であると、得られ
るポリカーボネート系樹脂組成物の耐電性効果が不十分
になる。また、40重量部を超えると、得られるポリカ
ーボネート系樹脂組成物の物性が大きく低下する。好ま
しい割合は、ポリエーテルエステル系組成物(B)5〜
30重量部、より好ましくは7〜25重量部であり、さ
らに好ましくは10〜20重量部である。
【0085】ポリエーテルエステル系組成物(B)は、
フェノール/テトラクロロエタン(重量比60/40)
の混合溶媒中35℃で測定した還元粘度(濃度1.2g
/dl)が0.3以上であることが好ましい。なお、こ
の測定方法は、ポリエーテルエステル系組成物(B)が
共重合物である場合のみならずブレンド物である場合に
も、同様に測定する。
フェノール/テトラクロロエタン(重量比60/40)
の混合溶媒中35℃で測定した還元粘度(濃度1.2g
/dl)が0.3以上であることが好ましい。なお、こ
の測定方法は、ポリエーテルエステル系組成物(B)が
共重合物である場合のみならずブレンド物である場合に
も、同様に測定する。
【0086】還元粘度が0.3より小さいと、ポリカー
ボネート系樹脂組成物の耐熱性や、機械物性低下の原因
となる。還元粘度の上限は、かかるポリマーが実質的に
線状の重合体または実質的に線状の重合体の混合物であ
るので、帯電防止効果の点でも機械物性の点でも高い方
が好ましい。還元粘度はより好ましくは0.4以上であ
り、さらに好ましくは0.5以上である。
ボネート系樹脂組成物の耐熱性や、機械物性低下の原因
となる。還元粘度の上限は、かかるポリマーが実質的に
線状の重合体または実質的に線状の重合体の混合物であ
るので、帯電防止効果の点でも機械物性の点でも高い方
が好ましい。還元粘度はより好ましくは0.4以上であ
り、さらに好ましくは0.5以上である。
【0087】かかるポリエーテルエステル系組成物
(B)は、上記芳香族カルボン酸成分(B1)とスルホ
ン酸塩基含有化合物成分(B2)とグリコール成分(B
3)および、ポリアルキレンオキシド成分(B4)が反
応性を有する(すなわち、重合反応に関与しうる)場合
にはポリアルキレンオキシド成分(B4)とを、エステ
ル交換触媒の存在下、常圧または減圧状態にて150〜
300℃で加熱溶融し重合反応せしめることによって得
ることができ、また、そのようにして生成した1種また
は2種以上の重合物をブレンドしあるいは、そのように
して生成した1種または2種以上の重合物と反応性を有
しない(すなわち、重合反応に関与しない)ポリアルキ
レンオキシド成分(B4)とをブレンドすることによっ
て得ることができる。なお、ポリアルキレンオキシド成
分(B4)が反応性を有しない場合にも上記エステル形
成性誘導体の生成反応中あるいは重合反応中の反応混合
物中に共存させることも差し支えない。
(B)は、上記芳香族カルボン酸成分(B1)とスルホ
ン酸塩基含有化合物成分(B2)とグリコール成分(B
3)および、ポリアルキレンオキシド成分(B4)が反
応性を有する(すなわち、重合反応に関与しうる)場合
にはポリアルキレンオキシド成分(B4)とを、エステ
ル交換触媒の存在下、常圧または減圧状態にて150〜
300℃で加熱溶融し重合反応せしめることによって得
ることができ、また、そのようにして生成した1種また
は2種以上の重合物をブレンドしあるいは、そのように
して生成した1種または2種以上の重合物と反応性を有
しない(すなわち、重合反応に関与しない)ポリアルキ
レンオキシド成分(B4)とをブレンドすることによっ
て得ることができる。なお、ポリアルキレンオキシド成
分(B4)が反応性を有しない場合にも上記エステル形
成性誘導体の生成反応中あるいは重合反応中の反応混合
物中に共存させることも差し支えない。
【0088】エステル交換触媒としては通常のエステル
交換反応に使用できるものなら特に制限はない。かかる
エステル交換触媒としては、例えば三酸化アンチモン等
のアンチモン化合物、酢酸第一錫、ジブチル錫オキサイ
ド、ジブチル錫ジアセテート等の錫化合物、テトラブチ
ルチタネート等のチタン化合物;酢酸亜鉛等の亜鉛化合
物;酢酸カルシウム等のカルシウム化合物;炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属塩等を例示するこ
とができる。これらのうちテトラブチルチタネートが好
ましく用いられる。
交換反応に使用できるものなら特に制限はない。かかる
エステル交換触媒としては、例えば三酸化アンチモン等
のアンチモン化合物、酢酸第一錫、ジブチル錫オキサイ
ド、ジブチル錫ジアセテート等の錫化合物、テトラブチ
ルチタネート等のチタン化合物;酢酸亜鉛等の亜鉛化合
物;酢酸カルシウム等のカルシウム化合物;炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属塩等を例示するこ
とができる。これらのうちテトラブチルチタネートが好
ましく用いられる。
【0089】また、上記触媒の使用量としては、通常の
エステル交換反応における使用量でよく、概ね、使用す
る酸成分1モルに対し、0.01〜0.5モル%が好ま
しく、0.03〜0.3モル%がより好ましい。
エステル交換反応における使用量でよく、概ね、使用す
る酸成分1モルに対し、0.01〜0.5モル%が好ま
しく、0.03〜0.3モル%がより好ましい。
【0090】また、上記重縮合反応時には酸化防止剤等
の各種安定剤を併用することも好ましい。
の各種安定剤を併用することも好ましい。
【0091】上記芳香族カルボン酸成分(B1)とスル
ホン酸塩基含有化合物成分(B2)とグリコール成分
(B3)および場合によってはポリアルキレンオキシド
成分(B4)との化合物を加熱溶融し重縮合する温度と
しては、初期反応として、150℃から200℃で数十
分から十数時間、エステル化反応および/またはエステ
ル交換反応を、留出物を留去しながら行った後、反応物
を高分子量化する重合反応を、真空下、180℃から3
00℃で行うのがよい。180℃より温度が低いと反応
が進まず、300℃より温度が高いと、分解などの副反
応が起こりやすくなるためである、重合反応温度は20
0℃〜280℃が好ましく、220℃〜250℃が特に
好ましい。この重合反応の反応時間は、反応温度や、触
媒量にもよるが、通常は、数十分〜数十時間程度であ
る。
ホン酸塩基含有化合物成分(B2)とグリコール成分
(B3)および場合によってはポリアルキレンオキシド
成分(B4)との化合物を加熱溶融し重縮合する温度と
しては、初期反応として、150℃から200℃で数十
分から十数時間、エステル化反応および/またはエステ
ル交換反応を、留出物を留去しながら行った後、反応物
を高分子量化する重合反応を、真空下、180℃から3
00℃で行うのがよい。180℃より温度が低いと反応
が進まず、300℃より温度が高いと、分解などの副反
応が起こりやすくなるためである、重合反応温度は20
0℃〜280℃が好ましく、220℃〜250℃が特に
好ましい。この重合反応の反応時間は、反応温度や、触
媒量にもよるが、通常は、数十分〜数十時間程度であ
る。
【0092】本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は
更にイオン性界面活性剤(C)を含有する。一般に樹脂
に対して帯電防止効果を発現させるためには界面活性剤
を添加するのが従来公知である。しかしそうした方法で
は、水洗や拭き取りによって帯電防止効果が低下してし
まう欠点があった。しかしながら、ポリエーテルエステ
ル系組成物(B)を含有する本発明のポリカーボネート
系樹脂組成物ではイオン性界面活性剤(C)を含有する
ことによって帯電防止効果が向上し、水洗や、拭き取り
によっても効果が低下することはない。
更にイオン性界面活性剤(C)を含有する。一般に樹脂
に対して帯電防止効果を発現させるためには界面活性剤
を添加するのが従来公知である。しかしそうした方法で
は、水洗や拭き取りによって帯電防止効果が低下してし
まう欠点があった。しかしながら、ポリエーテルエステ
ル系組成物(B)を含有する本発明のポリカーボネート
系樹脂組成物ではイオン性界面活性剤(C)を含有する
ことによって帯電防止効果が向上し、水洗や、拭き取り
によっても効果が低下することはない。
【0093】イオン性界面活性剤(C)としては、陰イ
オン系界面活性剤、または陽イオン系界面活性剤が挙げ
られるが、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンス
ルホン酸塩、および下記式(7)
オン系界面活性剤、または陽イオン系界面活性剤が挙げ
られるが、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンス
ルホン酸塩、および下記式(7)
【0094】
【化13】
【0095】[ここでR12、R13はそれぞれ独立に炭素
数3〜20のアルキル基であり、tは0〜4の整数、u
は0〜3の整数である。なお、t、uが0であるとは、
(R12)t、(R13)uが水素基であることを意味する。
Mは前記式(1)中のMと同義である。]で表わされる
アルキルナフタレンスルホン酸塩、下記式(8)
数3〜20のアルキル基であり、tは0〜4の整数、u
は0〜3の整数である。なお、t、uが0であるとは、
(R12)t、(R13)uが水素基であることを意味する。
Mは前記式(1)中のMと同義である。]で表わされる
アルキルナフタレンスルホン酸塩、下記式(8)
【0096】
【化14】
【0097】[式中R14、R15はそれぞれ独立に、炭素
数3〜20のアルキル基であり、vは0〜4、wは0〜
3の整数である。なお、v、wが0であるとは、
(R14)v、(R15)wが水素基であることを意味する。
Mは前記式(1)中のMと同義である。]で表わされる
アルキルビフェニレンスルホン酸塩等のイオン性界面活
性剤を好ましく用いることができる。
数3〜20のアルキル基であり、vは0〜4、wは0〜
3の整数である。なお、v、wが0であるとは、
(R14)v、(R15)wが水素基であることを意味する。
Mは前記式(1)中のMと同義である。]で表わされる
アルキルビフェニレンスルホン酸塩等のイオン性界面活
性剤を好ましく用いることができる。
【0098】アルキルスルホン酸塩としては、ドデシル
スルホン酸ナトリウム、ドデシルスルホン酸カリウム、
セチルスルホン酸ナトリウム、セチルスルホン酸カリウ
ム等の炭素数3〜20のアルキルスルホン酸アルカリ金
属塩を例示することができる。
スルホン酸ナトリウム、ドデシルスルホン酸カリウム、
セチルスルホン酸ナトリウム、セチルスルホン酸カリウ
ム等の炭素数3〜20のアルキルスルホン酸アルカリ金
属塩を例示することができる。
