JPH11306596A - 樹脂組成物、光ディスク用樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】硬度が強く、耐湿性に優れ、光ディスク用に適
する樹脂組成物を提供する。 【解決手段】１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ
アクリレート（Ａ）と（Ａ）成分以外のエチレン性不飽
和基含有化合物（Ｂ）及び任意成分として光重合開始剤
（Ｃ）を含有することを特徴とする樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂組成物、特に
光ディスク用オーバーコート剤、光ディスク用接着剤等
の光ディスク用樹脂組成物として有用な樹脂組成物及び
その硬化物に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、民生用のコンパクトディスク記録
媒体用オーバーコート剤として紫外線硬化型オーバーコ
ート剤が使用されている。一方、現在、書込み、消去の
可能な光ディスクも普及し、光ディスク用オーバーコー
ト剤や接着剤の開発も進められている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】光ディスク用の記録媒
体は、水分やヒートショックに弱く、オーバーコート剤
に対する特性として、ソリが小さく耐水性、耐ヒートシ
ョック性、高い硬度、透明性等の優れた品質が要求され
ている。従来使用されているコンパクトディスク用オー
バーコート剤は、光ディスクの記録膜のオーバーコート
剤として使用するには、特性が不十分であり、使用でき
ない。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
め、本発明者らは、鋭意研究の結果、紫外線により硬化
が速く、接着性、耐湿性、硬度の優れた光ディスク用樹
脂組成物に適した樹脂組成物及びその硬化物を提供する
ことに成功した。すなわち、本発明は、（１）１，４−
シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート（Ａ）と
（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物（Ｂ）
及び任意成分として光重合開始剤（Ｃ）を含有すること
を特徴とする樹脂組成物、（２）光ディスク用である
（１）記載の樹脂組成物、（３）（１）または（２）記
載の樹脂組成物の硬化物、（４）（３）記載の樹脂組成
物の硬化物層を有する光ディスク、（５）（１）記載の
樹脂組成物からなる光ディスク用オーバーコート剤、に
関する。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の各成分について詳
細に説明する。 （Ａ）成分である、１，４−シクロヘキサンジメタノー
ルモノアクリレートは、１，４−シクロヘキサンジメタ
ノールとアクリル酸、もしくはアクリル酸エステルとの
エステル化反応又はエステル交換反応など公知の方法で
アクリル化することにより得られるもので、三菱化学
（株）より市販されている。

【０００６】（Ｂ）成分の具体例としては、特性の向上
のためには、なるべく親水性の少ないものが良く、大き
くわけると、低分子単量体と高分子エチレン性不飽和基
含有化合物にわけられる。

【０００７】低分子単量体としては、具体的には、例え
ば、トリシクロ〔５，２，１，０（２，６（上付１／４
角））〕デカン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタ
ジエンオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニ
ル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メ
タ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロール
ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリエトキ
シジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦポリエト
キシジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポ
リエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールポリ（メタ）アクリレート等の（メタ）
アクリレートモノマー類を挙げることができる。

【０００８】高分子エチレン性不飽和基含有化合物とし
ては、例えばエポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反
応によって得られるエポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエステルポリオールと（メタ）アクリル酸との反応に
よって得られるポリエステル（メタ）アクリレート、ポ
リオール類もしくはポリカーボネートと有機ポリイソシ
アネートとヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物との
反応によって得られるポリウレタン（メタ）アクリレー
ト等が挙げられる。

【０００９】エポキシ（メタ）アクリレートの合成に使
用するエポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂ある
いはノボラック型エポキシ樹脂等があげられる。

【００１０】ポリエステル（メタ）アクリレートの合成
に使用するポリエステルポリオールは多価アルコールと
多塩基酸との反応によって得られる。多価アルコールと
しては、例えばネオペンチルグリコール、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオ
ール、トリメチロールプロパン等があげられ、多塩基酸
としては、例えばコハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無
水フタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ
無水フタル酸等があげられる。

【００１１】ポリウレタン（メタ）アクリレートの合成
に使用するポリオール類としては、例えばポリエーテル
ポリオールやポリエステルポリオールがあげられる。ポ
リエーテルポリオールとしては、例えばポリエチレング
リコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチ
レングリコール、ビスフェノールＡポリエトキシジオー
ル、ビスフェノールＡポリプロポキシジオール等があげ
られる。

