JPH11306706A - パターン形成方法 - Google Patents
パターン形成方法Info
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- JPH11306706A JPH11306706A JP10113516A JP11351698A JPH11306706A JP H11306706 A JPH11306706 A JP H11306706A JP 10113516 A JP10113516 A JP 10113516A JP 11351698 A JP11351698 A JP 11351698A JP H11306706 A JPH11306706 A JP H11306706A
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- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
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- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スライダバー表面にレジストフィルムを貼り
付け、露光現像によって前記レジストフィルム表面にＡ
ＢＳ面のエッチングパターンを形成する際に、スライダ
バー間の隙間上に貼り付けられた前記レジストフィルム
は、撓んでしまい、前記レジストフィルム表面は平坦化
されていないので、露光現像によるエッチングパターン
に歪みが発生し、寸法精度良く前記エッチングパターン
を形成することができなかった。 【解決手段】 スライダバー６間の隙間１１を、レジス
トフィルム１２によって埋めておくことによって、前記
スライダバー６表面は平坦化された状態となっている。
従って、前記スライダバー表面に貼り付けられたレジス
トフィルム１３表面を容易に平坦化でき、前記レジスト
フィルム１３表面に寸法精度良くＡＢＳ面エッチングパ
ターンを形成できる。
付け、露光現像によって前記レジストフィルム表面にＡ
ＢＳ面のエッチングパターンを形成する際に、スライダ
バー間の隙間上に貼り付けられた前記レジストフィルム
は、撓んでしまい、前記レジストフィルム表面は平坦化
されていないので、露光現像によるエッチングパターン
に歪みが発生し、寸法精度良く前記エッチングパターン
を形成することができなかった。 【解決手段】 スライダバー６間の隙間１１を、レジス
トフィルム１２によって埋めておくことによって、前記
スライダバー６表面は平坦化された状態となっている。
従って、前記スライダバー表面に貼り付けられたレジス
トフィルム１３表面を容易に平坦化でき、前記レジスト
フィルム１３表面に寸法精度良くＡＢＳ面エッチングパ
ターンを形成できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばスライダバ
ーの記録媒体との対向面上にレジストフィルムを貼り付
け、前記レジストフィルム上に、ＡＢＳ面のエッチング
パターンを露光現像によって形成するパターン形成方法
に係わり、特に寸法精度良くエッチングパターンを形成
できるパターン形成方法に関する。
ーの記録媒体との対向面上にレジストフィルムを貼り付
け、前記レジストフィルム上に、ＡＢＳ面のエッチング
パターンを露光現像によって形成するパターン形成方法
に係わり、特に寸法精度良くエッチングパターンを形成
できるパターン形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスク装置などに搭載される磁
気ヘッド装置は、板ばね材料で形成されたジンバルの先
端に、スライダが取付けられており、このスライダの端
部には記録及び再生機能を有する薄膜素子が成膜されて
いる。
気ヘッド装置は、板ばね材料で形成されたジンバルの先
端に、スライダが取付けられており、このスライダの端
部には記録及び再生機能を有する薄膜素子が成膜されて
いる。
【０００３】図１５は、前記スライダを、記録媒体との
対向面を上向きにして示した斜視図である。図１５に示
したスライダ３０は、アルミナ・チタンカーバイト、ま
たはＳｉ（シリコン）などのセラミック材料により形成
されており、記録媒体であるハードディスクとの対向面
にエアーグルーブ３１が形成され、その両側にレール部
３２，３２が形成されている。図１５に示すように、前
記レール部３２，３２は所定のクラウン形状で形成され
ており、前記レール部３２，３２の表面は、ＡＢＳ面
（浮上面）３３，３３となっている。また、前記レール
部３２，３２のリーディング側Ａ端部には傾斜部３４，
３４が形成されている。スライダ３０のトレーリング側
Ｂの端面（端部）には、薄膜素子３５が設けられてい
る。
対向面を上向きにして示した斜視図である。図１５に示
したスライダ３０は、アルミナ・チタンカーバイト、ま
たはＳｉ（シリコン）などのセラミック材料により形成
されており、記録媒体であるハードディスクとの対向面
にエアーグルーブ３１が形成され、その両側にレール部
３２，３２が形成されている。図１５に示すように、前
記レール部３２，３２は所定のクラウン形状で形成され
ており、前記レール部３２，３２の表面は、ＡＢＳ面
（浮上面）３３，３３となっている。また、前記レール
部３２，３２のリーディング側Ａ端部には傾斜部３４，
３４が形成されている。スライダ３０のトレーリング側
Ｂの端面（端部）には、薄膜素子３５が設けられてい
る。
【０００４】前記薄膜素子３５は、ＡＭＲ素子やスピン
バルブ型薄膜素子などの磁気抵抗効果素子層を有する再
生用のＭＲヘッドと、磁性材料のコアとコイルとで形成
される記録用のインダクティブヘッドとが積層されたも
のである。
バルブ型薄膜素子などの磁気抵抗効果素子層を有する再
生用のＭＲヘッドと、磁性材料のコアとコイルとで形成
される記録用のインダクティブヘッドとが積層されたも
のである。
【０００５】図１５に示すように、トレーリング側Ｂ端
面には、前記薄膜素子３５から引き出された複数の端子
電極部３６が形成されている。
面には、前記薄膜素子３５から引き出された複数の端子
電極部３６が形成されている。
【０００６】ところで前記スライダ３０を製造するに
は、まず前記スライダ３０の母材となるセラミック材を
円形状に形成し、前記セラミック材の上に、複数の薄膜
素子を並列にスパッタリングにより形成する。そして、
前記セラミック材を、スライス状に切断し、前記セラミ
ック材から複数の細長形状のスライダバーを形成する。
は、まず前記スライダ３０の母材となるセラミック材を
円形状に形成し、前記セラミック材の上に、複数の薄膜
素子を並列にスパッタリングにより形成する。そして、
前記セラミック材を、スライス状に切断し、前記セラミ
ック材から複数の細長形状のスライダバーを形成する。
【０００７】図１６は、前記スライダバー４０の斜視図
である。図１６に示すように、前記スライダバー４０の
側面４１（トレーリング側端面）には、複数個の薄膜素
子３５が成膜されている。図１６に示す符号４２は、記
録媒体との対向面であり、この対向面４２上に露光現像
によって、図１５に示すようなＡＢＳ面３３が薄膜素子
３５の数に対応して複数形成される。
である。図１６に示すように、前記スライダバー４０の
側面４１（トレーリング側端面）には、複数個の薄膜素
子３５が成膜されている。図１６に示す符号４２は、記
録媒体との対向面であり、この対向面４２上に露光現像
によって、図１５に示すようなＡＢＳ面３３が薄膜素子
３５の数に対応して複数形成される。
【０００８】図１７を用いて、従来におけるＡＢＳ面エ
ッチングパターン形成方法について説明する。まず図１
７に示すように、平面状の治具４５上に、複数本のスラ
イダバー４０（図１６参照）を、記録媒体との対向面４
２が上向きになるようにして配置する。このとき、各ス
ライダバー４０の側面には、図１６に示す薄膜素子３５
が形成されているので、この薄膜素子３５に損傷を与え
ないために、各スライダバー４０間に、一定の隙間４６
を空けておく。なお図１７に示すように、各スライダバ
ー４０は、治具４５上に接着剤４７を介して固定された
状態となっている。
ッチングパターン形成方法について説明する。まず図１
７に示すように、平面状の治具４５上に、複数本のスラ
イダバー４０（図１６参照）を、記録媒体との対向面４
２が上向きになるようにして配置する。このとき、各ス
ライダバー４０の側面には、図１６に示す薄膜素子３５
が形成されているので、この薄膜素子３５に損傷を与え
ないために、各スライダバー４０間に、一定の隙間４６
を空けておく。なお図１７に示すように、各スライダバ
ー４０は、治具４５上に接着剤４７を介して固定された
状態となっている。
【０００９】次に、前記スライダバー４０表面に、感光
性レジストフィルム４８を貼り付ける。レジストはフィ
ルム状のもの以外に、液体状のものもあるが、レジスト
フィルムの方がレジスト液に比べ、安価であり、またレ
ジスト液を使用した場合は、前記レジスト液中に含まれ
ている溶剤を抜くために、スライダバー４０表面へ塗布