【0099】またアルキルベンゼンスルホン酸塩として
は、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシル
ベンゼンスルホン酸カリウム、デシルベンゼンスルホン
酸カリウム、セチルベンゼンスルホン酸ナトリウム、セ
チルベンゼンスルホン酸カリウム、等の炭素数3〜20
のアルキルベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩を例示す
ることができる。
は、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシル
ベンゼンスルホン酸カリウム、デシルベンゼンスルホン
酸カリウム、セチルベンゼンスルホン酸ナトリウム、セ
チルベンゼンスルホン酸カリウム、等の炭素数3〜20
のアルキルベンゼンスルホン酸アルカリ金属塩を例示す
ることができる。
【0100】かかるアルキルスルホン酸塩およびアルキ
ルベンゼンスルホン酸塩のアルキル基が炭素数3より小
さいと上記ポリカーボネート樹脂(A)、およびポリエ
ーテルエステル系組成物(B)に溶解しにくくなる傾向
があり物性低下の原因にもなるため好ましくない。
ルベンゼンスルホン酸塩のアルキル基が炭素数3より小
さいと上記ポリカーボネート樹脂(A)、およびポリエ
ーテルエステル系組成物(B)に溶解しにくくなる傾向
があり物性低下の原因にもなるため好ましくない。
【0101】更にまた、アルキルナフタレンスルホン酸
塩としては、たとえば、イソプロピルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、イソプロピルナフタレンスルホン酸カ
リウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オ
クチルナフタレンスルホン酸カリウム、ドデシルナフタ
レンスルホン酸ナトリウム、ドデシルナフタレンスルホ
ン酸カリウム、ジイソプロピルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム、ジイソプロピルナフタレンスルホン酸カリウ
ム、ジイソプロピルナフタレンビス(スルホン酸ナトリ
ウム)ジイソプロピルナフタレンビス(スルホン酸カリ
ウム)、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸カリウ
ム、等のアルキルナフタレンスルホン酸アルカリ金属塩
を挙げることができる。
塩としては、たとえば、イソプロピルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、イソプロピルナフタレンスルホン酸カ
リウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オ
クチルナフタレンスルホン酸カリウム、ドデシルナフタ
レンスルホン酸ナトリウム、ドデシルナフタレンスルホ
ン酸カリウム、ジイソプロピルナフタレンスルホン酸ナ
トリウム、ジイソプロピルナフタレンスルホン酸カリウ
ム、ジイソプロピルナフタレンビス(スルホン酸ナトリ
ウム)ジイソプロピルナフタレンビス(スルホン酸カリ
ウム)、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸カリウ
ム、等のアルキルナフタレンスルホン酸アルカリ金属塩
を挙げることができる。
【0102】アルキルビフェニルスルホン酸塩として
は、例えばイソプロピルビフェニレンスルホン酸ナトリ
ウム、イソプロピルビフェニレンスルホン酸カリウム、
オクチルビフェニレンスルホン酸ナトリウム、オクチル
ビフェニレンスルホン酸カリウム、ドデシルビフェニレ
ンスルホン酸ナトリウム、ドデシルビフェニレンスルホ
ン酸カリウム、ジイソプロピルビフェニレンスルホン酸
ナトリウム、ジイソプロピルビフェニレンスルホン酸カ
リウム、ジオクチルビフェニレンスルホン酸ナトリウ
ム、ジオクチルビフェニレンスルホン酸カリウム、ジド
デシルビフェニレンスルホン酸ナトリウム、ジドデシル
ビフェニレンスルホン酸カリウム、トリイソプロピルビ
フェニレンスルホン酸ナトリウム、トリイソプロピルビ
フェニレンスルホン酸カリウム、等のアルキルビフェニ
レンスルホン酸アルカリ金属塩を挙げることができる。
は、例えばイソプロピルビフェニレンスルホン酸ナトリ
ウム、イソプロピルビフェニレンスルホン酸カリウム、
オクチルビフェニレンスルホン酸ナトリウム、オクチル
ビフェニレンスルホン酸カリウム、ドデシルビフェニレ
ンスルホン酸ナトリウム、ドデシルビフェニレンスルホ
ン酸カリウム、ジイソプロピルビフェニレンスルホン酸
ナトリウム、ジイソプロピルビフェニレンスルホン酸カ
リウム、ジオクチルビフェニレンスルホン酸ナトリウ
ム、ジオクチルビフェニレンスルホン酸カリウム、ジド
デシルビフェニレンスルホン酸ナトリウム、ジドデシル
ビフェニレンスルホン酸カリウム、トリイソプロピルビ
フェニレンスルホン酸ナトリウム、トリイソプロピルビ
フェニレンスルホン酸カリウム、等のアルキルビフェニ
レンスルホン酸アルカリ金属塩を挙げることができる。
【0103】上記のイオン性界面活性剤(C)は単独
で、あるいは2種以上を組み合せて使用することができ
る。上記のイオン性界面活性剤(C)の添加量はポリカ
ーボネート樹脂(A)100重量部、ポリエーテルエス
テル系組成物(B)5〜40重量部に対し0.5〜10
重量部であり、更にポリエーテルエステル系組成物
(B)に対しては10〜30重量%が好適である。ポリ
カーボネート樹脂(A)100重量部に対し、添加剤量
が0.5重量部より少ないとイオン性界面活性剤(C)
の添加効果による帯電防止効果が十分発揮されないこと
があり、10重量を超えるとポリカーボネート系樹脂組
成物の物性が低下する原因になったり、取り扱い性の低
下を招くことがある。イオン性界面活性剤(C)の添加
量としては、ポリカーボネート樹脂(A)100重量部
に対し1〜6重量部がさらに好ましい。
で、あるいは2種以上を組み合せて使用することができ
る。上記のイオン性界面活性剤(C)の添加量はポリカ
ーボネート樹脂(A)100重量部、ポリエーテルエス
テル系組成物(B)5〜40重量部に対し0.5〜10
重量部であり、更にポリエーテルエステル系組成物
(B)に対しては10〜30重量%が好適である。ポリ
カーボネート樹脂(A)100重量部に対し、添加剤量
が0.5重量部より少ないとイオン性界面活性剤(C)
の添加効果による帯電防止効果が十分発揮されないこと
があり、10重量を超えるとポリカーボネート系樹脂組
成物の物性が低下する原因になったり、取り扱い性の低
下を招くことがある。イオン性界面活性剤(C)の添加
量としては、ポリカーボネート樹脂(A)100重量部
に対し1〜6重量部がさらに好ましい。
【0104】イオン性界面活性剤(C)を含む本発明の
ポリカーボネート系樹脂組成物では、イオン性界面活性
剤(C)がポリエーテルエステル系組成物(B)に対し
てより親和性を持つため、ポリカーボネート樹脂(A)
の屈折率とポリエーテルエステル系組成物(B)の屈折
率との差は、ポリカーボネート樹脂(A)の屈折率と、
ポリエーテルエステル系組成物(B)とイオン性界面活
性剤(C)の混合物の屈折率との差として現われる。そ
れ故、イオン性界面活性剤(C)を含む本発明のポリカ
ーボネート系樹脂組成物では、ポリカーボネート樹脂
(A)の屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物
(B)とイオン性界面活性剤(C)との配合量における
混合物の屈折率との差が高々0.04である必要があ
る。屈折率の差が高々0.04であるのは全可視光領域
に亘るのが好ましいが、実用的には少なくともブラウン
ホーファー線のD線(波長589nm)における屈折率
の差が高々0.04であればよい。この差が0.04を
超えると、ポリカーボネート系樹脂組成物中において、
ポリカーボネート樹脂(A)と、ポリエーテルエステル
系組成物(B)の不連続層の界面で光散乱が生じ易くな
り、濁りを生じて透明性が低下する。
ポリカーボネート系樹脂組成物では、イオン性界面活性
剤(C)がポリエーテルエステル系組成物(B)に対し
てより親和性を持つため、ポリカーボネート樹脂(A)
の屈折率とポリエーテルエステル系組成物(B)の屈折
率との差は、ポリカーボネート樹脂(A)の屈折率と、
ポリエーテルエステル系組成物(B)とイオン性界面活
性剤(C)の混合物の屈折率との差として現われる。そ
れ故、イオン性界面活性剤(C)を含む本発明のポリカ
ーボネート系樹脂組成物では、ポリカーボネート樹脂
(A)の屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物
(B)とイオン性界面活性剤(C)との配合量における
混合物の屈折率との差が高々0.04である必要があ
る。屈折率の差が高々0.04であるのは全可視光領域
に亘るのが好ましいが、実用的には少なくともブラウン
ホーファー線のD線(波長589nm)における屈折率
の差が高々0.04であればよい。この差が0.04を
超えると、ポリカーボネート系樹脂組成物中において、
ポリカーボネート樹脂(A)と、ポリエーテルエステル
系組成物(B)の不連続層の界面で光散乱が生じ易くな
り、濁りを生じて透明性が低下する。
【0105】本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は
透明性に優れるものであり、従ってヘーズ値は40%以
下であり、好ましくは30%以下、より好ましくは20
%以下である。
透明性に優れるものであり、従ってヘーズ値は40%以
下であり、好ましくは30%以下、より好ましくは20
%以下である。
【0106】また、本発明のポリカーボネート系樹脂組
成物は同時に帯電防止性に優れており、表面固有抵抗率
が1×1010〜1×1014Ω/cm2のものである。
成物は同時に帯電防止性に優れており、表面固有抵抗率
が1×1010〜1×1014Ω/cm2のものである。
【0107】本発明のポリカーボネート系樹脂組成物
は、ポリカーボネート樹脂(A)、ポリエーテルエステ
ル系組成物(B)および必要に応じて各種添加剤を、あ
るいはこれらの成分とさらにイオン性界面活性剤(C)
を、それ自体公知の方法で溶融混練することにより製造
される。
は、ポリカーボネート樹脂(A)、ポリエーテルエステ
ル系組成物(B)および必要に応じて各種添加剤を、あ
るいはこれらの成分とさらにイオン性界面活性剤(C)
を、それ自体公知の方法で溶融混練することにより製造
される。
【0108】上記ポリカーボネート樹脂(A)、ポリエ
ーテルエステル系組成物(B)およびイオン性界面活性
