JPH11307430A - 露光装置およびデバイス製造方法ならびに駆動装置 - Google Patents

露光装置およびデバイス製造方法ならびに駆動装置

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JPH11307430A
JPH11307430A JP10113256A JP11325698A JPH11307430A JP H11307430 A JPH11307430 A JP H11307430A JP 10113256 A JP10113256 A JP 10113256A JP 11325698 A JP11325698 A JP 11325698A JP H11307430 A JPH11307430 A JP H11307430A
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driving
exposure
signal
exposure apparatus
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Keiji Emoto
圭司 江本
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 駆動装置が発する熱に起因する位置決め精度
への悪影響を簡易かつ低コストで除去する。 【解決手段】 駆動力を発生する駆動手段と、該駆動手
段の制御を行う駆動力制御手段と、該駆動手段から発生
する熱を回収する温調手段とを備え、該駆動力制御手段
の該駆動手段を制御する信号に基づいて、該温調手段の
冷却量を制御する駆動装置であり、前記温調手段は、前
記駆動手段が発生する熱量を予測して制御を行う。これ
により、温度センサが不要になり、積極的に温調を施す
ことで、温度制御の時間的な遅れをなくし、低コストで
高精度な駆動装置の温調を行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、精密な位置決めを
要求される位置決め装置に搭載される駆動装置、および
この駆動装置を備えた位置決め装置に関する。また、レ
チクルパターンをウエハに正確に転写するための露光装
置やデバイス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ナノメートル（ｎｍ）オーダーの位置決
め精度が要求されている今日では、たとえば、１００ｍ
ｍの低熱膨張材（熱膨張係数１×１０−６）が１℃の温
度変化で１００ｎｍ変形し、また、光干渉式測長計の光
路における空気温度の変化が１℃であっても位置の測定
値が条件によっては１００ｎｍ変化するため、これら温
度変化の防止策として駆動装置から放出される熱を回収
する駆動装置の冷却は必須となっている。
【０００３】従来、駆動装置の発熱が構造体の熱変形や
光干渉式測長計の誤差要因となる空気揺らぎをもたらす
ため、精密な位置決め装置においては冷媒、ヒートパイ
プ、ペルチェ素子等を用いて冷却を行っており、駆動装
置の発熱時に駆動装置や駆動装置が搭載される装置が所
定温度になるように、冷媒の温度や流量、ヒートパイプ
の放熱部温度、ペルチェ素子の駆動電流等を予め設定し
ていた。また、特に冷媒を循環させて熱を回収するとき
は、特開平７−３０２１２４号公報、特開平７−３０２
７４７号公報のように発熱源近傍に温度計測手段を設
け、これにより得られた温度をもとに冷媒温度や冷媒流
量を調整して駆動装置全体の冷却を調整していた。
【０００４】図８はこのような従来の駆動装置の一例を
示す構成図である。同図に示されているように、位置計
測手段１１２、コントローラ１１４、およびドライバ１
１５により位置決め対象１１０の精密な位置決めを行う
駆動装置では、冷却手段１０６ａ，１０６ｂ，１０６ｃ
により冷媒１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃを循環させて
駆動手段１０１ａからの熱を回収している。このとき流
れる冷媒１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃの温度または流
量は、温度センサ１０５および温度計測手段１０２より
得られた冷却対象の温度をもとに駆動装置全体が均一に
所定温度になるよう調整されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、温度センサ１０５および温度計測手段１０２
を設けるために駆動装置が複雑になるため、 組み立て工程が複雑になる、 駆動装置全体のコストが上がる、 温度センサが冷媒の流れる容器内に設置されるため構
造上センサの不具合に対処しにくい、等の欠点があっ