後、加熱処理を施す必要がある。しかし、レジストフィ
ルムを使用した場合は、前記加熱工程を必要とせず、工
程数を減少させることができる点でも利点がある。
性レジストフィルム４８を貼り付ける。レジストはフィ
ルム状のもの以外に、液体状のものもあるが、レジスト
フィルムの方がレジスト液に比べ、安価であり、またレ
ジスト液を使用した場合は、前記レジスト液中に含まれ
ている溶剤を抜くために、スライダバー４０表面へ塗布
後、加熱処理を施す必要がある。しかし、レジストフィ
ルムを使用した場合は、前記加熱工程を必要とせず、工
程数を減少させることができる点でも利点がある。
【００１０】そして、露光マスク（図示しない）を介し
て、前記レジストフィルム４８表面に、ＡＢＳ面エッチ
ングパターンを露光させ、さらに現像工程、ドライエッ
チング工程を施すと、図１５に示すようなＡＢＳ面３３
が、スライダバー４０の対向面４２（図１６参照）上に
複数形成される。
て、前記レジストフィルム４８表面に、ＡＢＳ面エッチ
ングパターンを露光させ、さらに現像工程、ドライエッ
チング工程を施すと、図１５に示すようなＡＢＳ面３３
が、スライダバー４０の対向面４２（図１６参照）上に
複数形成される。
【００１１】このように対向面４２に複数のＡＢＳ面３
３が形成されたスライダバー４０を、薄膜素子３５間か
ら切断することにより、図１５に示すようなスライダ３
０を、一本のスライダバー４０から複数得ることができ
る。
３が形成されたスライダバー４０を、薄膜素子３５間か
ら切断することにより、図１５に示すようなスライダ３
０を、一本のスライダバー４０から複数得ることができ
る。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかし従来のＡＢＳ面
エッチングパターン形成方法では、以下のような問題点
があった。図１７に示すように、治具４５上に複数本の
スライダバー４０を設置し、前記スライダバー４０表面
にレジストフィルム４８を貼り付けると、スライダバー
４０間の隙間４６上に貼り付けられたレジストフィルム
４８は撓み、前記レジストフィルム４８表面は平坦化さ
れない。またレジストフィルム４８表面が平坦化されな
い他の要因としては、図１６に示すスライダバー４０の
状態で、前記スライダバー４０の対向面４２に予め、図
１５に示す傾斜部３４を形成し、あるいは前記スライダ
バー４０の対向面４２を予めクラウン形状に形成してお
くことなどが挙げられる。
エッチングパターン形成方法では、以下のような問題点
があった。図１７に示すように、治具４５上に複数本の
スライダバー４０を設置し、前記スライダバー４０表面
にレジストフィルム４８を貼り付けると、スライダバー
４０間の隙間４６上に貼り付けられたレジストフィルム
４８は撓み、前記レジストフィルム４８表面は平坦化さ
れない。またレジストフィルム４８表面が平坦化されな
い他の要因としては、図１６に示すスライダバー４０の
状態で、前記スライダバー４０の対向面４２に予め、図
１５に示す傾斜部３４を形成し、あるいは前記スライダ
バー４０の対向面４２を予めクラウン形状に形成してお
くことなどが挙げられる。
【００１３】図１７に示すように、レジストフィルム４
８表面が平坦化されていない状態で、前記レジストフィ
ルム４８表面に、ＡＢＳ面のエッチングパターンを露光
すると、前記エッチングパターンに歪みが発生し、寸法
精度良くＡＢＳ面３３（図１５参照）を形成できないと
いった問題が発生する。
８表面が平坦化されていない状態で、前記レジストフィ
ルム４８表面に、ＡＢＳ面のエッチングパターンを露光
すると、前記エッチングパターンに歪みが発生し、寸法
精度良くＡＢＳ面３３（図１５参照）を形成できないと
いった問題が発生する。
【００１４】また前記エッチングパターンを形成した
後、このエッチングパターンを使用して、前記スライダ
バー４０上にドライエッチングを施すが、前記スライダ
バー４０の側面は露出した状態となっているため、ドラ
イエッチングによって、前記スライダバー４０の側面が
削り取られ、削り取られたセラミック材粉が、隣側に位
置するスライダバー４０などの側面に再付着してしま
う。また前記スライダバー４０の側面には、薄膜素子３
５（図１６参照）が成膜されているので、ドライエッチ
ングによって前記薄膜素子３５が損傷を受けることがあ
る。
後、このエッチングパターンを使用して、前記スライダ
バー４０上にドライエッチングを施すが、前記スライダ
バー４０の側面は露出した状態となっているため、ドラ
イエッチングによって、前記スライダバー４０の側面が
削り取られ、削り取られたセラミック材粉が、隣側に位
置するスライダバー４０などの側面に再付着してしま
う。また前記スライダバー４０の側面には、薄膜素子３
５（図１６参照）が成膜されているので、ドライエッチ
ングによって前記薄膜素子３５が損傷を受けることがあ
る。
【００１５】本発明は上記問題点を解決するためのもの
であり、特に寸法精度良くエッチングパターンを形成で
き、しかもドライエッチング工程時における基板粉の再
付着、及び薄膜素子への損傷を防止できるようにしたパ
ターン形成方法を提供することを目的としている。
であり、特に寸法精度良くエッチングパターンを形成で
き、しかもドライエッチング工程時における基板粉の再
付着、及び薄膜素子への損傷を防止できるようにしたパ
ターン形成方法を提供することを目的としている。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明における第１実施
形態のパターン形成方法は、側面に複数の薄膜素子を有
するスライダバーを、治具上に複数本並べて設置する工
程と、前記スライダバー表面に、レジストフィルムを貼
り付け、あるいはレジスト液を塗布し、前記レジストフ
ィルムあるいはレジスト液によって前記スライダバー間
の隙間を埋める予備工程と、前記スライダバー上のレジ
ストフィルムあるいはレジスト液を、現像液によって除
去し、前記スライダバー間の隙間を埋めるレジストフィ
ルムあるいはレジスト液をそのまま残す工程と、前記ス
ライダバー表面にレジストフィルムを貼り付ける工程
と、前記レジストフィルム表面を露光現像して、ＡＢＳ
面のエッチングパターンを形成する工程と、前記エッチ
ングパターンを使用して、前記スライダバー表面にドラ
イエッチングを施す工程と、を有することを特徴とする
ものである。
形態のパターン形成方法は、側面に複数の薄膜素子を有
するスライダバーを、治具上に複数本並べて設置する工
程と、前記スライダバー表面に、レジストフィルムを貼
り付け、あるいはレジスト液を塗布し、前記レジストフ
ィルムあるいはレジスト液によって前記スライダバー間
の隙間を埋める予備工程と、前記スライダバー上のレジ
ストフィルムあるいはレジスト液を、現像液によって除
去し、前記スライダバー間の隙間を埋めるレジストフィ
ルムあるいはレジスト液をそのまま残す工程と、前記ス
ライダバー表面にレジストフィルムを貼り付ける工程
と、前記レジストフィルム表面を露光現像して、ＡＢＳ
面のエッチングパターンを形成する工程と、前記エッチ
ングパターンを使用して、前記スライダバー表面にドラ
イエッチングを施す工程と、を有することを特徴とする
ものである。
【００１７】前記予備工程では、スライダバー表面のレ
ジストフィルムに熱を与えて、前記スライダバー間の隙
間を前記レジストフィルムで埋めることが好ましい。
ジストフィルムに熱を与えて、前記スライダバー間の隙
間を前記レジストフィルムで埋めることが好ましい。
【００１８】また本発明における第２実施形態のパター
ン形成方法は、側面に複数の薄膜素子を有するスライダ
バーを、治具上に複数本並べて設置する工程と、前記ス
ライダバー表面にレジストフィルムを貼り付ける工程
と、前記スライダバー表面のレジストフィルムを、加熱
・加圧して、スライダバー間の隙間を前記レジストフィ
ルムで埋める工程と、前記スライダバー表面のレジスト
フィルムを露光現像して、ＡＢＳ面のエッチングパター
ンを形成する工程と、前記エッチングパターンを使用し
て、前記スライダバー表面にドライエッチングを施す工
程と、を有することを特徴とするものである。
ン形成方法は、側面に複数の薄膜素子を有するスライダ
バーを、治具上に複数本並べて設置する工程と、前記ス
ライダバー表面にレジストフィルムを貼り付ける工程
と、前記スライダバー表面のレジストフィルムを、加熱
・加圧して、スライダバー間の隙間を前記レジストフィ
ルムで埋める工程と、前記スライダバー表面のレジスト
フィルムを露光現像して、ＡＢＳ面のエッチングパター
ンを形成する工程と、前記エッチングパターンを使用し
て、前記スライダバー表面にドライエッチングを施す工
程と、を有することを特徴とするものである。
【００１９】本発明では、スライダバー表面に貼り付け
られるレジストフィルムの厚さは、ＡＢＳ面のエッチン
グパターン形成に必要な厚さよりも大きいことが好まし
い。
られるレジストフィルムの厚さは、ＡＢＳ面のエッチン
グパターン形成に必要な厚さよりも大きいことが好まし
い。
【００２０】さらに本発明における第３実施形態のパタ
ーン形成方法は、基板上に複数の薄膜素子を形成し、さ