剤(C)の混合の順序に対しては、例えばすべてを同時
に混合する方法、2種をあらかじめ混合しておいた後、
他の1成分と混合する方法等が挙げられる。こうした場
合は、従来公知の方法で実施可能である。こうした方法
の中では、すべてを同時に混合する方法あるいは、ポリ
エーテルエステル系組成物(B)およびイオン性界面活
性剤(C)をあらかじめ混合しておいた後、ポリカーボ
ネート樹脂(A)を混合する方法が好ましい。また、帯
電防止効果や取り扱い性の点では後者方法がさらに好ま
しい。
ーテルエステル系組成物(B)およびイオン性界面活性
剤(C)の混合の順序に対しては、例えばすべてを同時
に混合する方法、2種をあらかじめ混合しておいた後、
他の1成分と混合する方法等が挙げられる。こうした場
合は、従来公知の方法で実施可能である。こうした方法
の中では、すべてを同時に混合する方法あるいは、ポリ
エーテルエステル系組成物(B)およびイオン性界面活
性剤(C)をあらかじめ混合しておいた後、ポリカーボ
ネート樹脂(A)を混合する方法が好ましい。また、帯
電防止効果や取り扱い性の点では後者方法がさらに好ま
しい。
【0109】すべてを同時に混合する方法としては、一
軸あるいは二軸の溶融押し出し機を用いて、ポリカーボ
ネート樹脂(A)およびポリエーテルエステル系組成物
(B)を、あるいはポリカーボネート樹脂(A)、ポリ
エーテルエステル系組成物(B)およびイオン性界面活
性剤(C)を、必要に応じて用いられる各種添加剤と一
緒に混練する。
軸あるいは二軸の溶融押し出し機を用いて、ポリカーボ
ネート樹脂(A)およびポリエーテルエステル系組成物
(B)を、あるいはポリカーボネート樹脂(A)、ポリ
エーテルエステル系組成物(B)およびイオン性界面活
性剤(C)を、必要に応じて用いられる各種添加剤と一
緒に混練する。
【0110】溶融混練の温度としては、ポリカーボネー
ト樹脂(A)の溶融温度に依存するが、ほぼ250〜3
20℃が好ましい。
ト樹脂(A)の溶融温度に依存するが、ほぼ250〜3
20℃が好ましい。
【0111】2成分をあらかじめ混合しておいた後、他
の1成分と混合する方法としては、ポリエーテルエステ
ル系組成物(B)およびイオン性界面活性剤(C)をあ
らかじめ混合しておいた後、ポリカーボネート樹脂
(A)を、必要に応じて後述する各種の添加剤とともに
混合する方法が得られるポリカーボネート系樹脂組成物
の帯電防止効果や成形時の取り扱い性の点で好ましい。
の1成分と混合する方法としては、ポリエーテルエステ
ル系組成物(B)およびイオン性界面活性剤(C)をあ
らかじめ混合しておいた後、ポリカーボネート樹脂
(A)を、必要に応じて後述する各種の添加剤とともに
混合する方法が得られるポリカーボネート系樹脂組成物
の帯電防止効果や成形時の取り扱い性の点で好ましい。
【0112】ここでポリエーテルエステル系組成物
(B)とイオン性界面活性剤(C)とを溶融混合する方
法としては、例えば、ポリエーテルエステル系組成物
(B)が重合反応した後、そのまま重合槽にかかるイオ
ン性界面活性剤(C)を添加して混練する方法、また、
一軸あるいは二軸の溶融押し出し機を用いて両者を混練
する方法が挙げられる。溶融混練する温度としては、概
ね140℃から300℃である。140℃より温度が低
いと混合が十分ではないことがあり、300℃より温度
が高いと、分解などの劣化を起すことがあり好ましくな
い。溶融混練温度は好ましくは160℃から270℃で
あり、より好ましくは200℃から250℃である。
(B)とイオン性界面活性剤(C)とを溶融混合する方
法としては、例えば、ポリエーテルエステル系組成物
(B)が重合反応した後、そのまま重合槽にかかるイオ
ン性界面活性剤(C)を添加して混練する方法、また、
一軸あるいは二軸の溶融押し出し機を用いて両者を混練
する方法が挙げられる。溶融混練する温度としては、概
ね140℃から300℃である。140℃より温度が低
いと混合が十分ではないことがあり、300℃より温度
が高いと、分解などの劣化を起すことがあり好ましくな
い。溶融混練温度は好ましくは160℃から270℃で
あり、より好ましくは200℃から250℃である。
【0113】本発明のポリカーボネート系樹脂組成物に
は、上記の如く、必要に応じ各種添加剤を含有させるこ
とができる。
は、上記の如く、必要に応じ各種添加剤を含有させるこ
とができる。
【0114】かかる添加剤としては、例えばリン酸エス
テル、亜リン酸エステルに代表されるような熱安定剤あ
るいは触媒失活剤、ヒンダードフェノール等の酸化安定
剤、光安定剤、滑剤、ハロゲンまたはリン系等を含む難
燃化剤、難燃助剤、可塑剤などを挙げることができる。
テル、亜リン酸エステルに代表されるような熱安定剤あ
るいは触媒失活剤、ヒンダードフェノール等の酸化安定
剤、光安定剤、滑剤、ハロゲンまたはリン系等を含む難
燃化剤、難燃助剤、可塑剤などを挙げることができる。
【0115】本発明のポリカーボネート系樹脂組成物
は、これを2mm厚の評価用成形品にしたときの可視光
線の透過率が60%以上であることが透明性が良好であ
り好ましい。透過率が60%より少ないと、ポリカーボ
ネート樹脂の特性の一つである透明性が損なわれるので
好ましくない。光線透過率は高いほど好ましく、65%
以上であることがさらに好ましい。
は、これを2mm厚の評価用成形品にしたときの可視光
線の透過率が60%以上であることが透明性が良好であ
り好ましい。透過率が60%より少ないと、ポリカーボ
ネート樹脂の特性の一つである透明性が損なわれるので
好ましくない。光線透過率は高いほど好ましく、65%
以上であることがさらに好ましい。
【0116】本発明において用いられる上記ポリエーテ
ルエステル系組成物(B)は、イオン性界面活性剤とと
もにポリカーボネート樹脂と混練して、透明性を損わず
且つ優れた帯電防止性を備えた組成物を与えることで極
めて特異的である。
ルエステル系組成物(B)は、イオン性界面活性剤とと
もにポリカーボネート樹脂と混練して、透明性を損わず
且つ優れた帯電防止性を備えた組成物を与えることで極
めて特異的である。
【0117】イ)透明制電性アクリレート系樹脂組成物
(以下、アクリレート系樹脂組成物ともいう) 本発明の透明で防塵性を有する記録媒体用収納容器は、
以下記述するアクリレート系樹脂組成物を成形すること
により、好ましく製造することができる。本発明で好ま
しく使用することのできるアクリレート系樹脂組成物
は、アクリル系樹脂(D)100重量部、主としてスル
ホン酸塩基を持たない炭素数4〜20の芳香族カルボン
酸成分(E1)、スルホン酸塩基を持たない炭素数4〜
20の脂肪族カルボン酸成分(E2)、少なくとも一種
のスルホン酸塩基含有化合物成分(B2)、炭素数2〜
10のグリコール成分(B3)および少なくとも一種の
ポリアルキレンオキシド成分(B4)から作製される組
成物(以下、この、主として芳香族カルボン酸成分(E
1)、脂肪族カルボン酸成分(E2)、スルホン酸塩基
含有化合物成分(B2)およびグリコール成分(B3)
から作製される組成物をポリエーテルエステル系組成物
(E)と呼ぶ)5〜30重量部とイオン性界面活性剤
(C)0.5〜6重量部とより成る透明、帯電防止性ア
クリレート系樹脂組成物であってスルホン酸塩基含有化
合物成分(B2)の量がポリエーテルエステル系組成物
(E)中の全カルボン酸成分(全ジカルボン酸+全オキ
シカルボン酸成分)に対して5〜50モル%であり、ポ
リアルキレンオキシド成分(B4)の含有量がポリエー
テルエステル系組成物(E)の全重量に対し10〜80
重量%の範囲にあり、かつ上記アクリル系樹脂(D)の
屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物(E)とイオ
ン性界面活性剤(C)とからなる混合物との屈折率差
が、0.03以内であることを特徴とする、透明帯電防
止性アクリレート系樹脂組成物によって、達成される。
(以下、アクリレート系樹脂組成物ともいう) 本発明の透明で防塵性を有する記録媒体用収納容器は、
以下記述するアクリレート系樹脂組成物を成形すること
により、好ましく製造することができる。本発明で好ま
しく使用することのできるアクリレート系樹脂組成物
は、アクリル系樹脂(D)100重量部、主としてスル
ホン酸塩基を持たない炭素数4〜20の芳香族カルボン
酸成分(E1)、スルホン酸塩基を持たない炭素数4〜
20の脂肪族カルボン酸成分(E2)、少なくとも一種
のスルホン酸塩基含有化合物成分(B2)、炭素数2〜
10のグリコール成分(B3)および少なくとも一種の
ポリアルキレンオキシド成分(B4)から作製される組
成物(以下、この、主として芳香族カルボン酸成分(E
1)、脂肪族カルボン酸成分(E2)、スルホン酸塩基
含有化合物成分(B2)およびグリコール成分(B3)
から作製される組成物をポリエーテルエステル系組成物
(E)と呼ぶ)5〜30重量部とイオン性界面活性剤
(C)0.5〜6重量部とより成る透明、帯電防止性ア
クリレート系樹脂組成物であってスルホン酸塩基含有化
合物成分(B2)の量がポリエーテルエステル系組成物
(E)中の全カルボン酸成分(全ジカルボン酸+全オキ
シカルボン酸成分)に対して5〜50モル%であり、ポ
リアルキレンオキシド成分(B4)の含有量がポリエー
テルエステル系組成物(E)の全重量に対し10〜80
重量%の範囲にあり、かつ上記アクリル系樹脂(D)の
屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物(E)とイオ
ン性界面活性剤(C)とからなる混合物との屈折率差
が、0.03以内であることを特徴とする、透明帯電防
止性アクリレート系樹脂組成物によって、達成される。
【0118】イオン界面活性剤を含む本発明の樹脂組成
物は、イオン性界面活性剤(C)がポリエーテルエステ
ルに対してより親和性を持つため、アクリル系樹脂
(D)の屈折率とポリエーテルエステルの屈折率との差
は、アクリル系樹脂(D)の屈折率とポリエーテルエス
テルとイオン性界面活性剤(C)との混合物の屈折率と
の差として現れる。
物は、イオン性界面活性剤(C)がポリエーテルエステ
ルに対してより親和性を持つため、アクリル系樹脂
(D)の屈折率とポリエーテルエステルの屈折率との差
は、アクリル系樹脂(D)の屈折率とポリエーテルエス
テルとイオン性界面活性剤(C)との混合物の屈折率と
の差として現れる。
【0119】それゆえ、イオン性界面活性剤(C)を含
有する本発明の樹脂組成物では、アクリル系樹脂(D)
の屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物(B)とイ
オン性界面活性剤(C)との配合量における混合物の屈
折率が0.03以内となることが必須条件である。