た。この欠点のために、駆動装置における信頼性や高コ
ストの問題を生じていた。
【０００６】また、センサを用いたフィードバックによ
る制御では、温度制御に遅れが生じてしまうため、駆動
装置、駆動装置周辺の構造体、雰囲気等への熱的な影響
を的確に低減することが困難であった。
【０００７】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、駆動装置の冷却に関して構造上の簡易化と
低コスト化を行いしかも冷却効果を積極的に向上させる
ことによって低コスト高信頼性の駆動装置を提供するこ
とである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の露光装置は、露光光を照射する照明光学系
と、基板を搭載するステージと、原版に形成されたパタ
ーンを該基板に転写する露光動作を制御する主制御装置
とを有する露光装置において、温度を制御する温調手段
を備え、該主制御装置の該露光動作のための信号に基づ
いて、該温調手段の制御を行うことを特徴とする。
【０００９】前記信号に基づいて必要な冷却量もしくは
熱量を予測し、前記温調手段の制御を行うことが望まし
く、また、前記温調手段は、冷媒の流量または温度を制
御する冷却手段であることが望ましい。
【００１０】また、複数の対象の温度を制御するため、
該複数の対象にそれぞれ前記温調手段を設け、前記主制
御装置からの該対象に対する前記露光動作のための信号
に基づいて、該対象に設けられた該温調手段の制御を行
うことが望ましい。
【００１１】また、前記主制御装置は、前記ステージの
駆動を行う駆動手段の制御を行う駆動制御手段を含み、
該駆動制御手段からの信号に基づいて、該温調手段の制
御を行うことが好ましく、前記温調手段は、前記駆動手
段の温調を行うことが好ましい。
【００１２】また、前記主制御装置は、前記照明光学系
の露光量を制御する露光量制御手段を含み、該露光量制
御手段からの信号に基づいて、該温調手段の制御を行う
ことが好ましい。
【００１３】さらに、前記温調手段は、前記基板もしく
は基板を保持する部材の温調を行うことが好ましく、前
記温調手段は、露光装置内部の温調を行うことが好まし
い。
【００１４】また、上記課題を解決するための本発明の
デバイス製造方法は、前述の露光装置を用意するステッ
プと、前記原版に形成されたパターンを前記基板に転写
するステップとを有することを特徴とする。望ましく
は、露光前にウエハにレジストを塗布するステップと、
露光後にウエハのレジストの現像を行うステップとを更
に有することが良い。
【００１５】また、上記課題を解決するための本発明の
駆動装置は、駆動力を発生する駆動手段と、該駆動手段
の制御を行う駆動力制御手段と、該駆動手段から発生す
る熱を回収する温調手段とを備え、該駆動力制御手段の
該駆動手段を制御する信号に基づいて、該温調手段の冷
却量を制御することが望ましい。
【００１６】また、前記温調手段は、前記駆動手段が発
生する熱量を予測して制御を行うことが望ましく、前記
冷却量の制御は、冷媒の流量または温度の制御であるこ
とが望ましい。
【００１７】また、前記駆動手段は、リニアモータであ
ることが好ましく、前記リニアモータは、複数のコイル
を有する多相型リニアモータであり、前記温調手段によ
って該コイル毎に温度が制御されており、該コイルへの
信号もしくは該コイルの通電を行うドライバへの信号に
基づいて、該コイル毎の冷却量を制御することが好まし
い。
【００１８】
【発明の実施の形態】＜実施形態１＞図１は本発明の第
１の実施例に係る駆動装置を示す構成図であり、本発明
の特徴を最もよく表すものである。
【００１９】同図において、１ａ，１ｂは一対の駆動手
段であり、１ａは固定側の駆動手段、１ｂは図面の左右
方向に移動可能な可動側の駆動手段である。
【００２０】１０は可動側駆動手段１ｂに載置された位
置決め対象、１１は可動側駆動手段１ｂに載置された位
置決め対象１０の位置基準、１２は位置決め対象１０の
位置を位置基準１１を参照して計測する位置計測手段、
１３は位置計測手段１２が計測する長さ、１４は位置計
測手段１２から得た位置決め対象１０の位置データによ
り駆動装置の駆動量を制御するための駆動信号を出力す
るコントローラ、１５はコントローラ１４からの駆動信
号に従って駆動手段１ａ，１ｂを駆動するドライバであ
る。
【００２１】３ａは駆動手段１ａ，１ｂを冷却する供給
側の冷媒、３ｂは駆動手段１ａ，１ｂを冷却する戻り側
の冷媒、４は温度計測手段２から温度データを受け取り
冷媒３ａの温度を制御するための指令信号を出力する冷
却量制御手段、６は冷却量制御手段４からの指令信号に
基き所定の温度の冷媒を流す冷却手段である。