【００１２】ポリエステルポリオールは多価アルコール
と多塩基酸との反応によって得られる。多価アルコール
としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリ
コール、１，３−ブチレングリコール、ネオペンチルグ
リコール、１，４−ベンゼンジメチロール、２−エチル
−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、ポリプロピ
レングリコール、ポリエチレングリコール等があげら
れ、多塩基酸としては、例えばコハク酸、アジピン酸、
イソフタル酸、テレフタル酸等があげられる。

【００１３】ポリウレタン（メタ）アクリレートの合成
に使用する有機ポリイソシアネートとしては、例えばイ
ソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソ
シアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート等
があげられ、ヒドロキシ（メタ）アクリレートとして
は、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４
−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート等
があげられる。

【００１４】これら化合物（Ｂ）のうち特に好ましいも
のとしては、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ト
リシクロデカンアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリシクロデカンジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ヒドロキシピ
バリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジアクリレート、ビスフェノ
ールＡ型エポキシ樹脂のアクリレート、ポリウレタンア
クリレート等が挙げられる。これら、化合物（Ｂ）は、
１種又は２種以上使用することができる。

【００１５】本発明の組成物は、例えば電子線や紫外線
等のエネルギー線によって硬化する事ができる。紫外線
による硬化の場合には、光重合開始剤（Ｃ）を使用する
必要がある。光重合開始剤（Ｃ）としては、公知のどの
ような光重合開始剤であっても良いが、配合後の貯蔵安
定性を考慮すると、例えばベンゾイン類、アセトフェノ
ン類、チオキサントン類、ケタール類、ベンゾフェノン
類、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキサイド等が好ましい。

【００１６】ベンゾイン類としては、例えばベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾイ
ンイソプロピルエーテル等があげられ、アセトフェノン
類としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ
−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセ
トフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノアセトフェノン等があげられ、チオキサ
ントン類としては、例えば２，４−ジエチルチオキサン
トン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチ
オキサントン等があげられ、ケタール類としては、例え
ばベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチル
ケタール等があげられ、ベンゾフェノン類としては、例
えばベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、４，４’
−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４−ベンゾイル
−４’−メチルジフェニルサルファイド等があげられ
る。これらの光重合開始剤（Ｃ）は、単独または２種以
上を組合せて用いることができる。

【００１７】光重合開始剤（Ｃ）を使用する場合、さら
に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、
ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチ
ルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のよ
うな光増感剤を単独あるいは２種以上を組合せて用いる
ことができる。

【００１８】本発明に使用される（Ａ）成分の量は、樹
脂組成物中、好ましくは５〜８０重量％、特に好ましく
は１０〜６０重量％が望ましい。（Ｂ）成分の量は、好
ましくは２０〜９５重量％、特に好ましくは４０〜９０
重量％である。（Ｃ）成分の量は、好ましくは０〜１５
重量％、特に好ましくは１−１０重量％である。

【００１９】本発明の樹脂組成物は、（Ａ）、（Ｂ）及
び（Ｃ）（任意成分）の成分だけで十分所期の目的を達
成するものであるが、さらに性能改良のため、本来の特
性を変えない範囲で、添加剤としてシランカップリング
剤、重合禁止剤、レベリング剤、着色剤、フィラー等を
添加することもできる。これら添加剤の使用量は、それ
ぞれ組成物の０〜１５重量％の範囲が好ましい。

【００２０】本発明の樹脂組成物は、（Ａ）及び（Ｂ）
成分、さらに必要に応じ、（Ｃ）成分や添加剤を添加
し、加熱、混合、溶解することにより調製することがで
きる。

【００２１】本発明の樹脂組成物は、光ディスクの記録
膜の保護剤やＤＶＤの接着剤等の光ディスク用樹脂組成
物として好適に用いられるが、印刷インキ、コーティン
グ剤、塗料、接着剤、注型物、メガネレンズなどにも使
用することができる。

【００２２】本発明の硬化物は、常法に従い、上記の本
発明の樹脂組成物に電子線や紫外線等のエネルギー線を
照射することにより得ることができる。この硬化物は硬
度が硬く、耐湿性に優れる。