有する本発明の樹脂組成物では、アクリル系樹脂(D)
の屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物(B)とイ
オン性界面活性剤(C)との配合量における混合物の屈
折率が0.03以内となることが必須条件である。
【0120】屈折率差が0.03以内となるのは全可視
光領域に渉ることが好ましい。実用的には少なくともフ
ラウンホーファー線のD線(波長589nm)における
屈折率差が0.03以内であることが必要である。
光領域に渉ることが好ましい。実用的には少なくともフ
ラウンホーファー線のD線(波長589nm)における
屈折率差が0.03以内であることが必要である。
【0121】屈折率差が0.03より大きいと、樹脂組
成物中のアクリル系樹脂(D)とポリエーテルエステル
系組成物(E)の境界領域において光の散乱が生じ、成
形物の濁りを生じることになる。
成物中のアクリル系樹脂(D)とポリエーテルエステル
系組成物(E)の境界領域において光の散乱が生じ、成
形物の濁りを生じることになる。
【0122】屈折率差は透明性の面でより少ないほうが
好ましく0.02以内とすることがより好ましい。
好ましく0.02以内とすることがより好ましい。
【0123】ここで芳香族カルボン酸成分(E1)と
は、ポリカーボネート系樹脂組成物を構成する芳香族カ
ルボン酸成分(B1)と同じ物である。
は、ポリカーボネート系樹脂組成物を構成する芳香族カ
ルボン酸成分(B1)と同じ物である。
【0124】本発明に用いられる炭素数2〜20の脂肪
族カルボン酸成分(E2)は脂肪族ジカルボン酸、オキ
シカルボン酸および/またはそれらの誘導体である。
族カルボン酸成分(E2)は脂肪族ジカルボン酸、オキ
シカルボン酸および/またはそれらの誘導体である。
【0125】ここでかかる脂肪族ジカルボン酸および/
またはその誘導体としては、例えば、コハク酸、グルタ
ル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コルク酸、アゼライン
酸、セバシン酸、ブラシリン酸、タブシン酸、1,17
−ヘプタデカンジカルボン酸、1,18−オクタデカン
ジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、
1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−デカリ
ンジカルボン酸、トリシクロ(5.2.1.02.6)デ
カン−4,8−ジカルボン酸、2,4−ジカルボン酸、
2,4−ジカルボキシテトラヒドロナフタレン、1,3
−シクロブタンジカルボン酸、グリコール酸、乳酸、ヒ
ドロキシアクリル酸、β−オキシイソ酪酸、オキシピバ
ル酸、6−オキシヘキサン酸、ω−カプロラクトン、1
1−オキシテトラデカン酸、サビニン酸、コニペリン
酸、4−ヒドロキシメチルシクロヘキサンカルボン酸、
4−ヒドロキシメチルデカリン−1−カルボン酸、7−
ヒドロキシメチルデカリン−6−カルボン酸、これらの
エステル化合物、コハク酸ジメチル、アジピン酸ジエチ
ルコルク酸ジメチル、アゼライン酸ジエチル、セバシン
酸ジメチル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメ
チル、1,4−デカリンジカルボン酸ジエチル、2,4
−ジカルボキシテトラヒドロナフタレンジエチル、ヒド
ロキシアクリル酸メチル、オキシピバル酸メチル、等が
挙げられる。
またはその誘導体としては、例えば、コハク酸、グルタ
ル酸、アジピン酸、ピメリン酸、コルク酸、アゼライン
酸、セバシン酸、ブラシリン酸、タブシン酸、1,17
−ヘプタデカンジカルボン酸、1,18−オクタデカン
ジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、
1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−デカリ
ンジカルボン酸、トリシクロ(5.2.1.02.6)デ
カン−4,8−ジカルボン酸、2,4−ジカルボン酸、
2,4−ジカルボキシテトラヒドロナフタレン、1,3
−シクロブタンジカルボン酸、グリコール酸、乳酸、ヒ
ドロキシアクリル酸、β−オキシイソ酪酸、オキシピバ
ル酸、6−オキシヘキサン酸、ω−カプロラクトン、1
1−オキシテトラデカン酸、サビニン酸、コニペリン
酸、4−ヒドロキシメチルシクロヘキサンカルボン酸、
4−ヒドロキシメチルデカリン−1−カルボン酸、7−
ヒドロキシメチルデカリン−6−カルボン酸、これらの
エステル化合物、コハク酸ジメチル、アジピン酸ジエチ
ルコルク酸ジメチル、アゼライン酸ジエチル、セバシン
酸ジメチル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメ
チル、1,4−デカリンジカルボン酸ジエチル、2,4
−ジカルボキシテトラヒドロナフタレンジエチル、ヒド
ロキシアクリル酸メチル、オキシピバル酸メチル、等が
挙げられる。
【0126】これらの化合物の導入によりポリエーテル
エステル系組成物(E)の取り扱い性が大幅に向上す
る。これらの内で2個のカルボキシル基、またはヒドロ
キシル基とカルボキシル基が4〜16個の炭素原子で隔
てられているものが取り扱い性向上に好ましい。中でも
炭素原子5〜16個で隔てられているものが好ましい。
エステル系組成物(E)の取り扱い性が大幅に向上す
る。これらの内で2個のカルボキシル基、またはヒドロ
キシル基とカルボキシル基が4〜16個の炭素原子で隔
てられているものが取り扱い性向上に好ましい。中でも
炭素原子5〜16個で隔てられているものが好ましい。
【0127】これら脂肪族ジカルボン酸、オキシカルボ
ン酸等の使用量は、ポリエーテルエステル系組成物
(E)を構成する全カルボン酸成分(全ジカルボン酸+
全オキシカルボン酸成分)に対して、5〜50モル%の
範囲に選択されるが、またポリエーテルエステル系組成
物(E)の全重量に対しては、1〜30重量%となるよ
う、好ましく選択される。
ン酸等の使用量は、ポリエーテルエステル系組成物
(E)を構成する全カルボン酸成分(全ジカルボン酸+
全オキシカルボン酸成分)に対して、5〜50モル%の
範囲に選択されるが、またポリエーテルエステル系組成
物(E)の全重量に対しては、1〜30重量%となるよ
う、好ましく選択される。
【0128】かかる量範囲内にあると、ポリエーテルエ
ステル系組成物(E)のチップ化時の切断も良好であ
り、得られたチップの保管時のブロック化も起こらず好
ましい。更に該ポリエーテルエステル系組成物(E)に
イオン性界面活性剤(C)を混合したもののチップ化も
良好であり、また得られたチップの保管時のブロック化
も防ぐことができる。
ステル系組成物(E)のチップ化時の切断も良好であ
り、得られたチップの保管時のブロック化も起こらず好
ましい。更に該ポリエーテルエステル系組成物(E)に
イオン性界面活性剤(C)を混合したもののチップ化も
良好であり、また得られたチップの保管時のブロック化
も防ぐことができる。
【0129】アクリレート系樹脂組成物用に使用できる
式(1)で表わされるスルホン酸塩基含有ジカルボン酸
成分および/またはその誘導体と式(2)で表わされる
スルホン酸塩基含有グリコール成分および/またはその
誘導体との具体例や好ましいものとしてはポリカーボネ
ート系樹脂組成物について記述したものと同様である。
式(1)で表わされるスルホン酸塩基含有ジカルボン酸
成分および/またはその誘導体と式(2)で表わされる
スルホン酸塩基含有グリコール成分および/またはその
誘導体との具体例や好ましいものとしてはポリカーボネ
ート系樹脂組成物について記述したものと同様である。
【0130】上記スルホン酸塩含有化合物成分(B2)
の含有量はポリエーテルエステル系組成物(E)中の全
カルボン酸成分(全ジカルボン酸成分+全オキシカルボ
ン酸成分)に対して5〜50モル%であるが、かかるス
ルホン酸塩基含有化合物成分(B2)の割合が5モル%
未満では、帯電防止効果が十分でなかったり、水洗に対
する帯電防止効果の耐久性、上記樹脂組成物をアクリル
系樹脂(D)と溶融混合して成形した成形品の表面の拭
き取り時の帯電防止効果の耐久性が十分でない。
の含有量はポリエーテルエステル系組成物(E)中の全
カルボン酸成分(全ジカルボン酸成分+全オキシカルボ
ン酸成分)に対して5〜50モル%であるが、かかるス
ルホン酸塩基含有化合物成分(B2)の割合が5モル%
未満では、帯電防止効果が十分でなかったり、水洗に対
する帯電防止効果の耐久性、上記樹脂組成物をアクリル
系樹脂(D)と溶融混合して成形した成形品の表面の拭
き取り時の帯電防止効果の耐久性が十分でない。
【0131】特に、ポリエーテルエステル系組成物
(E)中に共重合されているスルホン酸塩基含有化合物
(B2)とイオン性界面活性剤(C)との間に相互作用
が生じる結果、帯電防止効果が相乗的に向上し、しか
も、従来からの問題であった、イオン性界面活性剤
(C)の流出が抑制され、帯電防止効果が維持されると
推測される。
(E)中に共重合されているスルホン酸塩基含有化合物
(B2)とイオン性界面活性剤(C)との間に相互作用
が生じる結果、帯電防止効果が相乗的に向上し、しか
も、従来からの問題であった、イオン性界面活性剤
(C)の流出が抑制され、帯電防止効果が維持されると
推測される。
【0132】一方、スルホン酸塩基含有化合物成分(B
2)が50モル%を越えると、重合反応が困難になり、
十分な重合度のポリエーテルエステル系組成物(E)を
得にくくなったり、また取り扱い性が悪化する。
2)が50モル%を越えると、重合反応が困難になり、
十分な重合度のポリエーテルエステル系組成物(E)を
得にくくなったり、また取り扱い性が悪化する。
【0133】スルホン酸塩基含有化合物成分(B2)の
好ましい含有割合は、6〜40モル%であり、さらに好
ましくは7〜30モル%である。
好ましい含有割合は、6〜40モル%であり、さらに好
ましくは7〜30モル%である。
【0134】アクリレート系樹脂組成物用に使用できる
グリコール成分(B3)、ポリアルキレンオキシド成分
(B4)、イオン性界面活性剤(C)の、種類、内容、
具体例、好ましい態様は、ポリカーボネート系樹脂組成
物について記述したものと同様である。
グリコール成分(B3)、ポリアルキレンオキシド成分
(B4)、イオン性界面活性剤(C)の、種類、内容、
具体例、好ましい態様は、ポリカーボネート系樹脂組成
物について記述したものと同様である。
【0135】上記ポリアルキレンオキシド成分(B4)
は、最終的に得られる樹脂組成物の機械物性、帯電防止
効果の点から、ポリエーテルエステル系組成物(E)全