【００２２】固定された駆動手段１ａに対して駆動手段
１ｂが図面の左右方向に動くことにより位置決め対象１
０は同方向に動き、位置決め対象１０の位置は位置基準
１１を基準として位置計測手段１２によって計測され
る。例えば、位置基準１１が反射ミラーで位置計測手段
１２がレーザ干渉計である場合には長さ１３が光路長と
なり、これが位置決め対象１０の位置となる。一般に位
置決め対象１０と位置基準１１はいくらか離れているた
め、かつ位置基準１１の位置を位置決め対象１２の位置
としているため、この両者間の距離変動は位置決めの誤
差となる。コントローラ１４は位置計測手段１２の位置
データを用いて位置決め対象１０が所定の位置に位置決
めされるようドライバ１５に駆動信号を与え、ドライバ
１５は駆動手段１ａ，１ｂを駆動する。この時、コント
ローラ１４からドライバ１４への駆動信号を指標にして
温度制御手段４が冷却手段６ａ，６ｂ，６ｃが循環させ
る冷媒３ａ，３ｂ，３ｃの流量または温度を制御し、駆
動手段１ａ，１ｂの温度変化がなくなるようにする。
【００２３】たとえば、コントローラ１４からの駆動信
号が駆動手段１ａに対し大きな出力を要求するとき、つ
まり駆動手段１ａの発熱が多く温度が上がると予想され
るときには冷媒３ａ，３ｂ，３ｃの流量を多くするか冷
媒３ａ，３ｂ，３ｃの温度を下げて冷却量を増し、反対
に、コントローラ１４からの駆動信号が駆動手段１ａに
対しあまり出力を要求しない、つまり駆動手段１ａの発
熱が少なくあまり温度があがらないと予想されるときに
は冷媒３ａ，３ｂ，３ｃの流量を少なくするか冷媒３
ａ，３ｂ，３ｃの温度を上げて冷却量を減らすことによ
り、駆動装置もしくはその近傍の構造体、もしくは雰囲
気などの温度が変動しないようにする。冷媒３ａの温度
が下がれば、冷却対象である駆動手段１ａ，１ｂとの温
度差が増し、よって熱の移動量が増し冷却能力が増加す
ることから、冷媒３ａの温度により駆動装置などの温度
を制御できる。
【００２４】このように、コントローラ１４からの駆動
信号を駆動手段１ａに対する冷却量を調整する指標に用
いることで、従来のように駆動手段１ａ，１ｂもしくは
その近傍の温度を感知する温度センサを設置する必要が
ないため、駆動手段をシンプルに構成できる。そのため
駆動装置全体のコストを大幅に下げることが可能とな
る。しかも、従来のように駆動手段１ａ，１ｂの温度を
指標に冷却量を調整する方法では、駆動手段１ａ，１ｂ
の温度が変化してから冷却量の調整を行うことになり、
駆動手段の冷却に時間的な遅れが発生するが、本発明の
方法によると駆動手段１ａ，１ｂの温度が変化する前に
温度変化を予測して冷却量を調整するため、従来に比べ
遅れなく積極的に温度制御が行え、駆動手段１ａ，１ｂ
の温度変化を抑えることが出来る。従って、駆動手段１
ａ，１ｂおよびその周辺の構造物の熱変形や雰囲気の温
度変化による位置決め精度の劣化を従来に比べて防ぐこ
とが出来る。
【００２５】本実施形態では、コントローラからドライ
バへの駆動信号に基づいて温度制御手段が冷媒の流量ま
たは温度を制御していたが、これに限るものではなく、
ドライバが駆動手段を駆動する際の出力信号に基づいて
温度制御手段の制御を行っても上記の効果が得られる。
つまり、駆動手段の動作の制御に用いられる信号に基づ
いて温度制御手段の制御を行うことが重要であり、本発
明の意図するところである。
【００２６】また、本実施形態ではコントローラからの
駆動信号に基づいて前向きに冷却量の計算を行っている
が、これとは別に、温度センサ等の計測手段を設け、こ
の検出結果を補償するようにして、コントローラからの
信号と検出手段の出力に基づいて冷却量の予測を行って
も良い。
【００２７】＜実施形態２＞図２は駆動手段としてリニ
アモータを用いた本発明の第２の実施形態の駆動装置を
示した構成図（一部断面図）である。
【００２８】２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄは永久磁
石、２２は永久磁石２１ａ〜２１ｄが固定されたヨー
ク、２３は電流が流れるコイル、２４はコイル２３を支
持し冷媒３ａ，３ｂの流路となっているコイル支持具で
ある。また、これらのリニアモータを駆動するためにコ
ントローラ１４は、位置計測手段１２からの位置データ
をもとに適切な電流をコイル２３に流すようにドライバ
１５に駆動信号を与えている。ドライバ１５は、コント
ローラ１４からの駆動信号電圧をもとにコイル２３に適
切な電流が流れるように制御している。コイル２３は永
久磁石２１により発生した磁界中にあるため、コイル２
３に電流が流れると図の左右方向にローレンツ力が発生
し、ヨーク２２とコイル支持具２４は左右方向に互いに
相対的に駆動される。