らに前記薄膜素子を覆うレジスト層を形成する工程と、
前記基板を切断して、複数本のスライダバーを形成する
工程と、治具上に、薄膜素子を有する面をスライダバー
間に対向させる側面として、複数本のスライダバーを設
置する工程と、並んでいる前記スライダバーの表面に、
レジストフィルムを貼り付ける工程と、前記レジストフ
ィルム表面を露光現像して、ＡＢＳ面のエッチングパタ
ーンを形成する工程と、前記エッチングパターンを使用
して、前記スライダバー表面にドライエッチングを施す
工程と、を有することを特徴とするものである。なお本
発明では、前記レジスト層には、レジストフィルムある
いはレジスト液のどちらであっても使用可能である。
ーン形成方法は、基板上に複数の薄膜素子を形成し、さ
らに前記薄膜素子を覆うレジスト層を形成する工程と、
前記基板を切断して、複数本のスライダバーを形成する
工程と、治具上に、薄膜素子を有する面をスライダバー
間に対向させる側面として、複数本のスライダバーを設
置する工程と、並んでいる前記スライダバーの表面に、
レジストフィルムを貼り付ける工程と、前記レジストフ
ィルム表面を露光現像して、ＡＢＳ面のエッチングパタ
ーンを形成する工程と、前記エッチングパターンを使用
して、前記スライダバー表面にドライエッチングを施す
工程と、を有することを特徴とするものである。なお本
発明では、前記レジスト層には、レジストフィルムある
いはレジスト液のどちらであっても使用可能である。
【００２１】また本発明では、前記薄膜素子から引き出
されて、前記薄膜素子の形成面と同一面に形成される端
子電極部上に、前記レジスト層を形成しないことが好ま
しい。
されて、前記薄膜素子の形成面と同一面に形成される端
子電極部上に、前記レジスト層を形成しないことが好ま
しい。
【００２２】本発明では、例えばスライダバーの記録媒
体との対向面に、寸法精度良くＡＢＳ面（浮上面）のエ
ッチングパターンを形成でき、しかも前記エッチングパ
ターンを使用してスライダバーに対してドライエッチン
グを施した際におけるスライダバー側面の損傷を防止す
るためのものである。まず、寸法精度良くエッチングパ
ターンを形成するには、前記スライダバー上に貼り付け
られるレジストフィルム表面を平面状に形成することで
ある。そして、ドライエッチング工程におけるスライダ
バー側面の損傷を防止するには、治具上に固定された複
数本のスライダバー間の隙間にレジストを浸透させ、前
記スライダバー側面を前記レジストによって保護すれば
よい。
体との対向面に、寸法精度良くＡＢＳ面（浮上面）のエ
ッチングパターンを形成でき、しかも前記エッチングパ
ターンを使用してスライダバーに対してドライエッチン
グを施した際におけるスライダバー側面の損傷を防止す
るためのものである。まず、寸法精度良くエッチングパ
ターンを形成するには、前記スライダバー上に貼り付け
られるレジストフィルム表面を平面状に形成することで
ある。そして、ドライエッチング工程におけるスライダ
バー側面の損傷を防止するには、治具上に固定された複
数本のスライダバー間の隙間にレジストを浸透させ、前
記スライダバー側面を前記レジストによって保護すれば
よい。
【００２３】本発明におけるＡＢＳ面エッチングパター
ンの形成工程は、図３から図５、図６から図８、図９か
ら図１１、図１２から図１４に示されている。
ンの形成工程は、図３から図５、図６から図８、図９か
ら図１１、図１２から図１４に示されている。
【００２４】図３から図５、及び図６から図８に示すＡ
ＢＳ面のエッチングパターン形成方法は、治具９上に固
定された複数本のスライダバー６表面に、加熱してレジ
ストフィルム１２を貼り付け、あるいはレジスト液１４
を塗布し、前記スライダバー６間の隙間１１に、前記レ
ジストフィルム１２あるいはレジスト液１４を浸透させ
る。
ＢＳ面のエッチングパターン形成方法は、治具９上に固
定された複数本のスライダバー６表面に、加熱してレジ
ストフィルム１２を貼り付け、あるいはレジスト液１４
を塗布し、前記スライダバー６間の隙間１１に、前記レ
ジストフィルム１２あるいはレジスト液１４を浸透させ
る。
【００２５】その後、前記スライダバー６上のレジスト
フィルム１２あるいはレジスト液１４を現像液で除去
し、再度、レジストフィルム１３を前記スライダバー６
表面に貼り付けている。
フィルム１２あるいはレジスト液１４を現像液で除去
し、再度、レジストフィルム１３を前記スライダバー６
表面に貼り付けている。
【００２６】図９から図１１に示すＡＢＳ面のエッチン
グパターン形成方法は、治具９上に固定された複数本の
スライダバー６表面に、通常エッチングパターン形成に
必要な厚みよりも厚いレジストフィルム１５を貼り付
け、前記レジストフィルム１５を加熱・加圧して、前記
スライダバー６間の隙間１１を前記レジストフィルム１
５で埋め、同時に前記レジストフィルム１５表面を平坦
化している。
グパターン形成方法は、治具９上に固定された複数本の
スライダバー６表面に、通常エッチングパターン形成に
必要な厚みよりも厚いレジストフィルム１５を貼り付
け、前記レジストフィルム１５を加熱・加圧して、前記
スライダバー６間の隙間１１を前記レジストフィルム１
５で埋め、同時に前記レジストフィルム１５表面を平坦
化している。
【００２７】図１２から図１４に示すＡＢＳ面のエッチ
ングパターン形成方法は、円形状に形成されたセラミッ
ク材１８の上にレジスト層２０を形成し、前記セラミッ
ク材１８をスライダバー２１状に切断する。
ングパターン形成方法は、円形状に形成されたセラミッ
ク材１８の上にレジスト層２０を形成し、前記セラミッ
ク材１８をスライダバー２１状に切断する。
【００２８】そして、複数本の前記スライダバー２１を
治具９上に固定する際に、前記スライダバー２１間の間
隔２２を狭くし、この状態で前記スライダバー２１上に
レジストフィルム２３を貼り付けている。
治具９上に固定する際に、前記スライダバー２１間の間
隔２２を狭くし、この状態で前記スライダバー２１上に
レジストフィルム２３を貼り付けている。
【００２９】いずれにしても本発明によれば、治具上に
固定された複数本のスライダバー間の隙間を、レジスト
フィルムあるいはレジスト液で埋め、前記隙間がレジス
トで埋められたことによって平坦化された前記スライダ
バー表面にレジストフィルムを貼り付けている。このた
めスライダバー表面に張り付けられたレジストフィルム
の表面も平坦化された状態となっている。
固定された複数本のスライダバー間の隙間を、レジスト
フィルムあるいはレジスト液で埋め、前記隙間がレジス
トで埋められたことによって平坦化された前記スライダ
バー表面にレジストフィルムを貼り付けている。このた
めスライダバー表面に張り付けられたレジストフィルム
の表面も平坦化された状態となっている。
【００３０】従って、本発明によれば、平坦化されたレ
ジストフィルム表面に、ＡＢＳ面のエッチングパターン
を形成できるので、前記エッチングパターンを寸法精度
良く形成できる。またレジストフィルムに対してエッチ
ングパターンを形成する際における現像工程では、スラ
イダバー間の隙間に浸透したレジストは現像液によって
除去されない。
ジストフィルム表面に、ＡＢＳ面のエッチングパターン
を形成できるので、前記エッチングパターンを寸法精度
良く形成できる。またレジストフィルムに対してエッチ
ングパターンを形成する際における現像工程では、スラ
イダバー間の隙間に浸透したレジストは現像液によって
除去されない。
【００３１】このため本発明では、エッチングパターン
形成後、ドライエッチングを施す際に、スライダバーの
側面がドライエッチングによって削り取られることがな
く、ドライエッチングによる削り粉のスライダバー側面
への再付着を防止できる。
形成後、ドライエッチングを施す際に、スライダバーの
側面がドライエッチングによって削り取られることがな
く、ドライエッチングによる削り粉のスライダバー側面
への再付着を防止できる。
【００３２】またスライダバー間の隙間がレジストによ
って埋められていることにより、スライダバーの側面に
形成されている薄膜素子はドライエッチングによって損
傷を受けることがない。
って埋められていることにより、スライダバーの側面に
形成されている薄膜素子はドライエッチングによって損
傷を受けることがない。
【００３３】
【発明の実施の形態】図１は、ハードディスクなどに搭
載される本発明のスライダを記録媒体との対向面（ＡＢ
Ｓ面；浮上面）を上向きにして示した斜視図である。図
１に示したスライダ１は、アルミナ・チタンカーバイ
ト、またはＳｉ（シリコン）などのセラミック材料によ
り形成されている。図１に示すように、記録媒体である
ハードディスクとの対向部にはエアーグルーブ２が形成
され、その両側にレール部３，３が形成されている。図
１に示すように、前記レール部３，３は所定のクラウン
形状で形成されており、前記レール部３，３の表面は、
ＡＢＳ面（浮上面）４，４となっている。また、前記レ
ール部３，３のリーディング側Ｃ端部には傾斜部５，５
が形成されている。スライダ１のトレーリング側Ｄの端
面（端部）には、薄膜素子７が設けられている。