体の10〜80重量%の範囲内であることが必要であ
る。すなわち、ポリエーテルエステル系組成物(E)を
構成するポリアルキレンオキシド成分(B4)の含有量
が(E1)〜(B4)の仕込みの合計量に対して10〜
80重量%となるようにする。10重量%より少ないと
帯電防止効果が十分でなく、80重量%より多い場合に
は、ポリエーテルエステル系組成物(E)のガラス転移
温度Tgが低くなりすぎるため、取り扱いが困難となる
からである。好ましい脂肪族カルボン酸成分(E2)の
含有量は、芳香族カルボン酸成分(E1)、脂肪族カル
ボン酸成分(E2)、スルホン酸塩基含有化合物成分
(B2)およびポリアルキレンオキシド成分(B4)の
4成分の合計量に基づいて25〜70重量%の範囲であ
り、より好ましくは30〜60重量%の範囲である。
は、最終的に得られる樹脂組成物の機械物性、帯電防止
効果の点から、ポリエーテルエステル系組成物(E)全
体の10〜80重量%の範囲内であることが必要であ
る。すなわち、ポリエーテルエステル系組成物(E)を
構成するポリアルキレンオキシド成分(B4)の含有量
が(E1)〜(B4)の仕込みの合計量に対して10〜
80重量%となるようにする。10重量%より少ないと
帯電防止効果が十分でなく、80重量%より多い場合に
は、ポリエーテルエステル系組成物(E)のガラス転移
温度Tgが低くなりすぎるため、取り扱いが困難となる
からである。好ましい脂肪族カルボン酸成分(E2)の
含有量は、芳香族カルボン酸成分(E1)、脂肪族カル
ボン酸成分(E2)、スルホン酸塩基含有化合物成分
(B2)およびポリアルキレンオキシド成分(B4)の
4成分の合計量に基づいて25〜70重量%の範囲であ
り、より好ましくは30〜60重量%の範囲である。
【0136】ポリエーテルエステル系組成物(E)はス
ルホン酸塩基を持たない芳香族カルボン酸成分(B1)
の代わりに芳香族カルボン酸成分(E1)と脂肪族カル
ボン酸成分(E2)とを用いる以外はポリエーテルエス
テル系組成物(B)と同様にして造ることができ、その
還元粘度についての条件もポリエーテルエステル系組成
物(B)の場合と同様である。
ルホン酸塩基を持たない芳香族カルボン酸成分(B1)
の代わりに芳香族カルボン酸成分(E1)と脂肪族カル
ボン酸成分(E2)とを用いる以外はポリエーテルエス
テル系組成物(B)と同様にして造ることができ、その
還元粘度についての条件もポリエーテルエステル系組成
物(B)の場合と同様である。
【0137】一般に樹脂に対して帯電防止効果を発現さ
せるために界面活性剤を添加するのは従来公知の方法で
あるが、そうした方法では、水洗や拭き取りにより帯電
防止効果が低下してしまう。
せるために界面活性剤を添加するのは従来公知の方法で
あるが、そうした方法では、水洗や拭き取りにより帯電
防止効果が低下してしまう。
【0138】それに対し、イオン性界面活性剤(C)を
添加された本発明の樹脂組成物は、驚くべきことに水洗
や拭き取りによっても帯電防止効果が損なわれることは
ない。
添加された本発明の樹脂組成物は、驚くべきことに水洗
や拭き取りによっても帯電防止効果が損なわれることは
ない。
【0139】本発明の永久帯電防止を付与する樹脂組成
物は、上述のアクリル系樹脂(D)100重量部に対
し、ポリエーテルエステル系組成物(E)5〜30重量
部、イオン性界面活性剤(C)0.5〜6重量部により
構成される。
物は、上述のアクリル系樹脂(D)100重量部に対
し、ポリエーテルエステル系組成物(E)5〜30重量
部、イオン性界面活性剤(C)0.5〜6重量部により
構成される。
【0140】ポリエーテルエステル系組成物(E)の量
が5重量部未満であると制電性能が十分発現せず、30
重量部より多いと取り扱い性、成形品の耐熱性が悪化す
る。好ましい量は、5〜25重量部、更に好ましくは、
8〜20重量部である。
が5重量部未満であると制電性能が十分発現せず、30
重量部より多いと取り扱い性、成形品の耐熱性が悪化す
る。好ましい量は、5〜25重量部、更に好ましくは、
8〜20重量部である。
【0141】また、イオン性界面活性剤(C)の量が
0.5重量部未満であるとアクリル系樹脂(D)とポリ
エーテルエステル系組成物(E)が相溶化せず取り扱い
性が悪化し、かつ静電性能が十分発現しない。6重量部
より多いと取り扱い性、成形品の機械物性が悪化する。
好ましい量は0.7〜5重量部、更に好ましくは、1〜
4重量部である。
0.5重量部未満であるとアクリル系樹脂(D)とポリ
エーテルエステル系組成物(E)が相溶化せず取り扱い
性が悪化し、かつ静電性能が十分発現しない。6重量部
より多いと取り扱い性、成形品の機械物性が悪化する。
好ましい量は0.7〜5重量部、更に好ましくは、1〜
4重量部である。
【0142】本発明で用いられるアクリル系樹脂(D)
としてはポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エ
チル、ポリメタクリル酸プロピル、ポリメタクリル酸ブ
チル、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、
メタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体、メタ
クリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体、メタク
リル酸メチル−メタクリル酸ブチル共重合体、メタクリ
ル酸メチル−アクリル酸エチル共重合体などのメタクリ
ル酸エステルおよび/またはアクリル酸エステルの単独
重合体あるいは共重合体等が上げられる。これらのアク
リル系樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組み合わ
せてもよい。また、それらの製造方法については特に制
限はなく、公知の懸濁重合法、乳化重合法、バルク重合
法などで製造したものを用いることができる。
としてはポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エ
チル、ポリメタクリル酸プロピル、ポリメタクリル酸ブ
チル、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、
メタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体、メタ
クリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体、メタク
リル酸メチル−メタクリル酸ブチル共重合体、メタクリ
ル酸メチル−アクリル酸エチル共重合体などのメタクリ
ル酸エステルおよび/またはアクリル酸エステルの単独
重合体あるいは共重合体等が上げられる。これらのアク
リル系樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組み合わ
せてもよい。また、それらの製造方法については特に制
限はなく、公知の懸濁重合法、乳化重合法、バルク重合
法などで製造したものを用いることができる。
【0143】本発明のアクリレート系樹脂組成物の帯電
防止効果の雰囲気湿度依存性の良化は、ポリエーテルエ
ステル系組成物(E)中、炭素数2〜20の脂肪族カル
ボン酸成分を導入することにより、該ポリエーテルエス
テルおよびイオン性界面活性剤(C)のアクリル系樹脂
との相互溶解性を改良する結果もたらされるものと推定
している。
防止効果の雰囲気湿度依存性の良化は、ポリエーテルエ
ステル系組成物(E)中、炭素数2〜20の脂肪族カル
ボン酸成分を導入することにより、該ポリエーテルエス
テルおよびイオン性界面活性剤(C)のアクリル系樹脂
との相互溶解性を改良する結果もたらされるものと推定
している。
【0144】本発明のアクリレート系樹脂組成物は、ポ
リカーボネート樹脂(A)をアクリル系樹脂(D)に置
き換え、ポリエーテルエステル系組成物(B)をポリエ
ーテルエステル系組成物(E)に置き換える以外はポリ
カーボネート樹脂(A)とポリエーテルエステル系組成
物(B)とイオン性界面活性剤(C)とからポリカーボ
ネート樹脂組成物を製造するのと同様の方法で製造され
る。
リカーボネート樹脂(A)をアクリル系樹脂(D)に置
き換え、ポリエーテルエステル系組成物(B)をポリエ
ーテルエステル系組成物(E)に置き換える以外はポリ
カーボネート樹脂(A)とポリエーテルエステル系組成
物(B)とイオン性界面活性剤(C)とからポリカーボ
ネート樹脂組成物を製造するのと同様の方法で製造され
る。
【0145】本発明のアクリレート系樹脂組成物は、必
要に応じて各種の添加剤を含有していてもよい。かかる
添加剤としては、リン酸エステル、亜リン酸エステルに
代表されるような熱安定剤あるいは触媒失活剤、酸化安
定剤、光安定剤、滑剤、顔料、難燃化剤、難燃助剤、可
塑剤などの添加剤が挙げられる。
要に応じて各種の添加剤を含有していてもよい。かかる
添加剤としては、リン酸エステル、亜リン酸エステルに
代表されるような熱安定剤あるいは触媒失活剤、酸化安
定剤、光安定剤、滑剤、顔料、難燃化剤、難燃助剤、可
塑剤などの添加剤が挙げられる。
【0146】ウ)透明制電性ポリスチレン系樹脂組成物
(以下、ポリスチレン系樹脂組成物ともいう) 本発明の透明で防塵性を有する記録媒体用収納容器は、
以下記述するポリスチレン系樹脂組成物を成形すること
により、好ましく製造することができる。
(以下、ポリスチレン系樹脂組成物ともいう) 本発明の透明で防塵性を有する記録媒体用収納容器は、
以下記述するポリスチレン系樹脂組成物を成形すること
により、好ましく製造することができる。
【0147】本発明で好ましく使用することのできるポ
リスチレン系樹脂組成物は、ポリスチレン系樹脂(G)
100重量部、ポリエーテルエステル系組成物(B)5
〜40重量部およびイオン性界面活性剤(C)0.5〜
10重量部から実質的に成り、そしてポリスチレン系樹
脂(G)の屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物
(B)とイオン性界面活性剤(C)との配合量における
屈折率との差が高々0.04でありかつへーズ値が40
%以下でありしかも表面固有抵抗率が1×1010〜1×
1014Ω/cm2の間にあることを特徴とする透明性と
耐電防止性に優れたポリカーボネート樹脂組成物によっ
て達成される。
リスチレン系樹脂組成物は、ポリスチレン系樹脂(G)
100重量部、ポリエーテルエステル系組成物(B)5
〜40重量部およびイオン性界面活性剤(C)0.5〜
10重量部から実質的に成り、そしてポリスチレン系樹
脂(G)の屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物