【００２９】リニアモータを駆動するときコイル２３に
電流が流れコイル２３が発熱する。そのため、コントロ
ーラ１４からの駆動信号をもとに発熱量を予測して、冷
却量の調整をしている。本実施形態では、発熱量はコイ
ル２３の出力にほぼ比例していると考え、コイル２３の
出力をコントローラ１４の出力信号より求めて指標とし
ている。
【００３０】図３は駆動手段として多極のリニアモータ
を用いた場合の駆動装置を示す構成図であり、リニアモ
ータのコイル部および冷却部を抽出した図である。
【００３１】２３ａ，２３ｂ，２３ｃはコイルであり、
ここでは図示していない可動子を駆動させるため、位置
計測手段１２からの位置信号をもとに、コントローラ１
４がコイル２３ａ，２３ｂ，２３ｃそれぞれへの駆動信
号をドライバ１５に送りドライバが駆動信号に従い各コ
イルへの電流を制御している。単極の場合は駆動装置全
体の発熱量をコイル出力より予測して、駆動装置全体の
冷却量を決めても良いが、多相型リニアモータの場合は
コイルが複数個あるため、各コイルに流れる電流はそれ
ぞれ異なるので、それぞれの温度上昇も異なるため、本
実施例では分割冷却の利点を生かすよう構成されてい
る。つまり、冷却領域を図３のように発熱部であるコイ
ル２３ａ，２３ｂ，２３ｃごとに冷却領域を分割して、
コントローラの出力信号をもとに求めた各コイルの出力
を指標に各冷却領域における冷媒流量または冷媒温度等
の冷却量を調整して、各コイルごとに最適な冷却を行っ
ている。
【００３２】図３においては、冷媒が各コイル間を直列
に流れるように配管され、各コイル間に冷媒の温度を調
節する冷却手段が設けられているが、前述の実施形態の
ように各コイルに並列に冷却手段を設けても、当然同様
の効果が得られる。
【００３３】従来では、このように分割領域を用いた冷
却を行うためには複数個の温度センサを用いなければい
けないため構造が複雑になりコストもかかっていた。し
かし、本発明によると冷却領域が増えてもセンサを付加
することなくコントローラからの駆動信号をもとに各コ
イルの出力を計算するだけで各冷却領域に最適な冷却量
をを決定することが出来る。
【００３４】次に図４に本実施形態における温度制御の
アルゴリズムを示す。
【００３５】コントローラ１４の出力信号である駆動信
号はコイル２３に流れる電流を示しているため、コイル
２３の出力〔Ｗ〕は駆動信号を２乗した値に適当な係数
をかけたものとなる。そのため、コイル２３の発熱量は
コイル２３の出力〔Ｗ〕に比例しているとして、コイル
２３の出力を冷却量の指標として用いている。また、コ
イル２３の出力は温度変化に比して時間変化が激しいた
め温度制御に適した指標とするためにコイル２３の出力
を積分して適切に平滑化している。以上より、冷却量制
御手段４では、コントローラ１４からのドライバへの駆
動信号を自乗して、その値に適当な積分を行いその後適
当な係数をかけたものを指標として冷却手段６に信号を
送り、冷却量調整手段によって冷媒温度や流量を調整さ
せている。
【００３６】この冷媒は発熱源であるコイル２３やコイ
ル支持具２４を直接冷却し熱を回収するので、駆動装置
の構造体や雰囲気の温度変化を抑える効果がある。さら
に、駆動手段がリニアモータである場合、コントローラ
またはドライバからの制御信号から各コイルごとの出力
値を計算して、この値に基づいて冷媒流量、冷媒温度な
どの冷却量を調整する方が良い。これにより、各コイル
ごとの温度上昇を予測できるためより細かな温度制御が
可能となり、熱変形や温度変化に起因する測長の誤差な
どの外乱要因が軽減し、駆動装置の位置決め精度が向上
する。
【００３７】また、本実施形態ではコントローラからの
信号に基づいて前向きに冷却量の計算を行っているが、
これとは別に、温度センサ等の計測手段を設け、この検
出結果を補償するようにして、コントローラからの信号
と検出手段の出力に基づいて冷却量の予測を行っても良
い。
【００３８】＜実施形態３＞図５は本発明の第３の実施
形態を表す露光装置の主な構成を示した概略図である。
【００３９】露光装置全体は床に設けられた基台（不図
示）上に組み上げられる。（構造体は不図示）。３２は
ウエハ３４を搭載して位置決めを行うウエハステージで
あり、ウエハチャック３３及びそこに吸着保持されたウ
エハ３４を投影レンズ３５の光軸に垂直な平面に沿って
移動可能としている。ウエハステージ３２は既知の手法
により、その位置座標を知ることが出来、かつ指定され
た量の移動が制御される。投影レンズ３５の上方にはレ
チクル保持台（不図示）に保持されたレチクル３９があ
り、さらにその上方の照明光学系Ａから光が照射された
時レチクル３９に形成されたパターンが投影レンズ３５
を介してウエハ３４の表面に転写される様に構成されて