載される本発明のスライダを記録媒体との対向面（ＡＢ
Ｓ面；浮上面）を上向きにして示した斜視図である。図
１に示したスライダ１は、アルミナ・チタンカーバイ
ト、またはＳｉ（シリコン）などのセラミック材料によ
り形成されている。図１に示すように、記録媒体である
ハードディスクとの対向部にはエアーグルーブ２が形成
され、その両側にレール部３，３が形成されている。図
１に示すように、前記レール部３，３は所定のクラウン
形状で形成されており、前記レール部３，３の表面は、
ＡＢＳ面（浮上面）４，４となっている。また、前記レ
ール部３，３のリーディング側Ｃ端部には傾斜部５，５
が形成されている。スライダ１のトレーリング側Ｄの端
面（端部）には、薄膜素子７が設けられている。
【００３４】前記薄膜素子７は、ＡＭＲ素子やスピンバ
ルブ型薄膜素子などの磁気抵抗効果素子層を有する再生
用のＭＲヘッドと、磁性材料のコアとコイルとで形成さ
れる記録用のインダクティブヘッドとが積層されたもの
である。前記磁気抵抗効果素子層は、ＡＭＲ（amisotro
pic magnetoresistive）素子やスピンバルブ膜に代表さ
れるＧＭＲ（giant magnetoresistive）素子から成り、
記録媒体からの漏れ磁界を抵抗変化としてとらえ、電圧
変化として出力可能とする。
ルブ型薄膜素子などの磁気抵抗効果素子層を有する再生
用のＭＲヘッドと、磁性材料のコアとコイルとで形成さ
れる記録用のインダクティブヘッドとが積層されたもの
である。前記磁気抵抗効果素子層は、ＡＭＲ（amisotro
pic magnetoresistive）素子やスピンバルブ膜に代表さ
れるＧＭＲ（giant magnetoresistive）素子から成り、
記録媒体からの漏れ磁界を抵抗変化としてとらえ、電圧
変化として出力可能とする。
【００３５】また図１に示すように、スライダ１のトレ
ーリング側Ｄ端面には、薄膜素子７から引き出された薄
膜による電極端子部１７が形成されている。図１に示す
スライダ１には、その下面側、すなわちＡＢＳ面４の逆
面側に、板ばね材料で形成されたフレキシャやロードビ
ームによる支持部材が取付けられるが、前記フレキシャ
にも導電パターンが形成されており、この導電パターン
と前記電極端子部１７とが、金（Ａｕ）などのボールボ
ンディングによって接合されている。
ーリング側Ｄ端面には、薄膜素子７から引き出された薄
膜による電極端子部１７が形成されている。図１に示す
スライダ１には、その下面側、すなわちＡＢＳ面４の逆
面側に、板ばね材料で形成されたフレキシャやロードビ
ームによる支持部材が取付けられるが、前記フレキシャ
にも導電パターンが形成されており、この導電パターン
と前記電極端子部１７とが、金（Ａｕ）などのボールボ
ンディングによって接合されている。
【００３６】図１に示すスライダ１を搭載した磁気ヘッ
ド装置は、ＣＳＳ方式などによって作動するものであ
り、前記スライダ１が記録媒体から一定量浮上した状態
で、薄膜素子７による記録・再生が行われる。
ド装置は、ＣＳＳ方式などによって作動するものであ
り、前記スライダ１が記録媒体から一定量浮上した状態
で、薄膜素子７による記録・再生が行われる。
【００３７】ところで、図１に示すスライダ１を形成す
るには、まず前記スライダ１の母材となるセラミック材
を、最初、円板状に形成する。その後、前記セラミック
材の上に、薄膜素子７を、並列に複数個パターン形成
し、さらに前記セラミック材を、スライス状に切断する
と、図２に示すようなスライダバー６を、１つの円板状
のセラミック材から複数個形成できる。なおこのとき、
図２に示すように、スライダバー６の端面には、複数個
の薄膜素子７が成膜された状態となっている。
るには、まず前記スライダ１の母材となるセラミック材
を、最初、円板状に形成する。その後、前記セラミック
材の上に、薄膜素子７を、並列に複数個パターン形成
し、さらに前記セラミック材を、スライス状に切断する
と、図２に示すようなスライダバー６を、１つの円板状
のセラミック材から複数個形成できる。なおこのとき、
図２に示すように、スライダバー６の端面には、複数個
の薄膜素子７が成膜された状態となっている。
【００３８】次に、図２に示すスライダバー６の表面
（記録媒体との対向面）８上に、図１に示すＡＢＳ面４
のエッチングパターンを形成する方法について説明す
る。図３に示すように、スライダバー６を複数本、治具
９上に接着剤１０を介して固定する。このとき、図３に
示すように、スライダバー６の間に、一定の隙間１１を
空けておく。このように、スライダバー６間に隙間１１
を空けておく理由は、前記スライダバー６の側面には、
薄膜素子７（図２参照）が成膜されているので、この薄
膜素子７に損傷を与えないためである。そして図３に示
すように、前記スライダバー６表面に、レジストフィル
ム１２を貼り付ける。
（記録媒体との対向面）８上に、図１に示すＡＢＳ面４
のエッチングパターンを形成する方法について説明す
る。図３に示すように、スライダバー６を複数本、治具
９上に接着剤１０を介して固定する。このとき、図３に
示すように、スライダバー６の間に、一定の隙間１１を
空けておく。このように、スライダバー６間に隙間１１
を空けておく理由は、前記スライダバー６の側面には、
薄膜素子７（図２参照）が成膜されているので、この薄
膜素子７に損傷を与えないためである。そして図３に示
すように、前記スライダバー６表面に、レジストフィル
ム１２を貼り付ける。
【００３９】前記レジストフィルム１２は、フィルム状
のレジストの下側にカバーフィルム、及び/または、前
記レジストの上側にベースフィルムを貼り付けたラミネ
ート状であり、このレジストフィルム１２を、図３に示
すスライダバー６上に、ローラによって貼り付けてい
く。本発明では、加熱して、具体的にはスライダバー６
の予加熱を、６０℃〜１００℃の間とし、前記ローラの
温度を１００℃〜１４０℃の間で、前記レジストフィル
ム１２をスライダバー６上に貼り付けていく。このよう
に、加熱して、前記レジストフィルム１２の貼付けを行
うことにより、前記レジストフィルム１２は溶解し、ス
ライダバー６間の隙間１１に、前記レジストフィルム１
２が浸透していく。なお図３に示すように、前記隙間１
１に浸透したレジストフィルム１２表面は凹んだ状態と
なっている。
のレジストの下側にカバーフィルム、及び/または、前
記レジストの上側にベースフィルムを貼り付けたラミネ
ート状であり、このレジストフィルム１２を、図３に示
すスライダバー６上に、ローラによって貼り付けてい
く。本発明では、加熱して、具体的にはスライダバー６
の予加熱を、６０℃〜１００℃の間とし、前記ローラの
温度を１００℃〜１４０℃の間で、前記レジストフィル
ム１２をスライダバー６上に貼り付けていく。このよう
に、加熱して、前記レジストフィルム１２の貼付けを行
うことにより、前記レジストフィルム１２は溶解し、ス
ライダバー６間の隙間１１に、前記レジストフィルム１
２が浸透していく。なお図３に示すように、前記隙間１
１に浸透したレジストフィルム１２表面は凹んだ状態と
なっている。
【００４０】次に本発明では、前記レジストフィルム１
２を、現像液によって取り除く。図４に示すように、ス
ライダバー６上の前記レジストフィルム１２は、現像液
によって取り除かれるが、現像液が染み込みにくいスラ
イダバー６間の隙間１１に埋められた前記レジストフィ
ルム１２は、そのまま残される。前記隙間１１にレジス
トフィルム１２が残されることにより、スライダバー６
表面は平坦化された状態となる。そして、図５に示すよ
うに、スライダバー６表面及びレジストフィルム１２表
面に、レジストフィルム１３を貼り付ける。このレジス
トフィルム１３は、図３に示すレジストフィルム１２と
同様にラミネート状であり、ローラによって、スライダ
バー６表面及びレジストフィルム１２表面に、貼り付け
る。
２を、現像液によって取り除く。図４に示すように、ス
ライダバー６上の前記レジストフィルム１２は、現像液
によって取り除かれるが、現像液が染み込みにくいスラ
イダバー６間の隙間１１に埋められた前記レジストフィ
ルム１２は、そのまま残される。前記隙間１１にレジス
トフィルム１２が残されることにより、スライダバー６
表面は平坦化された状態となる。そして、図５に示すよ
うに、スライダバー６表面及びレジストフィルム１２表
面に、レジストフィルム１３を貼り付ける。このレジス
トフィルム１３は、図３に示すレジストフィルム１２と
同様にラミネート状であり、ローラによって、スライダ
バー６表面及びレジストフィルム１２表面に、貼り付け
る。
【００４１】貼付けを行う際の温度は、図３に示すレジ
ストフィルム１２を貼り付ける際の温度よりも低くくし
ておき、前記スライダバー６表面に貼り付けられるレジ
ストフィルム１３をＵＶなどによって硬化させる。
ストフィルム１２を貼り付ける際の温度よりも低くくし
ておき、前記スライダバー６表面に貼り付けられるレジ
ストフィルム１３をＵＶなどによって硬化させる。
【００４２】本発明では、スライダバー６間の隙間１１
がレジストフィルム１２により埋められたことによっ
て、平坦化されたスライダバー６表面にレジストフィル