(B)とイオン性界面活性剤(C)との配合量における
屈折率との差が高々0.04でありかつへーズ値が40
%以下でありしかも表面固有抵抗率が1×1010〜1×
1014Ω/cm2の間にあることを特徴とする透明性と
耐電防止性に優れたポリカーボネート樹脂組成物によっ
て達成される。
【0148】ポリスチレン系樹脂(G)は、たとえばポ
リスチレン、ポリ(アクリロニトリル/スチレン)樹脂
(AS樹脂)を挙げることができる。これらはスチレン
単位を全繰り返し単位の50モル%以上の割合で含有す
るものが好ましい。これらのポリスチレン、AS樹脂に
は、スチレン単位、アクリロニトリル単位の一部がα一
メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−t−ブチル
スチレン、(メタ)アクリル酸またはこれらのメチル、
エチル、プロピル、n−ブチルなどのエステル化合物、
不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸無水物、マレ
イミド、N−ネチルマレイミド、N−フェニルマレイミ
ドなどのマレイミド系単量体、アクリルアミド等のスチ
レンと共重合可能なビニル系単量体の重合単位で、置換
されているものも、当然含まれる。
リスチレン、ポリ(アクリロニトリル/スチレン)樹脂
(AS樹脂)を挙げることができる。これらはスチレン
単位を全繰り返し単位の50モル%以上の割合で含有す
るものが好ましい。これらのポリスチレン、AS樹脂に
は、スチレン単位、アクリロニトリル単位の一部がα一
メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−t−ブチル
スチレン、(メタ)アクリル酸またはこれらのメチル、
エチル、プロピル、n−ブチルなどのエステル化合物、
不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸無水物、マレ
イミド、N−ネチルマレイミド、N−フェニルマレイミ
ドなどのマレイミド系単量体、アクリルアミド等のスチ
レンと共重合可能なビニル系単量体の重合単位で、置換
されているものも、当然含まれる。
【0149】本発明に係るポリスチレン系樹脂組成物に
使用される、ポリエーテルエステル系組成物(B)、イ
オン性界面活性剤(C)の種類、内容、具体例、好まし
い態様は、ポリカーボネート系樹脂組成物における場合
と同様である。
使用される、ポリエーテルエステル系組成物(B)、イ
オン性界面活性剤(C)の種類、内容、具体例、好まし
い態様は、ポリカーボネート系樹脂組成物における場合
と同様である。
【0150】ポリエーテルエステル系組成物(B)は上
記ポリスチレン系樹脂(G)と実質的に混和しない。す
なわち、両者は分子レベルで混和することはなく、本発
明の組成物ではポリエーテルエステル系組成物(B)は
ポリスチレン系樹脂(G)の中に連続した層または筋と
して分散した不連続相を形成している。
記ポリスチレン系樹脂(G)と実質的に混和しない。す
なわち、両者は分子レベルで混和することはなく、本発
明の組成物ではポリエーテルエステル系組成物(B)は
ポリスチレン系樹脂(G)の中に連続した層または筋と
して分散した不連続相を形成している。
【0151】ポリエーテルエステル系組成物(B)は、
ポリスチレン系樹脂(G)l00重量部に対し、5〜4
0重量部の割合で含有される。かかるポリエーテルエス
テル系組成物(B)が5重量部より少ないと、得られる
組成物の帯電防止効果が不十分になる。また40重量部
を超えると、得られる組成物の物性が大きく低下する。
好ましい割合は、ポリエーテルエステル5〜30重量
部、より好ましくは7〜25重量部であり、さらに好ま
しくは10〜20重量部である。
ポリスチレン系樹脂(G)l00重量部に対し、5〜4
0重量部の割合で含有される。かかるポリエーテルエス
テル系組成物(B)が5重量部より少ないと、得られる
組成物の帯電防止効果が不十分になる。また40重量部
を超えると、得られる組成物の物性が大きく低下する。
好ましい割合は、ポリエーテルエステル5〜30重量
部、より好ましくは7〜25重量部であり、さらに好ま
しくは10〜20重量部である。
【0152】本発明の組成物は透明性に優れるものであ
り、従ってへーズ値は40%以下であり、好ましくは3
0%以下、より好ましくは20%以下である。
り、従ってへーズ値は40%以下であり、好ましくは3
0%以下、より好ましくは20%以下である。
【0153】また、本発開の組成物は同時に帯電防止性
に優れており、表面固有抵抗率が1×1010〜1×10
14Ω/cm2のものである。
に優れており、表面固有抵抗率が1×1010〜1×10
14Ω/cm2のものである。
【0154】一般に樹脂に対して帯電防止効果を発現さ
せるために界面活性剤を添加するのは従来公知である
が、そうした方法では、水洗や拭き取りにより帯電防止
効果が低下してしまう。しかしながら、ポリエーテルエ
ステル系組成物(B)を含有する本発明の樹脂組成物で
はイオン性界面活性剤(C)を含有することによって帯
電防止効果が向上し、驚くべきことに水洗や拭き取りに
よっても効果が損なわれることはない。
せるために界面活性剤を添加するのは従来公知である
が、そうした方法では、水洗や拭き取りにより帯電防止
効果が低下してしまう。しかしながら、ポリエーテルエ
ステル系組成物(B)を含有する本発明の樹脂組成物で
はイオン性界面活性剤(C)を含有することによって帯
電防止効果が向上し、驚くべきことに水洗や拭き取りに
よっても効果が損なわれることはない。
【0155】イオン界面活性剤(C)の添加量は、ポリ
スチレン系樹脂(G)100重量部、ポリエーテルエス
テル系組成物(B)5〜40重量部に対し0.5〜10
重量部であり、更にポリエーテルエステル系組成物
(B)に対しては10〜30重量%が好適である。ポリ
スチレン系樹脂(G)100重量部に対し、添加量が
0.5重量部より少ないとイオン性界面活性剤(C)の
添加効果による帯電防止効果が十分発揮されないことが
あり、10重量を超えるとポリカーボネート系樹脂組成
物の物性が低下する原因になったり、取り扱い性の低下
を招くことがある。イオン性界面活性剤(C)の添加量
としては、1〜6重量部が更に好ましい。
スチレン系樹脂(G)100重量部、ポリエーテルエス
テル系組成物(B)5〜40重量部に対し0.5〜10
重量部であり、更にポリエーテルエステル系組成物
(B)に対しては10〜30重量%が好適である。ポリ
スチレン系樹脂(G)100重量部に対し、添加量が
0.5重量部より少ないとイオン性界面活性剤(C)の
添加効果による帯電防止効果が十分発揮されないことが
あり、10重量を超えるとポリカーボネート系樹脂組成
物の物性が低下する原因になったり、取り扱い性の低下
を招くことがある。イオン性界面活性剤(C)の添加量
としては、1〜6重量部が更に好ましい。
【0156】本発明のポリスチレン系樹脂組成物は、こ
れを2mm厚の成形品にしたときの可視光線の透過率が
60%以上であることが透明性が良好であり好ましい。
透過率が60%より少ないと、ポリスチレン系樹脂の特
性の一つである透明性が損なわれるので好ましくない。
光線透過率は高いほど好ましく、65%以上であること
がさらに好ましい。
れを2mm厚の成形品にしたときの可視光線の透過率が
60%以上であることが透明性が良好であり好ましい。
透過率が60%より少ないと、ポリスチレン系樹脂の特
性の一つである透明性が損なわれるので好ましくない。
光線透過率は高いほど好ましく、65%以上であること
がさらに好ましい。
【0157】イオン界面活性剤を含む本発明の樹脂組成
物は、イオン性界面活性剤(C)がポリエーテルエステ
ルに対してより親和性を持つためポリスチレン系樹脂
(G)の屈折率とポリエーテルエステルの屈折率との差
は、ポリスチレン系樹脂(G)の屈折率とポリエーテル
エステルとイオン性界面活性剤(C)との混合物の屈折
率との差として現れる。
物は、イオン性界面活性剤(C)がポリエーテルエステ
ルに対してより親和性を持つためポリスチレン系樹脂
(G)の屈折率とポリエーテルエステルの屈折率との差
は、ポリスチレン系樹脂(G)の屈折率とポリエーテル
エステルとイオン性界面活性剤(C)との混合物の屈折
率との差として現れる。
【0158】それゆえ、イオン性界面活性剤(C)を含
有する本発明の樹脂組成物では、ポリスチレン系樹脂
(G)の屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物
(B)とイオン性界面活性剤(C)との配合量における
混合物の屈折率との差は高々0.04でなければならな
い。屈折卒の差が高々0.04であるのは全可視光領域
に亘るのが好ましいが、実用的には少なくともフラウン
ホーファー線のD線(波長589nm)における屈折率
の差が高々0.04であればよい。この差が0.04を
超えると、樹脂組成物中において、ポリスチレン系樹脂
(G)と、ポリエーテルエステルの不連続層の界面で光
散乱が生じ易くなり、濁りを生じて透明性が低下する。
有する本発明の樹脂組成物では、ポリスチレン系樹脂
(G)の屈折率と、ポリエーテルエステル系組成物
(B)とイオン性界面活性剤(C)との配合量における
混合物の屈折率との差は高々0.04でなければならな
い。屈折卒の差が高々0.04であるのは全可視光領域
に亘るのが好ましいが、実用的には少なくともフラウン
ホーファー線のD線(波長589nm)における屈折率
の差が高々0.04であればよい。この差が0.04を
超えると、樹脂組成物中において、ポリスチレン系樹脂
(G)と、ポリエーテルエステルの不連続層の界面で光
散乱が生じ易くなり、濁りを生じて透明性が低下する。
【0159】本発明の樹脂組成物を、ポリスチレン系樹
脂(G)、ポリエーテルエステル系組成物(B)、イオ
ン性界面活性剤(C)および必要に応じて各種添加剤よ
り製造する方法はポリカーボネート系樹脂組成物の場合
と同様である。
脂(G)、ポリエーテルエステル系組成物(B)、イオ
ン性界面活性剤(C)および必要に応じて各種添加剤よ
り製造する方法はポリカーボネート系樹脂組成物の場合
と同様である。
【0160】本発明の樹脂組成物には、上記の如く、必
要に応じ各種添加剤を含有させることができる。
要に応じ各種添加剤を含有させることができる。
【0161】かかる添加剤としては、例えば、リン酸エ
ステル、亜リン酸エステルに代表されるような熟安定剤
あるいは触媒失活剤、ヒンダードフェノール等の酸化安
定剤、光安定剤、滑剤、ハロゲンまたはリン系等を含む
難燃化剤、難燃助剤、可塑剤などを拳げることができ
る。