いる。
【００４０】照明光学系Ａは、超高圧水銀灯４０から発
する光をレチクル３９上に均等に照射すべく、第１、第
２、第３のコンデンサーレンズ４１，４２、４３と、光
束を曲げるべく第１，第２のミラー４４，４５を備えて
いる。シャツタ４６は露光制御を行う。
【００４１】第２，第３のコンデンサーレンズ４２，４
３と第２ミラー４５は又、レチクルパターン面と共役で
結像関係を持つ面を図示Ｂの部分に作り出す様に設計さ
れており、この部分にマスキングを置くことにより、レ
チクル３９の特定の部分だけ照明できる様になってい
る。面Ｂには枠４８に保持されたパターン露光用マスク
４９と、アライメントマーク露光用マスク５０を選択的
に光束内に挿入可能な様にシリンダー５１により切換駆
動する。
【００４２】照明光学系の露光量や露光条件は、露光装
置の制御を行う主制御装置からの信号を受け、光量制御
手段によって制御されている。光量制御手段では、主制
御装置からの信号により、光源・シャッタおよびマスク
等を作動し、照明光学系に求められる露光量や露光条件
の制御を行っている。
【００４３】ウエハ３４は露光されると同じに熱を受
け、この熱がウエハ３４の熱変形の原因となっている。
ウエハ３４が熱変形を起こすと、精密な露光の際に悪影
響を与えるため、ウエハ３４を保持するウエハチャック
３３には、ウエハの温度を一定に保つための冷却手段が
備えられている。
【００４４】また、露光装置の内部で温度変化が起こる
と、露光装置を構成する各部材が熱変形を起こしてしま
うほか、位置計測を行うレーザ干渉計（不図示）の光路
が揺らぎ、正確な位置計測が行えず、正確な露光に大き
な影響を与えてしまう。そのため、露光装置内部の雰囲
気を一定に保つための温調装置が必要である。図におい
ては、露光装置の内部、特に投影光学系とウエハ間の空
調を行う空調装置が示されている。
【００４５】冷却量制御手段では、主制御装置が光量制
御手段に与える信号に基づいて、冷却手段が循環させる
冷媒の流量や冷媒の温度の計算を行い、また空調装置が
送風する空気の流量や温度の計算を行い、それぞれに信
号を出力する。冷却量の計算に露光量制御手段への信号
を用いたのは、ウエハに与えられる熱量や露光装置内部
での温度変化は、主に照明光学系からの露光量や露光条
件に左右されているからである。
【００４６】本実施形態では、主制御装置が光量制御手
段に与える信号に基づいて、冷却手段や空調装置の制御
を行っていが、露光量以外にもウエハや露光装置内の温
度に影響を与える要因があれば、その要因の制御信号に
基づいて冷却量の計算を行っても良い。
【００４７】また、本実施形態では、温調手段としてウ
エハチャックの冷却手段や露光装置内の空調装置を挙げ
たが、これに限るものではなく、例えばウエハステージ
を駆動するための駆動手段や、レチクルを駆動するため
の駆動手段等への主制御装置からの信号（駆動信号）等
に基づいて、冷却手段の冷却量を計算を行っても良い。
【００４８】本実施形態では、従来露光量の測定を行っ
ていた光量センサや反射率測定センサ等が必要でなくな
るため、露光装置の組立工程が簡素化でき、センサのメ
ンテナンス等も不要になるため、低コストで安定性の高
い露光装置を提供することができる。
【００４９】さらに本実施形態では、主制御装置からの
露光動作信号に基づいて冷却量の計算を行っているた
め、主制御装置からの信号から発熱量や温度上昇を予測
して積極的に温度制御を行っているため、時間的な遅れ
を生じさせずに的確な温調を行うことができる。また、
各冷却領域の温度変化を予測し、冷却領域毎に冷却量を
調整することができる。そのため、高精度な露光を行う
ことができる。
【００５０】また、本実施形態では主制御装置からの信
号に基づいて前向きに冷却量の計算を行っているが、こ
れとは別に、温度センサ等の計測手段を設け、この検出
結果を補償するようにして、主制御装置からの信号と検
出手段の出力に基づいて冷却量の予測を行っても良い。
【００５１】＜実施形態４＞次に上記説明した露光装置
を利用した半導体ディバイスの製造方法の実施例を説明
する。図６は半導体ディバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導
体チップ、あるいは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造フロ
ーを示す。ステップ１（回路設計）では半導体ディバイ
スの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では
設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。ス
テップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いて
ウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前
工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、
リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成
する。ステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステ
ップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ
化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボ
ンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の
工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製
された半導体ディバイスの動作確認テスト、耐久性テス
ト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体ディバ
イスが完成し、これが出荷（ステップＳ７）される。
【００５２】図７は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に
多重に回路パターンが形成される。本実施例の製造方法
を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導体
ディバイスを製造することができる。
【００５３】
【発明の効果】本発明の請求項１記載の露光装置によれ
ば、露光動作のための信号に基づいて温調手段の制御を
行っているため、温調装置の制御を行う際に必ずしもセ
ンサを設ける必要がなく、また、積極的な温度制御を行
うことができ、低コストで安定性の高い露光装置を提供
することができる。
【００５４】また、請求項２記載の露光装置によれば、
露光動作のための信号に基づいて必要な冷却量や熱量を
予測して温調手段を制御するため、時間的な遅れを生じ
させずに的確な温調を行うことができる。
【００５５】また、請求項４記載の露光装置によれば、
複数の対象の温度をそれぞれ的確に制御することができ
る。
【００５６】また、請求項５記載の露光装置によれば、
駆動手段の駆動信号に基づいて、温度制御を行うことが
でき、また、請求項７記載の露光装置によれば、露光量
の制御信号に基づいて、温度制御を行うことができる。
【００５７】また、本発明の請求項１０および１１記載
のデバイス製造方法によれば、低コストで高精度なデバ
イスを安定的に供給することができる。
【００５８】また、本発明の請求項１２記載の駆動装置
によれば、駆動手段を制御する信号に基づいて、温調手
段の制御を行っているため、駆動手段に温度センサを必
ずしも設ける必要がなく、また、積極的な温度制御を行
うことができ、低コストで高精度な駆動装置を提供する
ことができる。
【００５９】また、請求項１３記載の駆動装置によれ
ば、駆動手段を制御する信号に基づいて必要な冷却量や
熱量を予測して温調手段を制御するため、時間的な遅れ
を生じさせずに的確な温調を行うことができる。
【００６０】また、請求項１６記載の駆動装置によれ
ば、多相型リニアモータの複数のコイル毎に必要な冷却
を積極的に行うことができるので、それぞれのコイルで
の温度をそれぞれ的確に制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態の駆動装置を示す構成図
【図２】第２実施形態の駆動装置を示す構成図
【図３】第２実施形態の多相型リニアモータの場合の駆
動装置の概略図
【図４】第２実施形態の冷却装置のアルゴリズムを示す
図
【図５】第３実施形態の露光装置の概略図
【図６】半導体デバイスの製造フロー図
【図７】ウエハプロセスのフロー図
【図８】従来の駆動装置を示す構成図
【符号の説明】
１ａ 固定子 １ｂ 可動子 ３、３ａ、３ｂ、３ｃ 冷媒 ４ 冷却量制御手段 ６、６ａ、６ｂ、６ｃ 冷却手段 １０ 位置決め対象 １１ 位置決め基準 １２ 位置計測手段 １３ 計測する長さ １４ コントローラ １５ ドライバ ２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄ 永久磁石 ２２ ヨーク ２３ａ、２３ｂ、２３ｃ コイル ２４ コイル支持具 Ａ１、Ａ２、Ａ３ 駆動手段の各発熱部 ３０ 主制御装置 ３１ 光量制御手段 ３２ ウエハステージ ３３ ウエハチャック ３４ ウエハ ３５ 投影レンズ ３６ａ 冷却手段 ３６ｂ 空調手段 ３７ 冷却量制御手段 ３９ レチクル ４０ 光源 ４１ 第１のコンデンサーレンズ ４２ 第２のコンデンサーレンズ ４３ 第３のコンデンサーレンズ ４４ 第１のミラー ４５ 第２のミラー ４６ シャッタ ４８ 枠 ４９ パターン露光用マスク ５０ アライメントマーク露光用マスク ５１ シリンダー Ａ 照明光学系