ム１３を貼り付けることが可能であり、従って貼り付け
られた前記レジストフィルム１３表面を容易に平坦化で
きる。そして図５に示す状態で、前記レジストフィルム
１３表面を露光現像し、前記レジストフィルム１３表面
にＡＢＳ面のエッチングパターンを形成する。
がレジストフィルム１２により埋められたことによっ
て、平坦化されたスライダバー６表面にレジストフィル
ム１３を貼り付けることが可能であり、従って貼り付け
られた前記レジストフィルム１３表面を容易に平坦化で
きる。そして図５に示す状態で、前記レジストフィルム
１３表面を露光現像し、前記レジストフィルム１３表面
にＡＢＳ面のエッチングパターンを形成する。
【００４３】なお前記現像工程では、エッチングパター
ンとしてのレジストフィルム１３のみがスライダバー６
表面に残され、それ以外のレジストフィルム１３がスラ
イダバー６表面から除去されるが、現像液が染み込みに
くいスライダバー６間の隙間１１に浸透したレジストフ
ィルム１２は、そのまま除去されることなく残される。
ンとしてのレジストフィルム１３のみがスライダバー６
表面に残され、それ以外のレジストフィルム１３がスラ
イダバー６表面から除去されるが、現像液が染み込みに
くいスライダバー６間の隙間１１に浸透したレジストフ
ィルム１２は、そのまま除去されることなく残される。
【００４４】前述したように、前記レジストフィルム１
３表面は平坦化されているので、本発明では、前記レジ
ストフィルム１３表面に、露光現像によって、寸法精度
の良いＡＢＳ面エッチングパターンを形成できる。続い
て、現像工程によってスライダバー６上に残されたレジ
ストフィルム１３を使用して、ドライエッチング工程を
施す。
３表面は平坦化されているので、本発明では、前記レジ
ストフィルム１３表面に、露光現像によって、寸法精度
の良いＡＢＳ面エッチングパターンを形成できる。続い
て、現像工程によってスライダバー６上に残されたレジ
ストフィルム１３を使用して、ドライエッチング工程を
施す。
【００４５】このドライエッチングの際、スライダバー
６間の隙間１１には、レジストフィルム１２が残された
状態となっているので、前記スライダバー６の側面は前
記ドライエッチングによって削られることがなく、ドラ
イエッチングによる削り粉が、例えば隣側のスライダバ
ー６側面に付着するようなことがない。しかもスライダ
バー６間の隙間１１にレジストフィルム１２が埋められ
ていることにより、スライダバー６の側面に形成されて
いる薄膜素子７（図２参照）もドライエッチングの影響
を受けることがなく、前記薄膜素子７のドライエッチン
グによる損傷を防止できる。
６間の隙間１１には、レジストフィルム１２が残された
状態となっているので、前記スライダバー６の側面は前
記ドライエッチングによって削られることがなく、ドラ
イエッチングによる削り粉が、例えば隣側のスライダバ
ー６側面に付着するようなことがない。しかもスライダ
バー６間の隙間１１にレジストフィルム１２が埋められ
ていることにより、スライダバー６の側面に形成されて
いる薄膜素子７（図２参照）もドライエッチングの影響
を受けることがなく、前記薄膜素子７のドライエッチン
グによる損傷を防止できる。
【００４６】そしてスライダバー６上に残されたレジス
トフィルム１３、及びスライダバー６間の隙間１１に残
されたレジストフィルム１２の除去、前記スライダバー
６の治具９からの取り外しを行い、前記スライダバー６
を図１に示す個々のスライダ１に切断する。
トフィルム１３、及びスライダバー６間の隙間１１に残
されたレジストフィルム１２の除去、前記スライダバー
６の治具９からの取り外しを行い、前記スライダバー６
を図１に示す個々のスライダ１に切断する。
【００４７】以上のように本発明では、治具９上に固定
された複数本のスライダバー６の隙間１１に、レジスト
フィルム１２を浸透させ（図３参照）、一旦、前記スラ
イダバー６上のレジストフィルム１２のみを現像液で除
去して（図４参照）、前記スライダバー６表面を平坦化
する。そして平坦化された前記スライダバー６表面に、
再度レジストフィルム１３を貼り付ける（図５参照）の
で、前記レジストフィルム１３の表面を容易に平坦化す
ることができる。従って、本発明では、前記レジストフ
ィルム１３表面に寸法精度良くＡＢＳ面のエッチングパ
ターンを形成できる。またエッチングパターン形成時の
現像工程おいて、前記スライダバー６間の隙間１１を埋
めるレジストフィルム１２は除去されないので、ドライ
エッチングによってスライダバー側面が削り取られるこ
とがない。
された複数本のスライダバー６の隙間１１に、レジスト
フィルム１２を浸透させ（図３参照）、一旦、前記スラ
イダバー６上のレジストフィルム１２のみを現像液で除
去して（図４参照）、前記スライダバー６表面を平坦化
する。そして平坦化された前記スライダバー６表面に、
再度レジストフィルム１３を貼り付ける（図５参照）の
で、前記レジストフィルム１３の表面を容易に平坦化す
ることができる。従って、本発明では、前記レジストフ
ィルム１３表面に寸法精度良くＡＢＳ面のエッチングパ
ターンを形成できる。またエッチングパターン形成時の
現像工程おいて、前記スライダバー６間の隙間１１を埋
めるレジストフィルム１２は除去されないので、ドライ
エッチングによってスライダバー側面が削り取られるこ
とがない。
【００４８】ところで図３から図５に示すパターン形成
方法では、スライダバー６間の隙間１１をレジストフィ
ルム１２によって埋めていたが、前記レジストフィルム
１２に代えて、レジスト液を使用してもよい。
方法では、スライダバー６間の隙間１１をレジストフィ
ルム１２によって埋めていたが、前記レジストフィルム
１２に代えて、レジスト液を使用してもよい。
【００４９】レジスト液を用いたパターン形成方法を、
図６から図８に示す。図６に示すように、治具９上に接
着剤１０を介して固定された複数本のスライダバー６表
面に、レジスト液１４を塗布する。このとき、前記スラ
イダバー６間の隙間１１にも前記レジスト液１４が浸透
し、前記隙間１１に浸透したレジスト液１４表面は凹ん
だ状態となっている。次に、加熱して前記レジスト液１
４を硬化させ、その後、現像液によって、図７に示すよ
うに、前記レジスト液１４を除去する。
図６から図８に示す。図６に示すように、治具９上に接
着剤１０を介して固定された複数本のスライダバー６表
面に、レジスト液１４を塗布する。このとき、前記スラ
イダバー６間の隙間１１にも前記レジスト液１４が浸透
し、前記隙間１１に浸透したレジスト液１４表面は凹ん
だ状態となっている。次に、加熱して前記レジスト液１
４を硬化させ、その後、現像液によって、図７に示すよ
うに、前記レジスト液１４を除去する。
【００５０】図７に示すように、現像液によって、スラ
イダバー６上に塗布されたレジスト液１４のみが除去さ
れ、前記スライダバー６間の隙間１１に浸透したレジス
ト液１４はそのまま残される。そして図８に示すよう
に、スライダバー６表面及び前記スライダバー６間の隙
間１１に埋められたレジスト液１４表面に、レジストフ
ィルム１３を貼り付け、その後、露光現像、ドライエッ
チング工程を施す。
イダバー６上に塗布されたレジスト液１４のみが除去さ
れ、前記スライダバー６間の隙間１１に浸透したレジス
ト液１４はそのまま残される。そして図８に示すよう
に、スライダバー６表面及び前記スライダバー６間の隙
間１１に埋められたレジスト液１４表面に、レジストフ
ィルム１３を貼り付け、その後、露光現像、ドライエッ
チング工程を施す。
【００５１】このように本発明では、治具９上に固定さ
れた複数本のスライダバー６間の隙間１１をレジストフ
ィルム１２あるいはレジスト液１４（以下、単に「レジ
スト」という）によって埋め、一旦、前記スライダバー
上のレジストを現像液によって除去する。ただし、現像
液は、スライダバー６間の隙間１１に浸透したレジスト
まで染み込みにくいので、前記レジストは除去されず、
スライダバー６間の隙間１１に残される。
れた複数本のスライダバー６間の隙間１１をレジストフ
ィルム１２あるいはレジスト液１４（以下、単に「レジ
スト」という）によって埋め、一旦、前記スライダバー
上のレジストを現像液によって除去する。ただし、現像
液は、スライダバー６間の隙間１１に浸透したレジスト
まで染み込みにくいので、前記レジストは除去されず、
スライダバー６間の隙間１１に残される。
【００５２】このようにスライダバー６間の隙間１１に
レジストが残されたことによってスライダバー６表面は
平坦化され、本発明では、この平坦化されたスライダバ
ー６表面にレジストフィルム１３を貼り付けることが可
能であり、従って前記レジストフィルム１３表面を容易
に平坦化できる。よって、本発明では、前記レジストフ
ィルム１３表面に、寸法精度良くＡＢＳ面のエッチング
パターンを形成できる。
レジストが残されたことによってスライダバー６表面は
平坦化され、本発明では、この平坦化されたスライダバ
ー６表面にレジストフィルム１３を貼り付けることが可
能であり、従って前記レジストフィルム１３表面を容易
に平坦化できる。よって、本発明では、前記レジストフ