ステル、亜リン酸エステルに代表されるような熟安定剤
あるいは触媒失活剤、ヒンダードフェノール等の酸化安
定剤、光安定剤、滑剤、ハロゲンまたはリン系等を含む
難燃化剤、難燃助剤、可塑剤などを拳げることができ
る。
【0162】本発明における好ましい態様はポリスチレ
ン系樹脂(G)、ポリエーテルエステル系組成物(B)
およびイオン性界面活性剤(C)を含み、ポリスチレン
系樹脂(G)が1.57〜1.60の屈折率のポリスチ
レンであり、ポリスチレン系樹脂(G)の屈折率とポリ
エーテルエステル系組成物(B)とイオン性界面活性剤
(C)の配分量における混合物の屈折率との差は高々
0.04である。そして、上記ポリエーテルエステル系
組成物(B)として、ナフタレンジカルボン酸成分を基
準にして、スルホン酸塩基を含有する化合物成分が5〜
50モル%であり、そしてナフタレンジカルボン酸成
分、スルホン酸塩基を含有する化合物成分、ヘキサメチ
レングリコールまたはヘキサメチレングリコールとエチ
レングリコールとの組合せおよびポリエチレンオキシド
成分の合計を基準にして、ポリエチレンオキシド成分が
10〜40重量%である、ポリエーテルエステルを用い
たものがさらに好ましい。
ン系樹脂(G)、ポリエーテルエステル系組成物(B)
およびイオン性界面活性剤(C)を含み、ポリスチレン
系樹脂(G)が1.57〜1.60の屈折率のポリスチ
レンであり、ポリスチレン系樹脂(G)の屈折率とポリ
エーテルエステル系組成物(B)とイオン性界面活性剤
(C)の配分量における混合物の屈折率との差は高々
0.04である。そして、上記ポリエーテルエステル系
組成物(B)として、ナフタレンジカルボン酸成分を基
準にして、スルホン酸塩基を含有する化合物成分が5〜
50モル%であり、そしてナフタレンジカルボン酸成
分、スルホン酸塩基を含有する化合物成分、ヘキサメチ
レングリコールまたはヘキサメチレングリコールとエチ
レングリコールとの組合せおよびポリエチレンオキシド
成分の合計を基準にして、ポリエチレンオキシド成分が
10〜40重量%である、ポリエーテルエステルを用い
たものがさらに好ましい。
【0163】本発明において用いられる上記ポリエーテ
ルエステル系組成物(B)は、ポリスチレン系樹脂
(G)と混練して、透明性を損わず且つ優れた帯電防止
性を備えた組成物を与えることで極めて特異的である。
ルエステル系組成物(B)は、ポリスチレン系樹脂
(G)と混練して、透明性を損わず且つ優れた帯電防止
性を備えた組成物を与えることで極めて特異的である。
【0164】それ故、本発明によれば、ポリエーテルエ
ステル系組成物(B)とイオン性界面活性剤(C)とか
らなる組成物を、ポリスチレン系樹脂(G)に混合して
透明性と帯電防止性に優れたポリスチレン系樹脂組成物
を製造することができる。
ステル系組成物(B)とイオン性界面活性剤(C)とか
らなる組成物を、ポリスチレン系樹脂(G)に混合して
透明性と帯電防止性に優れたポリスチレン系樹脂組成物
を製造することができる。
【0165】
【発明の効果】本願発明によれば、透明で内部の観察が
可能であり、洗浄や拭き取り等によって帯電防止機能が
低下することのない、永久帯電防止機能を有する特定樹
脂より成る、記録、再生ディスクを収納する容器が得ら
れる。
可能であり、洗浄や拭き取り等によって帯電防止機能が
低下することのない、永久帯電防止機能を有する特定樹
脂より成る、記録、再生ディスクを収納する容器が得ら
れる。
【0166】
【実施例】以下に、本願発明の実施例を示す。ただし、
本願発明は下記実施例によって制限を受けるものではな
い。下記、実施例において分析は次のように行なった。
本願発明は下記実施例によって制限を受けるものではな
い。下記、実施例において分析は次のように行なった。
【0167】・表面固有抵抗率 試験片を20℃、湿度60%の雰囲気下、24時間放置
した後、超絶縁計(東亜電波工業株式会社製;SM−8
210)を用いて、印荷電圧1000Vにて、測定し
た。成形品の水洗は、30℃の流水で2時間洗浄を行
い、清浄な紙で、水分を拭き取った。その後、上記の条
件で乾燥し、表面固有抵抗率を測定した。
した後、超絶縁計(東亜電波工業株式会社製;SM−8
210)を用いて、印荷電圧1000Vにて、測定し
た。成形品の水洗は、30℃の流水で2時間洗浄を行
い、清浄な紙で、水分を拭き取った。その後、上記の条
件で乾燥し、表面固有抵抗率を測定した。
【0168】・全光線透過率およびヘ−ズ ASTM、D−1003に従い光線透過率およびヘーズ
を測定した。測定には、株式会社村上色彩技術研究所
製、ヘーズ、透過、反射率計、HR−100を用い、サ
ンプル厚さ2mmで、ClE Source Cにより
測定した。
を測定した。測定には、株式会社村上色彩技術研究所
製、ヘーズ、透過、反射率計、HR−100を用い、サ
ンプル厚さ2mmで、ClE Source Cにより
測定した。
【0169】・ゴミ付着性 室内で、カセットを縦置きにして放置、1週間後毎、ハ
タキにて付着ゴミを清掃、5W後ゴミ付着状況を目視に
て判定した。
タキにて付着ゴミを清掃、5W後ゴミ付着状況を目視に
て判定した。
【0170】[実施例1]1074部の2,6−ナフタ
レンジカルボン酸ジメチル、381部の4−ナトリウム
スルホ−2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、9
10部のl,6−ヘキサメチレングリコール、750部
のポリエチレングリコール(数平均分子量2000、生
成ポリマー全体の30重量%)、および1.3部のテト
ラブチルチタネートを精留塔および攪拌装置を備えた反
応器に入れ、容器内を窒素置換した後、常圧下、220
℃に昇温した。220℃でメタノールを留去しながら5
時間反応を行った後、反応物を攪拌装置を備えた真空留
出系を有する反応器に入れ、45分間で240℃まで昇
温した。その時点で徐々に反応系内を減圧し、60分後
0.2mmHgとし、150分後に重合体を得た。得ら
れたポリエーテルエステルの還元粘度は1.16であっ
た。さらにそこヘ、イソプロピルナフタレンスルホン酸
ナトリウム500部を加え、容器内を窒素置換した後、
240℃で減圧下1時間攪拌した。この混合物の屈折率
は1.577であった。
レンジカルボン酸ジメチル、381部の4−ナトリウム
スルホ−2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、9
10部のl,6−ヘキサメチレングリコール、750部
のポリエチレングリコール(数平均分子量2000、生
成ポリマー全体の30重量%)、および1.3部のテト
ラブチルチタネートを精留塔および攪拌装置を備えた反
応器に入れ、容器内を窒素置換した後、常圧下、220
℃に昇温した。220℃でメタノールを留去しながら5
時間反応を行った後、反応物を攪拌装置を備えた真空留
出系を有する反応器に入れ、45分間で240℃まで昇
温した。その時点で徐々に反応系内を減圧し、60分後
0.2mmHgとし、150分後に重合体を得た。得ら
れたポリエーテルエステルの還元粘度は1.16であっ
た。さらにそこヘ、イソプロピルナフタレンスルホン酸
ナトリウム500部を加え、容器内を窒素置換した後、
240℃で減圧下1時間攪拌した。この混合物の屈折率
は1.577であった。
【0171】ビスフェノールAを主たる芳香族ジオール
成分とするポリカーボネート樹脂(帝人化成(株)製
「パンライト」L1250、屈折率1.59)100重
量部当り、上記方法で製造したポリエーテルエステルと
イオン性界面活性剤(C)との混合物13.7重量部を
30mmφ同方向回転2軸エクストルーダー(池貝鉄工
(株)製、PCM30)を用いて、ポリマー温度280
℃、平均滞留時間約5分の条件下で溶融混練し、これを
ペレット化した。次に射出成形機(名機製作所(株)M
−50B)を用いて、シリンダー温度270℃、金型温
度50℃にて射出成形を行い、2mm厚の物性測定用試
験片とCD用カセット(サイズ125mm×142mm
×10mm、厚み1mm)を作製し、物性測定用試験片
を用いて表面抵抗率、全光線透過率、ヘーズを測定し、
カセットを用いてごみ付着性目視判定を行なった。結果
を表1に示す。
成分とするポリカーボネート樹脂(帝人化成(株)製
「パンライト」L1250、屈折率1.59)100重
量部当り、上記方法で製造したポリエーテルエステルと
イオン性界面活性剤(C)との混合物13.7重量部を
30mmφ同方向回転2軸エクストルーダー(池貝鉄工
(株)製、PCM30)を用いて、ポリマー温度280
℃、平均滞留時間約5分の条件下で溶融混練し、これを
ペレット化した。次に射出成形機(名機製作所(株)M
−50B)を用いて、シリンダー温度270℃、金型温
度50℃にて射出成形を行い、2mm厚の物性測定用試
験片とCD用カセット(サイズ125mm×142mm
×10mm、厚み1mm)を作製し、物性測定用試験片
を用いて表面抵抗率、全光線透過率、ヘーズを測定し、
カセットを用いてごみ付着性目視判定を行なった。結果
を表1に示す。
【0172】[実施例2]821部のジメチルテレフタ
レート、818部の5−ナトリウムスルホイソフタル酸
ジメチル、363部のセバシン数ジメチル、エチレング
リコール780部、1300部のポリエチレングリコー
ル(数平均分子責2000)、および3.5部のテトラ
ブチルチタネートを精留塔および攪拌装置を備えた反応
器に入れ、容器内を窒素置換した後、常圧下、220℃
に昇温した。220℃でメタノールを留出しながら5時
間反応を行った後、反応物を攪拌装置を備えた真空留出
系を有する反応器に入れ、45分間で240℃まで昇温
した。その時点で徐々に反応系内を減圧し、60分後
0.3mmHgとし、6時間後に重合体を得た。得られ
たポリエーテルエステルの還元粘度は0.57であっ
た。さらにそこへ、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム711部を加え、容器内を窒素置換した後、240
℃で減圧下1時間攪拌した。その後重縮合反応容器よ
り、10℃の水中へ溶融ストランドを押し出し、ペレタ
イザー(いすず化工機(株)製:SCF−100)で問
題なくチップ化できた。なお得られた混合物の屈折率
は、1.50であった。
レート、818部の5−ナトリウムスルホイソフタル酸
ジメチル、363部のセバシン数ジメチル、エチレング
リコール780部、1300部のポリエチレングリコー
ル(数平均分子責2000)、および3.5部のテトラ
ブチルチタネートを精留塔および攪拌装置を備えた反応
器に入れ、容器内を窒素置換した後、常圧下、220℃
に昇温した。220℃でメタノールを留出しながら5時
間反応を行った後、反応物を攪拌装置を備えた真空留出