【００２３】本発明の光ディスクは、上記の本発明の樹
脂組成物の硬化物層を有する。硬化物層の厚さは通常１
〜５０μ程度が好ましい。この硬化物層は、光ディスク
の記録膜の保護膜として好適である。光ディスクの記録
膜の保護膜の形成は、光ディスクの記録膜の上に本発明
の樹脂組成物（光ディスク用オーバーコート剤）を例え
ばスピンコート法等により塗布し、紫外線を照射して硬
化することによって保護膜を形成させる。光ディスクの
記録膜の上に本発明の樹脂組成物を塗布する場合、その
厚さは通常１〜５０μ程度とするのが好ましい。なお、
これらの方法において、本発明の樹脂組成物の硬化は、
紫外線照射の代りに電子線照射によることもできる。

【００２４】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例中の部は、重量部である。 実施例１ １，４−シクロヘキサンジメタノールモノーアクリレー
ト５０部、トリメチロールプロパントリアクリレート３
０部、エポキシアクリレート〔エピコート（登録商標）
８２８（油化シェルエポキシ（株）製、ビスフェノール
Ａ型エポキシ樹脂）をアクリル酸でエステル化して得ら
れた樹脂〕２０部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン（チバ・スペシャリティ−ケミカルズ（株）
製、イルガキュアー（登録商標）１８４、光重合開始
剤）５部を混合し、本発明の光ディスク用樹脂組成物を
調製した。ポリカーボネート基板に記録膜を作製（スパ
ッタリングにより）した光ディスクの記録膜の上に、上
記の紫外線硬化型光ディスク用樹脂組成物をスピンコー
ターで塗布し、高圧水銀灯（８０ｗ／ｃｍ2 、１灯）に
より照射し該組成物を硬化させた。保護膜を形成した光
ディスクを６０℃の９０％ＲＨの状態に放置し、耐湿性
試験を行なった所、１０００時間経過しても記録膜に異
常がなかった。該組成物の硬度は、ショアーＤで８５で
あった。硬度の測定は、ポリカーボネート板の上に該組
成物を２ｍｍ厚さに塗布し、高圧水銀灯で硬化し、これ
を硬度計（ショアーＤ）を用いて測定した。

【００２５】実施例２ １，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート
４５部、トリメチロールプロパントリアクリレート２０
部、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジア
クリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＭＡ
ＮＤＡ）２５部、エポキシアクリレート（実施例１で使
用したエポキシアクリレートと同一）１０部、イルガキ
ュアー１８４ ５部を混合し、紫外線硬化型光ディスク
用樹脂組成物を調製した。これを用いて、実施例１と同
様にして、保護膜が形成された光ディスクを得た。実施
例１と同様に試験を行ない、耐湿性の試験の結果１００
０時間経過しても異常がなかった。硬度は、ショアーＤ
で８０であった。

【００２６】比較例１ 実施例２で１，４−シクロヘキサンジメタノールモノア
クリレートをトリメチロールプロパントリアクリレート
に変えた以外は、実施例２と同様にして光ディスクを得
て同様に試験を行なった。耐湿性の試験の結果、３００
時間経過した頃より記録膜にピンホールが多数発生して
きた。硬度は、ショアーＤで９２であった。

【００２７】実施例及び比較例の対比から明らかなよう
に、本発明の樹脂組成物の硬化物はは、耐湿性に優れて
いる。

【００２８】

【発明の効果】本発明の樹脂組成物及びその硬化物は、
硬度が硬く、耐湿性に優れ、光ディスク用として特に有
用である。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ
   アクリレート（Ａ）と（Ａ）成分以外のエチレン性不飽
   和基含有化合物（Ｂ）及び任意成分として光重合開始剤
   （Ｃ）を含有することを特徴とする樹脂組成物。
2. 【請求項２】光ディスク用である請求項１記載の樹脂組
   成物。
3. 【請求項３】請求項１または２記載の樹脂組成物の硬化
   物。
4. 【請求項４】請求項３記載の樹脂組成物の硬化物層を有
   する光ディスク。
5. 【請求項５】請求項１記載の樹脂組成物からなる光ディ
   スク用オーバーコート剤。