ィルム１３表面に、寸法精度良くＡＢＳ面のエッチング
パターンを形成できる。
【００５３】またエッチングパターン形成時に行われる
現像工程では、スライダバー６間の隙間１１に埋められ
たレジストは除去されないので、ドライエッチングによ
って、前記スライダバー６の側面が削り取られることが
なく、削り粉の再付着や薄膜素子７の損傷を防止でき
る。
現像工程では、スライダバー６間の隙間１１に埋められ
たレジストは除去されないので、ドライエッチングによ
って、前記スライダバー６の側面が削り取られることが
なく、削り粉の再付着や薄膜素子７の損傷を防止でき
る。
【００５４】図９から図１１、及び図１２から図１４に
は、本発明における他のパターン形成方法が示されてい
る。図９に示すように、治具９上に接着剤１０を介して
複数本のスライダバー６を接着固定する。そして前記ス
ライダバー６表面に、レジストフィルム１５を貼り付け
る。前記レジストフィルム１５の厚さは、通常エッチン
グパターンの露光現像に必要な厚さ以上で形成されてい
る。なお図９に示すように、スライダバー６間の隙間１
１上に貼り付けられたレジストフィルム１５表面は凹ん
だ状態となっている。
は、本発明における他のパターン形成方法が示されてい
る。図９に示すように、治具９上に接着剤１０を介して
複数本のスライダバー６を接着固定する。そして前記ス
ライダバー６表面に、レジストフィルム１５を貼り付け
る。前記レジストフィルム１５の厚さは、通常エッチン
グパターンの露光現像に必要な厚さ以上で形成されてい
る。なお図９に示すように、スライダバー６間の隙間１
１上に貼り付けられたレジストフィルム１５表面は凹ん
だ状態となっている。
【００５５】また本発明では、レジストフィルム１５を
加熱しながら、スライダバー６表面へ貼り付けることが
好ましい。加熱することによりスライダバー６間の隙間
１１上に貼り付けられたレジストフィルム１５は溶け出
し、前記隙間１１を埋めていく。
加熱しながら、スライダバー６表面へ貼り付けることが
好ましい。加熱することによりスライダバー６間の隙間
１１上に貼り付けられたレジストフィルム１５は溶け出
し、前記隙間１１を埋めていく。
【００５６】次に本発明では、図１０に示すように、前
記レジストフィルム１５を、加熱されたプレート１６に
よって加圧する。なお前記プレート１６の下面は平面形
状である必要がある。
記レジストフィルム１５を、加熱されたプレート１６に
よって加圧する。なお前記プレート１６の下面は平面形
状である必要がある。
【００５７】プレート１６による加熱、加圧により、前
記レジストフィルム１５は溶け出し、スライダバー６間
の隙間１１に前記レジストフィルム１５が浸透してい
き、さらに前記スライダバー６表面は平坦化されてい
く。そして図１１に示すように、前記プレート１６を取
り外すと、スライダバー６間の隙間１１には、前記レジ
ストフィルム１５が埋められており、さらに前記レジス
トフィルム１５は、スライダバー６上に、一定の厚さを
有し、しかもその表面は平坦化された状態となってい
る。
記レジストフィルム１５は溶け出し、スライダバー６間
の隙間１１に前記レジストフィルム１５が浸透してい
き、さらに前記スライダバー６表面は平坦化されてい
く。そして図１１に示すように、前記プレート１６を取
り外すと、スライダバー６間の隙間１１には、前記レジ
ストフィルム１５が埋められており、さらに前記レジス
トフィルム１５は、スライダバー６上に、一定の厚さを
有し、しかもその表面は平坦化された状態となってい
る。
【００５８】次に、平坦化されたレジストフィルム１５
表面に露光現像を施すことにより、寸法精度に優れたＡ
ＢＳ面のエッチングパターンを形成できる。また前記エ
ッチングパターン形成時における現像工程では、スライ
ダバー６間の隙間１１に浸透したレジストフィルム１５
は除去されにくいので、ドライエッチングによって、前
記スライダバー６の側面が削り取られることがなく、削
り粉のスライダバー６側面への再付着や薄膜素子７（図
２参照）への損傷を防止することができる。
表面に露光現像を施すことにより、寸法精度に優れたＡ
ＢＳ面のエッチングパターンを形成できる。また前記エ
ッチングパターン形成時における現像工程では、スライ
ダバー６間の隙間１１に浸透したレジストフィルム１５
は除去されにくいので、ドライエッチングによって、前
記スライダバー６の側面が削り取られることがなく、削
り粉のスライダバー６側面への再付着や薄膜素子７（図
２参照）への損傷を防止することができる。
【００５９】前述した図３から図５に示すエッチング形
成方法、図６から図８に示すエッチング形成方法、及び
図９から図１１に示すエッチング形成方法は、いずれも
治具９上に複数本のスライダバー６を固定した後、前記
スライダバー６間の隙間１１を、レジストフィルムある
いはレジスト液によって埋めていたが、図１２から図１
４に示すエッチング形成方法は、治具９上に複数本のス
ライダバー６を接着固定する際に、予め、前記スライダ
バー６間に形成される隙間を小さくできるようにしたも
のである。
成方法、図６から図８に示すエッチング形成方法、及び
図９から図１１に示すエッチング形成方法は、いずれも
治具９上に複数本のスライダバー６を固定した後、前記
スライダバー６間の隙間１１を、レジストフィルムある
いはレジスト液によって埋めていたが、図１２から図１
４に示すエッチング形成方法は、治具９上に複数本のス
ライダバー６を接着固定する際に、予め、前記スライダ
バー６間に形成される隙間を小さくできるようにしたも
のである。
【００６０】前述したように、スライダ１（図１参照）
を形成するには、まず前記スライダ１の母材となるセラ
ミック材を円形状に形成し、その後前記セラミック材の
上に複数個の薄膜素子を成膜する。さらにこの薄膜素子
の形成と同時に、図１に示す薄膜素子７から引き出され
た電極端子部１７も成膜しておく。
を形成するには、まず前記スライダ１の母材となるセラ
ミック材を円形状に形成し、その後前記セラミック材の
上に複数個の薄膜素子を成膜する。さらにこの薄膜素子
の形成と同時に、図１に示す薄膜素子７から引き出され
た電極端子部１７も成膜しておく。
【００６１】図１２は、円形状に形成されたセラミック
材１８の断面図である。図１２に示す符号１９は、薄膜
素子や前記薄膜素子を保護するための層などが形成され
た薄膜素子形成層である。本発明では、さらに前記薄膜
素子形成層１９上に、前記薄膜素子の保護層となるレジ
スト層２０を形成する。この保護レジスト層２０は、レ
ジストフィルムで形成されていてもよいし、レジスト液
で形成されていてもよい。
材１８の断面図である。図１２に示す符号１９は、薄膜
素子や前記薄膜素子を保護するための層などが形成され
た薄膜素子形成層である。本発明では、さらに前記薄膜
素子形成層１９上に、前記薄膜素子の保護層となるレジ
スト層２０を形成する。この保護レジスト層２０は、レ
ジストフィルムで形成されていてもよいし、レジスト液
で形成されていてもよい。
【００６２】また前記薄膜素子形成層１９には、薄膜素
子や前記薄膜素子から引き出された電極端子部（図１に
示す符号１７）も形成されているが、本発明では、前記
電極端子部１７上に、前記保護レジスト層２０を形成し
ないことが好ましい。
子や前記薄膜素子から引き出された電極端子部（図１に
示す符号１７）も形成されているが、本発明では、前記
電極端子部１７上に、前記保護レジスト層２０を形成し
ないことが好ましい。
【００６３】前記電極端子部１７は、薄膜素子７内に形
成されているコイルあるいは導電層に電流を供給する
「端子」としての役割を果たしており、この電極端子部
１７と、図１に示すスライダ１を支持する支持部材に成
膜された導電パターンとが、ボンディングパッドによっ
て接合される。
成されているコイルあるいは導電層に電流を供給する
「端子」としての役割を果たしており、この電極端子部
１７と、図１に示すスライダ１を支持する支持部材に成
膜された導電パターンとが、ボンディングパッドによっ
て接合される。
【００６４】このため、図１２に示す保護レジスト層２
０を、薄膜素子形成層１９上に形成する際に、電極端子
部１７上に保護レジスト層２０を形成すると、前記電極
端子部１７と支持部材の導電パターンとの接合が行え
ず、また前記電極端子部１７を使用して、薄膜素子の性
能を測定することが不可能となり、従って、電極端子部
１７上に保護レジスト層２０を形成しない必要がある。
０を、薄膜素子形成層１９上に形成する際に、電極端子
部１７上に保護レジスト層２０を形成すると、前記電極
端子部１７と支持部材の導電パターンとの接合が行え
ず、また前記電極端子部１７を使用して、薄膜素子の性
能を測定することが不可能となり、従って、電極端子部
１７上に保護レジスト層２０を形成しない必要がある。
【００６５】次に本発明では、図１２に示すセラミック
材１８をスライス状に切断し、複数本のスライダバーを
形成する。そして図１３に示すように、前記スライダバ
ー２１を、治具９上に接着剤１０を介して接着固定す
る。図１３に示すように、前記スライダバー２１の側面
には、薄膜素子形成層１９と保護レジスト層２０とが形
成されているため、前記薄膜素子形成層１９内に形成さ