系を有する反応器に入れ、45分間で240℃まで昇温
した。その時点で徐々に反応系内を減圧し、60分後
0.3mmHgとし、6時間後に重合体を得た。得られ
たポリエーテルエステルの還元粘度は0.57であっ
た。さらにそこへ、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム711部を加え、容器内を窒素置換した後、240
℃で減圧下1時間攪拌した。その後重縮合反応容器よ
り、10℃の水中へ溶融ストランドを押し出し、ペレタ
イザー(いすず化工機(株)製:SCF−100)で問
題なくチップ化できた。なお得られた混合物の屈折率
は、1.50であった。
【0173】ポリメチルメタクリレート(PMMA)樹
脂(旭化成株式会社製「デルペツト」80N、屈折率
1.49)100部に対して、上記方法で得られたポリ
エーテルエステルと界面活性剤との混合物12重量部を
30mmφ同方向回転2軸エクストルーダー(池貝鉄工
株式会社製、PCM30)を用いて、ポリマー温度25
0℃、平均滞留時間約3分の条件下で溶融混練し、これ
をペレット化した。次に射出成形機(名機製作所株式会
社製M−50B)を用いて、シリンダ−温度250℃、
金型温度50℃にて射出成形を行い、2mm厚の物性測
定用試験片とCD用カセット(サイズ125mm×14
2mm×10mm、厚み1mm)を作製し、物性測定用
試験片を用いて表面抵抗率、全光線透過率、ヘーズを測
定し、カセットを用いてごみ付着性目視判定を行なっ
た。結果を表1に示す。
脂(旭化成株式会社製「デルペツト」80N、屈折率
1.49)100部に対して、上記方法で得られたポリ
エーテルエステルと界面活性剤との混合物12重量部を
30mmφ同方向回転2軸エクストルーダー(池貝鉄工
株式会社製、PCM30)を用いて、ポリマー温度25
0℃、平均滞留時間約3分の条件下で溶融混練し、これ
をペレット化した。次に射出成形機(名機製作所株式会
社製M−50B)を用いて、シリンダ−温度250℃、
金型温度50℃にて射出成形を行い、2mm厚の物性測
定用試験片とCD用カセット(サイズ125mm×14
2mm×10mm、厚み1mm)を作製し、物性測定用
試験片を用いて表面抵抗率、全光線透過率、ヘーズを測
定し、カセットを用いてごみ付着性目視判定を行なっ
た。結果を表1に示す。
【0174】[実施例3]1288部の2,6−ナフタ
レンジカルボン酸ジメチル、213部の5−ナトリウム
スルホイソフタル酸ジメチル、637部の1,6−へキ
サメチレングリコール、409部のエチレングリコー
ル、768部のポリ(エチレンオキシド)グリコール
(数平均分子量2000、生成ポリマー全体の30重量
%)、および1.3部のテトラブチルチタネートを精留
塔および攪拌装置を備えた反応器に入れ、容器内を窒素
置換した後、常圧下、220℃に昇温した。220℃で
メタノ−ルを留去しながら5時間反応を行った後、反応
物を攪拌装置を備えた真空留出系を有する反応器に入
れ、45分間て240℃まで昇温した。その時点で徐々
に反応系内を減圧し、60分後0.2mmHgとし、1
50分後に重合体を得た。得られたポリエーテルエステ
ルの還元粘度は1.51であった。
レンジカルボン酸ジメチル、213部の5−ナトリウム
スルホイソフタル酸ジメチル、637部の1,6−へキ
サメチレングリコール、409部のエチレングリコー
ル、768部のポリ(エチレンオキシド)グリコール
(数平均分子量2000、生成ポリマー全体の30重量
%)、および1.3部のテトラブチルチタネートを精留
塔および攪拌装置を備えた反応器に入れ、容器内を窒素
置換した後、常圧下、220℃に昇温した。220℃で
メタノ−ルを留去しながら5時間反応を行った後、反応
物を攪拌装置を備えた真空留出系を有する反応器に入
れ、45分間て240℃まで昇温した。その時点で徐々
に反応系内を減圧し、60分後0.2mmHgとし、1
50分後に重合体を得た。得られたポリエーテルエステ
ルの還元粘度は1.51であった。
【0175】ポリスチレン樹脂(電気化学工業(株)デ
ンカスチロールMW−1−301屈折率1.59)10
0重量部に上記方法で製造したポリエーテルエステル1
4重量部を、30mmφ両方向回転2軸エクストルーダ
ー(池貝鉄工(株)製、PCM30)を用いて、ポリマ
ー温度220℃、平均滞留時間約5分の条件下で溶融混
練し、これをペレット化した。次に射出成形機(名機製
作所(株)M−50B)を用いて、シリンダー温度22
0℃、金型温度40℃にて射出成形を行い、2mm厚の
物性測定用試験片とCD用カセット(サイズ125mm
×142mm×10mm、厚み1mm)を作製し、物性
測定用試験片を用いて表面抵抗率、全光線透過率、ヘー
ズを測定し、カセットを用いてごみ付着性目視判定を行
なった。結果を表1に示す。
ンカスチロールMW−1−301屈折率1.59)10
0重量部に上記方法で製造したポリエーテルエステル1
4重量部を、30mmφ両方向回転2軸エクストルーダ
ー(池貝鉄工(株)製、PCM30)を用いて、ポリマ
ー温度220℃、平均滞留時間約5分の条件下で溶融混
練し、これをペレット化した。次に射出成形機(名機製
作所(株)M−50B)を用いて、シリンダー温度22
0℃、金型温度40℃にて射出成形を行い、2mm厚の
物性測定用試験片とCD用カセット(サイズ125mm
×142mm×10mm、厚み1mm)を作製し、物性
測定用試験片を用いて表面抵抗率、全光線透過率、ヘー
ズを測定し、カセットを用いてごみ付着性目視判定を行
なった。結果を表1に示す。
【0176】[比較例1]比較用として、帝人化成製ポ
リカーボネート樹脂(L1250)を用い、実施例1と
同様の成形条件で、2mm厚の物性測定用試験片とCD
用カセット(サイズ125mm×142mm×10m
m、厚み1mm)を作製し、物性測定用試験片を用いて
表面抵抗率、全光線透過率、ヘーズを測定し、カセット
を用いてごみ付着性目視判定を行なった。結果を表1に
示す。
リカーボネート樹脂(L1250)を用い、実施例1と
同様の成形条件で、2mm厚の物性測定用試験片とCD
用カセット(サイズ125mm×142mm×10m
m、厚み1mm)を作製し、物性測定用試験片を用いて
表面抵抗率、全光線透過率、ヘーズを測定し、カセット
を用いてごみ付着性目視判定を行なった。結果を表1に
示す。
【0177】[比較例2]比較用として、市販ポリメチ
ルメタクリレート樹脂(旭化成(株)製、デルペットJ
80N)を用い、実施例2と同様の成形条件で、2mm
厚の物性測定用試験片とCD用カセット(サイズ125
mm×142mm×10mm、厚み1mm)を作製し、
物性測定用試験片を用いて表面抵抗率、全光線透過率、
ヘーズを測定し、カセットを用いてごみ付着性目視判定
を行なった。結果を表1に示す。
ルメタクリレート樹脂(旭化成(株)製、デルペットJ
80N)を用い、実施例2と同様の成形条件で、2mm
厚の物性測定用試験片とCD用カセット(サイズ125
mm×142mm×10mm、厚み1mm)を作製し、
物性測定用試験片を用いて表面抵抗率、全光線透過率、
ヘーズを測定し、カセットを用いてごみ付着性目視判定
を行なった。結果を表1に示す。
【0178】[比較例3]比較用として、市販ポリスチ
レン(電気化学工業(株)製デンカスチロールMW−1
−301)を用い、実施例3と同様の成形条件で、2m
m厚の物性測定用試験片とCD用カセット(サイズ12
5mm×142mm×10mm、厚み1mm)を作製
し、物性測定用試験片を用いて表面抵抗率、全光線透過
率、ヘーズを測定し、カセットを用いてごみ付着性目視
判定を行なった。結果を表1に示す。
レン(電気化学工業(株)製デンカスチロールMW−1
−301)を用い、実施例3と同様の成形条件で、2m
m厚の物性測定用試験片とCD用カセット(サイズ12
5mm×142mm×10mm、厚み1mm)を作製
し、物性測定用試験片を用いて表面抵抗率、全光線透過
率、ヘーズを測定し、カセットを用いてごみ付着性目視
判定を行なった。結果を表1に示す。
【0179】
【表1】
Claims (4)
- 【請求項1】 記録媒体を収容する容器であって、該収
容容器が、ヘーズ値≦40%でかつ表面抵抗=1×10
10〜1×1014Ω/cm2である永久帯電防止機能を有
し、透明で防塵性を有する樹脂より成ることを特徴とす
る記録媒体収納用容器。 - 【請求項2】 永久帯電防止機能を有し、透明で防塵性
を有する樹脂が、透明制電性ポリカーボネート系樹脂組
成物であることを特徴とする請求項1記載の記録媒体収
納用容器。 - 【請求項3】 永久帯電防止機能を有し、透明で防塵性
を有する樹脂が、透明制電性アクリレート系樹脂組成物
であることを特徴とする請求項1記載の記録媒体収納用
容器。 - 【請求項4】 永久帯電防止機能を有し、透明で防塵性
を有する樹脂が、透明制電性ポリスチレン系樹脂組成物
であることを特徴とする請求項1記載の記録媒体収納用
容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11353098A JPH11301771A (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | 透明で防塵性を有する記録媒体収納容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11353098A JPH11301771A (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | 透明で防塵性を有する記録媒体収納容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11301771A true JPH11301771A (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=14614670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11353098A Pending JPH11301771A (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | 透明で防塵性を有する記録媒体収納容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11301771A (ja) |
-
1998
- 1998-04-23 JP JP11353098A patent/JPH11301771A/ja active Pending
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