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 露光光を照射する照明光学系と、基板を
    搭載するステージと、原版に形成されたパターンを該基
    板に転写する露光動作を制御する主制御装置とを有する
    露光装置において、 温度を制御する温調手段を備え、 該主制御装置の該露光動作のための信号に基づいて、該
    温調手段の制御を行うことを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項２】 前記信号に基づいて必要な冷却量もしく
    は熱量を予測し、前記温調手段の制御を行うことを特徴
    とする請求項１記載の露光装置。
  3. 【請求項３】 前記温調手段は、冷媒の流量または温度
    を制御する冷却手段であることを特徴とする請求項１ま
    たは２記載の露光装置。
  4. 【請求項４】 複数の対象の温度を制御するため、該複
    数の対象にそれぞれ前記温調手段を設け、前記主制御装
    置からの該対象に対する前記露光動作のための信号に基
    づいて、該対象に設けられた該温調手段の制御を行うこ
    とを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の露光装置。
  5. 【請求項５】 前記主制御装置は、前記ステージの駆動
    を行う駆動手段の制御を行う駆動制御手段を含み、該駆
    動制御手段からの信号に基づいて、該温調手段の制御を
    行うことを特徴とする請求項１〜４いずれか記載の露光
    装置。
  6. 【請求項６】 前記温調手段は、前記駆動手段の温調を
    行うことを特徴とする請求項５記載の露光装置。
  7. 【請求項７】 前記主制御装置は、前記照明光学系の露
    光量を制御する露光量制御手段を含み、該露光量制御手
    段からの信号に基づいて、該温調手段の制御を行うこと
    を特徴とする請求項１〜６いずれか記載の露光装置。
  8. 【請求項８】 前記温調手段は、前記基板もしくは基板
    を保持する部材の温調を行うことを特徴とする請求項１
    〜７いずれか記載の露光装置。
  9. 【請求項９】 前記温調手段は、露光装置内部の温調を
    行うことを特徴とする請求項１〜８いずれか記載の露光
    装置。
  10. 【請求項１０】 請求項１〜９いずれか記載の露光装置
    を用意するステップと、 前記原版に形成されたパターンを前記基板に転写するス
    テップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
  11. 【請求項１１】 露光前にウエハにレジストを塗布する
    ステップと、 露光後にウエハのレジストの現像を行うステップとを更
    に有することを特徴とする請求項１０記載のデバイス製
    造方法。
  12. 【請求項１２】 駆動力を発生する駆動手段と、該駆動
    手段の制御を行う駆動力制御手段と、該駆動手段から発
    生する熱を回収する温調手段とを備え、 該駆動力制御手段の該駆動手段を制御する信号に基づい
    て、該温調手段の冷却量を制御することを特徴とする駆
    動装置。
  13. 【請求項１３】 前記温調手段は、前記駆動手段が発生
    する熱量を予測して制御を行うことを特徴とする請求項
    １２記載の駆動装置。
  14. 【請求項１４】 前記冷却量の制御は、冷媒の流量また
    は温度の制御であることを特徴とする請求項１２または
    １３記載の駆動装置。
  15. 【請求項１５】 前記駆動手段は、リニアモータである
    ことを特徴とする請求項１２〜１４いずれか記載の駆動
    装置。
  16. 【請求項１６】 前記リニアモータは、複数のコイルを
    有する多相型リニアモータであり、前記温調手段によっ
    て該コイル毎に温度が制御されており、該コイルへの信
    号もしくは該コイルの通電を行うドライバへの信号に基
    づいて、該コイル毎の冷却量を制御することを特徴とす
    る請求項１５記載の駆動装置。
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