れている薄膜素子は、前記保護レジスト層２０によって
充分に保護された状態となっている。従って、図１３に
示すように、スライダバー２１間の隙間２２を、充分に
狭くして前記スライダバー２１を治具９上に配置して
も、前記スライダバー２１に形成されている薄膜素子に
損傷を与えることがない。そして図１３に示す状態で、
前記スライダバー２１表面に、レジストフィルム２３を
貼り付ける。
材１８をスライス状に切断し、複数本のスライダバーを
形成する。そして図１３に示すように、前記スライダバ
ー２１を、治具９上に接着剤１０を介して接着固定す
る。図１３に示すように、前記スライダバー２１の側面
には、薄膜素子形成層１９と保護レジスト層２０とが形
成されているため、前記薄膜素子形成層１９内に形成さ
れている薄膜素子は、前記保護レジスト層２０によって
充分に保護された状態となっている。従って、図１３に
示すように、スライダバー２１間の隙間２２を、充分に
狭くして前記スライダバー２１を治具９上に配置して
も、前記スライダバー２１に形成されている薄膜素子に
損傷を与えることがない。そして図１３に示す状態で、
前記スライダバー２１表面に、レジストフィルム２３を
貼り付ける。
【００６６】前述したようにスライダバー２１間の隙間
２２は非常に狭くなっているので、前記スライダバー２
１上にレジストフィルム２３を貼り付けても、隙間２２
上に貼り付けられた前記レジストフィルム２３は撓むこ
とがなく、前記レジストフィルム２３表面を容易に平坦
化できる。従って、平坦化されたレジストフィルム２３
表面に対して、露光現像を行うことにより、寸法精度に
優れたＡＢＳ面エッチングパターンを形成できる。
２２は非常に狭くなっているので、前記スライダバー２
１上にレジストフィルム２３を貼り付けても、隙間２２
上に貼り付けられた前記レジストフィルム２３は撓むこ
とがなく、前記レジストフィルム２３表面を容易に平坦
化できる。従って、平坦化されたレジストフィルム２３
表面に対して、露光現像を行うことにより、寸法精度に
優れたＡＢＳ面エッチングパターンを形成できる。
【００６７】また、ドライエッチング工程時に、前記ス
ライダバー２１の側面は保護レジスト層２０によって保
護されているため、前記ドライエッチングによって前記
スライダバーの側面が削り取られることがなく、さらに
スライダバー２１の側面に成膜されている薄膜素子（薄
膜素子形成層１９）もドライエッチングによる損傷を受
けることがない。
ライダバー２１の側面は保護レジスト層２０によって保
護されているため、前記ドライエッチングによって前記
スライダバーの側面が削り取られることがなく、さらに
スライダバー２１の側面に成膜されている薄膜素子（薄
膜素子形成層１９）もドライエッチングによる損傷を受
けることがない。
【００６８】以上のように本発明では、スライダバー６
の記録媒体との対向面上にＡＢＳ面４（図１参照）をパ
ターン形成する際において、第１のパターン形成方法と
しては、治具９上に固定された複数本のスライダバー６
間の隙間１１を、レジストフィルム１２（図３参照）、
あるいはレジスト液１４（図６参照）で埋め、一旦、前
記スライダバー６上の前記レジストを現像液によって除
去する。ただしこの現像処理の際、スライダバー６間の
隙間１１に浸透したレジストにまで現像液は染み込んで
こないため、前記レジストは除去されず、この現像処理
よって、前記スライダバー表面を平坦化できる。そして
平坦化された前記スライダバー６表面に、レジストフィ
ルム１３を貼り付けることによって、前記レジストフィ
ルム１３表面を容易に平坦化できる。
の記録媒体との対向面上にＡＢＳ面４（図１参照）をパ
ターン形成する際において、第１のパターン形成方法と
しては、治具９上に固定された複数本のスライダバー６
間の隙間１１を、レジストフィルム１２（図３参照）、
あるいはレジスト液１４（図６参照）で埋め、一旦、前
記スライダバー６上の前記レジストを現像液によって除
去する。ただしこの現像処理の際、スライダバー６間の
隙間１１に浸透したレジストにまで現像液は染み込んで
こないため、前記レジストは除去されず、この現像処理
よって、前記スライダバー表面を平坦化できる。そして
平坦化された前記スライダバー６表面に、レジストフィ
ルム１３を貼り付けることによって、前記レジストフィ
ルム１３表面を容易に平坦化できる。
【００６９】また第２のパターン形成方法としては、厚
さの厚いレジストフィルム１５を複数本のスライダバー
６上に貼り付け、加熱されたプレート１６によって、前
記レジストフィルム１５を加圧する。前記レジストフィ
ルム１５を加熱・加圧することにより、スライダバー間
の隙間１１に前記レジストフィルム１５を浸透させるこ
とができ、しかもスライダバー６上に一定の厚さを有
し、しかも表面が平坦化されたレジストフィルム１５を
形成できる。
さの厚いレジストフィルム１５を複数本のスライダバー
６上に貼り付け、加熱されたプレート１６によって、前
記レジストフィルム１５を加圧する。前記レジストフィ
ルム１５を加熱・加圧することにより、スライダバー間
の隙間１１に前記レジストフィルム１５を浸透させるこ
とができ、しかもスライダバー６上に一定の厚さを有
し、しかも表面が平坦化されたレジストフィルム１５を
形成できる。
【００７０】さらに第３のパターン形成方法としては、
円形状のセラミック材１８上に、薄膜素子形成層１９を
形成し、さらにこの薄膜素子形成層１９の上に保護レジ
スト層２０を形成した後、前記セラミック材１８をスラ
イス状に切断して、スライダバー２１を形成する。そし
て複数本のスライダバー２１を治具９上に固定する際
に、前記スライダバー２１間の隙間２２をできるだけ狭
くすることにより、前記スライダバー２１上に貼り付け
られるレジストフィルム２３表面を容易に平坦化でき
る。
円形状のセラミック材１８上に、薄膜素子形成層１９を
形成し、さらにこの薄膜素子形成層１９の上に保護レジ
スト層２０を形成した後、前記セラミック材１８をスラ
イス状に切断して、スライダバー２１を形成する。そし
て複数本のスライダバー２１を治具９上に固定する際
に、前記スライダバー２１間の隙間２２をできるだけ狭
くすることにより、前記スライダバー２１上に貼り付け
られるレジストフィルム２３表面を容易に平坦化でき
る。
【００７１】このように本発明では、いずれの方法にお
いても、スライダバー６（あるいは符号２１）間の隙間
１１（あるいは符号２２）をレジストで埋め、さらにス
ライダバー６上のレジストフィルム表面を平坦化してい
る。このため、前記レジストフィルム表面に、寸法精度
良くＡＢＳ面エッチングパターンを形成できる。
いても、スライダバー６（あるいは符号２１）間の隙間
１１（あるいは符号２２）をレジストで埋め、さらにス
ライダバー６上のレジストフィルム表面を平坦化してい
る。このため、前記レジストフィルム表面に、寸法精度
良くＡＢＳ面エッチングパターンを形成できる。
【００７２】また前記エッチングパターン形成時におけ
る現像処理の際、スライダバー間の隙間のレジストは除
去されないために、ドライエッチングによって、前記ス
ライダバーの側面は削り取られず、削り粉の再付着、及
び薄膜素子７の損傷を防止することが可能である。
る現像処理の際、スライダバー間の隙間のレジストは除
去されないために、ドライエッチングによって、前記ス
ライダバーの側面は削り取られず、削り粉の再付着、及
び薄膜素子７の損傷を防止することが可能である。
【００７３】
【発明の効果】以上詳述した本発明によれば、スライダ
バーの記録媒体との対向面上にＡＢＳ面のエッチングパ
ターンを形成する際におけるパターン形成方法におい
て、治具上に固定される複数本のスライダバー間の隙間
を、レジストフィルムあるいはレジスト液によって埋
め、さらに前記スライダバー上のレジストフィルム表面
を平坦化している。従って本発明では、前記スライダバ
ー上のレジストフィルム表面に寸法精度良くＡＢＳ面エ
ッチングパターンを形成できる。
バーの記録媒体との対向面上にＡＢＳ面のエッチングパ
ターンを形成する際におけるパターン形成方法におい
て、治具上に固定される複数本のスライダバー間の隙間
を、レジストフィルムあるいはレジスト液によって埋
め、さらに前記スライダバー上のレジストフィルム表面
を平坦化している。従って本発明では、前記スライダバ
ー上のレジストフィルム表面に寸法精度良くＡＢＳ面エ
ッチングパターンを形成できる。
【００７４】また前記エッチングパターン形成時におけ
る現像処理では、スライダバー間に埋められたレジスト
は除去されないために、ドライエッチング時に、スライ
ダバー側面は、前記レジストによって保護された状態と
なっている。このためスライダバー側面はドライエッチ
ングによって削り取られることがなく、削り粉のスライ
ダバー側面への再付着、及び薄膜素子のドライエッチン
グによる損傷を防止することができる。
る現像処理では、スライダバー間に埋められたレジスト
は除去されないために、ドライエッチング時に、スライ
ダバー側面は、前記レジストによって保護された状態と
なっている。このためスライダバー側面はドライエッチ
ングによって削り取られることがなく、削り粉のスライ
ダバー側面への再付着、及び薄膜素子のドライエッチン
グによる損傷を防止することができる。
【図１】スライダを記録媒体との対向面を上向きにして
示した斜視図、
示した斜視図、
【図２】スライダバーの斜視図、
【図３】本発明における第１実施形態のＡＢＳ面エッチ
ングパターン形成方法を表す工程図、
ングパターン形成方法を表す工程図、
【図４】図３に示す工程の次に行われるＡＢＳ面エッチ
ングパターン形成方法を表す工程図、
ングパターン形成方法を表す工程図、
【図５】図４に示す工程の次に行われるＡＢＳ面エッチ
ングパターン形成方法を表す工程図、
ングパターン形成方法を表す工程図、
【図６】本発明における第２実施形態のＡＢＳ面エッチ
ングパターン形成方法を表す工程図、
ングパターン形成方法を表す工程図、
【図７】図６に示す工程の次に行われるＡＢＳ面エッチ
ングパターン形成方法を表す工程図、
ングパターン形成方法を表す工程図、
【図８】図７に示す工程の次に行われるＡＢＳ面エッチ
ングパターン形成方法を表す工程図、
ングパターン形成方法を表す工程図、
【図９】本発明における第３実施形態のＡＢＳ面エッチ
ングパターン形成方法を表す工程図、
ングパターン形成方法を表す工程図、
【図１０】図９に示す工程の次に行われるＡＢＳ面エッ
チングパターン形成方法を表す工程図、
チングパターン形成方法を表す工程図、
【図１１】図１０に示す工程の次に行われるＡＢＳ面エ
ッチングパターン形成方法を表す工程図、
ッチングパターン形成方法を表す工程図、
【図１２】本発明における第４実施形態のＡＢＳ面エッ
チングパターン形成方法を表す工程図、
チングパターン形成方法を表す工程図、
【図１３】図１２に示す工程の次に行われるＡＢＳ面エ
ッチングパターン形成方法を表す工程図、
ッチングパターン形成方法を表す工程図、
【図１４】図１３に示す工程の次に行われるＡＢＳ面エ
ッチングパターン形成方法を表す工程図、
ッチングパターン形成方法を表す工程図、
【図１５】スライダを記録媒体との対向面を上向きにし
て示した斜視図、
て示した斜視図、
【図１６】スライダバーの斜視図、
【図１７】従来におけるＡＢＳ面エッチングパターン形
成方法を表す工程図、
成方法を表す工程図、
１ スライダ ２ エアグルーブ ３ レール部 ４ ＡＢＳ面 ５ 傾斜面 ６、２１ スライダバー ７ 薄膜素子 ８ 記録媒体との対向面 ９ 治具 １１、２２ （スライダバー間の）隙間 １２、１３、１５、２３ レジストフィルム １４ レジスト液 １６ プレート １７ 電極端子部 １８ セラミック材 １９ 薄膜素子形成層 ２０ 保護レジスト層
Claims (7)
- 【請求項１】 側面に複数の薄膜素子を有するスライダ
バーを、治具上に複数本並べて設置する工程と、 前記スライダバー表面に、レジストフィルムを貼り付
け、あるいはレジスト液を塗布し、前記レジストフィル
ムあるいはレジスト液によって前記スライダバー間の隙
間を埋める予備工程と、 前記スライダバー上のレジストフィルムあるいはレジス
ト液を、現像液によって除去し、前記スライダバー間の
隙間を埋めるレジストフィルムあるいはレジスト液をそ
のまま残す工程と、 前記スライダバー表面にレジストフィルムを貼り付ける
工程と、 前記レジストフィルム表面を露光現像して、ＡＢＳ面の
エッチングパターンを形成する工程と、 前記エッチングパターンを使用して、前記スライダバー
表面にドライエッチングを施す工程と、 を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 【請求項２】 前記予備工程では、スライダバー表面の
レジストフィルムに熱を与えて、前記スライダバー間の
隙間を前記レジストフィルムで埋める請求項１記載のパ
ターン形成方法。 - 【請求項３】 側面に複数の薄膜素子を有するスライダ
バーを、治具上に複数本並べて設置する工程と、 前記スライダバー表面にレジストフィルムを貼り付ける
工程と、 前記スライダバー表面のレジストフィルムを、加熱・加
圧して、スライダバー間の隙間を前記レジストフィルム
で埋める工程と、 前記スライダバー表面のレジストフィルムを露光現像し
て、ＡＢＳ面のエッチングパターンを形成する工程と、 前記エッチングパターンを使用して、前記スライダバー
表面にドライエッチングを施す工程と、 を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 【請求項４】 スライダバー表面に貼り付けられるレジ
ストフィルムの厚さは、ＡＢＳ面のエッチングパターン
形成に必要な厚さよりも大きい請求項３記載のパターン
形成方法。 - 【請求項５】 基板上に複数の薄膜素子を形成し、さら
に前記薄膜素子を覆うレジスト層を形成する工程と、 前記基板を切断して、複数本のスライダバーを形成する
工程と、 治具上に、薄膜素子を有する面をスライダバー間に対向
させる側面として、複数本のスライダバーを設置する工
程と、 並んでいる前記スライダバーの表面に、レジストフィル
ムを貼り付ける工程と、 前記レジストフィルム表面を露光現像して、ＡＢＳ面の
エッチングパターンを形成する工程と、 前記エッチングパターンを使用して、前記スライダバー
表面にドライエッチングを施す工程と、 を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 【請求項６】 前記レジスト層には、レジストフィルム
あるいはレジスト液が使用される請求項５記載のパター
ン形成方法。 - 【請求項７】 前記薄膜素子から引き出されて、前記薄
膜素子の形成面と同一面に形成される端子電極部上に、
前記レジスト層を形成しない請求項５または６に記載の
パターン形成方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10113516A JPH11306706A (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | パターン形成方法 |
| CNB991054229A CN1203467C (zh) | 1998-04-23 | 1999-04-06 | 磁头滑块的制造方法 |
| US09/293,534 US6258515B1 (en) | 1998-04-23 | 1999-04-15 | Pattern forming method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10113516A JPH11306706A (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | パターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11306706A true JPH11306706A (ja) | 1999-11-05 |
Family
ID=14614332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10113516A Withdrawn JPH11306706A (ja) | 1998-04-23 | 1998-04-23 | パターン形成方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6258515B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11306706A (ja) |
| CN (1) | CN1203467C (ja) |
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| JP2007207969A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Asti Corp | パターン形成方法 |
| US9809027B2 (en) | 2014-01-16 | 2017-11-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing structure and method of manufacturing liquid ejection head |
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| CN1925001B (zh) * | 2005-08-31 | 2010-04-14 | 新科实业有限公司 | 具有微纹的磁性读/写磁头及其制造方法 |
| US8248729B2 (en) * | 2006-11-16 | 2012-08-21 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Slider with hook-shaped air compression mechanisms near trailing edge corners |
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